JPH1128799A - 化粧板およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】内部に微細凹凸模様を有する立体感のある意匠
性の高い化粧板を提供するとともに、その意匠性に優れ
た化粧板を生産性良く、品質物性の安定した化粧板を製
造するその製造方法を提供する。 【解決手段】化粧板用基材の上面に接着剤層、化粧シー
ト層、透明層、印刷絵柄層及び微細凹凸層、トップコー
ト層が順次積層された化粧板において、前記透明層及び
トップコート層が電離放射線硬化性樹脂からなり、且つ
前記該印刷絵柄層及び微細凹凸層が前記透明層を形成す
る電離放射線硬化性樹脂を塗工硬化すると同時に転写に
より形成されている化粧板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、各種家具類や建築
内装材の表面材として使用される内層に微細エンボス加
工による凹凸模様を有する、深みや立体感の意匠表現に
優れ、表面物性に優れた化粧板とその製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の化粧板としては、（１）
ポリ塩化ビニルフイルム等の熱可塑性樹脂フイルムの表
面に絵柄層を設けた後、絵柄層の上から特定の線群パタ
ーンからなる溝状凹凸模様を形成し、さらに溝状凹凸模
様の表面に透明な熱可塑性樹脂フイルムをドライラミネ
ートした化粧シートを接着剤で化粧板用基材に貼着した
もの。（２）化粧板用基材に接着された不飽和ポリエス
テル樹脂を含浸した隠蔽性用紙の上に、離型性支持体に
絵柄を印刷した後印刷絵柄層上にエンボス加工して凹凸
を賦型した転写シートを該転写シートの凹凸面と該不飽
和ポリエステル樹脂層とが接触するように積層し、この
積層物を加熱加圧したのち離型性支持体を剥離すること
により凹凸を有する絵柄層を該隠蔽性用紙上に転写し、
次いでこの転写層上に不飽和ポリエステル樹脂を塗布し
て一体成形したもの等がある。

【０００３】しかし、（１）の熱可塑性樹脂からなる化
粧板の場合、ドライラミネート時の接着剤中の残留溶剤
により溝状凹凸模様のシャープさが低下する上に、表面
の透明層が熱可塑性樹脂フイルムの為、耐擦傷性、耐汚
染性等の表面性能及び耐熱性に劣るものであり、（２）
の不飽和ポリエステル樹脂を用いたポリエステル化粧板
の場合、表面層の物性においては、耐擦傷性、耐溶剤
性、耐化学薬品性等に優れたものであるが、不飽和ポリ
エステル樹脂の硬化時間が長く、製造工程的にも生産性
が悪いものであり、また隠蔽性用紙に含浸した不飽和ポ
リエステル樹脂層と表面層の不飽和ポリエステル樹脂層
との接着が不安定であるという問題を有するものであっ
た。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる問題点
に鑑みてなされたものであって、その目的とするところ
は、内部に微細凹凸模様を有する立体感のある意匠性の
高い化粧板を提供するとともに、その意匠性に優れた化
粧板を生産性良く、品質物性の安定した化粧板を製造す
るその製造方法を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の解決手段は、化粧板用基材の上面に、接着剤
層、化粧シート層、透明層、印刷絵柄層及び微細凹凸
層、トップコート層が順次積層された化粧板において、
前記透明層及びトップコート層が電離放射線硬化性樹脂
からなり、且つ前記印刷絵柄層及び微細凹凸層が前記透
明層を形成する電離放射線硬化性樹脂を塗工硬化すると
同時に転写により形成されている化粧板とすることであ
る。このような構成とすることにより、透明な電離放射
線硬化性樹脂層が２層以上からなり、その最上層以外の
少なくとも１層の表面に印刷絵柄層および微細凹凸層が
形成されているため、内部に微細凹凸模様を有する立体
感と深みのある化粧板とすることが出来る。またトップ
コート層が電離放射線硬化性樹脂よりなるため、耐擦傷
性、耐汚染性等の表面性能に優れたものとなる。

