JPH1036325A - アミノフェニルアセチレン化合物の製造方法 - Google Patents
アミノフェニルアセチレン化合物の製造方法Info
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- JPH1036325A JPH1036325A JP8207786A JP20778696A JPH1036325A JP H1036325 A JPH1036325 A JP H1036325A JP 8207786 A JP8207786 A JP 8207786A JP 20778696 A JP20778696 A JP 20778696A JP H1036325 A JPH1036325 A JP H1036325A
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- aminophenylacetylene
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ニトロフェニルアセチレン化合物のニトロ基
を選択的還元してアミノフェニルアセチレン化合物を効
率よく製造しうる方法を提供する。 【解決手段】 一般式(I)で表わされる化合物を鉄ま
たは鉄塩から選ばれる少なくとも1種を用いて選択的還
元し一般式(II)で表わされる化合物を得る。 【化1】 (式中、R1 は水素原子、−CR2 R3 OHで表わされ
る基、または−SiR4R5 R6 で表わされる基を表わ
す。R2 、R3 は水素原子またはアルキル基を表わし、
R2 とR3 が閉環し、5〜7員環を形成していてもよ
い。R4 、R5 、R6 はアルキル基を表わす。) 【化2】 (式中、R1 は一般式(I)で表わされるものと同義で
ある。)
を選択的還元してアミノフェニルアセチレン化合物を効
率よく製造しうる方法を提供する。 【解決手段】 一般式(I)で表わされる化合物を鉄ま
たは鉄塩から選ばれる少なくとも1種を用いて選択的還
元し一般式(II)で表わされる化合物を得る。 【化1】 (式中、R1 は水素原子、−CR2 R3 OHで表わされ
る基、または−SiR4R5 R6 で表わされる基を表わ
す。R2 、R3 は水素原子またはアルキル基を表わし、
R2 とR3 が閉環し、5〜7員環を形成していてもよ
い。R4 、R5 、R6 はアルキル基を表わす。) 【化2】 (式中、R1 は一般式(I)で表わされるものと同義で
ある。)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハロゲン化銀写真
感光材料、特に熱現像感光材料に用いられるカブリ抑制
剤、あるいは熱硬化性ポリイミド、固相重合性非線形光
学材料、などの合成中間体として有用なアミノフェニル
アセチレン化合物の新規な製造方法に関する。
感光材料、特に熱現像感光材料に用いられるカブリ抑制
剤、あるいは熱硬化性ポリイミド、固相重合性非線形光
学材料、などの合成中間体として有用なアミノフェニル
アセチレン化合物の新規な製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】アミノフェニルアセチレン化合物は既知
の化合物であり、種々の合成法が知られているが、特に
対応するニトロフェニルアセチレン化合物がその前駆体
として有用である。p位にアシルアミノ基を有するフェ
ニルアセチレン系化合物は熱現像感光材料用のカブリ抑
制剤として有用である(例えば、特開昭63−1331
44号、同62−182738号、同62−13125
4号、同62−131253号、同62−49348
号、同61−55646号、欧州特許第198356A
1号、欧州特許第177033A2号など参照)。但
し、ニトロ基とアセチレン基のうち選択的にニトロ基の
みを還元する必要があり、特殊な触媒(CoS3 、Ru
など)を用いる水素添加、あるいは塩基性条件下の過剰
の亜鉛による還元法などが報告されている。
の化合物であり、種々の合成法が知られているが、特に
対応するニトロフェニルアセチレン化合物がその前駆体
として有用である。p位にアシルアミノ基を有するフェ
ニルアセチレン系化合物は熱現像感光材料用のカブリ抑
制剤として有用である(例えば、特開昭63−1331
44号、同62−182738号、同62−13125
4号、同62−131253号、同62−49348
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1号、欧州特許第177033A2号など参照)。但
し、ニトロ基とアセチレン基のうち選択的にニトロ基の
