JP2001039930A - 不飽和炭化水素残基置換アニリン類の製造方法 - Google Patents
不飽和炭化水素残基置換アニリン類の製造方法Info
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 安価で、還元剤の酸化物と目的生成物との分
離が容易である、不飽和炭化水素残基で置換されている
ニトロベンゼン類からの不飽和炭化水素残基で置換され
ているアニリン類の製造方法の提供。 【解決手段】 水および疎水性有機溶媒との混合溶媒
中、亜鉛または鉄を還元剤として、該ニトロベンゼン類
のニトロ基を選択的に還元することにより、該アニリン
類を得る。さらに、還元後の液のｐＨを調整することに
より、還元剤と該アニリン類との分離を容易にする。
離が容易である、不飽和炭化水素残基で置換されている
ニトロベンゼン類からの不飽和炭化水素残基で置換され
ているアニリン類の製造方法の提供。 【解決手段】 水および疎水性有機溶媒との混合溶媒
中、亜鉛または鉄を還元剤として、該ニトロベンゼン類
のニトロ基を選択的に還元することにより、該アニリン
類を得る。さらに、還元後の液のｐＨを調整することに
より、還元剤と該アニリン類との分離を容易にする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、不飽和炭化水素残
基で置換されているニトロベンゼン類からの不飽和炭化
水素残基で置換されているアニリン類の製造方法に関す
る。詳細には、疎水性有機溶媒と水との混合溶媒中、亜
鉛または鉄を還元剤として、不飽和炭化水素残基で置換
されているニトロベンゼン類のニトロ基を選択的に還元
することによる、不飽和炭化水素残基で置換されている
アニリン類の製造方法に関する。また、本発明は還元後
の液のｐＨを調整して目的生成物を分離することによ
る、不飽和炭化水素残基で置換されているアニリン類の
製造方法に関する。該アニリン類は、耐熱性ポリイミド
の末端封止剤などとして有用な化合物である。
基で置換されているニトロベンゼン類からの不飽和炭化
水素残基で置換されているアニリン類の製造方法に関す
る。詳細には、疎水性有機溶媒と水との混合溶媒中、亜
鉛または鉄を還元剤として、不飽和炭化水素残基で置換
されているニトロベンゼン類のニトロ基を選択的に還元
することによる、不飽和炭化水素残基で置換されている
アニリン類の製造方法に関する。また、本発明は還元後
の液のｐＨを調整して目的生成物を分離することによ
る、不飽和炭化水素残基で置換されているアニリン類の
製造方法に関する。該アニリン類は、耐熱性ポリイミド
の末端封止剤などとして有用な化合物である。
【０００２】
【従来の技術】ベンゼン環が不飽和炭化水素残基で置換
されているアニリン類は、ハロゲン化銀写真感光材料、
熱硬化性ポリイミド、および固相重合性非線形光学材料
などの合成中間体、耐熱性ポリイミドの末端封止剤とし
て有用であり、さらに、例えば、不飽和炭化水素残基が
エチニル基であるアニリン類は、下式に示した、癌のよ
うな増殖性疾患の治療のためのプロドラッグ（ＷＯ９６
／３０３４７号）の合成中間体として有用である。
されているアニリン類は、ハロゲン化銀写真感光材料、
熱硬化性ポリイミド、および固相重合性非線形光学材料
などの合成中間体、耐熱性ポリイミドの末端封止剤とし
て有用であり、さらに、例えば、不飽和炭化水素残基が
エチニル基であるアニリン類は、下式に示した、癌のよ
うな増殖性疾患の治療のためのプロドラッグ（ＷＯ９６
／３０３４７号）の合成中間体として有用である。
【０００３】
【化５】
【０００４】（式中、Ｍｅはメチルを示す） 不飽和炭化水素残基で置換されているアニリン類は、不
飽和炭化水素残基で置換されているニトロベンゼン類の
ニトロ基を選択的に還元することにより得ることができ
る。このような還元の従来の方法として、ポリ硫化コバ
ルト（例えばＣｏＳ3）や硫化ルテニウム（ＩＶ）など
の特殊な触媒を用いた還元（Journal ofOrganic Chemis
try, 44, 3671-3674 (1979)）、還元剤として鉄または
鉄塩を用いた還元（特開平１０−３６３２５号公報）、
アルカリ条件下での亜鉛末を用いた還元（米国特許３，
９７５，４４４）などの方法が挙げられる。
飽和炭化水素残基で置換されているニトロベンゼン類の
ニトロ基を選択的に還元することにより得ることができ
る。このような還元の従来の方法として、ポリ硫化コバ
ルト（例えばＣｏＳ3）や硫化ルテニウム（ＩＶ）など
の特殊な触媒を用いた還元（Journal ofOrganic Chemis
try, 44, 3671-3674 (1979)）、還元剤として鉄または
鉄塩を用いた還元（特開平１０−３６３２５号公報）、
アルカリ条件下での亜鉛末を用いた還元（米国特許３，
９７５，４４４）などの方法が挙げられる。
【０００５】還元触媒として特殊な触媒を用いた還元
（Journal of Organic Chemistry, 44, 3671-3674 (197
9)）では、還元剤の調製が必要であり、コストアップに
繋がる。還元剤として鉄または鉄塩を用いた還元（特開
平１０−３６３２５号公報）では、還元反応により生成
した酸化鉄はゲル状であるためセライトを用いなければ
濾過することができず、さらに生成した酸化鉄は反応釜
の内壁に析出し除去が困難となるため、工業規模で行う
には適していない。アルカリ条件下での亜鉛末を用いた
還元（米国特許３，９７５，４４４）では、不飽和炭化
水素残基が分解を受け易く、また目的物を分離するため
に還元後の反応液を大量の水で希釈した後、エーテルで
抽出する必要がある。さらに、亜鉛を含んだ廃水が多量
となるため、廃水処理に手間がかかる。このように、安
価で、還元剤の酸化物と目的生成物との分離が容易であ
る、不飽和炭化水素残基で置換されているアニリン類の
製造方法が望まれていた。
（Journal of Organic Chemistry, 44, 3671-3674 (197
9)）では、還元剤の調製が必要であり、コストアップに
繋がる。還元剤として鉄または鉄塩を用いた還元（特開
平１０−３６３２５号公報）では、還元反応により生成
した酸化鉄はゲル状であるためセライトを用いなければ
濾過することができず、さらに生成した酸化鉄は反応釜
の内壁に析出し除去が困難となるため、工業規模で行う
には適していない。アルカリ条件下での亜鉛末を用いた
還元（米国特許３，９７５，４４４）では、不飽和炭化
水素残基が分解を受け易く、また目的物を分離するため
に還元後の反応液を大量の水で希釈した後、エーテルで
抽出する必要がある。さらに、亜鉛を含んだ廃水が多量
となるため、廃水処理に手間がかかる。このように、安
価で、還元剤の酸化物と目的生成物との分離が容易であ
る、不飽和炭化水素残基で置換されているアニリン類の
製造方法が望まれていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、安価で、還元剤の酸化物と目的生成物との分離が容
易である、不飽和炭化水素残基で置換されているニトロ
ベンゼン類からの不飽和炭化水素残基で置換されている
アニリン類の製造方法を提供することである。
は、安価で、還元剤の酸化物と目的生成物との分離が容
易である、不飽和炭化水素残基で置換されているニトロ
ベンゼン類からの不飽和炭化水素残基で置換されている
アニリン類の製造方法を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するため鋭意研究を行った結果、疎水性有機溶媒
と水との混合溶媒中、亜鉛または鉄を還元剤として、不
飽和炭化水素残基で置換されているニトロベンゼン類の
ニトロ基を選択的に還元することにより、不飽和炭化水
素残基で置換されているアニリン類が製造できることを
見出し、さらに還元後の液のｐＨを調整することによ
り、容易に還元剤の酸化物と該アニリン類とを分離する
ことができることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
を達成するため鋭意研究を行った結果、疎水性有機溶媒