【０００６】また、化粧板用基材の上面に、着色層、透
明層、印刷絵柄層及び微細凹凸層、トップコート層が順
次積層された化粧板において、前記透明層及びトップコ
ート層が電離放射線硬化性樹脂からなり、且つ前記印刷
絵柄層及び微細凹凸層が前記前記透明層を形成する電離
放射線硬化性樹脂を塗工硬化すると同時に転写により形
成されている化粧板とすることである。こうすることに
より、化粧板用基材の上面に化粧シートを用いることな
く着色層を設け、転写方式で、印刷絵柄層及び微細凹凸
層が形成されているため流し台、浴室等の水回りに用い
ても密着性の低下もなく、ガスコンロ回りに用いても耐
熱性、耐防火性のない化粧板とすることができる。

【０００７】さらに、前記トップコート層を形成する樹
脂がフッ素基を含有する電離放射線硬化性樹脂よりなる
ことを特徴とするものである。こうすることにより、化
粧板表面の耐汚染性が向上し乾拭きにて簡単に汚れを拭
き取ることが可能となる。

【０００８】また、電離放射線透過性を有する転写シー
ト基材の一方の面に印刷絵柄層を形成し、かつ該印刷絵
柄層上にエンボス加工して微細凹凸を賦型した転写シー
トを準備する工程、化粧板用基材の面に接着剤層を介し
て化粧シートを貼着するか、或いは着色層を塗装する工
程、前記化粧シート層面、或いは着色層面に電離放射線
硬化性樹脂を塗装し透明層を形成する工程、前記転写シ
ートの印刷絵柄層及び微細凹凸面を前記透明層面に接す
るように載置し前記転写シートの電離放射線透過性を有
する転写シート基材面より電離放射線を照射し前記透明
層を形成する電離放射線硬化性樹脂を半硬化する工程、
前記転写シートの転写シート基材を剥離することにより
前記透明層面に印刷絵柄層及び微細凹凸面を形成する工
程、前記印刷絵柄層及び微細凹凸面に電離放射線硬化性
樹脂を塗工し、電離放射線を照射硬化することによりト
ップコート層を形成する工程からなることを特徴とする
化粧板の製造方法とすることにより、上記のような効果
を有する表面が電離放射線硬化性樹脂からなる化粧板が
容易に確実に製造できるものである。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施形態
を図面を参照しながら説明する。図１は本発明の化粧板
の実施形態の積層構成を示す断面図、図２は本発明の化
粧板の他の実施形態の積層構成を示す断面図、図３は本
発明の化粧板の製造方法の一例を説明する実施形態の積
層構成を示す断面図であり、１、１’は化粧板、２は化
粧板用基材、３は接着剤層、４は化粧シート層、４ａは
基体シート、４ｂは印刷インキ層、５は着色層、５ａは
シーラー層、５ｂはベースコート層、６は透明層、７は
印刷絵柄層、８は微細凹凸部、９はトップコート層、１
０は転写シート、１１は転写シート基材、１２は電離放
射線硬化性樹脂、Ｒは電離放射線をそれぞれ表してい
る。

【００１０】本発明の化粧板１の構成は図１に示すよう
に、化粧板用基材２の上面に接着剤層３を介して化粧シ
ート層４を積層し、その上に電離放射線硬化性樹脂によ
り形成された透明層６を介して印刷絵柄層７及び微細凹
凸層８を設け、さらにその上面に同じく電離放射線硬化
性樹脂よりなるトップコート層９が積層された構成から
なる。印刷絵柄層７及び微細凹凸層８は化粧板用基材２
の上面に接着剤層３を介して積層した化粧シート層４の
上面に塗工した電離放射線硬化性樹脂１２を半硬化する
と同時に転写形成され、更に該印刷絵柄層７及び微細凹
凸層８の上面に電離放射線硬化性樹脂よりなるトップコ
ート層９を設けたことを特徴とする。