みを還元する必要があり、特殊な触媒(CoS3 、Ru
など)を用いる水素添加、あるいは塩基性条件下の過剰
の亜鉛による還元法などが報告されている。
【0003】
【化3】
【0004】これらの従来知られている方法において
は、前者においては特殊な触媒(CoS3 )の調製が必
要であり、後者においては亜鉛イオンが有害(特に魚
毒)なためその排出の規制が厳しく、また後処理が煩雑
で沈殿させるのに時間がかかる等、コストアップの要因
をかかえており、さらなる改良法が望まれている。
は、前者においては特殊な触媒(CoS3 )の調製が必
要であり、後者においては亜鉛イオンが有害(特に魚
毒)なためその排出の規制が厳しく、また後処理が煩雑
で沈殿させるのに時間がかかる等、コストアップの要因
をかかえており、さらなる改良法が望まれている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ニトロフェニルアセチ
レンからアミノフェニルアセチレンを製造するに際し
て、以上のような従来知られている還元法にかわる効率
のよい、アミノフェニルアセチレン化合物の製造方法を
提供することである。
レンからアミノフェニルアセチレンを製造するに際し
て、以上のような従来知られている還元法にかわる効率
のよい、アミノフェニルアセチレン化合物の製造方法を
提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らが鋭意検討を
行い、上記課題を解決しうる方法として、本発明の製造
方法を見出すに至った。すなわち、本発明は、一般式
(I)で表わされる化合物を鉄または鉄塩から選ばれる
少なくとも1種を用いて選択的還元し一般式(II)で表
わされる化合物を得ることを特徴とするアミノフェニル
アセチレン化合物の製造方法を提供するものである。
行い、上記課題を解決しうる方法として、本発明の製造
方法を見出すに至った。すなわち、本発明は、一般式
(I)で表わされる化合物を鉄または鉄塩から選ばれる
少なくとも1種を用いて選択的還元し一般式(II)で表
わされる化合物を得ることを特徴とするアミノフェニル
アセチレン化合物の製造方法を提供するものである。
【0007】
【化4】
【0008】(式中、R1 は水素原子、−CR2 R3 O
Hで表わされる基、または−SiR4R5 R6 で表わさ
れる基を表わす。R2 、R3 は水素原子またはアルキル
基を表わし、R2 とR3 が閉環し、5〜7員環を形成し
ていてもよい。R4 、R5 、R6 はアルキル基を表わ
す。)
Hで表わされる基、または−SiR4R5 R6 で表わさ
れる基を表わす。R2 、R3 は水素原子またはアルキル
基を表わし、R2 とR3 が閉環し、5〜7員環を形成し
ていてもよい。R4 、R5 、R6 はアルキル基を表わ
す。)
【0009】
【化5】
【0010】(式中、R1 は一般式(I)で表わされる
ものと同義である。)
ものと同義である。)
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の製造方法について
詳しく説明する。まず、化合物について詳細に説明す
る。一般式(I)において、ニトロ基は置換または無置
換のエチニル基のオルト位、メタ位、パラ位いずれに結
合していてもよいが、より好ましくはメタ位またはパラ
位に結合し、特にメタ位に結合しているのが好ましい。
R1 は水素原子、−CR2 R3 OHで表わされる基、ま
たは−SiR4 R5 R6 で表わされる基を表わし、好ま
しくは水素原子または−CR2 R3 OHで表わされる基
を表わす。R2 、R3 は水素原子または好ましくは炭素
数1〜8のアルキル基(例えばメチル、エチル)を表わ
し、好ましくはアルキル基を表わす。R2 とR3 が閉環
して5〜7員環(例えばシクロヘキサン)を形成してい
てもよい。R2 、R3 がともにアルキル基である場合が
より好ましくは、ともにメチル基である場合が特に好ま
しい。R4 、R5 、R6 は好ましくは炭素数1〜16の
アルキル基(例えばメチル、tert−ブチル)を表わ
し、ともにメチル基である場合が特に好ましい。
詳しく説明する。まず、化合物について詳細に説明す
る。一般式(I)において、ニトロ基は置換または無置
換のエチニル基のオルト位、メタ位、パラ位いずれに結
合していてもよいが、より好ましくはメタ位またはパラ
位に結合し、特にメタ位に結合しているのが好ましい。
R1 は水素原子、−CR2 R3 OHで表わされる基、ま
たは−SiR4 R5 R6 で表わされる基を表わし、好ま
しくは水素原子または−CR2 R3 OHで表わされる基
