JPH1137660A - ローラハース型連続封着炉 - Google Patents
ローラハース型連続封着炉Info
- Publication number
- JPH1137660A JPH1137660A JP9192249A JP19224997A JPH1137660A JP H1137660 A JPH1137660 A JP H1137660A JP 9192249 A JP9192249 A JP 9192249A JP 19224997 A JP19224997 A JP 19224997A JP H1137660 A JPH1137660 A JP H1137660A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace
- zone
- hearth
- cooling zone
- type continuous
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
- H01J9/26—Sealing together parts of vessels
- H01J9/261—Sealing together parts of vessels the vessel being for a flat panel display
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/48—Sealing, e.g. seals specially adapted for leading-in conductors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J17/00—Gas-filled discharge tubes with solid cathode
- H01J17/02—Details
- H01J17/18—Seals between parts of vessels; Seals for leading-in conductors; Leading-in conductors
- H01J17/183—Seals between parts of vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2209/00—Apparatus and processes for manufacture of discharge tubes
- H01J2209/26—Sealing parts of the vessel to provide a vacuum enclosure
- H01J2209/261—Apparatus used for sealing vessels, e.g. furnaces, machines or the like
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Tunnel Furnaces (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ２枚のガラス基板を、その縁部で均一に封着
でき、かつ、炉壁等からの塵埃によるガラス基板間の汚
染をなくすローラハース型連続封着炉を提供する。 【解決手段】 加熱帯Ｉ、均熱帯II、徐冷帯IIIおよび
冷却帯Ｖからなるローラハース型連続封着炉において、
前記加熱帯内にマッフル１０を取り付け、該マッフルと
天井壁間および炉床間の各空間にラジアントチューブバ
ーナ１３を配設し、かつ、前記マッフル内の両側壁側に
電熱ヒータ１４を配設するとともに、前記均熱帯および
徐冷帯を内板１６構造とし、かつ、前記徐冷帯の天井
部、炉床部および両側壁部に電熱ヒータ１３を配設し
た。
でき、かつ、炉壁等からの塵埃によるガラス基板間の汚
染をなくすローラハース型連続封着炉を提供する。 【解決手段】 加熱帯Ｉ、均熱帯II、徐冷帯IIIおよび
冷却帯Ｖからなるローラハース型連続封着炉において、
前記加熱帯内にマッフル１０を取り付け、該マッフルと
天井壁間および炉床間の各空間にラジアントチューブバ
ーナ１３を配設し、かつ、前記マッフル内の両側壁側に
電熱ヒータ１４を配設するとともに、前記均熱帯および
徐冷帯を内板１６構造とし、かつ、前記徐冷帯の天井
部、炉床部および両側壁部に電熱ヒータ１３を配設し
た。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はローラハース型連続
封着炉に関するものである。
封着炉に関するものである。
【０００２】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】従来、プ
ラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと言う）の製
造方法の一つとして、図７に示すように、表面ガラス基
板Ｗ1とチップ管Ｐ付き背面ガラス基板Ｗ2とをいずれか
一方の外縁部に軟質ガラス等からなる封着剤Ｓを塗布し
