JPH10310613A

JPH10310613A - 光架橋性ポリマー

Info

Publication number: JPH10310613A
Application number: JP10040837A
Authority: JP
Inventors: Richard Buchecker; リッヒアルト・ブッチエッカー; Guy Marck; グイ・マルク; Andreas Schuster; アンドレアス・シユースター; Hubert Seiberle; フーベルト・ザイベルレ
Original assignee: Rolic AG
Current assignee: Rolic Technologies Ltd
Priority date: 1997-02-24
Filing date: 1998-02-23
Publication date: 1998-11-24
Anticipated expiration: 2018-02-23
Also published as: CN1194996A; US20020061996A1; US6632909B2; CN1124297C; DE59814236D1; JP4205198B2; SG74615A1

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】従来に使用された桂皮酸ポリマーの欠点を有さ
ず、即ち光化学的長期安定性および偏光に露光後に傾斜
角が不足しておらずそして高度に分画された安定な配向
パターンを造ることを可能とする光反応性ポリマーの提
供。【解決手段】式Ｉで表されるポリマー。（Ｍ¹、Ｍ^1'はモノマー単位：アクリレート、；ｗ、ｗ
およびｗ²は０＜ｗ≦１、０≦ｗ¹＜１および０≦ｗ
²≦０．５のコモノマーのモル分率であり、Ｓ¹および
Ｓ^1'はアルキレン基、Ｄ，Ｄ¹は−Ｏ−、Ｘ、Ｘ¹、Ｙ
またはＹ¹はＨ；Ａ、Ａ’、ＢおよびＢ’；Ｃおよび
Ｃ’はフェニレン；ＫおよびＫ’はＨ，Ｆ，Ｃｌ，Ｃ
Ｎ；Ｚ、Ｚ’、Ｚ¹およびＺ^1'は単共有結合し；ｔは１
〜４，ｕは１〜３；ｐ、ｐ’、ｎ、ｎ’は０または
１。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規の架橋性光活性ポ
リマーおよびそれを液晶の配向層としておよび非構造化
−または構造化光学要素および多層システムの製造のた
めに用いることに関する。

【０００２】

【従来技術】配向層は（電気光学的）液晶装置において
特に重要である。このものは分子の長軸が一様に、かつ
問題なく配向することを保証する目的に使用される。液
晶ディスプレー（ＬＣＤｓ）中で液晶分子を配向させる
ために、一軸方向に摩擦されるポリマー配向層、例えば
ポリイミドが一般に使用される。この方法での配向方向
は摩擦方向で決まる。しかしながらこの摩擦は液晶ディ
スプレーの光学的品質に多大な影響を及ぼし得るいくつ
かの重大な欠点を伴う。例えば摩擦によってディスプレ
ーに光学的欠陥を生じさせ得るダストが生じる。同時に
ポリマー層は静電気帯電し、これが例えば薄膜トランジ
スタ（ＴＦＴ）−ＴＮ−ＬＣＤｓの場合に薄膜トランジ
スタの下側に破損を発生させ得る。こうした理由で、Ｌ
ＣＤの製造において光学的に満足なディスプレーの最適
なものは従来には得られていなかった。

【０００３】摩擦の他の欠点は、配向方向を摩擦の間に
局所的に変更させることができないので、構造化配向層
を簡単に製造することができないことである。従って摩
擦によって大きな面積にわたり均一に配向する主要層は
造ることができる。しかしながら構造化された配向層は
多くのディスプレー工業および集積光学（integratedop
tics)品の多くの分野で非常に興味をもたれている。こ
れによって、例えばツイステッド・ネマチック（ＴＮ）
の視角依存性が改善される。

【０００４】偏光で露光すことによって配向方向を予め
決めることのできる配向層がこの数年の間に知られて来
た。これによって摩擦に伴う問題は解決することができ
る。更に、配向方向を領域毎に別々に予め決めること
で、配向層を構造化することも可能である。液晶を構造
配向する一つの方法は、適する波長の偏光に露光すこと
によって有利な方向に光化学的に誘導するために、ある
種の染料分子の異性化性を利用するものである。これ
は、例えば染料を配向ポリマーと混合し、次いで該染料
を偏光に露光することによって達成される。かゝるゲス
ト／ホスト系は例えば米国特許第４、９７４、９４１号
明細書に開示されている。この系の場合には、アゾベン
ゼン類をポリイミド配向性相に混入し、次いで偏光に曝
す。この様にして露光された層の表面と接触する液晶は
この好ましい方向に従って配向される。この配向法は可
逆的であり、即ち既に得られた配向方向は、その層を第
二の偏光方向を持つ光に更に露光すことによって再旋回
させることができる。この再旋回法は任意に繰り返すこ
とができるので、この種の配向層はＬＣＤｓで使用する
のにあまり適していない。

