JPH08302020A - 含フッ素有機ケイ素重合体 - Google Patents
含フッ素有機ケイ素重合体Info
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- JPH08302020A JPH08302020A JP12888395A JP12888395A JPH08302020A JP H08302020 A JPH08302020 A JP H08302020A JP 12888395 A JP12888395 A JP 12888395A JP 12888395 A JP12888395 A JP 12888395A JP H08302020 A JPH08302020 A JP H08302020A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 特定の含フッ素有機基を有し、かつ、２価の
基を介してアルコキシシリル基もしくはハロゲノシリル
基を有する新規な含フッ素有機ケイ素重合体を提供す
る。 【構成】 １分子中に、式：−Ｒ3−ＣnＦ(2n+1)（式
中、Ｒ3はアルキレン基またはアルキレンオキシアルキ
レン基であり、ｎは４以上の整数である。）で示される
含フッ素有機基と、式：−Ｒ3−ＳｉＸmＲ2 (3-m)（式
中、Ｒ2は同一もしくは異なるアルキル基，アリール基
および３,３,３−トリフルオロプロピル基からなる群か
ら選択される基であり、Ｘはハロゲン原子またはアルコ
キシ基であり、ｍは１〜３の整数であり、Ｒ3は前記と
同じである。）で示される基をそれぞれ１個以上有する
含フッ素有機ケイ素重合体。
基を介してアルコキシシリル基もしくはハロゲノシリル
基を有する新規な含フッ素有機ケイ素重合体を提供す
る。 【構成】 １分子中に、式：−Ｒ3−ＣnＦ(2n+1)（式
中、Ｒ3はアルキレン基またはアルキレンオキシアルキ
レン基であり、ｎは４以上の整数である。）で示される
含フッ素有機基と、式：−Ｒ3−ＳｉＸmＲ2 (3-m)（式
中、Ｒ2は同一もしくは異なるアルキル基，アリール基
および３,３,３−トリフルオロプロピル基からなる群か
ら選択される基であり、Ｘはハロゲン原子またはアルコ
キシ基であり、ｍは１〜３の整数であり、Ｒ3は前記と
同じである。）で示される基をそれぞれ１個以上有する
含フッ素有機ケイ素重合体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は文献未記載の新規な含フ
ッ素有機ケイ素重合体に関するものである。
ッ素有機ケイ素重合体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、パーフルオロアルキル基とアルコ
キシシリルアルキレン基を有する含フッ素有機ケイ素重
合体として、例えば、式：
キシシリルアルキレン基を有する含フッ素有機ケイ素重
合体として、例えば、式：
【化４】 で示されるシロキサン（特公昭３９−２４１２４号公報
参照）が知られている。また、側鎖もしくは側鎖と末端
の両方にアルコキシシリルアルキレン基を有するオルガ
ノポリシロキサンにおいて、ケイ素原子に結合する基と
して３,３,３−トリフルオロプロピル基が例示されてい
る（特開平２−１６０６５１号公報参照）。しかし、
式：−Ｒ3−ＣnＦ(2n+1)（式中、Ｒ3はアルキレン基ま
たはアルキレンオキシアルキレン基であり、ｎは４以上
の整数である。）で示される含フッ素有機基を有し、か
つ、アルコキシシリルアルキレン基を有する含フッ素有
機ケイ素重合体は知られていなかった。
参照）が知られている。また、側鎖もしくは側鎖と末端
の両方にアルコキシシリルアルキレン基を有するオルガ
ノポリシロキサンにおいて、ケイ素原子に結合する基と
して３,３,３−トリフルオロプロピル基が例示されてい
る（特開平２−１６０６５１号公報参照）。しかし、
式：−Ｒ3−ＣnＦ(2n+1)（式中、Ｒ3はアルキレン基ま
たはアルキレンオキシアルキレン基であり、ｎは４以上
の整数である。）で示される含フッ素有機基を有し、か
つ、アルコキシシリルアルキレン基を有する含フッ素有
機ケイ素重合体は知られていなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは鋭意検討
した結果、本発明に到達した。即ち、本発明の目的は、
特定の含フッ素有機基を有し、かつ、２価の基を介して
アルコキシシリル基もしくはハロゲノシリル基を有する
新規な含フッ素有機ケイ素重合体を提供することにあ
る。
した結果、本発明に到達した。即ち、本発明の目的は、
特定の含フッ素有機基を有し、かつ、２価の基を介して
アルコキシシリル基もしくはハロゲノシリル基を有する
新規な含フッ素有機ケイ素重合体を提供することにあ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段およびその作用】本発明
は、一般式：
は、一般式：
【化５】 ［式中、Ｒ1は同一もしくは異なるアルキル基，アリー
ル基，３,３,３−トリフルオロプロピル基および式：−
Ｒ3−ＣnＦ(2n+1)（式中、Ｒ3はアルキレン基またはア
ルキレンオキシアルキレン基であり、ｎは４以上の整数
である。）で示される含フッ素有機基からなる群から選
択される基であり（ただし、Ｒ1の少なくとも１つは上
式で示される含フッ素有機基である。）、Ｒ2は同一も
しくは異なるアルキル基，アリール基および３,３,３−
トリフルオロプロピル基からなる群から選択される基で
あり、Ｒ3はアルキレン基またはアルキレンオキシアル
キレン基であり、Ｘはハロゲン原子またはアルコキシ基
であり、ａは１〜１０,０００の整数であり、ｂは１〜
１,０００の整数であり、ｍは１〜３の整数である。］
で示される含フッ素有機ケイ素重合体、一般式：
ル基，３,３,３−トリフルオロプロピル基および式：−
Ｒ3−ＣnＦ(2n+1)（式中、Ｒ3はアルキレン基またはア
ルキレンオキシアルキレン基であり、ｎは４以上の整数
である。）で示される含フッ素有機基からなる群から選
択される基であり（ただし、Ｒ1の少なくとも１つは上
式で示される含フッ素有機基である。）、Ｒ2は同一も
しくは異なるアルキル基，アリール基および３,３,３−
トリフルオロプロピル基からなる群から選択される基で
あり、Ｒ3はアルキレン基またはアルキレンオキシアル
キレン基であり、Ｘはハロゲン原子またはアルコキシ基
であり、ａは１〜１０,０００の整数であり、ｂは１〜
１,０００の整数であり、ｍは１〜３の整数である。］
で示される含フッ素有機ケイ素重合体、一般式：
【化６】 ［式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｘ，ａ，ｂおよびｍは前記と
同じであり、Ｒ4はＲ1で示される基または式：−Ｒ3−
ＳｉＸmＲ2 (3-m)（式中、Ｒ2，Ｒ3，Ｘおよびｍは前記
と同じである。）で示される基である（ただし、Ｒ1ま
たはＲ4の少なくともどちらか１つは上式で示される含
フッ素有機基である。）。］で示される含フッ素有機ケ
イ素重合体、および一般式：
同じであり、Ｒ4はＲ1で示される基または式：−Ｒ3−
ＳｉＸmＲ2 (3-m)（式中、Ｒ2，Ｒ3，Ｘおよびｍは前記
と同じである。）で示される基である（ただし、Ｒ1ま
たはＲ4の少なくともどちらか１つは上式で示される含
フッ素有機基である。）。］で示される含フッ素有機ケ
イ素重合体、および一般式：
【化７】 ［式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｘ，ａ，ｂおよびｍは前
記と同じである。］で示される含フッ素有機ケイ素重合
体に関する。
記と同じである。］で示される含フッ素有機ケイ素重合
体に関する。
【０００５】最初に、一般式：
【化８】 で示される含フッ素有機ケイ素重合体について説明す
る。この含フッ素有機ケイ素重合体は、側鎖に２価の基
を介してアルコキシシリル基もしくはハロゲノシリルを
有し、末端，側鎖もしくはその両方に含フッ素有機基を
有する。上式中、Ｒ1はアルキル基，アリール基，３,
３,３−トリフルオロプロピル基および式：−Ｒ3−Ｃn
Ｆ(2n+1)（式中、Ｒ3はアルキレン基またはアルキレン
オキシアルキレン基であり、ｎは４以上の整数であり、
好ましくは４〜１２の整数である。。）で示される含フ
ッ素有機基からなる群から選択される基であり、アルキ
ル基としては、例えば、メチル基，エチル基，プロピル
基，ブチル基，ペンチル基，ヘキシル基，ヘプチル基，
オクチル基，ノニル基，デシル基，ヘキサデシル基，オ
クタデシル基が挙げられ、アリール基としては、例え
ば、フェニル基，トリル基，キシリル基が挙げられ、含
フッ素有機基としては、例えば、ノナフルオロヘキシル
基，トリデカフルオロイソオクチル基，トリデカフルオ
ロオクチル基，ヘプタデカフルオロデシル基，ノナフル
オロブチルオキシエチル基，ノナフルオロブチルオキシ
プロピル基，ノナフルオロブチルオキシブチル基，ウン
デカフルオロペンチルオキシエチル基，ウンデカフルオ
ロペンチルオキシプロピル基が挙げられる。このＲ1は
同一でも異なっていてもよいが、少なくとも１つは上式
で示される含フッ素有機基であることが必要である。Ｒ
2は同一もしくは異なるアルキル基，アリール基および
３,３,３−トリフルオロプロピル基からなる群から選択
される基であり、アルキル基、アリール基の具体例とし
ては前記と同様の基が挙げられる。Ｒ3はアルキレン基
またはアルキレンオキシアルキレン基であり、アルキレ
ン基としては、例えば、エチレン基，メチルエチレン
基，エチルエチレン基，プロピルエチレン基，ブチルエ
チレン基，プロピレン基，ブチレン基，１−メチルプロ