て重ね合わせ、クリップ等のクランプ治具Ｃにより一体
に固定してＰＤＰ組立体Ｗとし、このＰＤＰ組立体Ｗを
トレイＴｒに載置して連続封着炉に装入することにより
両ガラス基板を封着し、その後、チップ管Ｐから両ガラ
ス基板Ｗ1，Ｗ2間を所定真空にしたうえで放電ガスを封
入し、チップ管Ｐを封止切断することによりＰＤＰとす
る方法がある。
ラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと言う）の製
造方法の一つとして、図７に示すように、表面ガラス基
板Ｗ1とチップ管Ｐ付き背面ガラス基板Ｗ2とをいずれか
一方の外縁部に軟質ガラス等からなる封着剤Ｓを塗布し
て重ね合わせ、クリップ等のクランプ治具Ｃにより一体
に固定してＰＤＰ組立体Ｗとし、このＰＤＰ組立体Ｗを
トレイＴｒに載置して連続封着炉に装入することにより
両ガラス基板を封着し、その後、チップ管Ｐから両ガラ
ス基板Ｗ1，Ｗ2間を所定真空にしたうえで放電ガスを封
入し、チップ管Ｐを封止切断することによりＰＤＰとす
る方法がある。
【０００３】ところで、前記連続封着炉は、たとえば、
特開平６−３６６８８号公報に開示されているように、
ＰＤＰ組立体Ｗの加熱を、炉天井部に設けた上部ヒータ
と炉床部に設けた下部ヒータとで行なう方式であるた
め、炉壁の放熱の影響によりＰＤＰ組立体Ｗの炉壁側の
温度が低くなり、両ガラス基板Ｗ1，Ｗ2の加熱が不均一
になるばかりか、封着剤Ｓの均一加熱ができず、良好な
封着処理ができないという問題があった。
特開平６−３６６８８号公報に開示されているように、
ＰＤＰ組立体Ｗの加熱を、炉天井部に設けた上部ヒータ
と炉床部に設けた下部ヒータとで行なう方式であるた
め、炉壁の放熱の影響によりＰＤＰ組立体Ｗの炉壁側の
温度が低くなり、両ガラス基板Ｗ1，Ｗ2の加熱が不均一
になるばかりか、封着剤Ｓの均一加熱ができず、良好な
封着処理ができないという問題があった。
【０００４】また、炉内壁を構成する断熱材が直接炉内
雰囲気と接触するため、断熱材からの塵埃が雰囲気中に
混入し、その結果、ＰＤＰ組立体Ｗの内部が汚染される
という問題を有する。さらに、被処理材として、表面ガ
ラス基板とチップ管付き背面ガラス基板とを前述同様封
着剤を介して重ね合わせクランプ治具で一体化して前記
封着炉で封着し、チップ管により内部を所定の真空とし
て、いわゆる真空二重断熱ガラスパネルとすることもで
きるが、この場合においても、同様の問題が生じる。し
たがって、本発明は、２枚のガラス基板を所定間隔で封
着剤により封着する場合において、封着剤を均一に加熱
して２枚のガラス基板を封止でき、しかもガラス基板間
が汚染されないローラハース型連続封着炉を提供するこ
とを目的とする。
雰囲気と接触するため、断熱材からの塵埃が雰囲気中に
混入し、その結果、ＰＤＰ組立体Ｗの内部が汚染される
という問題を有する。さらに、被処理材として、表面ガ
ラス基板とチップ管付き背面ガラス基板とを前述同様封
着剤を介して重ね合わせクランプ治具で一体化して前記
封着炉で封着し、チップ管により内部を所定の真空とし
て、いわゆる真空二重断熱ガラスパネルとすることもで
きるが、この場合においても、同様の問題が生じる。し
たがって、本発明は、２枚のガラス基板を所定間隔で封
着剤により封着する場合において、封着剤を均一に加熱
して２枚のガラス基板を封止でき、しかもガラス基板間
が汚染されないローラハース型連続封着炉を提供するこ
とを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、加熱帯、均熱帯、徐冷帯および冷却帯か
らなるローラハース型連続封着炉において、前記加熱帯
内にマッフルを取り付け、該マッフルと天井壁間および
炉床間の各空間にラジアントチューブバーナを配設し、
かつ、前記マッフル内の両側壁側に電熱ヒータを配設す
るとともに、前記均熱帯と徐冷帯を内板構造とし、か
つ、前記徐冷帯の天井部、炉床部および両側壁部に電熱
ヒータを配設したものである。また、前記均熱帯および
徐冷帯の少なくとも炉床部にラジアントチューブバーナ
を配設し、このラジアントチューブバーナを炉立上げ時
のみに燃焼させるようにしたものである。
成するために、加熱帯、均熱帯、徐冷帯および冷却帯か
らなるローラハース型連続封着炉において、前記加熱帯
内にマッフルを取り付け、該マッフルと天井壁間および
炉床間の各空間にラジアントチューブバーナを配設し、
かつ、前記マッフル内の両側壁側に電熱ヒータを配設す
るとともに、前記均熱帯と徐冷帯を内板構造とし、か
つ、前記徐冷帯の天井部、炉床部および両側壁部に電熱
ヒータを配設したものである。また、前記均熱帯および
徐冷帯の少なくとも炉床部にラジアントチューブバーナ
を配設し、このラジアントチューブバーナを炉立上げ時
のみに燃焼させるようにしたものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】つぎに、本発明の実施の形態を図
にしたがって説明する。本発明にかかるローラハース型