を表わす。R2 、R3 は水素原子または好ましくは炭素
数1〜8のアルキル基(例えばメチル、エチル)を表わ
し、好ましくはアルキル基を表わす。R2 とR3 が閉環
して5〜7員環(例えばシクロヘキサン)を形成してい
てもよい。R2 、R3 がともにアルキル基である場合が
より好ましくは、ともにメチル基である場合が特に好ま
しい。R4 、R5 、R6 は好ましくは炭素数1〜16の
アルキル基(例えばメチル、tert−ブチル)を表わ
し、ともにメチル基である場合が特に好ましい。
【0012】次に本発明の製造方法を詳細に説明する。
本発明に用いられる金属鉄としては、鉄粉または削り状
鉄片、還元鉄などが用いられる。酢酸、塩酸、塩化アン
モニウムなどで活性化して用いるのが好ましい。塩化ニ
ッケル(II)を用いて活性化してもよい。鉄塩としては
2価または3価の鉄塩が用いられるが、3価の鉄塩の場
合には、ヒドラジン類(例えばヒドラジン、N,N−ジ
メチルヒドラジン)、ギ酸類(例えばギ酸、ギ酸アンモ
ニウム)などの水素供与体を共存させて用いるのが好ま
しい。鉄塩として最も好ましく用いられるものとしては
硫酸鉄(II)、塩化鉄(II)、塩化鉄(III)などを挙げ
ることができる。
本発明に用いられる金属鉄としては、鉄粉または削り状
鉄片、還元鉄などが用いられる。酢酸、塩酸、塩化アン
モニウムなどで活性化して用いるのが好ましい。塩化ニ
ッケル(II)を用いて活性化してもよい。鉄塩としては
2価または3価の鉄塩が用いられるが、3価の鉄塩の場
合には、ヒドラジン類(例えばヒドラジン、N,N−ジ
メチルヒドラジン)、ギ酸類(例えばギ酸、ギ酸アンモ
ニウム)などの水素供与体を共存させて用いるのが好ま
しい。鉄塩として最も好ましく用いられるものとしては
硫酸鉄(II)、塩化鉄(II)、塩化鉄(III)などを挙げ
ることができる。
【0013】反応溶媒としてはアルコール類、水、酢酸
などがよく用いられるが、化合物の溶解性を改良する目
的でアミド系溶媒(例えばN,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルイミダゾ
リジノン)などを加えて用いることもできる。反応温度
は好ましくは0〜150℃、さらに好ましくは0〜12
0℃である。溶媒の沸点付近で行うのが特に好ましい。
鉄または鉄塩は化合物(I)の化合物に対して、好まし
くは0.1〜10当量、さらに好ましくは1〜6当量用
いられる。
などがよく用いられるが、化合物の溶解性を改良する目
的でアミド系溶媒(例えばN,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルイミダゾ
リジノン)などを加えて用いることもできる。反応温度
は好ましくは0〜150℃、さらに好ましくは0〜12
0℃である。溶媒の沸点付近で行うのが特に好ましい。
鉄または鉄塩は化合物(I)の化合物に対して、好まし
くは0.1〜10当量、さらに好ましくは1〜6当量用
いられる。
【0014】次に本発明に用いられる具体的化合物例を
示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0015】
【表1】
【0016】
【表2】
【0017】
【表3】
【0018】
【表4】
【0019】
【表5】
【0020】
【表6】
【0021】本発明の方法で製造されたアミノフェニル
アセチレン化合物は、熱現像感光材料に用いることがで
きる。熱現像感光材料は、当該技術分野では公知であ
り、米国特許第3,152,904号、第3,301,
678号、第3,392,020号、第3,457,0
75号、英国特許第1,131,108号、第1,16
7,777号およびリサーチディスクロージャー誌19
78年6月号9〜15頁(RD−17029)に記載さ
れている。
アセチレン化合物は、熱現像感光材料に用いることがで
きる。熱現像感光材料は、当該技術分野では公知であ
り、米国特許第3,152,904号、第3,301,
678号、第3,392,020号、第3,457,0
75号、英国特許第1,131,108号、第1,16
7,777号およびリサーチディスクロージャー誌19
78年6月号9〜15頁(RD−17029)に記載さ
れている。
【0022】
【実施例】次に実施例にて本発明をさらに詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0023】参考例1. 化合物(I)−12の合成 2−メチル−3−ブチン−2−オール150.0g
(1.75モル)、m−ヨードニトロベンゼン175.
