JPH11284121A - 半導体装置および半導体装置用リードフレーム - Google Patents

半導体装置および半導体装置用リードフレーム

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JPH11284121A JP8172398A JP8172398A JPH11284121A JP H11284121 A JPH11284121 A JP H11284121A JP 8172398 A JP8172398 A JP 8172398A JP 8172398 A JP8172398 A JP 8172398A JP H11284121 A JPH11284121 A JP H11284121A
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suspension lead
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体チップの体積が樹脂封止体積に占める
割合に対して大きく、高品質および高信頼性の半導体装
置を提供する。 【解決手段】 前記半導体チップCPの1辺の長さが、
モールド外径の1辺寸法から2.5mm以下であり、額
縁状に形成される吊りリード補強材4の最外周の1辺の
長さが、半導体チップCPの1辺の長さ以下であり、ダ
イパッド1の1辺の長さは3mmをこえて、額縁状に形
成される吊りリード補強材4最外周の1辺の長さの50
%以下であるとともに、吊りリード補強材4をダムバー
6に接続する第二の吊りリード7が、吊りリード補強材
4に接続する近傍でダイパッド沈めが行なわれ、該第二
の吊りリード7に段差8が設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置および半
導体装置用リードフレームに関する。さらに詳しくは、
一辺の長さがモールド外形寸法の一辺の長さの70%で
ある半導体チップをリードフレームに固定保持し、樹脂
封止後に高品質および信頼性の高い半導体装置および該
半導体装置に用いられるリードフレームに関する。
【0002】
【従来の技術】従来の半導体装置においては、リードフ
レームのダイパッドの寸法は、半導体チップをダイパッ
ドにダイボンドするときのダイボンド装置への搭載精度
を考慮して半導体チップサイズよりも0.2〜0.4m
m大きくされている。ダイパッドを銅系材料で作製する
と、半導体チップの熱膨張率αsi=3.5×10-6
比べて銅の熱膨張率αcu=17×10-6とのあいだに
非常に大きな差があるために、半導体チップをダイパッ
トにダイボンドすると、熱応力の差が発生し、半導体チ
ップが水平方向に割れたり、また外装モールドしたとき
の外装モールドに100μmをこえる熱変形の反りが生
じたりして、半田耐熱性やヒートサイクル性などの熱残
留応力特性がわるいばあいがある。このため、通常ダイ
パッドには、4mm×4mmの寸法までの半導体チップ
が搭載されていた。
【0003】そこで、前記熱残留応力特性を解決し、半
導体チップの寸法が4mm×4mm以上の半導体チップ
を搭載できるようにするために、ダイパッドの材質が熱
膨張率αfe=5.5×10-6の鉄系材料に変更されて
いる。しかし、半導体装置の放熱特性は、ダイパッドの
材質により決まるため、鉄系ダイパッドであるばあい、
銅の熱伝導率γcuが0.360W/mm℃であるのに
対して、鉄の熱伝導率γfeが0.0159W/mm℃
と小さいために、完成した半導体装置の許容消費電力の
値は低くなる。
【0004】一方、ダイパッドの例として、たとえば特
開平7−202105号公報および特開平8−2366
85号公報などに開示されているものがある。しかし、
これらには、(1)半導体チップの寸法は、ダイパッド
の外周寸法より小さいこと、(2)半導体チップの寸法
は補強材の外周寸法より小さいこと、(3)半導体チッ
プの寸法が外装モールド寸法の30%の小さな半導体チ
ップをモールド内に収納していること、また半導体チッ
プの寸法は半導体チップ外径からモールド外径までの寸
法と等しいか小さいこと、(4)ダイパッドと補強材と
の間隔寸法は半導体チップの寸法とダイパッドの寸法の
差とほぼ等しく、また補強材の幅寸法もダイパッドと補
強材との間隔寸法とほぼ等しく形成していること、
(5)ダイパッドの材質に関する記載がないこと、
(6)銅系材料のダイパッドの沈め量は、鉄系材料のダ
イパッドの沈め量に比較して深く沈める必要があること
について記載がないこと、および(7)ダイパッド吊り
リードの剛性とダイパッドの寸法との関係については記
載がない。このため、半導体装置のアセンブリ工程内で
生じる現象、たとえばダイボンドすることにより生じる
チップ反り現象、それに伴うフレームの沈め量の変化現
象、ワイヤボンドしたのちのフレーム沈め量の変化現
象、モールドするときの樹脂流動アンバランスによって
生じる全ての現象を満足することができず、モールド内
に収納できる半導体チップの寸法比率を大きくすること
ができない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】今後、半導体チップは
高機能化、多ピン化されると樹脂封止体積に対して半導
体チップの占める体積が大きくなる。それと同時に、ダ
イパッド、ダイパッドの吊りリード、インナーリードの
占める体積も大きくなる。
【0006】このため、半導体チップをダイパッドにダ
イボンドすると、異なる熱膨張係数材料の接合により、
ダイパッドが曲がり、ダイパッドを支えている吊りリー
ドを介して、ダムバーやリードフレーム枠に変形を与え
る。たとえば吊りリードの剛性をリードフレーム枠の剛
性に近づけると、リードフレーム枠にダイパッド曲がり
の影響を伝え、リードフレーム枠を変形させるため、半
導体装置の組立工程でフレーム枠に設けられた送り穴ピ
ッチの寸法を狂わせ、ワイヤボンド装置へのフレーム搬
送ミスを生じさせる。
【0007】逆に吊りリードの剛性をリードフレーム枠
の剛性に比べて非常に小さくすると、リードフレーム枠
に与えるダイパッド曲がりの影響が小さくなり、リード
フレーム枠に変形を生じさせないが、ワイヤボンド工程
で、リードを押さえ金型で押さえてワイヤボンドしたの
ちに、押さえ金型を取り外すと、金線の張力によって、
半導体チップが持ち上げられる量が大きくなるという問
題がある。またモールド工程で、成形金型を用いて半導
体チップを溶融樹脂で樹脂封止するばあい、その成形金
型に溶融樹脂を注入しているときに、その溶融樹脂の流
入圧でダイパッドが上下方向にシフトする量が大きくな
るという問題がある。
【0008】前記現象は、半導体チップの体積が樹脂封
止体積に占める割合が大きくなったとき、その影響は顕
著になり、ばあいによっては製品化が困難である。仮に
製品化しても半導体装置の反りが大きく、リード平坦度
の規格を満足しないために、歩留りが低下し、熱残留応
力による耐半田耐熱性、耐ヒートサイクル性、耐クラッ
ク性および耐剥離性がわるいなどの問題がある。
【0009】本発明は、叙上の事情により、(1)ダイ
ボンド工程時の反りの低減とダイパッドシフトの低減、
(2)ワイヤボンド工程時のダイパッドシフトの低減、
および(3)モールド工程時のダイパッドシフトの低減
により、半導体チップの体積が樹脂封止体積に占める割
合に対して大きく、高品質および高信頼性の半導体装置
および該半導体装置に用いられるリードフレームを提供
することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項1にかかわる本発
明の半導体装置は、複数のコーナーを有するダイパッド
と、該ダイパットの周縁に沿って所定の間隔で配列され
た、内端部を有する複数のインナーリードと、該インナ
ーリードの外方に延設されるアウターリードと、前記ダ
イパットとインナーリードとのあいだに、該ダイパット
の周縁に沿って額縁状に配置された吊りリード補強材
と、前記ダイパッドのコーナーを吊りリード補強材に接
続する第一の吊りリードと、前記吊りリード補強材を前
記インナーリードとアウターリードとのあいだのダムバ
ーに接続する第二の吊りリードとからなるリードフレー
ム上に、ダイボンドを介して接着される半導体チップと
前記複数のインナーリードとを電気的に接続する金線を
モールド樹脂で外装しており、前記リードフレームのア
ウターリード終端部、ダムバーおよびダムバーに接続す
るモールド境界近傍外部で第二の吊りリード端部を切り
放してなる半導体装置であって、前記半導体チップの1
辺の長さが、モールド外径の1辺寸法から2.5mm以
下であり、額縁状に形成される吊りリード補強材の最外
周の1辺の長さが、半導体チップの1辺の長さ以下であ
り、ダイパッドの1辺の長さは3mmをこえた額縁状に
形成される吊りリード補強材最外周の1辺の長さの50
%以下であるとともに、吊りリード補強材をダムバーに
接続する第二の吊りリードが、吊りリード補強材に接続
する近傍でダイパッド沈めが行なわれ、該第二の吊りリ
ードに段差が設けられてなることを特徴とする。
【0011】請求項2にかかわる本発明の半導体装置用
リードフレームは、複数のコーナーを有するダイパッド
と、仮想的に収納する半導体チップの中心点とダイパッ
ドの中心点と一致させ、この半導体チップの外側に必要
な隙間を介して周縁に沿って所定の間隔で配列された、
内端部を有する複数のインナーリードと、該インナーリ
ードの外延部に形成されるダムバーと、該ダムバーから
延設され、終端部はフレーム枠レール部に接続される複
数のアウターリードと、前記ダイパッドの周縁からダイ
パッドの寸法をこえる間隔を設け、その周縁に沿って額
縁状に配置された吊りリード補強材と、前記ダイパッド
のコーナーを吊りリード補強材に接続する第一の吊りリ
ードと、前記吊りリード補強材をダムバーに接続する第
二の吊りリードとを備える半導体装置用リードフレーム
であって、前記第二の吊りリードを吊りリード補強材に
接続する近傍でダイパッド沈めが行なわれ、該第二の吊
りリードに段差が設けられてなることを特徴とする。
【0012】請求項3にかかわる本発明の半導体装置用
リードフレームは、複数のコーナーを有するダイパッド
と、仮想的に収納する半導体チップの中心点とダイパッ
ドの中心点と一致させ、この半導体チップの外側に必要
な隙間を介して周縁に沿って所定の間隔で配列された、
内端部を有する複数のインナーリードと、該インナーリ
ードの外延部に形成されるダムバーと、該ダムバーから
延設され、終端部はフレーム枠レール部に接続される複
数のアウターリードと、前記ダイパッドの周縁からダイ
パッドの寸法をこえる間隔を設け、その周縁に沿って額
縁状に配置された吊りリード補強材と、前記ダイパッド
のコーナーを吊りリード補強材に接続する第一の吊りリ