連続封着炉Ｔは、図１に示すように、加熱帯Ｉ、均熱帯
II、徐冷帯III、ターン部IV、冷却帯Ｖとからなり、前
記ターン部IVを除きハースローラ１が設けられている。
なお、２はハースローラ１を備えた装入部、３は同じく
ハースローラ１を備えた抽出部で、炉の装入，抽出端部
にはスロート部４，５が設けてある。
にしたがって説明する。本発明にかかるローラハース型
連続封着炉Ｔは、図１に示すように、加熱帯Ｉ、均熱帯
II、徐冷帯III、ターン部IV、冷却帯Ｖとからなり、前
記ターン部IVを除きハースローラ１が設けられている。
なお、２はハースローラ１を備えた装入部、３は同じく
ハースローラ１を備えた抽出部で、炉の装入，抽出端部
にはスロート部４，５が設けてある。
【０００７】前記加熱帯Ｉは、図２，図３に示すよう
に、炉内に耐熱鋼製の上部マッフル１０ａと下部マッフ
ル１０ｂが取り付けられ、この上・下部マッフル１０
ａ，１０ｂと下記する内板構造の側壁１９とで加熱空間
が形成される。また、上記マッフル１０ａと天井壁（断
熱材）１１間および下部マッフル１０ｂと炉床（断熱
材）１２間の各空間に所定間隔をもって複数のラジアン
トチューブバーナ１３が配設され、かつ、マッフル１０
内の両側壁側に電熱ヒータ１４が配設されている。
に、炉内に耐熱鋼製の上部マッフル１０ａと下部マッフ
ル１０ｂが取り付けられ、この上・下部マッフル１０
ａ，１０ｂと下記する内板構造の側壁１９とで加熱空間
が形成される。また、上記マッフル１０ａと天井壁（断
熱材）１１間および下部マッフル１０ｂと炉床（断熱
材）１２間の各空間に所定間隔をもって複数のラジアン
トチューブバーナ１３が配設され、かつ、マッフル１０
内の両側壁側に電熱ヒータ１４が配設されている。
【０００８】前記均熱帯IIと徐冷帯IIIは、図４に示す
ように、断熱材１５の内面に耐熱鋼板からなる内板１６
を取り付けた内板構造となっており、かつ、天井部１
７、炉床部１８および両側壁部１９に電熱ヒータ１４を
有する。また、均熱帯IIと徐冷帯IIIの炉床部１８に
は、所定間隔をもってラジアントチューブバーナ１３が
配設され、炉立上げ時のみに燃焼させるようになってい
る。そして、前記内板１６は、図６に示すように、断熱
材１５の内面に、たとえばアルミ箔等の金属箔２１を炉
殻１０に設けたピン２２にワッシャ２３、ナット２４に
より固定するとともに、金属箔２１の炉内側に前記内板
１６を前記金属箔２１と同様、前記ピン２２にワッシャ
２３、ナット２４により固定し、断熱材１５からの塵埃
が炉内に侵入することを防止する。また、前記冷却帯Ｖ
は図５に示すように耐熱鋼にて製作され、水冷ジャケッ
ト２５で水冷構造となっている。
ように、断熱材１５の内面に耐熱鋼板からなる内板１６
を取り付けた内板構造となっており、かつ、天井部１
７、炉床部１８および両側壁部１９に電熱ヒータ１４を
有する。また、均熱帯IIと徐冷帯IIIの炉床部１８に
は、所定間隔をもってラジアントチューブバーナ１３が
配設され、炉立上げ時のみに燃焼させるようになってい
る。そして、前記内板１６は、図６に示すように、断熱
材１５の内面に、たとえばアルミ箔等の金属箔２１を炉
殻１０に設けたピン２２にワッシャ２３、ナット２４に
より固定するとともに、金属箔２１の炉内側に前記内板
１６を前記金属箔２１と同様、前記ピン２２にワッシャ
２３、ナット２４により固定し、断熱材１５からの塵埃
が炉内に侵入することを防止する。また、前記冷却帯Ｖ
は図５に示すように耐熱鋼にて製作され、水冷ジャケッ
ト２５で水冷構造となっている。
【０００９】なお、前記ターン部IVも断熱材１５の内面
に前述と同様の内板１６をピン２２、ワッシャ２３、ナ
ット２４で取り付け、天井部、炉床部、側壁部に加熱ヒ
ータ１４を配設するとともに、昇降・回転可能なフォー
ク状の載置部２７を有する回転機構２６が設けられ、載
置部２７をハースローラ１間に位置させて昇降・回転さ
せることにより処理材Ｗを反転移送するようになってい
る。また、前記均熱帯II、徐冷帯IIIおよび冷却帯Ｖの
各帯は炉長方向に複数の分割制御が可能なように温度制
御される。
に前述と同様の内板１６をピン２２、ワッシャ２３、ナ
ット２４で取り付け、天井部、炉床部、側壁部に加熱ヒ
ータ１４を配設するとともに、昇降・回転可能なフォー
ク状の載置部２７を有する回転機構２６が設けられ、載
置部２７をハースローラ１間に位置させて昇降・回転さ
せることにより処理材Ｗを反転移送するようになってい
る。また、前記均熱帯II、徐冷帯IIIおよび冷却帯Ｖの
各帯は炉長方向に複数の分割制御が可能なように温度制
御される。
【００１０】したがって、搬送トレイＴｒに載置された
前記ＰＤＰ組立体Ｗは、封着炉Ｔ内で、図８に示すヒー
トカーブにしたがって加熱され、封着剤Ｓにより両ガラ
ス基板Ｗ1，Ｗ2が封着される。その後、炉外にてチップ
管Ｐを利用して両ガラス基板Ｗ1，Ｗ2間を排気し、放電
ガスを封入するとともにチップ管Ｐを切断しＰＤＰとす
る。
前記ＰＤＰ組立体Ｗは、封着炉Ｔ内で、図８に示すヒー
トカーブにしたがって加熱され、封着剤Ｓにより両ガラ