0g(0.70モル)にトリエチルアミン1リットルを
加え、これにビス(トリフェニルホスフィン)パラジウ
ム(II)クロリド0.28g(0.055モル%)、ヨ
ウ化銅(I)4.76g(3.48モル%)、トリフェ
ニルホスフィン0.11g(0.56モル%)を加え、
水冷下、窒素雰囲気にて1.5時間撹拌した。トリエチ
ルアミンを減圧留去したのち、酢酸エチル300ml、
EDTA−2Na21.0gを水700mlに溶解した
水溶液を順次加え、室温にて1時間撹拌した。分液後、
有機層を水洗したのち、溶媒を留去し、化合物(I)−
12を黄色油状物として144.0g得た。収率100
%。1 H−NMR(300MHz:CDCl3 ) δppm 1.64(s,6H) 7.50(dd,1H,J=8.3,8.3Hz) 7.72(d,1H,J=8.3Hz) 8.17(dd,1H,J=8.3,2.0Hz) 8.27(d,1H,J=2.0Hz)
(1.75モル)、m−ヨードニトロベンゼン175.
0g(0.70モル)にトリエチルアミン1リットルを
加え、これにビス(トリフェニルホスフィン)パラジウ
ム(II)クロリド0.28g(0.055モル%)、ヨ
ウ化銅(I)4.76g(3.48モル%)、トリフェ
ニルホスフィン0.11g(0.56モル%)を加え、
水冷下、窒素雰囲気にて1.5時間撹拌した。トリエチ
ルアミンを減圧留去したのち、酢酸エチル300ml、
EDTA−2Na21.0gを水700mlに溶解した
水溶液を順次加え、室温にて1時間撹拌した。分液後、
有機層を水洗したのち、溶媒を留去し、化合物(I)−
12を黄色油状物として144.0g得た。収率100
%。1 H−NMR(300MHz:CDCl3 ) δppm 1.64(s,6H) 7.50(dd,1H,J=8.3,8.3Hz) 7.72(d,1H,J=8.3Hz) 8.17(dd,1H,J=8.3,2.0Hz) 8.27(d,1H,J=2.0Hz)
【0024】参考例2. 化合物(I)−11の合成 化合物(I)−12 10.3g(0.05モル)にt
ert−ブタノール50ml、カリウムtert−ブト
キシド1.1g(0.01モル)を加え、窒素雰囲気
下、3時間加熱還流した。さらに、生成するアセトンと
tert−ブタノールをゆっくり留去しながら、1時間
加熱還流を行った。室温にもどし、水100ml、酢酸
エチル100mlを加え、分液を行った。酢酸エチルを
留去して得られた反応混合物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=3/1〜1
/1)にて精製し、(I)−11を油状物として4.4
g得た。収率60%。1 H−NMR(300MHz:CDCl3 ) δppm 3.22(s,1H) 7.52(dd,1H,J=8.3,8.3Hz) 7.78(d,1H,J=8.3Hz) 8.20(dd,1H,J=8.3,2.0Hz) 8.33(d,1H,J=2.0Hz)
ert−ブタノール50ml、カリウムtert−ブト
キシド1.1g(0.01モル)を加え、窒素雰囲気
下、3時間加熱還流した。さらに、生成するアセトンと
tert−ブタノールをゆっくり留去しながら、1時間
加熱還流を行った。室温にもどし、水100ml、酢酸
エチル100mlを加え、分液を行った。酢酸エチルを
留去して得られた反応混合物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=3/1〜1
/1)にて精製し、(I)−11を油状物として4.4
g得た。収率60%。1 H−NMR(300MHz:CDCl3 ) δppm 3.22(s,1H) 7.52(dd,1H,J=8.3,8.3Hz) 7.78(d,1H,J=8.3Hz) 8.20(dd,1H,J=8.3,2.0Hz) 8.33(d,1H,J=2.0Hz)
【0025】実施例1. (I)−12の還元による
(II)−12の合成 還元鉄240.0g、塩化アンモニウム8.0g、酢酸
24ml、水240mlを窒素雰囲気下、1時間スチー
ムバスにて加熱還流した。これに、iso−プロパノー
ル250mlを加え加熱還流しながらさらに、(I)−
12 92.0g(0.45モル)のiso−プロパノ
ール250ml溶液を1時間かけて滴下した。滴下後さ
らに10分間加熱還流を行ったのち、熱時濾過(セライ
ト(商品名)使用)にて酸化鉄を除去し、濾液を濃縮
し、(II)−12の粗結晶を得た。なお、濃縮前の濾液
中の未反応物の含有量はほとんど零であり、副生物は存
在しなかった。この(II)−12の粗結晶に酢酸エチル
1リットル、EDTA−2Na塩13.5gを水500
mlに溶解した水溶液を加え、室温にて30分撹拌し
た。分液後、有機層を水洗したのち、酢酸エチルを留去
