JP3923609B2 - 化粧板およびその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、各種家具類や建築内装材の表面材として使用される内層に微細エンボス加工による凹凸模様を有する、深みや立体感の意匠表現に優れ、表面物性に優れた化粧板とその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種の化粧板としては、(1)ポリ塩化ビニルフイルム等の熱可塑性樹脂フイルムの表面に絵柄層を設けた後、絵柄層の上から特定の線群パターンからなる溝状凹凸模様を形成し、さらに溝状凹凸模様の表面に透明な熱可塑性樹脂フイルムをドライラミネートした化粧シートを接着剤で化粧板用基材に貼着したもの。(2)化粧板用基材に接着された不飽和ポリエステル樹脂を含浸した隠蔽性用紙の上に、離型性支持体に絵柄を印刷した後印刷絵柄層上にエンボス加工して凹凸を賦型した転写シートを該転写シートの凹凸面と該不飽和ポリエステル樹脂層とが接触するように積層し、この積層物を加熱加圧したのち離型性支持体を剥離することにより凹凸を有する絵柄層を該隠蔽性用紙上に転写し、次いでこの転写層上に不飽和ポリエステル樹脂を塗布して一体成形したもの等がある。
【0003】
しかし、(1)の熱可塑性樹脂からなる化粧板の場合、ドライラミネート時の接着剤中の残留溶剤により溝状凹凸模様のシャープさが低下する上に、表面の透明層が熱可塑性樹脂フイルムの為、耐擦傷性、耐汚染性等の表面性能及び耐熱性に劣るものであり、(2)の不飽和ポリエステル樹脂を用いたポリエステル化粧板の場合、表面層の物性においては、耐擦傷性、耐溶剤性、耐化学薬品性等に優れたものであるが、不飽和ポリエステル樹脂の硬化時間が長く、製造工程的にも生産性が悪いものであり、また隠蔽性用紙に含浸した不飽和ポリエステル樹脂層と表面層の不飽和ポリエステル樹脂層との接着が不安定であるという問題を有するものであった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、内部に微細凹凸模様を有する立体感のある意匠性の高い化粧板を提供するとともに、その意匠性に優れた化粧板を生産性良く、品質物性の安定した化粧板を製造するその製造方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本発明の解決手段は、化粧板用基材の上面に、接着剤層、化粧シート層、微細凹凸形状の表面を備えた透明層、該透明層の微細凹凸形状の表面に沿って設けられた印刷絵柄層、トップコート層が順次積層された化粧板において、前記透明層及びトップコート層が電離放射線硬化性樹脂からなり、且つ前記印刷絵柄層が前記透明層を形成する電離放射線硬化性樹脂を塗工した後にその塗工表面に微細凹凸形状を賦型しつつ硬化すると共に転写により微細凹凸形状を賦型された透明層の表面に沿って形成されている化粧板とすることである。このような構成とすることにより、透明な電離放射線硬化性樹脂層が2層以上からなり、その最上層以外の少なくとも1層の表面に印刷絵柄層および微細凹凸層が形成されているため、内部に微細凹凸模様を有する立体感と深みのある化粧板とすることが出来る。またトップコート層が電離放射線硬化性樹脂よりなるため、耐擦傷性、耐汚染性等の表面性能に優れたものとなる。
【0006】
また、化粧板用基材の上面に、着色層、微細凹凸形状の表面を備えた透明層、該透明層の微細凹凸形状の表面に沿って設けられた印刷絵柄層、トップコート層が順次積層された化粧板において、前記透明層及びトップコート層が電離放射線硬化性樹脂からなり、且つ前記印刷絵柄層が前記透明層を形成する電離放射線硬化性樹脂を塗工した後にその塗工表面に微細凹凸形状を賦型しつつ硬化すると共に転写により微細凹凸形状を賦型された透明層の表面に沿って形成されている化粧板とすることである。こうすることにより、化粧板用基材の上面に化粧シートを用いることなく着色層を設け、転写方式で、透明層の微細凹凸形状の表面に沿って設けられた印刷絵柄層が形成されているため流し台、浴室等の水回りに用いても密着性の低下もなく、ガスコンロ回りに用いても耐熱性、耐防火性のない化粧板とすることができる。
【0007】
さらに、前記トップコート層を形成する樹脂がフッ素基を含有する電離放射線硬化性樹脂よりなることを特徴とするものである。こうすることにより、化粧板表面の耐汚染性が向上し乾拭きにて簡単に汚れを拭き取ることが可能となる。