【０００５】液晶層において高度に分画された配向パタ
ーンを製造する別の方法は、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐ
ｈｙｓ．第３１巻（１９９２）、第２１５５頁に開示さ
れている。この方法では、直線状の偏光に曝すことによ
って誘発されるポリマーに結合した光反応性桂皮酸基の
二量体化が液晶の構造配向に利用されている。上記の可
逆的配向法と反対に、異方性ポリマー・ネットワーク
は、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．第３１巻（１９
９２）、第２１５５頁に開示されている光構造化可能な
配向層の場合に達成される。これらの光配向ポリマー・
ネットワークは、構造化−または非構造化液晶配向層が
要求されるいかなる分野でも使用できる。ＬＣＤｓの場
合を別にすれば、かゝる配向層は例えばヨーロッパ特許
出願公開（Ａ）第６１１、９８１号明細書、同第６８
９、０８４号明細書，同第６８９、０６５号明細書およ
び同第７５３、７８５号明細書で具体的に実証されてい
る様な、いわゆるハイブリッド層の製造にも使用するこ
とができる。光構造化配向ポリマーと架橋性の低分子量
液晶とより成るこれらのハイブリッド層にて、光学構成
部品、例えば非吸収性カラーフィルター、直線状のおよ
び環状偏光子、光学的抑制層(optical retardation lay
ers)等を製造することができる。

【０００６】ヨーロッパ特許出願公開（Ａ）第６１１、
７８６号明細書には、液晶のために、異方性に架橋した
光構造化配向層を製造するのに原則として適している桂
皮酸ポリマーが開示されている。これらの架橋性桂皮酸
誘導体は原則として桂皮酸（フェニルアクリル酸）のカ
ルボキシル基およびスペーサーを介してポリマー主鎖に
結合している。しかしながら従来に使用されて来たこの
種類の感光性重合体は沢山の欠点を有している。例えば
光化学的な競合反応が配向性にマイナスの影響を及ぼ
す。更に公知の桂皮酸ポリマーは光化学的な長期間安定
性が不十分である。例えば前もって製造された配向層を
紫外線に長期間露光すると、始めに存在していた配向が
崩壊する。予め決められた記録されたパターンを持つて
存在する配向層を再び露光して、未露光部分を別の方向
に配向させる多重露光は、予め露光された部分がマスク
で覆われている場合にだけ実施することができる。さも
なければ既に配向した層部分は、光化学的二次反応の結
果としてその構造の全てまたはいくらかを失い得る。

【０００７】従来に使用された桂皮酸ポリマーの別の欠
点は、偏光に単に露光することで生じる、これらの物質
より成る配向表面の場合に傾斜角がない点である。しか
しながら特にＬＣＤｓで使用する場合には、傾斜角は配
向方向の他に配向層によって付与されなければならな
い。上記の一軸方向に摩擦されるポリマー配向層の場合
には、この傾斜角はポリマー表面に摩擦工程で既に発生
する。液晶をかゝる表面に接触させれると、液晶分子は
該表面に対して平行でなく傾斜しており、従って傾斜角
が液晶に伝えられている。傾斜角の大きさは摩擦パラメ
ータ、例えば送り速度および圧力、とポリマーの化学構
造との両方によって決まる。液晶ディスプレーを製造す
るためには、種類に応じて１°〜１５°の間の傾斜角が
要求される。更に大きな傾斜角も、いわゆる指紋（ｆｉ
ｎｇｅｒｐｒｉｎｔｔｅｘｔｕｒｅｓ）の形成を避け
るために、特にスーパーツイステッド・ネマチック（Ｓ
ＴＮ）ＬＣＤｓのために必要とされる。ＴＮおよびＴＦ
Ｔ−ＴＮ−ＬＣＤｓの場合には旋回方向および傾斜方向
は傾斜角度によって限定される。それによって“逆捩
れ”および“逆傾斜”現象が避けられる。スイッチの切
れた状態での逆捩れは不適当な旋回方向の領域をもたら
し、これがディスプレーに視角的に斑な外観で現れ、逆
傾斜は場合によっては非常に厄介であり、なかでもＬＣ
Ｄのスイッチを入れた時に液晶が異なる方向に傾斜する
場合がそうである。逆旋回は適当な旋回方向のキラルな
ドーパントを含有する液晶混合物を微量混入することに
よって回避することができる。しかしながら逆傾斜を抑
制するためには、傾斜角を持つ配向層を用いる方法が従
来にはなかった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】それ故に本発明の課題
は、従来に使用された桂皮酸ポリマーの上述の欠点を有
さない、即ち光化学的長期安定性および偏光に露光後の
傾斜角が不足しておらずそして高度に分画された安定な
配向パターンを造ることを可能とする光反応性ポリマー
を製造することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】驚くべきことに本発明者
は、ヨーロッパ特許出願公開（Ａ）第６１１、７８６号
明細書に開示されておりそして光反応性単位としての３
−アリールアクリル酸誘導体（このアリールアクリル酸
誘導体は１〜３個の環を有していてもよい）のカルボキ
シル基（ＣＯＯ）またはカルボキシアミノ基（−ＣＯＮ
Ｒ−）に対してスペーサーによって結合されているポリ
マーが、少なくとも一つの環が少なくとも１つのアルコ
キシ−またはフルオロアルコキシ基によって結合点の一
つに対してオルトまたはメタ位で置換されているフェニ
ル残基である場合に、十分な傾斜角を持つ配向層をもた
らすことを見い出した。