した。n−ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒にて晶析を行
い、化合物(II)−12を無色結晶として63.0g、
収率80%にて得た。 融点117〜119℃1 H−NMR(300MHz:CDCl3 ) δppm 1.62(s,6H) 6.65(d,1H,J=8.3Hz) 6.75(s,1H) 6.83(d,1H,J=9.0Hz) 7.10(dd,1H,J=8.3,9.0Hz)
(II)−12の合成 還元鉄240.0g、塩化アンモニウム8.0g、酢酸
24ml、水240mlを窒素雰囲気下、1時間スチー
ムバスにて加熱還流した。これに、iso−プロパノー
ル250mlを加え加熱還流しながらさらに、(I)−
12 92.0g(0.45モル)のiso−プロパノ
ール250ml溶液を1時間かけて滴下した。滴下後さ
らに10分間加熱還流を行ったのち、熱時濾過(セライ
ト(商品名)使用)にて酸化鉄を除去し、濾液を濃縮
し、(II)−12の粗結晶を得た。なお、濃縮前の濾液
中の未反応物の含有量はほとんど零であり、副生物は存
在しなかった。この(II)−12の粗結晶に酢酸エチル
1リットル、EDTA−2Na塩13.5gを水500
mlに溶解した水溶液を加え、室温にて30分撹拌し
た。分液後、有機層を水洗したのち、酢酸エチルを留去
した。n−ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒にて晶析を行
い、化合物(II)−12を無色結晶として63.0g、
収率80%にて得た。 融点117〜119℃1 H−NMR(300MHz:CDCl3 ) δppm 1.62(s,6H) 6.65(d,1H,J=8.3Hz) 6.75(s,1H) 6.83(d,1H,J=9.0Hz) 7.10(dd,1H,J=8.3,9.0Hz)
【0026】比較例1. ハイドロサルファイトソーダ
(Na2 S2 O4 )(亜二チオン酸ナトリウム)を用い
る(I)−12の還元による(II)−12の合成 化合物(I)−12 2.05gをメタノール10ml
に溶解し、これにハイドロサルファイトソーダ5.22
gを水20mlに溶解した水溶液を少量ずつ加え、50
℃にて30分撹拌した。薄層クロマトグラフィーにて反
応を確認すると、(I)−12とほぼ同量の(II)−1
2及び原点成分(構造未確認)が確認された。酢酸エチ
ル、水を加え、分液、水洗、濃縮を行い、さらにシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エ
チル=1/1)にて精製を行い、(II)−12を0.4
4g、収率25%で得た。鉄還元に比べて著しく低収率
である。
(Na2 S2 O4 )(亜二チオン酸ナトリウム)を用い
る(I)−12の還元による(II)−12の合成 化合物(I)−12 2.05gをメタノール10ml
に溶解し、これにハイドロサルファイトソーダ5.22
gを水20mlに溶解した水溶液を少量ずつ加え、50
℃にて30分撹拌した。薄層クロマトグラフィーにて反
応を確認すると、(I)−12とほぼ同量の(II)−1
2及び原点成分(構造未確認)が確認された。酢酸エチ
ル、水を加え、分液、水洗、濃縮を行い、さらにシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エ
チル=1/1)にて精製を行い、(II)−12を0.4
4g、収率25%で得た。鉄還元に比べて著しく低収率
である。
【0027】比較例2. Pd/C存在下ヒドラジンを
水素供与体として用いる(I)−12の還元による(I
I)−12の合成 化合物(I)−12 2.05gをiso−プロパノー
ル20mlに溶解し、これにPd/C 0.05gを加
え、抱水ヒドラジン1ml(2当量)を加え、室温にて
1時間撹拌した。反応が全く進行しないため、1時間加
熱還流を行ったところ、目的とする(II)−12はほと
んど得られずに、構造未確認の化合物がわずかに生成す
るのみであった。以上のように、ニトロ基を還元するの
によく用いられるハイドロサルファイトソーダ、Pd/
C存在下のヒドラジンなどの還元剤では目的の選択的還
元が進まず、(II)−12を収率よく得ることはできな
かった。
水素供与体として用いる(I)−12の還元による(I
I)−12の合成 化合物(I)−12 2.05gをiso−プロパノー
ル20mlに溶解し、これにPd/C 0.05gを加
え、抱水ヒドラジン1ml(2当量)を加え、室温にて
1時間撹拌した。反応が全く進行しないため、1時間加
熱還流を行ったところ、目的とする(II)−12はほと
んど得られずに、構造未確認の化合物がわずかに生成す
るのみであった。以上のように、ニトロ基を還元するの
によく用いられるハイドロサルファイトソーダ、Pd/
