JPH10505006A - ロジンを含まず、低vocの、清浄を必要としないはんだ付用フラックスおよびその使用法 - Google Patents
ロジンを含まず、低vocの、清浄を必要としないはんだ付用フラックスおよびその使用法Info
- Publication number
- JPH10505006A JPH10505006A JP8509687A JP50968795A JPH10505006A JP H10505006 A JPH10505006 A JP H10505006A JP 8509687 A JP8509687 A JP 8509687A JP 50968795 A JP50968795 A JP 50968795A JP H10505006 A JPH10505006 A JP H10505006A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flux
- weight
- soldering
- assembly
- surfactant
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000004907 flux Effects 0.000 title claims abstract description 112
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 239000012190 activator Substances 0.000 claims abstract description 44
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 43
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims abstract description 42
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 26
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- -1 amine salt Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 230000000712 assembly Effects 0.000 claims abstract description 10
- 238000000429 assembly Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 16
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 claims description 15
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 claims description 15
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 14
- 239000006260 foam Substances 0.000 claims description 8
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 8
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 claims description 4
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 4
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 3
- 238000005187 foaming Methods 0.000 claims description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 abstract description 9
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 22
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 22
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 19
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 11
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 11
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 description 8
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 7
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 7
- RGDPCZKNNXHAIU-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethylamino)-2-methylpropan-1-ol Chemical compound OCC(C)(C)NCO RGDPCZKNNXHAIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000013504 Triton X-100 Substances 0.000 description 5
- 229920004890 Triton X-100 Polymers 0.000 description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N triton Chemical compound [3H+] GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N 0.000 description 4
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 3
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- JMTMSDXUXJISAY-UHFFFAOYSA-N 2H-benzotriazol-4-ol Chemical compound OC1=CC=CC2=C1N=NN2 JMTMSDXUXJISAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000003139 biocide Substances 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N gallic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPZTUJOABDZTLV-UHFFFAOYSA-N hydroxybenzotriazole Substances O=C1C=CC=C2NNN=C12 NPZTUJOABDZTLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 2
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 2
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QBYIENPQHBMVBV-HFEGYEGKSA-N (2R)-2-hydroxy-2-phenylacetic acid Chemical compound O[C@@H](C(O)=O)c1ccccc1.O[C@@H](C(O)=O)c1ccccc1 QBYIENPQHBMVBV-HFEGYEGKSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVFFZQQWIZURIO-UHFFFAOYSA-N 2-phenylbutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)C1=CC=CC=C1 LVFFZQQWIZURIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVOJAXLNLGHQSX-UHFFFAOYSA-N C(=O)(O)C1=C(C(=C2C(NN=N2)=C1)C(=O)O)C(=O)O Chemical class C(=O)(O)C1=C(C(=C2C(NN=N2)=C1)C(=O)O)C(=O)O TVOJAXLNLGHQSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLLDHOLFBJPMSD-UHFFFAOYSA-N C(CCC)N.C(C)(C)N(C(C)C)C(C)C.C(C)(C)NC(C)C.C(C)(C)N.C(CC)N(CCC)CCC.C(CC)NCCC.C(CC)N.C(C)N(CC)CC.C(C)NCC.C(C)N.CN(C)C.CNC.CN Chemical compound C(CCC)N.C(C)(C)N(C(C)C)C(C)C.C(C)(C)NC(C)C.C(C)(C)N.C(CC)N(CCC)CCC.C(CC)NCCC.C(CC)N.C(C)N(CC)CC.C(C)NCC.C(C)N.CN(C)C.CNC.CN FLLDHOLFBJPMSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYIQOLNUEHSZMZ-UHFFFAOYSA-N C(CCCCC)N(CCCCCC)CCCCCC.C(CCCCC)NCCCCCC.C(CCCCC)N.C1(CCCCC1)N.C(C)(CC)N.C(CCCC)N(CCCCC)CCCCC.C(CCCC)NCCCCC.C(CCCC)N.C(C)NCCCC.C(CCC)N(CCCC)CCCC.C(CCC)NCCCC Chemical compound C(CCCCC)N(CCCCCC)CCCCCC.C(CCCCC)NCCCCCC.C(CCCCC)N.C1(CCCCC1)N.C(C)(CC)N.C(CCCC)N(CCCCC)CCCCC.C(CCCC)NCCCCC.C(CCCC)N.C(C)NCCCC.C(CCC)N(CCCC)CCCC.C(CCC)NCCCC NYIQOLNUEHSZMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- WPPOGHDFAVQKLN-UHFFFAOYSA-N N-Octyl-2-pyrrolidone Chemical compound CCCCCCCCN1CCCC1=O WPPOGHDFAVQKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIJGAAPPEJVFAW-UHFFFAOYSA-N OC(=O)O.C1(=CC(=CC(=C1)C(=O)O)C(=O)O)C(=O)O Chemical class OC(=O)O.C1(=CC(=CC(=C1)C(=O)O)C(=O)O)C(=O)O QIJGAAPPEJVFAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N R-2-phenyl-2-hydroxyacetic acid Natural products OC(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000003115 biocidal effect Effects 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- SEVNKWFHTNVOLD-UHFFFAOYSA-L copper;3-(4-ethylcyclohexyl)propanoate;3-(3-ethylcyclopentyl)propanoate Chemical compound [Cu+2].CCC1CCC(CCC([O-])=O)C1.CCC1CCC(CCC([O-])=O)CC1 SEVNKWFHTNVOLD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJKANDGLELGDHV-UHFFFAOYSA-N disilver;dioxido(dioxo)chromium Chemical compound [Ag+].[Ag+].[O-][Cr]([O-])(=O)=O OJKANDGLELGDHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclopentane Chemical compound C=CC1CCCC1 BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940074391 gallic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000004515 gallic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical class C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229960002510 mandelic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N n,n-dihexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CCCCCC)CCCCCC DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHCCDDQKNUYGNC-UHFFFAOYSA-N n-ethylbutan-1-amine Chemical compound CCCCNCC QHCCDDQKNUYGNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JACMPVXHEARCBO-UHFFFAOYSA-N n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCNCCCCC JACMPVXHEARCBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009972 noncorrosive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012797 qualification Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000004334 sorbic acid Substances 0.000 description 1
- 229940075582 sorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010199 sorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000012956 testing procedure Methods 0.000 description 1
- 150000003628 tricarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229940070710 valerate Drugs 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3489—Composition of fluxes; Methods of application thereof; Other methods of activating the contact surfaces
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/22—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
- B23K35/36—Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest
- B23K35/3612—Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest with organic compounds as principal constituents
- B23K35/3615—N-compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/22—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
- B23K35/36—Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest
- B23K35/3612—Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest with organic compounds as principal constituents
- B23K35/3618—Carboxylic acids or salts
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
ロジンを含まず、低VOCの、清浄を必要としないはんだ付用フラックスは、界面活性剤を含むかまたは含んでおらず、フラッスの約8重量%を越えない総量のハロゲン化物を含まないカルボン酸活性化剤の1種以上、フラックスの約10重量%を越えない総量の、1種以上の活性化剤のアミン塩を形成できる1種以上のアルキルアミン及び水から本質的になる。このフラックスは、最小の残存イオン汚染で、はんだ付けした印刷配線組立品の製法に特に有用であり、従って組立て品のはんだ付け後の清浄を必要としない。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の名称
ロジンを含まず、低VOCの、清浄を必要としない
はんだ付用フラックスおよびその使用法
発明の背景
本発明は、はんだ付用フラックスおよびその使用法に関する。更に詳しくは、
本発明は、ロジンを含まず、低VOC(揮発性有機化合物)の、清浄を必要とし
ないはんだ付用フラックスおよびはんだ付け印刷配線組立品の製造のためのはん
だ付用フラックスの使用法に関する。
本発明は、ここで引用文献とする1994年3月29日公布の、共有譲渡され
た米国特許No.5,297,721に記載の発明の更なる発展である。とりわけ
、初期特許の発明は、フッソ化界面活性剤および水と組み合わせたハロゲン化物
を含まない水溶性活性化剤の使用に基づくロジンを含まない実質上VOCを含ま
ないフラックスを提供する。好ましい活性化剤は、20℃で100cc当たり少
なくとも5gの水への溶解度を有する、グルタル酸、コハク酸のようなカルボン
酸である。フラックスは、普通使用されているはんだ付け技術であるウェーブは
んだ付けに先立つ印刷配線組立品への噴霧使用のために、主として記載されてい
る。ウェーブはんだ付けでは、印刷配線盤(印刷回路盤)の表面およびはんだ付
けようとする成分リード線および成端の表面は、盤およびその上に位置した部品
に沿って通るはんだウェーブにさらされる。フラックスは、最小のはんだ付け後
のフラックス残留物で、有効なフラクシング作用を達成するのと矛盾しない制御
量で組立品に適用される。これははんだ付けした組立品の最小のイオン汚染を確
保するから、組立品のはんだ付け後の清浄は不必要である。
初期特許のフラックスは、IPCおよびBellcore操作のような、印刷
配線組立品にたいする標準表面絶縁抵抗試験操作、および銅鏡およびクロム酸銀
紙試験のような、標準腐食抵抗試験操作では、優れた結果を与えることが分かっ
ている。
しかし、ある電子工学製造業者は、一般に受入れられている標準を越えたフラ
ックス適性試験操作を利用する。この一層厳密な操作は、たとえば、試験盤に過
剰量のフラックスを適用し、はんだ付けしない試験、またははんだ付けするが試
験盤の最小予熱のみでの試験を含むことができる。この試験操作のためには、本
発明者らは、初期特許のフラックスの好ましい処方よりもより一層良好な残留物
を達成するように処方できるフラックスを提供することが望ましいことを見いだ
した。
本発明は上記の見地から案出されたものである。
発明の概要
初期特許のフラックスは、VOCの使用を実質上完全に避けることを求めたが
、本発明のフラックスは有利には少量の揮発性アルキルアミンを含む。ここで説
明するように、アルキルアミンの使用により、本発明は、初期特許の組成物のV
OCを実質上含まない特性の利点を大部分保持しながら、初期特許のフラックス
の好ましい組成物よりも一層良好なフラックス残留物を達成できる。
広く言って、本発明は、活性化剤のアミン塩を形成できるアルキルアミンおよ
び水と組み合わせたハロゲン化物を含まないカルボン酸活性化剤の使用に基づく
、ロジンを含まない(更に一般的には樹脂を含まない)、低VOCの、清浄を必
要としないはんだ付用フラックスを提供する。本発明によるアルキルアミンの存
在は、初期特許のフラックスの好ましい活性化剤と比較して、水への比較的低い
溶解度を有し、従って一層弱くイオン化する活性化剤の使用を可能にする。更に
詳しくは、アルキルアミンは、その塩形成能力によって、活性化剤の水への溶解
度を増すのに有効であり、それにより活性化剤を完全に溶液中に含ませることを
確
実にする。アルキルアミンはまた温和なフラクシング効果に寄与し、それにより
組成物の全体としてのフラクシング作用を増大させる。
初期特許のフラックスにおいて好ましいカルボン酸よりも強力でない(より弱
いイオン性の)カルボン酸の使用により、本発明のフラックスはより高い表面絶
縁抵抗と改良された非腐食性を与えるより良好な残留物を達成できる。更に、本
発明のフラックスは、フラックス適用割合を噴霧フラクシングほど正確に制御で
きない従来の泡フラクシングにより、印刷配線組立品に適用するのに、より適当
に処方できる。しかし、噴霧、ウェーブ、および他のフラクシング技術も使用で
きる。注目すべきことは、アミンはまたフラックスの繰り返しの凍結/解凍サイ
クルの間、活性化剤を溶液中に保持するのに有効である。これは輸送および貯蔵
の点で特に有利である。
意図する適用方式および所望の特性に依存して、本発明のフラックスは界面活
性剤を含むことができ、または含まなくてもよい。
従って、一つの主たる様相に従えば、本発明は、ロジンを含まず、フラックス
の約8重量%を越えない総量のハロゲン化物を含まないカルボン酸活性化剤の1
種以上、フラックスの約10重量%を越えない総量の、1種以上の活性化剤とア
ミン塩を形成できる1種以上のアルキルアミン、水および界面活性剤または界面
活性剤なしから本質的になる低VOCの、清浄を必要としないはんだ付用フラッ
クスを提供する。
もう一つの主たる様相に従えば、本発明は、上記のはんだ付用フラックスを組
立品に適用し、フラックスをつけた組立品を予熱してフラックスから水とアミン
を蒸発させ、組立品をウェーブはんだ付けする工程からなる、はんだ付け後の清
浄を必要としないはんだ付けした印刷配線組立品の製法を提供する。
本発明の上記のおよび他の様相およびその他の多くの利点は、以下の詳細な説
明からより十分に理解できるであろう。
発明の詳細な説明
本発明のロジンを含まないはんだ付用フラックスは、主成分として、1種以上
のカルボン酸活性化剤、活性化剤のアミン塩を形成できる1種以上のアルキルア
ミン及び水好ましくは脱イオン水を含む。後で説明するように、たとえば、噴霧
使用または泡使用するかに依存して、フラックスは、主成分として界面活性剤を
含むこともできる。
適当な割合の活性化剤、アミン、界面活性剤を室温で水に加え、混合して水溶
液を形成することにより、本発明のフラックスは容易に製造される。このフラッ
クスは、印刷配線組立品のウェーブはんだ付けに普通使われるはんだおよび上記
方法で普通はんだ付けられる金属と相容性である。そのようなはんだおよび金属
の例は、初期引用の特許に示されている。
フラックスの全活性化剤含量は、フラックスの約0.25重量%と約8重量%
の間であるべきである。一層低い含量の活性化剤は、十分なフラクシング活性を
与えることができず、一方一層高い含量の活性化剤は、清浄を意図していない最
終のはんだ付けした組立品に悪影響を与えることのできる過剰の残留物を生じ得
る。強弱の活性化剤に関しては、強い活性化剤は示した範囲の下限の方の量で普
通使うべきであり、一方弱い活性化剤は示した範囲の上限の方の量で使うのがよ
り適している。好ましい活性化剤の含量は、フラックスの約0.5重量%乃至約
5重量%である。本発明の最適の利点を得るためには、20℃で100cc当た
り5g未満の水への溶解度を有する活性化剤の使用が好ましい。アジピン酸が、
優れた結果を与え、特に好ましいことが分かった。
以下は本発明で使用に適する活性化剤の例である。全て20℃で100cc当
たり5g未満の水への溶解度を有する。モノカルボン酸類
吉草酸
トリメチル酢酸
カプロン酸
エナント酸
シクロヘキサンカルボン酸
安息香酸
カプリル酸
フェニル酢酸
ペラルゴン酸
ソルビン酸
カプリン酸
ウンデカン酸
ラウリン酸
トリデカン酸
ミリスチン酸
ペンタデカン酸
パルミチン酸
マルガリン酸
ステアリン酸
ケイ皮酸
馬尿酸
カルボキシベンゾトリアゾールジカルボン酸類
アジピン酸
ピメリン酸
スベリン酸
アゼライン酸
セバシン酸
ウンデカンジカルボン酸
ドデカンジカルボン酸
トリデカンジカルボン酸
テトラデカンジカルボン酸
フマル酸
1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸
3,4,5,6−テトラヒドロフタル酸
トランス−グルタコン酸
1,2−シクロヘキサンジカルボン酸
1,3−シクロヘキサンジカルボン酸
1,4−シクロヘキサンジカルボン酸
フェニルコハク酸
5−tert−ブチル−1,3−ベンゼンジカルボン酸
2,6−ナフタレンジカルボン酸
1,1,3−トリメチル−3−フェニルインダン−4′,5−ジカルボン酸トリカルボン酸類
1,3,5−ベンゼントリカルボン酸ヒドロキシカルボン酸類
ベンジル酸
没食子酸
2,6−ジヒドロキシ安息香酸
ヒドロキシ安息香酸
バニリン酸
サリチロイルサリチル酸
フラックスの全アルキルアミン含量は、存在する活性化剤の全量を水に可溶化
することを確保するのに十分であるべきである。好ましくは、アミンの含量はフ
ラックスの約0.1重量%から約10重量%の間であり、更に好ましくはフラッ
クスの約0.1重量%乃至約5重量%である。はんだ付け工程の終了後、かなり
の量が残らないように、アルキルアミンは比較的低温(たとえば100℃以下の
沸点)で揮発することも好ましい。トリエチルアミンが、優れた結果を与え、特
に好ましいことが分かった。
以下は本発明の実施に適するアルキルアミンの例であり、全て100℃または
それ以下の沸点を有する。アルキルアミン類
メチルアミン
ジメチルアミン
トリメチルアミン
エチルアミン
ジエチルアミン
トリエチルアミン
n−プロピルアミン
ジ−n−プロピルアミン
トリ−n−プロピルアミン
イソプロピルアミン
ジイソプロピルアミン
トリイソプロピルアミン
ブチルアミン
ジ−n−ブチルアミン
トリ−n−ブチルアミン
エチル−n−ブチルアミン
アミルアミン
ジアミルアミン
トリアミルアミン
sec−ブチルアミン
シクロヘキシルアミン
n−ヘキシルアミン
ジ−n−ヘキシルアミン
トリ−n−ヘキシルアミン
上記のように、本発明のフラックスは、噴霧、ウェーブおよび他のフラクシン
グ法だけでなく、従来の泡フラクシングにより印刷配線組立品に適用するために
処方できる。噴霧フラクシングは、たとえば、泡およびウェーブフラクシングよ
りも一層正確にフラックスの適用割合を制御でき、清浄を意図していない最終の
はんだ付けした組立品上のはんだ付け後のフラックス残留物を最小にするのに好
ましい。乾燥後、印刷配線組立品上に残るフラックス“固体”(さらに詳しくは
、不揮発物)の量が、盤面積平方インチ当たり約200マイクログラムから約1
,500マイクログラム(平方cm当たり約31マイクログラムから約233マ
イクログラム)の範囲、さらに好ましくは盤面積平方インチ当たり約400マイ
クログラムから約1,200マイクログラム(平方cm当たり約62マイクログ
ラムから約186マイクログラム)の範囲となるように、フラックス適用割合を
決めるのが好ましい。これは、ウェーブはんだ付けしようとする表面のフラック
スによる十分な濡れおよび良好なはんだ継手を確保し、またはんだ付け後に清浄
を
行わず、はんだ付けした組立品の最小の残存イオン汚染と良好な(高い)表面絶
縁抵抗を確保する。
主として、意図する適用方式に依存して、本発明のフラックスは、界面活性剤
およびその混合物を含むことができる。たとえば、最終のはんだ付けした組立品
の良好な表面絶縁抵抗の維持が保たれなくなる程度に至るまで、非イオン性、ア
ニオン性、カチオン性、両性、フッソ化界面活性剤を使用できる。噴霧適用の処
方物は、はんだ付けされる表面の最小の噴霧により十分な被覆を確保するために
、フラックスの湿潤性を増すため、普通一種以上の界面活性剤を含む。泡適用の
処方物は、フラックスの発泡性を制御するため、界面活性剤を含むことがでる。
フルオロ界面活性剤のようなより強い界面活性剤は、噴霧処方物には一層良く適
するが、有効なフラックス適用には安定過ぎる(気泡が必要なとき破壊する傾向
がない)泡を生成する傾向があるから、泡処方物では普通避けるべきである。
界面活性剤またはその混合物を使うときは、全界面活性剤の含量は、フラック
スの約1.0重量%未満が好ましく、更に好ましくは界面活性剤含量はフラック
スの約0.01重量%乃至約0.1重量%の範囲である。界面活性剤を含まない
処方物でも、満足な結果を達成できる。
本発明のフラックスは、その基本性質に著しく影響を与えない、少量で、種々
のさらなる成分を含むことができる。そのような成分は、たとえば、ベンゾトリ
アゾール、置換ベンゾトリアゾール(たとえばヒドロキシベンゾトリアゾール)
、イミダゾール、置換イミダゾールのような腐食防止剤、安定剤、殺生物剤が挙
げられる。これらを、好ましくはフラックスの約0.1重量%を越えない総量で
添加できる。上記成分の使用は、当業者には熟知であり、更に詳細に述べる必要
はない。
フラックスのある種の成分は、イソプロパノールのような有機溶剤(VOC)
を含むキャリヤーで、製造業者から供給され得ることに留意すべきである。たと
えば、以下の特別の実施例の多くに出てくる Du Pont Zonyl FSN フルオロ界
面活性剤は、水およびイソプロピルアルコール各々30%中の活性成分(界面活
性剤)40%濃度として供給される。勿論上記成分はごく小濃度で使うから、生
じるフラックスのVOC含量の増加は重要ではない。
好ましい実施態様
以下は、本発明に従う好ましい組成物を例示する特別の実施例である。各実施
例においては、活性化剤、アルキルアミン、さらなる他の成分を脱イオン水(D
I)に室温で溶かし、かきまぜて均一水溶液を作ることにより、フラックスを製
造した。実施例で挙げた全成分は、商業上容易に入手でき、修飾することなく使
用した。酸活性化剤およびアルキルアミンは、商業的に純粋形(実質上100%
純度)であった。実施例1および2は、界面活性剤を含み、噴霧適用に特に適す
る。実施例2は高められた銅腐食保護を与えるため、腐食防止剤も含んでいる。
実施例3および4は、界面活性剤を含まず、泡適用に特に適する。実施例4は腐
食防止剤も含んでいる。実施例1−4の全ては殺生物剤を含んでいる。製造業者
の指示により挙げた成分は、下記の表1に記載した。
実施例1
重量%
脱イオン水 96.33
トリエチルアミン 1.38
アジピン酸 2.00
トリトン(Triton)N−101 0.03
サーファドン(Surfadone)LP−100 0.06
ウカルシド(Ucarcide)250 0.20
100.00%
実施例2
重量%
脱イオン水 96.19
トリエチルアミン 1.38
アジピン酸 2.00
トリトン(Triton)N−101 0.03
ウカルシド(Ucarcide)250 0.20
ベンゾトリアゾール 0.20
100.00%
実施例3
重量%
脱イオン水 96.42
トリエチルアミン 1.38
アジピン酸 2.00
ウカルシド(Ucarcide)250 0.20
100.00%
実施例4
重量%
脱イオン水 96.32
トリエチルアミン 1.38
アジピン酸 2.00
ウカルシド(Ucarcide)250 0.20
ベンゾトリアゾール 0.10
100.00%
実施例1−4のフラックスの全ては、標準銅鏡腐食試験を合格した。更に、上
記のように添加した腐食防止剤を含む実施例2および4のフラックスは、IPC
銅腐食試験を合格した。全てフラックスを、凍結/解凍試験にかけ、室温(20
−25℃)に再び温めたとき、沈殿または分離を示さなかった。
実施例1のフラックスの更なる試験において、フラックス200μl(正常割
合で5回)を、3個の標準Bellcore FR4ガラスエポキシ試験盤の各
々の試験パターン(50mmの試験パターン間隔)に沿って注射器で適用した。
次いで盤を、試験パタン側を上にして(“平らにして”)、Hollis Future 1 SM
T ウェーブはんだ付け機械上で63/37Sn/Pbはんだでウェーブはんだ付
けした。予熱温度を105℃(盤頂部側)にセットし、はんだつぼ温度を260
℃に、コンベヤ速度を1.52m/分にセットした。
35℃、85%相対湿度で7日後、表面絶縁抵抗(SIR)を各々の盤で4位
置で測定した。3つの盤の相乗平均SIR読みは1.6×1011オームであり、
盤の銅トレース上に腐食は全く無く、残存イオン汚染はごく低水準であることを
示し、フラックス残留物の高度に良好な非腐食特性を確認した。
比較のため、初期特許の発明に従うフラックスを同様に試験した。比較フラッ
クスは実質上同一量の活性化剤を含んでいたが、上記のように一層高い水溶性の
カルボン酸を利用した。比較フラックスは、試験盤の銅トレース上に目に見える
腐食をもって、相乗平均SIR読み1.7×108オームを与えた。
実施例3のフラックスの更なる試験として、フラックスの20滴(約1ml)
を、上記型の3個の試験盤の各々にほぼ等間隔で適用した。これは、盤面積平方
cm当たり約25mgの総フラックス、又は盤面積平方cm当たり約0.5mg
のフラックス固体の適用割合に等しい。次いで、試験盤を垂直位置で徐々に排出
させ、室温で空気乾燥した、すなわち予熱およびはんだ付けをしなかった。40
℃、93%相対湿度で1日後、上記のようにSIR測定を行い、4.15×109
オームの相乗SIR読みが得られた。
比較のため、初期特許の発明に従うフラックスを同様に試験した。比較フラッ
クスは、実質上同一量の活性化剤を含んでいたが、上記のように一層高い水溶性
のカルボン酸を利用した。比較フラックスは、9.1×106オームの相乗SI
R読みを生じた。
追加実施例
以下は本発明に従う更なる処方物の実施例である。
実施例5
重量%
脱イオン水 99.27
アジピン酸 0.50
トリエチルアミン 0.10
トリトン(Triton)X−100 0.03
ベゾトリアゾール 0.05
ウカルシド(Ucarcide)250 0.05
100.00
実施例6
重量%
脱イオン水 96.36
アジピン酸 1.00
スベリン酸 1.00
ジイソプロピルアミン 1.38
イミダゾール 0.10
ゾニル(Zonyl)FSN 0.06
トロイサン(Troysan)192 0.10
100.00
実施例7
重量%
脱イオン水 94.62
アジピン酸 1.50
パルミチン酸 0.50
トリエチルアミン 3.33
トロイサン(Troysan)192 0.05
100.00
実施例8
重量%
脱イオン水 95.85
アジピン酸 1.25
セバシン酸 0.75
トリ−n−プロピルアミン 2.00
ダントガード(Dantogard) 0.10
フルオラッド(Fluorad)FC−430 0.05
100.00
実施例9
重量%
脱イオン水 91.20
アジピン酸 5.00
トリエチルアミン 3.50
トロイサン(Troysan)192 0.20
トリトン(Triton)X−100 0.10
100.00
実施例10
重量%
脱イオン水 96.30
フェニルコハク酸 2.00
トリエチルアミン 1.50
ゾニル(Zonyl)FSN 0.10
ダントガード(Dantogard) 0.10
100.00
実施例11
重量%
脱イオン水 95.86
スベリン酸 1.10
ピメリン酸 0.90
ジイソプロピルアミン 1.70
ヒドロキシベンゾトリアゾール 0.20
ウカルシド(Ucarcide)250 0.20
トリトン(Triton)X−100 0.04
100.00
実施例12
重量%
脱イオン水 94.60
アジピン酸 1.30
マンデル酸 0.20
ステアリン酸 0.50
エチル−n−ブチルアミン 3.30
トロイサン(Troysan)192 0.10
100.00
実施例13
重量%
脱イオン水 85.70
スベリン酸 8.00
トリエチルアミン 6.00
トロイサン(Troysan)192 0.20
ゾニル(Zonyl)FSN 0.10
100.00
実施例14
重量%
脱イオン水 99.57
アジピン酸 0.25
ブチルアミン 0.10
ダントガード(Dantogard) 0.05
トリトン(Triton)X−100 0.03
100.00
実施例15
重量%
脱イオン水 83.75
セバシン酸 6.00
トリ−n−ヘキシルアミン 10.00
ウカルシド(Ucarcide)250 0.20
フルオラッド(Fluorad)FC−430 0.05
100.00
実施例16
重量%
脱イオン水 91.75
アゼライン酸 3.00
ジアミルアミン 5.00
トロイサン(Troysan)192 0.20
フルオラッド(Fluorad)FC−430 0.05
100.00
実施例17
重量%
脱イオン水 95.25
ピメリン酸 2.00
ジエチルアミン 1.55
ダントガード(Dantogard) 0.20
トリトン(Triton)X−100 1.00
100.00
実施例18
重量%
脱イオン水 96.39
アジピン酸 2.00
トリエチルアミン 1.40
トリトン(Triton)X−100 0.01
ウカルシド(Ucarcide)250 0.20
100.00
実施例19
重量%
脱イオン水 95.90
スベリン酸 2.00
トリ−n−プロピルアミン 1.00
ジイソプロピルアミン 1.00
ゾニル(Zonyl)FSN 0.05
トロイサン(Troysan)192 0.05
100.00
本発明を好ましい方法に関し説明してきたが、本発明の原理と精神を保ちつつ
種々の変更を行えることは、当業者には明らかである。本発明の範囲は請求の範
に規定されている。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE,
DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M
C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG
,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN,
TD,TG),AP(KE,MW,SD,SZ,UG),
AM,AT,AU,BB,BG,BR,BY,CA,C
H,CN,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB
,GE,HU,IS,JP,KE,KG,KP,KR,
KZ,LK,LR,LT,LU,LV,MD,MG,M
K,MN,MW,MX,NO,NZ,PL,PT,RO
,RU,SD,SE,SG,SI,SK,TJ,TM,
TT,UA,UG,UZ,VN
(72)発明者 ブルメル,デヴィッド,ビー.
アメリカ合衆国.07304 ニュージャーシ
イ,ジャーシイ シティ,カルヴァー ア
ヴェニュー 250 アルファ メタルス,
インク.気付
(72)発明者 ブロース,ジャック
アメリカ合衆国.07304 ニュージャーシ
イ,ジャーシイ シティ,カルヴァー ア
ヴェニュー 250 アルファ メタルス,
インク.気付
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.界面活性剤を含んでいるかまたは含んでおらず、フラックスの約8重量% を越えない総量のハロゲン化物を含まないカルボン酸活性化剤の1種以上;フラ ックスの約10重量%を越えない総量の該1種以上の活性化剤のアミン塩を形成 できる1種以上のアルキルアミン;及び水から本質的になり、ロジンを含んでい ない低VOCの、清浄を必要としないはんだ付用フラックス。 2.該活性化剤の各々の水への溶解度が、20℃で100cc当たり5g未満 である請求項1記載のはんだ付用フラックス。 3.該1種以上の活性化剤がアジピン酸を含んでいる請求項1記載のはんだ付 用フラックス。 4.1種だけの該活性化剤、すなわちアジピン酸だけを含んでいる請求項1記 載のはんだ付用フラックス。 5.1種だけの該アミン、すなわちトリエチルアミンだけを含んでいる請求項 4記載のはんだ付用フラックス。 6.該1種以上のアミンがトリエチルアミンを含んでいる請求項1記載のはん だ付用フラックス。 7.1種だけの該アミン、すなわちトリエチルアミンだけを含んでいる請求項 1記載のはんだ付用フラックス。 8.全活性化剤の含量がフラックスの少なくも約0.25重量%である請求項 1記載のはんだ付用フラックス。 9.全活性化剤の含量がフラックスの約0.5重量%乃至約5.0重量%であ る請求項8記載のはんだ付用フラックス。 10.全アミンの含量がフラックスの約0.1重量%乃至約5.0重量%であ る請求項9記載のはんだ付用フラックス。 11.全アミンの含量がフラックスの少なくとも約0.1重量%である請求項 1記載のはんだ付用フラックス。 12.全アミンの含量がフラックスの約0.1重量%乃至約5.0重量%であ る請求項1記載のはんだ付用フラックス。 13.界面活性剤がフラックスの約1.0重量%を越えない量で存在している 請求項1記載のはんだ付用フラックス。 14.界面活性化剤の量がフラックスの約0.01重量%乃至約0.1重量% である請求項13記載のはんだ付用フラックス。 15.界面活性化剤を含んでいるかまたは含んでおらず、フラックスの約8重 量%を越えない総量のハロゲン化物を含まないカルボン酸活性化剤の1種以上、 フラックスの約10重量%を越えない総量の該1種以上の活性化剤のアミン塩を 形成できる1種以上のアルキルアミン、及び水とから本質的になり、ロジンを含 んでいない低VOCの、清浄を必要としないはんだ付用フラックスを印刷配線組 立品に適用し:フラックスから水及びアミンを蒸発させるためにフラックスをつ けた組立品を予熱し;及び組立品をウェーブはんだ付けすることからなるはんだ 付け後の清浄を必要としないはんだ付けした印刷配線組立品の製法。 16.該活性化剤の各々の水への溶解度が20℃で100cc当たり5g未満 である請求項15記載の製法。 17.フラックスの全活性化剤含量が、フラックスの約0.5重量%乃至約5 .0重量%である請求項15記載の製法。 18.フラックスの全アミン含量がフラックスの約0.1重量%乃至約5.0 重量%である請求項15記載の製法。 19.フラックスの該1種以上の活性化剤がアジピン酸を含んでいる請求項1 5記載の製法。 20.フラックスの該1種以上のアミンがトリエチルアミンを含んでいる請求 項15記載の製法。 21.フラックスが界面活性剤を含まず、泡フラクシングにより組立品に適用 される請求項15記載の製法。 22.フラックスが界面活性剤を含み、噴霧またはウェーブフラクシングによ り組立品に適用される請求項15記載の製法。 23.フラックスを、水およびアミンの蒸発後の組立品上に残るフラックス固 体が組立品の盤面積平方インチ当たり約200μg乃至1500μgの範囲とな るような適用割合で、組立品に適用する請求項15記載の製法。 24.界面活性剤を含んでいるかまたは含んでおらず、フラックスの約8重量 %を越えない総量のハロゲン化物を含まないカルボン酸活性化剤の1種以上、フ ラックスの約10重量%を越えない総量の該1種以上の活性化剤のアミン塩を形 成できる1種以上のアルキルアミン、及び水とから本質的になり、ロジンを含ん でいない低VOCの、清浄を必要としないはんだ付用フラックスを印刷配線組立 品に適用し;及び組立品をはんだ付けすることからなる、はんだ付け後の清浄を 必要としないはんだ付けした印刷配線組立品の製法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US303,668 | 1994-09-09 | ||
US08/303,668 | 1994-09-09 | ||
US08/303,668 US5571340A (en) | 1994-09-09 | 1994-09-09 | Rosin-free, low VOC, no-clean soldering flux and method using the same |
PCT/US1995/011413 WO1996007503A1 (en) | 1994-09-09 | 1995-09-07 | Rosin-free, low voc, no-clean soldering flux and method using the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10505006A true JPH10505006A (ja) | 1998-05-19 |
JP3026510B2 JP3026510B2 (ja) | 2000-03-27 |
Family
ID=23173147
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8509687A Expired - Lifetime JP3026510B2 (ja) | 1994-09-09 | 1995-09-07 | ロジンを含まず、低vocの、清浄を必要としないはんだ付用フラックスおよびその使用法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5571340A (ja) |
EP (1) | EP0776262B1 (ja) |
JP (1) | JP3026510B2 (ja) |
AT (1) | ATE209995T1 (ja) |
AU (1) | AU3508695A (ja) |
DE (1) | DE69524421T2 (ja) |
WO (1) | WO1996007503A1 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002514973A (ja) * | 1995-05-24 | 2002-05-21 | フライズ・メタルズ・インコーポレーテッド | エポキシ系voc非含有はんだ付け用フラックス |
JP2004501765A (ja) * | 2000-04-13 | 2004-01-22 | フライズ・メタルズ・インコーポレーテッド・ドゥーイング・ビジネス・アズ・アルファ・メタルズ・インコーポレーテッド | カチオン性界面活性剤を含むろう接用フラックス |
JP2007229776A (ja) * | 2006-03-02 | 2007-09-13 | Shinko Seiki Co Ltd | 固着材およびバンプ形成方法 |
JP2011212748A (ja) * | 1999-12-03 | 2011-10-27 | Fry's Metals Inc Doing Business As Alpha Metals Inc | ハンダ付け用フラックス |
WO2018025903A1 (ja) * | 2016-08-02 | 2018-02-08 | 株式会社弘輝 | はんだペースト用フラックス、及び、はんだペースト |
JP2019042788A (ja) * | 2017-09-06 | 2019-03-22 | 千住金属工業株式会社 | フラックス |
Families Citing this family (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3378139B2 (ja) * | 1996-03-19 | 2003-02-17 | 株式会社デンソー | はんだ付け用のフラックス |
US5958151A (en) * | 1996-07-22 | 1999-09-28 | Ford Global Technologies, Inc. | Fluxing media for non-VOC, no-clean soldering |
US5985043A (en) * | 1997-07-21 | 1999-11-16 | Miguel Albert Capote | Polymerizable fluxing agents and fluxing adhesive compositions therefrom |
US6017634A (en) * | 1997-07-21 | 2000-01-25 | Miguel Albert Capote | Carboxyl-containing polyunsaturated fluxing agent and carboxyl-reactive neutralizing agent as adhesive |
US5985456A (en) * | 1997-07-21 | 1999-11-16 | Miguel Albert Capote | Carboxyl-containing polyunsaturated fluxing adhesive for attaching integrated circuits |
US6059894A (en) * | 1998-04-08 | 2000-05-09 | Hewlett-Packard Company | High temperature flip chip joining flux that obviates the cleaning process |
US6217671B1 (en) | 1999-12-14 | 2001-04-17 | International Business Machines Corporation | Composition for increasing activity of a no-clean flux |
TW531868B (en) * | 2001-08-21 | 2003-05-11 | Au Optronics Corp | Soldering type anisotropic conductive film |
US7108755B2 (en) * | 2002-07-30 | 2006-09-19 | Motorola, Inc. | Simplification of ball attach method using super-saturated fine crystal flux |
US6796482B2 (en) * | 2002-10-31 | 2004-09-28 | Freescale Semiconductor, Inc. | Phase separated system for fluxing |
US7052558B1 (en) * | 2005-04-08 | 2006-05-30 | Chemicals And Metals Technologies, Inc. | Solder paste flux composition |
DE102005053553A1 (de) * | 2005-11-08 | 2007-05-16 | Heraeus Gmbh W C | Lotpasten mit harzfreien Flussmittel |
US20070284412A1 (en) * | 2006-05-31 | 2007-12-13 | Prakash Anna M | Solder flux composition |
DE102006027027A1 (de) | 2006-06-08 | 2007-12-13 | Centrotherm Thermal Solutions Gmbh + Co.Kg | Lötverfahren |
US20080102561A1 (en) * | 2006-10-26 | 2008-05-01 | Schlumberger Technology Corporation | Methods of manufacturing printed circuit board assembly |
US8070047B1 (en) | 2010-12-02 | 2011-12-06 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Flux composition and method of soldering |
US8070045B1 (en) | 2010-12-02 | 2011-12-06 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Curable amine flux composition and method of soldering |
US8070046B1 (en) | 2010-12-02 | 2011-12-06 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Amine flux composition and method of soldering |
US8070043B1 (en) | 2010-12-02 | 2011-12-06 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Curable flux composition and method of soldering |
US8070044B1 (en) | 2010-12-02 | 2011-12-06 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Polyamine flux composition and method of soldering |
US8430293B2 (en) | 2011-09-30 | 2013-04-30 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Curable amine, carboxylic acid flux composition and method of soldering |
US8430295B2 (en) | 2011-09-30 | 2013-04-30 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Curable flux composition and method of soldering |
US8434666B2 (en) | 2011-09-30 | 2013-05-07 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Flux composition and method of soldering |
US8430294B2 (en) | 2011-09-30 | 2013-04-30 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Amine, carboxylic acid flux composition and method of soldering |
US8434667B2 (en) | 2011-09-30 | 2013-05-07 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Polyamine, carboxylic acid flux composition and method of soldering |
JP6259623B2 (ja) * | 2013-09-30 | 2018-01-10 | 株式会社タムラ製作所 | 低酸価アクリル樹脂含有はんだ付け用フラックスおよびはんだペースト組成物 |
CN103801860A (zh) * | 2014-02-20 | 2014-05-21 | 苏州龙腾万里化工科技有限公司 | 一种提高成膜性能的助焊剂 |
EP3308901A4 (en) * | 2015-06-12 | 2018-12-12 | Arakawa Chemical Industries, Ltd. | Flux for lead-free solder, and lead-free solder paste |
JP6822440B2 (ja) * | 2017-05-26 | 2021-01-27 | 荒川化学工業株式会社 | 鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物、鉛フリーはんだフラックスの洗浄方法 |
JP7160022B2 (ja) * | 2018-12-26 | 2022-10-25 | 荒川化学工業株式会社 | フローソルダリング用フラックス、はんだ付け方法 |
Family Cites Families (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2470957A (en) * | 1945-08-27 | 1949-05-24 | Battelle Memorial Institute | Soft soldering flux |
US3099590A (en) * | 1959-06-25 | 1963-07-30 | Blackstone Corp | Solder fluxes |
US3746620A (en) * | 1971-07-13 | 1973-07-17 | Nl Industries Inc | Water soluble flux composition |
US3840411A (en) * | 1972-06-14 | 1974-10-08 | Blackstone Corp | Solder flux compositions |
JPS4926825A (ja) * | 1972-07-07 | 1974-03-09 | ||
JPS4926826A (ja) * | 1972-07-10 | 1974-03-09 | ||
US3925112A (en) * | 1974-02-19 | 1975-12-09 | Hercules Chemical Co Inc | Solder fluxes |
US4000016A (en) * | 1974-11-29 | 1976-12-28 | International Business Machines Corporation | Water soluble fluxes |
GB1517116A (en) * | 1976-05-27 | 1978-07-12 | Frys Metals Ltd | Soldering fluxes |
US4077815A (en) * | 1976-12-20 | 1978-03-07 | International Business Machines Corporation | Water soluble flux |
US4113524A (en) * | 1977-02-24 | 1978-09-12 | Rca Corporation | Method of assembling components on printed circuit boards |
US4140554A (en) * | 1977-09-30 | 1979-02-20 | Chevron Research Company | Water-rinsable soldering fluid containing a polyamide dispersant |
US4151015A (en) * | 1977-12-02 | 1979-04-24 | Lake Chemical Company | Flux for use in soldering |
DE2921827B2 (de) * | 1979-05-29 | 1981-06-04 | Winchester Electronics Gmbh, 7100 Heilbronn | Halogenfreies Flußmittel für die Weichlötung auf Kolophoniumbasis |
GB2107362A (en) * | 1981-10-16 | 1983-04-27 | Multicore Solders Ltd | Liquid fluxes for use in soldering |
US4428780A (en) * | 1983-02-07 | 1984-01-31 | Lake Chemical Co. | Solutions for use in bonding plates of storage batteries to connecting systems |
US4601763A (en) * | 1984-10-11 | 1986-07-22 | Lgz Landis & Gyr Zug Ag | Method for the mechanical soft-soldering of heavy metals utilizing a fluxing agent |
US4708751A (en) * | 1984-12-14 | 1987-11-24 | Alpha Grillo-Lotsysteme Gmbh | Halogen-free foam fluxes |
US4568395A (en) * | 1985-05-10 | 1986-02-04 | Nabhani Abdol R | Precleaner system and soldering flux |
JPH0773795B2 (ja) * | 1985-07-02 | 1995-08-09 | 太陽インキ製造株式会社 | はんだ付用水洗性フラツクス組成物 |
US4661173A (en) * | 1986-07-25 | 1987-04-28 | Mcdonnell Douglas Corporation | Alloy-enriched solder cream |
US4759490A (en) * | 1986-10-23 | 1988-07-26 | Fujitsu Limited | Method for soldering electronic components onto a printed wiring board using a solder paste |
US4988395A (en) * | 1989-01-31 | 1991-01-29 | Senju Metal Industry Co., Ltd. | Water-soluble soldering flux and paste solder using the flux |
US4895606A (en) * | 1989-02-23 | 1990-01-23 | Ashraf Jafri | Formulations for soldering flux |
US4940498A (en) * | 1989-08-14 | 1990-07-10 | Multicore Solders Limited | Flux composition |
FR2658746B1 (fr) * | 1990-02-23 | 1995-01-06 | Europ Accumulateurs | Flux de soudage pour accessoires de batterie d'accumulateurs au plomb. |
US5004509A (en) * | 1990-05-04 | 1991-04-02 | Delco Electronics Corporation | Low residue soldering flux |
US4994119A (en) * | 1990-05-09 | 1991-02-19 | International Business Machines Corporation | Water soluble soldering flux |
US5141568A (en) * | 1990-05-15 | 1992-08-25 | Hughes Aircraft Company | Water-soluble soldering paste |
US5085365B1 (en) * | 1990-05-15 | 1995-08-08 | Hughes Aircraft Co | Water soluble soldering flux |
US5009724A (en) * | 1990-07-02 | 1991-04-23 | At&T Bell Laboratories | Soldering flux and method of its use in fabricating and assembling circuit boards |
JPH07121468B2 (ja) * | 1990-10-03 | 1995-12-25 | メック株式会社 | はんだ付け用フラックス |
US5145531A (en) * | 1990-10-31 | 1992-09-08 | Hughes Aircraft Company | Fluxing apparatus and method |
US5069730A (en) * | 1991-01-28 | 1991-12-03 | At&T Bell Laboratories | Water-soluble soldering paste |
US5297721A (en) * | 1992-11-19 | 1994-03-29 | Fry's Metals, Inc. | No-clean soldering flux and method using the same |
US5281281A (en) * | 1993-02-05 | 1994-01-25 | Litton Systems, Inc. | No-clean, low-residue, volatile organic compound free soldering flux and method of use |
-
1994
- 1994-09-09 US US08/303,668 patent/US5571340A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-09-07 AU AU35086/95A patent/AU3508695A/en not_active Abandoned
- 1995-09-07 JP JP8509687A patent/JP3026510B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1995-09-07 AT AT95931772T patent/ATE209995T1/de active
- 1995-09-07 EP EP95931772A patent/EP0776262B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-09-07 DE DE69524421T patent/DE69524421T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-09-07 WO PCT/US1995/011413 patent/WO1996007503A1/en active IP Right Grant
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002514973A (ja) * | 1995-05-24 | 2002-05-21 | フライズ・メタルズ・インコーポレーテッド | エポキシ系voc非含有はんだ付け用フラックス |
JP2011212748A (ja) * | 1999-12-03 | 2011-10-27 | Fry's Metals Inc Doing Business As Alpha Metals Inc | ハンダ付け用フラックス |
JP2004501765A (ja) * | 2000-04-13 | 2004-01-22 | フライズ・メタルズ・インコーポレーテッド・ドゥーイング・ビジネス・アズ・アルファ・メタルズ・インコーポレーテッド | カチオン性界面活性剤を含むろう接用フラックス |
JP2011252171A (ja) * | 2000-04-13 | 2011-12-15 | Fry's Metals Inc Doing Business As Alpha Metals Inc | カチオン性界面活性剤を含むろう接用フラックス |
JP2007229776A (ja) * | 2006-03-02 | 2007-09-13 | Shinko Seiki Co Ltd | 固着材およびバンプ形成方法 |
WO2018025903A1 (ja) * | 2016-08-02 | 2018-02-08 | 株式会社弘輝 | はんだペースト用フラックス、及び、はんだペースト |
CN109475983A (zh) * | 2016-08-02 | 2019-03-15 | 株式会社弘辉 | 焊膏用助焊剂和焊膏 |
JPWO2018025903A1 (ja) * | 2016-08-02 | 2019-06-06 | 株式会社弘輝 | はんだペースト用フラックス、及び、はんだペースト |
US11425825B2 (en) | 2016-08-02 | 2022-08-23 | Koki Company Limited | Solder paste using a solder paste flux and solder powder |
CN109475983B (zh) * | 2016-08-02 | 2024-01-26 | 株式会社弘辉 | 焊膏用助焊剂和焊膏 |
JP2019042788A (ja) * | 2017-09-06 | 2019-03-22 | 千住金属工業株式会社 | フラックス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ATE209995T1 (de) | 2001-12-15 |
EP0776262B1 (en) | 2001-12-05 |
AU3508695A (en) | 1996-03-27 |
US5571340A (en) | 1996-11-05 |
JP3026510B2 (ja) | 2000-03-27 |
EP0776262A1 (en) | 1997-06-04 |
DE69524421T2 (de) | 2002-05-23 |
WO1996007503A1 (en) | 1996-03-14 |
DE69524421D1 (de) | 2002-01-17 |
EP0776262A4 (en) | 2000-01-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH10505006A (ja) | ロジンを含まず、低vocの、清浄を必要としないはんだ付用フラックスおよびその使用法 | |
EP0668808B1 (en) | No-clean soldering flux and method using the same | |
KR102227645B1 (ko) | 땜납 조성물 및 그것을 사용한 프린트 배선기판 | |
US6599372B2 (en) | Soldering flux | |
GB2380964A (en) | Lead-free solder paste | |
JP2001300766A (ja) | 回路基板はんだ付用フラックス及び回路基板 | |
JP6713027B2 (ja) | はんだ組成物および電子基板 | |
JPH0377793A (ja) | フラックス組成物 | |
JPH0825058B2 (ja) | カルボン酸をベースとする軟質ハンダ付けフラックスを使用する電子部品の製造方法 | |
KR100606179B1 (ko) | 솔더 페이스트 및 그 납땜 방법 | |
JP6967050B2 (ja) | はんだ付け用フラックス組成物 | |
JP2020049490A (ja) | はんだ付け用フラックス組成物 | |
JP4426076B2 (ja) | 低温活性ハンダペースト | |
US4180419A (en) | Solder flux | |
JPS6333196A (ja) | クリ−ムはんだ用フラツクス | |
JP2725063B2 (ja) | はんだ付け用フラックス組成物 | |
JP3163506B2 (ja) | クリームハンダ | |
JPH1043882A (ja) | はんだペースト | |
JP2628205B2 (ja) | クリームはんだ | |
JPS6149799A (ja) | 水溶性はんだ付け用フラツクス | |
JP2023034204A (ja) | フラックス組成物、はんだ組成物および電子基板 | |
JPH1099991A (ja) | はんだペーストおよびはんだ用フラックス | |
JPH0857685A (ja) | はんだ付け用フラックス | |
JPS60196291A (ja) | 低ロジン型はんだ付け用フラツクス | |
JPH04100692A (ja) | クリームはんだ |