JPH1180362A - シルフェニレンシルアルキレンポリマーの製造方法 - Google Patents

シルフェニレンシルアルキレンポリマーの製造方法

Info

Publication number
JPH1180362A
JPH1180362A JP24952197A JP24952197A JPH1180362A JP H1180362 A JPH1180362 A JP H1180362A JP 24952197 A JP24952197 A JP 24952197A JP 24952197 A JP24952197 A JP 24952197A JP H1180362 A JPH1180362 A JP H1180362A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
formula
substituted
carbon atoms
represented
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP24952197A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideki Kobayashi
秀樹 小林
Masayuki Hayashi
正之 林
Toru Masatomi
亨 正富
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DuPont Toray Specialty Materials KK
Original Assignee
Dow Corning Toray Silicone Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dow Corning Toray Silicone Co Ltd filed Critical Dow Corning Toray Silicone Co Ltd
Priority to JP24952197A priority Critical patent/JPH1180362A/ja
Publication of JPH1180362A publication Critical patent/JPH1180362A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 分子量の調節が容易であるシルフェニレンシ
ルアルキレンポリマーの新規な製造方法を提供する。 【解決手段】 (A)式: 【化1】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
1は炭素原子数2〜10のアルケニル基またはアルケ
ニルオキシアルキレン基であり、−Ph−は置換もしく
は非置換のフェニレン環を表している。)で表されるジ
シリルフェニレンを、(B)ヒドロシリル化反応用触媒
の存在下にヒドロシリル化重合することを特徴とする、
シルフェニレンシルアルキレンポリマーの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はシルフェニレンシル
アルキレンポリマーの製造方法に関し、詳しくは、分子
量の調節が容易であるシルフェニレンシルアルキレンポ
リマーの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】シルフェニレンシルアルキレンポリマー
は、光ファイバ被覆材や耐熱性材料として広く使用され
ている。そしてその製法としては、一般に、式:
【化9】 で示されるような両末端にアルケニル基を有するジシリ
ルフェニレンと、式:
【化10】 で示されるような両末端にケイ素原子結合水素原子を有
するジシリルフェニレンとを白金系触媒存在下で付加反
応させる方法が使用されている(特開平6−28730
8号公報、特開平4−84108号公報および特開平4
−325524号公報参照)。しかしこの方法では、原
料のジシリルフェニレンのモル比が生成するシルフェニ
レンシルアルキレンポリマーの分子量に直接影響し、こ
れらの仕込み比が等モルでないと高分子量のポリマーが
得られないため、生成するポリマーによって仕込み比を
厳密に調整しなければならず、分子量の調節が難しいと
いった欠点があった。一方、式:−Me2Si−Ph−
Me2Si−O−(式中、Meはメチル基を表し、−P
h−は置換もしくは非置換のフェニレン環を表してい
る。)で表される主鎖を有するシルフェニレンシロキサ
ンポリマーも耐熱性材料として知られている。しかし、
このポリマーを製造するには、式:Cl−Me2Si−
Ph−Me2Si−Cl(式中、Meおよび−Ph−は
前記と同じである。)で表されるモノマーを加水分解
し、次いで縮重合する方法が知られているが、これはプ
ロセスが長く収率が低いという欠点があるため、実用化
が進んでいない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは上記問題
点を解消するために鋭意検討した結果、本発明に到達し
た。即ち、本発明の目的は、分子量の調節が容易である
シルフェニレンシルアルキレンポリマーの新規な製造方