ードと、前記吊りリード補強材をダムバーに接続する第
二の吊りリードとを備える半導体装置用リードフレーム
であって、前記第一の吊りリードが第二の吊りリードの
幅寸法より大きな幅を有しており、該第二の吊りリード
を吊りリード補強材に接続する近傍でダイパッド沈めが
行なわれ、第二の吊りリードに少なくともモールド厚さ
寸法から半導体チップの厚さ寸法、ダイボンドの厚さ寸
法およびダイパッドの厚さ寸法を引いた値の1/2の段
差が設けられてなることを特徴とする。
【0013】また請求項4にかかわる本発明の半導体装
置用リードフレームは、複数のコーナーを有するダイパ
ッドと、仮想的に収納する半導体チップの中心点とダイ
パッドの中心点と一致させ、この半導体チップの外側に
必要な隙間を介して周縁に沿って所定の間隔で配列され
た、内端部を有する複数のインナーリードと、該インナ
ーリードの外延部に形成されるダムバーと、該ダムバー
から延設され、終端部はフレーム枠レール部に接続され
る複数のアウターリードと、前記ダイパッドの周縁から
ダイパッドの寸法をこえる間隔を設け、その周縁に沿っ
て額縁状に配置された吊りリード補強材と、前記ダイパ
ッドのコーナーを吊りリード補強材に接続する第一の吊
りリードと、前記吊りリード補強材をダムバーに接続す
る第二の吊りリードとを備える半導体装置用リードフレ
ームであって、第一の吊りリードが第二の吊りリードの
幅寸法より大きな幅を有しており、前記第二の吊りリー
ドを吊りリード補強材に接続する近傍でダイパッド沈め
が行なわれ、第二の吊りリードに段差が設けられてなる
ことを特徴とする。
【0014】請求項5にかかわる半導体装置は、複数の
コーナーを有するダイパッドと、該ダイパットの周縁に
沿って所定の間隔で配列された、内端部を有する複数の
インナーリードと、該インナーリードの外方に延設され
るアウターリードと、前記ダイパットとインナーリード
とのあいだに、該ダイパットの周縁に沿って額縁状に配
置された吊りリード補強材と、前記ダイパッドのコーナ
ーを吊りリード補強材に接続する第一の吊りリードと、
前記吊りリード補強材を前記インナーリードとアウター
リードとのあいだのダムバーに接続する第二の吊りリー
ドからなるリードフレーム上に、ダイボンドを介して接
着される半導体チップと前記複数のインナーリードとを
電気的に接続する金線をモールド樹脂で外装しており、
前記リードフレームのアウターリード終端部、ダムバー
およびダムバーに接続するモールド境界近傍外部で第二
の吊りリード端部を切り放してなる半導体装置であっ
て、前記第一の吊りリードが第二の吊りリードの幅寸法
より大きな幅を有しており、該第二の吊りリードを吊り
リード補強材に接続する近傍でダイパッド沈めが行なわ
れ、該第二の吊りリードに少なくともモールド厚さ寸法
から半導体チップの厚さ寸法、ダイボンドの厚さ寸法お
よびダイパッドの厚さ寸法を引いた値の1/2の段差が
設けられてなること特徴とする。
【0015】さらに請求項6にかかわる半導体装置は、
複数のコーナーを有するダイパッドと、該ダイパットの
周縁に沿って所定の間隔で配列された、内端部を有する
複数のインナーリードと、該インナーリードの外方に延
設されるアウターリードと、前記ダイパットとインナー
リードとのあいだに、該ダイパットの周縁に沿って額縁
状に配置された吊りリード補強材と、前記ダイパッドの
コーナーを吊りリード補強材に接続する第一の吊りリー
ドと、前記吊りリード補強材を前記インナーリードとア
ウターリードとのあいだのダムバーに接続する第二の吊
りリードからなるリードフレーム上にダイボンドを介し
て接着される半導体チップと、前記複数のインナーリー
ドとを電気的に接続する金線をモールド樹脂で外装して
おり、前記リードフレームのアウターリード終端部、ダ
ムバーおよびダムバーに接続するモールド境界近傍外部
で第二の吊りリード端部を切り放してなる半導体装置で
あって、前記第一の吊りリードが第二の吊りリードの幅
寸法より大きな幅を有しており、該第二の吊りリードを
吊りリード補強材に接続する近傍でダイパッド沈めが行
なわれ、該第二の吊りリードに段差が設けられてなるこ
と特徴とする。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づき、本発明
の半導体装置および半導体装置用リードフレームを説明
する。
【0017】図1は本実施の形態におけるダイパッドに
半導体チップを単列搭載しモールドまで完了したときの
状態を示す。同図の一部分にダムバーおよび外部リード
切断したときの部分を示す。同図にはモールド外形寸法
と半導体チップの寸法との関係の一例をも同時に示す。
図2は図1のモールド樹脂を省略して本実施の形態にお
けるダイパッド、額縁状の吊りリード補強材、第一の吊
りリード、第二の吊りリードおよび半導体チップの寸法
の関係の一例を示す。図3はリードフレームの要部断面
図である。
【0018】図1〜3に示すように、本発明の一実施の
形態にかかわるリードフレームFは、複数のコーナーを
有するダイパッド1と、該ダイパット1の周縁1aに沿
って所定の間隔で配列された、内端部2aを有する複数
のインナーリード2と、該インナーリード2の外方に延
設されるアウターリード3と、前記ダイパット1とイン
ナーリード2とのあいだに、該ダイパット1の周縁1a
に沿って額縁状に配置された吊りリード補強材4と、前
記ダイパッド1のコーナーを吊りリード補強材4に接続
する第一の吊りリード5と、前記吊りリード補強材4を
前記インナーリード2とアウターリード3とのあいだの
ダムバー6に接続する第二の吊りリード7とからなり、
該第二の吊りリード7を吊りリード補強材4に接続する
近傍で、折曲によりダイパッド沈めが行なわれ、該第二
の吊りリード7に段差8が設けられている。前記アウタ
ーリード3の外周には、フレーム枠レール部9が形成さ
れている。また前記インナーリード2の内端部2aは、
仮想的に収納する半導体チップCPの中心点とダイパッ
ド1の中心点と一致させ、この半導体チップCPの外側
に必要な隙間を介して周縁に沿って所定の間隔で配列さ
れた位置にくるようにされている。
【0019】なお、モールド後に生じるパッケージ反り
現象などは、吊りリードの剛性やダイパッドと半導体チ
ップの接着長さまたは接着面積やダイパッド沈め寸法に
密接な関係を有する。前記特開平7−202105号公
報および特開平8−236685号公報で述べられてい
るように、単にダイパッドと半導体チップの接着長さま
たは接着面積を小さくすれば、ダイパッドの吊りリード
の長さが長くなる。そのことにより、ダイパッドの吊り
リードの剛性が低下して、モールド樹脂注入時に半導体
チップ上を流れるモールド樹脂の流動特性と、ダイパッ
ド下を流れるモールド樹脂の流動特性の違いからダイパ
ッドおよび半導体チップに掛かる上下方向の力によっ
て、ダイパッドが上下方向にシフトする量が大きくな
る。したがって、ダイパッドと半導体チップの接着長さ
または接着面積を小さくして、半導体チップとダイパッ
ドの熱膨張係数の違いにより生じるダイボンド後のダイ
パッドの反りとダイパッド沈め量の変化量を小さくする
手段と、モールド樹脂の流速の違いから生じる上下方向
の力でダイパッドの沈め量がシフトする量を小さくする
ために、ダイパッド吊りリードの長さを小さくしてダイ
パッド吊りリードの剛性を大きくする手段は、お互い相
反する手段であり、いかにダイパッドとその吊りリード
を構成するかが問題である。
【0020】単にダイパッドと半導体チップの接着長さ
を短くする手段は特開平7−202105号公報および
特開平8−236685号公報に限らず実開昭57−4
226号公報ですでに知られている。むしろこの手段に
よって生じる吊りリードの長さが長くなることにより生
じる吊りリードの剛性の低下をいかに補強するかが問題
である。この問題を解決する手段が本発明におけるダイ
パッドの吊りリード補強材の構造に関するものである。
【0021】前記特開平7−202105号公報および
特開平8−236685号公報には、本発明におけるダ
イパッドの吊りリード補強材によく似たビームをダイパ
ッドの極近傍に設けているが、この構造では、吊りリー
ドを補強するというよりもダイパッドを補強しているに
過ぎない。これは、特願昭61−212090号公報や
特開昭63−249341号公報などに示されている手
段であって、これら周知の技術では本発明のようにダイ
パットに大きな半導体チップを収納して、反りを低減す
るとともに、ダイパッドシフトを小さく押さえることは
できず、半導体チップの放熱特性がよく、パッケージ反
りの少ない、かつ、熱残留応力を最小にし、信頼性の高
く、安価で、かつ、品質のよい半導体装置をうることが
できない。
【0022】したがって、本発明のリードフレームは、
半導体チップCPの寸法に比較して小さなダイパッド1
と、ダイパッド1から離れた位置で、ダイパッド1に影
響を与えないように十分離れた位置に配置されたダイパ
ッド1の吊りリード補強材4と、ダイパッド1と吊りリ
ード補強材4とを連結する第一の吊りリード5と、吊り
リード補強材4とダムバー6を連結する第二の吊りリー
ド7からなっている。
【0023】そして、本発明の一実施の形態にかかわる
半導体装置は、図4に示すように、前記リードフレーム
F上に、ダイボンド材10を介して接着される半導体チ
ップCPと前記複数のインナーリード2とを電気的に接
続する金線11をモールド樹脂12で外装しており、前
記リードフレームFのアウターリード終端部13(図1
参照)、ダムバー6およびダムバー6に接続するモール
ド境界近傍外部で第二の吊りリード端部14(図1参
照)を切り放してなる。額縁状の吊りリード補強材4を
有するダイパッド1にモールド外形寸法と比較して少な
くとも1辺の長さがそのモールド外形寸法に対して寸法
が大きな半導体チップCPを、熱膨張率αcu=17×
10-6を有する銅フレームにダイボンドして搭載し、そ
ののちモールドしたときの半導体装置に生じる熱変形の
反りを少なくしている。このため、放熱性が高くなると
ともに、熱残留応力が低くなり、耐ヒートサイクル性、
耐ヒートショック性などの耐熱性に関する特性のよい半
導体装置をうることができる。
【0024】つぎに本発明におけるダイパッドの寸法、
第一の吊りリード、第二の吊りリード、吊りリード補強
材がダイパッド反りやダイパッドシフトを調整するため
に果たす各作用について説明する。
【0025】まず、半導体装置の熱残留歪みや熱応力
は、熱膨張係数の異なるダイパッド、ダイボンド材、半
導体チップ、モールド材が一体に接合されて層上に構成
されること、半導体チップ、吊りリード、モールド材が
一体に接合されて層上に構成されることおよびインナー
リード、モールド材が一体に接合されて層上に構成され
