JP2001241849A - Pdp基板焼成炉 - Google Patents

Pdp基板焼成炉

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JP2001241849A
JP2001241849A JP2000057464A JP2000057464A JP2001241849A JP 2001241849 A JP2001241849 A JP 2001241849A JP 2000057464 A JP2000057464 A JP 2000057464A JP 2000057464 A JP2000057464 A JP 2000057464A JP 2001241849 A JP2001241849 A JP 2001241849A
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JP
Japan
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furnace
substrate
pdp
baking furnace
furnace body
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Application number
JP2000057464A
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English (en)
Inventor
Nobuo Iwatani
岩谷伸雄
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Showa Corp
Original Assignee
Showa Seisakusho Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 省スペース、省エネルギー、高クリーン雰囲
気、急速冷却、廃ガス除去効率の良好なPDP(プラズ
マディスプレイ)基板の焼成炉を得ること。 【解決手段】 炉体1内に所要の間隔を置いてヒータ4
とガラス基板7とを多段に配装し、かつ間隔内に給気口
8と排気口9,9′とを形成した前記炉体1を傾斜可能
に支持したPDP基板焼成炉。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はPDP(プラズマデ
ィスプレイ)基板の焼成炉に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のPDP基板焼成炉は主にメッシュ
ベルトコンベアー及びローラーコンベア式連続焼成炉が
使用されていた。しかし、これらの連続式焼成炉には下
記の課題、問題点があり、PDP生産工程に於いて歩
留、品質、生産性に大きな支障をきたしていた。 一般にPDP基板の焼成時間は約2時間と長いため
に、炉長が長くなり大きな据付面積を必要とした。 又、前記のことから炉体が大きくなるため、設備電
力が大きくなり外壁からの熱損失も増加するため大電力
を必要とする。 ガラス基板搬送時、搬送ローラーとガラス基板又
は、セッターガラス間の接触摩擦によりダストを発生し
炉内を汚染し基板の歩留を低下させていた。 ガラス基板の連続搬送加熱に於いてガラス基板の進
行方向先端部と後部とに大きな温度差を生じ、いわゆる
台形変形を起こし生産品質上大きな問題であった。 前記、台形変形を防ぐために基板先端と後部の温度
差を小さくするために、搬送速度を遅くして温度差を減
らそうとすると、炉長が更に長くなる欠点があった。 バーンアウトゾーンに於けるガラス基板上から発生
したバーンアウトガス(ペーストからの有機分解ガス、
溶剤蒸気)除去の効率が悪かった。 台形変形の問題からガラス基板を急速に冷却する事
ができなかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は前記従
来技術の欠点を除去し省スペース、省エネルギー、高ク
リーン雰囲気、急速冷却、廃ガス除去効率の良い、台形
変形の無いPDP焼成炉を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の手段は次のとお
りである。
【0005】炉体内に所要の間隔を置いてヒータとガラ
ス基板とを多段に配装し、かつ各間隔に給気口と排気口
とを形成した前記炉体を傾斜可能に支持したこと。
【0006】
【発明の実施の形態】図示の実施態様において、1は断
熱材で成形した炉体で、内壁面の左右両端に一定の間隔
を存してヒータ支持パイプ2を多数段固定し、各段毎に
耐熱ガラス3,3…を受支する。耐熱ガラス3の上にヒ
ータ4を重ね、炉内に多数段の加熱室を形成させる。各
加熱室には、ガラス基板7を載せるセラミックローラー
5と、給気口8、排気口9´をそれぞれ設ける。
【0007】次に炉体1は図2のように脚10で支え脚
10は下端を支持板15に、上端を支持板11に固定
し、炉体1の上端部を押圧杆12で押すと炉体を約5°
傾斜させることができるようにしてある。
【0008】
【作用】バーンアウト時、炉体1を押圧杆12によって
傾斜させることにより、各段の耐熱ガラス板3,3上部
のヒータ4で加熱されたガラス基板7の印刷面より発生
した廃ガス(バーンアウトガス)は各チャンバーの給気
口からのバーンアウトエアーと上昇気流とによって傾斜
側上部の排気口9に容易排出され効率良く廃ガス除去が
行われる。又冷却時も炉体を傾斜させる事により、炉内
の熱排気が容易に排出され易くなる為に基板も急速に冷
却される。
【0009】PDP基板焼成の温度プロファイル例は図
4に示す通りである。尚、図中a,a´b,b´は温度
上昇曲線を示し、c,c´は基板のバーンアウト部、
d,d´は焼成ゾーン、e,e´は冷却曲線を示すもの
で、従来の昇温、冷却曲線a,b,eに比べ炉体を傾斜
させる事により昇温、冷却時間を大幅に短縮される。
【0010】基板面内における温度傾斜が生じない為に
台形変形が起きない。
【0011】
【発明の効果】本発明によれば、炉内加熱室を多段構造
に区画し、加熱室間の仕切壁を加熱ヒータにより構成し
ているために。 炉壁からの熱損失が極めて少なく熱効率が良く電力
消費量が少ない。 炉体の据付面積が小さい。 炉内からの発塵が無いのでクリーン雰囲気の状態で
熱処理ができる。 基板内に於ける温度勾配が無いので台形変形の心配
がなく急速加熱も可能である。 炉体を傾斜させる事によりバーンアウトガス除去が
効率よく出来る。 急速加熱、急速冷却が可能な為、大幅な熱処理時間
の短縮が計れる為に、生産性が向上する。 炉体を傾斜させる事により炉内の熱排気が良くなり
冷却時間が短縮させる事が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】正面図。
【図2】側面図。
【図3】一部の縦断側面図。
【図4】PDP基板の焼成炉内の温度プロファイル例を
示す図表。
【符号の説明】
1 炉体 2 ヒータ支持パイプ 3 耐熱ガラス板 4 ヒータ 5 セラミックローラー 7 ガラス基板 8 給気口 9,9´ 排気口 10 脚 11 支持板 12 押圧杆 15 支持板

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 炉体内に所要の間隔を置いてヒータとガ
    ラス基板とを多段に配装し、かつ間隔内に給気口と排気
    口とを形成した前記炉体を傾斜可能に支持したPDP基
    板焼成炉。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003107379A1 (ja) * 2002-06-12 2003-12-24 松下電器産業株式会社 プラズマディスプレイパネルの製造方法および焼成装置
JP2004144338A (ja) * 2002-10-22 2004-05-20 Showa Mfg Co Ltd ガラス基板用熱処理装置
JP2014077565A (ja) * 2012-10-09 2014-05-01 Toa Kogyo Kk 多段式加熱炉

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003107379A1 (ja) * 2002-06-12 2003-12-24 松下電器産業株式会社 プラズマディスプレイパネルの製造方法および焼成装置
US7083491B2 (en) 2002-06-12 2006-08-01 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method of manufacturing plasma display panels and baking panel device used for the method
JP2004144338A (ja) * 2002-10-22 2004-05-20 Showa Mfg Co Ltd ガラス基板用熱処理装置
JP2014077565A (ja) * 2012-10-09 2014-05-01 Toa Kogyo Kk 多段式加熱炉

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