JPH0121536B2 - - Google Patents
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- JPH0121536B2 JPH0121536B2 JP12639982A JP12639982A JPH0121536B2 JP H0121536 B2 JPH0121536 B2 JP H0121536B2 JP 12639982 A JP12639982 A JP 12639982A JP 12639982 A JP12639982 A JP 12639982A JP H0121536 B2 JPH0121536 B2 JP H0121536B2
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- JP
- Japan
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- substrate
- electron beam
- film
- metal belt
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
本発明は金属薄膜形磁気記録媒体の製造方法に
関するもので、望まれる特性の磁気記録媒体用の
原反を大面積にわたつて安定に量産できるように
することを目的とする。 本発明において対象となる媒体は、テープ状、
デイスク状、シート状のいずれでもよく、異方性
についての制約、磁化方向が面内か垂直かの制約
についてもない、汎用性の高い製造方法にかかわ
るものである。 近年、短波長記録に有意性のある媒体として、
可撓性高分子基板上に、強磁性金属層を単層また
は複数層構成した金属薄膜形媒体の開発、実用化
が急速に進んでいる。 かかる媒体の製造方法として実用に供されてい
るものは、回転キヤンに沿つて移動する可撓性高
分子基板上に、蒸着により、強磁性層を形成する
方法である。 ところでこの方法により得られる媒体の難点
は、大面積にわたる均一性能の確保が困難である
点であつた。すなわち、膜形成時の基板温度に敏
感な面内記録媒体の角形比や、垂直記録媒体の抗
磁力等の特性について特に顕著で、例えば50cm幅
で5000ｍの蒸着面積についてみると、±20％に及
ぶ特性変化が避けられなかつた。 これは、回転キヤンの熱容量が大きいために、
温度制御の応答性が悪いことに原因していること
を尽きとめ、そこで種々改良を重ね、本発明に到
つたものである。以下に本発明の説明を行う。 本発明は、熱容量の小さい可撓性基板の回転支
持体を用い、その支持体の温度制御と、支持体と
可撓性基板との密着力の制御を行うものである。 まずここで図面を用い本発明の実施例の概略を
説明する。 図に示すように、金属ベルト１は、例えば２つ
の回転キヤン２，３にて、例えば矢印Ａの方向に
回転駆動される。ベルト１に沿つて、可撓性高分
子基板４は送り出し軸５から、巻き取り軸６へと
移動するよう構成される。 基板４上へ強磁性層の形成のために、例えば、
電子ビーム蒸着源が供される。これは、蒸発源容
器７と、電子源８で模式的に示す。 蒸発源のタイプについては何ら限定するもので
はなく、スパツタ蒸着方式であつてもよいし、電
界蒸着、イオンプレーテイングいずれであつても
よい。９は電子源を模式的に示したもので、この
電子源９は、必要に応じて走査される電子ビーム
１０を発生するもので、この電子ビームのエネル
ギーは一部金属ベルト１の温度制御に供され、一
部の電子は高分子に注入され永久帯電（エレクト
レツト化）をひき起し、静電気力による接地電位
に置かれた金属ベルト１への垂直圧力の発生に基
ずく安定な熱伝達現像が保持されるよう作用す
る。なお１１は真空容器、１２は真空容器１１の
排気系、１３は防着板、１４は金属ローラであ
る。 これらについては、巻取り系の工夫、グロー放
電処理との組み合せ等は適宜実施できるのは勿論
である。 蒸発源にたてた法線g1と、基板にたてた法線g2
とのなす角θ1が０に近い状態の配置にし、垂直磁
化膜を、θ1を30゜〜80゜の範囲に選択しての斜方蒸
着による、面内磁化膜を得ることの自由度も勿論
本発明の基本要件と無関係である。 又別の実施例とし、エレクトレツト化のためと
金属ベルトの加熱を個別の電子ビームにより制御
することも可能である。 金属ベルト１はステンレス製0.3mm厚で、全長