ピレン基，ペンチレン基，ヘキシレン基，ヘプチレン
基，オクチレン基，ノニレン基，デシレン基が挙げら
れ、アルキレンオキシアルキレン基としては、例えば、
エチレンオキシエチレン基，エチレンオキシプロピレン
基，エチレンオキシブチレン基，プロピレンオキシエチ
レン基，プロピレンオキシプロピレン基，プロピレンオ
キシブチレン基，ブチレンオキシエチレン基，ブチレン
オキシプロピレン基が挙げられる。Ｘはハロゲン原子ま
たはアルコキシ基であり、ハロゲン原子としては、例え
ば、フッ素原子，塩素原子，臭素原子が挙げられ、アル
コキシ基としては、例えば、メトキシ基，エトキシ基，
プロポキシ基，ブトキシ基，メトキシエトキシ基が挙げ
られる。ａは１〜１０,０００の整数であり、好ましく
は１〜１,０００の整数である。ｂは１〜１,０００の整
数であり、好ましくは１〜１００の整数である。ｍは１
〜３の整数である。
る。この含フッ素有機ケイ素重合体は、側鎖に２価の基
を介してアルコキシシリル基もしくはハロゲノシリルを
有し、末端，側鎖もしくはその両方に含フッ素有機基を
有する。上式中、Ｒ1はアルキル基，アリール基，３,
３,３−トリフルオロプロピル基および式：−Ｒ3−Ｃn
Ｆ(2n+1)（式中、Ｒ3はアルキレン基またはアルキレン
オキシアルキレン基であり、ｎは４以上の整数であり、
好ましくは４〜１２の整数である。。）で示される含フ
ッ素有機基からなる群から選択される基であり、アルキ
ル基としては、例えば、メチル基，エチル基，プロピル
基，ブチル基，ペンチル基，ヘキシル基，ヘプチル基，
オクチル基，ノニル基，デシル基，ヘキサデシル基，オ
クタデシル基が挙げられ、アリール基としては、例え
ば、フェニル基，トリル基，キシリル基が挙げられ、含
フッ素有機基としては、例えば、ノナフルオロヘキシル
基，トリデカフルオロイソオクチル基，トリデカフルオ
ロオクチル基，ヘプタデカフルオロデシル基，ノナフル
オロブチルオキシエチル基，ノナフルオロブチルオキシ
プロピル基，ノナフルオロブチルオキシブチル基，ウン
デカフルオロペンチルオキシエチル基，ウンデカフルオ
ロペンチルオキシプロピル基が挙げられる。このＲ1は
同一でも異なっていてもよいが、少なくとも１つは上式
で示される含フッ素有機基であることが必要である。Ｒ
2は同一もしくは異なるアルキル基，アリール基および
３,３,３−トリフルオロプロピル基からなる群から選択
される基であり、アルキル基、アリール基の具体例とし
ては前記と同様の基が挙げられる。Ｒ3はアルキレン基
またはアルキレンオキシアルキレン基であり、アルキレ
ン基としては、例えば、エチレン基，メチルエチレン
基，エチルエチレン基，プロピルエチレン基，ブチルエ
チレン基，プロピレン基，ブチレン基，１−メチルプロ
ピレン基，ペンチレン基，ヘキシレン基，ヘプチレン
基，オクチレン基，ノニレン基，デシレン基が挙げら
れ、アルキレンオキシアルキレン基としては、例えば、
エチレンオキシエチレン基，エチレンオキシプロピレン
基，エチレンオキシブチレン基，プロピレンオキシエチ
レン基，プロピレンオキシプロピレン基，プロピレンオ
キシブチレン基，ブチレンオキシエチレン基，ブチレン
オキシプロピレン基が挙げられる。Ｘはハロゲン原子ま
たはアルコキシ基であり、ハロゲン原子としては、例え
ば、フッ素原子，塩素原子，臭素原子が挙げられ、アル
コキシ基としては、例えば、メトキシ基，エトキシ基，
プロポキシ基，ブトキシ基，メトキシエトキシ基が挙げ
られる。ａは１〜１０,０００の整数であり、好ましく
は１〜１,０００の整数である。ｂは１〜１,０００の整
数であり、好ましくは１〜１００の整数である。ｍは１
〜３の整数である。
【０００６】上記した本発明の含フッ素有機ケイ素重合
体は、下記一般式（Ａ）〜（Ｅ）で示される重合体に分
類することができる。下式中、Ｒ2，Ｒ3，Ｘ，ａ，ｂ，
ｍおよびｎは前記と同じである。 一般式（Ａ）：
体は、下記一般式（Ａ）〜（Ｅ）で示される重合体に分
類することができる。下式中、Ｒ2，Ｒ3，Ｘ，ａ，ｂ，
ｍおよびｎは前記と同じである。 一般式（Ａ）：
【化９】 このような含フッ素有機ケイ素重合体としては、例え
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
【化１０】
【化１１】
【化１２】
【化１３】
【化１４】
【化１５】
【０００７】一般式（Ｂ）：
【化１６】 ［式中、ｃは０〜１,０００の整数であり、かつ、（ａ
＋ｃ）≦１０,０００である。］ このような含フッ素有機ケイ素重合体としては、例え
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
＋ｃ）≦１０,０００である。］ このような含フッ素有機ケイ素重合体としては、例え
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
【化１７】
【化１８】
【化１９】
【化２０】
【０００８】一般式（Ｃ）：
【化２１】 このような含フッ素有機ケイ素重合体としては、例え
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
【化２２】
【０００９】一般式（Ｄ）：
【化２３】 ［式中、ｃは０〜１,０００の整数であり、かつ、（ａ
＋ｃ）≦１０,０００である。］ このような含フッ素有機ケイ素重合体としては、例え
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
＋ｃ）≦１０,０００である。］ このような含フッ素有機ケイ素重合体としては、例え
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
【化２４】
【００１０】一般式（Ｅ）：
【化２５】 ［式中、ｃは０〜１,０００の整数であり、かつ、（ａ
＋ｃ）≦１０,０００である。］ このような含フッ素有機ケイ素重合体としては、例え
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
＋ｃ）≦１０,０００である。］ このような含フッ素有機ケイ素重合体としては、例え
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
【化２６】
【００１１】このような本発明の含フッ素有機ケイ素重
合体は、例えば、 (１)一般式：（Ｒ1Ｒ2 2Ｓｉ）2Ｏで表されるジシロキサ
ンと、 (２)一般式：（Ｒ5Ｒ2ＳｉＯ）dで表されるシクロシロ
キサンと、 (３)一般式：（Ｒ1Ｒ2ＳｉＯ）eで表されるシクロシロ
キサンとを酸性触媒または塩基性触媒の存在下平衡重合
させ、次いで、 (４)一般式：Ｈ−ＳｉＲ2 (3-m)Ｘmで表されるシラン
を、ヒドロシリル化反応用触媒を用いて付加反応させた
り、また、 (１)一般式：（Ｒ1Ｒ2 2Ｓｉ）2Ｏで表されるジシロキサ
ンと、 (２')一般式：（ＨＲ2ＳｉＯ）dで表されるシクロシロ
キサンと、 (３)一般式：（Ｒ1Ｒ2ＳｉＯ）eで表されるシクロシロ
キサンとを酸性触媒の存在下平衡重合させ、次いで、 (４')一般式：Ｒ5−ＳｉＲ2 (3-m)Ｘmで表されるシラン
を、ヒドロシリル化反応用触媒を用いて付加反応させた
りすることにより製造できる。上式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｘお
よびｍは前記と同じである。Ｒ5はアルケニル基または
アルケニルオキシアルキル基であり、アルケニル基とし
ては、例えば、ビニル基，アリル基，ブテニル基，ペン
テニル基，ヘキセニル基，ヘプテニル基，オクテニル
基，ノネニル基，デセニル基が挙げられ、アルケニルオ
キシアルキル基としては、例えば、エテニルオキシエチ
ル基，エテニルオキシプロピル基，エテニルオキシブチ
ル基，２−プロペニルオキシエチル基，２−プロペニル
オキシプロピル基，２−プロペニルオキシブチル基，３
−ブテニルオキシエチル基，３−ブテニルオキシプロピ
ル基が挙げられる。ｄおよびｅは３〜２０の整数であ
る。
合体は、例えば、 (１)一般式：（Ｒ1Ｒ2 2Ｓｉ）2Ｏで表されるジシロキサ
ンと、 (２)一般式：（Ｒ5Ｒ2ＳｉＯ）dで表されるシクロシロ
キサンと、 (３)一般式：（Ｒ1Ｒ2ＳｉＯ）eで表されるシクロシロ
キサンとを酸性触媒または塩基性触媒の存在下平衡重合
させ、次いで、 (４)一般式：Ｈ−ＳｉＲ2 (3-m)Ｘmで表されるシラン
を、ヒドロシリル化反応用触媒を用いて付加反応させた
り、また、 (１)一般式：（Ｒ1Ｒ2 2Ｓｉ）2Ｏで表されるジシロキサ
ンと、 (２')一般式：（ＨＲ2ＳｉＯ）dで表されるシクロシロ
キサンと、 (３)一般式：（Ｒ1Ｒ2ＳｉＯ）eで表されるシクロシロ
キサンとを酸性触媒の存在下平衡重合させ、次いで、 (４')一般式：Ｒ5−ＳｉＲ2 (3-m)Ｘmで表されるシラン
を、ヒドロシリル化反応用触媒を用いて付加反応させた
りすることにより製造できる。上式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｘお
よびｍは前記と同じである。Ｒ5はアルケニル基または
アルケニルオキシアルキル基であり、アルケニル基とし
ては、例えば、ビニル基，アリル基，ブテニル基，ペン
テニル基，ヘキセニル基，ヘプテニル基，オクテニル
基，ノネニル基，デセニル基が挙げられ、アルケニルオ
キシアルキル基としては、例えば、エテニルオキシエチ
ル基，エテニルオキシプロピル基，エテニルオキシブチ
ル基，２−プロペニルオキシエチル基，２−プロペニル
オキシプロピル基，２−プロペニルオキシブチル基，３
−ブテニルオキシエチル基，３−ブテニルオキシプロピ