【0008】
また、電離放射線透過性を有する平坦な転写シート基材の一方の面に印刷絵柄層を形成し、かつ該印刷絵柄層を設けた側の平坦な面に対しエンボス加工して微細凹凸を賦型し、微細凹凸形状の表面を備え且つこの微細凹凸形状の表面に沿って印刷絵柄層が設けられた転写シートを準備する工程、化粧板用基材の面に接着剤層を介して化粧シートを貼着するか、或いは着色層を塗装する工程、前記化粧シート層面、或いは着色層面に電離放射線硬化性樹脂を塗装し平坦な透明層を形成する工程、前記転写シートの微細凹凸形状の表面を備え且つこの微細凹凸形状の表面に沿って印刷絵柄層が設けられた前記平坦な透明層面に接するように載置し前記転写シートの電離放射線透過性を有する転写シート基材面より電離放射線を照射し前記透明層を形成する電離放射線硬化性樹脂に転写シートの微細凹凸形状に同調した微細凹凸形状を賦型しつつ半硬化させ、前記転写シートの印刷絵柄層を残して転写シート基材を剥離することにより前記透明層に印刷絵柄層を備えた微細凹凸形状の表面を形成する工程、前記印刷絵柄層が設けられた微細凹凸形状の表面に電離放射線硬化性樹脂を塗工し、電離放射線を照射硬化することによりトップコート層を形成する工程からなることを特徴とする化粧板の製造方法とすることにより、上記のような効果を有する表面が電離放射線硬化性樹脂からなる化粧板が容易に確実に製造できるものである。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の具体的な実施形態を図面を参照しながら説明する。
図1は本発明の化粧板の実施形態の積層構成を示す断面図、図2は本発明の化粧板の他の実施形態の積層構成を示す断面図、図3は本発明の化粧板の製造方法の一例を説明する実施形態の積層構成を示す断面図であり、1、1’は化粧板、2は化粧板用基材、3は接着剤層、4は化粧シート層、4aは基体シート、4bは印刷インキ層、5は着色層、5aはシーラー層、5bはベースコート層、6は透明層、7は印刷絵柄層、8は微細凹凸部、9はトップコート層、10は転写シート、11は転写シート基材、12は電離放射線硬化性樹脂、Rは電離放射線をそれぞれ表している。
【0010】
本発明の化粧板1の構成は図1に示すように、化粧板用基材2の上面に接着剤層3を介して化粧シート層4を積層し、その上に電離放射線硬化性樹脂により形成された透明層6を介して印刷絵柄層7及び微細凹凸層8を設け、さらにその上面に同じく電離放射線硬化性樹脂よりなるトップコート層9が積層された構成からなる。印刷絵柄層7及び微細凹凸層8は化粧板用基材2の上面に接着剤層3を介して積層した化粧シート層4の上面に塗工した電離放射線硬化性樹脂12を半硬化すると同時に転写形成され、更に該印刷絵柄層7及び微細凹凸層8の上面に電離放射線硬化性樹脂よりなるトップコート層9を設けたことを特徴とする。
【0011】
また、図2は本発明の他の実施例の化粧板1’を示すもので、図1に示す化粧板1の化粧シート層4をシーラー層5aとベースコート層5bよりなる着色層5とした構成であり、該着色層5面に電離放射線硬化性樹脂12により形成された透明層6を介して印刷絵柄層7と微細凹凸部8を設け、さらにその上面に同じく電離放射線硬化性樹脂よりなるトップコート層9が積層された構成からなる。
【0012】
また、電離放射線透過性を有する平坦な転写シート基材の一方の面に印刷絵柄
次に、化粧板1について図面を用いて説明する。先ず、図3(イ)、(ロ)に示すように、電離放射線透過性を有する転写シート基材11の片面に印刷絵柄層7を設け、この印刷絵柄層7面にエンボス加工により凹凸を賦形し、印刷絵柄層7面に微細凹凸8を形成した転写シート10を準備する。次に、図3(ハ)に示すような、化粧板用基材2の上面に接着剤層3を介して基体シート4aの上面に印刷インキ層4bを設けた化粧シート4を貼着した。次に、図3(ニ)に示すように、化粧板用基材2の上面の化粧シート4面に電離放射線硬化性樹脂12を塗工し、続いて図3(ホ)に示すように、該転写シート10の印刷絵柄層7および微細凹凸8面を化粧板用基材2の表面に設けられた電離放射線硬化性樹脂12面に重ねあわせ、前記転写シート10の電離放射線透過性を有する転写シート基材11面より電離放射線Rを照射し、前記電離放射線硬化性樹脂12に微細凹凸形状を賦型しつつ半硬化する。次いで、図3(ヘ)に示すように、前記転写シート10の転写シート基材11を剥離し化粧板用基材2の上面に印刷絵柄層7を設ける。さらに、図3(ト)に示すように、該印刷絵柄層7および微細凹凸8を含む化粧板用基材2の上面に電離放射線硬化性樹脂12を塗工し、電離放射線Rを照射し硬化することによって、図1に示すような、電離放射線硬化性樹脂により形成されたトップコート層9を有する化粧板1が得られる。