１ｍのエンドレス形態を有し、直径200mmの、30
℃の媒体を流した（流量１m3／min）回転キヤン
２，３と組み合わせた系とし、以下の各実施例に
おいて適用した。 実施例 １ θ1＝45゜とし、Co100％を酸素２×10-5Torr中
で、ポリエチレンテレフタレートフイルム（厚さ
10μｍ）上に電子ビーム蒸着にて0.1μｍの厚さに
形成した。 基板と金属ベルトを照射した電子ビームは
30KVで照射面積は550cm2一定とした。 50cm幅のポリエチレンテレフタレートフイルム
を5000ｍ用いて得た磁気記録媒体の特性と安定性
（5000ｍ内のバラツキ）を電子ビームの３条件に
対応させ次表に示す。
関するもので、望まれる特性の磁気記録媒体用の
原反を大面積にわたつて安定に量産できるように
することを目的とする。 本発明において対象となる媒体は、テープ状、
デイスク状、シート状のいずれでもよく、異方性
についての制約、磁化方向が面内か垂直かの制約
についてもない、汎用性の高い製造方法にかかわ
るものである。 近年、短波長記録に有意性のある媒体として、
可撓性高分子基板上に、強磁性金属層を単層また
は複数層構成した金属薄膜形媒体の開発、実用化
が急速に進んでいる。 かかる媒体の製造方法として実用に供されてい
るものは、回転キヤンに沿つて移動する可撓性高
分子基板上に、蒸着により、強磁性層を形成する
方法である。 ところでこの方法により得られる媒体の難点
は、大面積にわたる均一性能の確保が困難である
点であつた。すなわち、膜形成時の基板温度に敏
感な面内記録媒体の角形比や、垂直記録媒体の抗
磁力等の特性について特に顕著で、例えば50cm幅
で5000ｍの蒸着面積についてみると、±20％に及
ぶ特性変化が避けられなかつた。 これは、回転キヤンの熱容量が大きいために、
温度制御の応答性が悪いことに原因していること
を尽きとめ、そこで種々改良を重ね、本発明に到
つたものである。以下に本発明の説明を行う。 本発明は、熱容量の小さい可撓性基板の回転支
持体を用い、その支持体の温度制御と、支持体と
可撓性基板との密着力の制御を行うものである。 まずここで図面を用い本発明の実施例の概略を
説明する。 図に示すように、金属ベルト１は、例えば２つ
の回転キヤン２，３にて、例えば矢印Ａの方向に
回転駆動される。ベルト１に沿つて、可撓性高分
子基板４は送り出し軸５から、巻き取り軸６へと
移動するよう構成される。 基板４上へ強磁性層の形成のために、例えば、
電子ビーム蒸着源が供される。これは、蒸発源容
器７と、電子源８で模式的に示す。 蒸発源のタイプについては何ら限定するもので
はなく、スパツタ蒸着方式であつてもよいし、電
界蒸着、イオンプレーテイングいずれであつても
よい。９は電子源を模式的に示したもので、この
電子源９は、必要に応じて走査される電子ビーム
１０を発生するもので、この電子ビームのエネル
ギーは一部金属ベルト１の温度制御に供され、一
部の電子は高分子に注入され永久帯電（エレクト
レツト化）をひき起し、静電気力による接地電位
に置かれた金属ベルト１への垂直圧力の発生に基
ずく安定な熱伝達現像が保持されるよう作用す
る。なお１１は真空容器、１２は真空容器１１の
排気系、１３は防着板、１４は金属ローラであ
る。 これらについては、巻取り系の工夫、グロー放
電処理との組み合せ等は適宜実施できるのは勿論
である。 蒸発源にたてた法線g1と、基板にたてた法線g2
とのなす角θ1が０に近い状態の配置にし、垂直磁
化膜を、θ1を30゜〜80゜の範囲に選択しての斜方蒸
着による、面内磁化膜を得ることの自由度も勿論
本発明の基本要件と無関係である。 又別の実施例とし、エレクトレツト化のためと
金属ベルトの加熱を個別の電子ビームにより制御
することも可能である。 金属ベルト１はステンレス製0.3mm厚で、全長
１ｍのエンドレス形態を有し、直径200mmの、30
℃の媒体を流した（流量１m3／min）回転キヤン
２，３と組み合わせた系とし、以下の各実施例に
おいて適用した。 実施例 １ θ1＝45゜とし、Co100％を酸素２×10-5Torr中
で、ポリエチレンテレフタレートフイルム（厚さ
10μｍ）上に電子ビーム蒸着にて0.1μｍの厚さに
形成した。 基板と金属ベルトを照射した電子ビームは
30KVで照射面積は550cm2一定とした。 50cm幅のポリエチレンテレフタレートフイルム