ル基が挙げられる。ｄおよびｅは３〜２０の整数であ
る。
【００１２】上記(１)成分としては、次式で示されるジ
シロキサンが例示される。 式：(ＣＨ3)3Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ(ＣＨ3)3 式：Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)2Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ(ＣＨ3)2Ｃ2
Ｈ4Ｃ4Ｆ9 式：Ｃ6Ｆ13Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)2Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ(ＣＨ3)3 式：Ｃ6Ｆ13Ｃ2Ｈ4ＯＣ2Ｈ4(ＣＨ3)2Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ(Ｃ
Ｈ3)3
シロキサンが例示される。 式：(ＣＨ3)3Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ(ＣＨ3)3 式：Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)2Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ(ＣＨ3)2Ｃ2
Ｈ4Ｃ4Ｆ9 式：Ｃ6Ｆ13Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)2Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ(ＣＨ3)3 式：Ｃ6Ｆ13Ｃ2Ｈ4ＯＣ2Ｈ4(ＣＨ3)2Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ(Ｃ
Ｈ3)3
【００１３】(２)成分としては、次式で示されるシクロ
シロキサンが例示される。 式：｛ＣＨ2＝ＣＨ(ＣＨ3)ＳｉＯ｝3 式：｛ＣＨ2＝ＣＨ(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛ＣＨ2＝ＣＨ(ＣＨ3)ＳｉＯ｝5 式：｛ＣＨ2＝ＣＨ(Ｃ6Ｈ5)ＳｉＯ｝4 式：｛ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛ＣＨ2＝ＣＨＣ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛ＣＨ2＝ＣＨＣ4Ｈ8(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛ＣＨ2＝ＣＨＯＣ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4
シロキサンが例示される。 式：｛ＣＨ2＝ＣＨ(ＣＨ3)ＳｉＯ｝3 式：｛ＣＨ2＝ＣＨ(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛ＣＨ2＝ＣＨ(ＣＨ3)ＳｉＯ｝5 式：｛ＣＨ2＝ＣＨ(Ｃ6Ｈ5)ＳｉＯ｝4 式：｛ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛ＣＨ2＝ＣＨＣ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛ＣＨ2＝ＣＨＣ4Ｈ8(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛ＣＨ2＝ＣＨＯＣ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4
【００１４】(２')成分としては、次式で示されるシク
ロシロキサンが例示される。 式：｛Ｈ(ＣＨ3)ＳｉＯ｝3 式：｛Ｈ(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｈ(ＣＨ3)ＳｉＯ｝5 式：｛Ｈ(Ｃ6Ｈ5)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｈ(Ｃ2Ｈ5)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｈ(Ｃ4Ｈ9)ＳｉＯ｝4
ロシロキサンが例示される。 式：｛Ｈ(ＣＨ3)ＳｉＯ｝3 式：｛Ｈ(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｈ(ＣＨ3)ＳｉＯ｝5 式：｛Ｈ(Ｃ6Ｈ5)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｈ(Ｃ2Ｈ5)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｈ(Ｃ4Ｈ9)ＳｉＯ｝4
【００１５】(３)成分としては、次式で示されるシクロ
シロキサンが例示される。 式：｛(ＣＨ3)2ＳｉＯ｝3 式：｛(ＣＨ3)2ＳｉＯ｝4 式：｛(ＣＨ3)2ＳｉＯ｝5 式：｛Ｃ2Ｈ5(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｃ6Ｈ5(ＣＨ3)ＳｉＯ｝5 式：｛Ｃ4Ｈ9(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛ＣＦ3Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝3 式：｛Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝3 式：｛Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｃ6Ｆ13Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4ＯＣ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4
シロキサンが例示される。 式：｛(ＣＨ3)2ＳｉＯ｝3 式：｛(ＣＨ3)2ＳｉＯ｝4 式：｛(ＣＨ3)2ＳｉＯ｝5 式：｛Ｃ2Ｈ5(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｃ6Ｈ5(ＣＨ3)ＳｉＯ｝5 式：｛Ｃ4Ｈ9(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛ＣＦ3Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝3 式：｛Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝3 式：｛Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｃ6Ｆ13Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4ＯＣ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4
【００１６】酸性触媒としては、例えば、濃硫酸，濃塩
酸，トリフルオロメタンスルホン酸，トリフルオロ酢
酸，酸性白土，イオン交換樹脂が挙げられる。塩基性触
媒としては、例えば、水酸化カリウム，水酸化ナトリウ
ム，水酸化セシウム，カリウムシラノレート，ナトリウ
ムシラノレートが挙げられる。
酸，トリフルオロメタンスルホン酸，トリフルオロ酢
酸，酸性白土，イオン交換樹脂が挙げられる。塩基性触
媒としては、例えば、水酸化カリウム，水酸化ナトリウ
ム，水酸化セシウム，カリウムシラノレート，ナトリウ
ムシラノレートが挙げられる。
【００１７】(４)成分としては、次式で示されるシラン
が例示される。 式：Ｈ−Ｓｉ(ＣＨ3)2Ｃｌ 式：Ｈ−Ｓｉ(ＣＨ3)Ｃｌ2 式：Ｈ−ＳｉＣｌ3 式：Ｈ−Ｓｉ(ＣＨ3)2ＯＣＨ3 式：Ｈ−Ｓｉ(ＣＨ3)(ＯＣＨ3)2 式：Ｈ−Ｓｉ(ＯＣＨ3)3 式：Ｈ−Ｓｉ(ＯＣ2Ｈ5)3 式：Ｈ−Ｓｉ(ＯＣ2Ｈ4ＯＣＨ3)3 本成分の配合量は、上記(１)成分，(２)成分および(３)
成分を平衡重合させて得られたオルガノポリシロキサン
中のアルケニル基に対する本成分中のケイ素原子結合水
素原子のモル数の比が０.１〜１０となるような量が好
ましい。
が例示される。 式：Ｈ−Ｓｉ(ＣＨ3)2Ｃｌ 式：Ｈ−Ｓｉ(ＣＨ3)Ｃｌ2 式：Ｈ−ＳｉＣｌ3 式：Ｈ−Ｓｉ(ＣＨ3)2ＯＣＨ3 式：Ｈ−Ｓｉ(ＣＨ3)(ＯＣＨ3)2 式：Ｈ−Ｓｉ(ＯＣＨ3)3 式：Ｈ−Ｓｉ(ＯＣ2Ｈ5)3 式：Ｈ−Ｓｉ(ＯＣ2Ｈ4ＯＣＨ3)3 本成分の配合量は、上記(１)成分，(２)成分および(３)
成分を平衡重合させて得られたオルガノポリシロキサン
中のアルケニル基に対する本成分中のケイ素原子結合水
素原子のモル数の比が０.１〜１０となるような量が好
ましい。
【００１８】(４')成分としては、次式で示されるシラ
ンが例示される。 式：ＣＨ2＝ＣＨ−Ｓｉ(ＣＨ3)2Ｃｌ 式：ＣＨ2＝ＣＨ−Ｓｉ(ＣＨ3)Ｃｌ2 式：ＣＨ2＝ＣＨ−ＳｉＣｌ3 式：ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2−ＳｉＣｌ3 式：ＣＨ2＝ＣＨ−Ｓｉ(ＣＨ3)2ＯＣＨ3 式：ＣＨ2＝ＣＨ−Ｓｉ(ＣＨ3)(ＯＣＨ3)2 式：ＣＨ2＝ＣＨ−Ｓｉ(ＯＣＨ3)3 式：ＣＨ2＝ＣＨ−Ｓｉ(ＯＣ2Ｈ5)3 式：ＣＨ2＝ＣＨ−Ｓｉ(ＯＣ2Ｈ4ＯＣＨ3)3 式：ＣＨ2＝ＣＨＣ4Ｈ8−Ｓｉ(ＣＨ3)2Ｃｌ 式：ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2−Ｓｉ(ＣＨ3)Ｃｌ2 式：ＣＨ2＝ＣＨＣ4Ｈ8−ＳｉＣｌ3 式：ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2ＯＣ2Ｈ4−ＳｉＣｌ3 式：ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2ＯＣ2Ｈ4−Ｓｉ(ＯＣＨ3)3 本成分の配合量は、上記(１)成分，(２')成分および
