JPH09178931A - カラーフィルター用ブラックレジスト組成物 - Google Patents
カラーフィルター用ブラックレジスト組成物Info
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- JPH09178931A JPH09178931A JP34061395A JP34061395A JPH09178931A JP H09178931 A JPH09178931 A JP H09178931A JP 34061395 A JP34061395 A JP 34061395A JP 34061395 A JP34061395 A JP 34061395A JP H09178931 A JPH09178931 A JP H09178931A
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- Graft Or Block Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ブラックマトリックス中の黒色顔料により現
像性が阻害されるのを防止し、現像性、解像力の高いブ
ラックマトリックス組成物によりブラックマトリックス
を高能率で形成し、ひいては高品位、低コストで液晶デ
ィスプレー用カラーフィルターを製造する。 【解決手段】 （ａ）カルボキシル基を含有するアクリ
ル樹脂、（ｂ）アクリルモノマー、（ｃ）光重合開始
剤、（ｄ）顔料、（ｅ）溶剤を含むカラーフィルター用
ブラックレジスト組成物において、（ｄ）顔料の数平均
粒径φn が０．００５〜０．５μ、重量平均粒径φw が
０．００５〜０．７μ、粒径分布φw ／φnが１〜１．
６であることを特徴とするカラーフィルター用ブラック
レジスト組成物。
像性が阻害されるのを防止し、現像性、解像力の高いブ
ラックマトリックス組成物によりブラックマトリックス
を高能率で形成し、ひいては高品位、低コストで液晶デ
ィスプレー用カラーフィルターを製造する。 【解決手段】 （ａ）カルボキシル基を含有するアクリ
ル樹脂、（ｂ）アクリルモノマー、（ｃ）光重合開始
剤、（ｄ）顔料、（ｅ）溶剤を含むカラーフィルター用
ブラックレジスト組成物において、（ｄ）顔料の数平均
粒径φn が０．００５〜０．５μ、重量平均粒径φw が
０．００５〜０．７μ、粒径分布φw ／φnが１〜１．
６であることを特徴とするカラーフィルター用ブラック
レジスト組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶の表示装置ま
たは固体撮像素子と組み合わせて用いるカラーフィルタ
ーの製造に好適なブラックレジスト組成物である。ブラ
ックマトリックスとなる黒色パターン形成に好適に使用
できる。
たは固体撮像素子と組み合わせて用いるカラーフィルタ
ーの製造に好適なブラックレジスト組成物である。ブラ
ックマトリックスとなる黒色パターン形成に好適に使用
できる。
【０００２】
【従来の技術】カラーフィルターは染色法、印刷法、電
着法、顔料分散法などによりガラス基板上に赤、緑、
青、などの微細な画素を形成したものである。これら公
知の方法については以下のような特徴、問題点を有す
る。染色法によるカラーフィルターはゼラチンやポリビ
ニルアルコールなどに感光剤として重クロム酸塩を混合
した感光性樹脂により画像を形成した後、染色して製造
される。多色を同一基板に形成するためには、防染工程
が必須であり、工程が複雑になる問題点がある。また、
染料を使用しているため耐光性に劣る。感光剤として用
いる重クロム酸は公害防止の観点からも問題である。
着法、顔料分散法などによりガラス基板上に赤、緑、
青、などの微細な画素を形成したものである。これら公
知の方法については以下のような特徴、問題点を有す
る。染色法によるカラーフィルターはゼラチンやポリビ
ニルアルコールなどに感光剤として重クロム酸塩を混合
した感光性樹脂により画像を形成した後、染色して製造
される。多色を同一基板に形成するためには、防染工程
が必須であり、工程が複雑になる問題点がある。また、
染料を使用しているため耐光性に劣る。感光剤として用
いる重クロム酸は公害防止の観点からも問題である。
【０００３】印刷法によるカラーフィルターはスクリー
ン印刷またはフレキソ印刷などの方法で、熱硬化または
光硬化インキをガラス基板に転写させる。画像形成、染
色が不要であるため工程が簡略である反面、高精細な画
像が得られず、インキの平滑性にも問題がある。電着法
によるカラーフィルターは、顔料または染料を含んだ浴
に電極をもうけたガラス基板を浸し電気泳動により色相
を付着させるものである。平滑性に優れるが、あらかじ
め、ガラス基板に電極が必要なため、複雑なパターンを
形成させるのが困難である。
ン印刷またはフレキソ印刷などの方法で、熱硬化または
光硬化インキをガラス基板に転写させる。画像形成、染
色が不要であるため工程が簡略である反面、高精細な画
像が得られず、インキの平滑性にも問題がある。電着法
によるカラーフィルターは、顔料または染料を含んだ浴
に電極をもうけたガラス基板を浸し電気泳動により色相
を付着させるものである。平滑性に優れるが、あらかじ
め、ガラス基板に電極が必要なため、複雑なパターンを
形成させるのが困難である。
【０００４】顔料分散法は光硬化性樹脂に顔料を分散さ
せた着色レジストにより画像を形成する。高耐熱性、染
色がいらないなどの利点があり、また、高精度な画像形
成が可能である。品質、製造コストの点から上記他の製
造法に比較し顔料分散法は優れているので、現在カラー
フィルター製造の主流となっている。さらに、赤、青、
緑の着色画像の間には通常コントラストを向上させる目
的のためブラックマトリックスと呼ばれる格子状の黒色
パターンを配置するのが一般的である。ブラックマトリ
ックスはガラス基板全体にクロムを蒸着し、エッチング
処理によりパターン形成するのが一般的であるが、クロ
ムを使用するため、高コスト、高反射率であり、廃液処
理にも問題を有している。このため、微細加工のできる
顔料分散法でブラックマトリックスを製造する検討が鋭
意なされている。
せた着色レジストにより画像を形成する。高耐熱性、染
色がいらないなどの利点があり、また、高精度な画像形
成が可能である。品質、製造コストの点から上記他の製
造法に比較し顔料分散法は優れているので、現在カラー
フィルター製造の主流となっている。さらに、赤、青、
緑の着色画像の間には通常コントラストを向上させる目
的のためブラックマトリックスと呼ばれる格子状の黒色
パターンを配置するのが一般的である。ブラックマトリ
ックスはガラス基板全体にクロムを蒸着し、エッチング
処理によりパターン形成するのが一般的であるが、クロ
ムを使用するため、高コスト、高反射率であり、廃液処
理にも問題を有している。このため、微細加工のできる
顔料分散法でブラックマトリックスを製造する検討が鋭
意なされている。
【０００５】ブラックマトリックス形成用のブラックレ
ジストは黒色顔料または数種の顔料を混合して黒色にし
た感光性組成物である。ブラックレジストは遮光を目的
としているため、現像液に不溶の顔料を多量に含有する
組成物である。このため、ブラックレジストは現像性が
悪く、長時間の現像が必要であったり、必要とする解像
力が得られない等の問題点があった。
ジストは黒色顔料または数種の顔料を混合して黒色にし
た感光性組成物である。ブラックレジストは遮光を目的
としているため、現像液に不溶の顔料を多量に含有する
組成物である。このため、ブラックレジストは現像性が
悪く、長時間の現像が必要であったり、必要とする解像
力が得られない等の問題点があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来のブラックレジス
トは含有される多量の黒色顔料により現像性が著しく阻
害され、極端な場合には非画線部が現像液に不溶であっ
たり、あるいは現像が可能であっても非画線部が大きな
剥離片となって除去される形式となっていた。現像液へ
の溶解性が低い場合には現像時間を延ばす、あるいは溶
解力の強い現像液を使う必要性が生じる。現像時間を延
ばすことでは生産性が低下し、溶解性の強い現像液では
画線部をも侵してしまうため必要な解像力が得られない
等の問題点が発生する。また、非画線部が剥離片となっ
て現像されるブラックレジストでは剥離片が現像装置を
汚染し、カラーフィルターに再付着するため歩留まり低
下の原因となる。本発明の目的は上記にあげた従来のブ