ス基板Ｗ1，Ｗ2が封着される。その後、炉外にてチップ
管Ｐを利用して両ガラス基板Ｗ1，Ｗ2間を排気し、放電
ガスを封入するとともにチップ管Ｐを切断しＰＤＰとす
る。
【００１１】なお、前記説明では、処理材ＷとしてＰＤ
Ｐ組立体の場合を示したが、前述のように、処理材Ｗと
しては真空二重断熱ガラスパネルを構成する２枚のガラ
ス板であってもよい。
Ｐ組立体の場合を示したが、前述のように、処理材Ｗと
しては真空二重断熱ガラスパネルを構成する２枚のガラ
ス板であってもよい。
【００１２】また、加熱帯Ｉ内に上・下部マッフル１０
ａ，１０ｂを取付けて、この上・下部マッフルと側壁の
内板１６とで加熱空間を形成したが、矩形筒の一体マッ
フルでもよく、また、均熱帯IIおよび徐冷帯IIIにラジ
アントチューブバーナ１３を配設して、炉立上げ時にの
み燃焼させることで炉立上げ時間を短縮するようにした
が、ラジアントチューブバーナを配設することなく、帯
内に設ける発熱ヒータで対応するようにしてもよい。さ
らに、前記説明では、炉をＵ字状に設置したが、ターン
部IVを設けることなく直線上に設置してもよい。
ａ，１０ｂを取付けて、この上・下部マッフルと側壁の
内板１６とで加熱空間を形成したが、矩形筒の一体マッ
フルでもよく、また、均熱帯IIおよび徐冷帯IIIにラジ
アントチューブバーナ１３を配設して、炉立上げ時にの
み燃焼させることで炉立上げ時間を短縮するようにした
が、ラジアントチューブバーナを配設することなく、帯
内に設ける発熱ヒータで対応するようにしてもよい。さ
らに、前記説明では、炉をＵ字状に設置したが、ターン
部IVを設けることなく直線上に設置してもよい。
【００１３】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
ローラハース型連続封着炉によれば、加熱帯をマッフル
構造とし、マッフルと炉天井壁間と炉床間の空間にラジ
アントチューブバーナを配設し、かつ、マッフル内の両
側壁に電熱ヒータを配設したため、ラジアントチューブ
バーナからの熱は、マッフルを介して処理材に伝熱され
ることになり局部過熱あるいは加熱不足がなく、しかも
電熱ヒータがマッフル内の炉壁側に配設されているた
め、処理材が２枚のガラスを封着剤を介して一体化する
プラズマディスプレイパネル組立体あるいは２重断熱ガ
ラスパネル組立体にあってもガラス板は勿論、封着剤も
均一に加熱される。また、均熱帯と徐冷帯においても、
天井部、炉床部、側壁に電熱ヒータを配設して４面加熱
方式としたので前記パネル全体を均一に均熱、徐冷する
ことができ、パネルに歪みが生じず、かつ、封着剤も均
一に溶融して完全に２枚のガラスを封着することができ
る。さらに、加熱帯はマッフル構造で、均熱帯および徐
冷帯は内板構造としてあり、しかも、マッフル、内板内
に設置する加熱源は電熱ヒータであるから、断熱材から
の塵埃の炉内侵入による炉内雰囲気の汚染がないため、
ＰＤＰ組立体の封着においては、後工程で放電ガスを封
入しても不純ガスの混在は極めて少なく、良好なＰＤＰ
とすることができる。
ローラハース型連続封着炉によれば、加熱帯をマッフル
構造とし、マッフルと炉天井壁間と炉床間の空間にラジ
アントチューブバーナを配設し、かつ、マッフル内の両
側壁に電熱ヒータを配設したため、ラジアントチューブ
バーナからの熱は、マッフルを介して処理材に伝熱され
ることになり局部過熱あるいは加熱不足がなく、しかも
電熱ヒータがマッフル内の炉壁側に配設されているた
め、処理材が２枚のガラスを封着剤を介して一体化する
プラズマディスプレイパネル組立体あるいは２重断熱ガ
ラスパネル組立体にあってもガラス板は勿論、封着剤も
均一に加熱される。また、均熱帯と徐冷帯においても、
天井部、炉床部、側壁に電熱ヒータを配設して４面加熱
方式としたので前記パネル全体を均一に均熱、徐冷する
ことができ、パネルに歪みが生じず、かつ、封着剤も均
一に溶融して完全に２枚のガラスを封着することができ
る。さらに、加熱帯はマッフル構造で、均熱帯および徐
冷帯は内板構造としてあり、しかも、マッフル、内板内
に設置する加熱源は電熱ヒータであるから、断熱材から
の塵埃の炉内侵入による炉内雰囲気の汚染がないため、
ＰＤＰ組立体の封着においては、後工程で放電ガスを封
入しても不純ガスの混在は極めて少なく、良好なＰＤＰ
とすることができる。
【図１】 本発明にかかるローラハース型連続封着炉の
平面図。
平面図。
【図２】 図１の断面図。
【図３】 加熱帯の断面図。
【図４】 徐冷帯の断面図。
【図５】 急冷帯の断面図。
【図６】 徐冷帯の一部拡大断面図。
【図７】 処理材の一例を示す断面図。
【図８】 ヒートカーブ。
１…ハースローラ、１０ａ…上部マッフル、１０ｂ…下
部マッフル、１１…天井壁、１２…炉床、１３…ラジア
ントチューブバーナ、１４…電熱ヒータ、１６…内板、
Ｉ…加熱帯、II…均熱帯、III…徐冷帯、Ｖ…冷却帯、
Ｃ…クランプ治具、Ｐ…チップ管、Ｓ…封着剤、Ｔ…封
着炉、Ｗ1，Ｗ2…ガラス基板、Ｗ…処理材。