と水との混合溶媒中、亜鉛または鉄を還元剤として、不
飽和炭化水素残基で置換されているニトロベンゼン類の
ニトロ基を選択的に還元することにより、不飽和炭化水
素残基で置換されているアニリン類が製造できることを
見出し、さらに還元後の液のｐＨを調整することによ
り、容易に還元剤の酸化物と該アニリン類とを分離する
ことができることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
【０００８】即ち、本発明は、（１）疎水性有機溶媒と
水との混合溶媒中、亜鉛または鉄を還元剤として、式
（Ｉ）
水との混合溶媒中、亜鉛または鉄を還元剤として、式
（Ｉ）
【０００９】
【化６】
【００１０】（式中、Ｒ1は置換基を有していてもよい
炭素数２〜１１の不飽和炭化水素残基を示す）で表され
る、不飽和炭化水素残基で置換されているニトロベンゼ
ン類のニトロ基を選択的に還元することを特徴とする、
式（II）
炭素数２〜１１の不飽和炭化水素残基を示す）で表され
る、不飽和炭化水素残基で置換されているニトロベンゼ
ン類のニトロ基を選択的に還元することを特徴とする、
式（II）
【００１１】
【化７】
【００１２】（式中、Ｒ1は前記と同義である）で表さ
れる、不飽和炭化水素残基で置換されているアニリン類
の製造方法、（２）Ｒ1が、式（III）
れる、不飽和炭化水素残基で置換されているアニリン類
の製造方法、（２）Ｒ1が、式（III）
【００１３】
【化８】
【００１４】（式中、Ｒ2は水素原子、−ＣＲ3Ｒ4ＯＨ
（Ｒ3およびＲ4は同一または異なっていてもよく、それ
ぞれ水素原子もしくはアルキルを示すか、またはＲ3と
Ｒ4とが隣接する炭素原子と一緒になって環を形成して
もよい）またはトリアルキルシリルを示す）で表される
基である、上記（１）の製造方法、（３）Ｒ1が３−ヒ
ドロキシ−３−メチル−１−ブチニルである、上記
（１）または（２）の製造方法、（４）不飽和炭化水素
残基で置換されているニトロベンゼン類が、３−メチル
−１−（３−ニトロフェニル）−１−ブチン−３−オー
ルである、上記（１）〜（３）のいずれかの製造方法、
（５）疎水性有機溶媒がエステル系溶媒である、上記
（１）〜（４）のいずれかの製造方法、（６）エステル
系溶媒が酢酸エチルである、上記（５）の製造方法、
（７）亜鉛を還元剤とする、上記（１）〜（６）のいず
れかの製造方法、（８）不飽和炭化水素残基で置換され
ているニトロベンゼン類が、有機塩基、ビス（トリフェ
ニルホスフィン）パラジウム(II)クロリドおよびヨウ化
第一銅の存在下、式
（Ｒ3およびＲ4は同一または異なっていてもよく、それ
ぞれ水素原子もしくはアルキルを示すか、またはＲ3と
Ｒ4とが隣接する炭素原子と一緒になって環を形成して
もよい）またはトリアルキルシリルを示す）で表される
基である、上記（１）の製造方法、（３）Ｒ1が３−ヒ
ドロキシ−３−メチル−１−ブチニルである、上記
（１）または（２）の製造方法、（４）不飽和炭化水素
残基で置換されているニトロベンゼン類が、３−メチル
−１−（３−ニトロフェニル）−１−ブチン−３−オー
ルである、上記（１）〜（３）のいずれかの製造方法、
（５）疎水性有機溶媒がエステル系溶媒である、上記
（１）〜（４）のいずれかの製造方法、（６）エステル
系溶媒が酢酸エチルである、上記（５）の製造方法、
（７）亜鉛を還元剤とする、上記（１）〜（６）のいず
れかの製造方法、（８）不飽和炭化水素残基で置換され
ているニトロベンゼン類が、有機塩基、ビス（トリフェ
ニルホスフィン）パラジウム(II)クロリドおよびヨウ化
第一銅の存在下、式
【００１５】
【化９】
【００１６】（式中、Ｘはハロゲン原子を表す）で表さ
れるハロゲノニトロベンゼンとＲ1Ｈ（式中、Ｒ1は前記
と同義である）で表される不飽和炭化水素との縮合反応
により得られ、かつ、当該ニトロベンゼン類の還元開始
時における液のｐＨが中性付近である上記（１）の製造
方法、（９）還元終了後、（ａ）反応液のｐＨを、還元
剤の酸化物が水に溶解し、かつ不飽和炭化水素残基で置
換されているアニリン類が水に実質的に溶解するｐＨに
調整して分液し、（ｂ）得られた水層のｐＨを、不飽和
炭化水素残基で置換されているアニリン類が晶析するｐ
Ｈに調整することにより、該アニリン類を分離すること
を特徴とする、上記（１）の製造方法、および、（１
０）疎水性有機溶媒が酢酸エチルであり、不飽和炭化水
素残基が３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチニルで
あり、還元剤の酸化物が水に溶解し、かつ不飽和炭化水
素残基で置換されているアニリン類が水に実質的に溶解
するｐＨが０．５〜３であり、不飽和炭化水素残基で置
換されているアニリン類が晶析するｐＨが４．０〜４．
５であることを特徴とする、上記（９）の製造方法に関
する。
れるハロゲノニトロベンゼンとＲ1Ｈ（式中、Ｒ1は前記
と同義である）で表される不飽和炭化水素との縮合反応
により得られ、かつ、当該ニトロベンゼン類の還元開始
時における液のｐＨが中性付近である上記（１）の製造
方法、（９）還元終了後、（ａ）反応液のｐＨを、還元
剤の酸化物が水に溶解し、かつ不飽和炭化水素残基で置
換されているアニリン類が水に実質的に溶解するｐＨに
調整して分液し、（ｂ）得られた水層のｐＨを、不飽和
炭化水素残基で置換されているアニリン類が晶析するｐ
Ｈに調整することにより、該アニリン類を分離すること
を特徴とする、上記（１）の製造方法、および、（１
０）疎水性有機溶媒が酢酸エチルであり、不飽和炭化水
素残基が３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチニルで
あり、還元剤の酸化物が水に溶解し、かつ不飽和炭化水
素残基で置換されているアニリン類が水に実質的に溶解
するｐＨが０．５〜３であり、不飽和炭化水素残基で置
換されているアニリン類が晶析するｐＨが４．０〜４．
５であることを特徴とする、上記（９）の製造方法に関
する。
【００１７】ベンゼン環上にニトロ基と不飽和炭化水素
残基とを有する化合物においては、そのニトロ基は、こ
れまで親水性有機溶媒と水との混合溶媒中、アルカリ性
条件下で選択的に還元されてきた。しかしながら、本発
明者らは疎水性有機溶媒と水との混合溶媒中で上記還元
を行うことにより、アルカリを添加することなく、ニト
ロ基の選択的還元が進行することを見出した。また、還
元剤の酸化物がゲル状であるため、還元剤の酸化物と目
的物との分離はこれまで困難であった。しかしながら、
本発明者らは還元後の反応液のｐＨを還元剤の酸化物が
水に溶解し（例えば、塩酸により、還元剤の酸化物を塩
化物に変換して水に溶解し）、かつ不飽和炭化水素残基
で置換されているアニリン類が水に実質的に溶解するよ
うに調整して分液し、次に得られた水層のｐＨを目的物
が晶析するように調整することにより、容易に還元剤の
酸化物と目的物との分離を行うことができることを見出
した。
残基とを有する化合物においては、そのニトロ基は、こ
れまで親水性有機溶媒と水との混合溶媒中、アルカリ性
条件下で選択的に還元されてきた。しかしながら、本発
明者らは疎水性有機溶媒と水との混合溶媒中で上記還元
を行うことにより、アルカリを添加することなく、ニト
ロ基の選択的還元が進行することを見出した。また、還
元剤の酸化物がゲル状であるため、還元剤の酸化物と目
的物との分離はこれまで困難であった。しかしながら、
本発明者らは還元後の反応液のｐＨを還元剤の酸化物が
水に溶解し（例えば、塩酸により、還元剤の酸化物を塩
化物に変換して水に溶解し）、かつ不飽和炭化水素残基
で置換されているアニリン類が水に実質的に溶解するよ
うに調整して分液し、次に得られた水層のｐＨを目的物
が晶析するように調整することにより、容易に還元剤の
酸化物と目的物との分離を行うことができることを見出
した。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本明細書において、特に限定されない限り「ニトロベン
ゼン類」とは「不飽和炭化水素残基で置換されているニ
トロベンゼン類」のことを意味し、「アニリン類」とは