(３)成分を平衡重合させて得られたオルガノポリシロキ
サン中のケイ素原子結合水素原子に対する本成分中のア
ルケニル基のモル数の比が０.１〜１０となるような量
が好ましい。
ンが例示される。 式：ＣＨ2＝ＣＨ−Ｓｉ(ＣＨ3)2Ｃｌ 式：ＣＨ2＝ＣＨ−Ｓｉ(ＣＨ3)Ｃｌ2 式：ＣＨ2＝ＣＨ−ＳｉＣｌ3 式：ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2−ＳｉＣｌ3 式：ＣＨ2＝ＣＨ−Ｓｉ(ＣＨ3)2ＯＣＨ3 式：ＣＨ2＝ＣＨ−Ｓｉ(ＣＨ3)(ＯＣＨ3)2 式：ＣＨ2＝ＣＨ−Ｓｉ(ＯＣＨ3)3 式：ＣＨ2＝ＣＨ−Ｓｉ(ＯＣ2Ｈ5)3 式：ＣＨ2＝ＣＨ−Ｓｉ(ＯＣ2Ｈ4ＯＣＨ3)3 式：ＣＨ2＝ＣＨＣ4Ｈ8−Ｓｉ(ＣＨ3)2Ｃｌ 式：ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2−Ｓｉ(ＣＨ3)Ｃｌ2 式：ＣＨ2＝ＣＨＣ4Ｈ8−ＳｉＣｌ3 式：ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2ＯＣ2Ｈ4−ＳｉＣｌ3 式：ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2ＯＣ2Ｈ4−Ｓｉ(ＯＣＨ3)3 本成分の配合量は、上記(１)成分，(２')成分および
(３)成分を平衡重合させて得られたオルガノポリシロキ
サン中のケイ素原子結合水素原子に対する本成分中のア
ルケニル基のモル数の比が０.１〜１０となるような量
が好ましい。
【００１９】ヒドロシリル化反応用触媒としては、白金
系触媒，ロジウム系触媒，パラジウム系触媒が挙げら
れ、特に白金系触媒が好ましい。白金系触媒としては、
例えば、白金黒，白金担持シリカ微粉末，白金担持カー
ボン粉末，塩化白金酸，塩化白金酸のアルコール溶液，
白金とジビニルテトラメチルジシロキサンとの錯体，白
金とオレフィンとの錯体が挙げられる。このヒドロシリ
ル化反応用触媒の添加量は、上記(１)成分，(２)成分お
よび(３)成分もしくは(１)成分，(２')成分および(３)
成分を平衡重合させて得られたオルガノポリシロキサン
と、(４)成分もしくは(４')成分との合計重量に対し
て、触媒中の金属の重量が０.１〜１,０００ｐｐｍとな
るような量が好ましい。
系触媒，ロジウム系触媒，パラジウム系触媒が挙げら
れ、特に白金系触媒が好ましい。白金系触媒としては、
例えば、白金黒，白金担持シリカ微粉末，白金担持カー
ボン粉末，塩化白金酸，塩化白金酸のアルコール溶液，
白金とジビニルテトラメチルジシロキサンとの錯体，白
金とオレフィンとの錯体が挙げられる。このヒドロシリ
ル化反応用触媒の添加量は、上記(１)成分，(２)成分お
よび(３)成分もしくは(１)成分，(２')成分および(３)
成分を平衡重合させて得られたオルガノポリシロキサン
と、(４)成分もしくは(４')成分との合計重量に対し
て、触媒中の金属の重量が０.１〜１,０００ｐｐｍとな
るような量が好ましい。
【００２０】これらの製造方法において、平衡重合の際
に酸性触媒を使用した場合には室温〜１５０℃程度の加
熱条件下で数時間重合させ、また塩基性触媒を使用した
場合には室温〜２００℃程度の加熱条件下で数時間重合
させて平衡状態まで到達させた後、触媒を中和するのが
好ましい。生成した中和塩は、通常、濾過により除去さ
れる。このとき必要に応じて低揮発分を減圧下加熱除去
してもよい。また、付加反応時の反応条件は特に限定さ
れず、常圧で行う場合の反応温度は、平衡重合により得
られたオルガノポリシロキサンおよび(４)成分もしくは
(４')成分のシランの沸点以下、または使用する有機溶
媒の還流温度以下であることが好ましい。またこの反応
は加圧下で行うこともできる。これらの製造方法では任
意に有機溶媒を使用することができる。有機溶媒として
は、例えば、トルエン，キシレン等の芳香族炭化水素系
溶媒；ヘキサン，ヘプJタン，オクタン，ノナン等の脂
肪族炭化水素系溶媒；シクロヘキサン，シクロヘプタ
ン，シクロオクタン等の脂肪族環状炭化水素系溶媒；ト
リフルオロメチルベンゼン，１,３−ビス（トリフルオ
ロメチル）ベンゼン，メチルペンタフルオロベンゼン等
の含フッ素芳香族炭化水素系溶媒が挙げられる。
に酸性触媒を使用した場合には室温〜１５０℃程度の加
熱条件下で数時間重合させ、また塩基性触媒を使用した
場合には室温〜２００℃程度の加熱条件下で数時間重合
させて平衡状態まで到達させた後、触媒を中和するのが
好ましい。生成した中和塩は、通常、濾過により除去さ
れる。このとき必要に応じて低揮発分を減圧下加熱除去
してもよい。また、付加反応時の反応条件は特に限定さ
れず、常圧で行う場合の反応温度は、平衡重合により得
られたオルガノポリシロキサンおよび(４)成分もしくは
(４')成分のシランの沸点以下、または使用する有機溶
媒の還流温度以下であることが好ましい。またこの反応
は加圧下で行うこともできる。これらの製造方法では任
意に有機溶媒を使用することができる。有機溶媒として
は、例えば、トルエン，キシレン等の芳香族炭化水素系
溶媒；ヘキサン，ヘプJタン，オクタン，ノナン等の脂
肪族炭化水素系溶媒；シクロヘキサン，シクロヘプタ
ン，シクロオクタン等の脂肪族環状炭化水素系溶媒；ト
リフルオロメチルベンゼン，１,３−ビス（トリフルオ
ロメチル）ベンゼン，メチルペンタフルオロベンゼン等
の含フッ素芳香族炭化水素系溶媒が挙げられる。
【００２１】次に、一般式：
【化２７】 で示される含フッ素有機ケイ素重合体について説明す
る。この含フッ素有機ケイ素重合体は、片末端もしくは
両末端に２価の基を介してアルコキシシリル基もしくは
ハロゲノシリル基を有し、もう一方の末端、側鎖もしく
はその両方に含フッ素有機基を有する。上式中、Ｒ1，
Ｒ2，Ｒ3，Ｘ，ａ，ｂおよびｍは前記と同じである。Ｒ
4はＲ1で示される基または式：−Ｒ3−ＳｉＸmＲ2 (3-m)
（式中、Ｒ2，Ｒ3，Ｘおよびｍは前記と同じである。）
で示される基であり、Ｒ1またはＲ4の少なくともどちら
か１つは上式で示される含フッ素有機基であることが必
要である。
る。この含フッ素有機ケイ素重合体は、片末端もしくは
両末端に２価の基を介してアルコキシシリル基もしくは
ハロゲノシリル基を有し、もう一方の末端、側鎖もしく
はその両方に含フッ素有機基を有する。上式中、Ｒ1，
Ｒ2，Ｒ3，Ｘ，ａ，ｂおよびｍは前記と同じである。Ｒ
4はＲ1で示される基または式：−Ｒ3−ＳｉＸmＲ2 (3-m)
（式中、Ｒ2，Ｒ3，Ｘおよびｍは前記と同じである。）
で示される基であり、Ｒ1またはＲ4の少なくともどちら
か１つは上式で示される含フッ素有機基であることが必
要である。
【００２２】上記した本発明の含フッ素有機ケイ素重合
体は、下記一般式（Ｆ）〜（Ｉ）で示される重合体に分
類することができる。下式中、Ｒ2，Ｒ3，Ｘ，ａ，ｂ，
ｍおよびｎは前記と同じである。 一般式（Ｆ）：
体は、下記一般式（Ｆ）〜（Ｉ）で示される重合体に分
類することができる。下式中、Ｒ2，Ｒ3，Ｘ，ａ，ｂ，
ｍおよびｎは前記と同じである。 一般式（Ｆ）：
【化２８】 このような含フッ素有機ケイ素重合体としては、例え
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
【化２９】
【００２３】一般式（Ｇ）：
【化３０】 このような含フッ素有機ケイ素重合体としては、例え
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
【化３１】
【００２４】一般式（Ｈ）：
【化３２】 このような含フッ素有機ケイ素重合体としては、例え
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
【化３３】
【００２５】一般式（Ｉ）：
【化３４】 このような含フッ素有機ケイ素重合体としては、例え
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
【化３５】
【００２６】このような本発明の含フッ素有機ケイ素重
合体は、例えば、(１')一般式：（ＨＲ2 2ＳｉＯ）2Ｏで
表されるジシロキサンに、必要に応じて(１)一般式：
（Ｒ1Ｒ2 2Ｓｉ）2Ｏで表されるジシロキサンを加え、さ
らに(５)一般式：（Ｒ2 2ＳｉＯ）fで表されるシクロシ
ロキサンと、必要に応じて(６)一般式：（Ｆ(2n+1)Ｃn
Ｒ3Ｒ2ＳｉＯ）gで表されるシクロシロキサンを配合し
てこれらを酸性触媒の存在下平衡重合させ、次いで、
(４')一般式：Ｒ5−ＳｉＲ2 (3-m)Ｘmで表されるシラン
を、ヒドロシリル化反応用触媒を用いて付加反応させる
ことにより製造することができる。上式中、Ｒ1，Ｒ2，
Ｒ3，Ｒ5，Ｘ，ｍおよびｎは前記と同じであり、ｆおよ
びｇは３〜２０の整数である。
合体は、例えば、(１')一般式：（ＨＲ2 2ＳｉＯ）2Ｏで
表されるジシロキサンに、必要に応じて(１)一般式：
（Ｒ1Ｒ2 2Ｓｉ）2Ｏで表されるジシロキサンを加え、さ
らに(５)一般式：（Ｒ2 2ＳｉＯ）fで表されるシクロシ
ロキサンと、必要に応じて(６)一般式：（Ｆ(2n+1)Ｃn