【0013】
本発明の化粧板1、1’に使用される化粧板用基材2は、化粧板に必要な厚さおよび強度を与えるためのもので、木質系、無機質系いずれでもよいものであるが、主に、化粧板1には木質系基材が、化粧板1’には無機質系基材が適しているものである。木質系基材としては、例えば合板、パーティクルボード、中密度繊維板、無機質系基材としては、例えば珪酸カルシウム板、石綿スレート板、軽量発泡コンクリート板、中空押出セメント板等のセメント板、石膏板、石膏スラグ板等の石膏系板、パルプセメント板、石綿セメント板、木片セメント板等の繊維セメント板が挙げられる。
【0014】
化粧板用基材2上に積層される化粧シート4の基体シート層4aとしては、例えば、薄葉紙、晒クラフト紙、チタン紙、板紙、石膏ボード紙等の紙、ポリエチレンフイルム、ポリプロピレンフイルム、ポリ塩化ビニルフイルム、ポリエチレンテレフタレートフイルム、ポリカーボネートフイルム、ナイロンフイルム等のプラスチックフイルム等の単層あるいは2種類以上の複数層からなるものであり、特に重さが20〜80g/m2 の薄葉紙が、価格が安価であるだけでなく、表面が平滑で印刷適性に優れている点から好ましく用いられる。
【0015】
また、基体シート層4aには、顔料又は染料の練り込みによる着色インキによるベタインキ層、及び、例えば、木目、石目、布目、皮絞、文字、図形等の模様を現出する絵柄インキ層等からなる印刷インキ層4bがグラビア印刷、オフセット印刷またはスクリーン印刷等の通常の印刷方式によって形成されたものを用いることができる。
【0016】
着色層5は、化粧板用基材2が無機質系基材からなるときは、基材からのアルカリ成分溶出の防止のため、及び前記無機質系基材と透明層6の密着性の向上を目的として設けられるものであり、その構成は任意で、前記の両方の物性を備えた樹脂組成による一層構成としてもよいことは勿論であるが、品質性能を高める方法として、アルカリ成分溶出の防止のためにポリイソシアネート系樹脂、湿気硬化型ウレタン系樹脂、スチレン−アクリル酸エステル共重合樹脂等の硬化性樹脂よりなるシーラー層5a、無機質系基材の表面への透明層6の密着性の向上を目的とするアクリルウレタン系樹脂、メタクリル酸エステル系樹脂塗料等よりなるプライマー層5bからなる2層構成とすることが望ましいものである。更に、プライマー層5bを着色、不透明にすることにより、隠蔽性を持たせ、基材上に形成される印刷絵柄層7が被貼合せ基材の色の影響を受けなくすることが可能である。
【0017】
化粧板1、1’に印刷絵柄層7及び微細凹凸層8を形成するための転写シート10の構成としては、図3(イ)に示されているように、電離放射線透過性を有する転写シート基材11面に任意の印刷絵柄層7を積層したのち、図3(ロ)に示すように該印刷絵柄層7面にエンボス加工により微細凹凸模様8を賦形したものである。電離放射線透過性を有する転写シート基材11としては、使用する電離放射線を透過可能であり、かつ、硬化した電離放射線硬化性樹脂と離型可能な材質であれば良い。電離放射線透過性を有する転写シート基材11の材質としては、電離放射線が紫外線の場合は、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体等のビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリメタアクリル酸メチル、ポリメタアクリル酸エチル、ポリメタアクリル酸ブチル等のアクリル系樹脂、ナイロン6、ナイロン66等のポリアミド系樹脂等の延伸フイルム、またはシートが挙げられ上記材質の単層又は複層のものが使用でき、紫外線の透過を阻害する着色料等を含まないものが好ましい。電離放射線が電子線の場合は、電子線の透過性が高いので特に制約はなく、上記の紫外線を透過するシートのみならず、紙に至るまでも使用できる。従って、印刷適性、転写時の適性を重点的にした選択が可能であり、転写シート基材11の厚みは、10〜100μmのものが好ましく用いられる。
【0018】