法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、(A)式:
【化11】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
1は炭素原子数2〜10のアルケニル基またはアルケ
ニルオキシアルキレン基であり、−Ph−は置換もしく
は非置換のフェニレン環を表している。)で表されるジ
シリルフェニレンを、(B)ヒドロシリル化反応用触媒
の存在下にヒドロシリル化重合することを特徴とする、
一般式(X):
【化12】 (式中、R,R1および−Ph−は前記と同じであり、
2は炭素原子数2〜10のアルキレン基またはアルキ
レンオキシアルキレン基であり、xは1以上の整数であ
る。)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポリマ
ーの製造方法、(A)式:
【化13】 (式中、R,R1および−Ph−は前記と同じであ
る。)で表されるジシリルフェニレンを、(B)ヒドロ
シリル化反応用触媒の存在下、(C)式:
【化14】 (式中、Rおよび−Ph−は前記と同じである)で表さ
れるジシリルフェニレンを重合開始剤または重合停止剤
として用いて、ヒドロシリル化重合することを特徴とす
る、一般式(Y):
【化15】 (式中、R,R2,−Ph−およびxは前記と同じであ
る。)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポリマ
ーの製造方法、および、(A)式:
【化16】 (式中、R,R1および−Ph−は前記と同じであ
る。)で表されるジシリルフェニレンを、(B)ヒドロ
シリル化反応用触媒の存在下、(D)炭素−炭素三重結
合を1個有する炭素原子数2〜10の不飽和脂肪族炭化
水素化合物、炭素−炭素二重結合を2個有する炭素原子
数3〜10の不飽和脂肪族炭化水素化合物、ジアルケニ
ルエーテル、または、式:
【化17】 (式中、R,R1および−Ph−は前記と同じであ
る。)で表されるジシリルフェニレンを重合開始剤また
は重合停止剤として用いて、ヒドロシリル化重合するこ
とを特徴とする、一般式(Z):
【化18】 (式中、R,R1,R2,−Ph−およびxは前記と同じ
である。)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポ
リマーの製造方法に関する。
【0005】
【発明の実施の形態】最初に、一般式(X):
【化19】 で表されるシルフェニレンシルアルキレンポリマーの製
造方法について説明する。
【0006】本発明の製造方法に使用される(A)成分
のジシリルフェニレンは、式:
【化20】 で表される。上式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない
炭素原子数1〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水
素基であり、具体的には、メチル基,エチル基,プロピ
ル基,ブチル基,ペンチル基,ヘキシル基等のアルキル
基;フェニル基,トリル基,キシリル基等のアリール
基;ベンジル基,フェネチル基等のアラルキル基;トリ
フルオロプロピル基,ノナフルオロヘキシル基,ヘプタ
デカフルオロオクチル基等のフッ化炭化水素基が例示さ
れる。R1は炭素原子数2〜10のアルケニル基または
アルケニルオキシアルキレン基である。かかるアルケニ
ル基としては、ビニル基,アリル基,ブテニル基,ヘキ
セニル基,オクテニル基が例示され、また、アルケニル
オキシアルキレン基としては、ビニルオキシエチレン
基,ビニルオキシプロピレン基,アリルオキシエチレン
基,アリルオキシプロピレン基,アリルオキシブチレン
基が例示される。−Ph−は置換もしくは非置換のフェ
ニレン環を表し、具体的には、p−フェニレン、m−フ
ェニレン、o−フェニレン、2−メチル−1,4−フェ
ニレン、2−メトキシ−1,4−フェニレンが例示され
る。これらの中でも、p−フェニレンが好ましい。
【0007】このような(A)成分のジシリルフェニレ
ンとしては、下記式で示される化合物が例示される。下
式中、Meはメチル基を表し、Prはプロピル基を表
し、C65−はフェニル基を表している。
【化21】
【化22】
【化23】
【化24】
【0008】本発明の製造方法に使用される(B)成分
のヒドロシリル化反応用触媒は、本発明の製造方法にお
いて、(A)成分のジシリルフェニレンのヒドロシリル
化重合を促進してシルフェニレンシルアルキレンポリマ
ーを製造するための触媒である。このような(B)成分
は特に限定されず、例えば、白金系触媒,ロジウム系触
媒,パラジウム系触媒,有機過酸化物が挙げられる。こ
れらの中でも、ヒドロシリル化重合を著しく促進するこ
とから白金系触媒であることが好ましい。好ましい白金
系触媒として具体的には、白金担持のシリカ微粉末,白
金担持のカーボン粉末,塩化白金酸,塩化白金酸のアル
コール溶液,白金とビニルシロキサンとの錯体,白金と
オレフィンとの錯体が例示される。また、本発明の製造
方法において(B)成分の添加量は触媒量であり特に限
定されないが、(A)成分100万重量部に対して0.