「不飽和炭化水素残基で置換されているアニリン類」の
ことを意味する。また、本発明における炭化水素残基
（例えばアルキル、アルケニル、アルキニルなど）にお
いて、語頭（例えばイソ、ネオなど）または符号（例え
ばｓｅｃ−、ｔｅｒｔ−など）を付していない限り直鎖
状であり、例えば単にプロピルとあれば直鎖状のプロピ
ルを表す。
本明細書において、特に限定されない限り「ニトロベン
ゼン類」とは「不飽和炭化水素残基で置換されているニ
トロベンゼン類」のことを意味し、「アニリン類」とは
「不飽和炭化水素残基で置換されているアニリン類」の
ことを意味する。また、本発明における炭化水素残基
（例えばアルキル、アルケニル、アルキニルなど）にお
いて、語頭（例えばイソ、ネオなど）または符号（例え
ばｓｅｃ−、ｔｅｒｔ−など）を付していない限り直鎖
状であり、例えば単にプロピルとあれば直鎖状のプロピ
ルを表す。
【００１９】本発明における「中性付近」とは、ｐＨが
４．０〜１１．０、好ましくは６．０〜８．０であるこ
とを意味する。
４．０〜１１．０、好ましくは６．０〜８．０であるこ
とを意味する。
【００２０】Ｒ1における「置換基を有していてもよい
炭素数２〜１１の不飽和炭化水素残基」の「炭素数２〜
１１の不飽和炭化水素残基」とは、少なくとも１つの不
飽和結合を有する、炭素数が２〜１１個、好ましくは２
〜６個である直鎖状または分岐鎖状の炭化水素残基のこ
とであり、具体的にはビニル、アリル、プロペニル、２
−メチルプロペニル、２，２−ジメチルプロペニル、２
−エチルプロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニ
ル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デケニルなど
のアルケニル；エチニル、プロピニル、２−メチルプロ
ピニル、２，２−ジメチルプロピニル、２−エチルプロ
ピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニ
ル、オクチニル、３−メチルブチニル、３−メチルペン
チニル、３−エチルペンチニル、４−エチルオクチニ
ル、ノニニル、デシニルなどのアルキニル；およびプロ
パジエニル、ブタンジエニル、ペンタジエニル、ヘキサ
ジエニル、ヘプタジエニル、オクタジエニルなどのアル
カジエニル、１−ブテン−３−イニルなどのアルケニニ
ルのような不飽和結合を構造式中に２以上含有する不飽
和炭化水素残基が挙げられ、好ましくは３−メチル−１
−ブチニルが挙げられる。
炭素数２〜１１の不飽和炭化水素残基」の「炭素数２〜
１１の不飽和炭化水素残基」とは、少なくとも１つの不
飽和結合を有する、炭素数が２〜１１個、好ましくは２
〜６個である直鎖状または分岐鎖状の炭化水素残基のこ
とであり、具体的にはビニル、アリル、プロペニル、２
−メチルプロペニル、２，２−ジメチルプロペニル、２
−エチルプロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニ
ル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デケニルなど
のアルケニル；エチニル、プロピニル、２−メチルプロ
ピニル、２，２−ジメチルプロピニル、２−エチルプロ
ピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニ
ル、オクチニル、３−メチルブチニル、３−メチルペン
チニル、３−エチルペンチニル、４−エチルオクチニ
ル、ノニニル、デシニルなどのアルキニル；およびプロ
パジエニル、ブタンジエニル、ペンタジエニル、ヘキサ
ジエニル、ヘプタジエニル、オクタジエニルなどのアル
カジエニル、１−ブテン−３−イニルなどのアルケニニ
ルのような不飽和結合を構造式中に２以上含有する不飽
和炭化水素残基が挙げられ、好ましくは３−メチル−１
−ブチニルが挙げられる。
【００２１】Ｒ1における「置換基を有していてもよい
炭素数２〜１１の不飽和炭化水素残基」の「置換基」と
しては、ヒドロキシ、炭素数５〜７のシクロアルキル、
トリアルキルシリルなどが挙げられる。該炭素数５〜７
のシクロアルキルとしては、シクロペンチル、シクロヘ
キシルおよびシクロヘプチルが挙げられる。該トリアル
キルシリルにおける「アルキル」とは、炭素数１〜１６
の直鎖状または分岐鎖状のアルキルであり、各アルキル
は同一または異なっていてもよく、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ
ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペン
チル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ヘキシル、
イソヘキシル、へプチル、オクチル、ノニル、デシル、
ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペ
ンタデシル、ヘキサデシルなどが挙げられ、好ましくは
メチルである。該「置換基」としては、好ましくはヒド
ロキシ、トリメチルシリルが挙げられる。「置換基を有
していてもよい炭素数２〜１１の不飽和炭化水素残基」
は、上記置換基で１または２以上置換されていてもよ
い。
炭素数２〜１１の不飽和炭化水素残基」の「置換基」と
しては、ヒドロキシ、炭素数５〜７のシクロアルキル、
トリアルキルシリルなどが挙げられる。該炭素数５〜７
のシクロアルキルとしては、シクロペンチル、シクロヘ
キシルおよびシクロヘプチルが挙げられる。該トリアル
キルシリルにおける「アルキル」とは、炭素数１〜１６
の直鎖状または分岐鎖状のアルキルであり、各アルキル
は同一または異なっていてもよく、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ
ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペン
チル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ヘキシル、
イソヘキシル、へプチル、オクチル、ノニル、デシル、
ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペ
ンタデシル、ヘキサデシルなどが挙げられ、好ましくは
メチルである。該「置換基」としては、好ましくはヒド
ロキシ、トリメチルシリルが挙げられる。「置換基を有
していてもよい炭素数２〜１１の不飽和炭化水素残基」
は、上記置換基で１または２以上置換されていてもよ
い。
【００２２】Ｒ3およびＲ4における「アルキル」とは、
直鎖状または分岐鎖状の炭素数１〜８、好ましくは１〜
４のアルキルであり、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチ
ル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオ
ペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ヘキシル、イソヘキシ
ル、へプチル、オクチルなどが挙げられ、好ましくはメ
チルである。
直鎖状または分岐鎖状の炭素数１〜８、好ましくは１〜
４のアルキルであり、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチ
ル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオ
ペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ヘキシル、イソヘキシ
ル、へプチル、オクチルなどが挙げられ、好ましくはメ
チルである。
【００２３】Ｒ3とＲ4とが隣接する炭素原子と一緒にな
って形成してもよい環とは、上記Ｒ 1における置換基の
シクロアルキルと同義であり、つまり炭素数５〜７のシ
クロアルキルである。
って形成してもよい環とは、上記Ｒ 1における置換基の
シクロアルキルと同義であり、つまり炭素数５〜７のシ
