JPH0940596A - 2,3,6,7,10,11−ヘキサアルコキシトリフェニレン類の製造法 - Google Patents
2,3,6,7,10,11−ヘキサアルコキシトリフェニレン類の製造法Info
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Abstract
キサアルコキシトリフェニレン類を高収率、高純度で得
ることができ、しかも工業的にも実施し易く、簡便で実
用的な方法を提供することを課題とする。 【解決手段】 本発明の方法は、有機溶媒中で一般式 【化1】 〔式中R1及びR2は、同一又は異なって炭素数1〜10
の飽和炭化水素基を示す。或いはR1及びR2は、メチレ
ン鎖又はヘテロ原子を介して互いに結合して環を形成し
てもよい。〕で表される1,2−ジアルコキシベンゼン
とハロゲン化第二鉄とを反応させることにより一般式 【化2】 〔式中R1及びR2は上記に同じ。〕で表される2,3,
6,7,10,11−ヘキサアルコキシトリフェニレン
類を製造する方法である。
Description
10,11−ヘキサアルコキシトリフェニレン類の製造
法に関する。
素数1〜10の飽和炭化水素基を示す。或いはR1及び
R2は、メチレン鎖又はヘテロ原子を介して互いに結合
して環を形成してもよい。〕で表される2,3,6,
7,10,11−ヘキサアルコキシトリフェニレン類
は、ディスコチック液晶を始めとする機能性有機材料の
原料として有用な化合物である。
7,10,11−ヘキサアルコキシトリフェニレン類
は、例えば一般式
れる1,2−ジアルコキシベンゼンを酸化的に三量化し
て製造されている。しかしながら、従来の方法には種々
の欠点があり、工業的規模の製造法として不適当であ
る。
(1979)には、70%硫酸中、一般式(2)の1,
2−ジアルコキシベンゼンにクロラニルを作用させて一
般式(1)の2,3,6,7,10,11−ヘキサアル
コキシトリフェニレン類を製造する方法が開示されてい
る。しかしながら、この方法は反応速度が小さく、70
%程度の収率で目的物を得るためには10日以上の反応
時間が必要である。また、大量の硫酸を必要とするた
め、大規模で取り扱うには困難を伴うこと、排水の中和
に大量のアルカリが必要であること、その結果大量の硫
酸塩の副生を伴うこと等、工業的にも環境問題の上から
も問題の多い方法である。
94)には大過剰の70%硫酸中で一般式(2)の1,
2−ジアルコキシベンゼンに無水塩化第二鉄を作用させ
る方法が記載されている。この方法では目的物の種類に
よっては90%程度の収率で得られる場合があるが、通
常は40%前後の収率で得られるに止まり、しかも上記
の方法と同様に大量の硫酸を必要とするため取扱いが困
難であること、生成物の単離が煩雑であること、排水の
中和に大量のアルカリが必要であり、大量の廃棄物の副
生を避け得ないこと等、工業的に満足できるものではな
い。
(Tetrahedron Lett.,32,740
5(1991))、或いは三フッ化ホウ素・エーテル錯
体の存在下、タリウムトリフロロアセテートで酸化する
方法が示されている。しかしながらこれらの方法は特殊
な装置を必要とするため、任意の規模で製造するのに不
都合を生じること、極めて毒性の高い反応剤を必要とす
ること、更に必ずしも収率が高くないこと等、実用上満
足できるものではない。
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、一般式(1)の2,
3,6,7,10,11−ヘキサアルコキシトリフェニ
レン類を高収率、高純度で得ることができ、しかも工業
的にも実施し易く、簡便で実用的な方法を見い出し、こ
こに本発明を完成するに至った。
で表される1,2−ジアルコキシベンゼンとハロゲン化
第二鉄とを反応させることを特徴とする一般式(1)で
表される2,3,6,7,10,11−ヘキサアルコキ
シトリフェニレン類の製造法に係る。
媒中で、一般式(2)の1,2−ジアルコキシベンゼン
を単にハロゲン化第二鉄と作用させるだけの温和な条件
下で、且つ汎用的設備を使用するのみで高収率、高純度
で、後処理も容易に一般式(1)の2,3,6,7,1
0,11−ヘキサアルコキシトリフェニレン類が製造さ
れ得る。本発明の方法によれば、目的物が如何なる種類
であっても、80〜90%という安定した高収率で製造
し得る。
として用いられる一般式(2)の化合物は、具体的には
1,2−ジメトキシベンゼン、1,2−ジエトキシベン
ゼン、1,2−ジ−n−プロポキシベンゼン、1,2−
ジイソプロポキシベンゼン、1,2−ジ−n−ブトキシ
ベンゼン、1,2−ジイソブトキシベンゼン、1,2−
ジ−tert−ブトキシベンゼン、1,2−ジ−n−ア
ミロキシベンゼン、1,2−ジイソアミロキシベンゼ
ン、1,2−ジヘキシロキシベンゼン、1,2−ジヘプ
チロキシベンゼン、1,2−ジオクチロキシベンゼン、
1,2−ジノニロキシベンゼン、1,2−ジデシロキシ
ベンゼン、1,4−ベンゾジオキサン、1,3−ベンゾ
ジオキソール等である。本発明では、これらを2種類以
上混合して使用してもよい。また、これらの化合物は公
知のピロカテコールを塩基性条件下で相当するハロゲン
化アルキル又はジアルキル硫酸と反応させることにより
容易に製造することができる(Monatsh.82,
588(1951))。
ては、従来公知のものを広く使用でき、例えば塩化第二
鉄、臭化第二鉄、沃化第二鉄、フッ化第二鉄の無水物又
は水和物等を挙げることができる。本発明では、これら
は1種単独で又は2種以上混合して使用される。その使
用量は、特に限定されるものではないが、通常基質1モ
ル当たり0.1〜10モル、好ましくは1〜4モルであ
る。
に悪影響を及ぼさないものであれば特に制限されず従来
公知のものを広く使用でき、例えばメタノール、エタノ
ール、プロパノール等のアルコール類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶
媒、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水
素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、アセトニ
トリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスル
ホキシド等の非プロトン性極性溶媒等やこれらの混合溶
媒が挙げられる。これらの中でも、殊にハロゲン化炭化
水素及び芳香族炭化水素が好ましい。