1〜500重量部の範囲であることが好ましい。
【0009】本発明の製造方法において各成分を添加す
る順序は任意であり、例えば、(A)成分と(B)成分
の混合系を加熱攪拌する方法,(A)成分を加熱攪拌し
ながら、この系に(B)成分を徐々に添加する方法,
(B)成分を加熱攪拌しながら、この系に(A)成分を
徐々に添加する方法等が挙げられる。このようにして
(A)成分を(B)成分の存在下にヒドロシリル化重合
することにより、一般式(X):
【化25】 で表されるシルフェニレンシルアルキレンポリマーを得
ることができる。上式中、R,R1および−Ph−は前
記と同じである。R2は炭素原子数2〜10のアルキレ
ン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、アル
キレン基として具体的には、エチレン基,メチルエチレ
ン基,エチルエチレン基,プロピルエチレン基,ブチル
エチレン基,プロピレン基,ブチレン基,1−メチルプ
ロピレン基,ペンチレン基,ヘキシレン基,ヘプチレン
基,オクチレン基,ノニレン基,デシレン基等の直鎖ま
たは分岐鎖状のアルキレン基が例示される。これらの中
でも、エチレン基,プロピレン基,ブチレン基,ヘキシ
レン基が好ましい。アルキレンオキシアルキレン基とし
ては、エチレンオキシプロピレン基,エチレンオキシブ
チレン基が例示される。xは1以上の整数であるが、通
常、1〜1,000の範囲である。
【0010】このような本発明の製造方法により得られ
る一般式(X)で表されるシルフェニレンシルアルキレ
ンポリマーとしては、下記式で示される化合物が例示さ
れる。下式中、Meはメチル基を表し、Prはプロピル
基を表し、C65−はフェニル基を表している。
【化26】
【化27】
【化28】
【化29】
【化30】
【化31】
【化32】
【0011】次に、一般式(Y):
【化33】 (式中、R,R2,−Ph−およびxは前記と同じであ
る。)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポリマ
ーの製造方法について説明する。
【0012】この製造方法は、前記(A)成分のジシリ
ルフェニレンを前記(B)成分のヒドロシリル化反応用
触媒の存在下、(C)式:
【化34】 (式中、Rおよび−Ph−は前記と同じである。)で表
されるジシリルフェニレンを重合開始剤または重合停止
剤として用いてヒドロシリル化重合することを特徴とす
る。このとき(C)成分の添加量は特に限定されない
が、所望の分子量のシルフェニレンシルアルキレンポリ
マーを得るために、(A)成分のモル数と(C)成分の
モル数の比を適宜調整することが好ましい。
【0013】重合開始剤または重合停止剤として用いら
れる(C)成分のジシリルフェニレンとしては、下記式
で示される化合物が挙げられる。下式中、Meはメチル
基を表し、Prはプロピル基を表し、C65−はフェニ
ル基を表している。
【化35】
【0014】この製造方法において各成分を添加する順
序は任意であり、例えば、(A)成分,(B)成分およ
び(C)成分の混合系を加熱攪拌する方法,(B)成分
と(C)成分を加熱攪拌しながら、この系に(A)成分
を徐々に添加する方法,(A)成分と(B)成分を加熱
攪拌しながら、この系に(C)成分を最後に添加する方
法等が挙げられる。
【0015】このような本発明の製造方法により得られ
る一般式(Y)で表されるシルフェニレンシルアルキレ
ンポリマーとしては、下記式で示される化合物が例示さ
れる。下式中、Meはメチル基を表し、Prはプロピル
基を表し、C65−はフェニル基を表している。
【化36】
【化37】
【化38】
【化39】
【化40】
【化41】
【化42】
【0016】次に、一般式(Z):
【化43】 (式中、R,R1,R2,−Ph−およびxは前記と同じ
である)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポリ
マーの製造方法について説明する。
【0017】この製造方法は、前記(A)成分のジシリ
ルフェニレンを前記(B)成分のヒドロシリル化反応用
触媒の存在下、(D)炭素−炭素三重結合を1個有する
炭素原子数2〜10の不飽和脂肪族炭化水素化合物、炭
素−炭素二重結合を2個有する炭素原子数3〜10の不
飽和脂肪族炭化水素化合物、ジアルケニルエーテル、ま
たは、式:
【化44】 (式中、R,R1および−Ph−は前記と同じであ
る。)で表されるジシリルフェニレンを重合開始剤また
は重合停止剤として用いてヒドロシリル化重合すること
を特徴とする。このとき(D)成分の添加量は特に限定
されないが、所望の分子量のシルフェニレンシルアルキ
レンポリマーを得るために、(A)成分のモル数と
(D)成分のモル数の比を適宜調整することが好まし
い。
【0018】重合開始剤または重合停止剤として用いら
れる(D)成分の炭素−炭素三重結合を1個有する炭素
原子数2〜10の不飽和脂肪族炭化水素化合物として
は、アセチレン,プロピン,1−ブチン,2−ブチン,