クロアルキルである。
【００２４】Ｒ2における「−ＣＲ3Ｒ4ＯＨ」として
は、具体的にはヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチ
ル、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル、１−ヒドロキ
シ−１−メチルプロピル、１−ヒドロキシ−１−エチル
プロピル、１−ヒドロキシシクロぺンチル、１−ヒドロ
キシシクロヘキシル、１−ヒドロキシシクロオクチルな
どが挙げられ、好ましくは１−ヒドロキシ−１−メチル
エチルである。
は、具体的にはヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチ
ル、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル、１−ヒドロキ
シ−１−メチルプロピル、１−ヒドロキシ−１−エチル
プロピル、１−ヒドロキシシクロぺンチル、１−ヒドロ
キシシクロヘキシル、１−ヒドロキシシクロオクチルな
どが挙げられ、好ましくは１−ヒドロキシ−１−メチル
エチルである。
【００２５】Ｒ2における「トリアルキルシリル」と
は、上記Ｒ1における置換基の「トリアルキルシリル」
と同義である。
は、上記Ｒ1における置換基の「トリアルキルシリル」
と同義である。
【００２６】本発明における不飽和炭化水素残基とは、
上記「置換基を有してもよい炭素数２〜１１の不飽和炭
化水素残基」であり、好ましくは式（III）
上記「置換基を有してもよい炭素数２〜１１の不飽和炭
化水素残基」であり、好ましくは式（III）
【００２７】
【化１０】
【００２８】（式中、Ｒ2は水素原子、−ＣＲ3Ｒ4ＯＨ
（Ｒ3およびＲ4は同一または異なっていてもよく、それ
ぞれ水素原子もしくはアルキルを示すか、またはＲ3と
Ｒ4とが隣接する炭素原子と一緒になって環を形成して
もよい）またはトリアルキルシリルを示す）で表される
基であり、より好ましくはＲ1が−Ｃ≡Ｃ−ＣＲ3Ｒ4Ｏ
Ｈ（式中、Ｒ3、Ｒ4は前記と同義である）で表される基
であり、特に好ましくは３−ヒドロキシ−３−メチル−
１−ブチニルが挙げられる。
（Ｒ3およびＲ4は同一または異なっていてもよく、それ
ぞれ水素原子もしくはアルキルを示すか、またはＲ3と
Ｒ4とが隣接する炭素原子と一緒になって環を形成して
もよい）またはトリアルキルシリルを示す）で表される
基であり、より好ましくはＲ1が−Ｃ≡Ｃ−ＣＲ3Ｒ4Ｏ
Ｈ（式中、Ｒ3、Ｒ4は前記と同義である）で表される基
であり、特に好ましくは３−ヒドロキシ−３−メチル−
１−ブチニルが挙げられる。
【００２９】本発明における「ニトロベンゼン類」およ
び「アニリン類」における「不飽和炭化水素残基」の置
換位置は、ニトロ基およびアミノ基に対してオルト位、
メタ位およびパラ位のいずれでもよく、好ましくはメタ
位、パラ位であり、より好ましくはメタ位である。
び「アニリン類」における「不飽和炭化水素残基」の置
換位置は、ニトロ基およびアミノ基に対してオルト位、
メタ位およびパラ位のいずれでもよく、好ましくはメタ
位、パラ位であり、より好ましくはメタ位である。
【００３０】本発明における「ニトロベンゼン類」の好
ましい具体例としては、３−メチル−１−（３−ニトロ
フェニル）−１−ブチン−３−オールが挙げられる。
ましい具体例としては、３−メチル−１−（３−ニトロ
フェニル）−１−ブチン−３−オールが挙げられる。
【００３１】「ニトロベンゼン類」におけるニトロ基の
選択的還元 本発明における「ニトロベンゼン類」のニトロ基の選択
的還元は、疎水性有機溶媒と水との混合溶媒中、亜鉛ま
たは鉄を還元剤とすることにより行われる。反応系への
各物質の添加順序は特に限定はなく、たとえば還元剤の
水懸濁液に、「ニトロベンゼン類」の疎水性有機溶媒溶
液を窒素雰囲気下で攪拌しながら滴下することにより、
ニトロ基を選択的に還元することが好ましい。本発明の
方法は、アルカリ条件にすることなく反応を進行でき
る。このため、アルカリを消費せず、さらに生成物を分
離する際に大量の水で希釈する必要がなく、水の使用量
を低減することができる点で本発明の製造方法は好まし
い。
選択的還元 本発明における「ニトロベンゼン類」のニトロ基の選択
的還元は、疎水性有機溶媒と水との混合溶媒中、亜鉛ま
たは鉄を還元剤とすることにより行われる。反応系への
各物質の添加順序は特に限定はなく、たとえば還元剤の
水懸濁液に、「ニトロベンゼン類」の疎水性有機溶媒溶
液を窒素雰囲気下で攪拌しながら滴下することにより、
ニトロ基を選択的に還元することが好ましい。本発明の
方法は、アルカリ条件にすることなく反応を進行でき
る。このため、アルカリを消費せず、さらに生成物を分
離する際に大量の水で希釈する必要がなく、水の使用量
を低減することができる点で本発明の製造方法は好まし
い。
【００３２】原料化合物である「ニトロベンゼン類」は
公知化合物であり、例えば特開平１０−３６３２５号公
報、および特開昭５４−６３０３５号公報で開示されて
いる方法に準じて製造することができる。例えば、有機
塩基、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム(II)
クロリドおよびヨウ化第一銅の存在下、式
公知化合物であり、例えば特開平１０−３６３２５号公
報、および特開昭５４−６３０３５号公報で開示されて
いる方法に準じて製造することができる。例えば、有機
塩基、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム(II)
クロリドおよびヨウ化第一銅の存在下、式
【００３３】
【化１１】
【００３４】（式中、Ｘはハロゲン原子を表す）で表さ
れるハロゲノニトロベンゼンとＲ1Ｈ（式中、Ｒ1は前記
と同義である）で表される不飽和炭化水素との縮合反応
により、「ニトロベンゼン類」を得ることができる。上
記反応試薬の使用量、種々の操作などについては、特開
平１０−３６３２５号公報、および特開昭５４−６３０
３５号公報の記載に準ずる。
れるハロゲノニトロベンゼンとＲ1Ｈ（式中、Ｒ1は前記
と同義である）で表される不飽和炭化水素との縮合反応
により、「ニトロベンゼン類」を得ることができる。上
記反応試薬の使用量、種々の操作などについては、特開
平１０−３６３２５号公報、および特開昭５４−６３０
３５号公報の記載に準ずる。
【００３５】Ｘにおけるハロゲン原子としては、フッ
素、臭素、ヨウ素などが挙げられ、ハロゲン原子はニト
ロ基に対して、オルト位、メタ位およびパラ位のいずれ
に置換されていてもよく、好ましくはメタ位、パラ位で
あり、より好ましくはメタ位である。
素、臭素、ヨウ素などが挙げられ、ハロゲン原子はニト
ロ基に対して、オルト位、メタ位およびパラ位のいずれ
に置換されていてもよく、好ましくはメタ位、パラ位で
あり、より好ましくはメタ位である。
【００３６】有機塩基としては、例えばトリエチルアミ
ン、トリメチルアミンなどが挙げられる。
ン、トリメチルアミンなどが挙げられる。
【００３７】「ニトロベンゼン類」は単離することな
く、本発明の還元反応に使用することもできる。例え
ば、反応終了後の液を濃縮して有機塩基（例えば、トリ
エチルアミンなど）の一部を除去し、濃縮残渣に酢酸エ
チルと水とを加えた後、さらに酸（例えば、酢酸など）
を加えて液のｐＨを中性付近に調整後、分液し、有機層
をそのまま次の工程に使用することができる。
く、本発明の還元反応に使用することもできる。例え
ば、反応終了後の液を濃縮して有機塩基（例えば、トリ
エチルアミンなど）の一部を除去し、濃縮残渣に酢酸エ
チルと水とを加えた後、さらに酸（例えば、酢酸など）
を加えて液のｐＨを中性付近に調整後、分液し、有機層
をそのまま次の工程に使用することができる。
【００３８】上記方法で製造した「ニトロベンゼン類」
を還元反応に使用する場合の「還元開始時における液の
ｐＨ」とは、ハロゲノニトロベンゼンとＲ1Ｈ（式中、
Ｒ1は前記と同義である）との縮合反応後の反応液を濃
縮して有機塩基の一部を除去し、濃縮残渣に酢酸エチル
と水とを加え、さらにこの中に酸を加えた後の水層のｐ