印刷絵柄層7を形成する印刷インキは、硝化綿/アルキッド系、セルロース系、塩化ビニル系、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体系、アクリル系、ポリエステル系、ポリアミド系、ウレタン系等溶剤系バインダー樹脂を利用したものが用いられ、内部凹凸の効果をより表現するためには、パール顔料や金属粉などの光輝性顔料を添加したものをインキとして用いるか、あるいは蒸着などによる金属光沢を設けることが好ましい。
【0019】
エンボス加工は、対象の材料に加熱および加圧下にエンボス版の凹凸を賦型することをいい、例えばプレス機、ロールエンボス機などの公知の種々のエンボス機を用いて行うことができる。このためには、例えばポリエチレンテレフタレートフイルム上にポリエチレン樹脂を溶融コーティングした転写シート基材11を作製し、この樹脂層上に絵柄を印刷したのち、この印刷面にエンボス加工により凹凸を賦形するとよい。エンボスの形状としては、公知の種々の凹凸、艶のものを使用できる。例えば木目、石目、布目、砂目などの天然の凹凸形状を模写したもの、文字記号、万線、各種の抽象模様、各種の艶消し表面、鏡面光沢などがあげられる。特に好ましいものは、平行な直線群又は曲線群を形成する凹凸ないし溝を閉曲線領域の中に含む凹凸形状の集合体であって、任意の2領域の境界を介して隣接する直線群又は曲線群の方向のなす角度が総て異なる形状を有する精密万線版である。この形状は各閉領域が異なる艶の模様に見え、視差によって各閉領域の光沢が変化する意匠を有する。特に、平行な直線群又は曲線群を光沢の変化の模様として認識するためには、線の深さ及び間隔が0.1〜100μmで、隣接する直線群又は曲線群の方向のなす角度が5°以上であることが望ましい。任意の2領域の境界を介して隣接する直線群又は曲線群の方向のなす角度を総て変えるには、位相幾何学の4色問題の定理から、4種類の角度が必要十分条件である。
【0020】
透明層6、トップコート層9を形成する電離放射線硬化性樹脂は、分子中に、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基等のラジカル重合性不飽和基、又はエポキシ基等のカチオン重合性官能基を有する単量体、プレポリマー又はポリマー(以下、これらを総称して化合物と呼称する)からなる。これら単量体、プレポリマー、及びポリマーは、単体で用いるか、或いは複数種混合して用いる。尚、本明細書で(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタアクリレートの意味で用いる。
【0021】
ラジカル重合性不飽和基を有するプレポリマーとしては、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、トリアジン(メタ)アクリレート、ポリビニルピロリドン等が挙げられる。このプレポリマーは、通常、分子量が10000程度以下のものが用いられる。分子量が10000を超えると硬化した樹脂層の耐擦傷性、耐摩耗性、耐薬品性、耐熱性等の表面物性が不足する。上記のアクリレートとメタアクリレートは共用し得るが、電離放射線での架橋硬化速度という点ではアクリレートの方が速い為、高速度、短時間で能率よく硬化させるという目的ではアクリレートの方が有利である。
【0022】
カチオン重合性官能基を有するプレポリマーとしては、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環型エポキシ樹脂等のエポキシ系樹脂、脂肪族系ビニルエーテル、芳香族系ビニルエーテル、ウレタン系ビニルエーテル、エステル系ビニルエーテル等のビニルエーテル系樹脂、環状エーテル化合物、スピロ化合物等のプレポリマーが挙げられる。
【0023】
ラジカル重合性不飽和基を有する単量体の例としては、(メタ)アクリレート化合物の単官能単量体として、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシブチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、2エチルヘキシル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノメチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、N,N−ジベンジルアミノエチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イソボニル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、メトキシプロピレングリコール(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンテレフタレート等が挙げられる。