ることによって生じる。すなわち、それぞれの一体に接
合されて層上に構成された部材部分では圧縮応力や引張
応力σjの熱応力を生じ、力学的に力の釣合からΣWj
×Tj×σj=0(Wj、Tjはそれぞれ各部材jの幅
および厚さである)を満足するように、各部材jには圧
縮応力や引張応力σjを生じている。ところが、この熱
応力により半導体装置の内部蓄積エネルギーUは、U=
ΣEj×εj2×Wj×Tj×Lj/2(Ejは各部材
jの縦弾性係数である)またはU=Σσj2×Wj×T
j×Lj/(2×Ej)で表されて、この値は0にはな
らない。このことから内部蓄積エネルギーをいかに少な
くするかが、放熱性の高い、熱残留応力の低い、耐ヒー
トサイクル性や耐ヒートショック性などの耐熱性のよい
半導体装置をうることができるのである。このため、第
一の吊りリード、第二の吊りリード、吊りリード補強
材、ダイパッドおよび第二の吊りリードに設ける沈めの
果たす作用のうち、第二の吊りリード、吊りリード補強
材、ダイパッド、第二の吊りリードに設ける沈めの作用
についてつぎに説明する。
【0026】図5は図3におけるリードフレームに半導
体チップをダイボントする状態を示している。図6はダ
イパッド1、額縁状の吊りリード補強材4、第一の吊り
リード5、第二の吊りリード7および半導体チップCP
の寸法の関係をダイボンドしたときの熱変形を生じない
理想的な状態を示す。図7はダイボンドおよびダイボン
ドキュアで230℃前後で熱履歴後室温まで温度が下げ
られたときに生じるダイパッド1および半導体チップC
Pの反りダイパッド沈め量の変化量の大きさを説明のた
めに誇張して示している。
【0027】図2に示すリードフレームFに半導体チッ
プCPを図5に示すように、ヒートブロック15上に載
置してダイボンドを行なうと、図6に示す状態にダイボ
ンド直後の高温時は保たれるが、温度が室温まで下がる
と、図7に示すように、ダイパッド1の中心点における
ダイパッド沈め寸法ΔCBは、図6に示すダイパッド1
の中心点におけるダイパッド沈め寸法ΔCBより浅くな
る。逆に図7に示すようにダイパッド1の中心点におけ
るダムバー6から半導体チップCPの表面までの寸法Δ
ACは、図6に示すダイパッド1の中心点におけるダム
バー6から半導体チップCPの表面までの寸法ΔACよ
り大きくなる。この現象を図8で説明する。同図は、半
導体チップCPの中心線を変形の対称軸としたバネ結合
モデルを表わし、図中K1は半導体チップとダイパッド
がダイボンドされたのちの等価バネ定数、K2は第二の
吊りリードの等価バネ定数、K3は図2における上側ダ
ムバーとフレーム枠レール部とアウターリードを含む等
価バネ定数、K4は図2における下側ダムバーとフレー
ム枠とアウターリードを含む等価バネ定数を表わしてい
る。このモデルで、ダイボンド後において、K1部以外
は全て同じ熱膨張係数をもつリードフレームで構成され
ているので、温度変化に対しては自由熱膨張、熱収縮を
行なうが、K1部分は半導体チップがダイボンドにより
一体に結合されるために、この部分のみ合成等価熱膨張
係数が異なるために高温度のダイボンド温度から室温の
低下に温度変化をさせると、図8のK1とK2の結合部
に同図に示すような熱膨張係数の差と温度差の積に相当
する差Δを生じる。このとき力の釣合からつぎの式がな
りたつ。
【0028】 K1×Δ1=K2×Δ2+K3×Δ3+K4×Δ4 これは、ダイパッドと半導体チップが引き起こす熱膨張
係数の差と温度差の積に相当する変位量の変位分担の多
くは、等価バネ定数K2の変位Δ2と等価バネ定数K3
の変位Δ3と等価バネ定数K4の変位Δ4が受けもつこ
とを表わしている。前記ダイパッドと半導体チップとの
合成等価バネ定数K1は他のバネ定数K2、K3、K4
に比較して2桁から3桁大きいのが一般的である。
【0029】このばあい重要なことは、第二の吊りリー
ドの等価バネ定数K2の変位Δ2で一番多く変位を吸収
するように作用させる。Δ3、Δ4はフレーム枠レール
部の変位として作用するために、Δ3、Δ4は変位をで
きる限り小さくする必要がある。Δ3、Δ4を大きくす
ると、フレーム枠レール部に搬送用の送り穴を設けてい
るために、その送り穴ピッチに誤差を生じさせ、ワイヤ
ボンド装置やその後のモールド装置の搬送系において搬
送できない、または搬送ジャムを引き起こし、生産性を
極端にわるくするからである。
【0030】つぎにダイパッドに半導体チップをダイボ
ンドして一体に結合することで生じる単純引張り圧縮力
(以下、単に引張り力という)と曲げモーメントが吊り
リードを介してダイパッドシフトを生じる現象とその現
象を小さくするために第一の吊りリード、吊りリード補
強材、第二の吊りリードおよび第二の吊りリードの折り
曲げがどのように作用するかを述べる。前述したように
吊りリード部に生じる変形は第二の吊りリードの剛性K
2の変形量Δ2で吸収するように構成してΔ3、Δ4を
小さく、Δ2を一番大きい変形を起こすように作用させ
る。すなわち、この変形は図9に示すように作用させ
る。同図には、半導体チップを省略している。図10は
曲げ変形をモデル化して示している。同図においてダイ
パッド1に半導体チップCPがダイボンドにより一体に
結合されたB−H部分で曲げモーメントMと引張り力F
を生じる。この曲げモーメントMと引張り力Fは、第一
の吊りリード5、吊りリード補強材4、第2の吊りリー
ド7、ダムバー6のあいだに伝えられ、各部材部分の剛
性に応じて変位を生じるように作用する。
【0031】つぎに第二の吊りリードに設けた吊りリー
ド補強材4近傍の折曲げ部の作用について説明する。
【0032】図11は、説明のために第二の吊りリード
7に設けた吊りリード補強材4近傍にダイパッド沈めの
ために折り曲げ部を設け、これを拡大している。なお、
第一の吊りリードやダイパッドなどは省略している。ま
た、前記各部材部分の変位を図10におけるB−C−D
−E−F−Gの変位に関して、単にダイパッド1のB点
とダムバー6のG点を単一の吊りリードで結合したとき
の拡大した例を図12に示す。図12に示す吊りリード
の長さを2分する位置に吊りリード補強材4を設けた例
を図13(a)に示す。ただし、ダイパッド沈めは省略
している。
【0033】まず図11において吊りリード補強材4に
第一の吊りリードを介してモーメントMおよび引張り力
Fが図示するように掛かったとき、変形前の状態を表わ
すG−F−Eは、変形してG−F′−E′となる。第二
の吊りリード7に設けたダイパッド沈めは引張り力Fが
働いたときに、G−F−E−Dを引き伸ばすとともに、
(ダイパッド沈め量l)×Fのモーメントが働き、角度
G−F−Eを広げる方向、および角度F−E−Dを狭く
する方向に作用する。このように図11の第二の吊りリ
ード7に設けたダイパッド沈めは引張り力Fを(ダイパ
ッド沈め量l)×Fのモーメントに変える作用がある。
【0034】このことは、角度G−F−Eと角度F−E
−Dが変化しないように剛性を大きくすると、C点が移
動してC′点に移動する変位量は大きくなる。このた
め、第二の吊りリード7の剛性を小さくすることと、第
二の吊りリード7に設けた吊りリード補強材4近傍で角
変位する折曲げ部はダイパッド沈めのシフト量を少なく
する作用をする。
【0035】これに対してダイパッド沈めがないばあ
い、たとえば図12に示す変形前の直線吊りリードでは
引張り力Fが働いたときに、引き伸ばす方向にしか変位
できないため、引張り力Fに対しては剛性が大きい。こ
のために同図において変位はダイパッド沈めの変化方向
にしか変化の自由がない。その結果、変化量Sdが発生
し、ダイパッドシフトは大きくなるように作用する。
【0036】つぎに本実施の形態におけるダイパッド
1、第一の吊りリード5、第二の吊りリード7、額縁状
の吊りリード補強材4の構成を実際に適用することにつ
いて説明する。
【0037】図2は、第一の吊りリード5、第二の吊り
リード7、ダイパッド1、吊りリード補強材4の作用に
ついて説明するために、説明に必要な部分以外を省略し
ており、同図において、ダイパッド1の寸法は半導体チ
ップCPの寸法に比較して、1/2以下にしている。
【0038】まず前述のように、等価バネ定数K2の変
位Δ2で一番多く変位を吸収するようにしないとΔ3、
Δ4が多くを分担しなくてはならないことになる。Δ
3、Δ4はフレーム枠レール部の変位であるため、フレ
ーム枠には搬送用の送り穴を設けていることから、この
送り穴ピッチに誤差を生じさせワイヤボンド装置やその
後のモールド装置の搬送系において搬送できない、また
は搬送ジャムを引き起こし生産性を極端にわるくするこ
とになる。
【0039】ダイパッドに半導体チップをダイボンドに
より一体に結合されるために生じる引張り力と曲げモー
メントは、図8のモデルで前述したように吊りリード部
に生じる変形は第二の吊りリード7の等価バネ定数K2
で一番大きい変形量をおこす。この変形により、図10
に示すように、ダイパット1に半導体チップCPがダイ
ボンドにより一体に結合されたB−H部分で曲げモーメ
ントMと引張り力Fを生じている。この曲げモーメント
Mと引張り力Fは、第一の吊りリード5と、吊りリード
補強材4、第二の吊りリード7、ダムバー6のあいだに
伝えられ、各部材部分の剛性に応じて変位させる。
【0040】第一の吊りリード5は単純梁形状であるた
め、省略し、図11に第二の吊りリード7に前述のモー
メントMと引張り力Fが掛かったときの変形状態を示
す。図14に第二の吊りリード7の沈め部分の領域に前
述のモーメントMと引張り力Fが掛かったときの状態を
示す。吊りリードは変形に対して意図する変形を生じる
ようにする必要がある。極端にいえば、吊りリードは剛
性を低く抑える必要がある。第一の吊りリード5の吊り
リード補強材4近傍に設けたダイパッド沈めを有する本
実施の形態のばあい、引張り力Fが掛かったときにも、
(沈め量l×F)となるモーメントM′により、沈め部
分のD−E−F部の角度とE−F−G部との角度は角変
位を起こす。
【0041】図14に示すように、引張り力Fに対する
同図におけるX方向の変形剛性はKfx=W×T×E/
L、ただし、Wは幅であり、Tは厚さであり、Eは縦弾
性係数であり、Lは長さである。これに対して、曲げ変
形に対する剛性はKm=C×W×T3×E/L3、ただ
し、Cは両端の支持条件によって異なる定数である。
【0042】このKfxとKmを熱変形緩和または熱応
力緩和のために、いかに構成するかが大きな寸法の半導
体チップを収納するプラステイックパッケージをうるた
めに必要であって、前述からKfx/Km=L2/(C
×T2)であり、変形を抑えたい方向の変位に対しては
Kfxを作用し、変形を抑えたくない方向の変位に対し
てはKmを積極的に作用させるように、本実施の形態で
は、ダイパッド1、半導体チップCP、第一の吊りリー