C存在下のヒドラジンなどの還元剤では目的の選択的還
元が進まず、(II)−12を収率よく得ることはできな
かった。
【0028】実施例2. (I)−11の還元による
(II)−11の合成 実施例1とほぼ同様の条件にて、反応を行い、カラムク
ロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=2/
1)にて精製を行い、(II)−11を淡黄色油状物とし
て得た。収率77%。(II)−11は蒸留によっても精
製できるが(沸点135℃/30mmHg)、一部熱的
にポリマー化が進行するため回収率が低下した。1 H−NMR(300MHz:CDCl3 ) δppm 3.03(s,1H) 3.70(bs,2H) 6.66(dd,1H,J=8.3,1.9Hz) 6.80(d,1H,J=1.9Hz) 6.90(d,1H,J=8.3Hz) 7.10(dd,1H,J=8.3,8.3Hz)
(II)−11の合成 実施例1とほぼ同様の条件にて、反応を行い、カラムク
ロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=2/
1)にて精製を行い、(II)−11を淡黄色油状物とし
て得た。収率77%。(II)−11は蒸留によっても精
製できるが(沸点135℃/30mmHg)、一部熱的
にポリマー化が進行するため回収率が低下した。1 H−NMR(300MHz:CDCl3 ) δppm 3.03(s,1H) 3.70(bs,2H) 6.66(dd,1H,J=8.3,1.9Hz) 6.80(d,1H,J=1.9Hz) 6.90(d,1H,J=8.3Hz) 7.10(dd,1H,J=8.3,8.3Hz)
【0029】実施例3. (I)−21の還元による
(II)−21の合成 実施例2とほぼ同様にして(II)−21を得た。収率6
8%。 融点98〜100℃1 H−NMR(300MHz:CDCl3 ) δppm 3.00(s,1H) 3.80(bs,2H) 6.60(d,2H,J=8.7Hz) 7.30(d,2H,J=8.7Hz)
(II)−21の合成 実施例2とほぼ同様にして(II)−21を得た。収率6
8%。 融点98〜100℃1 H−NMR(300MHz:CDCl3 ) δppm 3.00(s,1H) 3.80(bs,2H) 6.60(d,2H,J=8.7Hz) 7.30(d,2H,J=8.7Hz)
【0030】
【発明の効果】本発明によれば、ニトロフェニルアセチ
レン化合物のニトロ基を選択的還元してアミノフェニル
アセチレン化合物を安価に大量に製造することができ
る。
レン化合物のニトロ基を選択的還元してアミノフェニル
アセチレン化合物を安価に大量に製造することができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07F 7/10 C07F 7/10 N
Claims (1)
- 【請求項1】 一般式(I)で表わされる化合物を鉄ま
たは鉄塩から選ばれる少なくとも1種を用いて選択的還
元し一般式(II)で表わされる化合物を得ることを特徴
とするアミノフェニルアセチレン化合物の製造方法。 【化1】 (式中、R1 は水素原子、−CR2 R3 OHで表わされ
る基、または−SiR4R5 R6 で表わされる基を表わ
す。R2 、R3 は水素原子またはアルキル基を表わし、
R2 とR3 が閉環し、5〜7員環を形成していてもよ
い。R4 、R5 、R6 はアルキル基を表わす。) 【化2】 (式中、R1 は一般式(I)で表わされるものと同義で
ある。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8207786A JPH1036325A (ja) | 1996-07-18 | 1996-07-18 | アミノフェニルアセチレン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8207786A JPH1036325A (ja) | 1996-07-18 | 1996-07-18 | アミノフェニルアセチレン化合物の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1036325A true JPH1036325A (ja) | 1998-02-10 |
Family
ID=16545488
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8207786A Pending JPH1036325A (ja) | 1996-07-18 | 1996-07-18 | アミノフェニルアセチレン化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1036325A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001039930A (ja) * | 1999-07-23 | 2001-02-13 | Sumika Fine Chemicals Co Ltd | 不飽和炭化水素残基置換アニリン類の製造方法 |
