JPH11320680A - ピットレベルの低い支持体材料 - Google Patents
ピットレベルの低い支持体材料Info
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Abstract
トレベルによって特徴付けられるポリオレフィン被覆支
持体材料を提供する。 【構成】粗さRzの標準偏差が0.050μm〜0.1
20μmであって電解的に構造化した表面を有する冷却
ロールを用いて製造する。
Description
に、写真的及び非写真的な像形成方法用の支持体材料に
関する。更に、本発明は、前記支持体材料の製造方法に
も関する。
層少なくとも1層を表面領域に結合することによる紙仕
上げでは、そのベース材料の外観及び特性を向上させる
ことが好ましい。これは、特に剛性、引張り強さ、熱安
定性、及び液体又はガスに対する非感受性の点であては
まる。つやのある表面又は構造化した表面は、特別なロ
ーラーを用いることにより製造することができる。
を、前記押出し機中で、圧縮し、溶融し、そしてホモジ
ェナイズする。溶融した押出し材料を、紙ウェブの幅に
適合させた押出しダイによって基材に与える。前記の紙
を、予備処理しておき、良好な結合強度を得る。予備火
炎処理、コロナ処理、オゾンシャワー、又は下塗剤塗布
を用いて、粘着性を向上させる。押し出されたフィルム
を、冷却ロールによって冷却する。また、この冷却ロー
ルの表面は、複合材料の表面上に大きな影響がある。
メージング)工程用の紙〕の押出し被覆は、種々の理由
により実施される。紙上に押し出されたフィルムは、液
体の吸収を妨げる。そして写真用紙の場合には、現像溶
液の吸収が防止されるので、迅速で環境に優しい処理が
保証される。それは、浸透してしまった現像剤を、時間
のかかる工程で洗浄する必要がないからである。その表
面の構造は、制御された方法で、「高い光沢度」から
「高度に構造化」までの所望の要求に適合させることが
できる。材料積層体の構造化表面は、冷却ロール表面の
鏡像である。紙の押出しに際してこれまで使用されてき
た冷却ロールは、冷却ロールにクロムめっきを行い、次
にサンドブラスティングを行うことによって製造されて
いる。こうして、前記冷却ロール上に、多数の凹部(通
常、非常に細かい)が形成される。サンドブラスティン
グ材料のタイプ及び寸法、並びにその処置の継続時間に
応じて、「高い光沢度」から「非常な艶消」までの表面
を製造することができる。
表面欠陥(ピットと称する)が、押出し速度に従って、
ポリマー表面上に形成される。前記冷却ロールの回転速
度が速いことにより、熱い押出し材料に前記冷却ロール
が接触する前に、冷却ロールの表面中の前記凹部に沈降
した気泡が、脱出するか又は除去されることができな
い。こうして生じたピットは、光沢度及び視覚的外観に
おいて悪い効果を有する。押出し速度を上昇させると、
得られる被覆中のピット数も増加する。これらの問題
が、欧州特許第285146A2号公報中に記載されて
いる。
0m/分以上の製造速度においてピットを防止する、精
密に限定された表面粗さを有するポリオレフィン被覆写
真用支持体材料が記載されている。この写真用支持体材
料は、高い光沢感及び低いピットレベルにより特徴付け
られている。この方法の不利な点の一つは、製造物の粗
さの範囲が狭いことである。更に、製造速度を、限られ
た範囲までしか上げることができない。
却ロールの窪み内の気泡を、押し出されたフィルムを通
過してより容易に脱出することができるガスで置き換え
ることによって、ピット又はクレーターを防止する方法
が記載されている。しかしながら、この方法でも、製造
速度が低いこと、及び技術的に非常に複雑であることで
不利である。
は、冷却ロール上でのポリオレフィン被覆紙の圧力を増
加することによって、ピットを防止している。更なる改
良が、非常に平滑な原紙、及びポリオレフィンによる表