Ｒ3Ｒ2ＳｉＯ）gで表されるシクロシロキサンを配合し
てこれらを酸性触媒の存在下平衡重合させ、次いで、
(４')一般式：Ｒ5−ＳｉＲ2 (3-m)Ｘmで表されるシラン
を、ヒドロシリル化反応用触媒を用いて付加反応させる
ことにより製造することができる。上式中、Ｒ1，Ｒ2，
Ｒ3，Ｒ5，Ｘ，ｍおよびｎは前記と同じであり、ｆおよ
びｇは３〜２０の整数である。
【００２７】この製造方法において、(１)成分，(４')
成分，酸性触媒およびヒドロシリル化反応用触媒として
は前記と同様のものが挙げられる。上記(１')成分とし
ては、式：Ｈ(ＣＨ3)2Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ(ＣＨ3)2Ｈで示さ
れるジシロキサンが例示される。(５)成分としては、次
式で示されるシクロシロキサンが例示される。 式：｛(ＣＨ3)2ＳｉＯ｝3 式：｛(ＣＨ3)2ＳｉＯ｝4 式：｛(ＣＨ3)2ＳｉＯ｝5 式：｛Ｃ2Ｈ5(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｃ6Ｈ5(ＣＨ3)ＳｉＯ｝5 式：｛Ｃ4Ｈ9(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛ＣＦ3Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝3 (６)成分としては、次式で示されるシクロシロキサンが
例示される。 式：｛Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝3 式：｛Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｃ6Ｆ13Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4ＯＣ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4
成分，酸性触媒およびヒドロシリル化反応用触媒として
は前記と同様のものが挙げられる。上記(１')成分とし
ては、式：Ｈ(ＣＨ3)2Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ(ＣＨ3)2Ｈで示さ
れるジシロキサンが例示される。(５)成分としては、次
式で示されるシクロシロキサンが例示される。 式：｛(ＣＨ3)2ＳｉＯ｝3 式：｛(ＣＨ3)2ＳｉＯ｝4 式：｛(ＣＨ3)2ＳｉＯ｝5 式：｛Ｃ2Ｈ5(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｃ6Ｈ5(ＣＨ3)ＳｉＯ｝5 式：｛Ｃ4Ｈ9(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛ＣＦ3Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝3 (６)成分としては、次式で示されるシクロシロキサンが
例示される。 式：｛Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝3 式：｛Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｃ6Ｆ13Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4 式：｛Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4ＯＣ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4
【００２８】次に、一般式：
【化３６】 で示される含フッ素有機ケイ素重合体について説明す
る。この含フッ素有機ケイ素重合体は、片末端および側
鎖に２価の基を介してアルコキシシリル基もしくはハロ
ゲノシリル基を有し、もう一方の末端、側鎖もしくはそ
の両方に含フッ素有機基を有する。上式中、Ｒ1，Ｒ2，
Ｒ3，Ｒ4，Ｘ，ａ，ｂおよびｍは前記と同じである。
る。この含フッ素有機ケイ素重合体は、片末端および側
鎖に２価の基を介してアルコキシシリル基もしくはハロ
ゲノシリル基を有し、もう一方の末端、側鎖もしくはそ
の両方に含フッ素有機基を有する。上式中、Ｒ1，Ｒ2，
Ｒ3，Ｒ4，Ｘ，ａ，ｂおよびｍは前記と同じである。
【００２９】上記した本発明の含フッ素有機ケイ素重合
体は、下記一般式（Ｊ）〜（Ｍ）で示される重合体に分
類することができる。下式中、Ｒ2，Ｒ3，Ｘ，ａ，ｂ，
ｍおよびｎは前記と同じである。 一般式（Ｊ）：
体は、下記一般式（Ｊ）〜（Ｍ）で示される重合体に分
類することができる。下式中、Ｒ2，Ｒ3，Ｘ，ａ，ｂ，
ｍおよびｎは前記と同じである。 一般式（Ｊ）：
【化３７】 ［式中、ｃは０〜１,０００の整数であり、かつ、（ａ
＋ｃ）≦１０,０００である。］ このような含フッ素有機ケイ素重合体としては、例え
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
＋ｃ）≦１０,０００である。］ このような含フッ素有機ケイ素重合体としては、例え
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
【化３８】
【００３０】一般式（Ｋ）：
【化３９】 このような含フッ素有機ケイ素重合体としては、例え
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
【化４０】
【００３１】一般式（Ｌ）：
【化４１】 ［式中、ｃは０〜１,０００の整数であり、かつ、（ａ
＋ｃ）≦１０,０００である。］ このような含フッ素有機ケイ素重合体としては、例え
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
＋ｃ）≦１０,０００である。］ このような含フッ素有機ケイ素重合体としては、例え
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
【化４２】
【００３２】一般式（Ｍ）：
【化４３】 ［式中、ｃは０〜１,０００の整数であり、かつ、（ａ
＋ｃ）≦１０,０００である。］ このような含フッ素有機ケイ素重合体としては、例え
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
＋ｃ）≦１０,０００である。］ このような含フッ素有機ケイ素重合体としては、例え
ば、次式で示される重合体が挙げられる。
【化４４】
【００３３】このような本発明の含フッ素有機ケイ素重
合体は、例えば、(１')一般式：（ＨＲ2 2ＳｉＯ）2Ｏで
表されるジシロキサンに、必要に応じて(１)一般式：
（Ｒ1Ｒ2 2Ｓｉ）2Ｏで表されるジシロキサンを加え、さ
らに(２')一般式：（ＨＲ2ＳｉＯ）dで表されるシクロ
シロキサンと、(３)一般式：（Ｒ1Ｒ2ＳｉＯ）eで表さ
れるシクロシロキサンを配合してこれらを酸性触媒の存
在下平衡重合させ、次いで、(４')一般式：Ｒ5−ＳｉＲ
2 (3-m)Ｘmで表されるシランを、ヒドロシリル化反応用
触媒を用いて付加反応させることにより製造することが
できる。上式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ5，Ｘ，ｄ，ｅおよびｍ
は前記と同じである。また、この製造方法において(１)
成分，(１')成分，(２')成分，(３)成分および(４')成
分，酸性触媒およびヒドロシリル化反応用触媒としては
前記と同様のものが挙げられる。
合体は、例えば、(１')一般式：（ＨＲ2 2ＳｉＯ）2Ｏで
表されるジシロキサンに、必要に応じて(１)一般式：
（Ｒ1Ｒ2 2Ｓｉ）2Ｏで表されるジシロキサンを加え、さ
らに(２')一般式：（ＨＲ2ＳｉＯ）dで表されるシクロ
シロキサンと、(３)一般式：（Ｒ1Ｒ2ＳｉＯ）eで表さ
れるシクロシロキサンを配合してこれらを酸性触媒の存
在下平衡重合させ、次いで、(４')一般式：Ｒ5−ＳｉＲ
2 (3-m)Ｘmで表されるシランを、ヒドロシリル化反応用
触媒を用いて付加反応させることにより製造することが
できる。上式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ5，Ｘ，ｄ，ｅおよびｍ
は前記と同じである。また、この製造方法において(１)
成分，(１')成分，(２')成分，(３)成分および(４')成
分，酸性触媒およびヒドロシリル化反応用触媒としては
前記と同様のものが挙げられる。
【００３４】以上のような本発明の含フッ素有機ケイ素
重合体は、１分子中に特定の含フッ素有機基と、２価の
基を介してアルコキシシリル基もしくはハロゲノシリル
基をそれぞれ１個以上有する新規な重合体である。この
重合体は、有機樹脂や塗料の添加剤，ガラスや金属の表
面の撥水剤または粉体の表面処理剤として有用である。
また、本発明の含フッ素有機ケイ素重合体は、種々の新
規な含フッ素有機ケイ素重合体を合成するための出発原
料として利用できる。例えば、本発明の含フッ素有機ケ
イ素重合体の分子中に存在するハロゲン原子またはアル
コキシ基を、周知の方法により水素原子，水酸基，アセ
トキシ基もしくはアミノキシ基に置換することにより、
これらの官能基を有する含フッ素有機ケイ素重合体を合
成することができる。また、本発明の重合体を加水分解
もしくは縮合反応させることにより、シロキサン結合と
シルアルキレン結合を有する新規な含フッ素有機ケイ素
樹脂を合成することができる。
重合体は、１分子中に特定の含フッ素有機基と、２価の