ラックレジストの問題点を解決し、高現像性、高解像力
のカラーフィルター用ブラックレジスト組成物を提供す
ることにある。
トは含有される多量の黒色顔料により現像性が著しく阻
害され、極端な場合には非画線部が現像液に不溶であっ
たり、あるいは現像が可能であっても非画線部が大きな
剥離片となって除去される形式となっていた。現像液へ
の溶解性が低い場合には現像時間を延ばす、あるいは溶
解力の強い現像液を使う必要性が生じる。現像時間を延
ばすことでは生産性が低下し、溶解性の強い現像液では
画線部をも侵してしまうため必要な解像力が得られない
等の問題点が発生する。また、非画線部が剥離片となっ
て現像されるブラックレジストでは剥離片が現像装置を
汚染し、カラーフィルターに再付着するため歩留まり低
下の原因となる。本発明の目的は上記にあげた従来のブ
ラックレジストの問題点を解決し、高現像性、高解像力
のカラーフィルター用ブラックレジスト組成物を提供す
ることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究を
進めた結果、（ａ）のカルボキシル基を含有するアクリ
ル樹脂、（ｂ）のアクリルモノマー、（ｃ）の光重合開
始剤、（ｄ）の顔料、（ｅ）の溶剤を含むカラーフィル
ター用ブラックレジスト組成物において、（ｄ）の顔料
の数平均粒径φn が０．００５〜０．５μ、重量平均粒
径φw が０．００５〜０．７μ、粒径分布φw ／φn が
１〜１．６とするブラックレジストにより上記問題点が
解決できることを見いだし本発明に至った。以下、本発
明を具体的に説明する。
進めた結果、（ａ）のカルボキシル基を含有するアクリ
ル樹脂、（ｂ）のアクリルモノマー、（ｃ）の光重合開
始剤、（ｄ）の顔料、（ｅ）の溶剤を含むカラーフィル
ター用ブラックレジスト組成物において、（ｄ）の顔料
の数平均粒径φn が０．００５〜０．５μ、重量平均粒
径φw が０．００５〜０．７μ、粒径分布φw ／φn が
１〜１．６とするブラックレジストにより上記問題点が
解決できることを見いだし本発明に至った。以下、本発
明を具体的に説明する。
【０００８】本発明に用いられる、（ａ）のカルボキシ
ル基を含有するアクリル樹脂は、具体的には（メタ）ア
クリル酸、（無水）マレイン酸、クロトン酸、イタコン
酸、フマル酸、などのカルボキシル基を有するモノマー
とスチレン、α−メチルスチレン、（メタ）アクリル酸
メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル
酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メ
タ）アクリル酸ブチル、酢酸ビニル、アクリロニトリ
ル、（メタ）アクリルアミド、グリシジル（メタ）アク
リレート、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル
酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロト
ン酸グリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸クロライ
ド、ベンジル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メタクリロ
イルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メ
タ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアク
リルアミド、などのコモノマーを共重合させたバインダ
ーポリマーが挙げられる。
ル基を含有するアクリル樹脂は、具体的には（メタ）ア
クリル酸、（無水）マレイン酸、クロトン酸、イタコン
酸、フマル酸、などのカルボキシル基を有するモノマー
とスチレン、α−メチルスチレン、（メタ）アクリル酸
メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル
酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メ
タ）アクリル酸ブチル、酢酸ビニル、アクリロニトリ
ル、（メタ）アクリルアミド、グリシジル（メタ）アク
リレート、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル
酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロト
ン酸グリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸クロライ
ド、ベンジル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メタクリロ
イルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メ
タ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアク
リルアミド、などのコモノマーを共重合させたバインダ
ーポリマーが挙げられる。
【０００９】特に、（メタ）アクリル酸およびスチレン
を含有するバインダーポリマーが好ましい。尚、本明細
書中で「（メタ）アクリ〜」は「アクリ〜またはメタク
リ〜」と同義であり、例えば「（メタ）アクリル酸」は
「アクリル酸またはメタクリル酸」と同義である。ま
た、これらの樹脂側鎖にエチレン性二重結合を付加させ
ることもできる。エチレン性二重結合を導入する合成手
段として、例えば、特公５０−３４４４３、特公５０−
３４４４４などに記載の方法等が挙げられる。具体的に
は、カルボキシル基や水酸基にグリシジル基、エポキシ
シクロヘキシル基および（メタ）アクリロイル基を併せ
持つ化合物やアクリル酸クロライドなどを反応させる方
法が挙げられる。例えば、（メタ）アクリル酸グリシジ
ル、アリルグリシジルエーテル、α−エチルアクリル酸
グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、（イソ）
クロトン酸グリシジルエーテル、（３，４−エポキシシ
クロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート、（メタ）
アクリル酸クロライド、（メタ）アリルクロライドなど
の化合物を使用し、カルボキシル基や水酸基を有する樹
脂に反応させることにより側鎖に重合基を有する樹脂を
得ることができる。
を含有するバインダーポリマーが好ましい。尚、本明細
書中で「（メタ）アクリ〜」は「アクリ〜またはメタク
リ〜」と同義であり、例えば「（メタ）アクリル酸」は
「アクリル酸またはメタクリル酸」と同義である。ま
た、これらの樹脂側鎖にエチレン性二重結合を付加させ
ることもできる。エチレン性二重結合を導入する合成手
段として、例えば、特公５０−３４４４３、特公５０−
３４４４４などに記載の方法等が挙げられる。具体的に
は、カルボキシル基や水酸基にグリシジル基、エポキシ
シクロヘキシル基および（メタ）アクリロイル基を併せ
持つ化合物やアクリル酸クロライドなどを反応させる方
法が挙げられる。例えば、（メタ）アクリル酸グリシジ
ル、アリルグリシジルエーテル、α−エチルアクリル酸
グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、（イソ）
クロトン酸グリシジルエーテル、（３，４−エポキシシ
クロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート、（メタ）
アクリル酸クロライド、（メタ）アリルクロライドなど
の化合物を使用し、カルボキシル基や水酸基を有する樹
脂に反応させることにより側鎖に重合基を有する樹脂を
得ることができる。
【００１０】こうして得られたアクリル樹脂のＧＰＣで
測定した重量分子量の好ましい範囲は１０００〜１００
０００である。重量平均分子量が１０００以下であると
均一な塗膜をえるのが難しく、また、１０００００を超
えると現像性が低下する傾向がある。また、カルボキシ
ル基の好ましい含有量の範囲は酸価で５〜２００であ
る。酸価が５以下であるとアルカリ現像液に不溶とな
り、また、２００を超えると感度が低下することがあ
る。
測定した重量分子量の好ましい範囲は１０００〜１００
０００である。重量平均分子量が１０００以下であると
均一な塗膜をえるのが難しく、また、１０００００を超