US6900221B1 (en) | 1999-11-11 | 2005-05-31 | Osi Pharmaceuticals, Inc. | Stable polymorph on N-(3-ethynylphenyl)-6, 7-bis (2methoxyethoxy)-4-quinazolinamine hydrochloride, methods of production, and pharmaceutical uses thereof |
US7087613B2 (en) | 1999-11-11 | 2006-08-08 | Osi Pharmaceuticals, Inc. | Treating abnormal cell growth with a stable polymorph of N-(3-ethynylphenyl)-6,7-bis(2-methoxyethoxy)-4-quinazolinamine hydrochloride |
US7521456B2 (en) | 1998-04-29 | 2009-04-21 | Osi Pharmaceuticals, Inc. | N-(3-ethynylphenyl)-6,7-bis(2-methoxyethoxy)-4-quinazolinamine mesylate anhydrate and monohydrate |
WO2009060886A1 (ja) * | 2007-11-09 | 2009-05-14 | Wako Pure Chemical Industries, Ltd. | 金属触媒担持炭素によるニトロ基の選択的還元方法 |
CN102775315A (zh) * | 2012-07-31 | 2012-11-14 | 上海应用技术学院 | 一种间氨基苯乙炔的制备方法 |
-
1996
- 1996-07-18 JP JP8207786A patent/JPH1036325A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7521456B2 (en) | 1998-04-29 | 2009-04-21 | Osi Pharmaceuticals, Inc. | N-(3-ethynylphenyl)-6,7-bis(2-methoxyethoxy)-4-quinazolinamine mesylate anhydrate and monohydrate |
JP2001039930A (ja) * | 1999-07-23 | 2001-02-13 | Sumika Fine Chemicals Co Ltd | 不飽和炭化水素残基置換アニリン類の製造方法 |
US6900221B1 (en) | 1999-11-11 | 2005-05-31 | Osi Pharmaceuticals, Inc. | Stable polymorph on N-(3-ethynylphenyl)-6, 7-bis (2methoxyethoxy)-4-quinazolinamine hydrochloride, methods of production, and pharmaceutical uses thereof |
US7087613B2 (en) | 1999-11-11 | 2006-08-08 | Osi Pharmaceuticals, Inc. | Treating abnormal cell growth with a stable polymorph of N-(3-ethynylphenyl)-6,7-bis(2-methoxyethoxy)-4-quinazolinamine hydrochloride |
WO2009060886A1 (ja) * | 2007-11-09 | 2009-05-14 | Wako Pure Chemical Industries, Ltd. | 金属触媒担持炭素によるニトロ基の選択的還元方法 |
JP5560715B2 (ja) * | 2007-11-09 | 2014-07-30 | 和光純薬工業株式会社 | 金属触媒担持炭素によるニトロ基の選択的還元方法 |
CN102775315A (zh) * | 2012-07-31 | 2012-11-14 | 上海应用技术学院 | 一种间氨基苯乙炔的制备方法 |
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