JP4093334B2 - 同調エンボス化粧シート及びその製造方法 - Google Patents
同調エンボス化粧シート及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4093334B2 JP4093334B2 JP25695198A JP25695198A JP4093334B2 JP 4093334 B2 JP4093334 B2 JP 4093334B2 JP 25695198 A JP25695198 A JP 25695198A JP 25695198 A JP25695198 A JP 25695198A JP 4093334 B2 JP4093334 B2 JP 4093334B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- pattern
- ionizing radiation
- decorative sheet
- curable resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は化粧シート及びその製造方法に関し、特に、建築物の内装、建具の表面化粧、車軸内装等に用いるのに適した、絵柄模様にシャープに同調した凹凸を形成した同調エンボス化粧シート及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、建築物の内装、建具の表面化粧、車軸内装等の用途に用いる化粧シートとしては、紙、プラスチック等の基材シート上に着色ベタ層、木目等の絵柄を印刷した絵柄模様層、表面を保護するためのトップコート層が設けられたコート化粧シートが知られている。
【0003】
リアル感のある化粧紙とするために、3次元的な立体感を表現する試みがなされている。化粧シートで用いられている凹凸手段として、例えば、特公昭51−26937号公報には、基材シート上に濡れ性の異なる塗料を模様状に設け、さらに、電子線硬化型塗料又は光硬化型塗料を塗布し、硬化させることにより、濡れ性の違いにより凹凸を形成させる化粧面の形成方法が示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
前記従来の塗料の撥液性の差異を生じさせてなる凹凸模様は、凹凸の程度が小さく、その凹凸の境界もシャープなものとはいえず、視覚的に立体感にかけるものであった。
【0005】
そこで本発明は、絵柄模様層にシャープに同調した立体感にあふれ、しかも擦過傷の出来にくい同調エンボス化粧シート及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
前記した目的を達成するための本発明の同調エンボス化粧シートの製造方法は、(1)基材シート上に着色ベタ印刷層を形成し、(2)該着色ベタ印刷層上に、部分的に絵柄模様を印刷して絵柄模様層を形成し、(3)前記部分的に形成した絵柄模様層以外の表面に、電離放射線硬化型樹脂に対して撥液性を示すインキで逆版印刷して撥液層を形成し、(4)前記部分的に形成した絵柄模様層上のみに後記する電離放射線硬化型樹脂に非撥液性のインキで印刷して抜き印刷層を形成し、(5)前記各工程を経た基材シートの表面に、電離放射線硬化型樹脂を含む塗料を塗布し、電離放射線を照射することにより、絵柄模様にシャープに同調した凹凸を有するトップコート層を形成させることを特徴とする。
【0007】
また、本発明の同調エンボス化粧シートは上記製造方法により得られたものである。
【0008】
本発明によれば、抜き印刷層を絵柄模様層上に設けることにより、他の部分(即ち、撥液層部分)よりも層高にし、且つ該抜き印刷層以外の部分に撥液性インキにて撥液層を形成しているので、電離放射線硬化型樹脂によるトップコート層を全面に塗布した場合に、該撥液層部分では電離放射線硬化型樹脂が撥液するため塗膜厚は薄く、抜き印刷層では抜き印刷層の膜厚に加えて、電離放射線硬化型樹脂のトップコート層の膜厚が付加されて層高となる。したがって、撥液層部分と抜き印刷層部分との境界のエンボスの段差を稼ぐことができ、シャープなエンボスとなる。
【0009】
さらに、本発明の同調エンボス化粧シート及びその製造方法によれば、電離放射線硬化型樹脂含む塗料をトップコート層に用いているので、溶剤が含まれていないため硬化時に膜厚の目減りが生ずることもなく、塗布時のままの膜厚で硬化層となるので、溶剤型樹脂をトップコート層に用いた場合に比べ、エンボス高を稼ぐことができ、シャープなエンボスとなる。
【0010】