1−ペンチン,2−ペンチン,3−メチル−1−ブチ
ン,3,3−ジメチル−1−ブチン,1−ヘキシン,2
−ヘキシン,1−ヘプチン,1−オクチン,4−オクチ
ン,1−ノニン,1−デシン,5−デシンが例示され
る。炭素−炭素二重結合を2個有する炭素原子数3〜1
0の不飽和脂肪族炭化水素化合物としては、1,2−プ
ロパジエン(通称、アレン),1,3−ブタジエン,2
−メチル−1,3−ブタジエン(通称、イソプレン),
2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン,1,3−ペンタ
ジエン,1,4−ペンタジエン,1,5−ヘキサジエン,
1,3−シクロヘキサジエンが例示される。ジアルケニ
ルエーテルとしては、ジアリルエーテル,ジビニルエー
テルが例示される。上式で表されるジシリルフェニレン
としては、下記式で示される化合物が例示される。下式
中、Meはメチル基を表し、Prはプロピル基を表し、
65−はフェニル基を表している。
【化45】
【化46】
【0019】この製造方法において各成分を添加する順
序は任意であり、例えば、(A)成分,(B)成分およ
び(D)成分の混合系を加熱攪拌する方法,(B)成分
と(D)成分を加熱攪拌しながら、この系に(A)成分
を徐々に添加する方法,(A)成分と(B)成分を加熱
攪拌しながら、この系に(D)成分を最後に添加する方
法等が挙げられる。
【0020】このような本発明の製造方法により得られ
る一般式(Z)で表されるシルフェニレンシルアルキレ
ンポリマーとしては、下記式で示される化合物が例示さ
れる。下式中、Meはメチル基を表し、Prはプロピル
基を表し、C65−はフェニル基を表している。
【化47】
【化48】
【化49】
【化50】
【化51】
【化52】
【化53】
【0021】上記のような本発明の製造方法では、本発
明の目的を損なわない限り、有機溶媒を使用することが
できる。有機溶媒を使用することにより、より高分子量
のシルフェニレンシルアルキレンポリマーを製造するこ
とができる。使用できる有機溶媒として具体的には、ト
ルエン,キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;ヘキサ
ン,ヘプタン,オクタン,ノナン等の脂肪族炭化水素系
溶媒;シクロヘキサン,シクロヘプタン,シクロオクタ
ン等の脂環式炭化水素系溶媒;トリフルオロメチルベン
ゼン,1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン,
メチルペンタフルオロベンゼン等の含フッ素原子芳香族
炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル,ジブチルエーテ
ル,フェニルメチルエーテル,テトラヒドロフラン等の
エーテル系化合物;ジエチレングリコールジブチルエー
テル,ジプロピレングリコールジエチルエーテル等のジ
アルキレングリコールジアルキレンエーテル類;ジクロ
ロメタン,1,2−ジクロロエタン,1,1,2,2−テト
ラクロロエタン,クロロホルム,1,1,1−トリクロロ
エタン,四塩化炭素,モノクロロベンセン,ジクロロベ
ンゼン等の塩素化炭化水素類が例示される。尚、重合時
の反応条件は特に限定されず、常圧でヒドロシリル化重
合を行う場合には、その反応温度は、室温から前記
(A)成分〜(D)成分の沸点もしくは使用する有機溶
媒の沸点までであることが好ましい。また、加圧下でヒ
ドロシリル化重合を行うこともできる。
【0022】このような本発明の製造方法によれば、2
種の原料を等モル使用する従来の方法のように原料の仕
込み比を厳密に調節しなくても、効率よく高分子量のシ
ルフェニレンシルアルキレンポリマーを製造することが
できる。そしてこの方法により得られるシルフェニレン
シルアルキレンポリマーは、成形加工性、耐候性、離型
性、撥水性、機械特性等に優れ、加えて、酸やアルカリ
等のイオン性物質による分子鎖の切断が生じ難い。即
ち、イオン性物質による解重合劣化が生じ難く耐加水分
解性にも優れるという利点を有する。さらに、主鎖にベ
ンゼン環を有しているので耐熱性に優れており、また表
面張力がポリジメチルシロキサン(PDMS)と有機材
料の中間(20〜30mN/m)を示すので、このよう
な特徴を要求される各種用途に有用である。尚、上記一
般式(X)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポ
リマーは両末端の基が異なるために、それを利用して各
種有機樹脂のグラフト型の変性剤として有用であり、一
般式(Y)および(Z)で表されるシルフェニレンシル
アルキレンポリマーは、両末端の基が同一であるため
に、各種有機樹脂のブロック型の変性剤として有用であ
る。
【0023】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明す
る。実施例中、Meはメチル基を表し、C65はフェニ
ル基を表している。
【0024】
【合成例1】窒素気流下で乾燥したフラスコに、60.