【００１１】また、図２は本発明の他の実施例の化粧板
１’を示すもので、図１に示す化粧板１の化粧シート層
４をシーラー層５ａとベースコート層５ｂよりなる着色
層５とした構成であり、該着色層５面に電離放射線硬化
性樹脂１２により形成された透明層６を介して印刷絵柄
層７と微細凹凸部８を設け、さらにその上面に同じく電
離放射線硬化性樹脂よりなるトップコート層９が積層さ
れた構成からなる。

【００１２】次に、化粧板１について図面を用いて説明
する。先ず、図３（イ）、（ロ）に示すように、電離放
射線透過性を有する転写シート基材１１の片面に印刷絵
柄層７を設け、この印刷絵柄層７面にエンボス加工によ
り凹凸を賦形し、印刷絵柄層７面に微細凹凸８を形成し
た転写シート１０を準備する。次に、図３（ハ）に示す
ような、化粧板用基材２の上面に接着剤層３を介して基
体シート４ａの上面に印刷インキ層４ｂを設けた化粧シ
ート４を貼着した。次に、図３（ニ）に示すように、化
粧板用基材２の上面の化粧シート４面に電離放射線硬化
性樹脂１２を塗工し、続いて図３（ホ）に示すように、
該転写シート１０の印刷絵柄層７および微細凹凸８面を
化粧板用基材２の表面に設けられた電離放射線硬化性樹
脂１２面に重ねあわせ、前記転写シート１０の電離放射
線透過性を有する転写シート基材１１面より電離放射線
Ｒを照射し、前記電離放射線硬化性樹脂１２を半硬化す
る。次いで、図３（ヘ）に示すように、前記転写シート
１０の転写シート基材１１を剥離し化粧板用基材２の上
面に印刷絵柄層７を設ける。さらに、図３（ト）に示す
ように、該印刷絵柄層７および微細凹凸８を含む化粧板
用基材２の上面に電離放射線硬化性樹脂１２を塗工し、
電離放射線Ｒを照射し硬化することによって、図１に示
すような、電離放射線硬化性樹脂により形成されたトッ
プコート層９を有する化粧板１が得られる。

【００１３】本発明の化粧板１、１’に使用される化粧
板用基材２は、化粧板に必要な厚さおよび強度を与える
ためのもので、木質系、無機質系いずれでもよいもので
あるが、主に、化粧板１には木質系基材が、化粧板１’
には無機質系基材が適しているものである。木質系基材
としては、例えば合板、パーティクルボード、中密度繊
維板、無機質系基材としては、例えば珪酸カルシウム
板、石綿スレート板、軽量発泡コンクリート板、中空押
出セメント板等のセメント板、石膏板、石膏スラグ板等
の石膏系板、パルプセメント板、石綿セメント板、木片
セメント板等の繊維セメント板が挙げられる。

【００１４】化粧板用基材２上に積層される化粧シート
４の基体シート層４ａとしては、例えば、薄葉紙、晒ク
ラフト紙、チタン紙、板紙、石膏ボード紙等の紙、ポリ
エチレンフイルム、ポリプロピレンフイルム、ポリ塩化
ビニルフイルム、ポリエチレンテレフタレートフイル
ム、ポリカーボネートフイルム、ナイロンフイルム等の
プラスチックフイルム等の単層あるいは２種類以上の複
数層からなるものであり、特に重さが２０〜８０ｇ／ｍ
² の薄葉紙が、価格が安価であるだけでなく、表面が平
滑で印刷適性に優れている点から好ましく用いられる。

【００１５】また、基体シート層４ａには、顔料又は染
料の練り込みによる着色インキによるベタインキ層、及
び、例えば、木目、石目、布目、皮絞、文字、図形等の
模様を現出する絵柄インキ層等からなる印刷インキ層４
ｂがグラビア印刷、オフセット印刷またはスクリーン印
刷等の通常の印刷方式によって形成されたものを用いる
ことができる。