面の多層被覆を用いることによって達成されることも述
べられている。しかしながら、高い接触圧力が必要なの
で、低い製造速度のみが可能となる。これは、高速下に
おいては、ポリオレフィンが冷却ロールから分離してし
まうことがあるからである。
非写真的像形成方法、例えばインクジェット方法又は熱
転写方法の分野でも、均一な支持体材料に依存する必要
がある。これらの方法において可能な限り写真的品質の
印刷を得る目的のために、樹脂被覆紙の使用される範囲
が増加しつつある。妨害物(例えば、ピット)は、前記
ピット領域中でプラスチックの適用が少ないので、光沢
中のスポットとして非常に明白である。
の表面特性及び低いピットレベルによって特徴付けられ
る樹脂被覆支持体材料を提供することにある。更に、本
発明の別の課題は、低いピットレベルを維持しながら製
造速度を上げることにある。
電解的に製造された構造を有する冷却ロールによって、
表面に形が付与されたポリオレフィン被覆支持体材料に
よって達成することができる。
造において使用するロールは、クロムでめっきした後
に、サンドブラスティングによって表面処理をしていな
いロールである。電気めっきの間に、制御された方法で
電流の向きを逆転することによって、制御された方法で
表面構造物を創造することができる。それらは、均一に
分布する丸みのある突起である。従って、このタイプの
冷却ロールは、従来のタイプの冷却ロールが、その表面
を材料の除去によって鏡像として形成している点で異な
る。本発明の支持体材料用の冷却ロールは、図1及び図
2中の標準偏差で示すように、従来の冷却ロールと比較
して、均一な粗さ分布Rzを有する。これらの冷却ロー
ルに対する標準偏差は、0.050μm〜0.120μ
m、好ましくは0.060μm〜0.100μmの範囲
内である。これは、押し出し加工品において、均一な光
沢度を有する表面を生成する。従来の冷却ロールに見ら
れたような、支持体材料の表面上の種々の光沢度評価を
有する領域は、本発明では、もはや発生しない。冷却ロ
ールの粗さRzは、所望の支持体材料光沢度に依存する
が、0.800μm〜1.900μm、特に1.000
μm〜1.700μmの範囲である。
理した従来のロールで製造した紙の表面(比較例1に相
当)を示す。これらの写真は、共焦点レーザー顕微鏡に
よって作成した。図4は、前記紙表面の三次元図を示
す。紙表面内のピットの数の多さに注目されたい。これ
は、押出し速度の増加に伴って含有空気の数が増加し、
従ってピットの数が増加することにより起こっている。
図3は、比較例1で製造した図5のレーザー顕微鏡写真
に相当する、三次元図の平面図である。
表面構造を有する冷却ロールで製造した紙の表面(実施
例1に相当)を示す。これらの顕微鏡写真も、図3及び
図4と同じ条件下で、共焦点レーザー顕微鏡によって作
成した。図7も、紙表面の三次元図を示す。この紙の表
面は、図4のものよりも、より均質であり、そして表面
次元に基づく高さの差異がより大きいと同時に、より丸
みがある。従って、製造速度が速い場合においても、空
気が脱出することができ、そのためにピットの形成が減
少する。図6は、図7の平面図であり、図8のレーザー
顕微鏡写真と比較することができる。
0゜の角度で観測)が、4%〜40%、特に10%〜3
5%の範囲内である。写真用乳液又は受容層を塗布した
後に、ブラックパターン上において60゜の角度で測定
する光沢度は、75%〜95%、特に80%〜90%の
範囲内である。前記支持体材料の粗さRzは、0.70
0μm〜1.800μm、特に0.900μm〜1.6
00μmの範囲内である。支持体材料の粗さRzにおけ
る標準偏差は、冷却ロールの粗さRzにおける標準偏差
と同じであり、0.050μm〜0.120μmの範囲
内である。
類が、原紙の製造に適している。アルカリ性又は酸性方
法によってパルプ化した針葉樹材パルプ及び/又は広葉
樹材パルプを用いることができる。製紙業界において公