基を介してアルコキシシリル基もしくはハロゲノシリル
基をそれぞれ１個以上有する新規な重合体である。この
重合体は、有機樹脂や塗料の添加剤，ガラスや金属の表
面の撥水剤または粉体の表面処理剤として有用である。
また、本発明の含フッ素有機ケイ素重合体は、種々の新
規な含フッ素有機ケイ素重合体を合成するための出発原
料として利用できる。例えば、本発明の含フッ素有機ケ
イ素重合体の分子中に存在するハロゲン原子またはアル
コキシ基を、周知の方法により水素原子，水酸基，アセ
トキシ基もしくはアミノキシ基に置換することにより、
これらの官能基を有する含フッ素有機ケイ素重合体を合
成することができる。また、本発明の重合体を加水分解
もしくは縮合反応させることにより、シロキサン結合と
シルアルキレン結合を有する新規な含フッ素有機ケイ素
樹脂を合成することができる。
【００３５】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明す
る。実施例中、Ｍｅはメチル基を表す。
る。実施例中、Ｍｅはメチル基を表す。
【００３６】
【実施例１】フラスコに、式：｛Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)
2Ｓｉ｝2Ｏで表されるジシロキサン８２.１ｇ、式：
｛(ＣＨ3)2ＳｉＯ｝4で表されるテトラシクロシロキサ
ン５１.８ｇ、式：｛Ｈ(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4で表されるテ
トラシクロシロキサン１８ｇおよびトリフルオロメタン
スルホン酸０.０７ｇを投入して、６５℃で７時間加熱
攪拌した。次いで炭酸水素ナトリウムを加えて中和した
後濾過し、さらに減圧下１７０℃で３時間加熱攪拌して
低揮発分を除去した。これに、塩化白金酸のイソプロピ
ルアルコール溶液（塩化白金酸濃度３％）を白金金属が
重量単位で８０ｐｐｍとなるような量投入して６０℃に
加熱した。次いでビニルトリメトキシシラン４４.４ｇ
（０.３モル）を徐々に滴下した。滴下終了後、１１０
℃で４時間反応させ、次いで低揮発分を留去して液状の
反応生成物を得た。得られた反応生成物の収量は１６２
ｇであり、その収率は８２％であった。この反応生成物
をフーリエ変換赤外吸収分析（以下、ＦＴ−ＩＲ）、29
Ｓｉ−核磁気共鳴分析（以下、29Ｓｉ−ＮＭＲ）および
13Ｃ−核磁気共鳴分析（以下、13Ｃ−ＮＭＲ）により分
析したところ、次式で示される含フッ素有機ケイ素重合
体であることが判明した。
2Ｓｉ｝2Ｏで表されるジシロキサン８２.１ｇ、式：
｛(ＣＨ3)2ＳｉＯ｝4で表されるテトラシクロシロキサ
ン５１.８ｇ、式：｛Ｈ(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4で表されるテ
トラシクロシロキサン１８ｇおよびトリフルオロメタン
スルホン酸０.０７ｇを投入して、６５℃で７時間加熱
攪拌した。次いで炭酸水素ナトリウムを加えて中和した
後濾過し、さらに減圧下１７０℃で３時間加熱攪拌して
低揮発分を除去した。これに、塩化白金酸のイソプロピ
ルアルコール溶液（塩化白金酸濃度３％）を白金金属が
重量単位で８０ｐｐｍとなるような量投入して６０℃に
加熱した。次いでビニルトリメトキシシラン４４.４ｇ
（０.３モル）を徐々に滴下した。滴下終了後、１１０
℃で４時間反応させ、次いで低揮発分を留去して液状の
反応生成物を得た。得られた反応生成物の収量は１６２
ｇであり、その収率は８２％であった。この反応生成物
をフーリエ変換赤外吸収分析（以下、ＦＴ−ＩＲ）、29
Ｓｉ−核磁気共鳴分析（以下、29Ｓｉ−ＮＭＲ）および
13Ｃ−核磁気共鳴分析（以下、13Ｃ−ＮＭＲ）により分
析したところ、次式で示される含フッ素有機ケイ素重合
体であることが判明した。
【化４５】 この含フッ素有機ケイ素重合体の２５℃における屈折率
は１.３９１であった。
は１.３９１であった。
【００３７】
【実施例２】フラスコに、式：｛Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)2
Ｓｉ｝2Ｏで表されるジシロキサン５０.１ｇ、式：
｛(ＣＨ3)2ＳｉＯ｝4で表されるテトラシクロシロキサ
ン４９.６ｇ、式：｛ＣＨ2＝ＣＨ(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4で表
されるテトラシクロシロキサン１７.２ｇおよび水酸化
カリウム６ｍｇを投入して、１６５℃で７時間加熱攪拌
した。次いで炭酸ガスを添加して中和した後濾過し、さ
らに減圧下１７０℃で３時間加熱攪拌して低揮発分を除
去した。これに、塩化白金酸のイソプロピルアルコール
溶液（塩化白金酸濃度３％）を白金金属が重量単位で８
０ｐｐｍとなるような量投入して６０℃に加熱した。次
いでトリクロロシラン２６.５ｇ（０.２モル）を徐々に
滴下した。滴下終了後、１００℃で４時間反応させ、次
いで低揮発分を留去して液状の反応生成物を得た。得ら
れた反応生成物の収量は１００ｇであり、その収率は７
０％であった。この反応生成物をＦＴ−ＩＲ、29Ｓｉ−
ＮＭＲおよび13Ｃ−ＮＭＲにより分析した。29Ｓｉ−Ｎ
ＭＲ分析では、８〜１０ｐｐｍと−２０〜−２３ｐｐｍ
に６：２の積分比でピークが認められた。また、13Ｃ−
ＮＭＲ分析では、１０５〜１２０ｐｐｍ，６〜２５ｐｐ
ｍ，−２〜６ｐｐｍにそれぞれ８：８：１４の積分比で
ピークが認められた。これらの結果から、得られた反応
生成物は次式で示される含フッ素有機ケイ素重合体であ
ることが判明した。
Ｓｉ｝2Ｏで表されるジシロキサン５０.１ｇ、式：
｛(ＣＨ3)2ＳｉＯ｝4で表されるテトラシクロシロキサ
ン４９.６ｇ、式：｛ＣＨ2＝ＣＨ(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4で表
されるテトラシクロシロキサン１７.２ｇおよび水酸化
カリウム６ｍｇを投入して、１６５℃で７時間加熱攪拌
した。次いで炭酸ガスを添加して中和した後濾過し、さ
らに減圧下１７０℃で３時間加熱攪拌して低揮発分を除
去した。これに、塩化白金酸のイソプロピルアルコール
溶液（塩化白金酸濃度３％）を白金金属が重量単位で８
０ｐｐｍとなるような量投入して６０℃に加熱した。次
いでトリクロロシラン２６.５ｇ（０.２モル）を徐々に
滴下した。滴下終了後、１００℃で４時間反応させ、次
いで低揮発分を留去して液状の反応生成物を得た。得ら
れた反応生成物の収量は１００ｇであり、その収率は７
０％であった。この反応生成物をＦＴ−ＩＲ、29Ｓｉ−
ＮＭＲおよび13Ｃ−ＮＭＲにより分析した。29Ｓｉ−Ｎ
ＭＲ分析では、８〜１０ｐｐｍと−２０〜−２３ｐｐｍ
に６：２の積分比でピークが認められた。また、13Ｃ−
ＮＭＲ分析では、１０５〜１２０ｐｐｍ，６〜２５ｐｐ
ｍ，−２〜６ｐｐｍにそれぞれ８：８：１４の積分比で
ピークが認められた。これらの結果から、得られた反応
生成物は次式で示される含フッ素有機ケイ素重合体であ
ることが判明した。
【化４６】
【００３８】
【実施例３】フラスコに、式：｛(ＣＨ3)3Ｓｉ｝2Ｏで
表されるジシロキサン１３ｇ、式：｛(ＣＨ3)2ＳｉＯ｝
4で表されるテトラシクロシロキサン２９.６ｇ、式：
｛Ｈ(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4で表されるテトラシクロシロキサ
ン２２.５ｇ、式：｛Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4で
表されるテトラシクロシロキサン１２１.６ｇおよびト
リフルオロメタンスルホン酸０.０７ｇを投入して、６
５℃で７時間加熱攪拌した。次いで炭酸水素ナトリウム
を加えて中和した後濾過し、さらに減圧下１７０℃で３
時間加熱攪拌して低揮発分を除去した。これに、塩化白
金酸のイソプロピルアルコール溶液（塩化白金酸濃度３
％）を白金金属が重量単位で８０ｐｐｍとなるような量
投入して６０℃に加熱した。次いでビニルトリメトキシ
シラン４４.４ｇ（０.３モル）を徐々に滴下した。滴下
終了後、１１０℃で４時間反応させ、次いで低揮発分を
留去して液状の反応生成物を得た。得られた反応生成物
の収量は１８１ｇであり、その収率は８０％であった。
この反応生成物をＦＴ−ＩＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲおよび13
Ｃ−ＮＭＲにより分析した。29Ｓｉ−ＮＭＲ分析では、
６〜８ｐｐｍ，−２０〜−２３ｐｐｍ，−４０〜−４２
ｐｐｍにそれぞれ２：１１：３の積分比でピークが認め
られた。また、13Ｃ−ＮＭＲ分析では、１０５〜１２０
ｐｐｍ，６〜２５ｐｐｍ，−２〜６ｐｐｍ，４８〜５０
ｐｐｍにそれぞれ１６：１４：２１：９の積分比でピー
クが認められた。これらの結果から、得られた反応生成
物は次式で示される含フッ素有機ケイ素重合体であるこ
とが判明した。
表されるジシロキサン１３ｇ、式：｛(ＣＨ3)2ＳｉＯ｝
4で表されるテトラシクロシロキサン２９.６ｇ、式：
｛Ｈ(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4で表されるテトラシクロシロキサ
ン２２.５ｇ、式：｛Ｃ4Ｆ9Ｃ2Ｈ4(ＣＨ3)ＳｉＯ｝4で
表されるテトラシクロシロキサン１２１.６ｇおよびト
リフルオロメタンスルホン酸０.０７ｇを投入して、６
５℃で７時間加熱攪拌した。次いで炭酸水素ナトリウム
を加えて中和した後濾過し、さらに減圧下１７０℃で３
時間加熱攪拌して低揮発分を除去した。これに、塩化白
金酸のイソプロピルアルコール溶液（塩化白金酸濃度３