【００１６】着色層５は、化粧板用基材２が無機質系基
材からなるときは、基材からのアルカリ成分溶出の防止
のため、及び前記無機質系基材と透明層６の密着性の向
上を目的として設けられるものであり、その構成は任意
で、前記の両方の物性を備えた樹脂組成による一層構成
としてもよいことは勿論であるが、品質性能を高める方
法として、アルカリ成分溶出の防止のためにポリイソシ
アネート系樹脂、湿気硬化型ウレタン系樹脂、スチレン
−アクリル酸エステル共重合樹脂等の硬化性樹脂よりな
るシーラー層５ａ、無機質系基材の表面への透明層６の
密着性の向上を目的とするアクリルウレタン系樹脂、メ
タクリル酸エステル系樹脂塗料等よりなるプライマー層
５ｂからなる２層構成とすることが望ましいものであ
る。更に、プライマー層５ｂを着色、不透明にすること
により、隠蔽性を持たせ、基材上に形成される印刷絵柄
層７が被貼合せ基材の色の影響を受けなくすることが可
能である。

【００１７】化粧板１、１’に印刷絵柄層７及び微細凹
凸層８を形成するための転写シート１０の構成として
は、図３（イ）に示されているように、電離放射線透過
性を有する転写シート基材１１面に任意の印刷絵柄層７
を積層したのち、図３（ロ）に示すように該印刷絵柄層
７面にエンボス加工により微細凹凸模様８を賦形したも
のである。電離放射線透過性を有する転写シート基材１
１としては、使用する電離放射線を透過可能であり、か
つ、硬化した電離放射線硬化性樹脂と離型可能な材質で
あれば良い。電離放射線透過性を有する転写シート基材
１１の材質としては、電離放射線が紫外線の場合は、ポ
リエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂、
ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、エチレン−酢
酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合
体等のビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリ
メタアクリル酸メチル、ポリメタアクリル酸エチル、ポ
リメタアクリル酸ブチル等のアクリル系樹脂、ナイロン
６、ナイロン６６等のポリアミド系樹脂等の延伸フイル
ム、またはシートが挙げられ上記材質の単層又は複層の
ものが使用でき、紫外線の透過を阻害する着色料等を含
まないものが好ましい。電離放射線が電子線の場合は、
電子線の透過性が高いので特に制約はなく、上記の紫外
線を透過するシートのみならず、紙に至るまでも使用で
きる。従って、印刷適性、転写時の適性を重点的にした
選択が可能であり、転写シート基材１１の厚みは、１０
〜１００μｍのものが好ましく用いられる。

【００１８】印刷絵柄層７を形成する印刷インキは、硝
化綿／アルキッド系、セルロース系、塩化ビニル系、塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体系、アクリル系、ポリエ
ステル系、ポリアミド系、ウレタン系等溶剤系バインダ
ー樹脂を利用したものが用いられ、内部凹凸の効果をよ
り表現するためには、パール顔料や金属粉などの光輝性
顔料を添加したものをインキとして用いるか、あるいは
蒸着などによる金属光沢を設けることが好ましい。

【００１９】エンボス加工は、対象の材料に加熱および
加圧下にエンボス版の凹凸を賦型することをいい、例え
ばプレス機、ロールエンボス機などの公知の種々のエン
ボス機を用いて行うことができる。このためには、例え
ばポリエチレンテレフタレートフイルム上にポリエチレ
ン樹脂を溶融コーティングした転写シート基材１１を作
製し、この樹脂層上に絵柄を印刷したのち、この印刷面
にエンボス加工により凹凸を賦形するとよい。エンボス
の形状としては、公知の種々の凹凸、艶のものを使用で
きる。例えば木目、石目、布目、砂目などの天然の凹凸
形状を模写したもの、文字記号、万線、各種の抽象模
様、各種の艶消し表面、鏡面光沢などがあげられる。特
に好ましいものは、平行な直線群又は曲線群を形成する
凹凸ないし溝を閉曲線領域の中に含む凹凸形状の集合体
であって、任意の２領域の境界を介して隣接する直線群
又は曲線群の方向のなす角度が総て異なる形状を有する
精密万線版である。この形状は各閉領域が異なる艶の模
様に見え、視差によって各閉領域の光沢が変化する意匠
を有する。特に、平行な直線群又は曲線群を光沢の変化
の模様として認識するためには、線の深さ及び間隔が
０．１〜１００μｍで、隣接する直線群又は曲線群の方
向のなす角度が５°以上であることが望ましい。任意の
２領域の境界を介して隣接する直線群又は曲線群の方向
のなす角度を総て変えるには、位相幾何学の４色問題の
定理から、４種類の角度が必要十分条件である。