知の全てのサイズ剤及び湿潤紙力増強剤を、サイジング
に使用することができる。顔料としては、無機化合物、
例えば粘土、カオリン、炭酸カルシウム、及び二酸化チ
タンが適している。更に、原紙は、添加剤、例えば消泡
剤、蛍光増白剤、及び染料を含むことができる。これ
は、長網抄紙機又は円網抄紙機上で製造することができ
る。好ましい原紙重量は、40〜250g/m2であ
る。
リプロピレン、及びポリブテン、並びにオレフィン2種
以上の共重合体又はそれらの配合物が、押し出しに適し
ている。あらゆるタイプのポリエチレン、例えば高密度
ポリエチレン(HDPE)、低密度ポリエチレン(LD
PE)、線状低密度ポリエチレン(LLDPE)、及び
それらの配合物が、特に好ましい。これらのポリオレフ
ィンは、顔料、例えば二酸化チタン、粘度、酸化カルシ
ウム、又は酸化亜鉛を含むことができる。前記顔料の量
は、5〜25重量%である。合計適用重量は、10〜5
0g/m2である。
ば、蛍光増白剤、着色剤、及び抗酸化剤を挙げることが
できる。押し出し方法及び共出し方法が、この被覆に対
して適している。前記写真用支持体材料の裏面に、機能
性被覆、例えば帯電防止層又はカーリング防止層を、提
供することができる。
明により用いられる冷却ロールとの間の隙間を通過し
て、フィルムの形態で、基材、例えば紙製基材上に押し
出される。熱いポリオレフィンフィルムは、前記冷却ロ
ールによって冷却され、そのフィルムが前記ロールから
剥がれることが可能になる。裏面を被覆した後に、同じ
方法で前面を被覆する。押出し速度を、最初の275m
/分から375m/分へ増加することに成功した。接触
圧力を上げて、そして硬質圧力ロールを使用することに
よって、更にスピードを上げることができる。
のものである。
の裏面を、低密度ポリエチレン(LDPE,d=0.9
15g/cm3)及び高密度ポリエチレン(HDPE,
d=0.959g/cm3)を含む顔料不含ポリエチレ
ン配合物で被覆した。この適用重量は、29g/m2と
した。前記の紙の前面を、低密度ポリエチレン(LDP
E,0.932g/m3)と15重量%二酸化チタンと
の混合物で被覆した。この適用重量は、28g/m2と
した。被覆速度は、最初に275m/分とし、そして3
75m/分に上げた。電解的にデザインされた表面を有
する冷却ロールは、粗さRzが1.624μmであり、
そして前記粗さにおける標準偏差が0.089μmであ
った(図1参照)。
275m/分における写真用支持体材料の表面構造を示
す。前記支持体材料は、前記ポリオレフィン被覆後の粗
さRzが1.532μmであり、そして前記粗さの標準
偏差が0.085μmであった。
を、実施例1に記載のポリエチレン配合物で被覆した。
裏面上の被覆の適用重量は、35g/m2とした。表面
被覆の適用重量は、33g/m2とした。電解的にデザ
インされた表面を有する冷却ロールは、粗さRzが0.
995μmであり、そして標準偏差が0.064μmで
あった。被覆速度は、最初に275m/分とし、そして
375m/分に上げた。前記の支持体材料は、前記ポリ
オレフィン被覆後の粗さRzが0.875μmであり、
そして標準偏差が0.062μmであった。
ット支持紙を、実施例1に記載のポリエチレン配合物で
被覆した。表面被覆及び裏面被覆の適用重量は、両方と
も17g/m2とした。電解的にデザインされた表面を
有する冷却ロールは、粗さRzが1.341μmであ
り、そして標準偏差が0.098μmであった。被覆速
度は、最初に275m/分とし、そして375m/分に
上げた。前記の支持体材料は、前記ポリオレフィン被覆
後の粗さRzが1.229μmであり、そして標準偏差
が0.096μmであった。
を、実施例1に記載のポリエチレン配合物で被覆した。
裏面上の被覆の適用重量は、29g/m2とした。表面
被覆の適用重量は、28g/m2とした。電解的にデザ
インされた表面を有する冷却ロールは、粗さRzが1.