【0024】
また、ラジカル重合性不飽和基を有する多官能単量体として、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノール−A−ジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイドトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセリンポリエチレンオキサイドトリ(メタ)アクリレート、トリス(メタ)アクリロイルオキシエチルフォスフェ−ト等が挙げられる。
【0025】
カチオン重合性官能基を有する単量体は、上記カチオン重合性官能基を有するプレポリマーの単量体を用いることができる。
【0026】
電離放射線硬化性樹脂を紫外線又は可視光線で硬化させる場合には、光重合開始剤を添加する。ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合の光重合開始剤は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、ミヒラーケトン、ジフェニルサルファイド、ジベンジルジサルファイド、ジエチルオキサイト、トリフェニルビイミダゾール、イソプロピル−N,N−ジメチルアミノベンゾエート等を単独又は混合して用いることができる。又、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル、フリールオキシスルホキソニウムジアリルヨードシル塩等を単独又は混合物として用いることができる。尚、これら光開始剤の添加量は一般に、電離放射線硬化性樹脂100重量部にたいして、0.1〜10重量部程度である。
【0027】
また、本発明のトップコート層9に用いられるフッ素系添加剤としては、分子中のアルキル基の水素原子がすべてフッ素原子に置換したパーフロロアルキルと親水性基もしくは親油性基をもつ界面活性剤である。そして、このパーフロロアルキル基の表面移行性を利用して樹脂の表面改質を行うものであって、同一分子内においてパーフロロアルキル基を集合化させ表面配向性を向上させたものであり、少量の添加で樹脂表面に移行し、樹脂表面をフッ素改質し、表面耐汚染性の向上に有効である。
【0028】
本発明において用いる電離放射線Rは、電磁波または荷電粒子線のうち分子を重合、架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、可視光線、紫外線(近紫外線、真空紫外線等)、X線、電子線、イオン線等がある。通常は紫外線や電子線が用いられる。紫外線源としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯の光源が使用できる。紫外線の波長としては、通常1900〜3800Åの波長域が主として用いられる。又、電子線源としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、或いは、直線型、ダイナミトロン型、高周波型灯の各種電子線加速器を用い、100〜1000KeV、好ましくは100〜300KeVのエネルギーをもつ電子を照射するものを使用できる。電離放射線の照射により、電離放射線硬化性樹脂は架橋重合反応を起こし3次元の高分子構造に変化する。
【0029】
電離放射線硬化性樹脂12の塗工方法は、グラビアコート、グラビアリバースコート、グラビアオフセットコート、スピンナーコート、ロールコート、リバースロールコート、キスコート、ホイラーコート、シルクスクリーンによるベタコート、フローコート、スプレーコート等の公知の塗工手段を用いることができ、塗工量としてはドライ時に5〜100g/m2 が適当である。また、必要に応じて顔料や染料等を加えて着色してもよい。
【0030】
【実施例】
実施例1
厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフイルムにポリエチレンを20μmに押出しコートして転写シート用原反を得た。この原反にニトロセルロース系透明インキでベタ印刷したのち、ニトロセルロース系柄インキで木目模様を印刷し、更にニトロセルロース系パールインキでベタ印刷した。得られたフイルムに印刷面から、溝状凹凸模様として深さ20μm、凸部間隔70μmで正弦波状の平行曲線群からなる万線パターンを施したエンボスロールを使用してエンボス加工し転写シートを作製した。別途、秤量30g/m2 の薄葉紙にニトロセルロース系樹脂にイソシアネート硬化剤を添加した着色インキを用いてベタ印刷し紙質系化粧シートを作製した。次いで、厚さ3mmの中密度繊維板に2液硬化型酢ビ尿素樹脂系接着剤を介して上記で得た紙質系化粧シートを貼合せた後、該紙質系化粧シート面にウレタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂塗料を塗膜厚が50〜60μmになるようにカーテンフローコーターで塗布し、直ちに該ウレタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂塗料面に上記転写シートの印刷絵柄面が対向するように載せ、80w/cmオゾンレス型紫外線ランプ1灯設置した照射装置中を15m/minの速度で通過させ紫外線照射し、ウレタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂塗料を半硬化し印刷絵柄層と微細凹凸層を転写した。前記転写シートの転写シート基材を剥離後、印刷絵柄層と微細凹凸層面にウレタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂塗料を塗膜厚が50〜60μmになるようにカーテンフローコーターで塗布し、80w/cmオゾンレス型紫外線ランプ2灯設置した照射装置中を15m/minの速度で通過させ紫外線照射し、硬化させ、内層に印刷絵柄層と微細凹凸層を有する立体感に優れた電離放射線硬化性樹脂化粧板を得た。
【0031】
実施例2
厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフイルムにポリエチレンを20μmに押出しコートして転写シート用原反を得た。この原反にニトロセルロース系透明インキでベタ印刷したのち、ニトロセルロース系柄インキで木目模様を印刷し、更にニトロセルロース系パールインキでベタ印刷した。得られたフイルムに印刷面から、溝状凹凸模様として深さ20μm、凸部間隔70μmで正弦波状の平行曲線群からなる万線パターンを施したエンボスロールを使用してエンボス加工し転写シートを作製した。別途、厚さ3mmの珪酸カルシウム板にシーラー層として湿気硬化型ウレタン系樹脂塗料を30g/m2 塗布し、さらに、白色プライマー層としてアクリルウレタン系樹脂塗料を100g/m2 塗工し、80℃で20分間乾燥した。次いで、該白色プライマー層面にウレタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂塗料を塗膜厚が50〜60μmになるようにカーテンフローコーターで塗布し、直ちに該ウレタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂塗料面に上記転写シートの印刷絵柄面が対向するように載せ、80w/cmオゾンレス型紫外線ランプ1灯設置した照射装置中を15m/minの速度で通過させ紫外線照射し、ウレタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂塗料を半硬化し印刷絵柄層と微細凹凸層を転写した。前記転写シートの転写シート基材を剥離後、印刷絵柄層と微細凹凸層面にウレタンアクリレート系紫外線硬化型樹脂塗料を塗膜厚が50〜60μmになるようにカーテンフローコーターで塗布し、80w/cmオゾンレス型紫外線ランプ2灯設置した照射装置中を15m/minの速度で通過させ紫外線照射し、硬化させ、内層に印刷絵柄層と微細凹凸層を有する立体感に優れた電離放射線硬化性樹脂化粧板を得た。
【0032】
【発明の効果】
本発明は以上説明したように、化粧板用基材の上面に化粧シート層、電離放射線硬化性樹脂よりなる透明層を介して印刷絵柄層および微細凹凸層が形成され、さらに、前記印刷絵柄層および微細凹凸層の上面に電離放射線硬化性樹脂によりトップコート層が形成されているため、深みや奥行きのある立体感に優れた意匠表現が可能となる。またトップコート層が電離放射線硬化性樹脂であるため、耐擦傷性、耐汚染性等表面物性に優れている。