【００２０】透明層６、トップコート層９を形成する電
離放射線硬化性樹脂は、分子中に、（メタ）アクリロイ
ル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等のラジカル重合
性不飽和基、又はエポキシ基等のカチオン重合性官能基
を有する単量体、プレポリマー又はポリマー（以下、こ
れらを総称して化合物と呼称する）からなる。これら単
量体、プレポリマー、及びポリマーは、単体で用いる
か、或いは複数種混合して用いる。尚、本明細書で（メ
タ）アクリレートとは、アクリレート又はメタアクリレ
ートの意味で用いる。

【００２１】ラジカル重合性不飽和基を有するプレポリ
マーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウ
レタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリ
レート、メラミン（メタ）アクリレート、トリアジン
（メタ）アクリレート、ポリビニルピロリドン等が挙げ
られる。このプレポリマーは、通常、分子量が１０００
０程度以下のものが用いられる。分子量が１００００を
超えると硬化した樹脂層の耐擦傷性、耐摩耗性、耐薬品
性、耐熱性等の表面物性が不足する。上記のアクリレー
トとメタアクリレートは共用し得るが、電離放射線での
架橋硬化速度という点ではアクリレートの方が速い為、
高速度、短時間で能率よく硬化させるという目的ではア
クリレートの方が有利である。

【００２２】カチオン重合性官能基を有するプレポリマ
ーとしては、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラッ
ク型エポキシ樹脂、脂環型エポキシ樹脂等のエポキシ系
樹脂、脂肪族系ビニルエーテル、芳香族系ビニルエーテ
ル、ウレタン系ビニルエーテル、エステル系ビニルエー
テル等のビニルエーテル系樹脂、環状エーテル化合物、
スピロ化合物等のプレポリマーが挙げられる。

【００２３】ラジカル重合性不飽和基を有する単量体の
例としては、（メタ）アクリレート化合物の単官能単量
体として、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メ
タ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、メト
キシエチル（メタ）アクリレート、メトキシブチル（メ
タ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２エチルヘキシル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノメチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−
ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−
ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ
−ジベンジルアミノエチル（メタ）アクリレート、ラウ
リル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリ
レート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フ
ェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリ
エチレングリコール（メタ）アクリレート、テトラヒド
ロフルフリル（メタ）アクリレート、メトキシプロピレ
ングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アク
リロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレ
ート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイド
ロゲンテレフタレート等が挙げられる。

【００２４】また、ラジカル重合性不飽和基を有する多
官能単量体として、エチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロ
ピレングリコール（メタ）アクリレート、ネオペンチル
グリコールジ（メタ）アクリレート、１，６ヘキサンジ
オールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオー
ルジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ビスフェノール−Ａ−ジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオ
キサイドトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール
テトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンポリエチレン
オキサイドトリ（メタ）アクリレート、トリス（メタ）
アクリロイルオキシエチルフォスフェ−ト等が挙げられ
る。