ド5、吊りリード補強材4、第二の吊りリード7を構成
している。
【0043】図10に示すδ1はダイパッド1の反りに
よる変位量であり、δ2は第一の吊りリード5の変位量
であり、δ3は第二の吊りリード7の変位量である。δ
1は半導体チップCPとダイパッド1とのダイボンド接
合長さB−H部を短くすることで小さくすることができ
るとともに、発生する熱変形の曲げモーメントMの値も
小さくすることができる。第一の吊りリード5の変位量
δ2はC−B部の距離Lc−bを短く、かつ、幅Wを広
く取れば小さくすることができる。第二の吊りリード7
の変位量δ3は吊りリード補強材4からダムバー6まで
の第二の吊りリード7の長さを短く形成することで小さ
くすることができる。本実施の形態では第二の吊りリー
ド7を吊りリード補強材4と接続する部分で折り曲げ
て、ダイパッド沈めを設け、結果的に第二の吊りリード
7の長さを長く形成したのは、この部分に熱変形を集中
させ、モールドしたのちに第二の吊りリード7とダムバ
ー6を接続しているモールド外周近傍部分を切り離し、
最終的に残留熱内部応力や残留熱内部変形を起こさせて
いる結合部の拘束を解放することである。
【0044】本実施の形態における第二の吊りリード7
では熱変形吸収のために積極的に作用させる。図10お
よび図14で第二の吊りリード7の変形方向を同図に示
すZ方向に意図的にコントロールするように作用させる
方法について説明する。第二の吊りリードの幅Wは厚さ
寸法Tに対してW>Tで形成する。図13でY軸に関す
る断面二次モーメントはly=W×T3/12であり、
Z軸に関する断面二次モーメントはlz=T×W3/1
2であることからわかるように、Z軸方向の曲げ剛性は
Y軸方向の曲げ剛性に比較して(W/T)2だけ強くし
ているために、変位を弱いY軸方向の曲げ剛性に支配さ
せて、Y軸に対して直角なZ軸方向に変位するように作
用させるものである。
【0045】つぎに吊りリード補強材4を設ける位置の
違いによってダイパッド沈め量が変化するため、吊りリ
ード補強材4をダイパッド1とダムバー6とのあいだの
隙間寸法のどの位置に配置するかによって生じる結果が
どのように作用するかを図によって説明する。
【0046】図12には従来行なわれていたダイパッド
1をダムバー6に接続する長さがL0の1つの吊りリー
ドの変形量Sdを示す。このばあいダイボンド後にダイ
パッド部分に働く熱残留応力などに基づくモーメントや
引張り力に対して、長さがL0の1つの吊りリード5の
変形量Sdは、図13(a)や図13(b)に示すよう
に、吊りリード補強材4を設けた長さがL1の第一の吊
りリード5、長さがL2の第二の吊りリード7、長さが
Lrの吊りリード補強材4から、L0=L1+L2+L
rの関係を有しており、かつ、図15に示すように、長
さがLrの吊りリード補強材4の幅方向の寸法は、長さ
L1の第一の吊りリード5および長さがL2の第二の吊
りリード7の幅に比較して、2本の吊りリード補強材4
と第一の吊りリード5と第二の吊りリード7が交わる領
域の幅寸法で非常に大きいので、この部分の剛性は大き
く、そのためこの部分に生じる変位を省略できるように
作用するため、L0>L1+L2およびSd>Sc>S
bとなるように作用する。このため、吊りリード補強材
4の幅を大きく形成して変位を省略させる作用のみを多
く採用すると、その分吊りリード補強材4をモールド内
に封入することになり、モールド後の熱残留応力を多く
半導体装置の中に残したままになる。これにより耐ヒー
トサイクル性や耐クラック性がわるくなる。このため、
モールド体積の中に占める半導体チップ、ダイパッド、
吊りリード、吊りリード補強材およびインナーリードの
体積には、最適値が存在する。また吊りリード補強材の
長さ、厚さおよび幅の各寸法は、半導体チップ、ダイパ
ッド、吊りリード、インナーリードおよびモールド材で
従来行なっていた耐ヒートサイクル性や耐クラック性の
最適値を求めるのに対し、本実施の形態では、吊りリー
ド補強材を追加して、最適値を求める。
【0047】一方、図13(a)と図13(b)に示す
吊りリード補強材4を設ける位置の違いによる作用の違
いについて図13(b)に示すように、吊りリード補強
材4を設ける位置をダイパッド1の近傍にすると、吊り
リード補強材4は第一の吊りリード5およびダイパッド
1を同時に補強するように作用して、ダイパッド1を小
さくして半導体チップCPをダイボンドしたときの反り
を小さくすることができない。その上補強すべき第二の
吊りリード7を補強する作用が少ないため、図12に示
すL0を図13(a)に示すL2に短くした効果に過ぎ
ない作用をする。
【0048】以上のことから、吊りリード補強材4を設
ける位置は、ダイパッド1からダイパッド1を補強しな
い距離を隔てて設けるとともに、できるだけ収納可能な
半導体チップCPの寸法の最外周寸法に近い位置に設け
る。これによりダイパッドシフトを低減することができ
る。
【0049】図4において半導体チップCP上の面から
モールド外形上面までの寸法と半導体チップCPの裏面
からモールド外形下面までの寸法が等しくなるようにし
てモールドすると、モールド時に、ダイパッドシフトが
生じない。ただし、このようにモールドした半導体装置
はモールド後のパッケージ反りが、零になるとは限らな
い。
【0050】すなわち、モールド後のパッケージ反りを
零にするための半導体チップCP上の面からモールド外
形上面までの寸法と半導体チップの裏面からモールド外
形下面までの寸法は、半導体チップCPの寸法、ダイパ
ッド1の材質、ダイパッド1の寸法、額縁状の吊りリー
ド補強材4の寸法と材質、ダイボンド材10の寸法と材
料の組み合わせによって変化する。たとえば図4に示す
半導体装置において、モールド外形寸法が24mmの正
方形で厚さが1.4mmに、1辺が4mmの正方形のダ
イパッドを形成した銅フレームを用いたばあい、モール
ド時に、最小反りになる半導体チップ(厚さ0.45m
m)上の面からモールド外形上面までの寸法は0.56
8mmであり、半導体チップの裏面からモールド外形下
面までの寸法は0.382mmとなるのに対して、銅フ
レームを使用したばあい、最小反りになる半導体チップ
CP上の面からモールド外形上面までの寸法は0.53
1mmであり、半導体チップCPの裏面からモールド外
形下面までの寸法は0.419mmとなる。これは、モ
ールド時に、ダイパッドシフトを生じない0.475
((1.4−0.45)/2)mmに対して変化してい
る。したがって、ダイパッド1の1辺の寸法を変更して
最適寸法を決定することがこの差を小さくするために必
要である。
【0051】半導体装置の製造工程において、ダイボン
ド工程でフレームのダイパッドシフトを生じ、ワイヤボ
ンド工程においても、ワイヤによって引き上げられるた
めに、フレームを製造工程に投入するときのダイパッド
沈め量は、モールド工程でモールドする直前のダイパッ
ド沈めの量よりもシフトする量だけ深く沈めたフレーム
が必要である。
【0052】そのために、製造工程に投入するときのダ
イパッド沈め量はリードフレームの板厚の1.5倍以上
に深く沈めることは、モールド時にダイパッドシフトを
生じさせないとともに、半導体装置がモールド後パッケ
ージ反りを限りなく零にする。
【0053】なお、図16はリードフレームFを理想的
な熱変形のない状態で、モールド上金型16と下金型1
7に取り付けたときの状態を示す。
【0054】図17は図7に示すような実際には熱変形
を生じているリードフレームFをモールド金型に取り付
けたとき金型内部での半導体チップCP表面と上金型1
6までの隙間寸法、ダイパッド1と下金型17までの隙
間寸法および半導体チップCP裏面と下金型までの隙間
寸法にアンバランスを生じることを説明するために金型
内部の隙間寸法の違いを示す。
【0055】図18は図7の熱変形したリードフレーム
Fだけを半導体チップを省略して示している。強制変位
はダイパッドと半導体チップが一体にダイボンドされた
あとでダイボンド部分の等価熱膨張係数がダイパッドを
取り囲む形で拘束するリードフレームの熱膨張係数の差
によって生じる熱変形量を生じている。図18は図10
のリードフレームを図17に示す位置からモールド金型
でリードフレームを隙間がなくなるように鋏み込んだの
ちの溶融モールド樹脂を注入直前の状態を示す。この状
態におけるダイパッド沈めの位置が、モールド後の半導
体装置の反りを決定する。また図18は、実際の熱変形
を生じているフレームFを用いて、モールドをするとき
に、上金型と下金型によって締め付けられたフレームの
ダムバー部分と、リードフレーム枠端部分に金型による
荷重を受けて、ダイパッド部分および吊りリード部分に
金型による曲げ応力が掛かることを示している。
【0056】つぎに本発明を実施例に基づいて説明する
が、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではな
い。
【0057】実施例1 図19に示すように、第二の吊りリード7は幅寸法をW
2=0.2mm、板厚寸法をT2=0.125mm、長
さをL2=3.658mmとして、額縁状の吊りリード
補強材4との接続位置に0.3mmの段差を生じるダイ
パッド沈めを行っている。また額縁状の吊りリード補強
材4は幅寸法をWr=0.4mmとして、外形寸法を1
4mm×9mmの額縁状に形成している。第一の吊りリ
ード5は幅寸法をW1=1mm、厚さをT1=0.12
5mmで、ダイパッド1と吊りリード補強材4とのあい
だを接続し、第一の吊りリード5の幅W1=1mmの中
心線上に幅0.4mmの長孔20を2つ形成している。
半導体チップCPの寸法は14.2mm×10mmを用
いて、モールド樹脂の外形寸法は、20mm×14mm
×1.4mmである。ダイパッド1は1辺が5mmの正
方形で、かつ、0.8mmの貫通孔21を0.8mmの
等ピッチで13個形成している。前記長穴20は、2つ
形成しているが、1つまたは3つ以上形成することがで
き、また前記貫通孔21の数は、13個に限定されるも
のではなく、適宜選定することができるし、貫通孔21
に代えて十字状の貫通孔とすることができる。
【0058】図15は図2の吊りリード補強材4、第一
の吊りリード5、ダムバー6および第二の吊りリード7
の拡大図で、ダイパッド1が、たとえば下にシフトした
ときに(同図では、上下を逆にしている)、第一の吊り
リード5の長さは伸ばされるとともに、図15および図
20に示すように、吊りリード補強材4もその外周寸法
WO1は、ダイパッド1のシフトがH1のときにはWO
2に、ダイパッド1のシフトがH2のときにはWO3に
伸ばされる。このWO1からWO2への変位を吊りリー
ド補強材4の引張り荷重による変位に対する剛性で支え
ることになる。第一の吊りリード5の両端はダイパッド