605μmであり、そして標準偏差が0.101μmで
あった。被覆速度は、最初に275m/分とし、そして
375m/分に上げた。前記の支持体材料は、前記ポリ
オレフィン被覆後の粗さRzが1.463μmであり、
そして標準偏差が0.098μmであった。
記載のポリエチレン配合物で被覆した。サンドブラステ
ィングを行った表面を有する冷却ロールは、粗さRzが
1.600μmであり、そして標準偏差が0.161μ
mであった(図2参照)。被覆速度は、最初に275m
/分とし、そして375m/分に上げた。図3dの走査
電子顕微鏡写真は、前記ポリオレフィン被覆後におい
て、粗さRzが1.487μmであり、そして標準偏差
が0.159μmであった本発明の支持体材料の表面構
造を示す。
例1に記載のポリエチレン配合物で被覆した。サンドブ
ラスティングを行った表面を有する冷却ロールは、粗さ
Rzが1.287μmであり、そして標準偏差が0.1
39μmであった。被覆速度は、最初に275m/分と
し、そして375m/分に上げた。前記支持体材料は、
前記ポリオレフィン被覆後の粗さRzが1.181μm
であり、そして標準偏差が0.149μmであった。
Hommel表面走査装置で決定した。
見ることができないので、ポリオレフィン被覆紙の表面
を顕微鏡で拡大し、そしてCCDカメラで走査した。画
像加工プログラムを用いて、測定部位30箇所のピット
レベルのプロフィールを作成した。表3は、前記測定部
位30箇所の平均をまとめたものである。
て、60゜の角度で、Dr.BrunoLange G
mbHから提供された3角度光沢度観測器によって測定
した。光沢感のある表面の特質は、乳剤被覆された紙又
は受容層を備えた紙の上でのみ検出することができるの
で、前記支持体材料を被覆した。前記の実施例1、2、
4、及び比較例1で製造した写真用支持体材料を、普通
の塩化銀乳剤で被覆し、露出し、そして現像して、黒い
紙とした。
料を、DE19535072C2号公報に記載のとおり
にインク受容層で被覆した。前記インク受容層を、ヒュ
ーレットパッカード社HP550Cプリンターによって
漆黒に印刷した。更に、製造の制御に関して重要な評価
であるので、付加的な層を有していない前記の支持体材
料上の光沢度も測定した。前記試験の結果を、表1及び
表2にまとめた。
た表面構造を有する冷却ロールを使用することによっ
て、明らかに高い製造速度において、光沢度が高くそし
てピットレベルが低い支持体材料を製造することができ
ることを示している。
の粗さ分布のヒストグラムである。
有する冷却ロール表面の粗さ分布のヒストグラムであ
る。
紙(比較例1)の表面の、図面に代わる共焦点レーザー
顕微鏡写真である。
図面に代わる共焦点レーザー顕微鏡写真である。
紙(比較例1)の表面の、図面に代わる走査電子顕微鏡
写真(ライティングアングル=45゜)である。
却ロールで製造した紙の表面の、図面に代わる共焦点レ
ーザー顕微鏡写真である。
図面に代わる共焦点レーザー顕微鏡写真である。
却ロールで製造した紙の表面の、図面に代わる走査電子
顕微鏡写真(ライティングアングル=45゜)である。
Claims (7)
- 【請求項1】 粗さRzの標準偏差が0.050μm〜
0.120μmであって電解的に構造化した表面を有す
る冷却ロールで、表面に形が付与された、ポリオレフィ
ン被覆支持体材料。 - 【請求項2】 支持体材料表面の粗さRzが、0.70
0〜1.800μmである、請求項1に記載のポリオレ
フィン被覆支持体材料。 - 【請求項3】 支持体材料表面の粗さRzが、0.90
0〜1.600μmである、請求項2に記載のポリオレ
フィン被覆支持体材料。 - 【請求項4】 観測角度60゜における支持体材料表面
の光沢度が、4%〜40%である、請求項1に記載のポ
リオレフィン被覆支持体材料。 - 【請求項5】 観測角度60゜における支持体材料表面
の光沢度が、10%〜35%である、請求項4に記載の
ポリオレフィン被覆支持体材料。 - 【請求項6】 前記支持体材料が、写真的又は非写真的
な像形成用の支持体材料である、請求項1に記載のポリ
オレフィン被覆支持体材料。 - 【請求項7】 基材上にポリオレフィンを押し出し、そ
して粗さRzの標準偏差が0.050μm〜0.120
μmであって電解的に構造化した表面を有する冷却ロー
ルで前記ポリオレフィンの表面に形を付与する、ポリオ
レフィン被覆支持体材料の製造方法。
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