JPH11504004A - 新規なタキソイド、その製造及びそれを含有する製薬学的組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.一般式: [式中、 Rは −炭素数が1〜8であり、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素原子から選ばれるハロ ゲン原子で又はアミノ基、アルキル部分の炭素数が1〜4のアルキルアミノ基、 各アルキル部分の炭素数が1〜4のジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アル キル部分の炭素数が1〜4のアルキルオキシカルボニル基、シアノもしくはカル バモイル基、アルキル部分の炭素数が1〜4のN−アルキルカルバモイル基もし くは各アルキル部分の炭素数が1〜4のN,N−ジアルキルカルバモイル基で置 換されている非分枝鎖状もしくは分枝鎖状アルキルを示すか、あるいはそれが結 合している窒素原子と共に、場合により酸素、硫黄及び窒素原子から選ばれる第 2の複素原子を含有することができる(そして場合により炭素数が1〜4のアル キル基又はフェニル基又はアルキル部分の炭素数が1〜4のフェニルアルキル基 で置換されていることができる)飽和5−もしくは6−員複素環式基を形成し、 −非分枝鎖もしくは分枝鎖中に2〜8個の炭素原子を含有するアルケニル基、非 分枝鎖もしくは分枝鎖中に2〜8個の炭素原子を含有するアル キニル基、炭素数が3〜6のシクルアルキル基又は炭素数が3〜6のシクロアル ケニル基を示し、これらの基は場合によりフッ素、塩素、臭素及びヨウ素原子か ら選ばれるハロゲン原子で又はアミノ基、アルキル部分の炭素数が1〜4のアル キルアミノ基、各アルキル部分の炭素数が1〜4のジアルキルアミノ基、カルボ キシル基、アルキル部分の炭素数が1〜4のアルキルオキシカルボニル基、シア ノもしくはカルバモイル基、アルキル部分の炭素数が1〜4のN−アルキルカル バモイル基もしくは各アルキル部分の炭素数が1〜4のN,N−ジアルキルカル バモイル基で置換されていることができるか、あるいはそれが結合している窒素 原子と共に、場合により酸素、硫黄及び窒素原子から選ばれる第2の複素原子を 含有することができる(そして場合により炭素数が1〜4のアルキル基又はフェ ニル基又はアルキル部分の炭素数が1〜4のフェニルアルキル基で置換されてい ることができる)飽和5−もしくは6−員複素環式基を形成し、あるいは −フェニル基又は複素原子として酸素、硫黄もしくは窒素原子を含有する5−も しくは6−員芳香族複素環式基を示し、 Zは水素原子又は一般式: の基を示し、 ここで: R1は場合によりハロゲン原子及び炭素数が1〜4のアルキル基、炭素数が1 〜4のアルコキシ基又はトリフルオロメチル基から選ばれる1 つ又はそれ以上の同一又は異なる原子もしくは基により置換されていることがで きるベンゾイル基、テノイル又はフロイルあるいは基R2−O−CO−を示し、 ここでR2は: −炭素数が1〜8のアルキル基、炭素数が2〜8のアルケニル基、炭素数が3〜 8のアルキニル基、炭素数が3〜6のシクロアルキル基、炭素数が4〜6のシク ロアルケニル基又は炭素数が7〜10のビシクロアルキル基を示し、これらの基 は場合によりハロゲン原子及びヒドロキシル基、炭素数が1〜4のアルコキシ基 、各アルキル部分の炭素数が1〜4のジアルキルアミノ基、ピペリジノもしくは モルホリノ基、1−ピペラジニル基(場合により4位において炭素数が1〜4の アルキル基で又はアルキル部分の炭素数が1〜4のフェニルアルキル基で置換さ れていることができる)、炭素数が3〜6のシクロアルキル基、炭素数が4〜6 のシクロアルケニル基、フェニル基(場合によりハロゲン原子及び炭素数が1〜 4のアルキル基又は炭素数が1〜4のアルコキシ基から選ばれる1つもしくはそ れ以上の原子もしくは基で置換されていることができる)、シアノもしくはカル ボキシル基又はアルキル部分の炭素数が1〜4のアルコキシカルボニル基から選 ばれる1つ又はそれ以上の置換基で置換されていることができ、 −場合によりハロゲン原子及び炭素数が1〜4のアルキル基又は炭素数が1〜4 のアルコキシ基から選ばれる1つ又はそれ以上の原子又は基で置換されているこ とができるフェニル又はα−もしくはβ−ナフチル基、 −あるいは好ましくはフリル及びチエニル基から選ばれる5−員芳香族複素環式 基を示し、 −あるいは場合により1つ又はそれ以上の炭素数が1〜4のアルキル基 で置換されていることができる炭素数が4〜6の飽和複素環式基を示し、 R3は炭素数が1〜8の非分枝鎖状もしくは分枝鎖状アルキル基、炭素数が2 〜8の非分枝鎖状もしくは分枝鎖状アルケニル基、炭素数が2〜8の非分枝鎖状 もしくは分枝鎖状アルキニル基、炭素数が3〜6のシクロアルキル基、場合によ りハロゲン原子及びアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル 、アルコキシ、アルキルチオ、アリールオキシ、アリールチオ、ヒドロキシル、 ヒドロキシアルキル、メルカプト、ホルミル、アシル、アシルアミノ、アロイル アミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルア ミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、アルキルカルバモ イル、ジアルキルカルバモイル、シアノ、ニトロ及びトリフルオロメチル基から 選ばれる1つもしくはそれ以上の原子もしくは基により置換されていることがで きるフェニル又はα−もしくはβ−ナフチル基、あるいは窒素、酸素及び硫黄原 子から選ばれる1つもしくはそれ以上の同一もしくは異なる複素原子を含有し且 つ場合によりハロゲン原子及びアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキ シ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アシルアミノ、アルコキシカ ルボニルアミノ、アシル、アリールカルボニル、シアノ、カルボキシル、カルバ モイル、アルキルカルバモイル、ジアルキルカルバモイル又はアルコキシカルボ ニル基から選ばれる1つもしくはそれ以上の同一もしくは異なる置換基で置換さ れていることができる5−もしくは6−員芳香族複素環を示し、フェニル、α− もしくはβ−ナフチル及び芳香族複素環式基の置換基において、アルキル基及び 他の基のアルキル部分は炭素数が1〜4であり、アルケニル及びアルキニル基の 炭素数は2〜8であり、アリール基はフェ ニル又はα−もしくはβ−ナフチル基であると理解される] の新規なタキソイド。 2.Zが水素原子又は一般式(II)の基を示し、式中、R1はベンゾイル基 又は基R2−O−CO−を示し、ここでR2はtert−ブチル基を示し、R3は 炭素数が1〜6のアルキル基、炭素数が2〜6のアルケニル基、炭素数が3〜6 のシクロアルキル基、場合によりハロゲン原子(フッ素、塩素)及びアルキル( メチル)、アルコキシ(メトキシ)、ジアルキルアミノ(ジメチルアミノ)、ア シルアミノ(アセチルアミノ)、アルコキシカルボニルアミノ(tert−ブト キシカルボニルアミノ)又はトリフルオロメチル基から選ばれる1つ又はそれ以 上の同一又は異なる原子もしくは基で置換されていることができるフェニル基、 あるいは2−もしくは3−フリル、2−もしくは3−チエニル又は2−、4−も しくは5−チアゾリル基を示し、Rが炭素数が3〜6のシクロアルキル基又はフ ェニル、2−、3−もしくは4−ピリジル、2−もしくは3−フリル及び2−も しくは3−チエニル基を示す請求の範囲第1項に記載の新規なタキソイド。 3.Zが水素原子又は一般式(II)の基を示し、式中、R1はベンゾイル基 又は基R2−O−CO−を示し、ここでR2はtert−ブチル基を示し、R3は イソブチル、イソブテニル、ブテニル、シクロヘキシル、フェニル、2−フリル 、3−フリル、2−チエニル、3−チエニル、2−チアゾリル、4−チアゾリル 又は5−チアゾリル基を示し、Rがシクロプロピル、シクロペンチル、フェニル 、2−ピリジル、2−チエニル又は2−フリル基を示す請求の範囲第1項に記載 の新規なタキソイド。 4.一般式: [式中、R1及びR3は請求の範囲第1、2及び3項の1つにおいて定義されてお り、R6は水素原子を示しそしてR7はヒドロキシル官能基を保護する基を示すか 、あるいはR6及びR7は一緒になって飽和5−もしくは6−員複素環を形成する ] の生成物を、一般式: R−CO−OH (IV) [式中、Rは上記の通りに定義される] の酸を用いて、あるいはこの酸の誘導体、例えばハライド、対称無水物又は混合 無水物を用いてエステル化して、一般式: [式中、R1、R3、R6及びR7は上記の通りに定義される] の生成物を得、次いで保護基R7又はR6とR7を水素原子で置換することを特徴 とする請求の範囲第1、2及び3項の1つに記載の生成物の製造法。 5.エステル化を縮合剤及び活性化剤の存在下に、有機溶媒中で、− 10〜90℃の温度で一般式(IV)の酸を用いて行うことを特徴とする請求の 範囲第4項に記載の方法。 6.エステル化を対称無水物の形態の一般式(IV)の酸を用いて、活性化剤 の存在下に、有機溶媒中で、0〜90℃の温度で処理して行うことを特徴とする 請求の範囲第4項に記載の方法。 7.エステル化を塩基の存在下でハライドの形態の又は場合によりその場で調 製されうる脂肪族もしくは芳香族酸との混合無水物の形態の一般式(IV)の酸 を用いて、有機溶媒中で0〜80℃の温度において処理して行うことを特徴とす る請求の範囲第4項に記載の方法。 