えると現像性が低下する傾向がある。また、カルボキシ
ル基の好ましい含有量の範囲は酸価で５〜２００であ
る。酸価が５以下であるとアルカリ現像液に不溶とな
り、また、２００を超えると感度が低下することがあ
る。
【００１１】（ｂ）のアクリルモノマーとしては以下の
化合物が挙げられる。イソブチルアクリレート、ｔ−ブ
チルアクリレート、ラウリルアクリレート、セチルアク
リレート、ステアリルクリレート、シクロヘキシルアク
リレート、イソボニルアクリレート、ベンジルアクリレ
ート、２−メトキシエチルアクリレート、３−メトキシ
ブチルアクリレート、エチルカルビトールアクリレー
ト、フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフリ
ルアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールア
クリレート、メトキシプロピレングリコールアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、２−アクリロイルオキシエチ
ルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプ
ロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキ
シプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイル
オキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、
モルホリノエチルメタクリレート、トリフルオロエチル
アクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、テ
トラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフ
ルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロ
ペンチルアク（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオ
ロドデシルアクリレート、トリメチルシロキシエチルメ
タクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９
−ノナンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、
プロピレングリコールジアクリレート、グリセリンメタ
クリレートアクリレート、ビスフェノールＡ，ＥＯ付加
物ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロール
プロパンＥＯ付加トリアクリレート、グリセリンＰＯ付
加トリアクリレート、トリスアクリロイルオキシエチル
フォスフェート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート、ノボラックエポキシのアクリル酸変性物、ノボ
ラックエポキシのアクリル酸および酸無水物の変性物、
Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ア
クリル化イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールモ
ノヒドロキシペンタアクリレート、ウレタンアクリレー
ト、不飽和ポリエステルアクリレートなどが挙げられ
る。
化合物が挙げられる。イソブチルアクリレート、ｔ−ブ
チルアクリレート、ラウリルアクリレート、セチルアク
リレート、ステアリルクリレート、シクロヘキシルアク
リレート、イソボニルアクリレート、ベンジルアクリレ
ート、２−メトキシエチルアクリレート、３−メトキシ
ブチルアクリレート、エチルカルビトールアクリレー
ト、フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフリ
ルアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールア
クリレート、メトキシプロピレングリコールアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、２−アクリロイルオキシエチ
ルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプ
ロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキ
シプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイル
オキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、
モルホリノエチルメタクリレート、トリフルオロエチル
アクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、テ
トラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフ
ルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロ
ペンチルアク（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオ
ロドデシルアクリレート、トリメチルシロキシエチルメ
タクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９
−ノナンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、
プロピレングリコールジアクリレート、グリセリンメタ
クリレートアクリレート、ビスフェノールＡ，ＥＯ付加
物ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロール
プロパンＥＯ付加トリアクリレート、グリセリンＰＯ付
加トリアクリレート、トリスアクリロイルオキシエチル
フォスフェート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート、ノボラックエポキシのアクリル酸変性物、ノボ
ラックエポキシのアクリル酸および酸無水物の変性物、
Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ア
クリル化イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールモ
ノヒドロキシペンタアクリレート、ウレタンアクリレー
ト、不飽和ポリエステルアクリレートなどが挙げられ
る。
【００１２】これらのモノマーのなかでは特に３官能以
上のアクリルモノマーが好ましい。これらのモノマーは
単独または複数組み合わせて使用される。（ｃ）の光重
合開始剤としては、紫外光によりエチレン性不飽和基を
重合させるラジカルを発生させることのできる化合物が
あげられる。具体的には（４−メトキシフェニル）−
４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−（４−メトキシナフチル）−４、６−ビス（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシナ
フチル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、２−エトキシカルボニル−４−（４−エトキ
シナフチル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、などのハロメチル化トリアジン誘導体、
ハロメチル化オキサジアゾール誘導体、２−（２’−ク
ロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量
体、２−（２’−クロロフェニル）−４，５−ジ（３’
−メトキシフェニル）イミダゾール２量体、２−（２’
−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾー
ル２量体、２−（２’−メトキシフェニル）−４，５−
ジフェニルイミダゾール２量体、（４’−メトキシフェ
ニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体などの