【００２５】カチオン重合性官能基を有する単量体は、
上記カチオン重合性官能基を有するプレポリマーの単量
体を用いることができる。

【００２６】電離放射線硬化性樹脂を紫外線又は可視光
線で硬化させる場合には、光重合開始剤を添加する。ラ
ジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合の光重合開
始剤は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキ
サントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、
ミヒラーベンゾイルベンゾエート、ミヒラーケトン、ジ
フェニルサルファイド、ジベンジルジサルファイド、ジ
エチルオキサイト、トリフェニルビイミダゾール、イソ
プロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンゾエート等を単
独又は混合して用いることができる。又、カチオン重合
性官能基を有する樹脂系の場合は、芳香族ジアゾニウム
塩、芳香族スルホニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾ
インスルホン酸エステル、フリールオキシスルホキソニ
ウムジアリルヨードシル塩等を単独又は混合物として用
いることができる。尚、これら光開始剤の添加量は一般
に、電離放射線硬化性樹脂１００重量部にたいして、
０．１〜１０重量部程度である。

【００２７】また、本発明のトップコート層９に用いら
れるフッ素系添加剤としては、分子中のアルキル基の水
素原子がすべてフッ素原子に置換したパーフロロアルキ
ルと親水性基もしくは親油性基をもつ界面活性剤であ
る。そして、このパーフロロアルキル基の表面移行性を
利用して樹脂の表面改質を行うものであって、同一分子
内においてパーフロロアルキル基を集合化させ表面配向
性を向上させたものであり、少量の添加で樹脂表面に移
行し、樹脂表面をフッ素改質し、表面耐汚染性の向上に
有効である。

【００２８】本発明において用いる電離放射線Ｒは、電
磁波または荷電粒子線のうち分子を重合、架橋し得るエ
ネルギー量子を有するものを意味し、可視光線、紫外線
（近紫外線、真空紫外線等）、Ｘ線、電子線、イオン線
等がある。通常は紫外線や電子線が用いられる。紫外線
源としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、
カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハラ
イドランプ灯の光源が使用できる。紫外線の波長として
は、通常１９００〜３８００Åの波長域が主として用い
られる。又、電子線源としては、コックロフトワルトン
型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器
型、或いは、直線型、ダイナミトロン型、高周波型灯の
各種電子線加速器を用い、１００〜１０００ＫｅＶ、好
ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーをもつ電子
を照射するものを使用できる。電離放射線の照射によ
り、電離放射線硬化性樹脂は架橋重合反応を起こし３次
元の高分子構造に変化する。

【００２９】電離放射線硬化性樹脂１２の塗工方法は、
グラビアコート、グラビアリバースコート、グラビアオ
フセットコート、スピンナーコート、ロールコート、リ
バースロールコート、キスコート、ホイラーコート、シ
ルクスクリーンによるベタコート、フローコート、スプ
レーコート等の公知の塗工手段を用いることができ、塗
工量としてはドライ時に５〜１００ｇ／ｍ² が適当であ
る。また、必要に応じて顔料や染料等を加えて着色して
もよい。