ットル、好ましくは1×10-2〜3モル/リットルであ
る。
1,2−ジアルコキシベンゼン及びハロゲン化第二鉄の
反応性や用いる有機溶媒の種類により異なるが、通常−
30℃〜使用する溶媒の沸点において5〜120時間の
範囲で選択するのが好ましい。
3,6,7,10,11−ヘキサアルコキシトリフェニ
レン類は、慣用されている単離手段により反応混合物か
ら容易に単離精製できる。例えば反応終了後、溶媒を濃
縮して留去した後反応混合物を水に注いで一般式(1)
の目的物を析出させ、これを単に濾過等で分離すること
により単離することができる。更に精製が必要な場合は
再結晶又は昇華等の通常の手段を採用してもよい。
にする。
及び無水塩化第二鉄944g(5.76モル)をジクロ
ロメタン4リットルに溶解し、室温で20時間撹拌し
た。反応終了後、反応混合物を濃縮し、残渣を3リット
ルの水に投入して不溶物を濾取した。これをアセトニト
リル1リットル中に加えてスラリーの状態で室温で5時
間撹拌した。次にこれを吸引濾過し、濾別した結晶を4
0℃で12時間減圧乾燥すると、2,3,6,7,1
0,11−ヘキサメトキシトリフェニレンが淡紫色粉状
物として361g(純度98.5%、収率91.7%、
融点313〜314℃)得られた。
8,1263,833,779cm-1 1 H−NMR(CDCl3 ):δ=7.76(s,6
H,Ar−H)、4.06(s,18H,CH3 )。
ル)を用いて実施例1と同様の操作を行うと、2,3,
6,7,10,11−ヘキサデシロキシトリフェニレン
が淡紫色粉状物として920g(純度98.0%、収率
82.0%)得られた。
8,1263,837,798cm-1 1H−NMR(C
DCl3 ):δ=8.21(s,6H,Ar−H)、
4.15(m,12H,OCH2 )、1.88,1.5
7,1.31(m,96H,CH2 )。
は実施例1と同様に反応及び後処理を行った。目的物の
収率、純度を表1に示す。
を用いる以外は実施例1と同様に反応及び後処理を行っ
た。目的物の収率、純度を表2に示す。
用いて実施例1と同様の操作を行うと、2,3,8,
9,14,15−ヘキサヒドロトリフェニレノ[2,3
−b:6,7−b’:10,11’−b’’]トリス
[1,4]-ジオキシンが淡紫色粉状物として260g
(純度91.0%、収率61.0%)得られた。
8,1256cm-1 1 H−NMR(CDCl3 ):δ=7.73(s,6
H,Ar−H)、4.31(s,12H,CH2 )。
Claims (2)
- 【請求項1】 有機溶媒中で一般式 【化1】 〔式中R1及びR2は、同一又は異なって炭素数1〜10
の飽和炭化水素基を示す。或いはR1及びR2は、メチレ
ン鎖又はヘテロ原子を介して互いに結合して環を形成し
てもよい。〕で表される1,2−ジアルコキシベンゼン
とハロゲン化第二鉄とを反応させることを特徴とする一
般式 【化2】 〔式中R1及びR2は上記に同じ。〕で表される2,3,
6,7,10,11−ヘキサアルコキシトリフェニレン
類の製造法。 - 【請求項2】 有機溶媒がハロゲン化炭化水素及び芳香
族炭化水素なる群より選ばれた少なくとも1種である請
求項1記載の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19747695A JP3903291B2 (ja) | 1995-08-02 | 1995-08-02 | 2,3,6,7,10,11−ヘキサアルコキシトリフェニレン類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19747695A JP3903291B2 (ja) | 1995-08-02 | 1995-08-02 | 2,3,6,7,10,11−ヘキサアルコキシトリフェニレン類の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0940596A true JPH0940596A (ja) | 1997-02-10 |
JP3903291B2 JP3903291B2 (ja) | 2007-04-11 |
Family
ID=16375124
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19747695A Expired - Lifetime JP3903291B2 (ja) | 1995-08-02 | 1995-08-02 | 2,3,6,7,10,11−ヘキサアルコキシトリフェニレン類の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3903291B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011201831A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Ube Industries Ltd | 〔2,3,6,7,10,11−ヘキサ(置換)オキシ〕−トリフェニレン化合物の製造方法 |
JP2014031352A (ja) * | 2012-08-06 | 2014-02-20 | Wako Pure Chem Ind Ltd | 2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレン類の製造方法 |
-
1995
- 1995-08-02 JP JP19747695A patent/JP3903291B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011201831A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Ube Industries Ltd | 〔2,3,6,7,10,11−ヘキサ(置換)オキシ〕−トリフェニレン化合物の製造方法 |
JP2014031352A (ja) * | 2012-08-06 | 2014-02-20 | Wako Pure Chem Ind Ltd | 2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレン類の製造方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3903291B2 (ja) | 2007-04-11 |
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