75g(2.5モル)のMg粉末を投入し、これを80
℃の温度条件下で3時間加熱攪拌した。冷却後、210
g(1.15モル)のメチルフェニルビニルクロロシラ
ンと113g(1.15モル)のジメチルクロロシラン
を加えた。次いでこれに、575g(2.5モル)のパ
ラジブロモベンゼンと1,000gのTHF溶液との混
合液を、25℃の温度条件下で滴下した。この滴下によ
り発熱が認められ、反応が開始したことが確認された。
反応系を冷却して50℃に保持しながら、この混合液を
2時間かけて滴下した。滴下終了後、50℃の温度条件
下で2時間加熱した。その後、生成した塩を溶解するた
めに850gの水を加えた。中性になるまで水洗を行っ
た後、有機層を分液ロートにより分離して、モレキュラ
ーシーブを用いて一晩乾燥した。次いでろ過し、減圧下
で分別蒸留することにより、下記式で表される1−ジメ
チルシリル−4−メチルフェニルビニルシリルフェニレ
ン96g(0.34モル)を得た。
【化54】
【0025】
【実施例1】合成例1で得た、1−ジメチルシリル−4
−メチルフェニルビニルシリルフェニレン2.8g(0.
01モル)とトルエン30gの混合液に、塩化白金酸の
10%イソプロパノール溶液を反応系中の白金金属自体
の含有量が30ppmとなる量投入して、60℃の温度条
件下で攪拌した。さらにこれに、上記の1−ジメチルシ
リル−4−メチルフェニルビニルシリルフェニレン2
5.4g(0.09モル)を滴下した。この反応混合液を
2時間加熱還流した後、これを60gのメタノールに加
えて、デカンテーションして沈澱物を回収した。次い
で、減圧下で揮発分を除去して、18gの固形の反応生
成物を得た。得られた反応生成物を、トルエンを溶媒と
して用いたGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラ
フィー),フーリエ変換赤外線分光分析(以下、FT−
IR),13C−核磁気共鳴スペクトル分析(以下、13
−NMR)および29Si−核磁気共鳴スペクトル分析
(以下、29Si−NMR)により分析したところ、この
反応生成物は、平均構造式:
【化55】 で表される、一方の末端にケイ素原子結合水素原子を有
し、もう一方の末端にビニル基を有する重量平均分子量
約7万のシルフェニレンシルエチレンポリマーであるこ
とが判明した。
【0026】
【実施例2】式:
【化56】 で表される1,4−ビス(ジメチルシリル)フェニレン
0.194g(0.001モル)とトルエン30gの混合
液に、塩化白金酸の10%イソプロパノール溶液を反応
系中の白金金属自体の含有量が30ppmとなる量投入し
た。これを60℃の温度条件下で攪拌しながら、合成例
1で得た1−ジメチルシリル−4−メチルフェニルビニ
ルシリルフェニレン28g(0.1モル)を滴下した。
この反応混合液を2時間加熱還流した後、これを60g
のメタノールに加えて、デカンテーションして沈澱物を
回収した。次いで、減圧下で揮発分を除去して、20g
の固形の反応生成物を得た。得られた反応生成物を、G
PC,FT−IR,13C−NMRおよび29Si−NMR
により分析したところ、この反応生成物は、平均構造
式:
【化57】 で表される、両末端にケイ素原子結合水素原子を有する
重量平均分子量約2.8万のシルフェニレンシルエチレ
ンポリマーであることが判明した。
【0027】
【実施例3】式:
【化58】 で表される1,4−ビス(メチルフェニルビニルシリ
ル)フェニレン0.74g(0.002モル)とトルエン
10gの混合液に、白金とジビニルテトラメチルジシロ
キサンとの錯体溶液を反応系中の白金金属自体の含有量
が30ppmとなる量投入した。これを60℃の温度条件
下で攪拌しながら、合成例1で得た1−ジメチルシリル
−4−メチルフェニルビニルシリルフェニレン28g
(0.1モル)を滴下した。この反応混合液を2時間加
熱還流した後、減圧下で揮発分を除去して、21gの固
形の反応生成物を得た。得られた反応生成物を、GP
C,FT−IR,13C−NMRおよび29Si−NMRに
より分析したところ、この反応生成物は、平均構造式:
【化59】 で表される、両末端にビニル基を有する重量平均分子量
約1.4万のシルフェニレンシルエチレンポリマーであ
ることが判明した。
【0028】
【発明の効果】以上のような本発明のシルフェニレンシ
ルアルキレンポリマ−の製造方法は、(A)成分の特殊
なジシリルフェニレンを出発原料としているので、従来
の方法に比べて生成するポリマーの分子量の調節が容易
であるという特徴を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 正富 亨 千葉県市原市千種海岸2番2 東レ・ダウ コーニング・シリコーン株式会社研究開発 本部内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)式: 【化1】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
    〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
    1は炭素原子数2〜10のアルケニル基またはアルケ
    ニルオキシアルキレン基であり、−Ph−は置換もしく
    は非置換のフェニレン環を表している。)で表されるジ
    シリルフェニレンを、(B)ヒドロシリル化反応用触媒
    の存在下にヒドロシリル化重合することを特徴とする、
    一般式(X): 【化2】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
    〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
    1は炭素原子数2〜10のアルケニル基またはアルケ
    ニルオキシアルキレン基であり、R2は炭素原子数2〜
    10のアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン
    基であり、−Ph−は置換もしくは非置換のフェニレン
    環を表し、xは1以上の整数である。)で表されるシル
    フェニレンシルアルキレンポリマーの製造方法。
  2. 【請求項2】 (A)式: 【化3】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
    〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