％）を白金金属が重量単位で８０ｐｐｍとなるような量
投入して６０℃に加熱した。次いでビニルトリメトキシ
シラン４４.４ｇ（０.３モル）を徐々に滴下した。滴下
終了後、１１０℃で４時間反応させ、次いで低揮発分を
留去して液状の反応生成物を得た。得られた反応生成物
の収量は１８１ｇであり、その収率は８０％であった。
この反応生成物をＦＴ−ＩＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲおよび13
Ｃ−ＮＭＲにより分析した。29Ｓｉ−ＮＭＲ分析では、
６〜８ｐｐｍ，−２０〜−２３ｐｐｍ，−４０〜−４２
ｐｐｍにそれぞれ２：１１：３の積分比でピークが認め
られた。また、13Ｃ−ＮＭＲ分析では、１０５〜１２０
ｐｐｍ，６〜２５ｐｐｍ，−２〜６ｐｐｍ，４８〜５０
ｐｐｍにそれぞれ１６：１４：２１：９の積分比でピー
クが認められた。これらの結果から、得られた反応生成
物は次式で示される含フッ素有機ケイ素重合体であるこ
とが判明した。
【化４７】
【００３９】
【実施例４】フラスコに、式：｛Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（Ｃ
Ｈ3）ＳｉＯ｝4で示されるテトラシクロシロキサン１５
１.９ｇ、式：｛（ＣＨ3）2ＳｉＯ｝4で示されるテトラ
シクロシロキサン２２.２ｇ、式：｛Ｈ（ＣＨ3）2Ｓ
ｉ｝2Ｏで示されるジシロキサン１３.４ｇおよびトリフ
ルオロメタンスルホン酸０.０８ｇを投入して、６５℃
で７時間加熱攪拌した。次いで、炭酸水素ナトリウムを
加えて中和した後濾過し、さらに減圧下１７０℃で３時
間加熱攪拌して低揮発分を除去した。これに、塩化白金
酸のイソプロピルアルコール溶液（塩化白金酸濃度３
％）を白金金属が重量単位で８０ｐｐｍとなるような量
投入して６０℃に加熱した。次いで、ビニルトリメトキ
シシラン２９.６ｇ（０.２モル）を徐々に滴下した。滴
下終了後、１１０℃で４時間反応させ、次いで低揮発分
を留去して液状の反応生成物を得た。得られた反応生成
物の収量は１４６ｇであり、その収率は８２％であっ
た。この反応生成物をＦＴ−ＩＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲおよ
び13Ｃ−ＮＭＲにより分析した。29Ｓｉ−ＮＭＲ分析で
は、８〜１０ｐｐｍ，−２０〜−２３ｐｐｍ，−２３〜
−２５ｐｐｍ，−４１〜−４２ｐｐｍにそれぞれ２：
３：３：２の積分比でピークが認められた。また、13Ｃ
−ＮＭＲ分析では、１０５〜１２０ｐｐｍ，４９〜５１
ｐｐｍ，６〜２５ｐｐｍ，−２〜６ｐｐｍにそれぞれ
８：６：１０：１３の積分比でピークが認められた。こ
れらの結果から、得られた反応生成物は次式で示される
含フッ素有機ケイ素重合体であることが判明した。
Ｈ3）ＳｉＯ｝4で示されるテトラシクロシロキサン１５
１.９ｇ、式：｛（ＣＨ3）2ＳｉＯ｝4で示されるテトラ
シクロシロキサン２２.２ｇ、式：｛Ｈ（ＣＨ3）2Ｓ
ｉ｝2Ｏで示されるジシロキサン１３.４ｇおよびトリフ
ルオロメタンスルホン酸０.０８ｇを投入して、６５℃
で７時間加熱攪拌した。次いで、炭酸水素ナトリウムを
加えて中和した後濾過し、さらに減圧下１７０℃で３時
間加熱攪拌して低揮発分を除去した。これに、塩化白金
酸のイソプロピルアルコール溶液（塩化白金酸濃度３
％）を白金金属が重量単位で８０ｐｐｍとなるような量
投入して６０℃に加熱した。次いで、ビニルトリメトキ
シシラン２９.６ｇ（０.２モル）を徐々に滴下した。滴
下終了後、１１０℃で４時間反応させ、次いで低揮発分
を留去して液状の反応生成物を得た。得られた反応生成
物の収量は１４６ｇであり、その収率は８２％であっ
た。この反応生成物をＦＴ−ＩＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲおよ
び13Ｃ−ＮＭＲにより分析した。29Ｓｉ−ＮＭＲ分析で
は、８〜１０ｐｐｍ，−２０〜−２３ｐｐｍ，−２３〜
−２５ｐｐｍ，−４１〜−４２ｐｐｍにそれぞれ２：
３：３：２の積分比でピークが認められた。また、13Ｃ
−ＮＭＲ分析では、１０５〜１２０ｐｐｍ，４９〜５１
ｐｐｍ，６〜２５ｐｐｍ，−２〜６ｐｐｍにそれぞれ
８：６：１０：１３の積分比でピークが認められた。こ
れらの結果から、得られた反応生成物は次式で示される
含フッ素有機ケイ素重合体であることが判明した。
【化４８】
【００４０】
【実施例５】フラスコに、式：｛Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4（Ｃ
Ｈ3）ＳｉＯ｝4で示されるテトラシクロシロキサン２５
３.１ｇ、式：｛（ＣＨ3）2ＳｉＯ｝4で示されるテトラ
シクロシロキサン３７.１ｇ、式：｛Ｈ（ＣＨ3）Ｓｉ
Ｏ｝4で示されるテトラシクロシロキサン２２.５ｇ、
式：｛Ｈ（ＣＨ3）2Ｓｉ｝2Ｏで示されるジシロキサン
１３.４ｇおよびトリフルオロメタンスルホン酸０.１ｇ
を投入して、６５℃で７時間加熱攪拌した。次いで炭酸
水素ナトリウムを加えて中和した後濾過し、さらに減圧
下１７０℃で３時間加熱攪拌して低揮発分を除去した。
これに、塩化白金酸のイソプロピルアルコール溶液（塩
化白金酸濃度３％）を白金金属が重量単位で８０ｐｐｍ
となるような量投入して６０℃に加熱した。次いで、ビ
ニルトリメトキシシラン７４.０ｇを徐々に滴下した。
滴下終了後、１１０℃で４時間反応させ、次いで低揮発
分を留去して液状の反応生成物を得た。得られた反応生
成物の収量は３３７ｇであり、その収率は８４％であっ
た。この反応生成物をＦＴ−ＩＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲおよ
び13Ｃ−ＮＭＲにより分析した。29Ｓｉ−ＮＭＲ分析で
は、８〜１０ｐｐｍ，−２０〜−２３ｐｐｍ，−２３〜
−２５ｐｐｍ，−４１〜−４２ｐｐｍにそれぞれ２：
７：４：５の積分比でピークが認められた。また、13Ｃ
−ＮＭＲ分析では、１０５〜１２０ｐｐｍ，４９〜５１
ｐｐｍ，６〜２５ｐｐｍ，−２〜６ｐｐｍにそれぞれ３
２：９：１６：１９の積分比でピークが認められた。こ
れらの結果から、得られた反応生成物は次式で示される
含フッ素有機ケイ素重合体であることが判明した。
Ｈ3）ＳｉＯ｝4で示されるテトラシクロシロキサン２５
３.１ｇ、式：｛（ＣＨ3）2ＳｉＯ｝4で示されるテトラ
シクロシロキサン３７.１ｇ、式：｛Ｈ（ＣＨ3）Ｓｉ
Ｏ｝4で示されるテトラシクロシロキサン２２.５ｇ、
式：｛Ｈ（ＣＨ3）2Ｓｉ｝2Ｏで示されるジシロキサン
１３.４ｇおよびトリフルオロメタンスルホン酸０.１ｇ
を投入して、６５℃で７時間加熱攪拌した。次いで炭酸
水素ナトリウムを加えて中和した後濾過し、さらに減圧
下１７０℃で３時間加熱攪拌して低揮発分を除去した。
これに、塩化白金酸のイソプロピルアルコール溶液（塩
化白金酸濃度３％）を白金金属が重量単位で８０ｐｐｍ
となるような量投入して６０℃に加熱した。次いで、ビ
ニルトリメトキシシラン７４.０ｇを徐々に滴下した。
滴下終了後、１１０℃で４時間反応させ、次いで低揮発
分を留去して液状の反応生成物を得た。得られた反応生
成物の収量は３３７ｇであり、その収率は８４％であっ
た。この反応生成物をＦＴ−ＩＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲおよ
び13Ｃ−ＮＭＲにより分析した。29Ｓｉ−ＮＭＲ分析で
は、８〜１０ｐｐｍ，−２０〜−２３ｐｐｍ，−２３〜
−２５ｐｐｍ，−４１〜−４２ｐｐｍにそれぞれ２：
７：４：５の積分比でピークが認められた。また、13Ｃ
−ＮＭＲ分析では、１０５〜１２０ｐｐｍ，４９〜５１
ｐｐｍ，６〜２５ｐｐｍ，−２〜６ｐｐｍにそれぞれ３
２：９：１６：１９の積分比でピークが認められた。こ
れらの結果から、得られた反応生成物は次式で示される
含フッ素有機ケイ素重合体であることが判明した。
【化４９】
【００４１】
【応用例】実施例４で合成した含フッ素有機ケイ素重合
体２ｇにメタノール５０ｇを加えて混合した。この混合
液中に、清浄にした平滑なガラス板を１０分間浸してか
ら取り出し、次いで室温で１時間風乾させた。風乾後、
１５０℃で１時間加熱してガラス板表面上に皮膜を形成
させた。この皮膜の接触角を接触角計［エルマ社製］に
より測定したところ、水に対する接触角は１１９℃であ
り、ヘキサデカンに対する接触角は７２℃であった。ま
た、上記のようにして表面処理したガラス板上にスポイ
トを用いて水滴をのせ、次いでこのガラス板を傾斜角度
可変板の上にのせた。そしてこの可変板の傾斜角を徐々
に大きくしたところ、傾斜角が２２度のときに水滴が流
れ落ちた。これより、本発明の含フッ素有機ケイ素重合
体は撥水剤として有用であることが判明した。比較とし
て、式：
体２ｇにメタノール５０ｇを加えて混合した。この混合
液中に、清浄にした平滑なガラス板を１０分間浸してか
ら取り出し、次いで室温で１時間風乾させた。風乾後、
１５０℃で１時間加熱してガラス板表面上に皮膜を形成
させた。この皮膜の接触角を接触角計［エルマ社製］に
より測定したところ、水に対する接触角は１１９℃であ
り、ヘキサデカンに対する接触角は７２℃であった。ま
た、上記のようにして表面処理したガラス板上にスポイ
トを用いて水滴をのせ、次いでこのガラス板を傾斜角度
可変板の上にのせた。そしてこの可変板の傾斜角を徐々
に大きくしたところ、傾斜角が２２度のときに水滴が流
れ落ちた。これより、本発明の含フッ素有機ケイ素重合
体は撥水剤として有用であることが判明した。比較とし
て、式：
【化５０】 で示される含フッ素有機ケイ素重合体を用いて上記と同
様にしてガラス板を処理し、皮膜を形成させた。この皮