8.保護基R7及び/又はR6とR7の水素原子による置換を、その性質に依存 して以下の方法で処理して行う: 1)R6が水素原子を示しそしてR7がヒドロキシル官能基を保護する基を示す場 合、無機酸又は有機酸を単独で又は混合して用いることにより、アルコール、エ ーテル、エステル、脂肪族炭化水素、ハロゲン化脂肪族炭化水素、芳香族炭化水 素又はニトリルから選ばれる有機溶媒中で、−10〜60℃の温度で処理して保 護基を水素原子により置換し、 2)R6及びR7が一般式: [式中、R1は上記の通りに定義され、R8及びR9は同一又は異なることができ 、水素原子あるいは炭素数が1〜4のアルキル基又はアルキル部分の炭素数が1 〜4であり且つアリール部分が好ましくは場合により炭素数が1〜4の1つ又は それ以上のアルコキシ基で置換されているこ とができるフェニル基を示すアラルキル基、又は場合により炭素数が1〜4の1 つ又はそれ以上のアルコキシ基で置換されていることができるフェニル基を示す アリール基を示すか、あるいは別の場合R8は炭素数が1〜4のアルコキシ基又 はトリハロメチル基あるいはトリハロメチル基で置換されているフェニル基を示 しそしてR9は水素原子を示すか、あるいは別の場合R8及びR9はそれらが結合 している炭素原子と一緒になって4−〜7−員環を形成する] のオキサゾリジン環を形成する場合、R6及びR7により形成される保護基を、R1 、R8及びR9の意味に依存して以下の方法で処理して水素原子により置換する : a)R1がtert−ブトキシカルボニル基を示しそしてR8及びR9が同一又 は異なることができ、アルキル基又はアラルキルもしくはアリール基を示すか、 あるいは別の場合R8がトリハロメチル基又はトリハロメチル基で置換されたフ ェニル基を示しそしてR9が水素原子を示すか、あるいは別の場合R8及びR9が 一緒になって4−〜7−員環を形成する場合、一般式(V)のエステルを無機又 は有機酸を用い、適宜有機溶媒中で処理して、一般式: [式中、R3は上記の通りに定義される] の生成物を得、それを場合によりフェニル環が置換されていることがで きるベンゾイルクロリドを用いて、あるいはテノイルクロリド、フロイルクロリ ド又は一般式: R2−O−CO−X (VIII) [式中、R2は上記の通りに定義され、Xはハロゲン原子又は残基−O−R2もし くは−O−CO−O−R2を示す] の生成物を用いてアシル化して、Zが一般式(II)の基を示す一般式(I)の 生成物を得、 b)R1が場合により置換されていることができるベンゾイル基、テノイル又 はフロイル基あるいは基R2−O−CO−を示し、ここでR2は上記の通りに定義 され、R8が水素原子又は炭素数が1〜4のアルコキシ基又は1つもしくはそれ 以上の炭素数が1〜4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を示しそしてR9 が水素原子を示す場合、R6及びR7により形成される保護基の水素原子による置 換を、化学量論的もしくは触媒的量の単独で又は混合して用いられる無機酸又は 有機酸の存在下に、有機溶媒中で、−10〜60℃の温度で処理して行う ことを特徴とする請求の範囲第4項に記載の方法。 9.式: のバッカチンIII誘導体を、一般式: [式中、R1及びR3は請求の範囲第1、2及び3項の1つにおける通りに定義さ れ、R6及びR7は請求の範囲第4項における通りに定義される] の酸を用いて、又はこの酸の誘導体、例えばハライド、対称無水物もしくは混合 無水物を用いてエステル化し、続いて保護基を置換し、次いで保護基R7又はR6 とR7を水素原子で置換することを特徴とするZが一般式(II)の基を示す一 般式(I)の生成物の製造法。 10.エステル化を請求の範囲第5、6及び7項の1つの方法に従って行うこ とを特徴とする請求の範囲第9項に記載の方法。 11.保護基R7又はR6とR7を請求の範囲第8項の条件に従って水素原子に より置換することを特徴とする請求の範囲第9項に記載の方法。 12.式: [式中、Z1はヒドロキシル官能基を保護する基を示す] の生成物を一般式(IV)の酸又はこの酸の誘導体、例えばハライド又は対称無 水物又は混合無水物を用いてエステル化し、次いて保護基Z1を分子の残りの部 分に影響を与えない条件下で水素原子により置換することを特徴とするZが水素 原子を示す請求の範囲第1項に記載の生成物 の製造法。 13.Zが一般式(II)の基を示す請求の範囲第1〜3項の1つに記載の生 成物の少なくとも1種を、不活性又は薬理学的に活性であることができる1種又 はそれ以上の製薬学的に許容され得る生成物と組み合わせて含むことを特徴とす る製薬学的組成物。
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