1と接続し、他端は吊りリード補強材4と接続されてい
るために、ダイパッド1の面と直角なZ方向への変位に
対して両端の境界条件は、固定端とすることができる。
このように吊りリード補強材4には引張り荷重剛性を、
第一の吊りリード5には曲げモーメントに対して曲げ剛
性の大きい両端の境界条件が固定端となるように形成す
ることができる。
【0059】このダイパッド1の周囲に所定の間隔を有
して、吊りリード補強材4を設けることに対して、吊り
リード補強材4をダイパッド1とダムバー6とのあいだ
のどこに配置するのが効果的かという点に対して、本実
施の形態では、吊りリード補強材4をダイパッド1から
ダムバー6までの距離の中間点近傍に形成している。一
般に多ピンになると第一の吊りリード5の幅寸法は狭く
長くなるが、本実施例では、図19に示すように、第二
の吊りリード7と第一の吊りリード5は長さおよび幅寸
法が異なるばあいに、細くて短い第二の吊りリード7と
広くて長い第一の吊りリード5を形成するようにしたこ
とで、ダイパッドシフトに対する最良の効果をうること
がができる。
【0060】図15および図20では、ダイパッドが下
にシフトするばあいを説明のために一例として示した
が、ダイパッドが上にシフトするばあいも作用効果は同
じである。ただし、ダイパッドが下にシフトするときに
は、上にシフトするときよりも、条件がよくなる。その
理由は、半導体チップCPが吊りリード補強材4の外周
寸法より大きいために、第一の吊りリード5の変位H1
が大きいばあい、半導体チップCPと吊りリード補強材
4とが当たり吊りリードの変位H1を吊りリード補強材
4が制限するように作用するためである。
【0061】このことから、ワイヤボンド工程後、モー
ルドをする前のダイパッド沈め量を、モールド樹脂の注
入によって下側にシフトさせるように形成することが可
能であり、またTQFP、TSOPのようにモールド外
形の厚さ寸法が1mmと薄いパッケージのばあい、モー
ルド樹脂の注入時によってダイパッドシフトをさせない
位置に形成することもできる。
【0062】図19に示すダイパッド1に同図に示す一
辺の長さがモールド外形寸法の一辺の長さの70%の長
さを有する半導体チップCPを樹脂ダイボンド材10で
ダイボンドパット1の大きさと等しくして、ダイボンド
し、そののち半導体チップの各電極とそれぞれに対応す
るインナーリード2の内端部2aとボンディングワイヤ
ーで接続し、ついでこの半導体チップCPを固定したリ
ードフレームをモールド用成形金型に搭載したのち、溶
融モールド樹脂を注入して、樹脂封入した結果、高品質
および信頼性の高い半導体装置をうることができた。
【0063】図19のような構造を有するリードフレー
ムFをボディサイズが14mm×20mmの長方形のモ
ールド外形の半導体装置と12mm×12mmから24
mm×24mmまでの正方形の半導体装置に実施した
が、いずれも良好な結果がえられた。とくにつぎのパッ
ケージ反り、吸湿クラック耐性およびフレームの集約性
が大幅に改善できた。
【0064】パッケージ反り:図19に示すダイパッド
を有するフレームに半導体チップCPを搭載した半導体
装置は、図21に示す大きいダイパッドを有するフレー
ムF1に半導体チップを搭載した従来の半導体装置に比
べ、反りを80μmから40μmに減少することができ
た。なお、図22に示す吊り補強材のないダイパッドを
有するフレームF2に半導体チップを搭載した従来の半
導体装置については、モールド時チップが露出した。
【0065】吸湿クラック耐性:図19に示すダイパッ
トを有するフレームに半導体チップを搭載した半導体装
置は、図21に示す従来のダイパッドを有するフレーム
に半導体チップを搭載した半導体装置に比べ、吸湿クラ
ック耐性は従来の30℃/70%R.H.96時間まで
から336時間までにアップできた。
【0066】フレームの集約性:表1に示すように、図
19に示すダイパッドを有するフレームに大、中、小サ
イズの半導体チップを搭載した半導体装置のパッケージ
反りは、図21示すダイパッドを有するフレームおよび
図22に示す吊りリード補強材のない小さなダイパット
構造のフレームに同じ大、中、小サイズの半導体チップ
を搭載した半導体装置のパッケージ反り(PKG反り)
に比べ、本実施例のパッケージ反りはチップの大きさに
依存性が小さく、フレームの集約性がよいことが確認で
きた。
【0067】
【表1】
【0068】実施例2 本実施例は、前記実施例1とは、ダイパッドの1辺が3
mmの正方形である点で異なるリードフレームを用いる
とともに、半導体チップ寸法は14mm×10mmを用
いて、モールド樹脂の外形寸法が20mm×14mm×
1.4mmになるように形成した。
【0069】本フレームと吊りリード補強材のない小さ
なダイパット構造を示す図22のフレームと図21に示
す半導体チップの寸法より大きいダイパットのフレーム
を用い、ダイパッドに同じ大きな寸法の半導体チップを
樹脂ダイボンド材でダイボンドし、そののち半導体チッ
プの各電極とそれぞれに対応するインナーリードの内端
部とボンディングワイヤーで接続し、モールド樹脂で封
止した。図23に本フレームFと図22のフレームF2
について、封止後の各仕様の吊りリードA′、A″とダ
イパットB′、B″の変位量の違いを示す。断面研磨で
測定した実測値を表2に示す。表2中AとBは、図23
に示すような額縁コーナーとダイパットコーナーであ
る。ただし、従来例(図21)のばあいはA、Bが同じ
位置である。同時に各仕様の生フレームF、F1および
F2から、ダイボンド前(S)、ダイボンド後(S
1)、ワイヤーボンド後(S2)およびモールド後(S
3)のダイパッド沈め量の変化を測定した結果を図24
に示す。試作の結果により、従来の図22に示すような
長い吊りリードを有する小ダイパッドフレームが図19
のような額縁の補強材によって、モールド成形金型に溶
融樹脂で注入するときに、その樹脂の注入アンバランス
により生じる吊りリードの変位とダイパッドシフトを抑
えることができることが確認できた。図21に示すフレ
ームF1については、モールド後ダイパッドの露出が発
生した。なお、補強材の位置によって、モールドすると
きにダイパッドシフト量が大きく左右する。
【0070】
【表2】
【0071】
【発明の効果】以上説明したとおり、請求項1にかかわ
る本発明によれば、半導体チップの1辺の長さが、モー
ルド外径の1辺の寸法から2.5mm以下であり、額縁
状に形成される吊りリード補強材の最外周の1辺の長さ
が、半導体チップの1辺の長さ以下であり、ダイパッド
の1辺の長さが3mmをこえて額縁状に形成される吊り
リード補強材最外周の1辺の長さの50%以下であると
ともに、吊りリード補強材をダムバーに接続する第二の
吊りリードが、吊りリード補強材に接続する近傍でダイ
パッド沈めが行なわれ、該第二の吊りリードに段差が設
けられ、請求項5にかかわる発明によれば、前記第一の
吊りリードが第二の吊りリードの幅寸法より大きな幅を
有しており、該第二の吊りリードを吊りリード補強材に
接続する近傍でダイパッド沈めが行なわれ、該第二の吊
りリードに少なくともモールド厚さ寸法から半導体チッ
プの厚さ寸法、ダイボンドの厚さ寸法およびダイパッド
の厚さ寸法を引いた値の1/2の段差が設けられ、請求
項6にかかわる発明によれば、前記第一の吊りリードが
第二の吊りリードの幅寸法より大きな幅を有しており、
該第二の吊りリードを吊りリード補強材に接続する近傍
でダイパッド沈めが行なわれ、該第二の吊りリードに段
差が設けられているので、半導体装置組立工程、すなわ
ち半導体チップをダイパッドに固定保持するダイボンド
工程、半導体チップ上に設けられた電極と複数のインナ
ーリードを金線にて接続するワイヤボンド工程、および
前記半導体チップ、ダイパッド、複数のインナーリード
を規定外形寸法に樹脂封止するモールド工程で、前記ダ
イパッドを上下移動(シフト)させることなく、前記ダ
イボンド工程実施前のダイパッドの縦方向所定位置を維
持することができる。このため、半導体装置組立工程の
歩留が向上するとともに、半導体装置の縦方向構成部の
応力バランスが均一化し、半導体装置外形の反りを低減
および防止することができる。また半導体装置の信頼性
試験、とくに吸湿クラック耐性などの大幅な向上が実現
できることから、半導体装置の実使用における耐久性の
向上ができる。その結果、高品質および高信頼性の半導
体装置をうることができる。
【0072】また請求項2にかかわる発明によれば、前
記第二の吊りリードを吊りリード補強材に接続する近傍
でダイパッド沈めが行なわれ、該第二の吊りリードに段
差が設けられ、請求項3にかかわる発明によれば、前記
第一の吊りリードが第二の吊りリードの幅寸法より大き
な幅を有しており、該第二の吊りリードを吊りリード補
強材に接続する近傍でダイパッド沈めが行なわれ、第二
の吊りリードに少なくともモールド厚さ寸法から半導体
チップの厚さ寸法、ダイボンドの厚さ寸法およびダイパ
ッドの厚さ寸法を引いた値の1/2の段差が設けられ、
請求項4にかかわる発明によれば、第一の吊りリードが
第二の吊りリードの幅寸法より大きな幅を有しており、
前記第二の吊りリードを吊りリード補強材に接続する近
傍でダイパッド沈めが行なわれ、第二の吊りリードに段
差が設けられているので、ダイパットシフトを低減する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施の形態にかかわる半導体装置
用リードフレームにモールドした一部切欠平面図であ
る。
【図2】 本発明の一実施の形態にかかわる半導体装置
用リードフレームの平面図である。
【図3】 図2におけるリードフレームの要部断面図で
ある。
【図4】 図2におけるリードフレームを用いた半導体
装置の断面図である。
【図5】 図3におけるリードフレームに半導体チップ
をダイボントする状態を示す図である。
【図6】 本発明のモールドする前の理想的な変形のな
い状態でのダイパッド沈めを示す図である。
【図7】 ダイパッド沈め量の変化を示す図である。
【図8】 ダイパッド部分の等価バネ定数と半導体装置
用リードフレームの各部分の合成等価バネ定数を組み合
わせたモデル図である。
【図9】 ダイボンド、ワイヤボンドしたのちの半導体
装置用リードフレームの変形状態を示す図である。
【図10】 半導体装置用リードフレームをモールド金
型にセットし締め付ける直前の状態を示す図である。
【図11】 第2の吊りリードの変形を説明するための
図である。
【図12】 従来の半導体装置用リードフレームにおい
て額縁状の吊りリード補強材を有しないばあいのダイパ
ッドシフト量を示す図である。
【図13】 吊りリード補強材とダイパッドの位置関係
を示す説明図である。
【図14】 第二の吊りリードを説明する斜視図であ