イミダゾール誘導体、ベンゾインメチルエーテル、ベン
ゾインフェニルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテ
ル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾイ
ン、ベンゾインアルキルエーテル類、２−メチルアント
ラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチル
アントラキノン、１−クロロアントラキノンなどのアン
トラキノン誘導体、ベンズアンスロン誘導体、ベンゾフ
ェノン、ミヒラーケトン、２−メチルベンゾフェノン、
３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノ
ン、２−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェ
ノン、２−カルボキシベンゾフェノンなどのベンゾフェ
ノン誘導体、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセト
フェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒ
ドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドロキ
シ−２−メチルフェニルプロパノン、１−ヒドロキシ−
１−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケト
ン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケ
トン、２−メチル−（４’−（メチルチオ）フェニル）
−２−モルホリノ−１−プロパノン、１，１，１−トリ
クロロメチル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトンなどのア
セトフェノン誘導体、チオキサントン、２−エチルチオ
キサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−ク
ロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサント
ン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソ
プロピルオキサントンなどのチオキサントン誘導体、ｐ
−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ
安息香酸エチルなどの安息香酸エステル誘導体、９−フ
ェニルアクリジン、９−（ｐ−メトキシフェニル）アク
リジンなどのアクリジン誘導体、９，１０−ジメチルベ
ンズフェナジンなどのフェナジン誘導体などが挙げられ
る。これらの光重合開始剤は単独または複数組み合わせ
て使用される。例えば、特公昭５３−１２８０２、特開
平１−２７９９０３、特開平２−４８６６４、特開平４
−１６４９０２、特開平６−７５３７３などに記載の開
始剤の組み合わせなどが挙げられる。
上のアクリルモノマーが好ましい。これらのモノマーは
単独または複数組み合わせて使用される。（ｃ）の光重
合開始剤としては、紫外光によりエチレン性不飽和基を
重合させるラジカルを発生させることのできる化合物が
あげられる。具体的には（４−メトキシフェニル）−
４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−（４−メトキシナフチル）−４、６−ビス（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシナ
フチル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、２−エトキシカルボニル−４−（４−エトキ
シナフチル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、などのハロメチル化トリアジン誘導体、
ハロメチル化オキサジアゾール誘導体、２−（２’−ク
ロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量
体、２−（２’−クロロフェニル）−４，５−ジ（３’
−メトキシフェニル）イミダゾール２量体、２−（２’
−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾー
ル２量体、２−（２’−メトキシフェニル）−４，５−
ジフェニルイミダゾール２量体、（４’−メトキシフェ
ニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体などの
イミダゾール誘導体、ベンゾインメチルエーテル、ベン
ゾインフェニルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテ
ル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾイ
ン、ベンゾインアルキルエーテル類、２−メチルアント
ラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチル
アントラキノン、１−クロロアントラキノンなどのアン
トラキノン誘導体、ベンズアンスロン誘導体、ベンゾフ
ェノン、ミヒラーケトン、２−メチルベンゾフェノン、
３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノ
ン、２−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェ
ノン、２−カルボキシベンゾフェノンなどのベンゾフェ
ノン誘導体、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセト
フェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒ
ドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドロキ
シ−２−メチルフェニルプロパノン、１−ヒドロキシ−
１−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケト
ン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケ
トン、２−メチル−（４’−（メチルチオ）フェニル）
−２−モルホリノ−１−プロパノン、１，１，１−トリ
クロロメチル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトンなどのア
セトフェノン誘導体、チオキサントン、２−エチルチオ
キサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−ク
ロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサント
ン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソ
プロピルオキサントンなどのチオキサントン誘導体、ｐ
−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ
安息香酸エチルなどの安息香酸エステル誘導体、９−フ
ェニルアクリジン、９−（ｐ−メトキシフェニル）アク
リジンなどのアクリジン誘導体、９，１０−ジメチルベ
ンズフェナジンなどのフェナジン誘導体などが挙げられ
る。これらの光重合開始剤は単独または複数組み合わせ
て使用される。例えば、特公昭５３−１２８０２、特開
平１−２７９９０３、特開平２−４８６６４、特開平４
−１６４９０２、特開平６−７５３７３などに記載の開
始剤の組み合わせなどが挙げられる。
【００１３】（ｄ）の顔料としては、アントラキノン系
顔料、ペリレン系顔料、ジスアゾ顔料、フタロシアニン
顔料、イソインドリン顔料、ジオキサジン顔料、キナク
リドン顔料、ペリノン系顔料、トリフェニルメタン系顔
料、チオインジゴ顔料などの有機顔料を混合して黒色と
することも可能であるが、遮光力の強いカーボンブラッ
クを用いるのが好ましい。
顔料、ペリレン系顔料、ジスアゾ顔料、フタロシアニン
顔料、イソインドリン顔料、ジオキサジン顔料、キナク
リドン顔料、ペリノン系顔料、トリフェニルメタン系顔
料、チオインジゴ顔料などの有機顔料を混合して黒色と
することも可能であるが、遮光力の強いカーボンブラッ
クを用いるのが好ましい。
【００１４】具体的には三菱化学社製のカーボンブラッ
ク＃２４００、＃２３５０、＃２３００、＃２２００、
＃１０００、＃９８０、＃９７０、＃９６０、＃９５
０、＃９００、＃８５０、ＭＣＦ８８、＃６５０、ＭＡ
６００、ＭＡ７、ＭＡ８、ＭＡ１１、ＭＡ１００、ＭＡ
２２０、ＩＬ３０Ｂ、ＩＬ３１Ｂ、ＩＬ７Ｂ、ＩＬ１１
Ｂ、ＩＬ５２Ｂ、＃４０００、＃４０１０、＃５５、＃
５２、＃５０、＃４７、＃４５、＃４４、＃４０、＃３
３、＃３２、＃３０、＃２０、＃１０、＃５、ＣＦ９、
＃３０５０、＃３１５０、＃３２５０、＃３７５０、＃
３９５０、ダイヤブラックＡ、ダイヤブラックＮ２２０
Ｍ、ダイヤブラックＮ２３４、ダイヤブラックＩ、ダイ
ヤブラックＬＩ、ダイヤブラックＩＩ、ダイヤブラック
３３９、ダイヤブラックＳＨ、ダイヤブラックＳＨＡ、
ダイヤブラックＬＨ、ダイヤブラックＨ、ダイヤブラッ
クＨＡ、ダイヤブラックＳＦ、ダイヤブラックＮ５５０
Ｍ、ダイヤブラックＥ、ダイヤブラックＧ、ダイヤブラ
ックＲ、ダイヤブラックＮ７６０Ｍ、ダイヤブラックＬ
Ｒ。キャンカーブ社製のカーボンブラックサーマックス
Ｎ９９０、Ｎ９９１、Ｎ９０７、Ｎ９０８、Ｎ９９０、
Ｎ９９１、Ｎ９０８。旭カーボン社製のカーボンブラッ
ク旭＃８０、旭＃７０、旭＃７０Ｌ、旭Ｆ−２００、旭
＃６６、旭＃６６ＨＮ、旭＃６０Ｈ、旭＃６０Ｕ、旭＃
６０、旭＃５５、旭＃５０Ｈ、旭＃５１、旭＃５０Ｕ、
旭＃５０、旭＃３５、旭＃１５、アサヒサーマル、デグ
サ社製のカーボンブラックＣｏｌｏｒＢｌａｃｋ Ｆｗ
２００、ＣｏｌｏｒＢｌａｃｋ Ｆｗ２、ＣｏｌｏｒＢ
ｌａｃｋ Ｆｗ２Ｖ、ＣｏｌｏｒＢｌａｃｋ Ｆｗ１、
ＣｏｌｏｒＢｌａｃｋ Ｆｗ１８、ＣｏｌｏｒＢｌａｃ
ｋＳ１７０、ＣｏｌｏｒＢｌａｃｋ Ｓ１６０、Ｓｐｅ
ｃｉａｌＢｌａｃｋ６、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ５、
ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ４、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃ
ｋ４Ａ、ＰｒｉｎｔｅｘＵ、ＰｒｉｎｔｅｘＶ、Ｐｒｉ
ｎｔｅｘ１４０Ｕ、Ｐｒｉｎｔｅｘ１４０Ｖ等が挙げら
れる。
ク＃２４００、＃２３５０、＃２３００、＃２２００、
＃１０００、＃９８０、＃９７０、＃９６０、＃９５
０、＃９００、＃８５０、ＭＣＦ８８、＃６５０、ＭＡ
６００、ＭＡ７、ＭＡ８、ＭＡ１１、ＭＡ１００、ＭＡ
２２０、ＩＬ３０Ｂ、ＩＬ３１Ｂ、ＩＬ７Ｂ、ＩＬ１１
Ｂ、ＩＬ５２Ｂ、＃４０００、＃４０１０、＃５５、＃
５２、＃５０、＃４７、＃４５、＃４４、＃４０、＃３
３、＃３２、＃３０、＃２０、＃１０、＃５、ＣＦ９、
＃３０５０、＃３１５０、＃３２５０、＃３７５０、＃
３９５０、ダイヤブラックＡ、ダイヤブラックＮ２２０
Ｍ、ダイヤブラックＮ２３４、ダイヤブラックＩ、ダイ
ヤブラックＬＩ、ダイヤブラックＩＩ、ダイヤブラック
３３９、ダイヤブラックＳＨ、ダイヤブラックＳＨＡ、
ダイヤブラックＬＨ、ダイヤブラックＨ、ダイヤブラッ
クＨＡ、ダイヤブラックＳＦ、ダイヤブラックＮ５５０
Ｍ、ダイヤブラックＥ、ダイヤブラックＧ、ダイヤブラ
ックＲ、ダイヤブラックＮ７６０Ｍ、ダイヤブラックＬ
Ｒ。キャンカーブ社製のカーボンブラックサーマックス
Ｎ９９０、Ｎ９９１、Ｎ９０７、Ｎ９０８、Ｎ９９０、
Ｎ９９１、Ｎ９０８。旭カーボン社製のカーボンブラッ
ク旭＃８０、旭＃７０、旭＃７０Ｌ、旭Ｆ−２００、旭
＃６６、旭＃６６ＨＮ、旭＃６０Ｈ、旭＃６０Ｕ、旭＃
６０、旭＃５５、旭＃５０Ｈ、旭＃５１、旭＃５０Ｕ、
旭＃５０、旭＃３５、旭＃１５、アサヒサーマル、デグ
サ社製のカーボンブラックＣｏｌｏｒＢｌａｃｋ Ｆｗ
２００、ＣｏｌｏｒＢｌａｃｋ Ｆｗ２、ＣｏｌｏｒＢ
ｌａｃｋ Ｆｗ２Ｖ、ＣｏｌｏｒＢｌａｃｋ Ｆｗ１、
ＣｏｌｏｒＢｌａｃｋ Ｆｗ１８、ＣｏｌｏｒＢｌａｃ
ｋＳ１７０、ＣｏｌｏｒＢｌａｃｋ Ｓ１６０、Ｓｐｅ
ｃｉａｌＢｌａｃｋ６、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ５、
ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ４、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃ
ｋ４Ａ、ＰｒｉｎｔｅｘＵ、ＰｒｉｎｔｅｘＶ、Ｐｒｉ
ｎｔｅｘ１４０Ｕ、Ｐｒｉｎｔｅｘ１４０Ｖ等が挙げら
れる。
【００１５】これらのカーボンブラックはそのままの状
態では顔料同士が凝集しているため、好ましい粒径及び
粒度分布を作りだすためには分散処理が必要である。カ
ーボンブラックに分散剤及び溶剤を加えてミルベースを
つくり、それをボールミル、サンドミル、ビーズミル、
３本ロール、ペイントシェーカー、超音波、バブルホモ
ジナイザーなどの方法により粒度、都度分布を制御する
ことができる。これらの処理方法は２つ以上組み合わせ
ることも可能である。分散剤には（ａ）のような樹脂あ
るいは「色材」、６５（９）、ｐ５７５、（１９９２
年）などに記載の公知の分散剤が使用可能である。ま
た、溶剤には（ｅ）の溶剤を使用することができる。粒
径、粒度分布はミルベースの組成、分散処理方法、分散
温度、分散時間等の分散条件を制御することにより変化
させることができる。そして粒径及び粒度分布はレーザ
ードップラー方式の粒度測定装置で測定することができ
る。
態では顔料同士が凝集しているため、好ましい粒径及び
粒度分布を作りだすためには分散処理が必要である。カ
ーボンブラックに分散剤及び溶剤を加えてミルベースを
つくり、それをボールミル、サンドミル、ビーズミル、
３本ロール、ペイントシェーカー、超音波、バブルホモ
ジナイザーなどの方法により粒度、都度分布を制御する
ことができる。これらの処理方法は２つ以上組み合わせ
ることも可能である。分散剤には（ａ）のような樹脂あ
るいは「色材」、６５（９）、ｐ５７５、（１９９２
年）などに記載の公知の分散剤が使用可能である。ま
た、溶剤には（ｅ）の溶剤を使用することができる。粒
径、粒度分布はミルベースの組成、分散処理方法、分散
温度、分散時間等の分散条件を制御することにより変化
させることができる。そして粒径及び粒度分布はレーザ
ードップラー方式の粒度測定装置で測定することができ
る。
【００１６】 数平均粒度 φn ＝Σｎi φi ／Σｎi 重量平均粒度 φw ＝Σｎi φi 2 ／Σｎi φi 粒度分布 φw ＝φn このようにして得たカーボンブラックの好ましい粒度及
び粒度分布は数平均粒度φn で０．００５〜０．５μ、
より好ましくは０．０１〜０．４５μ、重量平均粒度φ
w で０．００５〜０．７μ、より好ましくは０．０１〜
０．６５μ、粒度分布φw ／φn は１〜１．６、より好
ましくは１〜１．５５である。
び粒度分布は数平均粒度φn で０．００５〜０．５μ、
より好ましくは０．０１〜０．４５μ、重量平均粒度φ
w で０．００５〜０．７μ、より好ましくは０．０１〜
０．６５μ、粒度分布φw ／φn は１〜１．６、より好
ましくは１〜１．５５である。
【００１７】上記範囲の上限を越えると現像性、解像性
の低下が起こる。また、下限以下にするためにはカーボ
ンブラックの１次粒子あるいはそれ以上に顔料粒子を細
かくしなければならないため、製造が著しく困難であ
る。（ｅ）の溶剤としては具体的に、ジイソプロピルエ
ーテル、ミネラルスピリット、ｎ−ペンタン、アミルエ
ーテル、エチルカプリレート、ｎ−ヘキサン、ジエチル
エーテル、イソプレン、エチルイソブチルエーテル、ブ
チルステアレート、ｎ−オクタン、バルソル＃２、アプ
コ＃１８ソルベント、ジイソブチレン、アミルアセテー
ト、ブチルブチレート、アプコシンナー、ブチルエーテ
ル、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキセン、メチ
ルノニルケトン、プロピルエーテル、ドデカン、Ｓｏｃ
ａｌ ｓｏｌｖｅｎｔ Ｎｏ１およびＮｏ２、アミルホ
ルメート、ジヘキシルエーテル、ジイソプロピルケト
ン、ソルベッソ＃１５０、（ｎ，ｓｅｃ，ｔ）−酢酸ブ
チル、ヘキセン、シェル ＴＳ２８ ソルベント、ブチ
ルクロライド、エチルアミルケトン、エチルベンゾネー
ト、アミルクロライド、エチレングリコーリジエチルエ
ーテル、エチルオルソホルメート、メトキシメチルペン
タノン、メチルブチルケトン、メチルヘキシルケトン、
メチルイソブチレート、ベンゾニトリル、エチルプロピ
オネート、メチルセロソルブアセテート、メチルイソア
ミルケトン、メチルイソブチルケトン、プロピルアセテ
ート、アミルアセテート、アミルホルメート、ビシクロ
ヘキシル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルア
セテート、ジペンテン、メトキシメチルペンタノール、
メチルアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、プロ
ピルプロピオネート、プロピレングリコール−ｔ−ブチ
ルエーテル、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、
エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、カル
ビトール、シクロヘキサノン、酢酸エチル、プロピレン
グリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロ
ピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレング
リコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオ
ン酸、３−エトキシプロピオン酸、３−エトキシプロピ
オン酸メチルエチル、３−メトキシプロピオン酸メチ
ル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプ
ロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−
メトキシプロピオン酸ブチル、ジグライム、ジプロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
アセテート、エチルカルビトール、ブチルカルビトー
ル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレ
ングリコール−ｔ−ブチルエーテル、３−メチル−３−
メトキシブタノール、トリプロピレングリコールメチル
エーテル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート
などの有機溶剤が挙げられる。
の低下が起こる。また、下限以下にするためにはカーボ
ンブラックの１次粒子あるいはそれ以上に顔料粒子を細
かくしなければならないため、製造が著しく困難であ
る。（ｅ）の溶剤としては具体的に、ジイソプロピルエ
ーテル、ミネラルスピリット、ｎ−ペンタン、アミルエ
ーテル、エチルカプリレート、ｎ−ヘキサン、ジエチル
エーテル、イソプレン、エチルイソブチルエーテル、ブ
チルステアレート、ｎ−オクタン、バルソル＃２、アプ
コ＃１８ソルベント、ジイソブチレン、アミルアセテー
ト、ブチルブチレート、アプコシンナー、ブチルエーテ
ル、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキセン、メチ
ルノニルケトン、プロピルエーテル、ドデカン、Ｓｏｃ
ａｌ ｓｏｌｖｅｎｔ Ｎｏ１およびＮｏ２、アミルホ
ルメート、ジヘキシルエーテル、ジイソプロピルケト
ン、ソルベッソ＃１５０、（ｎ，ｓｅｃ，ｔ）−酢酸ブ
チル、ヘキセン、シェル ＴＳ２８ ソルベント、ブチ
ルクロライド、エチルアミルケトン、エチルベンゾネー
ト、アミルクロライド、エチレングリコーリジエチルエ
ーテル、エチルオルソホルメート、メトキシメチルペン
タノン、メチルブチルケトン、メチルヘキシルケトン、
メチルイソブチレート、ベンゾニトリル、エチルプロピ
オネート、メチルセロソルブアセテート、メチルイソア
ミルケトン、メチルイソブチルケトン、プロピルアセテ
ート、アミルアセテート、アミルホルメート、ビシクロ
ヘキシル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルア
セテート、ジペンテン、メトキシメチルペンタノール、
メチルアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、プロ
ピルプロピオネート、プロピレングリコール−ｔ−ブチ
ルエーテル、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、
エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、カル
ビトール、シクロヘキサノン、酢酸エチル、プロピレン
グリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロ
ピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレング
リコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオ
ン酸、３−エトキシプロピオン酸、３−エトキシプロピ
オン酸メチルエチル、３−メトキシプロピオン酸メチ
ル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプ
ロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−
メトキシプロピオン酸ブチル、ジグライム、ジプロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
アセテート、エチルカルビトール、ブチルカルビトー
ル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレ
ングリコール−ｔ−ブチルエーテル、３−メチル−３−
メトキシブタノール、トリプロピレングリコールメチル
エーテル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート
などの有機溶剤が挙げられる。
【００１８】溶剤は沸点が１００℃から２００℃の範囲
のものを選択するのが好ましい。より好ましくは１２０
℃〜１７０℃の沸点をもつものである。これらの溶剤は
単独もしくは混合して使用される。本発明は（ａ）のア
クリル樹脂１００重量部に対し（ｂ）のアクリルモノマ
ーは５重量部〜８０重量部、（ｃ）の開始剤は０．０１
〜３０重量部、（ｄ）の顔料は１００重量部〜５００重
量部、（ｅ）の溶剤は２００〜１００００重量部の範囲
で使用するのが好ましい。
のものを選択するのが好ましい。より好ましくは１２０
℃〜１７０℃の沸点をもつものである。これらの溶剤は
単独もしくは混合して使用される。本発明は（ａ）のア
クリル樹脂１００重量部に対し（ｂ）のアクリルモノマ
ーは５重量部〜８０重量部、（ｃ）の開始剤は０．０１
〜３０重量部、（ｄ）の顔料は１００重量部〜５００重
量部、（ｅ）の溶剤は２００〜１００００重量部の範囲
で使用するのが好ましい。
【００１９】（ｂ）のアクリルモノマーが上記範囲以下
であると像露光された画線部の架橋密度が十分でなくな
り良好な画像が得られにくく、また、上記範囲を超える
と乾燥後のレジスト膜のベタつきが大きくなり作業性に
劣るようになる。（ｃ）の光重合開始剤の添加量が上記
範囲以下であると十分な感度がえられず、また、上記範
囲を超えると、ときに開始剤が感光液から析出すること
がある。（ｄ）の顔料の添加量が上記範囲以下であると
十分な色濃度が出しにくく、遮光力も劣る。また、上記
範囲を超えると顔料の分散安定性を保持できなくなるた
め、顔料の凝集が起こり均一な塗膜が得られなくなる。
（ｅ）の溶剤の添加量が上記範囲以下であると塗布むら
がでやすく膜厚の均一性に欠け、上記範囲を超えると十
分な膜厚を得ることができず、また、ピンホールなどの
塗布欠陥がでやすくなる。
であると像露光された画線部の架橋密度が十分でなくな
り良好な画像が得られにくく、また、上記範囲を超える
と乾燥後のレジスト膜のベタつきが大きくなり作業性に
劣るようになる。（ｃ）の光重合開始剤の添加量が上記
範囲以下であると十分な感度がえられず、また、上記範
囲を超えると、ときに開始剤が感光液から析出すること
がある。（ｄ）の顔料の添加量が上記範囲以下であると
十分な色濃度が出しにくく、遮光力も劣る。また、上記
範囲を超えると顔料の分散安定性を保持できなくなるた
め、顔料の凝集が起こり均一な塗膜が得られなくなる。
（ｅ）の溶剤の添加量が上記範囲以下であると塗布むら
がでやすく膜厚の均一性に欠け、上記範囲を超えると十
分な膜厚を得ることができず、また、ピンホールなどの
塗布欠陥がでやすくなる。
【００２０】本発明にはこれら、必須成分以外に増感
剤、塗布性改良剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤、など
を好適に添加することができる。これらは単独もしくは
数種併用することも可能である。本発明の組成物はスピ
ンコーター、ロールコーター、カーテンコーター、スク
リーン印刷などの公知の方法でガラス基板に塗布され
る。塗布膜厚は０．３μｍ〜１０μｍが好ましい。塗布
膜を乾燥させるためにコンベクションオーブンまたはホ
ットプレートが使用される。乾燥温度は５０℃〜１５０
℃、乾燥時間は３０秒〜６０分が好適である。露光は高
圧水銀灯が一般的に用いられ、マスクを通して露光する
ことによりレジスト膜に潜像が形成される。その後、未
露光部分を溶解させる溶剤で現像することにより画像が
形成される。現像液はアセトン、トルエン、ＭＥＫなど
の有機溶剤も使用可能であるが、環境問題からアルカリ
現像液の方が好ましい。一例をあげるならば水酸化ナト
リウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、炭酸ナトリウム
水溶液、炭酸カリウム、アンモニア水、アトラメチルア
ンモニウムハイドロオキサイド水溶液、などが用いられ
る。アルカリ現像液には界面活性剤、消泡剤などが添加
されていてもよい。現像方法としては、特に制限はな
く、パドル法、デイッピング法、スプレー法など公知の
方法でおこなうことができる。またプリウエットを採用
してもよい。画像形成後現像液の乾燥、レジスト膜の硬
化を高める目的でポストベーク、後光硬化などを採用し
てもよい。
剤、塗布性改良剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤、など
を好適に添加することができる。これらは単独もしくは
数種併用することも可能である。本発明の組成物はスピ
ンコーター、ロールコーター、カーテンコーター、スク
リーン印刷などの公知の方法でガラス基板に塗布され
る。塗布膜厚は０．３μｍ〜１０μｍが好ましい。塗布
膜を乾燥させるためにコンベクションオーブンまたはホ
ットプレートが使用される。乾燥温度は５０℃〜１５０
℃、乾燥時間は３０秒〜６０分が好適である。露光は高
圧水銀灯が一般的に用いられ、マスクを通して露光する
ことによりレジスト膜に潜像が形成される。その後、未
露光部分を溶解させる溶剤で現像することにより画像が
形成される。現像液はアセトン、トルエン、ＭＥＫなど
の有機溶剤も使用可能であるが、環境問題からアルカリ
現像液の方が好ましい。一例をあげるならば水酸化ナト
リウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、炭酸ナトリウム
水溶液、炭酸カリウム、アンモニア水、アトラメチルア
ンモニウムハイドロオキサイド水溶液、などが用いられ
る。アルカリ現像液には界面活性剤、消泡剤などが添加
されていてもよい。現像方法としては、特に制限はな
く、パドル法、デイッピング法、スプレー法など公知の
方法でおこなうことができる。またプリウエットを採用
してもよい。画像形成後現像液の乾燥、レジスト膜の硬
化を高める目的でポストベーク、後光硬化などを採用し
てもよい。
【００２１】
【発明の実施の形態】次に、実施例を用いて具体的に説
明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施
例に限定されるものではない。合成例−１ 酸価２００、分子量５０００のスチレン・アクリル酸樹
脂２０ｇ、ｐ−メトキシフェノール０．２ｇ、ドデシル
トリメチルアンモニウムクロリド０．２ｇ、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート４０ｇをフラ
スコに仕込み（３、４エポキシシクロヘキシル）メチル
アクリレート７．６ｇを滴下し１００℃の温度で３０時
間反応させた。反応液を水に再沈殿、乾燥させて樹脂を
得た。ＫＯＨによる中和滴定をおこなったところ樹脂の
酸価は８０であった。
明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施
例に限定されるものではない。合成例−１ 酸価２００、分子量５０００のスチレン・アクリル酸樹
脂２０ｇ、ｐ−メトキシフェノール０．２ｇ、ドデシル
トリメチルアンモニウムクロリド０．２ｇ、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート４０ｇをフラ
スコに仕込み（３、４エポキシシクロヘキシル）メチル
アクリレート７．６ｇを滴下し１００℃の温度で３０時
間反応させた。反応液を水に再沈殿、乾燥させて樹脂を
得た。ＫＯＨによる中和滴定をおこなったところ樹脂の
酸価は８０であった。
【００２２】カーボンブラックの分散 カーボンブラック１００ｇに合成例−１の樹脂ワニス１
００ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート１００ｇを混合、攪拌し、ミルベースを作った。
これをビーズミルにより処理した。ビーズは粒径０．５
ｍｍ、材質ジルコニアを用いた。分散温度は約６０℃で
ディスク周速及び分散時間を変えることにより粒度及び
粒度分布の異なる８種のカーボンブラックペーストを作
った。
００ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート１００ｇを混合、攪拌し、ミルベースを作った。
これをビーズミルにより処理した。ビーズは粒径０．５
ｍｍ、材質ジルコニアを用いた。分散温度は約６０℃で
ディスク周速及び分散時間を変えることにより粒度及び
粒度分布の異なる８種のカーボンブラックペーストを作
った。
【００２３】粒度分布の測定 上記カーボンブラックペーストをプロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテートで２００倍〜４００倍に
希釈し、レーザードップラー式粒度測定器マイクロトラ
ップＵＰＡ（リーズ＆ノースラップ社製）で測定し粒径
φn 、φw 粒度分布を求めた。表１に粒径、粒度分布の
測定結果を示した。
モノメチルエーテルアセテートで２００倍〜４００倍に
希釈し、レーザードップラー式粒度測定器マイクロトラ
ップＵＰＡ（リーズ＆ノースラップ社製）で測定し粒径
φn 、φw 粒度分布を求めた。表１に粒径、粒度分布の
測定結果を示した。
【００２４】ブラックレジストの調合 １）カーボンブラックペースト：４０ｇ ２）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５ｇ ３）ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジ
フルオロ−３−（ピロール−１−イル）−フェニル−１
−イル０．５ｇ ４）４，４’−ビス（ジエチエルアミノ）ベンゾフェノ
ン０．５ｇ ５）プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト３０ｇ 以上の割合で混合しブラックレジスト感光液を調合し
た。
フルオロ−３−（ピロール−１−イル）−フェニル−１
−イル０．５ｇ ４）４，４’−ビス（ジエチエルアミノ）ベンゾフェノ
ン０．５ｇ ５）プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト３０ｇ 以上の割合で混合しブラックレジスト感光液を調合し
た。
【００２５】レジストの評価 ブラックレジスト感光液をスピンコーターにてガラス基
板に塗布し、ホットプレートで８０℃、１分間乾燥し
た。乾燥後のレジスト膜厚は１μであった。このサンプ
ルをマスクを通して高圧水銀燈で２０００ｍｊ／ｃｍ2
像露光した。温度２５℃、濃度０．０５％の水酸化カリ
ウム水溶液に浸漬現像してレジストパターンを得た。非
画線部が現像される時間を目視観察することにより現像
速度を求めた。また、形成できる最小レジストパターン
を顕微鏡で観察し解像力を求めた。
板に塗布し、ホットプレートで８０℃、１分間乾燥し
た。乾燥後のレジスト膜厚は１μであった。このサンプ
ルをマスクを通して高圧水銀燈で２０００ｍｊ／ｃｍ2
像露光した。温度２５℃、濃度０．０５％の水酸化カリ
ウム水溶液に浸漬現像してレジストパターンを得た。非
画線部が現像される時間を目視観察することにより現像
速度を求めた。また、形成できる最小レジストパターン
を顕微鏡で観察し解像力を求めた。
【００２６】
【表１】
【００２７】
【表２】
【００２８】
【表３】
【００２９】
【表４】
【００３０】
【表５】
【００３１】
【表６】
【００３２】
【表７】
【００３３】
【表８】
【００３４】
【表９】
【発明の効果】表２の実施例の如く、本発明のブラック
レジスト組成物は現像性、解像性が高いため高精度のブ
ラックマトリックスを高能率で形成できる。従って、本
発明のレジスト組成物を用いることにより、高品位、低
コストで液晶ディスプレー用カラーフィルターを製造す
ることができる。
レジスト組成物は現像性、解像性が高いため高精度のブ
ラックマトリックスを高能率で形成できる。従って、本
発明のレジスト組成物を用いることにより、高品位、低
コストで液晶ディスプレー用カラーフィルターを製造す
ることができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０５ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０５ // Ｃ０８Ｋ 7/18 Ｃ０８Ｋ 7/18 Ｃ０８Ｌ 33/04 ＬＨＵ Ｃ０８Ｌ 33/04 ＬＨＵ (72)発明者 松尾 史之 神奈川県横浜市青葉区鴨志田1000番地 三 菱化学株式会社横浜総合研究所内
Claims (5)
- 【請求項１】 （ａ）カルボキシル基を含有するアクリ
ル樹脂、（ｂ）アクリルモノマー、（ｃ）光重合開始
剤、（ｄ）顔料、（ｅ）溶剤を含むカラーフィルター用
ブラックレジスト組成物において、（ｄ）の顔料の数平
均粒径φn が０．００５〜０．５μ、重量平均粒径φw
が０．００５〜０．７μ、粒径分布φw／φn が１〜
１．６であることを特徴とするカラーフィルター用ブラ
ックレジスト組成物。 - 【請求項２】 顔料がカーボンブラックである請求項１
のブラックレジスト組成物。 - 【請求項３】 ａ）前記アクリル樹脂が構成モノマーと
して少なくともスチレンおよび（メタ）アクリル酸を含
む請求項１のカラーフィルター用ブラックレジスト組成
物。 - 【請求項４】 全固形分中の顔料濃度が２５〜７０％で
ある請求項１又は２のカラーフィルター用ブラックレジ
スト組成物。 - 【請求項５】 ａ）前記アクリル樹脂が樹脂側鎖にエチ
レン性二重結合を有する請求項１、２又は３のカラーフ
ィルター用ブラックレジスト組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34061395A JP3813222B2 (ja) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | カラーフィルター用ブラックレジスト組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34061395A JP3813222B2 (ja) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | カラーフィルター用ブラックレジスト組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09178931A true JPH09178931A (ja) | 1997-07-11 |
| JP3813222B2 JP3813222B2 (ja) | 2006-08-23 |
Family
ID=18338659
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34061395A Expired - Lifetime JP3813222B2 (ja) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | カラーフィルター用ブラックレジスト組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3813222B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003057845A (ja) * | 2001-08-16 | 2003-02-28 | Sumitomo Chem Co Ltd | 着色パターンの形成方法 |
| WO2007105649A1 (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Mitsubishi Chemical Corporation | 硬化性組成物、カラーフィルター、及び液晶表示装置 |
| JP2007270147A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-10-18 | Mitsubishi Chemicals Corp | 硬化性組成物、カラーフィルター、及び液晶表示装置 |
| JP2007314791A (ja) * | 2006-05-24 | 2007-12-06 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | パターン形成用レジン組成物及びこれを利用するインプレーンプリンティング工程方法 |
| US7994297B2 (en) | 1997-08-01 | 2011-08-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of spotting probes on a solid support |
-
1995
- 1995-12-27 JP JP34061395A patent/JP3813222B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7994297B2 (en) | 1997-08-01 | 2011-08-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of spotting probes on a solid support |
| JP2003057845A (ja) * | 2001-08-16 | 2003-02-28 | Sumitomo Chem Co Ltd | 着色パターンの形成方法 |
| WO2007105649A1 (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Mitsubishi Chemical Corporation | 硬化性組成物、カラーフィルター、及び液晶表示装置 |
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| JP2007314791A (ja) * | 2006-05-24 | 2007-12-06 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | パターン形成用レジン組成物及びこれを利用するインプレーンプリンティング工程方法 |
| JP4658997B2 (ja) * | 2006-05-24 | 2011-03-23 | エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド | パターン形成用レジン組成物及びこれを利用するインプレーンプリンティング工程方法 |
| US8822125B2 (en) | 2006-05-24 | 2014-09-02 | Lg Display Co., Ltd. | Composition for forming pattern and in-plane printing method using the same |
| US9000064B2 (en) | 2006-05-24 | 2015-04-07 | Lg Display Co., Ltd. | Composition for forming pattern and in-plane printing method using the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3813222B2 (ja) | 2006-08-23 |
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