膜の接触角を上記と同様にして測定したところ、水に対
する接触角は１００℃であり、ヘキサデカンに対する接
触角は４２℃であった。
様にしてガラス板を処理し、皮膜を形成させた。この皮
膜の接触角を上記と同様にして測定したところ、水に対
する接触角は１００℃であり、ヘキサデカンに対する接
触角は４２℃であった。
【００４２】
【発明の効果】本発明の含フッ素有機重合体は、特定の
含フッ素有機基を有し、かつ、２価の基を介してアルコ
キシシリル基もしくはハロゲノシリル基を有する新規な
有機ケイ素重合体である。
含フッ素有機基を有し、かつ、２価の基を介してアルコ
キシシリル基もしくはハロゲノシリル基を有する新規な
有機ケイ素重合体である。
【図１】 図１は実施例１で合成した含フッ素有機ケイ
素重合体のフーリエ変換赤外吸収分析によるスペクトル
チャートである。
素重合体のフーリエ変換赤外吸収分析によるスペクトル
チャートである。
【図２】 図２は実施例１で合成した含フッ素有機ケイ
素重合体の29Ｓｉ−核磁気共鳴分析によるスペクトルチ
ャートである。
素重合体の29Ｓｉ−核磁気共鳴分析によるスペクトルチ
ャートである。
【図３】 図３は実施例１で合成した含フッ素有機ケイ
素重合体の13Ｃ−核磁気共鳴分析によるスペクトルチャ
ートである。
素重合体の13Ｃ−核磁気共鳴分析によるスペクトルチャ
ートである。
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式： 【化１】 ［式中、Ｒ1は同一もしくは異なるアルキル基，アリー
ル基，３,３,３−トリフルオロプロピル基および式：−
Ｒ3−ＣnＦ(2n+1)（式中、Ｒ3はアルキレン基またはア
ルキレンオキシアルキレン基であり、ｎは４以上の整数
である。）で示される含フッ素有機基からなる群から選
択される基であり（ただし、Ｒ1の少なくとも１つは上
式で示される含フッ素有機基である。）、Ｒ2は同一も
しくは異なるアルキル基，アリール基および３,３,３−
トリフルオロプロピル基からなる群から選択される基で
あり、Ｒ3はアルキレン基またはアルキレンオキシアル
キレン基であり、Ｘはハロゲン原子またはアルコキシ基
であり、ａは１〜１０,０００の整数であり、ｂは１〜
１,０００の整数であり、ｍは１〜３の整数である。］
で示される含フッ素有機ケイ素重合体。 - 【請求項２】 一般式： 【化２】 ［式中、Ｒ1は同一もしくは異なるアルキル基，アリー
ル基，３,３,３−トリフルオロプロピル基および式：−
Ｒ3−ＣnＦ(2n+1)（式中、Ｒ3はアルキレン基またはア
ルキレンオキシアルキレン基であり、ｎは４以上の整数
である。）で示される含フッ素有機基からなる群から選
択される基であり、Ｒ2は同一もしくは異なるアルキル
基，アリール基および３,３,３−トリフルオロプロピル
基からなる群から選択される基であり、Ｒ3はアルキレ
ン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、Ｒ4
はＲ1で示される基または式：−Ｒ3−ＳｉＸmＲ2 (3-m)
（式中、Ｒ2およびＲ3は前記と同じであり、Ｘはハロゲ
ン原子またはアルコキシ基であり、ｍは１〜３の整数で
ある。）で示される基であり（ただし、Ｒ1またはＲ4の
少なくともどちらか１つは上式で示される含フッ素有機
基である。）、Ｘはハロゲン原子またはアルコキシ基で
あり、ａは１〜１０,０００の整数であり、ｂは１〜１,
０００の整数であり、ｍは１〜３の整数である。］で示
される含フッ素有機ケイ素重合体。 - 【請求項３】 一般式： 【化３】 ［式中、Ｒ1は同一もしくは異なるアルキル基，アリー
ル基，３,３,３−トリフルオロプロピル基および式：−
Ｒ3−ＣnＦ(2n+1)（式中、Ｒ3はアルキレン基またはア
ルキレンオキシアルキレン基であり、ｎは４以上の整数
である。）で示される含フッ素有機基からなる群から選
択される基であり、Ｒ2は同一もしくは異なるアルキル
基，アリール基および３,３,３−トリフルオロプロピル
基からなる群から選択される基であり、Ｒ3はアルキレ
ン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、Ｒ4
はＲ1で示される基または式：−Ｒ3−ＳｉＸmＲ2 (3-m)
（式中、Ｒ2およびＲ3は前記と同じであり、Ｘはハロゲ
ン原子またはアルコキシ基であり、ｍは１〜３の整数で
ある。）で示される基であり（ただし、Ｒ1またはＲ4の
少なくともどちらか１つは上式で示される含フッ素有機
基である。）、Ｘはハロゲン原子またはアルコキシ基で
あり、ａは１〜１０,０００の整数であり、ｂは１〜１,
０００の整数であり、ｍは１〜３の整数である。］で示
される含フッ素有機ケイ素重合体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12888395A JPH08302020A (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | 含フッ素有機ケイ素重合体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12888395A JPH08302020A (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | 含フッ素有機ケイ素重合体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08302020A true JPH08302020A (ja) | 1996-11-19 |
Family
ID=14995717
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12888395A Pending JPH08302020A (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | 含フッ素有機ケイ素重合体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08302020A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998047947A1 (fr) * | 1997-04-24 | 1998-10-29 | Asahi Glass Company Ltd. | Procede de preparation de composes de fluorosilicone renfermant des groupes hydrolysables |
| JP2000212024A (ja) * | 1999-01-22 | 2000-08-02 | Nonogawa Shoji Kk | 化粧料 |
| JP2000239117A (ja) * | 1999-02-16 | 2000-09-05 | Nonogawa Shoji Kk | 化粧料 |
| JP2001172461A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-06-26 | Dow Corning Toray Silicone Co Ltd | 含フッ素オルガノポリシロキサン、フッ素樹脂粉末の分散性向上剤および有機樹脂組成物 |
| JP2015117190A (ja) * | 2013-12-17 | 2015-06-25 | 信越化学工業株式会社 | 化粧料 |
-
1995
- 1995-04-28 JP JP12888395A patent/JPH08302020A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998047947A1 (fr) * | 1997-04-24 | 1998-10-29 | Asahi Glass Company Ltd. | Procede de preparation de composes de fluorosilicone renfermant des groupes hydrolysables |
| EP0978526A4 (en) * | 1997-04-24 | 2000-07-12 | Asahi Glass Co Ltd | PROCESS FOR THE PREPARATION OF FLUOROSILICONE COMPOUNDS CONTAINING HYDROLYSABLE GROUPS |
| JP2000212024A (ja) * | 1999-01-22 | 2000-08-02 | Nonogawa Shoji Kk | 化粧料 |
| JP2000239117A (ja) * | 1999-02-16 | 2000-09-05 | Nonogawa Shoji Kk | 化粧料 |
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| JP2015117190A (ja) * | 2013-12-17 | 2015-06-25 | 信越化学工業株式会社 | 化粧料 |
| WO2015093258A1 (ja) * | 2013-12-17 | 2015-06-25 | 信越化学工業株式会社 | 化粧料 |
| EP3284457A1 (en) * | 2013-12-17 | 2018-02-21 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Cosmetic |
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