また、本発明の同調エンボス化粧シートは、トップコート層に電離放射線硬化型樹脂を含む塗料が使用されているので、表面の硬度が高く、擦過に対して耐久性がある。トップコート層は印刷層を保護する程度の擦傷性を有することが必要であるが、あまりトップコート層が固い即ち、低粘度の電離放射線硬化型樹脂を用いると架橋点が増えてトップコート層がもろくなり、フレキシブルな化粧シートには適さない。したがって、トップコート層に使用される電離放射線硬化型樹脂を含む塗料は、粘度か100〜2000cp、好ましくは、100〜1000cpのものが適する。
【0011】
【発明の実施の態様】
図1は本発明の同調エンボス化粧シートの製造工程のフロー図を概念的に示したものである。工程(a)において、基材シート1上に、着色ベタ印刷層2を印刷又は塗布により形成する。次いで工程(b)において、着色ベタ印刷層2上に、部分的に絵柄模様を印刷して絵柄模様層3を形成する。次いで工程(c)において、絵柄模様層3以外の表面に、電離放射線硬化型樹脂を含む塗料に対して撥液性を示すインキで逆版印刷して撥液層4を形成する。次いで工程(d)において、前記絵柄模様層3上のみに電離放射線硬化型樹脂を含む塗料に対して非撥液性を示すインキで印刷して抜き印刷層5を設ける。次いで、工程(e)において、印刷面全面に電離放射線硬化型樹脂を含む塗料を塗布してトップコート層6を形成する。このとき、撥液層4上の電離放射線硬化型樹脂は撥液層4上で撥液し、撥液層4上のトップコート層6は薄いものとなる。一方、抜き印刷層5上のトップコート層6は、電離放射線硬化型樹脂が撥液せずに塗布時そのままの膜厚となる。この状態で、電離放射線を照射して塗膜を硬化させる。得られた化粧シートの層構成は図1(e)の状態となり、撥液層4上と抜き印刷層5上ではエンボス高低差が大きくシャープで立体感のあふれる同調エンボス化粧シートとなる。
【0012】
本発明の同調エンボス化粧シートに対する比較のために、前記した抜き印刷層の無い、撥液層と非撥液層との混在した模様上に、電離放射線硬化型樹脂によるトップコート層を形成して凹凸を形成した従来の化粧シートの概念図を図2に示す。図2の化粧シートは、基材シート1上に着色ベタ印刷層2が設けられ、その上に非撥液性を示す絵柄模様層13と、撥液性を示す撥液層14が設けられており、これらの絵柄模様層13、撥液層14上の全面に電離放射線硬化型樹脂によるトップコート層16が塗布されたものである。しかしながら、図2に示す従来の、撥水、非撥水層の組み合わせによる化粧シートは本発明のような抜き印刷層が無いため、トップコート層16の表面の凹凸の程度は浅く、エンボスもシャープさに欠ける。
【0013】
本発明において、基材シートには、各種の紙、化工紙、セロファン、アセテート、ポリエチレン或いはポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリカーボネート又はポリアミド等のフィルム或いはシート、金属フィルム或いはシート、木質フィルム或いはシート、更にこれらの材料から選ばれた積層フィルム又はシートが挙げられる。
【0014】
本発明において、着色ベタ印刷層は、基材シートの表面を隠蔽し、且つその上に印刷或いは塗装するインキ或いは塗料の撥液を防ぐための層であり、形成するインキには一般的なグラビアインキが使用できる。
【0015】
本発明において、絵柄模様層を形成するインキには、一般的なグラビアインキ、好ましくは電子線反応型インキが使用できる。
【0016】
本発明において、電離放射線硬化型樹脂に対して非撥液性のインキとは、ウレタン系、アクリル系、塩ビ系、ブチラール系の架橋型、非架橋型のインキであり、好ましくは電子線反応型インキが使用できる。
【0017】
本発明において、電離放射線硬化型樹脂に対して撥液性のインキとは、シリコン、フッ素等の撥液性物質を配合したインキであり、好ましくは電子線反応型インキが使用できる。
【0018】
本発明において用いる電離放射線硬化型樹脂には、具体的には、分子中に重合性不飽和結合又はカチオン重合性官能基を有するプレポリマー(所謂オリゴマーも包含する)及び/又はモノマーを適宜混合した電離放射線より硬化可能な組成物が好ましく用いられる。なお、ここで電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線(UV)又は電子線(EB)が用いられる。
【0019】
硬質塗膜を形成する電離放射線硬化型樹脂は、具体的には、分子中に(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基等のラジカル重合性不飽和基、エポキシ基等のカチオン重合性官能基又はチオール基を2個以上有する単量体、又はプレポリマーからなる。これら単量体又はプレポリマーは単独で用いるか、或いは複数種混合して用いる。なお、ここで、「(メタ)」の付く用語、例えば、「(メタ)アクリロイル基」とは、アクリロイル基又はメタアクリロイル基の意味で用いている。
【0020】