部マッフル、１１…天井壁、１２…炉床、１３…ラジア
ントチューブバーナ、１４…電熱ヒータ、１６…内板、
Ｉ…加熱帯、II…均熱帯、III…徐冷帯、Ｖ…冷却帯、
Ｃ…クランプ治具、Ｐ…チップ管、Ｓ…封着剤、Ｔ…封
着炉、Ｗ1，Ｗ2…ガラス基板、Ｗ…処理材。
Claims (2)
- 【請求項１】 加熱帯、均熱帯、徐冷帯および冷却帯か
らなるローラハース型連続封着炉において、前記加熱帯
内にマッフルを取り付け、該マッフルと天井壁間および
炉床間の各空間にラジアントチューブバーナを配設し、
かつ、前記マッフル内の両側壁側に電熱ヒータを配設す
るとともに、前記均熱帯と徐冷帯を内板構造とし、か
つ、前記徐冷帯の天井部、炉床部および両側壁部に電熱
ヒータを配設したことを特徴とするローラハース型連続
封着炉。 - 【請求項２】 前記均熱帯および徐冷帯の少なくとも炉
床部にラジアントチューブバーナを配設し、このラジア
ントチューブバーナを炉立上げ時のみに燃焼させる前記
請求項１に記載のローラハース型連続封着炉。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19224997A JP3745880B2 (ja) | 1997-07-17 | 1997-07-17 | ローラハース型連続封着炉 |
| KR10-1998-0008656A KR100484562B1 (ko) | 1997-07-17 | 1998-03-14 | 롤러하스형연속글라스기판봉착로 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19224997A JP3745880B2 (ja) | 1997-07-17 | 1997-07-17 | ローラハース型連続封着炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1137660A true JPH1137660A (ja) | 1999-02-12 |
| JP3745880B2 JP3745880B2 (ja) | 2006-02-15 |
Family
ID=16288155
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19224997A Expired - Fee Related JP3745880B2 (ja) | 1997-07-17 | 1997-07-17 | ローラハース型連続封着炉 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3745880B2 (ja) |
| KR (1) | KR100484562B1 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1439563A2 (en) * | 2003-01-16 | 2004-07-21 | Ngk Insulators, Ltd. | Heat treatment method and heat treatment furnace for plasma display panel substrate |
| EP1511061A2 (en) * | 2003-08-25 | 2005-03-02 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Limited | Method and apparatus for manufacturing plasma display panel |
| WO2005052479A1 (ja) * | 2003-11-26 | 2005-06-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | プラズマディスプレイパネルの多段焼成装置 |
| US7625260B2 (en) | 2004-02-20 | 2009-12-01 | Chugai Ro Co., Ltd. | Method of sealing glass panel assembly and sealing process furnace |
| JP2010025367A (ja) * | 2008-07-15 | 2010-02-04 | Koyo Thermo System Kk | 移載装置および連続焼成炉 |
| CN104154742A (zh) * | 2014-09-03 | 2014-11-19 | 江苏宇达环保科技股份有限公司 | 一种scr全自动温控辊棒电窑 |
| CN110564947A (zh) * | 2019-10-12 | 2019-12-13 | 宝钢工程技术集团有限公司 | 炉辊支撑装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109628863B (zh) * | 2018-12-04 | 2023-08-29 | 苏州中门子工业炉科技有限公司 | 高温镍基合金管材全氢光亮固溶热处理辊底炉及工艺 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2720630C2 (de) * | 1977-05-07 | 1982-10-07 | Ludwig Riedhammer GmbH & Co KG, 8500 Nürnberg | In der Länge geneigter langgestreckter Sinterofen |
