JPH11315883A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6885430B2 (en) * 2000-11-16 2005-04-26 Nikon Corporation System and method for resetting a reaction mass assembly of a stage assembly
US6958808B2 (en) * 2000-11-16 2005-10-25 Nikon Corporation System and method for resetting a reaction mass assembly of a stage assembly
JP2002305140A (ja) * 2001-04-06 2002-10-18 Nikon Corp 露光装置及び基板処理システム
US6828890B2 (en) * 2001-09-26 2004-12-07 Engineering Matters, Inc. High intensity radial field magnetic array and actuator
US6784978B2 (en) * 2002-03-12 2004-08-31 Asml Holding N.V. Method, system, and apparatus for management of reaction loads in a lithography system
SG108317A1 (en) * 2002-06-07 2005-01-28 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1369745B1 (en) 2002-06-07 2013-02-27 ASML Netherlands B.V. Lihographic apparatus and device manufaturing method
US6876284B2 (en) 2002-09-26 2005-04-05 Engineering Matters, Inc. High intensity radial field magnetic array and actuator
US7352268B2 (en) * 2002-09-26 2008-04-01 Engineering Matters, Inc. High intensity radial field magnetic actuator
EP1403713A1 (en) * 2002-09-30 2004-03-31 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
SG126732A1 (en) * 2002-09-30 2006-11-29 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20040119964A1 (en) * 2002-12-18 2004-06-24 Nikon Corporation Double isolation fine stage
WO2004107416A1 (ja) * 2003-05-27 2004-12-09 Nikon Corporation 露光装置及びデバイスの製造方法
US7248339B2 (en) * 2003-07-04 2007-07-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2005227717A (ja) * 2004-02-16 2005-08-25 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成装置の固定構造
JP2005224532A (ja) * 2004-02-16 2005-08-25 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成装置の防振構造
WO2005085671A1 (ja) * 2004-03-08 2005-09-15 Nikon Corporation 防振装置、露光装置、及び防振方法
US7256866B2 (en) * 2004-10-12 2007-08-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1806610B1 (en) * 2004-10-26 2011-12-21 Nikon Corporation Optical system, lens barrel, exposure system, and production method for a device
JP4614386B2 (ja) * 2005-02-04 2011-01-19 キヤノン株式会社 位置決め装置、露光装置およびそれを用いたデバイス製造方法
KR101494115B1 (ko) * 2005-03-29 2015-02-16 가부시키가이샤 니콘 노광 장치, 노광 장치의 제조 방법 및 마이크로 디바이스 제조 방법
US7835011B2 (en) * 2006-01-20 2010-11-16 General Electric Company Systems and methods for determining a position of a support
DE502006008851D1 (de) * 2006-11-08 2011-03-17 Integrated Dynamics Eng Gmbh Kombiniertes Motion-Control-System
US8085119B2 (en) * 2007-11-08 2011-12-27 Engineering Matters Inc. Flexible electromagnetic valve actuator modeling and performance
DE102009013173A1 (de) * 2008-04-17 2009-10-22 Heidelberger Druckmaschinen Ag Verpackungsmaschine für Waren in mit einer Blisterfolie zu verschließende Blisterformschalen
US8387945B2 (en) * 2009-02-10 2013-03-05 Engineering Matters, Inc. Method and system for a magnetic actuator
US8474782B2 (en) * 2010-04-26 2013-07-02 Baker Hughes Incorporated System and method for effective isolation of an interferometer
JP5641878B2 (ja) * 2010-10-29 2014-12-17 キヤノン株式会社 振動制御装置、リソグラフィー装置、および、物品の製造方法
DE102011075316A1 (de) * 2011-05-05 2012-11-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Modul mit einer Messeinrichtung
US9435642B2 (en) * 2012-04-20 2016-09-06 Canon Kabushiki Kaisha Position measuring apparatus, pattern transfer apparatus, and method for manufacturing a device
JP6218459B2 (ja) * 2013-07-02 2017-10-25 キヤノン株式会社 除振装置、除振方法、リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法
US10948043B2 (en) * 2018-10-02 2021-03-16 Hiroshi Kurabayashi Damping device for structure
JP7444257B2 (ja) * 2020-07-02 2024-03-06 株式会社島津製作所 欠陥検査装置

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4473292A (en) * 1982-02-09 1984-09-25 Censor Patent-Und Versuchsanstalt Dampening system
US4927119A (en) * 1986-02-24 1990-05-22 Kimball Industries, Inc. Reversible flow valve for air isolated bases
JPH01188241A (ja) 1988-01-22 1989-07-27 Canon Inc 移動案内装置
DE3917408A1 (de) * 1988-06-06 1989-12-07 Takenaka Corp Daempfungssockel
DE69014750T2 (de) * 1989-07-24 1995-07-06 Tokkyo Kiki K K Verfahren zur Positions- und Vibrationssteuerung und eine aktive Vibrationssteuervorrichtung.
