JPH10328614A

JPH10328614A - 着色レジストの塗布方法

Info

Publication number: JPH10328614A
Application number: JP14127497A
Authority: JP
Inventors: Yoshiyuki Gomi; 良幸五味
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1997-05-30
Filing date: 1997-05-30
Publication date: 1998-12-15

Abstract

(57)【要約】【課題】レジスト膜厚の変動が少ない、着色レジスト
の塗布方法。【解決手段】透明基板上のレジスト膜の透過光強度に
基づいて膜厚値を演算する膜厚測定装置からの測定値を
もとに、塗布装置の回転数を制御する事を特徴とする、
着色レジストの塗布方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、着色レジストの塗
布方法に関し、詳しくは、透明基板上に着色レジストを
塗布する際にレジスト膜厚の変動のない塗布方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】カラーテレビ、液晶表示素子、カメラ等
に好適に使用される光学的カラーフィルターは、黒色レ
ジストパターン（ブラックマトリックス）を設けた透明
基板の表面に、赤、緑、青の３種の異なる色相により、
１０〜１５０μｍ幅のストライプ状やモザイク状などの
色パターンを数μｍの精度で形成して製造される。上記
の黒色レジストパターンは、黒色材料が分散された光重
合性組成物を透明基板上に塗布した後、加熱乾燥、画像
露光、現像および熱硬化の各処理を行う方法によって形
成することが出来、また、上記のカラーフィルターは、
赤、緑、青の材料が各々分散された各光重合性組成物を
使用し、黒色レジストパターンの形成面に、塗布、加熱
乾燥、画像露光、現像および熱硬化の各処理を行って各
色の画素画像を形成することによって製造することが出
来る（特開平２−９０２号公報）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記の黒色レジストパ
ターンの形成、またはカラーフィルターの形成において
は、一般にスピンコーター、ロールコーター等の塗布装
置を用いて透明基板上に着色レジスト膜を形成する。し
かし、着色レジストの温度、粘度、透明基板を保持する
チャックテーブルの温度、透明基板の温度、雰囲気の温
度等、塗布時の膜厚に影響する因子は周囲の環境に影響
され易く、従来、各基板間、ロット間で一定の膜厚を安
定的に得ることは難しかった。

【０００４】半導体分野においては、ウェハ上のホトレ
ジストの膜厚変動を無くす目的で種々の検討がなされて
おり、ウェハの反射率（または反射光強度）を測定する
ことで塗布機の回転数を制御するということが知られて
いる（特開昭６３−１４８６３３号公報、特開昭６３−
１９８３２９号公報、特開平３−２００１４号公報、特
開昭６３−２３２４２９号公報、特開昭６３−１３１５
１７号公報）。しかしながら、カラーフィルター分野に
おいては基板自体が透明であるため基板からの反射光は
弱く着色レジスト膜上の反射光強度と同程度かそれ以下
となってしまい、また、特に黒色レジストにおいてはレ
ジスト膜とガラス境界面での反射光強度は極めて弱くな
るためレジスト膜上の反射光しか得られず、この方法に
より膜厚を精度良く測定することは極めて難しいものと
なっている。