Ｈのことである。還元開始時における液のｐＨは中性付
近であるのが好ましく、該ｐＨが４．０未満である場合
には「ニトロベンゼン類」に置換している不飽和炭化水
素残基が還元され易くなり、逆に１１を超える場合には
不飽和炭化水素残基が分解を受け易くなり、酸を加えた
後の水層に「ニトロベンゼン類」が含まれ易く、収率が
低下する。還元開始時における液のｐＨは、酸の添加量
を調節することにより所望の値に調整することができ
る。
を還元反応に使用する場合の「還元開始時における液の
ｐＨ」とは、ハロゲノニトロベンゼンとＲ1Ｈ（式中、
Ｒ1は前記と同義である）との縮合反応後の反応液を濃
縮して有機塩基の一部を除去し、濃縮残渣に酢酸エチル
と水とを加え、さらにこの中に酸を加えた後の水層のｐ
Ｈのことである。還元開始時における液のｐＨは中性付
近であるのが好ましく、該ｐＨが４．０未満である場合
には「ニトロベンゼン類」に置換している不飽和炭化水
素残基が還元され易くなり、逆に１１を超える場合には
不飽和炭化水素残基が分解を受け易くなり、酸を加えた
後の水層に「ニトロベンゼン類」が含まれ易く、収率が
低下する。還元開始時における液のｐＨは、酸の添加量
を調節することにより所望の値に調整することができ
る。
【００３９】本発明における還元剤としては、通常還元
剤として使用する、亜鉛（亜鉛末など）および鉄（鉄
粉、削り状鉄片、還元鉄、硫酸鉄、塩化鉄などの還元鉄
など）が挙げられ、還元剤の酸化物が反応釜に析出しな
いという点から亜鉛が好ましい。還元剤の使用量は、
「ニトロベンゼン類」１モルに対して３〜１０倍モル
量、好ましくは３〜４倍モル量である。
剤として使用する、亜鉛（亜鉛末など）および鉄（鉄
粉、削り状鉄片、還元鉄、硫酸鉄、塩化鉄などの還元鉄
など）が挙げられ、還元剤の酸化物が反応釜に析出しな
いという点から亜鉛が好ましい。還元剤の使用量は、
「ニトロベンゼン類」１モルに対して３〜１０倍モル
量、好ましくは３〜４倍モル量である。
【００４０】本発明における還元溶媒は、疎水性有機溶
媒と水との混合溶媒である。本発明における疎水性有機
溶媒は、「ニトロベンゼン類」１モルに対して１００〜
１０００ｍｌ、好ましくは２００〜５００ｍｌ用い、水
は「ニトロベンゼン類」１モルに対して１００〜１００
０ｍｌ、好ましくは３００〜５００ｍｌ用いる。
媒と水との混合溶媒である。本発明における疎水性有機
溶媒は、「ニトロベンゼン類」１モルに対して１００〜
１０００ｍｌ、好ましくは２００〜５００ｍｌ用い、水
は「ニトロベンゼン類」１モルに対して１００〜１００
０ｍｌ、好ましくは３００〜５００ｍｌ用いる。
【００４１】本発明で使用する疎水性有機溶媒と水との
容積比は、水１に対して疎水性有機溶媒が０．１〜１
０．０、好ましくは０．５〜１．０である。
容積比は、水１に対して疎水性有機溶媒が０．１〜１
０．０、好ましくは０．５〜１．０である。
【００４２】本発明における「疎水性有機溶媒」とは、
水に全く溶解しないか、または水に対する溶解度が常温
で約１０重量％以下、好ましくは９重量％以下であり、
かつ本発明における「ニトロベンゼン類」を溶解するこ
とのできる有機溶媒である。該疎水性有機溶媒として
は、好ましくはエステル系溶媒が挙げられる。
水に全く溶解しないか、または水に対する溶解度が常温
で約１０重量％以下、好ましくは９重量％以下であり、
かつ本発明における「ニトロベンゼン類」を溶解するこ
とのできる有機溶媒である。該疎水性有機溶媒として
は、好ましくはエステル系溶媒が挙げられる。
【００４３】エステル系溶媒としては、酢酸エチル、酢
酸ブチルなどが挙げられ、酢酸エチルが好ましい。これ
らは１種または２種以上併用してもよい。
酸ブチルなどが挙げられ、酢酸エチルが好ましい。これ
らは１種または２種以上併用してもよい。
【００４４】本発明における還元温度は、１０〜８０
℃、好ましくは４０〜６０℃であり、還元時間は１〜２
０時間である。
℃、好ましくは４０〜６０℃であり、還元時間は１〜２
０時間である。
【００４５】「アニリン類」の分離 目的生成物である「アニリン類」の反応液からの分離
は、通常の分離方法でも行うことができ、好ましくは還
元終了後、（ａ）反応液のｐＨを、還元剤の酸化物が水
に溶解し、かつ不飽和炭化水素残基で置換されているア
ニリン類が水に実質的に溶解するｐＨに調整して分液
し、（ｂ）得られた水層のｐＨを、「アニリン類」が晶
析するｐＨに調整する方法により行うことができる。該
（ａ）工程における「不飽和炭化水素残基で置換されて
いるアニリン類が水に実質的に溶解する」とは、水中に
アニリン類が９９％以上含まれている状態を意味する。
は、通常の分離方法でも行うことができ、好ましくは還
元終了後、（ａ）反応液のｐＨを、還元剤の酸化物が水
に溶解し、かつ不飽和炭化水素残基で置換されているア
ニリン類が水に実質的に溶解するｐＨに調整して分液
し、（ｂ）得られた水層のｐＨを、「アニリン類」が晶
析するｐＨに調整する方法により行うことができる。該
（ａ）工程における「不飽和炭化水素残基で置換されて
いるアニリン類が水に実質的に溶解する」とは、水中に
アニリン類が９９％以上含まれている状態を意味する。
【００４６】該（ａ）工程は、反応液中に、還元剤の酸
化物を水に溶解することができ、かつ「アニリン類」を
水に実質的に溶解することができる酸性化合物（例え
ば、塩酸など）と抽出溶媒（例えば、トルエンなど）と
を添加することにより、または抽出溶媒に反応液と該酸
性化合物とを添加することにより行うことができる。ま
た、該（ｂ）工程は、得られた水層中に、「アニリン
類」を晶析することのできる塩基性化合物（例えば、ア
ンモニア水など）を添加することにより行うことができ
る。本発明の分離方法は、ゲル状であるために目的生成
物と分離する際にセライトが必要となる還元剤の酸化物
を、反応液のｐＨを調整して水に溶解させることにより
容易に分離できるという点から、通常の分離方法より好
ましい。
化物を水に溶解することができ、かつ「アニリン類」を
水に実質的に溶解することができる酸性化合物（例え
ば、塩酸など）と抽出溶媒（例えば、トルエンなど）と
を添加することにより、または抽出溶媒に反応液と該酸
性化合物とを添加することにより行うことができる。ま
た、該（ｂ）工程は、得られた水層中に、「アニリン
類」を晶析することのできる塩基性化合物（例えば、ア
ンモニア水など）を添加することにより行うことができ
る。本発明の分離方法は、ゲル状であるために目的生成
物と分離する際にセライトが必要となる還元剤の酸化物
を、反応液のｐＨを調整して水に溶解させることにより
容易に分離できるという点から、通常の分離方法より好
ましい。
【００４７】還元剤の酸化物が水に溶解し、かつ「アニ
リン類」が水に実質的に溶解するｐＨは、原料と反応溶
媒とに依存し、例えば疎水性有機溶媒が酢酸エチルであ
り、不飽和炭化水素残基が３−ヒドロキシ−３−メチル
−１−ブチニルである場合、好ましくは０．５〜３であ
り、短時間で分離できるという点からより好ましく２以
下、特に好ましく１．０〜１．５である。この場合、ｐ
Ｈが０．５未満であると目的物の一部が分解され、品質
の低下を招く恐れがあり、ｐＨが３を超えると還元剤の
酸化物の一部が溶解せずに存在し、また目的物が疎水性
有機溶媒中に残りやすくなり、収率の低下を生じる。
リン類」が水に実質的に溶解するｐＨは、原料と反応溶
媒とに依存し、例えば疎水性有機溶媒が酢酸エチルであ
り、不飽和炭化水素残基が３−ヒドロキシ−３−メチル
−１−ブチニルである場合、好ましくは０．５〜３であ
り、短時間で分離できるという点からより好ましく２以
下、特に好ましく１．０〜１．５である。この場合、ｐ
Ｈが０．５未満であると目的物の一部が分解され、品質
の低下を招く恐れがあり、ｐＨが３を超えると還元剤の
酸化物の一部が溶解せずに存在し、また目的物が疎水性
有機溶媒中に残りやすくなり、収率の低下を生じる。
【００４８】「アニリン類」が晶析するｐＨは、原料と
反応溶媒とに依存し、例えば疎水性有機溶媒が酢酸エチ
ルであり、不飽和炭化水素残基が３−ヒドロキシ−３−
メチル−１−ブチニルである場合、好ましくは４．０〜