を5000ｍ用いて得た磁気記録媒体の特性と安定性
（5000ｍ内のバラツキ）を電子ビームの３条件に
対応させ次表に示す。
【表】
これに比較しうる従来方法により得られる媒体
のバラツキは保磁力で±7.3％、角形比で±11.3
％であつた。 実施例 ２ θ1＝0゜とし、Co80％Cr20％を１×10-5Torrの
真空中で、ポリアミドフイルム（厚さ12μｍ）上
に電子ビーム蒸着により0.2μｍの厚さに形成し
た。 基板と金属ベルトを照射した電子ビーム条件は
35KVで、照射面積は500cm2一定とした。50cm幅
のポリアミドフイルムを5000ｍ用いて得た磁気記
録媒体の特性と安定性（5000ｍ内でのバラツキ）
を電子ビーム条件に対応させて下の表に示す。
のバラツキは保磁力で±7.3％、角形比で±11.3
％であつた。 実施例 ２ θ1＝0゜とし、Co80％Cr20％を１×10-5Torrの
真空中で、ポリアミドフイルム（厚さ12μｍ）上
に電子ビーム蒸着により0.2μｍの厚さに形成し
た。 基板と金属ベルトを照射した電子ビーム条件は
35KVで、照射面積は500cm2一定とした。50cm幅
のポリアミドフイルムを5000ｍ用いて得た磁気記
録媒体の特性と安定性（5000ｍ内でのバラツキ）
を電子ビーム条件に対応させて下の表に示す。
【表】
これに比較し得るスパツタ方式により得た垂直
磁化膜のバラツキは15cm幅100ｍの極めて小面積
であつても±19％と不安定であつた。 以上のように本発明によると、広い面積にわた
り特性バラツキの小さな磁気記録媒体を容易に得
ることができる。
磁化膜のバラツキは15cm幅100ｍの極めて小面積
であつても±19％と不安定であつた。 以上のように本発明によると、広い面積にわた
り特性バラツキの小さな磁気記録媒体を容易に得
ることができる。
図は本発明を実施するための装置の構成例を示
す図である。 １……金属ベルト、２，３……回転キヤン、４
……基板、７……蒸発源容器、１０……電子ビー
ム、１１……真空容器、１４……金属ローラ。
す図である。 １……金属ベルト、２，３……回転キヤン、４
……基板、７……蒸発源容器、１０……電子ビー
ム、１１……真空容器、１４……金属ローラ。
Claims (1)
- １ 金属回転ベルトに沿つて移動する可撓性高分
子基板上に強磁性層を形成するとともに、上記強
磁性層の形成に先立ち、電子衝撃の作用により、
上記回転ベルトを加熱しかつ上記高分子基板をエ
レクトレツト化することを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12639982A JPS5916143A (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12639982A JPS5916143A (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5916143A JPS5916143A (ja) | 1984-01-27 |
| JPH0121536B2 true JPH0121536B2 (ja) | 1989-04-21 |
Family
ID=14934185
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12639982A Granted JPS5916143A (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5916143A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6414729A (en) * | 1987-07-09 | 1989-01-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic recording medium |
-
1982
- 1982-07-19 JP JP12639982A patent/JPS5916143A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5916143A (ja) | 1984-01-27 |
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