【０００５】また、レジストの粘度を測定し、測定結果
から塗布装置の回転数を制御するという報告もされてい
る（特開昭６３−２０９７６８号公報）が、上記で述べ
たようにレジスト膜厚に影響している因子はレジスト粘
度以外にも種々あり、これだけで膜厚の安定性を得るこ
とは難しい。また、最近ではカラーフィルター用途のレ
ジストの塗布法として、塗布後のレジスト膜上の反射光
と、レジストとガラス基板境界面の反射光で生じる干渉
波より膜厚を測定する膜厚測定装置から得られた膜厚値
をもとに塗布装置の回転数を制御すると良いことが報告
されている（特開平８−３３８７０９号公報）。しかし
ながら、この方法においては光の干渉波を利用するため
基板搬送時の揺れ等による光路長の振れの影響を大きく
受け易く、再現性良く膜厚値を算出するのが難しいとい
う問題があった。又、特に、黒色レジストにおいては前
述したようにレジスト膜と基板境界面の反射光強度が極
めて弱いため、干渉波が得られずこの方法では膜厚の測
定が出来ないという問題も残っていた。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者は、レジスト膜
の膜厚と透過光強度に正の相関があることから、透過光
強度の測定結果より膜厚を演算し、その結果と所望の膜
厚値からのズレより塗布装置の回転数を制御することが
可能であると考え、種々検討を重ねた結果、次の様な知
見を得た。すなわち本発明は、透明基板上に着色レジス
トを滴下し、その基板を回転させることにより基板上に
着色レジスト膜を形成する塗布装置を用いて着色レジス
ト膜を形成する塗布方法において、基板上のレジスト膜
の透過光強度に基づき膜厚値を演算する膜厚測定装置の
測定値をもとに塗布装置の回転数を制御することを特徴
とする着色レジストの塗布方法である。本発明の方法に
より、基板間、ロット間の膜厚変動が無く、安定的に一
定な膜厚の着色レジスト膜を形成し得る。特に、反射法
では膜厚の制御が難しいブラックマトリックス形成用の
黒色レジストにおいても、この方法を用いることで上記
目的が達成出来る。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において、透明基板としては、プラスチックシー
ト、ガラス板などが使用され、プラスチックシートの材
料としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリエス
テル、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィ
ン等が挙げられる。透明基板には、接着性などの表面物
性の改良のため、必要に応じ、コロナ放電処理、オゾン
処理、シランカップリング剤やウレタンポリマー等の各
種ポリマーの薄膜形成処理などを行うことが出来る。透
明基板の厚さは、通常０．０５〜１０ｍｍ、好ましくは
０．１〜７ｍｍの範囲とされる。また、各種ポリマーの
薄膜形成処理を行う場合、その膜厚は、通常０．０１〜
１０μｍ、好ましくは０．０５〜５μｍの範囲とされ
る。

【０００８】本発明において、着色レジストは、色材
料、光を吸収してラジカルを発生する光重合開始系、該
ラジカルにより重合が誘起される付加重合性のエチレン
性不飽和二重結合を少なくとも１個有する化合物（以下
「エチレン性化合物」と称す）を含有し、また、相溶
性、皮膜形成性、現像性、接着性などの光重合性層の改
善のため、結合剤としての有機高分子物質を含有する。
また任意に添加剤、界面活性剤等を含有してもよい。

【０００９】本発明において、黒色材料としては、通
常、カーボンブラック、他の色材料としても通常、赤
色、緑色、青色の染顔料が使用されるが、この他、必要
に応じ、金属粉、白色顔料、蛍光顔料なども使用するこ
とが出来る。カーボンブラック及び染顔料の具体例とし
ては、三菱カーボンブラックＭ１０００、三菱カーボン
ブラックＭＡ−１００、三菱カーボンブラック＃４０、
ビクトリアピュアブル−（４２５９５）、オーラミンＯ
（４１０００）、カチロンブリリアントフラビン（ベー
シック１３）、ローダミン６ＧＣＰ（４５１６０）、ロ
ーダミンＢ（４５１７０）、サクラニンＯＫ７０：１
００（５０２４０）、エリオグラウシンＸ（４２０８
０）、ＮＯ．１２０／リオノールイエロー（２１０９
０）、リオノールイエローＧＲＯ（２１０９０）、シム
ラファーストイエローＧＲＯ（２１０９０）、シムラフ
ァーストイエロー８ＧＦ（２１１０５）、ベンジジンイ
エロー４Ｊ−５６４Ｄ（２１０９５）、シムラファース
トレッド４０１５（１２３５５）、リオノールレッド７
Ｂ４４０１（１５８５０）、ファーストゲンブルーＪＧ
Ｒ−Ｌ（７４１６０）、リオノールブルーＳＭ（２６１
５０）、リオノールブルーＥＳ（ピグメントブルー１
５：６、ピグメントブルー１５３６）、リオノーゲンレ
ッドＧＤ（ピグメントレッド１６８、ピグメントレッド
１０８）、リオノールグリーン２ＹＳ（ピグメントグリ
ーン３６）等が挙げられる（上記の（）内の数字はカ
ラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）を意味する）。

【００１０】着色レジスト中に分散される色材料の量
は、全固形分に対し、通常１０〜７０重量％、好ましく
は２０〜６０重量％の範囲であり、特に、カーボンブラ
ックの場合は、４０〜６０重量％の範囲が好ましい。本
発明における光重合性組成物は、斯かる高い色材料含有
率の状態において、透明基板との接着性が高く、高画質
な色材画素画像を与える機能が要求される。