| JPS56136919A (en) * | 1980-03-28 | 1981-10-26 | Yamazaki Denki Kogyo Kk | Method and apparatus for continuous heat treatment of metal |
| US4406618A (en) * | 1980-12-19 | 1983-09-27 | Kawasaki Steel Corporation | Method of operating continuous heat treatment furnace for metal strip coils |
| JPH0415485A (ja) * | 1990-05-09 | 1992-01-20 | Murata Mfg Co Ltd | 連続式焼成炉 |
| JPH07102326A (ja) * | 1993-09-30 | 1995-04-18 | Daido Steel Co Ltd | 金属ストリップ用の連続焼鈍炉 |
| JP2643086B2 (ja) * | 1994-03-31 | 1997-08-20 | 中外炉工業株式会社 | 金属粉末還元処理用ベルト式連続熱処理炉 |
| JP3430653B2 (ja) * | 1994-08-16 | 2003-07-28 | 株式会社村田製作所 | ローラハース形熱処理炉 |
| JP2961295B2 (ja) * | 1994-12-20 | 1999-10-12 | 光洋リンドバーグ株式会社 | ローラハース炉 |
-
1997
- 1997-07-17 JP JP19224997A patent/JP3745880B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-03-14 KR KR10-1998-0008656A patent/KR100484562B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1439563A2 (en) * | 2003-01-16 | 2004-07-21 | Ngk Insulators, Ltd. | Heat treatment method and heat treatment furnace for plasma display panel substrate |
| EP1439563A3 (en) * | 2003-01-16 | 2007-07-11 | Ngk Insulators, Ltd. | Heat treatment method and heat treatment furnace for plasma display panel substrate |
| EP1511061A2 (en) * | 2003-08-25 | 2005-03-02 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Limited | Method and apparatus for manufacturing plasma display panel |
| EP1511061A3 (en) * | 2003-08-25 | 2007-09-05 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Limited | Method and apparatus for manufacturing plasma display panel |
| WO2005052479A1 (ja) * | 2003-11-26 | 2005-06-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | プラズマディスプレイパネルの多段焼成装置 |
| JP2005156016A (ja) * | 2003-11-26 | 2005-06-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの焼成装置 |
| US7625260B2 (en) | 2004-02-20 | 2009-12-01 | Chugai Ro Co., Ltd. | Method of sealing glass panel assembly and sealing process furnace |
| JP2010025367A (ja) * | 2008-07-15 | 2010-02-04 | Koyo Thermo System Kk | 移載装置および連続焼成炉 |