４．５であり、より好ましくは４．１〜４．３である。
この場合、ｐＨが４．０未満であると目的物の一部が結
晶化せずに母液中に残りやすくなり、ｐＨが４．５を超
えると還元剤の酸化物が析出する恐れがある。
反応溶媒とに依存し、例えば疎水性有機溶媒が酢酸エチ
ルであり、不飽和炭化水素残基が３−ヒドロキシ−３−
メチル−１−ブチニルである場合、好ましくは４．０〜
４．５であり、より好ましくは４．１〜４．３である。
この場合、ｐＨが４．０未満であると目的物の一部が結
晶化せずに母液中に残りやすくなり、ｐＨが４．５を超
えると還元剤の酸化物が析出する恐れがある。
【００４９】目的生成物の精製方法は、通常行われる精
製方法であれば特に限定はなく、例えばイソプロピルア
ルコールなどの適当な溶媒中、分離した粗結晶を活性炭
を用いて脱色した後、冷却晶析することにより高純度の
目的生成物を得ることができる。
製方法であれば特に限定はなく、例えばイソプロピルア
ルコールなどの適当な溶媒中、分離した粗結晶を活性炭
を用いて脱色した後、冷却晶析することにより高純度の
目的生成物を得ることができる。
【００５０】本発明により得られる「アニリン類」は、
ハロゲン化銀写真感光材料、熱硬化性ポリイミド、固相
重合性非線形光学材料、癌のような増殖性疾患の治療の
ためのプロドラッグなどの合成中間体、耐熱性ポリイミ
ドの末端封止剤として有用である。
ハロゲン化銀写真感光材料、熱硬化性ポリイミド、固相
重合性非線形光学材料、癌のような増殖性疾患の治療の
ためのプロドラッグなどの合成中間体、耐熱性ポリイミ
ドの末端封止剤として有用である。
【００５１】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。
【００５２】実施例１（１） ３−メチル−１−（３−ニトロフェニル）−１
−ブチン−３−オールの合成 ５００ｍｌの四つ口フラスコに、３−ブロモニトロベン
ゼン（50.50g、0.250mol）、トリエチルアミン（177.1
g、1.750mol）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラ
ジウム(II)クロリド（0.12g、0.000171mol）、およびヨ
ウ化第一銅（0.12g、0.000630mol）を加え、窒素雰囲気
下、90℃まで加熱昇温し、この中に同温度で２−メチル
−３−ブチン−２−オール（27.4g、0.326mol）を２時
間かけて滴下した。滴下後、さらに同温度で２時間熟成
を行った。その後、トリエチルアミン（102.2g、1.010m
ol）を減圧下濃縮し、濃縮残渣へ水（100ml）および酢
酸エチル（50ml）を加えた。更に20〜30℃で酢酸（28.4
g、0.473mol）を加え、水層のpHを6.78として分液を行
った。得られた水層を更に酢酸エチル（10ml）で抽出し
た。得られた有機層を合わせることにより、３−メチル
−１−（３−ニトロフェニル）−１−ブチン−３−オー
ルの酢酸エチル溶液（115ml）を得た。
−ブチン−３−オールの合成 ５００ｍｌの四つ口フラスコに、３−ブロモニトロベン
ゼン（50.50g、0.250mol）、トリエチルアミン（177.1
g、1.750mol）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラ
ジウム(II)クロリド（0.12g、0.000171mol）、およびヨ
ウ化第一銅（0.12g、0.000630mol）を加え、窒素雰囲気
下、90℃まで加熱昇温し、この中に同温度で２−メチル
−３−ブチン−２−オール（27.4g、0.326mol）を２時
間かけて滴下した。滴下後、さらに同温度で２時間熟成
を行った。その後、トリエチルアミン（102.2g、1.010m
ol）を減圧下濃縮し、濃縮残渣へ水（100ml）および酢
酸エチル（50ml）を加えた。更に20〜30℃で酢酸（28.4
g、0.473mol）を加え、水層のpHを6.78として分液を行
った。得られた水層を更に酢酸エチル（10ml）で抽出し
た。得られた有機層を合わせることにより、３−メチル
−１−（３−ニトロフェニル）−１−ブチン−３−オー
ルの酢酸エチル溶液（115ml）を得た。
【００５３】（２） ３−（３−ヒドロキシ−３−メチ
ル−１−ブチニル）アニリンの合成 亜鉛末（49.5g、0.759mol）および水（100ml）を窒素雰
囲気下、室温で攪拌し、この中に上記（１）で得られた
３−メチル−１−（３−ニトロフェニル）−１−ブチン
−３−オールの酢酸エチル溶液（115ml）を滴下した。
滴下開始後、反応熱により内温が40℃になった後は適宜
冷却し、40〜60℃を保ちながら４時間かけて滴下を行っ
た。滴下終了後60℃で２時間保温攪拌し、酢酸エチル
（50ml）を加え、反応液を10℃に冷却した。液温10〜30
℃で35％塩酸（155ml）を滴下してpHを１とし、亜鉛の
酸化物を水に溶解した。この中にトルエン（50ml）を加
えて分液を行い、得られた水層をろ過後、液温10〜20℃
で28％アンモニア水（20ml）の滴下によって晶析を行っ
た。液のpHを4.26とした後、結晶を濾別し、得られた結
晶を水（100ml）で洗浄して３−（３−ヒドロキシ−３
−メチル−１−ブチニル）アニリンの粗結晶を得た。
ル−１−ブチニル）アニリンの合成 亜鉛末（49.5g、0.759mol）および水（100ml）を窒素雰
囲気下、室温で攪拌し、この中に上記（１）で得られた
３−メチル−１−（３−ニトロフェニル）−１−ブチン
−３−オールの酢酸エチル溶液（115ml）を滴下した。
滴下開始後、反応熱により内温が40℃になった後は適宜
冷却し、40〜60℃を保ちながら４時間かけて滴下を行っ
た。滴下終了後60℃で２時間保温攪拌し、酢酸エチル
（50ml）を加え、反応液を10℃に冷却した。液温10〜30
℃で35％塩酸（155ml）を滴下してpHを１とし、亜鉛の
酸化物を水に溶解した。この中にトルエン（50ml）を加
えて分液を行い、得られた水層をろ過後、液温10〜20℃
で28％アンモニア水（20ml）の滴下によって晶析を行っ
た。液のpHを4.26とした後、結晶を濾別し、得られた結
晶を水（100ml）で洗浄して３−（３−ヒドロキシ−３
−メチル−１−ブチニル）アニリンの粗結晶を得た。
【００５４】この粗結晶を活性炭（1.0g）およびイソプ
ロピルアルコール（75ml）とともに、窒素雰囲気下、75
℃で30分間攪拌後、活性炭を熱時濾別した。冷却晶析を
行い、５℃で結晶を濾別し、冷えたイソプロピルアルコ
ール（35ml）で結晶を洗浄することにより、無色結晶と
して３−（３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチニ
ル）アニリン（30.39g、0.173mol、３−ブロモニトロベ
ンゼンに対する収率：69.4mol％、液体クロマトグラフ
ィーによる純度：99.9％）を得た。得られた結晶の1Ｈ
−ＮＭＲデータを以下に示す。1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐ
ｍ：１．５６（ｓ，６Ｈ），４．０１（ｂｒｓ，２
Ｈ），４．５３（ｂｒｓ，１Ｈ），６．５２−６．６３
（ｍ，１Ｈ），６．７２−６．７８（ｍ，２Ｈ），７．
０１−７．０８（ｍ，１Ｈ）
ロピルアルコール（75ml）とともに、窒素雰囲気下、75
℃で30分間攪拌後、活性炭を熱時濾別した。冷却晶析を
行い、５℃で結晶を濾別し、冷えたイソプロピルアルコ
ール（35ml）で結晶を洗浄することにより、無色結晶と
して３−（３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチニ
ル）アニリン（30.39g、0.173mol、３−ブロモニトロベ
ンゼンに対する収率：69.4mol％、液体クロマトグラフ
ィーによる純度：99.9％）を得た。得られた結晶の1Ｈ
−ＮＭＲデータを以下に示す。1 Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6）δｐｐ
ｍ：１．５６（ｓ，６Ｈ），４．０１（ｂｒｓ，２