【００１１】光重合開始系に関しては黒の着色レジスト
層は、パターンマスクを介して画像露光されるため、黒
の光重合性組成物に使用される光重合開始系には、紫外
から可視に感度を有する化合物を適宜に選択し、画像露
光に際しては、それに相当する露光光源を使用する。ま
た、赤、緑、青の各光重合性層においても、各色のパタ
ーンマスクを介した露光やその他の方法により、前記ブ
ラックマトリクスパターン間に、赤、緑、青の画素画像
パターンを形成させるため、ブラックマトリクスパター
ンの場合と同様、光重合開始系としては、紫外から可視
に感度を有する化合物、好ましくは４５０ｎｍ以下、よ
り好ましくは４００ｎｍ以下の波長に分光感度を有する
化合物を使用する。

【００１２】上記の波長の紫外光を吸収してラジカルを
発生する光重合開始系としては、例えば「ファインケミ
カル」（１９９１年、３月１日号、ｖｏｌ．２０、Ｎ
ｏ．４）の第１６〜２６頁に記載のジアルキルアセトフ
ェノン系、ベンゾイン、チオキサントン誘導体などの
他、特開昭５８−４０３０２３号公報、特公昭４５−３
７３７７号公報に記載のヘキサアリールビイミダゾール
系、Ｓ−トリハロメチルトリアジン系、特開平４−２２
１９５８号公報、特開平４−２１９７５６号公報に記載
のチタノセンとキサンテン色素、アミノ基またはウレタ
ン基を有する付加重合可能なエチレン性飽和二重結合含
有化合物を組合せた系などが挙げられる。

【００１３】エチレン性化合物としては、単量体または
側鎖もしくは主鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する
重合体の何れも使用できる。具体的には、脂肪族ポリヒ
ドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル（例え
ば、エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート等のエチレン性化合物）又はアクリル
酸エステル若しくはメタクリル酸エステルの単量体など
が好適に使用される。また、必要に応じてこれらのエチ
レン性化合物を２種以上組み合わせて用いることもでき
る。

【００１４】結合剤として使用される有機高分子物質と
しては、メチル（メタ）アクリル酸、ベンジル（メタ）
アクリル酸などの（メタ）アクリル酸エステル、酢酸ビ
ニル、アクリロニトリル等から成る重合体が挙げられる
が、塗膜の強度、耐久性、基板接着性の観点から、スチ
レン、α−メチルスチレン、ベンジル（メタ）アクリレ
ート等のフェニル基を有するモノマーとの共重合体、ま
たは該共重合体に１〜５０モル％のエポキシ（メタ）ア
クリレートが付加された反応物が好適に使用される。

【００１５】本発明に使用する着色レジストにおける、
色材料以外の各成分の配合量は、色材料以外の固形分全
量に対し、光重合性開始系は、０．１〜４０重量％、好
ましくは０．２〜３０重量％、エチレン性化合物は、２
０〜９０重量％、好ましくは３０〜８０重量％、有機高
分子物質は、１０〜８０重量％、好ましくは２０〜６０
重量％である。また、本発明においては、着色レジスト
中に上記と同様の基準で０．１〜１０重量％のシランカ
ップリング剤を配合してもよい。

【００１６】本発明に使用する着色レジストは、適当な
溶剤によって調液された塗布液として使用される。溶剤
としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ト
ルエン、メタノール、ブタノール、テトラハイドロフラ
ン等が挙げられる。

【００１７】本発明の着色レジスト塗布方法を用いてカ
ラーフィルターを作製する場合、着色材料が分散された
着色レジスト（塗布液）を透明基板上に塗布した後、加
熱乾燥、画像露光、現像および熱硬化の各処理を行う。
レジスト塗布装置としては、スピナーが使用される。加
熱乾燥処理に先立ち予備乾燥を行って塗布膜中の溶剤の
大部分を除去しておくと、より好ましい。予備乾燥の条
件は、溶剤の種類によって適宜選択されるが、通常４０
〜８０℃で１５秒から５分間、好ましくは５０〜７０℃
の温度で３０秒から３分間とされる。

【００１８】加熱乾燥の条件は、予備乾燥温度より高く
且つ５０〜１６０℃の温度で１５秒から１０分間とする
のが好ましく、７０〜１３０℃の温度で１５秒から５分
間とするのが特に好ましい。なお、乾燥後の着色レジス
ト層（乾燥塗膜）の厚さは、０．５〜３μｍ、好ましく
は１〜２μｍの範囲とされる。画像露光は、黒色の光重
合性層上にネガのマトリクスパターンを導き、当該マス
クパターンを介し、紫外または可視の光源を照射して行
う。この際、必要に応じ、酸素による光重合性層の感度
の低下を防ぐため、着色レジスト層上にポリビニルアル
コール層などの酸素遮断層を形成した後に露光を行って
もよい。

【００１９】酸素遮断層を設けない場合は、結合剤とし
て、前記のフェニル基を有するモノマーを共重合成分と
して５〜５０モル％（好ましくは１０〜３０モル％）の
割合で含有する有機高分子物質を使用したり、着色レジ
スト中に、特開平４−２１８０４８号公報、特開平５−
１９４５３号公報などに記載のジアゾ化合物を１〜２０
重量％（好ましくは２〜１０重量％）含有させるのが好
ましい。これにより、酸素による感度低下を抑えること
が出来、酸素遮断層を不要とすることが出来る。

【００２０】現像は、アルカリ現像液を使用し、浸漬現
像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像などの方法
により行われる。これにより、透明基板上に着色レジス
トパターンが形成される。アルカリ現像液としては、例
えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸ナトリウ
ム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等の無機アルカリ剤、または、ジエタノールアミン、ト
リエタノールアミン、水酸化テトラアルキルアンモニウ
ム塩などの有機アルカリ剤を含有し、必要に応じて、画
質向上、現像時間の短縮などの目的により、界面活性
剤、水溶性有機溶剤、水酸基またはカルボン酸基を有す
る低分子化合物などを含有する水溶液を使用することが
出来る。界面活性剤としては、ナフタレンスルホン酸ナ
トリウム基またはベンゼンスルホン酸ナトリウム基を有
するアニオン界面活性剤、ポリアルキレンオキシ基を有
するノニオン界面活性剤、テトラアルキルアンモニウム
基を有するカチオン界面活性剤などが挙げられる。水溶
性有機溶剤としては、エタノール、プロピオンアルコー
ル、ブタノール、メチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブ、エチレングリコール、プロピレングリコール、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
水酸基またはカルボキシ基を有する低分子化合物として
は、１−ナフトール、２−ナフトール、ピロガロール、
安息香酸、コハク酸、グルタル酸などが挙げられる。

【００２１】現像の温度は、通常２０〜４０℃の範囲か
ら選択される。熱硬化処理の条件は、通常１００〜２８
０℃で５〜６０分間とされる。本発明に関わる膜厚測定
は、基本的に上記の工程中、塗布後であればどの工程間
であっても良いが、好ましくは塗布・加熱乾燥処理実施
後又は熱硬化処理実施後に膜厚測定を実施するのが良
い。塗布直後は、レジスト中の溶媒成分が除去されてお
らず、周辺環境による膜厚の変動が生じやすい。又、レ
ジストの組成によっては現像時に画像露光部の溶解が起
こり膜厚が減少する場合があり、その場合は硬化処理後
に膜厚を測定することで正確な膜厚を得ることが出来
る。

【００２２】特に本発明は複数の透明基板上に着色レジ
ストを連続して塗布する場合に適しており、先に塗布し
たレジストの膜厚測定結果を基に、続く塗布条件（回転
数等）が制御される。この膜厚測定装置は、通常、光照
射のための例えばハロゲンランプのような光源と、その
照射した光の透過光を検知するための光検知部、検知し
た光の強度から膜厚を演算する演算処理部、得られた膜
厚値と所望の膜厚値との差より塗布装置のモーター回転
数を制御する制御部を有する。本発明に使用する一般的
な装置図を図１に示した。図中、１は透明基板、２は塗
布装置、３は塗布装置モーター、４は加熱乾燥炉、５は
ランプ、６は透過光検知部、７は透過光強度測定装置、
８は塗布装置回転数制御部である。

【００２３】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は、その要旨を超えない限り以下の実施
例に限定されるものではない。顔料の分散１．黒色インキカーボンブラックＭＡ２２０（三菱化学社製）を９．７
ｋｇ、高分子分散剤ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８２（ＢＹ
ＫＣｈｅｍｉｅ社製）を４．３３２ｋｇ、溶剤として
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
（ＰＧＭＥＡ）９．９８ｋｇを加え、テツタニ社製ディ
スパーマットＦ１０５によりプレミキシングを行った。
これをアシザワ社製ＬＭＺ−４にて１８．５時間分散処
理を行った。ビーズは０．５ｍｍφジルコニア製を１
２．２５ｋｇ使用した。

【００２４】２．赤色インキアントラキノン系の赤顔料、Ｃ．Ｉ．Ｒｅｄ１７７（チ
バガイギー社製）を６．６５ｋｇ、高分子分散剤Ｄｉｓ
ｐｅｒｂｙｋ−１６１（ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を
１１．１ｋｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）７．２２ｋｇを
加え、テツタニ社製ディスパーマットＦ１０５によりプ
レミキシングを行った。これをアシザワ社製ＬＭＺ−４
にて６時間分散処理を行った。ビーズは０．５ｍｍφジ
ルコニアを１２．２５ｋｇ使用した。

【００２５】３．黄色インキイソインドリン系顔料、Ｃ．Ｉ．Ｙｅｌｌｏｗ１３９
（ＢＡＳＦ社製）を５．８５ｋｇ、高分子分散剤Ｄｉｓ
ｐｅｒｂｙｋ−１６１（ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を
７．７５ｋｇ、分散助剤Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ２２０００
（ＺＥＮＥＣＡ社製）を０．５８ｋｇ、溶剤としてプロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧ
ＭＥＡ）１０．８３ｋｇを加え、テツタニ社製ディスパ
ーマットＦ１０５によりプレミキシングを行った。これ
をアシザワ社製ＬＭＺ−４にて６時間分散処理を行っ
た。ビーズは０．５ｍｍφジルコニアを１２．２５ｋｇ
使用した。

【００２６】レジスト液の調合１．黒色レジストの調合下記の割合で黒色レジスト液を調合した。ａ）上記で作成した黒色インキ１３７８．６ｇｂ）化１で示されるアクリル樹脂（結合剤である有機高分子物質）２１７．９ｇｃ）アクリルモノマー：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０９．１ｇビス（メタアクリロキシ）フォスフェート９．９ｇｄ）光重合開始系（３種併用）２−（２−クロロフェニル）−４，５− ジフェニルイミダゾール二量体１８．７ｇビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン１１．１ｇペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート１３．３ｇｅ）界面活性剤フッ素化アルキルエステル付加重合物FC430(住友３Ｍ社製）０．１ｇｆ）溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２２４１．３ｇ上記液を均一に撹拌混合し、３μｍのフィルターで１時
間循環濾過し、続いて１．２μｍのフィルターで濾過を
実施した。

【００２７】

【化１】

【００２８】２．赤色レジストの調合下記の割合で赤色レジスト液を調合した。ａ）上記で作成した赤色インキ１３３１．２ｇｂ）上記で作成した黄色インキ６０３．５ｇｃ）化１で示されるアクリル樹脂（結合剤である有機高分子物質）１５８．１ｇｄ）アクリルモノマー：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１６２．１ｇビス（メタアクリロキシ）フォスフェート６．５ｇｅ）光重合開始系（３種併用）２−（２−クロロフェニル）−４，５− ジフェニルイミダゾール二量体１５．６ｇビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン７．８ｇ２−メルカプトベンゾチアゾール１５．６ｇｆ）界面活性剤フッ素化アルキルエステル付加重合物(FC430（住友３Ｍ社製))０．１ｇｇ）添加剤無水マレイン酸６．５ｇｈ）溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１６９３．２ｇ上記液を均一に撹拌混合し、３μｍのフィルターで１時
間循環濾過し、続いて１．２μｍのフィルターで濾過を
実施した。

【００２９】［実施例−１］上記、赤色レジストを、図
１に示した膜厚測定装置の付いた塗布装置にて初期の基
板上のレジスト膜厚が１．００μｍになるように塗布装
置の回転数を設定して、３時間毎に塗布・加熱乾燥を実
施した。３時間経過後に塗布を開始する際には膜厚測定
結果を基に塗布装置の回転数調節を行なった。評価結果
を表１に示した。

【００３０】＜塗布膜厚の制御方法＞塗布時のレジスト
膜厚（ｔ）と塗布時のスピンコーター回転数（Ｒ）の間
に、下記のような関係が成り立つ。（図２参照）ｔ＝Ａ×Ｒ^B （１）ここで、Ａ，Ｂは実験的に求められる定数である。従っ
て、ＴとＲの２点の座標が与えられれば、塗布時のＡと
Ｂが同時に求められる。

【００３１】又、レジスト膜厚が薄い領域においては、
レジスト膜の透過光強度（Ｔ）とレジスト膜厚（ｔ）の
間には、下記のような関係で近似される。Ｔ＝Ｃ×ｔ＝Ｅ×Ｒ^B （２）ここで、Ｃはレジストの色濃度により決まる定数であ
り、Ｔとｔの２点の座標が与えられれば、求められる
（Ｅ＝Ｃ×Ａ）。（図３参照）

【００３２】以上の関係より、予め、塗布するレジスト
の定数Ａ，Ｂ，Ｃを設定しておくことで、下記のように
スピンコーター回転数を修正することが出来る。レジス
ト塗布後の基板の透過光強度（Ｔ_o）を測定し、その透
過光強度（Ｔ_o）より演算処理部で膜厚（ｔ₁）を演算
する。演算された膜厚値は、続いて演算処理部にてスピ
ンコーター回転数（Ｒ₁）に置き換えられ、信号として
塗布装置の制御部に送られる。

【００３３】これらの演算時に、予め許容される差分
（既に設定されている回転数と演算処理部より送られて
きた膜厚の差）の限界値を与えておき、これを超えた時
のみスピンコーターの回転数を修正する。上記式の定数
部（Ａ，Ｂ，Ｃ）は最初の１枚目の塗布時には予め与え
ておくが、膜厚精度を上げるため、塗布後基板の透過光
強度から演算され得られた回転数と、既に設定されてい
る回転数と透過光強度（設定されている回転数より演算
にて求められる）の関係から、Ｂ，Ｅ（＝Ａ×Ｃ）を演
算で求め、新定数として置き換えるフィードバック処理
を行う。これにより、膜厚精度を格段に上げることが出
来る。

【００３４】［実施例−２］上記、黒色レジストを、図
１に示した膜厚測定装置の付いた塗布装置にて初期の基
板上のレジスト膜厚が１．００μｍになるように塗布装
置の回転数を設定して、実施例−１と同様に回転数を調
節しながら３時間毎に塗布・加熱乾燥を実施した。評価
結果を表１に示した。

【００３５】［比較例−１］上記、赤色レジストを、膜
厚測定装置の付いていない塗布装置にて初期の基板上の
レジスト膜厚が１．００μｍになるように塗布装置の回
転数を設定して、３時間毎に塗布・加熱乾燥を実施し
た。評価結果を表１に示した。

【００３６】［比較例−２］上記、黒色レジストを、膜
厚測定装置の付いていない塗布装置にて初期の基板上の
レジスト膜厚が１．００μｍになるように塗布装置の回
転数を設定して、３時間毎に塗布・加熱乾燥を実施し
た。評価結果を表１に示した。

【００３７】［評価方法］評価は、塗布後の基板をＴＥ
ＮＣＯＲ社製Ａｌｐｈａ−ＳＴＥＰ５００にて各塗布基
板の中心部の膜厚測定を行ない、下記基準にて判定し
た。 ○ ：各基板間の膜厚差の最大値が０．０３μｍ以内
であった。 △ ：各基板間の膜厚差の最大値が０．０５μｍ以内
であった。 × ：各基板間の膜厚差の最大値が０．０５μｍ以上
であった。

【００３８】

【表１】

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように本発明は、透明基板
上におけるレジストの塗布において、基板間、ロット間
の膜厚値を一定にすることが出来、又、従来の方法では
膜厚制御が難しかったブラックマトリクス用途の黒色レ
ジストの塗布においても適用可能な、汎用性のある塗布
方法である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に使用する膜厚測定装置のついた塗布装
置。

【図２】着色レジスト塗布時におけるレジスト膜厚
（ｔ）とスピンコーター回転数（Ｒ）の関係。

【図３】レジスト膜の透過光強度（Ｔ）とレジスト膜厚
（ｔ）との関係。

【符号の説明】

１透明基板２塗布装置３塗布装置モーター４加熱乾燥炉５ランプ６透過光検知部７透過光強度測定装置８塗布装置回転数制御部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＧ０２Ｂ 5/20 １０１Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０５Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０５ 7/16 ５０２ 7/16 ５０２Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｄ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基板上に着色レジストを滴下し、該
基板を回転させることにより基板上に着色レジスト膜を
形成する塗布装置を用いて着色レジスト膜を形成する塗
布方法において、基板上のレジスト膜の透過光強度に基
づき膜厚値を演算する膜厚測定装置からの測定値をもと
に、塗布装置の回転数を制御することを特徴とする着色
レジストの塗布方法。
【請求項２】着色レジストが、ブラックマトリックス
用に用いられる黒色レジストであることを特徴とする請
求項１記載の着色レジストの塗布方法。