    1は炭素原子数2〜10のアルケニル基またはアルケ
    ニルオキシアルキレン基であり、−Ph−は置換もしく
    は非置換のフェニレン環を表している。)で表されるジ
    シリルフェニレンを、(B)ヒドロシリル化反応用触媒
    の存在下、(C)式: 【化4】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
    〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
    −Ph−は置換もしくは非置換のフェニレン環を表して
    いる。)で表されるジシリルフェニレンを重合開始剤ま
    たは重合停止剤として用いて、ヒドロシリル化重合する
    ことを特徴とする、一般式(Y): 【化5】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
    〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
    2は炭素原子数2〜10のアルキレン基またはアルキ
    レンオキシアルキレン基であり、−Ph−は置換もしく
    は非置換のフェニレン環を表し、xは1以上の整数であ
    る。)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポリマ
    ーの製造方法。
  3. 【請求項3】 (A)式: 【化6】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
    〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
    1は炭素原子数2〜10のアルケニル基またはアルケ
    ニルオキシアルキレン基であり、−Ph−は置換もしく
    は非置換のフェニレン環を表している。)で表されるジ
    シリルフェニレンを、(B)ヒドロシリル化反応用触媒
    の存在下、(D)炭素−炭素三重結合を1個有する炭素
    原子数2〜10の不飽和脂肪族炭化水素化合物、炭素−
    炭素二重結合を2個有する炭素原子数3〜10の不飽和
    脂肪族炭化水素化合物、ジアルケニルエーテル、また
    は、式: 【化7】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
    〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
    1は炭素原子数2〜10のアルケニル基またはアルケ
    ニルオキシアルキレン基であり、−Ph−は置換もしく
    は非置換のフェニレン環を表している。)で表されるジ
    シリルフェニレンを重合開始剤または重合停止剤として
    用いて、ヒドロシリル化重合することを特徴とする、一
    般式(Z): 【化8】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
    〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
    1は炭素原子数2〜10のアルケニル基またはアルケ
    ニルオキシアルキレン基であり、R2は炭素原子数2〜
    10のアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン
    基であり、−Ph−は置換もしくは非置換のフェニレン
    環を表し、xは1以上の整数である。)で表されるシル
    フェニレンシルアルキレンポリマーの製造方法。
JP24952197A 1997-08-29 1997-08-29 シルフェニレンシルアルキレンポリマーの製造方法 Pending JPH1180362A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24952197A JPH1180362A (ja) 1997-08-29 1997-08-29 シルフェニレンシルアルキレンポリマーの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24952197A JPH1180362A (ja) 1997-08-29 1997-08-29 シルフェニレンシルアルキレンポリマーの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1180362A true JPH1180362A (ja) 1999-03-26

Family

ID=17194221

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24952197A Pending JPH1180362A (ja) 1997-08-29 1997-08-29 シルフェニレンシルアルキレンポリマーの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1180362A (ja)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1770111A1 (en) * 2004-07-16 2007-04-04 Toagosei Co., Ltd. Polycarbosilane and method for producing same
JP2014084418A (ja) * 2012-10-24 2014-05-12 Dow Corning Toray Co Ltd 硬化性シリコーン組成物、その硬化物、および光半導体装置
JP2014084417A (ja) * 2012-10-24 2014-05-12 Dow Corning Toray Co Ltd オルガノポリシロキサン、硬化性シリコーン組成物、その硬化物、および光半導体装置
JP2015526555A (ja) * 2012-08-02 2015-09-10 ヘンケル・チャイナ・カンパニー・リミテッドHenkel Chinaco. Ltd. ポリカルボシラン、およびポリカルボシランを含んでなるled向け封入剤用硬化性組成物
JP2015529713A (ja) * 2012-08-02 2015-10-08 ヘンケル・チャイナ・カンパニー・リミテッドHenkel Chinaco. Ltd. ポリカルボシランおよびヒドロシリコーンを含んでなるled封入剤用硬化性組成物