【００３０】

【実施例】

実施例１ 厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフイルムに
ポリエチレンを２０μｍに押出しコートして転写シート
用原反を得た。この原反にニトロセルロース系透明イン
キでベタ印刷したのち、ニトロセルロース系柄インキで
木目模様を印刷し、更にニトロセルロース系パールイン
キでベタ印刷した。得られたフイルムに印刷面から、溝
状凹凸模様として深さ２０μｍ、凸部間隔７０μｍで正
弦波状の平行曲線群からなる万線パターンを施したエン
ボスロールを使用してエンボス加工し転写シートを作製
した。別途、秤量３０ｇ／ｍ² の薄葉紙にニトロセルロ
ース系樹脂にイソシアネート硬化剤を添加した着色イン
キを用いてベタ印刷し紙質系化粧シートを作製した。次
いで、厚さ３ｍｍの中密度繊維板に２液硬化型酢ビ尿素
樹脂系接着剤を介して上記で得た紙質系化粧シートを貼
合せた後、該紙質系化粧シート面にウレタンアクリレー
ト系紫外線硬化型樹脂塗料を塗膜厚が５０〜６０μｍに
なるようにカーテンフローコーターで塗布し、直ちに該
ウレタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂塗料面に上記
転写シートの印刷絵柄面が対向するように載せ、８０ｗ
／ｃｍオゾンレス型紫外線ランプ１灯設置した照射装置
中を１５ｍ／ｍｉｎの速度で通過させ紫外線照射し、ウ
レタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂塗料を半硬化し
印刷絵柄層と微細凹凸層を転写した。前記転写シートの
転写シート基材を剥離後、印刷絵柄層と微細凹凸層面に
ウレタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂塗料を塗膜厚
が５０〜６０μｍになるようにカーテンフローコーター
で塗布し、８０ｗ／ｃｍオゾンレス型紫外線ランプ２灯
設置した照射装置中を１５ｍ／ｍｉｎの速度で通過させ
紫外線照射し、硬化させ、内層に印刷絵柄層と微細凹凸
層を有する立体感に優れた電離放射線硬化性樹脂化粧板
を得た。

【００３１】実施例２ 厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフイルムに
ポリエチレンを２０μｍに押出しコートして転写シート
用原反を得た。この原反にニトロセルロース系透明イン
キでベタ印刷したのち、ニトロセルロース系柄インキで
木目模様を印刷し、更にニトロセルロース系パールイン
キでベタ印刷した。得られたフイルムに印刷面から、溝
状凹凸模様として深さ２０μｍ、凸部間隔７０μｍで正
弦波状の平行曲線群からなる万線パターンを施したエン
ボスロールを使用してエンボス加工し転写シートを作製
した。別途、厚さ３ｍｍの珪酸カルシウム板にシーラー
層として湿気硬化型ウレタン系樹脂塗料を３０ｇ／ｍ²
塗布し、さらに、白色プライマー層としてアクリルウレ
タン系樹脂塗料を１００ｇ／ｍ² 塗工し、８０℃で２０
分間乾燥した。次いで、該白色プライマー層面にウレタ
ンアクリレート系紫外線硬化型樹脂塗料を塗膜厚が５０
〜６０μｍになるようにカーテンフローコーターで塗布
し、直ちに該ウレタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂
塗料面に上記転写シートの印刷絵柄面が対向するように
載せ、８０ｗ／ｃｍオゾンレス型紫外線ランプ１灯設置
した照射装置中を１５ｍ／ｍｉｎの速度で通過させ紫外
線照射し、ウレタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂塗
料を半硬化し印刷絵柄層と微細凹凸層を転写した。前記
転写シートの転写シート基材を剥離後、印刷絵柄層と微
細凹凸層面にウレタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂
塗料を塗膜厚が５０〜６０μｍになるようにカーテンフ
ローコーターで塗布し、８０ｗ／ｃｍオゾンレス型紫外
線ランプ２灯設置した照射装置中を１５ｍ／ｍｉｎの速
度で通過させ紫外線照射し、硬化させ、内層に印刷絵柄
層と微細凹凸層を有する立体感に優れた電離放射線硬化
性樹脂化粧板を得た。

【００３２】

【発明の効果】本発明は以上説明したように、化粧板用
基材の上面に化粧シート層、電離放射線硬化性樹脂より
なる透明層を介して印刷絵柄層および微細凹凸層が形成
され、さらに、前記印刷絵柄層および微細凹凸層の上面
に電離放射線硬化性樹脂によりトップコート層が形成さ
れているため、深みや奥行きのある立体感に優れた意匠
表現が可能となる。またトップコート層が電離放射線硬
化性樹脂であるため、耐擦傷性、耐汚染性等表面物性に
優れている。

【００３３】また、印刷紙を用いることなく化粧板用基
材の表面に着色層を設け転写によって直接絵柄印刷層が
設けられているため、流し台、浴室等の水回りに用いて
も密着性の低下もなく、ガスコンロ回りに用いても耐熱
性、耐防火性の問題もない化粧板とすることができ、キ
ッチンバックパネルとして用いることが出来る。