Ｈ），４．５３（ｂｒｓ，１Ｈ），６．５２−６．６３
（ｍ，１Ｈ），６．７２−６．７８（ｍ，２Ｈ），７．
０１−７．０８（ｍ，１Ｈ）
【００５５】実施例２（１） ３−メチル−１−（３−ニトロフェニル）−１
−ブチン−３−オールの合成 ５００ｍｌの四つ口フラスコに、３−ブロモニトロベン
ゼン（50.50g、0.250mol）、トリエチルアミン（177.1
g、1.750mol）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラ
ジウム(II)クロリド（0.12g、0.000171mol）、およびヨ
ウ化第一銅（0.12g、0.000630mol）を加え、窒素雰囲気
下、90℃まで加熱昇温し、この中に同温度で２−メチル
−３−ブチン−２−オール（27.4g、0.326mol）を２時
間かけて滴下した。滴下後、さらに同温度で２時間熟成
を行った。その後、トリエチルアミン（113.2g、1.118m
ol）を減圧下濃縮し、濃縮残渣へ水（100ml）および酢
酸エチル（50ml）を加えた。更に20〜30℃で酢酸（21.0
g、0.350mol）を加え、水層のpHを6.95として分液を行
った。得られた水層を更に酢酸エチル（25ml）で抽出し
た。得られた有機層を合わせることにより、３−メチル
−１−（３−ニトロフェニル）−１−ブチン−３−オー
ルの酢酸エチル溶液（130ml）を得た。
−ブチン−３−オールの合成 ５００ｍｌの四つ口フラスコに、３−ブロモニトロベン
ゼン（50.50g、0.250mol）、トリエチルアミン（177.1
g、1.750mol）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラ
ジウム(II)クロリド（0.12g、0.000171mol）、およびヨ
ウ化第一銅（0.12g、0.000630mol）を加え、窒素雰囲気
下、90℃まで加熱昇温し、この中に同温度で２−メチル
−３−ブチン−２−オール（27.4g、0.326mol）を２時
間かけて滴下した。滴下後、さらに同温度で２時間熟成
を行った。その後、トリエチルアミン（113.2g、1.118m
ol）を減圧下濃縮し、濃縮残渣へ水（100ml）および酢
酸エチル（50ml）を加えた。更に20〜30℃で酢酸（21.0
g、0.350mol）を加え、水層のpHを6.95として分液を行
った。得られた水層を更に酢酸エチル（25ml）で抽出し
た。得られた有機層を合わせることにより、３−メチル
−１−（３−ニトロフェニル）−１−ブチン−３−オー
ルの酢酸エチル溶液（130ml）を得た。
【００５６】（２） ３−（３−ヒドロキシ−３−メチ
ル−１−ブチニル）アニリンの合成 亜鉛末（49.5g、0.759mol）および水（100ml）を窒素雰
囲気下、室温で攪拌し、この中に上記（１）で得られた
３−メチル−１−（３−ニトロフェニル）−１−ブチン
−３−オールの酢酸エチル溶液（130ml）を滴下した。
滴下開始後、反応熱により内温が40℃になった後は適宜
冷却し、40〜60℃を保ちながら４時間かけて滴下を行っ
た。滴下終了後、60℃で２時間保温攪拌し、反応液を30
℃に冷却した。別のフラスコを用意し、トルエン（50m
l）および水（50ml）を加えた。攪拌下、10℃まで冷却
した。この中に反応液および35％塩酸（135ml）を10〜2
5℃でpH２〜６を保ちながら同時に滴下し、亜鉛の酸化
物を水に溶解した。この中に、35％塩酸（20ml）を加え
ることにより液のpHを１に調整し、分液を行った。得ら
れた水層をろ過後、液温10〜20℃で28％アンモニア水
（20ml）の滴下によって晶析を行った。液のpHを4.12と
した後、結晶を濾別し、得られた結晶を水（100ml）で
洗浄して３−（３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチ
ニル）アニリンの粗結晶を得た。
ル−１−ブチニル）アニリンの合成 亜鉛末（49.5g、0.759mol）および水（100ml）を窒素雰
囲気下、室温で攪拌し、この中に上記（１）で得られた
３−メチル−１−（３−ニトロフェニル）−１−ブチン
−３−オールの酢酸エチル溶液（130ml）を滴下した。
滴下開始後、反応熱により内温が40℃になった後は適宜
冷却し、40〜60℃を保ちながら４時間かけて滴下を行っ
た。滴下終了後、60℃で２時間保温攪拌し、反応液を30
℃に冷却した。別のフラスコを用意し、トルエン（50m
l）および水（50ml）を加えた。攪拌下、10℃まで冷却
した。この中に反応液および35％塩酸（135ml）を10〜2
5℃でpH２〜６を保ちながら同時に滴下し、亜鉛の酸化
物を水に溶解した。この中に、35％塩酸（20ml）を加え
ることにより液のpHを１に調整し、分液を行った。得ら
れた水層をろ過後、液温10〜20℃で28％アンモニア水
（20ml）の滴下によって晶析を行った。液のpHを4.12と
した後、結晶を濾別し、得られた結晶を水（100ml）で
洗浄して３−（３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチ
ニル）アニリンの粗結晶を得た。
【００５７】この粗結晶を活性炭（1.0g）およびイソプ
ロピルアルコール（75ml）とともに、窒素雰囲気下、75
℃で30分間攪拌後、活性炭を熱時濾別した。冷却晶析を
行い、５℃で結晶を濾別し、冷えたイソプロピルアルコ
ール（35ml）で結晶を洗浄することにより、無色結晶と
して３−（３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチニ
ル）アニリン（31.63g、0.1805mol、３−ブロモニトロ
ベンゼンに対する収率：72.20mol％、液体クロマトグラ
フィーによる純度：99.9％）を得た。得られた結晶の1
Ｈ−ＮＭＲデータは、実施例１と同様であった。
ロピルアルコール（75ml）とともに、窒素雰囲気下、75
℃で30分間攪拌後、活性炭を熱時濾別した。冷却晶析を
行い、５℃で結晶を濾別し、冷えたイソプロピルアルコ
ール（35ml）で結晶を洗浄することにより、無色結晶と
して３−（３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチニ
ル）アニリン（31.63g、0.1805mol、３−ブロモニトロ
ベンゼンに対する収率：72.20mol％、液体クロマトグラ
フィーによる純度：99.9％）を得た。得られた結晶の1
Ｈ−ＮＭＲデータは、実施例１と同様であった。
【００５８】
【発明の効果】本発明により、安価で、還元剤の酸化物
と目的生成物との分離が容易である、不飽和炭化水素残
基で置換されているニトロベンゼン類からの不飽和炭化
水素残基で置換されているアニリン類の製造方法を提供
することできる。これにより、ハロゲン化銀写真感光材
料、熱硬化性ポリイミド、固相重合性非線形光学材料、
癌のような増殖性疾患の治療のためのプロドラッグなど
の合成中間体、耐熱性ポリイミドの末端封止剤である、
不飽和炭化水素残基で置換されているアニリン類を提供
することができる。また、本発明はアルカリを使用して
いないため、不飽和炭化水素残基が分解を受けず、また
亜鉛を含んだ廃水量を従来と比較して低減することがで
き、廃水処理を従来と比較して容易にすることができ
る。
と目的生成物との分離が容易である、不飽和炭化水素残
基で置換されているニトロベンゼン類からの不飽和炭化
水素残基で置換されているアニリン類の製造方法を提供
することできる。これにより、ハロゲン化銀写真感光材
料、熱硬化性ポリイミド、固相重合性非線形光学材料、
癌のような増殖性疾患の治療のためのプロドラッグなど
の合成中間体、耐熱性ポリイミドの末端封止剤である、
不飽和炭化水素残基で置換されているアニリン類を提供
することができる。また、本発明はアルカリを使用して
いないため、不飽和炭化水素残基が分解を受けず、また
亜鉛を含んだ廃水量を従来と比較して低減することがで