EP3569638A1 (en) * 2018-05-17 2019-11-20 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Polymer containing silphenylene and polyether structures
JP2019200344A (ja) * 2018-05-17 2019-11-21 信越化学工業株式会社 感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、及びパターン形成方法
CN113336945A (zh) * 2021-06-28 2021-09-03 中国科学院长春应用化学研究所 一种主链含亚苯基(苯撑)的硅氧烷聚合物及其制备方法
US11402756B2 (en) 2017-08-09 2022-08-02 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicone structure-containing polymer, photosensitive resin composition, photosensitive resin coating, photosensitive dry film, laminate, and pattern forming process
US11460774B2 (en) 2018-12-19 2022-10-04 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photosensitive resin composition, photosensitive dry film, and pattern forming process
US11526078B2 (en) 2017-08-09 2022-12-13 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photosensitive resin composition, photosensitive resin coating, photosensitive dry film, laminate, and pattern forming process
US11548985B2 (en) 2018-11-28 2023-01-10 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Siloxane polymer containing isocyanuric acid and polyether skeletons, photosensitive resin composition, pattern forming process, and fabrication of opto-semiconductor device
EP4050054A4 (en) * 2019-10-21 2023-12-13 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM AND METHOD FOR PATTERN FORMING

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2006009123A1 (ja) * 2004-07-16 2008-05-01 東亞合成株式会社 ポリカルボシラン及びその製造方法
EP1770111A4 (en) * 2004-07-16 2011-08-17 Toagosei Co Ltd POLYCARBOSILAN AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
KR101156314B1 (ko) 2004-07-16 2012-06-13 도아고세이가부시키가이샤 폴리카르보실란 및 그의 제조 방법
JP5223193B2 (ja) * 2004-07-16 2013-06-26 東亞合成株式会社 ポリカルボシラン及びその製造方法並びに絶縁性材料
EP1770111A1 (en) * 2004-07-16 2007-04-04 Toagosei Co., Ltd. Polycarbosilane and method for producing same
JP2015529713A (ja) * 2012-08-02 2015-10-08 ヘンケル・チャイナ・カンパニー・リミテッドHenkel Chinaco. Ltd. ポリカルボシランおよびヒドロシリコーンを含んでなるled封入剤用硬化性組成物
US9410019B2 (en) 2012-08-02 2016-08-09 Henkel Ag & Co. Kgaa Polycarbosilane and curable compositions for LED encapsulants comprising same
JP2015526555A (ja) * 2012-08-02 2015-09-10 ヘンケル・チャイナ・カンパニー・リミテッドHenkel Chinaco. Ltd. ポリカルボシラン、およびポリカルボシランを含んでなるled向け封入剤用硬化性組成物
KR101875382B1 (ko) * 2012-10-24 2018-07-06 다우 코닝 도레이 캄파니 리미티드 경화성 실리콘 조성물, 이의 경화물, 및 광반도체 장치
JP2014084418A (ja) * 2012-10-24 2014-05-12 Dow Corning Toray Co Ltd 硬化性シリコーン組成物、その硬化物、および光半導体装置
JP2014084417A (ja) * 2012-10-24 2014-05-12 Dow Corning Toray Co Ltd オルガノポリシロキサン、硬化性シリコーン組成物、その硬化物、および光半導体装置
US11402756B2 (en) 2017-08-09 2022-08-02 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicone structure-containing polymer, photosensitive resin composition, photosensitive resin coating, photosensitive dry film, laminate, and pattern forming process