JP2673321B2 (ja) 1989-07-24 1997-11-05 特許機器株式会社 除振台の水平位置の維持と水平振動の除振方法並びにその回路
JP2913064B2 (ja) 1989-07-24 1999-06-28 特許機器 株式会社 能動制振台
JPH03213744A (ja) 1990-01-18 1991-09-19 Showa Electric Wire & Cable Co Ltd 精密除振台
JP3031940B2 (ja) 1990-02-21 2000-04-10 キヤノン株式会社 移動案内装置
JPH0419438A (ja) 1990-05-11 1992-01-23 Showa Electric Wire & Cable Co Ltd アクティブ振動絶縁装置
DE4106838A1 (de) * 1991-03-04 1992-09-10 Metzeler Gimetall Ag Daempfendes aggregatlager
JPH06147256A (ja) 1991-05-07 1994-05-27 Tokkyo Kiki Kk 除振台の制御方法
JP3245932B2 (ja) 1992-02-06 2002-01-15 キヤノン株式会社 光半導体装置、その駆動方法及びそれを用いた光伝送方式
US5549269A (en) * 1992-03-27 1996-08-27 Gertel; Maurice Gas spring assembly
JPH0666346A (ja) 1992-05-12 1994-03-08 Showa Electric Wire & Cable Co Ltd アクティブ振動絶縁装置
JPH0674297A (ja) 1992-08-28 1994-03-15 Ebara Corp 電磁アクチュエータ
JPH06117487A (ja) 1992-10-05 1994-04-26 Hakko Denki Kk 機械の防振装置
JP3265670B2 (ja) * 1993-01-21 2002-03-11 株式会社ニコン ステージ装置、ステージ駆動方法、及び露光装置
JP3277581B2 (ja) * 1993-02-01 2002-04-22 株式会社ニコン ステージ装置および露光装置
JP2974535B2 (ja) 1993-03-11 1999-11-10 キヤノン株式会社 位置決め装置
US5356110A (en) * 1993-06-08 1994-10-18 Newport Corporation Pneumatic isolation systems for damping vertical, horizontal and rotational vibrations
JP3226704B2 (ja) * 1994-03-15 2001-11-05 キヤノン株式会社 露光装置
JPH0835537A (ja) 1994-07-26 1996-02-06 Kawai Musical Instr Mfg Co Ltd 電子制御振動インシュレータ
DE69631362T2 (de) * 1995-10-04 2004-11-04 Ebara Corp. Vorrichtung zur Schwingungsdämpfung
US5931441A (en) * 1996-02-29 1999-08-03 Nikon Corporation Method of isolating vibration in exposure apparatus
JP3337906B2 (ja) * 1996-04-02 2002-10-28 キヤノン株式会社 空圧式振動絶縁除去装置、投影露光装置及びこれを用いたデバイス製造方法
KR980006398A (ko) * 1996-06-21 1998-03-30 마에다 시게루 진동 감쇄장치
JPH1089403A (ja) * 1996-09-10 1998-04-07 Nikon Corp 防振装置
US6170622B1 (en) * 1997-03-07 2001-01-09 Canon Kabushiki Kaisha Anti-vibration apparatus and anti-vibration method thereof
JP3825869B2 (ja) * 1997-03-19 2006-09-27 キヤノン株式会社 能動除振装置
US6082508A (en) * 1997-04-23 2000-07-04 Honeywell International Inc. Pneumatic damping strut
US5979882A (en) * 1997-11-22 1999-11-09 Honeywell Inc. Direct fluid shear damper

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