ラジカル重合性不飽和基を有するプレポリマーの例としては、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、トリアジン(メタ)クリレート、シリコン(メタ)アクリレート等が使用できる。分子量としては、通常250〜100,000程度のものが用いられる。
【0021】
カチオン重合性官能基を有するプレポリマーの例としては、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂等のエポキシ系樹脂、脂肪族系ビニルエーテル、芳香族系ビニルエーテル等のビニルエーテル系樹脂等のプレポリマーがある。
【0022】
ラジカル重合性不飽和基を有する単官能単量体の例としては、(メタ)アクリレート化合物の単官能単量体、例えば、メチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等がある。
【0023】
ラジカル重合性不飽和基を有する多官能単量体の例としては、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイドトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等がある。
【0024】
チオール基を有する単量体の例としては、トリメチロールプロパントリチオグリコレート、ジペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等がある。
【0025】
紫外線又は可視光線にて硬化させる場合には、電離放射線硬化型樹脂を含む塗料中に光重合開始剤を添加する。ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル類を単独又は混合して用いることができる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることができる。
【0026】
なお、これらの光重合開始剤の添加量としては、該電離放射線硬化型樹脂を含む塗料100重量%に対して、0.1〜10重量%程度である。
【0027】
上記電離放射線硬化型樹脂を含む塗料にさらに、必要に応じて、各種添加剤を添加する。これらの添加剤としては、例えば、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、セルロース系樹脂等の熱可塑性樹脂、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、シリカ、アルミナ等の微粉末、球状粉末からなる体質顔料(充填剤)、染料、顔料等の着色剤等がある。
【0028】
電離放射線硬化型樹脂を硬化させるための紫外線源としては、超高圧水銀燈、高圧水銀燈、メタルハライドランプ等の光源が使用できる。紫外線の波長としては通常1900〜3800Åの波長域が主として用いられる。
【0029】
電離放射線硬化型樹脂を硬化させるための電子線源としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器、或いは直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器を用い、100〜1000KeV、好ましくは、100〜300KeVのエネルギーを持つ電子線を照射できるものが好ましい。
【0030】
本発明の同調エンボス化粧シートは各種被着体に積層し、所定の成形加工等を施して、各種用途に用いることができる。例えば、壁、天井、床等の建築物の内装、窓枠、扉、手すり等の建具の表面化粧、家具又は弱電・OA機器のキャビネットの表面化粧、自動車、電車等の車両の内装、航空機の内装、窓硝子の化粧等に利用できる。
【0031】
【実施例】
以下、本発明の実施例について詳細に説明する。
【0032】
〔実施例1〕
坪量30gの建材用薄葉紙にグラビア印刷にて着色ベタ層をアクリル系樹脂インキとしてHAT(商品名、ザ・インテック(株)製)にて塗布した。次いで、その上にアクリル系樹脂インキとしてHAT(商品名、ザ・インテック(株)製)にて部分的に絵柄模様層を印刷した。次いで、該絵柄模様層が印刷されていない部分に下記の組成の撥液性インキ(アミノアルキッド樹脂/硬化剤/酢酸エチル/トルエン/シリコン=100/10/25/25/10)にて逆版印刷して撥液層を形成した。次いで、該撥液層以外の絵柄模様層の上にブチラール系樹脂の非撥液性インキとしてD−2シーラー(商品名:大日精化(株)製)で5g/m2 dryで印刷した後150℃20秒で乾燥して抜き印刷層を形成した。次いで、各印刷層の全面に下記の組成の電子線硬化型樹脂塗料〔ウレタンアクリレート/モノマー/シリカ(平均粒径5μ)=20:60:20〕をロールコータにて5g/mm2 塗布し、次いで、175KeV、5Mradの条件で電子線を照射した。
【0033】