【0033】
また、印刷紙を用いることなく化粧板用基材の表面に着色層を設け転写によって直接絵柄印刷層が設けられているため、流し台、浴室等の水回りに用いても密着性の低下もなく、ガスコンロ回りに用いても耐熱性、耐防火性の問題もない化粧板とすることができ、キッチンバックパネルとして用いることが出来る。
【0034】
また、トップコート層を形成する樹脂にフッ素基を含有する電離放射線硬化性樹脂を用いることによって、化粧板表面の防汚染性がさらに向上し、乾拭きにて簡単に汚れを拭き取ることができる化粧板を得ることが出来る。
【0035】
さらに、化粧板用基材の上面に設けた透明層を形成する電離放射線硬化性樹脂を半硬化の状態で印刷絵柄層および微細凹凸層を転写し、その上からトップコート層用の電離放射線硬化性樹脂を塗工し、その後電離放射線により完全硬化する製造方法のため、樹脂の硬化時間も短く、生産性に優れている。また透明層とトップコート層の密着性にも優れ、品質の安定した化粧板を得ることが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の化粧板の実施例を示す積層断面図である。
【図2】本発明の化粧板の他の実施例を示す積層断面図である。
【図3】本発明の化粧板の製造方法の一例を説明する積層断面図である。
【符号の説明】
1、1' 化粧板
2 化粧板用基材
3 接着剤層
4 化粧シート
4a 基体シート層
4b 印刷インキ層
5 着色層
5a シーラー層
5b ベースコート層
6 透明層
7 印刷絵柄層
8 微細凹凸部
9 トップコート層
10 転写シート
11 転写シート基材
12 電離放射線硬化性樹脂層
R 電離放射線
Claims (4)
- 化粧板用基材の上面に、接着剤層、化粧シート層、微細凹凸形状の表面を備えた透明層、該透明層の微細凹凸形状の表面に沿って設けられた印刷絵柄層、トップコート層が順次積層された化粧板において、前記透明層及びトップコート層が電離放射線硬化性樹脂からなり、且つ前記印刷絵柄層が前記透明層を形成する電離放射線硬化性樹脂を塗工した後にその塗工表面に微細凹凸形状を賦型しつつ硬化すると共に転写により微細凹凸形状を賦型された透明層の表面に沿って形成されていることを特徴とする化粧板。
- 化粧板用基材の上面に、着色層、微細凹凸形状の表面を備えた透明層、該透明層の微細凹凸形状の表面に沿って設けられた印刷絵柄層、トップコート層が順次積層された化粧板において、前記透明層及びトップコート層が電離放射線硬化性樹脂からなり、且つ前記印刷絵柄層が前記透明層を形成する電離放射線硬化性樹脂を塗工した後にその塗工表面に微細凹凸形状を賦型しつつ硬化すると共に転写により微細凹凸形状を賦型された透明層の表面に沿って形成されていることを特徴とする化粧板。
- 前記トップコート層を形成する樹脂がフッ素基を含有する電離放射線硬化性樹脂よりなることを特徴とする請求項1、2記載の化粧板。
- 電離放射線透過性を有する平坦な転写シート基材の一方の面に印刷絵柄層を形成し、かつ該印刷絵柄層を設けた側の平坦な面に対しエンボス加工して微細凹凸を賦型し、微細凹凸形状の表面を備え且つこの微細凹凸形状の表面に沿って印刷絵柄層が設けられた転写シートを準備する工程、化粧板用基材の面に接着剤層を介して化粧シートを貼着するか、或いは着色層を塗装する工程、前記化粧シート層面、或いは着色層面に電離放射線硬化性樹脂を塗装し平坦な透明層を形成する工程、前記転写シートの微細凹凸形状の表面を備え且つこの微細凹凸形状の表面に沿って印刷絵柄層が設けられた面を前記平坦な透明層面に接するように載置し前記転写シートの電離放射線透過性を有する転写シート基材面より電離放射線を照射し前記透明層を形成する電離放射線硬化性樹脂に転写シートの微細凹凸形状に同調した微細凹凸形状を賦型しつつ半硬化させ、前記転写シートの印刷絵柄層を残して転写シート基材を剥離することにより前記透明層に印刷絵柄層を備えた微細凹凸形状の表面を形成する工程、前記印刷絵柄層が設けられた微細凹凸形状の表面に電離放射線硬化性樹脂を塗工し、電離放射線を照射硬化することによりトップコート層を形成する工程からなることを特徴とする化粧板の製造方法。
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