【００３４】また、トップコート層を形成する樹脂にフ
ッ素基を含有する電離放射線硬化性樹脂を用いることに
よって、化粧板表面の防汚染性がさらに向上し、乾拭き
にて簡単に汚れを拭き取ることができる化粧板を得るこ
とが出来る。

【００３５】さらに、化粧板用基材の上面に設けた透明
層を形成する電離放射線硬化性樹脂を半硬化の状態で印
刷絵柄層および微細凹凸層を転写し、その上からトップ
コート層用の電離放射線硬化性樹脂を塗工し、その後電
離放射線により完全硬化する製造方法のため、樹脂の硬
化時間も短く、生産性に優れている。また透明層とトッ
プコート層の密着性にも優れ、品質の安定した化粧板を
得ることが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の化粧板の実施例を示す積層断面図であ
る。

【図２】本発明の化粧板の他の実施例を示す積層断面図
である。

【図３】本発明の化粧板の製造方法の一例を説明する積
層断面図である。

【符号の説明】

１、１' 化粧板 ２ 化粧板用基材 ３ 接着剤層 ４ 化粧シート ４ａ 基体シート層 ４ｂ 印刷インキ層 ５ 着色層 ５ａ シーラー層 ５ｂ ベースコート層 ６ 透明層 ７ 印刷絵柄層 ８ 微細凹凸部 ９ トップコート層 １０ 転写シート １１ 転写シート基材 １２ 電離放射線硬化性樹脂層 Ｒ 電離放射線

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 化粧板用基材の上面に、接着剤層、化粧
   シート層、透明層、印刷絵柄層及び微細凹凸層、トップ
   コート層が順次積層された化粧板において、前記透明層
   及びトップコート層が電離放射線硬化性樹脂からなり、
   且つ前記印刷絵柄層及び微細凹凸層が前記透明層を形成
   する電離放射線硬化性樹脂を塗工硬化すると同時に転写
   により形成されていることを特徴とする化粧板。
2. 【請求項２】 化粧板用基材の上面に、着色層、透明
   層、印刷絵柄層及び微細凹凸層、トップコート層が順次
   積層された化粧板において、前記透明層及びトップコー
   ト層が電離放射線硬化性樹脂からなり、且つ前記印刷絵
   柄層及び微細凹凸層が前記透明層を形成する電離放射線
   硬化性樹脂を塗工硬化すると同時に転写により形成され
   ていることを特徴とする化粧板。
3. 【請求項３】 前記トップコート層を形成する樹脂がフ
   ッ素基を含有する電離放射線硬化性樹脂よりなることを
   特徴とする請求項１、２記載の化粧板。
4. 【請求項４】 電離放射線透過性を有する転写シート基
   材の一方の面に印刷絵柄層を形成し、かつ該印刷絵柄層
   上にエンボス加工して微細凹凸を賦型した転写シートを
   準備する工程、化粧板用基材の面に接着剤層を介して化
   粧シートを貼着するか、或いは着色層を塗装する工程、
   前記化粧シート層面、或いは着色層面に電離放射線硬化
   性樹脂を塗装し透明層を形成する工程、前記転写シート
   の印刷絵柄層及び微細凹凸面を前記透明層面に接するよ
   うに載置し前記転写シートの電離放射線透過性を有する
   転写シート基材面より電離放射線を照射し前記透明層を
   形成する電離放射線硬化性樹脂を半硬化する工程、前記
   転写シートの転写シート基材を剥離することにより前記
   透明層面に印刷絵柄層及び微細凹凸面を形成する工程、
   前記印刷絵柄層及び微細凹凸面に電離放射線硬化性樹脂
   を塗工し、電離放射線を照射硬化することによりトップ
   コート層を形成する工程からなることを特徴とする化粧
   板の製造方法。