本実施例1により得られた化粧シートは、深い凹凸が絵柄模様にシャープに同調した立体感のあふれるものとなった。
【0034】
〔実施例2〕
前記実施例1の撥液性インキを下記の組成の撥液性インキに換えた以外は、全て前記実施例1と同じようにして、本実施例2の化粧シートを得た。
【0035】
アミノアルキッド樹脂/硬化剤/酢酸エチル/トルエン/シリコン=100/10/25/25/5
本実施例2の化粧シートは、撥液性インキのシリコンの割合が前記実施例1のものよりも若干少ない分だけ、前記実施例1の化粧シートよりも表面の凹凸が若干浅いが、凹凸が絵柄模様にシャープに同調した立体感のあふれるものとなった。
【0036】
〔比較例1〕
前記実施例1の撥液性インキを下記の組成の撥液性インキに換えた以外は、全て前記実施例1と同じようにして、比較例1の化粧シートを得た。
【0037】
アミノアルキッド樹脂/硬化剤/酢酸エチル/トルエン/シリコン=100/10/25/25/2
比較例1の化粧シートは、撥液性インキのシリコンの割合が前記実施例1及び2のものよりも極端に少ないので、前記実施例1及び2の化粧シートに比較して表面の凹凸が殆どなく、外観上は艶の変化が認められる程度のものとなった。
【0038】
〔比較例2〕
前記実施例1の非撥液性インキによる抜き印刷層を設けない以外は、全て前記実施例1と同じようにして、比較例2の化粧シートを得た。
【0039】
比較例2の化粧シートは、表面の凹凸が殆ど認められないものとなった。
【0040】
【発明の効果】
本発明によれば、抜き印刷層を絵柄模様層上に設けてこの部分のトップコート層を他の部分よりも層高にし、一方、該抜き印刷層以外の部分に撥液性インキにて撥液層を形成しているので、該撥液層部分では電離放射線硬化型樹脂が撥液し該撥液層上のトップコート層は膜厚が薄くなるため、トップコート層の凹凸の高低差を稼ぐことができ、シャープでリアルなエンボスとなる。
【0041】
また、本発明によれば、トップコート層に電離放射線硬化型樹脂塗料を用いておりトップコート層に溶剤が使用されていないので、トップコート層に溶剤目減り分が無く、したがって、塗布時のままの膜厚で硬化層となるので、溶剤型樹脂をトップコート層に用いた場合に比べ、エンボス高を稼ぐことができ、シャープなエンボスとなる。
【0042】
さらにまた、本発明によれば、少なくともトップコート層に電離放射線硬化型樹脂を含む塗料を用いているので、表面の硬度が高く、耐擦過性に優れている。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の同調エンボス化粧シートの製造工程のフロー図を概念的に示す。
【図2】従来例の凹凸を形成した化粧シートの概念図を示す。
【符号の説明】
1 基材シート
2 着色ベタ印刷層
3,13 絵柄模様層
4,14 撥液層
5 抜き印刷層
6,16 トップコート層
Claims (3)
- (1)基材シート上に着色ベタ印刷層を形成し、
(2)該着色ベタ印刷層上に、部分的に絵柄模様を印刷して絵柄模様層を形成し、
(3)前記部分的に形成した絵柄模様層以外の表面に、電離放射線硬化型樹脂に対して撥液性を示すインキで逆版印刷して撥液層を形成し、
(4)前記部分的に形成した絵柄模様層上のみに後記する電離放射線硬化型樹脂に対して非撥液性のインキで印刷して抜き印刷層を形成し、
(5)前記各工程を経た基材シートの表面に、電離放射線硬化型樹脂を含む塗料を塗布し、電離放射線を照射することにより、絵柄模様にシャープに同調した凹凸を有するトップコート層を形成させることを特徴とする同調エンボス化粧シートの製造方法。 - 前記絵柄模様層、撥液層及び抜き印刷層の1種以上が電子線硬化型インキで形成されていることを特徴とする請求項1記載の同調エンボス化粧シートの製造方法。
- 請求項1又は2記載の製造方法により得られた同調エンボス化粧シート。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25695198A JP4093334B2 (ja) | 1998-09-10 | 1998-09-10 | 同調エンボス化粧シート及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25695198A JP4093334B2 (ja) | 1998-09-10 | 1998-09-10 | 同調エンボス化粧シート及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000085090A JP2000085090A (ja) | 2000-03-28 |
JP4093334B2 true JP4093334B2 (ja) | 2008-06-04 |
Family
ID=17299638