US11526078B2 (en) 2017-08-09 2022-12-13 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photosensitive resin composition, photosensitive resin coating, photosensitive dry film, laminate, and pattern forming process
JP2019200344A (ja) * 2018-05-17 2019-11-21 信越化学工業株式会社 感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、及びパターン形成方法
US11262655B2 (en) 2018-05-17 2022-03-01 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photosensitive resin composition, photosensitive dry film, and pattern forming process
US10982053B2 (en) 2018-05-17 2021-04-20 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Polymer containing silphenylene and polyether structures
EP3569638A1 (en) * 2018-05-17 2019-11-20 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Polymer containing silphenylene and polyether structures
US11548985B2 (en) 2018-11-28 2023-01-10 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Siloxane polymer containing isocyanuric acid and polyether skeletons, photosensitive resin composition, pattern forming process, and fabrication of opto-semiconductor device
US11460774B2 (en) 2018-12-19 2022-10-04 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photosensitive resin composition, photosensitive dry film, and pattern forming process
EP4050054A4 (en) * 2019-10-21 2023-12-13 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM AND METHOD FOR PATTERN FORMING
CN113336945A (zh) * 2021-06-28 2021-09-03 中国科学院长春应用化学研究所 一种主链含亚苯基(苯撑)的硅氧烷聚合物及其制备方法
CN113336945B (zh) * 2021-06-28 2023-08-29 中国科学院长春应用化学研究所 一种主链含亚苯基(苯撑)的硅氧烷聚合物及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0841206A (ja) 有機ケイ素重合体およびその製造方法
JPH1180362A (ja) シルフェニレンシルアルキレンポリマーの製造方法
US20060041098A1 (en) Synthesis and characterization of novel cyclosiloxanes and their self- and co-condensation with silanol-terminated polydimethylsiloxane
EP0661331B1 (en) Silicon-containing polymer, process for preparing the same and monomer thereof
EP0669363B1 (en) Process for preparing polyorganosilane
WO1999043737A1 (en) Silyl and siloxyl substituted carboranes with unsaturated organic end groups
JP3797519B2 (ja) 分岐状シロキサン・シルアルキレン共重合体
JPH0782379A (ja) 有機ケイ素重合体の製造方法
US5489662A (en) Process for the preparation of organosilicon polymer
EP0661332B1 (en) Silicon-containing reactive polymer and curable resin composition comprising the same
JP6390473B2 (ja) 両末端変性されたシラシクロブタン開環重合物及びその製造方法
JP6003856B2 (ja) 末端変性されたシラシクロブタン開環重合物及びその製造方法
JPH11131023A (ja) コーティング材
JPH07268100A (ja) 有機ケイ素重合体およびその製造方法
JPH11199676A (ja) シルフェニレン系ポリマーおよびその製造方法
JPH08302020A (ja) 含フッ素有機ケイ素重合体
JP3053736B2 (ja) ケイ素含有重合体の製造方法
JP4771737B2 (ja) ポリビニルエーテル部分とオルガノポリシロキサン部分とを有するポリマーの製造方法
JPH07233260A (ja) 反応性ケイ素系高分子、及びそれを用いた硬化性組成物
KR100572365B1 (ko) 실옥산 폴리머
JP5152783B2 (ja) Si−Si結合を有する高分子化合物の製造方法
JPH05214106A (ja) ポリ(シルエチニレンジシロキサン)及びその製造方法
JPH0859839A (ja) 含フッ素有機ケイ素共重合体
JP4276805B2 (ja) 新規シラザン化合物及びその製造方法、並びに新規シラザン化合物重合体及びその製造方法
JP2758116B2 (ja) メチル基含有ポリシランの製造方法