き、廃水処理を従来と比較して容易にすることができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今宮 勝之 大阪市西淀川区歌島３丁目１番21号 住化 ファインケム株式会社総合研究所内 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC24 AC52 AD15 BA05 BA25 BA37 BA48 BB31 BC16 BC53 BD70 4H039 CA31 CA39 CD10 CD20
Claims (10)
- 【請求項１】 疎水性有機溶媒と水との混合溶媒中、亜
鉛または鉄を還元剤として、式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1は置換基を有していてもよい炭素数２〜１
１の不飽和炭化水素残基を示す）で表される、不飽和炭
化水素残基で置換されているニトロベンゼン類のニトロ
基を選択的に還元することを特徴とする、式（II） 【化２】 （式中、Ｒ1は前記と同義である）で表される、不飽和
炭化水素残基で置換されているアニリン類の製造方法。 - 【請求項２】 Ｒ1が、式（III） 【化３】 （式中、Ｒ2は水素原子、−ＣＲ3Ｒ4ＯＨ（Ｒ3およびＲ
4は同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子
もしくはアルキルを示すか、またはＲ3とＲ4とが隣接す
る炭素原子と一緒になって環を形成してもよい）または
トリアルキルシリルを示す）で表される基である、請求
項１記載の製造方法。 - 【請求項３】 Ｒ1が３−ヒドロキシ−３−メチル−１
−ブチニルである、請求項１または２記載の製造方法。 - 【請求項４】 不飽和炭化水素残基で置換されているニ
トロベンゼン類が、３−メチル−１−（３−ニトロフェ
ニル）−１−ブチン−３−オールである、請求項１〜３
のいずれかに記載の製造方法。 - 【請求項５】 疎水性有機溶媒がエステル系溶媒であ
る、請求項１〜４のいずれかに記載の製造方法。 - 【請求項６】 エステル系溶媒が酢酸エチルである、請
求項５記載の製造方法。 - 【請求項７】 亜鉛を還元剤とする、請求項１〜６のい
ずれかに記載の製造方法。 - 【請求項８】 不飽和炭化水素残基で置換されているニ
トロベンゼン類が、有機塩基、ビス（トリフェニルホス
フィン）パラジウム(II)クロリドおよびヨウ化第一銅の
存在下、式 【化４】 （式中、Ｘはハロゲン原子を表す）で表されるハロゲノ
ニトロベンゼンとＲ1Ｈ（式中、Ｒ1は前記と同義であ
る）で表される不飽和炭化水素との縮合反応により得ら
れ、かつ、当該ニトロベンゼン類の還元開始時における
液のｐＨが中性付近である、請求項１に記載の製造方
法。 - 【請求項９】 還元終了後、（ａ）反応液のｐＨを、還
元剤の酸化物が水に溶解し、かつ不飽和炭化水素残基で
置換されているアニリン類が水に実質的に溶解するｐＨ
に調整して分液し、（ｂ）得られた水層のｐＨを、不飽
和炭化水素残基で置換されているアニリン類が晶析する
ｐＨに調整することにより、該アニリン類を分離するこ
とを特徴とする、請求項１に記載の製造方法。 - 【請求項１０】 疎水性有機溶媒が酢酸エチルであり、
不飽和炭化水素残基が３−ヒドロキシ−３−メチル−１
−ブチニルであり、還元剤の酸化物が水に溶解し、かつ
不飽和炭化水素残基で置換されているアニリン類が水に
実質的に溶解するｐＨが０．５〜３であり、不飽和炭化
水素残基で置換されているアニリン類が晶析するｐＨが
４．０〜４．５であることを特徴とする、請求項９に記
載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20992999A JP4551514B2 (ja) | 1999-07-23 | 1999-07-23 | 不飽和炭化水素残基置換アニリン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20992999A JP4551514B2 (ja) | 1999-07-23 | 1999-07-23 | 不飽和炭化水素残基置換アニリン類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001039930A true JP2001039930A (ja) | 2001-02-13 |
| JP4551514B2 JP4551514B2 (ja) | 2010-09-29 |
Family
ID=16581004
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20992999A Expired - Fee Related JP4551514B2 (ja) | 1999-07-23 | 1999-07-23 | 不飽和炭化水素残基置換アニリン類の製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4551514B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005232129A (ja) * | 2004-02-23 | 2005-09-02 | Air Water Chemical Inc | 芳香族性アセチレン類の製造方法 |
| KR101018983B1 (ko) * | 2002-04-11 | 2011-03-07 | 아방티 파르마 소시에테 아노님 | 콤브레타스타틴의 제조방법 및 중간체 |
| CN106883130A (zh) * | 2017-03-23 | 2017-06-23 | 泰州百力化学股份有限公司 | 一种制备卤代联苯胺的方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3975444A (en) * | 1975-05-19 | 1976-08-17 | The Unites States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Ethynyl-substituted aromatic ortho diamines and method of synthesis |
| JPH04275372A (ja) * | 1990-12-01 | 1992-09-30 | Hoechst Ag | 水溶性アゾ化合物、その製造方法およびその染料としての使用方法 |
| JPH08198835A (ja) * | 1995-01-24 | 1996-08-06 | Toyobo Co Ltd | ４−クロロ−３，５−ジアミノベンゾニトリルの製造方法 |
| JPH1036325A (ja) * | 1996-07-18 | 1998-02-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | アミノフェニルアセチレン化合物の製造方法 |
-
1999
- 1999-07-23 JP JP20992999A patent/JP4551514B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPH1036325A (ja) * | 1996-07-18 | 1998-02-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | アミノフェニルアセチレン化合物の製造方法 |
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| JP2005232129A (ja) * | 2004-02-23 | 2005-09-02 | Air Water Chemical Inc | 芳香族性アセチレン類の製造方法 |
| CN106883130A (zh) * | 2017-03-23 | 2017-06-23 | 泰州百力化学股份有限公司 | 一种制备卤代联苯胺的方法 |
| CN106883130B (zh) * | 2017-03-23 | 2018-12-11 | 泰州百力化学股份有限公司 | 一种制备卤代联苯胺的方法 |
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