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25695198A Expired - Fee Related JP4093334B2 (ja) | 1998-09-10 | 1998-09-10 | 同調エンボス化粧シート及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4093334B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018162627A (ja) * | 2017-03-27 | 2018-10-18 | ケイミュー株式会社 | 建築板及びその製造方法 |
-
1998
- 1998-09-10 JP JP25695198A patent/JP4093334B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000085090A (ja) | 2000-03-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4046253B2 (ja) | 同調エンボス化粧シート及びその製造方法 | |
WO2012002504A1 (ja) | 加飾シートの製造方法、加飾シート及びそれを用いてなる加飾成形品 | |
JP5454299B2 (ja) | 発泡壁紙 | |
JP2010234347A (ja) | 加飾シートの製造方法 | |
EP1262332B1 (en) | Decorative sheet and decorative member | |
JP2001138470A (ja) | 耐摩耗性を有する化粧材 | |
JP3153349B2 (ja) | 化粧シート及び該化粧シートの製造方法 | |
JP3953543B2 (ja) | 化粧シート | |
JP2000141551A (ja) | プレコート化粧紙 | |
JP5439908B2 (ja) | 加飾シートの製造方法 | |
JP2002001748A (ja) | 化粧ボードの製造方法 | |
JP4093334B2 (ja) | 同調エンボス化粧シート及びその製造方法 | |
JP2001260301A (ja) | 化粧シート及びそれを用いた化粧材 | |
JP4286949B2 (ja) | 耐摩耗性を有する化粧紙 | |
JP5515937B2 (ja) | 加飾シートの製造方法及び加飾シート | |
JP3923609B2 (ja) | 化粧板およびその製造方法 | |
JP4009866B2 (ja) | 表面特性が優れた発泡壁紙の製造方法 | |
JP4390942B2 (ja) | 化粧シート | |
JP2579292B2 (ja) | 艶消フィルムの製造方法 | |
JP4612135B2 (ja) | 化粧材の製造方法及び化粧材 | |
JP5581769B2 (ja) | 加飾シートの製造方法及び加飾シート | |
JP4748336B2 (ja) | 化粧シートの製造方法 | |
JP5794069B2 (ja) | 化粧板の製造方法及び化粧板 | |
JP3998739B2 (ja) | 化粧材及びその製造方法 | |
JP7127332B2 (ja) | 加飾シート、加飾シートの製造方法、加飾物品、及び加飾物品の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050909 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080218 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080227 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080227 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110314 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110314 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120314 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130314 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130314 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140314 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |