JPH11214157A - 多色発光有機ｅｌパネルおよびその製造方法 - Google Patents
多色発光有機ｅｌパネルおよびその製造方法Info
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- JPH11214157A JPH11214157A JP10010566A JP1056698A JPH11214157A JP H11214157 A JPH11214157 A JP H11214157A JP 10010566 A JP10010566 A JP 10010566A JP 1056698 A JP1056698 A JP 1056698A JP H11214157 A JPH11214157 A JP H11214157A
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Classifications
-
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/917—Electroluminescent
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、電界集中および不均一電界の発生
を防止し、パネルのショート、電流リークの問題がな
く、パネル内で偏った輝度劣化やダークスポットの発生
のない多色発光有機ＥＬパネルおよびその製造方法を提
供することを目的とする。 【解決手段】 少なくとも一方が透明または半透明の対
向する電極間に、各色に対応して異なる波長を発光する
有機発光層、および電子輸送層を有する多色発光有機Ｅ
Ｌパネルにおいて、前記有機発光層または電子輸送層の
少なくとも一方が、隣接する画素間で隙間なく形成され
ていることを特徴とする多色発光有機ＥＬパネル。
を防止し、パネルのショート、電流リークの問題がな
く、パネル内で偏った輝度劣化やダークスポットの発生
のない多色発光有機ＥＬパネルおよびその製造方法を提
供することを目的とする。 【解決手段】 少なくとも一方が透明または半透明の対
向する電極間に、各色に対応して異なる波長を発光する
有機発光層、および電子輸送層を有する多色発光有機Ｅ
Ｌパネルにおいて、前記有機発光層または電子輸送層の
少なくとも一方が、隣接する画素間で隙間なく形成され
ていることを特徴とする多色発光有機ＥＬパネル。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機ＥＬパネルに
関し、特に各色ごとに独立して異なる波長の光を発光す
る多色発光有機ＥＬパネルおよびその製造方法に関す
る。
関し、特に各色ごとに独立して異なる波長の光を発光す
る多色発光有機ＥＬパネルおよびその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来の各色ごとに独立して異なる波長の
光を発光する３色独立発光方式を用いたカラー有機ＥＬ
パネルの製造方法として、特開平５−２５８５９号公報
（米国特許５２９４８６９）には、ガラス基板にＩＴＯ
等で透明電極パターンを形成し、次に絶縁材料で作られ
たシャドウマスクを基板上に配設し、各有機層を成膜す
る方法が記載されている。
光を発光する３色独立発光方式を用いたカラー有機ＥＬ
パネルの製造方法として、特開平５−２５８５９号公報
（米国特許５２９４８６９）には、ガラス基板にＩＴＯ
等で透明電極パターンを形成し、次に絶縁材料で作られ
たシャドウマスクを基板上に配設し、各有機層を成膜す
る方法が記載されている。
【０００３】この方法によれば、３色分離には、図６に
示すように各色に対応する有機層を蒸着によって形成す
る際に、蒸着源からの蒸気流に対して、高さの異なる壁
２１ａ、２１ｂを用いて基板との角度関係を制御するこ
とによりパターン化する、いわゆる斜方蒸着法が用いら
れている。最後にＩＴＯ膜２２と直交するように、電極
金属を蒸着して陰極を形成し、有機ＥＬパネルを作製し
ている。しかし、この方法では、蒸着源と基板及び壁の
配置、位置合わせが非常に困難であり、また、各色有機
層の膜厚にムラができやすく、ＲＧＢ有機層間の色分離
が不明確になる。また、発光しない隙間（スペース）が
大きくなる等の問題が生じやすい。さらに、蒸着源との
幾何的角度が重要となるため、大きなパネルを作製する
場合、パネル中央部と端部で角度が異なり、各ドットの
大きさが不均一となる。
示すように各色に対応する有機層を蒸着によって形成す
る際に、蒸着源からの蒸気流に対して、高さの異なる壁
２１ａ、２１ｂを用いて基板との角度関係を制御するこ
とによりパターン化する、いわゆる斜方蒸着法が用いら
れている。最後にＩＴＯ膜２２と直交するように、電極
金属を蒸着して陰極を形成し、有機ＥＬパネルを作製し
ている。しかし、この方法では、蒸着源と基板及び壁の
配置、位置合わせが非常に困難であり、また、各色有機
層の膜厚にムラができやすく、ＲＧＢ有機層間の色分離
が不明確になる。また、発光しない隙間（スペース）が
大きくなる等の問題が生じやすい。さらに、蒸着源との
幾何的角度が重要となるため、大きなパネルを作製する
場合、パネル中央部と端部で角度が異なり、各ドットの
大きさが不均一となる。
【０００４】ところで、一般的な従来のパネル構造で
は、ＲＧＢ３色各有機発光層を蒸着により形成する際
に、有機発光層および電子輸送層を発光部より少し大き
い程度に形成していたため、色の異なる画素間（スペー
ス部１０）に有機発光層が存在しない隙間が生じてい
た。この表面に陰極材料を蒸着すると、図７に示すよう
に各画素間のスペース部の隙間にも陰極が成膜されるた
め、スペース部１０で陰極−陽極の距離が短くなり、こ
の部分で電界集中が起きたり、不均一電界が生じる。そ
のため、パネルをドットマトリックス構造としたとき、
画素のリーク電流やショートがランダムに発生しやすい
という問題があった。また、電界集中のために駆動時の
ジュール熱による発熱の偏りが生じて、パネル内で偏っ
た輝度劣化やダークスポットが発生することがあった。
は、ＲＧＢ３色各有機発光層を蒸着により形成する際
に、有機発光層および電子輸送層を発光部より少し大き
い程度に形成していたため、色の異なる画素間（スペー
ス部１０）に有機発光層が存在しない隙間が生じてい
た。この表面に陰極材料を蒸着すると、図７に示すよう
に各画素間のスペース部の隙間にも陰極が成膜されるた
め、スペース部１０で陰極−陽極の距離が短くなり、こ
の部分で電界集中が起きたり、不均一電界が生じる。そ
のため、パネルをドットマトリックス構造としたとき、
画素のリーク電流やショートがランダムに発生しやすい
という問題があった。また、電界集中のために駆動時の
ジュール熱による発熱の偏りが生じて、パネル内で偏っ
た輝度劣化やダークスポットが発生することがあった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来の問題点に鑑みてなされたものであり、電界集中お
よび不均一電界の発生を防止し、パネルのショート、電
流リークの問題がなく、パネル内で偏った輝度劣化やダ
ークスポットの発生のない多色発光有機ＥＬパネルおよ
びその製造方法を提供することを目的とする。
従来の問題点に鑑みてなされたものであり、電界集中お
よび不均一電界の発生を防止し、パネルのショート、電
流リークの問題がなく、パネル内で偏った輝度劣化やダ
ークスポットの発生のない多色発光有機ＥＬパネルおよ
びその製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、少なくとも一
方が透明または半透明の対向する電極間に、各色に対応
して異なる波長を発光する有機発光層、および電子輸送
層を有する多色発光有機ＥＬパネルにおいて、前記有機
発光層または電子輸送層の少なくとも一方が、隣接する
画素間で隙間なく形成されていることを特徴とする多色
発光有機ＥＬパネルに関する。
方が透明または半透明の対向する電極間に、各色に対応
して異なる波長を発光する有機発光層、および電子輸送
層を有する多色発光有機ＥＬパネルにおいて、前記有機
発光層または電子輸送層の少なくとも一方が、隣接する
画素間で隙間なく形成されていることを特徴とする多色
発光有機ＥＬパネルに関する。
【０００７】また、本発明は、透明基板上に、各色に対
応する有機発光層を形成する工程と、形成した有機発光
層上に電子輸送層を形成する工程とを有する多色発光有
機ＥＬパネルの製造方法において、前記電子輸送層を一
様に形成することを特徴とする多色発光有機ＥＬパネル
の製造方法に関する。
応する有機発光層を形成する工程と、形成した有機発光
層上に電子輸送層を形成する工程とを有する多色発光有
機ＥＬパネルの製造方法において、前記電子輸送層を一
様に形成することを特徴とする多色発光有機ＥＬパネル
の製造方法に関する。
【０００８】また、本発明は、透明基板上に、各色に対
応する有機発光層を形成する工程と、形成した有機発光
層上に電子輸送層を形成する工程とを有する多色発光有
機ＥＬパネルの製造方法において、前記有機発光層また
は電子輸送層の少なくとも一方を、隣接画素間で接触す
るか、または重なり合うように形成することを特徴とす
る多色発光有機ＥＬパネルの製造方法に関する。
応する有機発光層を形成する工程と、形成した有機発光
層上に電子輸送層を形成する工程とを有する多色発光有
機ＥＬパネルの製造方法において、前記有機発光層また
は電子輸送層の少なくとも一方を、隣接画素間で接触す
るか、または重なり合うように形成することを特徴とす
る多色発光有機ＥＬパネルの製造方法に関する。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の多色発光有機ＥＬパネル
では、有機発光層または電子輸送層の少なくとも一方
が、隣接する画素間で隙間なく形成されているので、陰
極材料が各画素間のスペース部に入り込むことがない。
そのため、陰極と陽極が極端に近接することがなく、電
界の集中および不均一電界の発生がない。従って、本発
明によれば、陽極と陰極の近接部によるパネルのショー
ト、リーク問題が改善され、パネル作製時の良品率を上
げることができる。また、電界集中が起きにくいため、
駆動時のジュール熱による発熱も偏りができず、パネル
内で偏った輝度劣化やダークスポットの発生を防ぐこと
ができる。
では、有機発光層または電子輸送層の少なくとも一方
が、隣接する画素間で隙間なく形成されているので、陰
極材料が各画素間のスペース部に入り込むことがない。
そのため、陰極と陽極が極端に近接することがなく、電
界の集中および不均一電界の発生がない。従って、本発
明によれば、陽極と陰極の近接部によるパネルのショー
ト、リーク問題が改善され、パネル作製時の良品率を上
げることができる。また、電界集中が起きにくいため、
駆動時のジュール熱による発熱も偏りができず、パネル
内で偏った輝度劣化やダークスポットの発生を防ぐこと
ができる。
【００１０】本発明の多色発光有機ＥＬパネルでは、有
機発光層または電子輸送層の少なくとも一方が、隣接す
る画素間で隙間なく形成されていればよい。
機発光層または電子輸送層の少なくとも一方が、隣接す
る画素間で隙間なく形成されていればよい。
【００１１】本発明の１形態を図１に示す。この形態で
は、ガラス基板１の上にＩＴＯ２が各画素に対応して形
成され、その上に正孔注入・輸送層３が設けられ、さら
にその上に有機発光層４（この図ではドーパントが存在
する４ａと存在しない４ｂに分けてある。）が有機発光
層同士が隣接するＲ、Ｇ、Ｂ画素間で互いに分離するよ
うに形成され、電子輸送層６が隣接する画素間で隙間を
生じないように形成され、隣接有機発光層の隙間に電子
輸送層６が充填されている。また、電子輸送層は一様な
膜として形成されている。
は、ガラス基板１の上にＩＴＯ２が各画素に対応して形
成され、その上に正孔注入・輸送層３が設けられ、さら
にその上に有機発光層４（この図ではドーパントが存在
する４ａと存在しない４ｂに分けてある。）が有機発光
層同士が隣接するＲ、Ｇ、Ｂ画素間で互いに分離するよ
うに形成され、電子輸送層６が隣接する画素間で隙間を
生じないように形成され、隣接有機発光層の隙間に電子
輸送層６が充填されている。また、電子輸送層は一様な
膜として形成されている。
【００１２】有機発光層としては、公知の材料を用いる
ことができるが、例えば、トリス（８―キノリノール）
アルミニウムに代表される８−ヒドロキシキノリン金属
錯体、１，４−ビス（２―メチルスチリル）ベンゼン等
のジスチリルベンゼン誘導体、ビススチリルアントラセ
ン誘導体、クマリン誘導体、ペリレン誘導体等のホスト
材料に、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ
−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭと
略記）（Ｒ）、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６
−〔２−（９−ユロリジル）エテニル〕−４Ｈ−チオピ
ラン（Ｒ）等ジシアノメチレンピラン色素、フェノキサ
ゾン誘導体（Ｒ）スクアリリウム色素（Ｒ）、キナクリ
ドン（Ｇ）２，９―ジメチルキナクリドン等キナクリド
ン誘導体（Ｇ）、３−（２−ベンゾチアゾリル）―７―
ジエチルアミノクマリン （クマリン５４０）等クマリ
ン誘導体（Ｇ）、ペリレン（Ｂ）、ジベンゾナフタセン
（Ｂ）、ベンゾピレン（Ｂ）等をドーピングして用いる
ことが好ましい。尚、（）内のＲ、Ｇ、Ｂは発光色を示
す。
ことができるが、例えば、トリス（８―キノリノール）
アルミニウムに代表される８−ヒドロキシキノリン金属
錯体、１，４−ビス（２―メチルスチリル）ベンゼン等
のジスチリルベンゼン誘導体、ビススチリルアントラセ
ン誘導体、クマリン誘導体、ペリレン誘導体等のホスト
材料に、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ
−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭと
略記）（Ｒ）、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６
−〔２−（９−ユロリジル）エテニル〕−４Ｈ−チオピ
ラン（Ｒ）等ジシアノメチレンピラン色素、フェノキサ
ゾン誘導体（Ｒ）スクアリリウム色素（Ｒ）、キナクリ
ドン（Ｇ）２，９―ジメチルキナクリドン等キナクリド
ン誘導体（Ｇ）、３−（２−ベンゾチアゾリル）―７―
ジエチルアミノクマリン （クマリン５４０）等クマリ
ン誘導体（Ｇ）、ペリレン（Ｂ）、ジベンゾナフタセン
（Ｂ）、ベンゾピレン（Ｂ）等をドーピングして用いる
ことが好ましい。尚、（）内のＲ、Ｇ、Ｂは発光色を示
す。
【００１３】また、電子輸送層としては、公知の材料を
用いることができるが、例えば、トリス（８―キノリノ
ール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）マグネ
シウム等の８−ヒドロキシキノリン金属錯体、オキサジ
アゾール誘導体、ペリレン誘導体等が好ましい。
用いることができるが、例えば、トリス（８―キノリノ
ール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）マグネ
シウム等の８−ヒドロキシキノリン金属錯体、オキサジ
アゾール誘導体、ペリレン誘導体等が好ましい。
【００１４】本発明においては、この図１のように正孔
注入・輸送層を設けることが好ましいが、有機発光層が
正孔の輸送機能を有するのであれば、特に設けなくても
よい。また、正孔注入・輸送層は、正孔注入層と正孔輸
送層の２層で形成し、それぞれの層に注入層、輸送層と
しての機能の高い材料を用いるようにしてもよい。
注入・輸送層を設けることが好ましいが、有機発光層が
正孔の輸送機能を有するのであれば、特に設けなくても
よい。また、正孔注入・輸送層は、正孔注入層と正孔輸
送層の２層で形成し、それぞれの層に注入層、輸送層と
しての機能の高い材料を用いるようにしてもよい。
【００１５】正孔注入・輸送層としては、公知の材料を
用いることができるが、例えば、Ｎ，Ｎ’―ジフェニル
−Ｎ，Ｎ’―ジ（３―メチルフェニル）―１，１’―ビ
フェニル−４，４’―ジアミン（ＴＰＤと略記）、Ｎ，
Ｎ’―ジフェニル−Ｎ，Ｎ’―ビス（α―ナフチル）―
１，１’―ビフェニル−４，４’―ジアミン（α―ＮＰ
Ｄと略記）等のジアミン誘導体、４，４’，４”―トリ
ス（３―メチルフェニルフェニルアミノ）―トリフェニ
ルアミン等が好ましい。正孔注入層と正孔輸送層の２層
に分ける場合は、これらの中から注入層、輸送層として
の機能の高い材料を選んで用いることができる。
用いることができるが、例えば、Ｎ，Ｎ’―ジフェニル
−Ｎ，Ｎ’―ジ（３―メチルフェニル）―１，１’―ビ
フェニル−４，４’―ジアミン（ＴＰＤと略記）、Ｎ，
Ｎ’―ジフェニル−Ｎ，Ｎ’―ビス（α―ナフチル）―
１，１’―ビフェニル−４，４’―ジアミン（α―ＮＰ
Ｄと略記）等のジアミン誘導体、４，４’，４”―トリ
ス（３―メチルフェニルフェニルアミノ）―トリフェニ
ルアミン等が好ましい。正孔注入層と正孔輸送層の２層
に分ける場合は、これらの中から注入層、輸送層として
の機能の高い材料を選んで用いることができる。
【００１６】また、本発明の異なる形態においては、図
４に示すように有機発光層または電子輸送層の少なくと
も一方が、隣接画素間で接するように形成される。この
図のように、有機発光層と電子輸送層の両方が隣接画素
間で接するように形成されていてもよい。
４に示すように有機発光層または電子輸送層の少なくと
も一方が、隣接画素間で接するように形成される。この
図のように、有機発光層と電子輸送層の両方が隣接画素
間で接するように形成されていてもよい。
【００１７】また、有機発光層または電子輸送層の少な
くとも一方が、隣接画素境界で重なりあうようにしても
よい。この場合、発光部の上では重ならないようにする
ことが好ましい。
くとも一方が、隣接画素境界で重なりあうようにしても
よい。この場合、発光部の上では重ならないようにする
ことが好ましい。
【００１８】
【実施例】以下に実施例を示して本発明をさらに詳細に
説明する。
説明する。
【００１９】［実施例１］本実施例を図２、図３を参照
して説明する。まず図３に示すように、透明基板として
厚さ１．１ｍｍのガラス基板１に、スパッタによりＩＴ
Ｏ膜２を厚さ２０ｎｍに形成し、リソグラフィーとウェ
ットエッチングにより陽極電極を形成した。シート抵抗
は１５Ω／□で、配線ピッチ４０μｍのストライプ形状
とした。
して説明する。まず図３に示すように、透明基板として
厚さ１．１ｍｍのガラス基板１に、スパッタによりＩＴ
Ｏ膜２を厚さ２０ｎｍに形成し、リソグラフィーとウェ
ットエッチングにより陽極電極を形成した。シート抵抗
は１５Ω／□で、配線ピッチ４０μｍのストライプ形状
とした。
【００２０】陽極を配線したガラス基板上に正孔注入・
輸送層として、α−ＮＰＤ（Ｎ，Ｎ’―ジフェニル−
Ｎ，Ｎ’―ビス（α―ナフチル）―１，１’―ビフェニ
ル−４，４’―ジアミン：ジアミン誘導体）層１３を５
０ｎｍの膜厚で真空蒸着法によりベタ状に形成した。
輸送層として、α−ＮＰＤ（Ｎ，Ｎ’―ジフェニル−
Ｎ，Ｎ’―ビス（α―ナフチル）―１，１’―ビフェニ
ル−４，４’―ジアミン：ジアミン誘導体）層１３を５
０ｎｍの膜厚で真空蒸着法によりベタ状に形成した。
【００２１】その上に、図２（ａ）に示すように、各表
示色の画素に対応するストライプ状の窓パターン（１ド
ット分幅８０〜９０μｍの窓、２ドット＋スペース分２
８０μｍのマスク部）をもつメタルマスク８を基板に、
ほぼ接して（５０μｍ以下）配設した状態で、グリーン
の有機発光層１４Ｇとしてアルミキノリン錯体（トリス
（８―キノリノール）アルミニウム：以下、Ａｌｑ）を
ホストに、ドーパントとしてキナクリドン（ドーピング
濃度１０ｗｔ％）を２５ｎｍ共蒸着して、Ｇ画素の有機
発光層を形成した。
示色の画素に対応するストライプ状の窓パターン（１ド
ット分幅８０〜９０μｍの窓、２ドット＋スペース分２
８０μｍのマスク部）をもつメタルマスク８を基板に、
ほぼ接して（５０μｍ以下）配設した状態で、グリーン
の有機発光層１４Ｇとしてアルミキノリン錯体（トリス
（８―キノリノール）アルミニウム：以下、Ａｌｑ）を
ホストに、ドーパントとしてキナクリドン（ドーピング
濃度１０ｗｔ％）を２５ｎｍ共蒸着して、Ｇ画素の有機
発光層を形成した。
【００２２】続いて、図２（ｂ）に示すように、Ｒ画素
に対応する個所までメタルマスク８をスライドさせ、レ
ッドの有機発光層１４Ｒとしてアルミキノリン錯体にド
ーパントとしてジシアノメチレンピラン（ＤＣＭ、ドー
ピング濃度１４ｗｔ％）を２５ｎｍ共蒸着して、Ｒ画素
の有機発光層を形成した。
に対応する個所までメタルマスク８をスライドさせ、レ
ッドの有機発光層１４Ｒとしてアルミキノリン錯体にド
ーパントとしてジシアノメチレンピラン（ＤＣＭ、ドー
ピング濃度１４ｗｔ％）を２５ｎｍ共蒸着して、Ｒ画素
の有機発光層を形成した。
【００２３】最後に、同様にＢ画素に対応する個所まで
メタルマスク８をスライドさせ、ブルーの有機発光層１
４Ｂとしてアルミキノリン錯体とドーパントとしてペリ
レン（ドーピング濃度２ｗｔ％）を２５ｎｍ共蒸着し
て、Ｂ画素の有機発光層を形成した。
メタルマスク８をスライドさせ、ブルーの有機発光層１
４Ｂとしてアルミキノリン錯体とドーパントとしてペリ
レン（ドーピング濃度２ｗｔ％）を２５ｎｍ共蒸着し
て、Ｂ画素の有機発光層を形成した。
【００２４】このようにＲＧＢ３色の有機発光層を形成
した後、図３に示すように電子輸送層としてアルミキノ
リン錯体（Ａｌｑ）層１６を３５ｎｍ厚に蒸着により形
成した。このとき、１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂで示す各有
機発光層の間は、Ａｌｑ層１６で充填される。
した後、図３に示すように電子輸送層としてアルミキノ
リン錯体（Ａｌｑ）層１６を３５ｎｍ厚に蒸着により形
成した。このとき、１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂで示す各有
機発光層の間は、Ａｌｑ層１６で充填される。
【００２５】次に、ストライプ状のＩＴＯ２、および各
有機発光層（１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂ）に直交するよう
に、２４０μｍの窓を有するマスクを用いて、ＡｌとＬ
ｉを共蒸着により３０ｎｍ、その後アルミニウムのみを
１７０ｎｍ蒸着して、陰極を形成した。
有機発光層（１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂ）に直交するよう
に、２４０μｍの窓を有するマスクを用いて、ＡｌとＬ
ｉを共蒸着により３０ｎｍ、その後アルミニウムのみを
１７０ｎｍ蒸着して、陰極を形成した。
【００２６】以上の工程で、各有機膜の蒸着条件とし
て、蒸着時真空度を１×１０-3Ｐａ以下、好ましくは５
×１０-4Ｐａ以下とし、蒸着速度を０．０５〜２ｎｍ／
ｓｅｃ、基板温度を１００℃以下となるように制御す
る。
て、蒸着時真空度を１×１０-3Ｐａ以下、好ましくは５
×１０-4Ｐａ以下とし、蒸着速度を０．０５〜２ｎｍ／
ｓｅｃ、基板温度を１００℃以下となるように制御す
る。
【００２７】このようにして、画素数：水平３２０×垂
直２４０、ドットピッチ８０μｍ、スペース４０μｍ、
画素ピッチ：水平０．３６×垂直０．３６ｍｍのＲＧＢ
３色を独立して発光する有機ＥＬパネルを作成した。
直２４０、ドットピッチ８０μｍ、スペース４０μｍ、
画素ピッチ：水平０．３６×垂直０．３６ｍｍのＲＧＢ
３色を独立して発光する有機ＥＬパネルを作成した。
【００２８】上記パネルをデューティー比１／２４０で
駆動したところ、初期にはショート、リークによる画素
欠陥は見られず、また、１２０時間駆動後も画素欠陥は
見られなかった。
駆動したところ、初期にはショート、リークによる画素
欠陥は見られず、また、１２０時間駆動後も画素欠陥は
見られなかった。
【００２９】尚、実施例１において、有機発光層のホス
トを各色に共通して同じ材料を用いたが、各色ごとに独
立して最適な異なる材料を選択することもできる。
トを各色に共通して同じ材料を用いたが、各色ごとに独
立して最適な異なる材料を選択することもできる。
【００３０】［実施例２］本実施例を図４を参照して説
明する。まず、実施例１と同様に厚さ１．１ｍｍのガラ
ス基板に陽極としてスパッタによりＩＴＯ膜を２０ｎｍ
を形成し、リソグラフィーとウェットエッチングにより
透明電極を形成した。シート抵抗は、１５Ω／□で、配
線ピッチは４０μｍとした。
明する。まず、実施例１と同様に厚さ１．１ｍｍのガラ
ス基板に陽極としてスパッタによりＩＴＯ膜を２０ｎｍ
を形成し、リソグラフィーとウェットエッチングにより
透明電極を形成した。シート抵抗は、１５Ω／□で、配
線ピッチは４０μｍとした。
【００３１】陽極を配線したガラス基板上に正孔注入・
輸送層として、α−ＮＰＤ層１３を４０ｎｍの膜厚で真
空蒸着法によりベタ状に形成した。
輸送層として、α−ＮＰＤ層１３を４０ｎｍの膜厚で真
空蒸着法によりベタ状に形成した。
【００３２】その上に、図５（ａ）に示すように、各表
示色の画素に対応するストライプ状の窓パターン（１ド
ット＋スペース分の幅１２０μｍの窓、２ドット＋スペ
ース分２２０μｍのマスク部）をもつメタルマスク８を
基板に、ほぼ接して（５０μｍ以下）配設した状態で、
レッドの有機発光層１４Ｒとしてアルミキノリン錯体に
ドーパントとしてＤＣＭ（ドーピング濃度１５ｗｔ％）
を２５ｎｍ共蒸着し、引き続き同じマスクを用いて、電
子輸送層１６Ｒとしてアルミキノリン錯体を３０ｎｍ厚
に蒸着により形成した。
示色の画素に対応するストライプ状の窓パターン（１ド
ット＋スペース分の幅１２０μｍの窓、２ドット＋スペ
ース分２２０μｍのマスク部）をもつメタルマスク８を
基板に、ほぼ接して（５０μｍ以下）配設した状態で、
レッドの有機発光層１４Ｒとしてアルミキノリン錯体に
ドーパントとしてＤＣＭ（ドーピング濃度１５ｗｔ％）
を２５ｎｍ共蒸着し、引き続き同じマスクを用いて、電
子輸送層１６Ｒとしてアルミキノリン錯体を３０ｎｍ厚
に蒸着により形成した。
【００３３】続いて、図５（ｂ）に示すように、Ｇ画素
に対応する個所までメタルマスク８をスライドさせ、Ｒ
画素と同様に、グリーンの有機発光層１４Ｇとしてアル
ミキノリン錯体にドーパントとしてキナクリドン（ドー
ピング濃度１０ｗｔ％）を２５ｎｍ共蒸着後、引き続き
電子輸送層１６Ｇとしてアルミキノリン錯体を３０ｎｍ
厚に蒸着により形成した。
に対応する個所までメタルマスク８をスライドさせ、Ｒ
画素と同様に、グリーンの有機発光層１４Ｇとしてアル
ミキノリン錯体にドーパントとしてキナクリドン（ドー
ピング濃度１０ｗｔ％）を２５ｎｍ共蒸着後、引き続き
電子輸送層１６Ｇとしてアルミキノリン錯体を３０ｎｍ
厚に蒸着により形成した。
【００３４】最後に、同様にＢ画素に対応する個所まで
メタルマスク８をスライドさせ、ブルーの有機発光層１
４Ｂとしてアルミキノリン錯体にドーパントとしてペリ
レン（ドーピング濃度３ｗｔ％）を２５ｎｍ共蒸着後、
引き続き電子輸送層１６Ｂとしてアルミキノリン錯体を
３０ｎｍ蒸着により形成した。
メタルマスク８をスライドさせ、ブルーの有機発光層１
４Ｂとしてアルミキノリン錯体にドーパントとしてペリ
レン（ドーピング濃度３ｗｔ％）を２５ｎｍ共蒸着後、
引き続き電子輸送層１６Ｂとしてアルミキノリン錯体を
３０ｎｍ蒸着により形成した。
【００３５】このように、ＲＧＢ３色の有機発光層およ
び電子輸送層をそれぞれの異なる色同士で接するよう形
成した後、Ａｌ：Ｌｉを共蒸着により３０ｎｍ、その後
アルミニウムのみを１５０ｎｍ蒸着して陰極７を形成し
た。
び電子輸送層をそれぞれの異なる色同士で接するよう形
成した後、Ａｌ：Ｌｉを共蒸着により３０ｎｍ、その後
アルミニウムのみを１５０ｎｍ蒸着して陰極７を形成し
た。
【００３６】さらに、保護層９として、ＳｉＯ2を真空
蒸着により、有機薄膜及び陰極全体を覆うように厚さ２
０ｎｍ（通常１０〜１００ｎｍ）形成した。
蒸着により、有機薄膜及び陰極全体を覆うように厚さ２
０ｎｍ（通常１０〜１００ｎｍ）形成した。
【００３７】以上の工程で、各有機膜の蒸着条件として
は、実施例１と同様に蒸着時真空度を１×１０-3Ｐａ以
下、好ましくは５×１０-4Ｐａ以下とし、蒸着速度を
０．０５〜２ｎｍ／ｓｅｃ、基板温度を１００℃以下と
なるように制御する。
は、実施例１と同様に蒸着時真空度を１×１０-3Ｐａ以
下、好ましくは５×１０-4Ｐａ以下とし、蒸着速度を
０．０５〜２ｎｍ／ｓｅｃ、基板温度を１００℃以下と
なるように制御する。
【００３８】また、ＳｉＯ2蒸着は抵抗加熱法を用い、
蒸着前真空度を４×１０-4Ｐａとし、蒸着速度を０．３
ｎｍ／ｓｅｃ、基板温度を６０℃以下となるようにして
成膜した。蒸着には、電子ビーム加熱法を用いてもよ
い。
蒸着前真空度を４×１０-4Ｐａとし、蒸着速度を０．３
ｎｍ／ｓｅｃ、基板温度を６０℃以下となるようにして
成膜した。蒸着には、電子ビーム加熱法を用いてもよ
い。
【００３９】このようにして、画素数：水平３２０×垂
直２４０、ドットピッチ８０μｍ、スペース４０μｍ、
画素ピッチ：水平０．３６×垂直０．３６ｍｍの有機Ｅ
Ｌパネルを作成した。
直２４０、ドットピッチ８０μｍ、スペース４０μｍ、
画素ピッチ：水平０．３６×垂直０．３６ｍｍの有機Ｅ
Ｌパネルを作成した。
【００４０】このパネルをデューティー比１／２４０で
駆動したところ、初期にはショート、リークによる画素
欠陥は見られず、また、１５０時間駆動後も画素欠陥は
見られなかった。
駆動したところ、初期にはショート、リークによる画素
欠陥は見られず、また、１５０時間駆動後も画素欠陥は
見られなかった。
【００４１】この実施例では、有機発光層および電子輸
送層が隣接する画素同士で接する場合を説明したが、マ
スクの窓幅を広くして、許容される発光面積が確保され
る範囲内であれば、隣同士重なって成膜してもよい。
送層が隣接する画素同士で接する場合を説明したが、マ
スクの窓幅を広くして、許容される発光面積が確保され
る範囲内であれば、隣同士重なって成膜してもよい。
【００４２】尚、実施例２において、有機発光層のホス
トと電子輸送層に各色に共通して同じ材料を用いたが、
各色ごとに独立して最適な異なる有機発光層のホスト材
料および電子輸送材料を選択することもできる。
トと電子輸送層に各色に共通して同じ材料を用いたが、
各色ごとに独立して最適な異なる有機発光層のホスト材
料および電子輸送材料を選択することもできる。
【００４３】また、陰極材料としては、実施例１および
２で示した材料の他に、仕事関数の小さい金属または合
金であればよく、マグネシウム：銀等を用いてもよい。
形成方法としては、それらの金属または合金を抵抗加熱
法または電子ビーム加熱法等の成膜方法を用いることが
できる。
２で示した材料の他に、仕事関数の小さい金属または合
金であればよく、マグネシウム：銀等を用いてもよい。
形成方法としては、それらの金属または合金を抵抗加熱
法または電子ビーム加熱法等の成膜方法を用いることが
できる。
【００４４】
【発明の効果】本発明によれば、３色各画素を有機材料
で埋めることで、Ａｌ：Ｌｉ等の陰極と陽極のＩＴＯと
が極端に近くなる場所がなくなり、不均一電界および電
界集中を防ぐことができる。
で埋めることで、Ａｌ：Ｌｉ等の陰極と陽極のＩＴＯと
が極端に近くなる場所がなくなり、不均一電界および電
界集中を防ぐことができる。
【００４５】従って、陽極と陰極の近接部に生じやすい
パネルのショート、電流リークの問題が改善され、パネ
ル作製時の良品率を上げることができる。
パネルのショート、電流リークの問題が改善され、パネ
ル作製時の良品率を上げることができる。
【００４６】さらに電界集中が起きにくいため、駆動時
のジュール熱による発熱の偏りができず、パネル内で偏
った輝度劣化やダークスポットの発生を防ぐことができ
る。
のジュール熱による発熱の偏りができず、パネル内で偏
った輝度劣化やダークスポットの発生を防ぐことができ
る。
【図１】本発明の多色発光有機ＥＬパネルの１実施形態
を示す図である。
を示す図である。
【図２】実施例１の多色発光有機ＥＬパネルの製造方法
を示す図である。
を示す図である。
【図３】実施例１の多色発光有機ＥＬパネルの構成を示
す図である。
す図である。
【図４】実施例２の多色発光有機ＥＬパネルの構成を示
す図である。
す図である。
【図５】実施例２の多色発光有機ＥＬパネルの製造方法
を示す図である。
を示す図である。
【図６】従来の多色発光有機ＥＬパネルの製造方法を示
す図である。
す図である。
【図７】従来の多色発光有機ＥＬパネルの構成を示す図
である。
である。
１ ガラス基板 ２ ＩＴＯ電極 ３ 正孔注入・輸送層 ４ 有機発光層 ４ａ 有機発光層（ドーパント有り） ４ｂ 有機発光層（ドーパントなし） ６ 電子輸送層 ７ 陰極 １３ α−ＮＰＤ層 １４Ｒ レッドの有機発光層 １４Ｇ グリーンの有機発光層 １４Ｒ ブルーの有機発光層 １６ アルミキノリン錯体（Ａｌｑ）層 １６Ｒ レッドに対応するアルミキノリン錯体（Ａｌ
ｑ）層 １６Ｇ グリーンに対応するアルミキノリン錯体（Ａｌ
ｑ）層 １６Ｒ ブルーに対応するアルミキノリン錯体（Ａｌ
ｑ）層
ｑ）層 １６Ｇ グリーンに対応するアルミキノリン錯体（Ａｌ
ｑ）層 １６Ｒ ブルーに対応するアルミキノリン錯体（Ａｌ
ｑ）層
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１０年１２月４日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、少なくとも一
方が透明または半透明の対向する電極間に、各色に対応
して異なる波長を発光する有機発光層、および電子輸送
層を有する多色発光有機ＥＬパネルにおいて、前記有機
発光層同士は隣接する画素間で互いに分離しており、前
記電子輸送層は隣接する画素間で隙間なく形成されてい
ると共に前記有機発光層同士が互いに分離されている隙
間に充填されていることを特徴とする有機ＥＬパネルに
関する。また本発明は、少なくとも一方が透明または半
透明の対向する電極間に、各色に対応して異なる波長を
発光する有機発光層、および電子輸送層を有する多色発
光有機ＥＬパネルにおいて、前記有機発光層または電子
輸送層の少なくとも一方が、隣接画素境界で重なりあっ
ていることを特徴とする多色発光有機ＥＬパネルに関す
る。
方が透明または半透明の対向する電極間に、各色に対応
して異なる波長を発光する有機発光層、および電子輸送
層を有する多色発光有機ＥＬパネルにおいて、前記有機
発光層同士は隣接する画素間で互いに分離しており、前
記電子輸送層は隣接する画素間で隙間なく形成されてい
ると共に前記有機発光層同士が互いに分離されている隙
間に充填されていることを特徴とする有機ＥＬパネルに
関する。また本発明は、少なくとも一方が透明または半
透明の対向する電極間に、各色に対応して異なる波長を
発光する有機発光層、および電子輸送層を有する多色発
光有機ＥＬパネルにおいて、前記有機発光層または電子
輸送層の少なくとも一方が、隣接画素境界で重なりあっ
ていることを特徴とする多色発光有機ＥＬパネルに関す
る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００７】さらに本発明は、透明基板上に、各色に対
応する有機発光層を形成する工程と、形成した有機発光
層上に電子輸送層を形成する工程とを有する多色発光有
機ＥＬパネルの製造方法において、前記有機発光層同士
を隣接する画素間で互いに分離するように形成する工程
と、形成された有機発光層同士の隙間を充填しながら隣
接する画素間で隙間なく前記電子輸送層を形成する工程
とを有することを特徴とする多色発光有機ＥＬパネルの
製造方法に関する。また本発明は、透明基板上に、各色
に対応する有機発光層を形成する工程と、形成した有機
発光層上に電子輸送層を形成する工程とを有する多色発
光有機ＥＬパネルの製造方法において、前記有機発光層
または電子輸送層の少なくとも一方を、隣接画素間で重
なり合うように形成することを特徴とする多色発光有機
ＥＬパネルの製造方法に関する。
応する有機発光層を形成する工程と、形成した有機発光
層上に電子輸送層を形成する工程とを有する多色発光有
機ＥＬパネルの製造方法において、前記有機発光層同士
を隣接する画素間で互いに分離するように形成する工程
と、形成された有機発光層同士の隙間を充填しながら隣
接する画素間で隙間なく前記電子輸送層を形成する工程
とを有することを特徴とする多色発光有機ＥＬパネルの
製造方法に関する。また本発明は、透明基板上に、各色
に対応する有機発光層を形成する工程と、形成した有機
発光層上に電子輸送層を形成する工程とを有する多色発
光有機ＥＬパネルの製造方法において、前記有機発光層
または電子輸送層の少なくとも一方を、隣接画素間で重
なり合うように形成することを特徴とする多色発光有機
ＥＬパネルの製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００８】さらに本発明は、透明基板上に、各色に対
応する有機発光層を形成する工程と、形成した有機発光
層上に電子輸送層を形成する工程とを有する多色発光有
機ＥＬパネルの製造方法において、前記有機発光層また
は電子輸送層の少なくとも一方の形成を、画素の発光部
よりも貫通幅の大きなマスクを通して各色ごとに蒸着し
て行うことにより、隣接画素間で接触するか、または重
なり合うように行うことを特徴とする多色発光有機ＥＬ
パネルの製造方法に関する。さらに本発明は、透明基板
上に、各色に対応する有機発光層を形成する工程と、形
成した有機発光層上に電子輸送層を形成する工程とを有
する多色発光有機ＥＬパネルの製造方法において、前記
有機発光層および電子輸送層の両方の形成を、画素の発
光部よりも窓幅の大きなマスクを通して各色ごとに前記
有機発光層と電子輸送層を連続して蒸着し、前記有機発
光層および電子輸送層が隣接画素間で接触するか、また
は重なり合うように行うことを特徴とする多色発光有機
ＥＬパネルの製造方法に関する。
応する有機発光層を形成する工程と、形成した有機発光
層上に電子輸送層を形成する工程とを有する多色発光有
機ＥＬパネルの製造方法において、前記有機発光層また
は電子輸送層の少なくとも一方の形成を、画素の発光部
よりも貫通幅の大きなマスクを通して各色ごとに蒸着し
て行うことにより、隣接画素間で接触するか、または重
なり合うように行うことを特徴とする多色発光有機ＥＬ
パネルの製造方法に関する。さらに本発明は、透明基板
上に、各色に対応する有機発光層を形成する工程と、形
成した有機発光層上に電子輸送層を形成する工程とを有
する多色発光有機ＥＬパネルの製造方法において、前記
有機発光層および電子輸送層の両方の形成を、画素の発
光部よりも窓幅の大きなマスクを通して各色ごとに前記
有機発光層と電子輸送層を連続して蒸着し、前記有機発
光層および電子輸送層が隣接画素間で接触するか、また
は重なり合うように行うことを特徴とする多色発光有機
ＥＬパネルの製造方法に関する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１０
【補正方法】削除
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【符号の説明】 １ ガラス基板 ２ ＩＴＯ電極 ３ 正孔注入・輸送層 ４ 有機発光層 ４ａ 有機発光層（ドーパント有り） ４ｂ 有機発光層（ドーパントなし） ６ 電子輸送層 ７ 陰極 １３ α−ＮＰＤ層 １４Ｒ レッドの有機発光層 １４Ｇ グリーンの有機発光層 １４Ｂ ブルーの有機発光層 １６ アルミキノリン錯体（Ａｌｑ）層 １６Ｒ レッドに対応するアルミキノリン錯体（Ａｌ
ｑ）層 １６Ｇ グリーンに対応するアルミキノリン錯体（Ａｌ
ｑ）層 １６Ｂ ブルーに対応するアルミキノリン錯体（Ａｌ
ｑ）層
ｑ）層 １６Ｇ グリーンに対応するアルミキノリン錯体（Ａｌ
ｑ）層 １６Ｂ ブルーに対応するアルミキノリン錯体（Ａｌ
ｑ）層
Claims (11)
- 【請求項１】 少なくとも一方が透明または半透明の対
向する電極間に、各色に対応して異なる波長を発光する
有機発光層、および電子輸送層を有する多色発光有機Ｅ
Ｌパネルにおいて、 前記有機発光層または電子輸送層の少なくとも一方が、
隣接する画素間で隙間なく形成されていることを特徴と
する多色発光有機ＥＬパネル。 - 【請求項２】 前記電子輸送層が隣接する画素間で隙間
なく形成され、前記有機発光層同士が隣接する画素間で
互いに分離しており、この分離された隙間に電子輸送層
が充填されていることを特徴とする請求項１記載の有機
ＥＬパネル。 - 【請求項３】 前記電子輸送層が一様な膜として形成さ
れていることを特徴とする請求項１または２記載の有機
ＥＬパネル。 - 【請求項４】 前記有機発光層が隣接する画素間で隙間
なく設けられていることを特徴とする請求項１記載の多
色発光有機ＥＬパネル。 - 【請求項５】 前記有機発光層または電子輸送層の少な
くとも一方が、隣接画素間で接しているか、または隣接
画素境界で重なりあっていることを特徴とする請求項１
記載の多色発光有機ＥＬパネル。 - 【請求項６】 正孔注入・輸送層をさらに有している請
求項１〜５のいずれかに記載の多色発光有機ＥＬパネ
ル。 - 【請求項７】 前記正孔注入・輸送層が、正孔注入層と
正孔輸送層の２層からなることを特徴とする請求項６記
載の多色発光有機ＥＬパネル。 - 【請求項８】 透明基板上に、各色に対応する有機発光
層を形成する工程と、形成した有機発光層上に電子輸送
層を形成する工程とを有する多色発光有機ＥＬパネルの
製造方法において、 前記電子輸送層を一様に形成することを特徴とする多色
発光有機ＥＬパネルの製造方法。 - 【請求項９】 透明基板上に、各色に対応する有機発光
層を形成する工程と、形成した有機発光層上に電子輸送
層を形成する工程とを有する多色発光有機ＥＬパネルの
製造方法において、 前記有機発光層または電子輸送層の少なくとも一方を、
隣接画素間で接触するか、または重なり合うように形成
することを特徴とする多色発光有機ＥＬパネルの製造方
法。 - 【請求項１０】 前記有機発光層または電子輸送層の少
なくとも一方の形成を、画素の発光部よりも貫通幅の大
きなマスクを通して各色ごとに蒸着して行うことによ
り、隣接画素間で接触するか、または重なり合うように
行うことを特徴とする請求項９記載の多色発光有機ＥＬ
パネルの製造方法。 - 【請求項１１】 前記有機発光層および電子輸送層の両
方の形成を、画素の発光部よりも窓幅の大きなマスクを
通して各色ごとに前記有機発光層と電子輸送層を連続し
て蒸着し、前記有機発光層および電子輸送層が隣接画素
間で接触するか、または重なり合うように行うことを特
徴とする請求項９記載の多色発光有機ＥＬパネルの製造
方法。
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