る。
【図15】 ダムバーを基準にしてダイパッドおよび吊
りリードがシフトしたときの寸法の関係を示す図であ
る。
【図16】 モールド金型で変形のない半導体装置用リ
ードフレームを締め付けたときの状態を示す図である。
【図17】 変形のある半導体装置用リードフレームを
モールド金型にセットし締め付ける直前の状態を示す図
である。
【図18】 モールド金型を締め付け完了したのちの第
二の吊りリード、吊りリード補強材、第一の吊りリード
およびダイパッドの変形を示す図である。
【図19】 実施例1、2にかかわる半導体装置用リー
ドフレームの要部平面図である。
【図20】 吊りリード補強材とダイパッドシフトの関
係を示す説明図である。
【図21】 従来の半導体装置用リードフレームにおけ
るダイパッドと吊りリードを示す平面図である。
【図22】 従来の他の半導体装置用リードフレームに
おけるダイパッドと吊りリードを示す平面図である。
【図23】 モールド前後のダイパッドシフトを示す説
明図である。
【図24】 半導体装置の加工工程ごとのダイパッド沈
め量の変位を示す図である。
【符号の説明】
1 ダイパッド、1a 周縁、2 インナーリード、3
アウターリード、4吊りリード補強材、5 第一の吊
りリード、6 ダムバー、7 第二の吊りリード、8
段差、9 フレーム枠レール部、10 ダイボンド材、
11 金線、12 モールド樹脂、13 アウリーリー
ド終端部、14 第二の吊りリード端部、15 ダイボ
ンド用ヒートブロック、16 モールド用上金型、17
モールド用下金型、F リードフレーム、CP 半導
体チップ。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成10年4月2日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0027
【補正方法】変更
【補正内容】
【0027】図2に示すリードフレームFに半導体チッ
プCPを図5に示すように、ヒートブロック15上に載
置してダイボンドを行なうと、図6に示す状態にダイボ
ンド直後の高温時は保たれるが、温度が室温まで下がる
と、図7に示すように、ダイパッド1の中心点における
ダイパッド沈め寸法ΔCBは、図6に示すダイパッド1
の中心点におけるダイパッド沈め寸法ΔCBより浅くな
る。逆に図7に示すようにダイパッド1の中心点におけ
るダムバー6から半導体チップCPの表面までの寸法Δ
ACは、図6に示すダイパッド1の中心点におけるダム
バー6から半導体チップCPの表面までの寸法ΔACよ
り大きくなる。この現象を図8で説明する。同図は、半
導体チップCPの中心線を変形の対称軸としたバネ結合
モデルを表わし、図中K1は半導体チップとダイパッド
がダイボンドされたのちの等価バネ定数、K2は第一お
よび第二の吊りリードの等価バネ定数、K3は図2にお
ける上側ダムバーとフレーム枠レール部とアウターリー
ドを含む等価バネ定数、K4は図2における下側ダムバ
ーとフレーム枠とアウターリードを含む等価バネ定数を
表わしている。このモデルで、ダイボンド後において、
K1部以外は全て同じ熱膨張係数をもつリードフレーム
で構成されているので、温度変化に対しては自由熱膨
張、熱収縮を行なうが、K1部分は半導体チップがダイ
ボンドにより一体に結合されるために、この部分のみ合
成等価熱膨張係数が異なるために高温度のダイボンド温
度から室温の低下に温度変化をさせると、図8のK1と
K2の結合部に同図に示すような熱膨張係数の差と温度
差の積に相当する差Δを生じる。このとき力の釣合から
つぎの式がなりたつ。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0029
【補正方法】変更
【補正内容】
【0029】このばあい重要なことは、吊りリードの等
価バネ定数K2の変位Δ2で一番多く変位を吸収するよ
うに作用させる。Δ3、Δ4はフレーム枠レール部の変
位として作用するために、Δ3、Δ4は変位をできる限
り小さくする必要がある。Δ3、Δ4を大きくすると、
フレーム枠レール部に搬送用の送り穴を設けているため
に、その送り穴ピッチに誤差を生じさせ、ワイヤボンド
装置やその後のモールド装置の搬送系において搬送でき
ない、または搬送ジャムを引き起こし、生産性を極端に
わるくするからである。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0030
【補正方法】変更
【補正内容】
【0030】つぎにダイパッドに半導体チップをダイボ
ンドして一体に結合することで生じる単純引張り圧縮力
(以下、単に引張り力という)と曲げモーメントが吊り
リードを介してダイパッドシフトを生じる現象とその現
象を小さくするために第一の吊りリード、吊りリード補
強材、第二の吊りリードおよび第二の吊りリードの折り
曲げがどのように作用するかを述べる。前述したように
吊りリード部に生じる変形は吊りリードの等価バネ定数
K2の変形量Δ2で吸収するように構成してΔ3、Δ4
を小さく、Δ2を一番大きい変形を起こすように作用さ
せる。すなわち、この変形は図9に示すように作用させ
る。同図には、半導体チップを省略している。図10は
曲げ変形をモデル化して示している。同図においてダイ
パッド1に半導体チップCPがダイボンドにより一体に
結合されたB−H部分で曲げモーメントMと引張り力F
を生じる。この曲げモーメントMと引張り力Fは、第一
の吊りリード5、吊りリード補強材4、第2の吊りリー
ド7、ダムバー6のあいだに伝えられ、各部材部分の剛
性に応じて変位を生じるように作用する。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0039
【補正方法】変更
【補正内容】
【0039】ダイパッドに半導体チップをダイボンドに
より一体に結合されるために生じる引張り力と曲げモー
メントは、図8のモデルで前述したように吊りリード部
に生じる変形は吊りリードの等価バネ定数K2で一番大
きい変形量をおこす。この変形により、図10に示すよ
うに、ダイパット1に半導体チップCPがダイボンドに
より一体に結合されたB−H部分で曲げモーメントMと
引張り力Fを生じている。この曲げモーメントMと引張
り力Fは、第一の吊りリード5と、吊りリード補強材
4、第二の吊りリード7、ダムバー6のあいだに伝えら
れ、各部材部分の剛性に応じて変位させる。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のコーナーを有するダイパッドと、
    該ダイパットの周縁に沿って所定の間隔で配列された、
    内端部を有する複数のインナーリードと、該インナーリ
    ードの外方に延設されるアウターリードと、前記ダイパ
    ットとインナーリードとのあいだに、該ダイパットの周
    縁に沿って額縁状に配置された吊りリード補強材と、前
    記ダイパッドのコーナーを吊りリード補強材に接続する
    第一の吊りリードと、前記吊りリード補強材を前記イン
    ナーリードとアウターリードとのあいだのダムバーに接
    続する第二の吊りリードとからなるリードフレーム上
    に、ダイボンドを介して接着される半導体チップと前記
    複数のインナーリードとを電気的に接続する金線をモー
    ルド樹脂で外装しており、前記リードフレームのアウタ
    ーリード終端部、ダムバーおよびダムバーに接続するモ
    ールド境界近傍外部で第二の吊りリード端部を切り放し
    てなる半導体装置であって、前記半導体チップの1辺の
    長さが、モールド外径の1辺寸法から2.5mm以下で
    あり、額縁状に形成される吊りリード補強材の最外周の
    1辺の長さが、半導体チップの1辺の長さ以下であり、
    ダイパッドの1辺の長さが3mmをこえて、額縁状に形
    成される吊りリード補強材最外周の1辺の長さの50%
    以下であるとともに、吊りリード補強材をダムバーに接
    続する第二の吊りリードが、吊りリード補強材に接続す
    る近傍でダイパッド沈めが行なわれ、該第二の吊りリー
    ドに段差が設けられてなることを特徴とする半導体装
    置。
  2. 【請求項2】 複数のコーナーを有するダイパッドと、
    仮想的に収納する半導体チップの中心点とダイパッドの
    中心点と一致させ、この半導体チップの外側に必要な隙
    間を介して周縁に沿って所定の間隔で配列された、内端
    部を有する複数のインナーリードと、該インナーリード
    の外延部に形成されるダムバーと、該ダムバーから延設
    され、終端部はフレーム枠レール部に接続される複数の
    アウターリードと、前記ダイパッドの周縁からダイパッ
    ドの寸法をこえる間隔を設け、その周縁に沿って額縁状
    に配置された吊りリード補強材と、前記ダイパッドのコ
    ーナーを吊りリード補強材に接続する第一の吊りリード
    と、前記吊りリード補強材をダムバーに接続する第二の
    吊りリードとを備える半導体装置用リードフレームであ
    って、前記第二の吊りリードを吊りリード補強材に接続
    する近傍でダイパッド沈めが行なわれ、該第二の吊りリ
    ードに段差が設けられてなることを特徴とする半導体装
    置用リードフレーム。
  3. 【請求項3】 複数のコーナーを有するダイパッドと、
    仮想的に収納する半導体チップの中心点とダイパッドの
    中心点と一致させ、この半導体チップの外側に必要な隙
    間を介して周縁に沿って所定の間隔で配列された、内端
    部を有する複数のインナーリードと、該インナーリード
    の外延部に形成されるダムバーと、該ダムバーから延設
    され、終端部はフレーム枠レール部に接続される複数の
    アウターリードと、前記ダイパッドの周縁からダイパッ
    ドの寸法をこえる間隔を設け、その周縁に沿って額縁状
    に配置された吊りリード補強材と、前記ダイパッドのコ
    ーナーを吊りリード補強材に接続する第一の吊りリード
    と、前記吊りリード補強材をダムバーに接続する第二の
    吊りリードとを備える半導体装置用リードフレームであ
    って、前記第一の吊りリードが第二の吊りリードの幅寸
    法より大きな幅を有しており、該第二の吊りリードを吊
    りリード補強材に接続する近傍でダイパッド沈めが行な
    われ、第二の吊りリードに少なくともモールド厚さ寸法
    から半導体チップの厚さ寸法、ダイボンドの厚さ寸法お
    よびダイパッドの厚さ寸法を引いた値の1/2の段差が
    設けられてなることを特徴とする半導体装置用リードフ
    レーム。
  4. 【請求項4】 複数のコーナーを有するダイパッドと、
    仮想的に収納する半導体チップの中心点とダイパッドの
    中心点と一致させ、この半導体チップの外側に必要な隙
    間を介して周縁に沿って所定の間隔で配列された、内端
    部を有する複数のインナーリードと、該インナーリード
    の外延部に形成されるダムバーと、該ダムバーから延設
    され、終端部はフレーム枠レール部に接続される複数の
    アウターリードと、前記ダイパッドの周縁からダイパッ
    ドの寸法をこえる間隔を設け、その周縁に沿って額縁状
    に配置された吊りリード補強材と、前記ダイパッドのコ
    ーナーを吊りリード補強材に接続する第一の吊りリード
    と、前記吊りリード補強材をダムバーに接続する第二の
    吊りリードとを備える半導体装置用リードフレームであ
    って、第一の吊りリードが第二の吊りリードの幅寸法よ
    り大きな幅を有しており、前記第二の吊りリードを吊り
    リード補強材に接続する近傍でダイパッド沈めが行なわ
    れ、第二の吊りリードに段差が設けられてなることを特
    徴とする半導体装置用リードフレーム。
  5. 【請求項5】 複数のコーナーを有するダイパッドと、
    該ダイパットの周縁に沿って所定の間隔で配列された、
    内端部を有する複数のインナーリードと、該インナーリ
    ードの外方に延設されるアウターリードと、前記ダイパ
    ットとインナーリードとのあいだに、該ダイパットの周
    縁に沿って額縁状に配置された吊りリード補強材と、前
    記ダイパッドのコーナーを吊りリード補強材に接続する
    第一の吊りリードと、前記吊りリード補強材を前記イン
    ナーリードとアウターリードとのあいだのダムバーに接
    続する第二の吊りリードからなるリードフレーム上に、
    ダイボンドを介して接着される半導体チップと前記複数
    のインナーリードとを電気的に接続する金線をモールド
    樹脂で外装しており、前記リードフレームのアウターリ
    ード終端部、ダムバーおよびダムバーに接続するモール
    ド境界近傍外部で第二の吊りリード端部を切り放してな
    る半導体装置であって、前記第一の吊りリードが第二の
    吊りリードの幅寸法より大きな幅を有しており、該第二
    の吊りリードを吊りリード補強材に接続する近傍でダイ
    パッド沈めが行なわれ、該第二の吊りリードに少なくと
    もモールド厚さ寸法から半導体チップの厚さ寸法、ダイ
    ボンドの厚さ寸法およびダイパッドの厚さ寸法を引いた
    値の1/2の段差が設けられてなることを特徴とする半
    導体装置。
  6. 【請求項6】 複数のコーナーを有するダイパッドと、
    該ダイパットの周縁に沿って所定の間隔で配列された、
    内端部を有する複数のインナーリードと、該インナーリ
    ードの外方に延設されるアウターリードと、前記ダイパ
    ットとインナーリードとのあいだに、該ダイパットの周
    縁に沿って額縁状に配置された吊りリード補強材と、前
    記ダイパッドのコーナーを吊りリード補強材に接続する
    第一の吊りリードと、前記吊りリード補強材を前記イン
    ナーリードとアウターリードとのあいだのダムバーに接
    続する第二の吊りリードからなるリードフレーム上にダ
    イボンドを介して接着される半導体チップと、前記複数
    のインナーリードとを電気的に接続する金線をモールド
    樹脂で外装しており、前記リードフレームのアウターリ
    ード終端部、ダムバーおよびダムバーに接続するモール
    ド境界近傍外部で第二の吊りリード端部を切り放してな
    る半導体装置であって、前記第一の吊りリードが第二の
    吊りリードの幅寸法より大きな幅を有しており、該第二
    の吊りリードを吊りリード補強材に接続する近傍でダイ
    パッド沈めが行なわれ、該第二の吊りリードに段差が設
    けられてなること特徴とする半導体装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002110886A (ja) * 2000-09-27 2002-04-12 Rohm Co Ltd 半導体装置用リードフレーム及びこれを用いた半導体装置
US6828659B2 (en) 2000-05-31 2004-12-07 Oki Electric Industry Co., Ltd. Semiconductor device having a die pad supported by a die pad supporter

Families Citing this family (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6001672A (en) * 1997-02-25 1999-12-14 Micron Technology, Inc. Method for transfer molding encapsulation of a semiconductor die with attached heat sink
US6157074A (en) * 1997-07-16 2000-12-05 Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. Lead frame adapted for variable sized devices, semiconductor package with such lead frame and method for using same
JP3862411B2 (ja) * 1998-05-12 2006-12-27 三菱電機株式会社 半導体装置の製造方法及びその構造
US6143981A (en) 1998-06-24 2000-11-07 Amkor Technology, Inc. Plastic integrated circuit package and method and leadframe for making the package
US6777785B1 (en) * 1999-08-25 2004-08-17 Winbond Electronics Corp. Lead frame containing a master and a slave IC chips and a testing circuit embedded within the master IC chip
US7042068B2 (en) 2000-04-27 2006-05-09 Amkor Technology, Inc. Leadframe and semiconductor package made using the leadframe
JP2001320007A (ja) 2000-05-09 2001-11-16 Dainippon Printing Co Ltd 樹脂封止型半導体装置用フレーム
JP4840893B2 (ja) * 2000-05-12 2011-12-21 大日本印刷株式会社 樹脂封止型半導体装置用フレーム
TW445608B (en) * 2000-05-19 2001-07-11 Siliconware Precision Industries Co Ltd Semiconductor package and manufacturing method thereof of lead frame without flashing
KR100393448B1 (ko) * 2001-03-27 2003-08-02 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체 패키지 및 그 제조 방법
US6597059B1 (en) 2001-04-04 2003-07-22 Amkor Technology, Inc. Thermally enhanced chip scale lead on chip semiconductor package
US7220615B2 (en) * 2001-06-11 2007-05-22 Micron Technology, Inc. Alternative method used to package multimedia card by transfer molding
JP4611579B2 (ja) * 2001-07-30 2011-01-12 ルネサスエレクトロニクス株式会社 リードフレーム、半導体装置およびその樹脂封止法
JP2004095572A (ja) * 2002-08-29 2004-03-25 Hitachi Ltd 半導体装置およびその製造方法
JP3961914B2 (ja) * 2002-09-05 2007-08-22 株式会社東芝 磁気メモリ装置
US7135760B2 (en) * 2002-09-30 2006-11-14 St Assembly Test Services Ltd. Moisture resistant integrated circuit leadframe package
US6905914B1 (en) 2002-11-08 2005-06-14 Amkor Technology, Inc. Wafer level package and fabrication method
US7723210B2 (en) 2002-11-08 2010-05-25 Amkor Technology, Inc. Direct-write wafer level chip scale package
CN100390984C (zh) * 2003-08-29 2008-05-28 株式会社瑞萨科技 引线框架的制造方法
US7328734B2 (en) * 2003-09-29 2008-02-12 Royal Group, Inc. Portable thermo-plastic welding machine and method
JP4079874B2 (ja) * 2003-12-25 2008-04-23 沖電気工業株式会社 半導体装置の製造方法
US8093694B2 (en) * 2005-02-14 2012-01-10 Stats Chippac Ltd. Method of manufacturing non-leaded integrated circuit package system having etched differential height lead structures
JP4435050B2 (ja) * 2005-05-24 2010-03-17 パナソニック株式会社 半導体装置