| CN104154742A (zh) * | 2014-09-03 | 2014-11-19 | 江苏宇达环保科技股份有限公司 | 一种scr全自动温控辊棒电窑 |
| CN104154742B (zh) * | 2014-09-03 | 2016-04-13 | 江苏宇达环保科技股份有限公司 | 一种scr全自动温控辊棒电窑 |
| CN110564947A (zh) * | 2019-10-12 | 2019-12-13 | 宝钢工程技术集团有限公司 | 炉辊支撑装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3745880B2 (ja) | 2006-02-15 |
| KR100484562B1 (ko) | 2005-08-29 |
| KR19990013331A (ko) | 1999-02-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH102161A (ja) | 真空複層ガラス及びその製造方法 | |
| JP3745880B2 (ja) | ローラハース型連続封着炉 | |
| US6623269B2 (en) | Thermal treatment apparatus | |
| US20020111103A1 (en) | Method for manufacturing plasma display panel | |
| KR100440667B1 (ko) | 기판의 열처리 방법 및 그에 사용하는 연속식 열처리로 | |
| JPH11311484A (ja) | 炉内雰囲気循環型ローラハース式連続焼成炉 | |
| JP5068924B2 (ja) | ガラスパネル組立体の連続封着処理炉および封着処理方法 | |
| JPH10183235A (ja) | スリットノズル型バーナ、又はスリットノズル型リジェ ネレーティングバーナを取り付けたウオーキングビーム 式金属加熱炉 | |
| JP3782756B2 (ja) | 連続真空浸炭炉の加熱方法 | |
| JPH1021832A (ja) | プラズマディスプレイパネルの排気・封入方法およびその設備 | |
| KR20030016276A (ko) | 유리 제품 등의 열처리용 오븐 | |
| JP2001153564A (ja) | ラジアントチューブバーナーを利用した基板用連続加熱炉 | |
| JP2002206863A (ja) | 連続式熱処理炉 | |
| KR100418030B1 (ko) | 플라즈마 표시 패널의 제조장치 | |
| TW392060B (en) | Roller hearth type continuous frit sealing furnace | |
| JPH02274821A (ja) | 連続熱処理炉の雰囲気ガスの投入方法 | |
| JPH0418008B2 (ja) | ||
| JP3866145B2 (ja) | ヒータ構造 | |
| JP2001241849A (ja) | Ｐｄｐ基板焼成炉 | |
| KR0166025B1 (ko) | 플라즈마 표시소자의 게터 확산 방법 | |
| JP2002310563A (ja) | 熱処理装置及び被熱処理物の製造方法 | |
| JP2000223022A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法およびその製造用炉 | |
| JP2005299990A (ja) | 高温加熱装置 | |
| JP2001174159A (ja) | 熱処理装置 | |
| JPH0397222A (ja) | 枚葉式ｃｖｄ装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040420 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040420 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051031 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20051115 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051118 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091202 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101202 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101202 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111202 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |