JPH04100692A - クリームはんだ - Google Patents
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- JPH04100692A JPH04100692A JP21449990A JP21449990A JPH04100692A JP H04100692 A JPH04100692 A JP H04100692A JP 21449990 A JP21449990 A JP 21449990A JP 21449990 A JP21449990 A JP 21449990A JP H04100692 A JPH04100692 A JP H04100692A
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- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 57
- 239000006071 cream Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 239000012190 activator Substances 0.000 claims abstract description 18
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims abstract description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 9
- WGWKNMLSVLOQJB-UHFFFAOYSA-N propan-2-ylazanium;bromide Chemical compound Br.CC(C)N WGWKNMLSVLOQJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 238000004898 kneading Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 claims description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 7
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 abstract description 6
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 abstract description 6
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 abstract description 6
- 238000005476 soldering Methods 0.000 abstract description 6
- -1 amine hydrochloride Chemical class 0.000 abstract description 4
- 239000003240 coconut oil Substances 0.000 abstract description 2
- 235000019864 coconut oil Nutrition 0.000 abstract description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 18
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 16
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 11
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 11
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 11
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 7
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical class CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical class NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- ISYORFGKSZLPNW-UHFFFAOYSA-N propan-2-ylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC(C)[NH3+] ISYORFGKSZLPNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAFHKNAQFPVRKR-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylpropanoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)C DAFHKNAQFPVRKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N alpha-terpineol Chemical compound CC1=CCC(C(C)(C)O)CC1 WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N delta-terpineol Natural products CC(C)(O)C1CCC(=C)CC1 SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000003670 easy-to-clean Effects 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- XWBDWHCCBGMXKG-UHFFFAOYSA-N ethanamine;hydron;chloride Chemical compound Cl.CCN XWBDWHCCBGMXKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- CBPYOHALYYGNOE-UHFFFAOYSA-M potassium;3,5-dinitrobenzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=CC([N+]([O-])=O)=C1 CBPYOHALYYGNOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229940116411 terpineol Drugs 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野]
本発明は、フラックス中に新規な活性剤を有する低腐食
性のクリームはんだに関し、特にはんだ付後のフラック
ス残渣除去不要のクリームはんだに関する。
性のクリームはんだに関し、特にはんだ付後のフラック
ス残渣除去不要のクリームはんだに関する。
[従来の技術]
近年、クリームはんだが用いられる電子基板はますます
小型化される傾向があり、プリント回路にマウントする
素子のチップ什に伴う部品の微小化、実装密度の上昇、
高度集積化が進められ、電子材料の電極間距離やパター
ンの間隔はますます狭められている。
小型化される傾向があり、プリント回路にマウントする
素子のチップ什に伴う部品の微小化、実装密度の上昇、
高度集積化が進められ、電子材料の電極間距離やパター
ンの間隔はますます狭められている。
したがって、回路間の高い飾縁性の確保や、接合強度、
接合精度、熱安定性等に関17、クリームはんだについ
ても高度な要請が成されるに至っている、 クリームはんだには主としてリフロー法が使用されてい
るが、最初に基板にクリームはんだを印刷した後、チッ
プ化された素子をマウントし、加熱炉を通してはんだを
溶融し、接合をすることが一般的である。
接合精度、熱安定性等に関17、クリームはんだについ
ても高度な要請が成されるに至っている、 クリームはんだには主としてリフロー法が使用されてい
るが、最初に基板にクリームはんだを印刷した後、チッ
プ化された素子をマウントし、加熱炉を通してはんだを
溶融し、接合をすることが一般的である。
すなわち、クリームはんだのフラックスに要請される性
能は、人体に対する安全性、良好なはんだ付性及び保存
中に劣化しない等の一般的なはんだフラックスに要請さ
れる性能の仲、低腐食性、高絶縁性、特にはんだ付後洗
浄をしなくとも良いことが望ましい。しかし、通常は洗
浄することが必要であり、その際洗浄性において優れて
いることが要求される、 特に、この洗浄に際しては地球の環境破壊の原因とされ
ているフロン洗浄が行なわれていたので、フラックス残
渣除去をしないで済むはんだの要求は当然のものである
。
能は、人体に対する安全性、良好なはんだ付性及び保存
中に劣化しない等の一般的なはんだフラックスに要請さ
れる性能の仲、低腐食性、高絶縁性、特にはんだ付後洗
浄をしなくとも良いことが望ましい。しかし、通常は洗
浄することが必要であり、その際洗浄性において優れて
いることが要求される、 特に、この洗浄に際しては地球の環境破壊の原因とされ
ているフロン洗浄が行なわれていたので、フラックス残
渣除去をしないで済むはんだの要求は当然のものである
。
この目的に適合させるべく、非洗浄系クリームはんだ用
としての種々の活性剤が提案されている6 しかし、洗浄しなくとも腐食がない活性剤を含むクリー
ムはんだは、はんだ付性に劣るとか、貯蔵安定性がない
とか、はんだ付性も劣るだけでなく、洗浄しないとやは
り腐食が進行するとか何らかの欠、占があって、提案さ
れた活性剤の中にははんだ付性も優れ、かつ腐食性もな
い活性剤は見出されていない。
としての種々の活性剤が提案されている6 しかし、洗浄しなくとも腐食がない活性剤を含むクリー
ムはんだは、はんだ付性に劣るとか、貯蔵安定性がない
とか、はんだ付性も劣るだけでなく、洗浄しないとやは
り腐食が進行するとか何らかの欠、占があって、提案さ
れた活性剤の中にははんだ付性も優れ、かつ腐食性もな
い活性剤は見出されていない。
[発明が解決しようとする課題]
本発明は、はんだ付性に優れ、はんだ付に際して、素子
をマウントはんだ付した後、フラックス残渣の洗浄除去
不要なりリームはんだの開発を目的としたものである。
をマウントはんだ付した後、フラックス残渣の洗浄除去
不要なりリームはんだの開発を目的としたものである。
本発明の目的である低腐食性クリームはんだは、従来は
んだ溶融時に回路導体(金属)表面の酸化物除去のため
活性剤としてハロゲン化水素酸(通常はアミンの塩酸塩
等の形)が必要とされていたものを、これをイソプロピ
ルアミンハイドロブロマイドで代えることにより腐食性
が大幅に減少できることを見出したことに基づ(もので
ある、 従来のクリームはんだ中のフラックス成分としては、ロ
ジン(松脂)を主成分として、チキソ剤、固形分を均一
に溶かし込むための溶剤および例えばジエチルアミン塩
酸塩、またはモノエチルアミン塩酸塩等のアミン塩酸塩
系化合物を活性剤として添加し、はんだの濡れ性を改善
を図っていた。
んだ溶融時に回路導体(金属)表面の酸化物除去のため
活性剤としてハロゲン化水素酸(通常はアミンの塩酸塩
等の形)が必要とされていたものを、これをイソプロピ
ルアミンハイドロブロマイドで代えることにより腐食性
が大幅に減少できることを見出したことに基づ(もので
ある、 従来のクリームはんだ中のフラックス成分としては、ロ
ジン(松脂)を主成分として、チキソ剤、固形分を均一
に溶かし込むための溶剤および例えばジエチルアミン塩
酸塩、またはモノエチルアミン塩酸塩等のアミン塩酸塩
系化合物を活性剤として添加し、はんだの濡れ性を改善
を図っていた。
しかし、素子をはんだ付した後、回路表面に塩素化合物
が残存していると空気中の涜分、酸素等により金属の腐
食が促進され、絶縁性の低下、短絡または回路の接続不
良等、種々のトラブルの原因となることは良く知られて
おり、洗浄が必要とされていて、フロン洗浄、水洗浄な
どが行なわれるのが普通である。
が残存していると空気中の涜分、酸素等により金属の腐
食が促進され、絶縁性の低下、短絡または回路の接続不
良等、種々のトラブルの原因となることは良く知られて
おり、洗浄が必要とされていて、フロン洗浄、水洗浄な
どが行なわれるのが普通である。
近年、フロン使用の禁止が世界的に行なわれ、その代替
品を模索している状況にある。
品を模索している状況にある。
一方、水洗浄はフロン洗浄はど効率的でなく、更に廃液
処理等種々の未解決の問題があって、はんだ付後洗浄不
要の塩素系活性剤を含まない、これらと同じ活性作用を
有する高信頼性のクリームはんだの開発が必要となって
きた。
処理等種々の未解決の問題があって、はんだ付後洗浄不
要の塩素系活性剤を含まない、これらと同じ活性作用を
有する高信頼性のクリームはんだの開発が必要となって
きた。
[課題を解決するための手段]
本発明は、上記のごとき種々の問題点を粉末状はんだ、
樹脂、溶剤等を含有する組成物に、イソプロピルアミン
ハイドロブロマイドを含有したクリームはんだを開発す
ることにより解決した。
樹脂、溶剤等を含有する組成物に、イソプロピルアミン
ハイドロブロマイドを含有したクリームはんだを開発す
ることにより解決した。
すなわち、フラックスとはんだ粉末とを混練してなるク
リームはんだにおいて、フラックス中の活性剤としてイ
ソプロピルアミンハイドロブロマイドを含有することを
特徴とするクリームはんだを提供する。
リームはんだにおいて、フラックス中の活性剤としてイ
ソプロピルアミンハイドロブロマイドを含有することを
特徴とするクリームはんだを提供する。
特に低腐食性のクリームはんだである、イソプロピルア
ミンハイドロブロマイド(以下、IPA−HBrという
。)を0.01〜0.2重量%を添加したクリームはん
だを提供する。
ミンハイドロブロマイド(以下、IPA−HBrという
。)を0.01〜0.2重量%を添加したクリームはん
だを提供する。
低腐食性クリームはんだに使用する原材料は、はんだ粉
末、樹脂、溶剤、チキソ剤及びI PA−HBrからな
る。
末、樹脂、溶剤、チキソ剤及びI PA−HBrからな
る。
この場合のはんだ粉末としては、
共晶はんだ
(Sn 63%−Pb 37%、融点183℃)銀入り
はんだ (Sn 62%−Pb 36%−Ag 2%、融点17
8℃)高温はんだ (Pb 95%−5n 5%、融点305℃)または、 (Pb 95%−5n 3%−Ag 2%、融点29
8℃)低温はんだ (Sn 46%−Pb 46%−Bi 8%、融点16
5℃)等の球状粉末で、73μm(200メツシユ)以
下のものが使用される。
はんだ (Sn 62%−Pb 36%−Ag 2%、融点17
8℃)高温はんだ (Pb 95%−5n 5%、融点305℃)または、 (Pb 95%−5n 3%−Ag 2%、融点29
8℃)低温はんだ (Sn 46%−Pb 46%−Bi 8%、融点16
5℃)等の球状粉末で、73μm(200メツシユ)以
下のものが使用される。
フラックス成分は、樹脂、溶剤、チキソ剤、及び活性剤
からなるものであり、これ自体ははんだとは異なり高絶
縁性が必要とされるものである。
からなるものであり、これ自体ははんだとは異なり高絶
縁性が必要とされるものである。
IPA−HBr以外の低級アルキルアミンであるメチル
アミン、エチルアミンのHBr−塩は吸湿性があり、保
存中にも水分を吸収し、活性が低下するので好ましくな
い。一方、高級アミンのHBr−塩は融点が高くなるだ
けでなく、活性が低いため使用に不便である。
アミン、エチルアミンのHBr−塩は吸湿性があり、保
存中にも水分を吸収し、活性が低下するので好ましくな
い。一方、高級アミンのHBr−塩は融点が高くなるだ
けでなく、活性が低いため使用に不便である。
IPA−HBrの添加量は0.01%以下であっては活
性が充分に発揮できず、0.2%を越える場合は活性は
高くなるが、はんだ付は後洗浄しないので腐食がおこる
恐れがあり、したがってこの範囲に押えるべきである。
性が充分に発揮できず、0.2%を越える場合は活性は
高くなるが、はんだ付は後洗浄しないので腐食がおこる
恐れがあり、したがってこの範囲に押えるべきである。
樹脂としては、主としてロジン類、例えば重合ロジン、
天然ロジン(ウッドロジン、ガムロジン)、水素添加ロ
ジン、マレイン化ロジン、不均化ロジンが使用される。
天然ロジン(ウッドロジン、ガムロジン)、水素添加ロ
ジン、マレイン化ロジン、不均化ロジンが使用される。
溶剤としては、多くの有機系溶剤が使用できるが、例え
ばブチルカルピトール、テレピネオール、テキサノール
、プチルカルビトールアセテト等が使用できる。
ばブチルカルピトール、テレピネオール、テキサノール
、プチルカルビトールアセテト等が使用できる。
チキソ剤としては、硬化ヒマシ油、水素添加ヒマシ油、
ヤシ油等を用いる。
ヤシ油等を用いる。
活性剤はIPA−HBrを加えることによってはんだ付
後の洗浄が不要となる、または易洗浄性の低腐食性クリ
ームはんだが得られる。
後の洗浄が不要となる、または易洗浄性の低腐食性クリ
ームはんだが得られる。
この配合割合は、粉末状はA7だ87〜93%、樹脂1
〜6%、溶剤1〜8%、粘度調整剤0. 1〜1゜0%
、IPA−HBrO,01〜0.2%であって、印刷の
ライン幅0.5mm程度までのパターンに使用可能であ
る。
〜6%、溶剤1〜8%、粘度調整剤0. 1〜1゜0%
、IPA−HBrO,01〜0.2%であって、印刷の
ライン幅0.5mm程度までのパターンに使用可能であ
る。
[作 用]
クリームはんだにIPA−HBrを配合すると、活性剤
の効果を発揮し、アミン塩酸塩系活性剤の添加を必要と
せず、低腐食性クリームはんだを得ることができる。
の効果を発揮し、アミン塩酸塩系活性剤の添加を必要と
せず、低腐食性クリームはんだを得ることができる。
(実施例1)
活性剤としてI P A −HB rを使用し、粒径1
0〜54μmのほぼ完全球形を呈したはんだ微粉末と樹
脂、溶剤、粘度調節剤を下記に示す割合で混練してクリ
ームはんだとした。
0〜54μmのほぼ完全球形を呈したはんだ微粉末と樹
脂、溶剤、粘度調節剤を下記に示す割合で混練してクリ
ームはんだとした。
5n63−Pb37 90.0%重合ロジン
5.0%プチルカービトール
4.6%ヒマシ油 03%IPA
−HBr 0.1%このクリームはんだ
を銅板上にのせ、230℃でリフローし、銅板を何ら洗
浄しないで温度40℃、相対湿度90%RH中に96時
間保持した後、銅板に腐食が発生するかの観察を行なっ
た。
5.0%プチルカービトール
4.6%ヒマシ油 03%IPA
−HBr 0.1%このクリームはんだ
を銅板上にのせ、230℃でリフローし、銅板を何ら洗
浄しないで温度40℃、相対湿度90%RH中に96時
間保持した後、銅板に腐食が発生するかの観察を行なっ
た。
(比較例)
比較のため、IPA−HBrに代えて、イソプロピルア
ミンハイドロクロライドを活性剤として使用したフラッ
クスを用いて下記に示す割合で混練してクリームはんだ
としたものにつき、同様のテストをした。
ミンハイドロクロライドを活性剤として使用したフラッ
クスを用いて下記に示す割合で混練してクリームはんだ
としたものにつき、同様のテストをした。
5n63−Pb37 90. O%重合ロ
ジン 5.0%プチルカービトール
4゜6%ヒマシ油 03
%イソプロピルアミンハイドロクロライド01% 観察の結果、実施例のIPA−HBrを使用したクリー
ムはんだを用いた銅板は全く腐食が発生していなかった
が、比較のためにイソプロピルアミンハイドロブロマイ
ドを使用したクリームはんだを用いた銅板は腐食が生成
していることが認められた。
ジン 5.0%プチルカービトール
4゜6%ヒマシ油 03
%イソプロピルアミンハイドロクロライド01% 観察の結果、実施例のIPA−HBrを使用したクリー
ムはんだを用いた銅板は全く腐食が発生していなかった
が、比較のためにイソプロピルアミンハイドロブロマイ
ドを使用したクリームはんだを用いた銅板は腐食が生成
していることが認められた。
(実施例2)
Sn63−Pb37 90.O%重合ロジン
5 o%ヒマシ油
0.3%を一定とし、これにIPA−HBrを0.0
05%〜05%の範囲で添加し、バランスは溶剤である
ブチルカルピトールで行ない、クリームはんだを調製し
た。
5 o%ヒマシ油
0.3%を一定とし、これにIPA−HBrを0.0
05%〜05%の範囲で添加し、バランスは溶剤である
ブチルカルピトールで行ない、クリームはんだを調製し
た。
実施例1と同じく、このはんだを銅板上にのせ、230
℃でリフローしたときの銅板に対する濡れ性、およびこ
の銅板を何ら洗浄しないで温度40℃、相対湿度90%
R)]中に96時間保持した後、銅板の腐食が発生する
か否かのテストをしたところ、第1表の結果を得た。
℃でリフローしたときの銅板に対する濡れ性、およびこ
の銅板を何ら洗浄しないで温度40℃、相対湿度90%
R)]中に96時間保持した後、銅板の腐食が発生する
か否かのテストをしたところ、第1表の結果を得た。
第1表
食性のクリームはんだを得ることが出来ることが分かっ
た。
た。
そしてかくすることにより、リフロー後の洗浄が不要で
あるため実装ラインでの作業性、生産性を大きく改善し
、フロン等の洗浄工程、洗浄槽等の設備、フロン等の回
収設備などを不要とする大きなメリットをもたらし、腐
食、短絡のない高信頼性の製品を得ることが可能となっ
た。
あるため実装ラインでの作業性、生産性を大きく改善し
、フロン等の洗浄工程、洗浄槽等の設備、フロン等の回
収設備などを不要とする大きなメリットをもたらし、腐
食、短絡のない高信頼性の製品を得ることが可能となっ
た。
以上の結果から活性剤のIPA−HBrの添加量が0.
005%では濡れ性が悪く、0.5%では銅板に腐食が
発生して問題を生ずる。したがってIPA−HBrの添
加量は濡れ性もあり、腐食の生じない0401〜0.2
%が好ましい範囲であることが判る。
005%では濡れ性が悪く、0.5%では銅板に腐食が
発生して問題を生ずる。したがってIPA−HBrの添
加量は濡れ性もあり、腐食の生じない0401〜0.2
%が好ましい範囲であることが判る。
[発明の効果]
Claims (2)
- (1)フラックスとはんだ粉末とを混練してなるクリー
ムはんだにおいて、フラックス中の活性剤としてイソプ
ロピルアミンハイドロブロマイドを含有することを特徴
とするクリームはんだ。 - (2)粉末状はんだ87〜93%、樹脂1〜6%、溶剤
1〜8%、チキソ剤0.1〜1.0%、イソプロピルア
ミンハイドロブロマイド0.01〜0.2%からなるこ
とを特徴とするクリームはんだ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21449990A JPH04100692A (ja) | 1990-08-14 | 1990-08-14 | クリームはんだ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21449990A JPH04100692A (ja) | 1990-08-14 | 1990-08-14 | クリームはんだ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04100692A true JPH04100692A (ja) | 1992-04-02 |
Family
ID=16656724
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21449990A Pending JPH04100692A (ja) | 1990-08-14 | 1990-08-14 | クリームはんだ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04100692A (ja) |
-
1990
- 1990-08-14 JP JP21449990A patent/JPH04100692A/ja active Pending
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