KR100782225B1 (ko) * 2005-09-02 2007-12-05 엘에스전선 주식회사 함몰부가 형성된 다이패드를 구비한 리드프레임 및반도체 패키지
US7572681B1 (en) 2005-12-08 2009-08-11 Amkor Technology, Inc. Embedded electronic component package
US7902660B1 (en) 2006-05-24 2011-03-08 Amkor Technology, Inc. Substrate for semiconductor device and manufacturing method thereof
US7968998B1 (en) 2006-06-21 2011-06-28 Amkor Technology, Inc. Side leaded, bottom exposed pad and bottom exposed lead fusion quad flat semiconductor package
JP5622347B2 (ja) * 2006-08-09 2014-11-12 セイコーエプソン株式会社 慣性センサ装置
US8035207B2 (en) * 2006-12-30 2011-10-11 Stats Chippac Ltd. Stackable integrated circuit package system with recess
JP5149854B2 (ja) * 2009-03-31 2013-02-20 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
US8796561B1 (en) 2009-10-05 2014-08-05 Amkor Technology, Inc. Fan out build up substrate stackable package and method
US8937381B1 (en) 2009-12-03 2015-01-20 Amkor Technology, Inc. Thin stackable package and method
US9691734B1 (en) 2009-12-07 2017-06-27 Amkor Technology, Inc. Method of forming a plurality of electronic component packages
US8324511B1 (en) 2010-04-06 2012-12-04 Amkor Technology, Inc. Through via nub reveal method and structure
US8294276B1 (en) 2010-05-27 2012-10-23 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device and fabricating method thereof
US8440554B1 (en) 2010-08-02 2013-05-14 Amkor Technology, Inc. Through via connected backside embedded circuit features structure and method
US8487445B1 (en) 2010-10-05 2013-07-16 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device having through electrodes protruding from dielectric layer
US8791501B1 (en) 2010-12-03 2014-07-29 Amkor Technology, Inc. Integrated passive device structure and method
US8390130B1 (en) 2011-01-06 2013-03-05 Amkor Technology, Inc. Through via recessed reveal structure and method
US8552548B1 (en) 2011-11-29 2013-10-08 Amkor Technology, Inc. Conductive pad on protruding through electrode semiconductor device
US9129943B1 (en) 2012-03-29 2015-09-08 Amkor Technology, Inc. Embedded component package and fabrication method
US9048298B1 (en) 2012-03-29 2015-06-02 Amkor Technology, Inc. Backside warpage control structure and fabrication method
JP5632881B2 (ja) * 2012-06-15 2014-11-26 日立オートモティブシステムズ株式会社 熱式流量計
US9704639B2 (en) * 2014-11-07 2017-07-11 Solantro Semiconductor Corp. Non-planar inductive electrical elements in semiconductor package lead frame
CN105023905B (zh) * 2015-07-31 2018-01-16 日月光封装测试(上海)有限公司 导线框架和使用该导线框架的功率集成电路封装件
JP6260593B2 (ja) * 2015-08-07 2018-01-17 日亜化学工業株式会社 リードフレーム、パッケージ及び発光装置、並びにこれらの製造方法
JP6673012B2 (ja) * 2016-05-26 2020-03-25 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP6437701B1 (ja) * 2018-05-29 2018-12-12 新電元工業株式会社 半導体モジュール

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS574226A (en) * 1980-06-11 1982-01-09 Agency Of Ind Science & Technol Transparent reactor
JPH0673358B2 (ja) * 1986-09-08 1994-09-14 三菱電機株式会社 半導体装置
US5291060A (en) * 1989-10-16 1994-03-01 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Lead frame and semiconductor device using same
KR960003853B1 (ko) * 1990-09-10 1996-03-23 후지쓰 가부시끼가이샤 반도체 장치 및 그의 제조방법
JP2877479B2 (ja) * 1990-09-27 1999-03-31 株式会社東芝 半導体装置用リードフレーム
KR100552353B1 (ko) * 1992-03-27 2006-06-20 가부시키가이샤 히타치초엘에스아이시스템즈 리이드프레임및그것을사용한반도체집적회로장치와그제조방법
US5859471A (en) * 1992-11-17 1999-01-12 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Semiconductor device having tab tape lead frame with reinforced outer leads
JPH07202105A (ja) * 1993-12-28 1995-08-04 Sony Corp 半導体装置用リードフレーム
JPH0878605A (ja) * 1994-09-01 1996-03-22 Hitachi Ltd リードフレームおよびそれを用いた半導体集積回路装置
JP2536459B2 (ja) * 1994-09-26 1996-09-18 日本電気株式会社 半導体装置及びその製造方法
JP2767404B2 (ja) * 1994-12-14 1998-06-18 アナムインダストリアル株式会社 半導体パッケージのリードフレーム構造
US5708295A (en) * 1995-04-28 1998-01-13 Matsushita Electronics Corporation Lead frame and method of manufacturing the same, and resin sealed semiconductor device and method of manufacturing the same
US5789806A (en) * 1995-08-02 1998-08-04 National Semiconductor Corporation Leadframe including bendable support arms for downsetting a die attach pad
US5683944A (en) * 1995-09-01 1997-11-04 Motorola, Inc. Method of fabricating a thermally enhanced lead frame
JPH09307051A (ja) * 1996-05-15 1997-11-28 Toshiba Corp 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6828659B2 (en) 2000-05-31 2004-12-07 Oki Electric Industry Co., Ltd. Semiconductor device having a die pad supported by a die pad supporter
JP2002110886A (ja) * 2000-09-27 2002-04-12 Rohm Co Ltd 半導体装置用リードフレーム及びこれを用いた半導体装置

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US6020625A (en) 2000-02-01
CN1151555C (zh) 2004-05-26
CN1230783A (zh) 1999-10-06
KR100310523B1 (ko) 2001-11-17
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