【００１０】同時に、配向層は光化学的に比較的安定し
ておりそして、例えば非常に良好なコントラストに特徴
のある優れた液晶配向性をもたらす。直線状偏光での露
光は一般に有利な比較的長い波長範囲でまたは有利な比
較的短い露光時間で実施することができる。本発明は、
一般式Ｉ

【００１１】

【化２】

【００１２】［式中、Ｍ¹およびＭ^1'は下記の群から選
択される繰り返しモノマー単位を意味する：アクリレー
ト、メタクリレート、２−クロロアクリレート、２−フ
ェニルアクリレート；場合によっては低級アルキルでＮ
−置換されていてもよいアクリルアミド、メタクリルア
ミド、２−クロロアクリルアミドおよび２−フェニルア
クリルアミド；ビニルエーテル、ビニルエステル、スチ
レン誘導体、シロキサン類；Ｍ²は下記の群から選択さ
れる繰り返しモノマー単位を意味する：アクリレート、
メタクリレート、２−クロロアクリレート、２−フェニ
ルアクリレート；場合によっては低級アルキルでＮ−置
換されていてもよいアクリルアミド、メタクリルアミ
ド、２−クロロアクリルアミドおよび２−フェニルアク
リルアミド；ビニルエーテル、ビニルエステル；アクリ
ル酸またはメタクリル酸の直鎖状−または枝分かれアル
キルエステル、アクリル酸またはメタクリル酸のアリル
エステル、アルキルビニルエーテルまたは−エステル、
フェノキシニアルキルアクリレートまたはフェノキシア
ルキルメタクリレートまたはヒドロキシアルキルアクリ
レートまたはヒドロキシアルキルメタクリレート、フェ
ニルアルキルアクリレートまたはフェニルアルキルメタ
クリレート、ただしそれらのアルキル基は１〜２０、好
ましくは５〜２０、特に好ましくは５〜１８の炭素原子
を有する；アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ス
チレン、４−メチルスチレンまたはシロキサン類；ｗ、
ｗ¹およびｗ²は０＜ｗ≦１、０≦ｗ¹＜１および０≦
ｗ²≦０．５のコモノマーのモル分率であり、Ｓ¹およ
びＳ^1'は互いに無関係に、スペーサー単位、例えば、場
合によっては弗素原子、塩素原子またはシアノ基で単−
または複数置換された直鎖状のまたは枝分かれしたアル
キレン基−（ＣＨ₂）_r−を意味するかまたは式 −（ＣＨ₂）_r−Ｌ−（ＣＨ₂）_s− （式中、Ｌは単一結合または連結用官能基、例えば−Ｏ
−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−ＮＲ¹−、−ＮＲ¹−
ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ¹−、−ＮＲ¹−ＣＯＯ−、−Ｏ
ＣＯ−ＮＲ¹−、−ＮＲ¹−ＣＯ−ＮＲ¹−、−ＣＨ＝
ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を意味し、その際にＲ¹は水素
原子または低級アルキル基を意味しそしてｒおよびｓは
ｒ＋ｓ≦２４という条件のもとで１〜２０の整数であ
り、Ｄ，Ｄ¹は互いに無関係に−Ｏ−または−ＮＲ²−
を意味し、その際にＲ²は水素原子または低級アルキル
基であり、Ｘ、Ｘ¹、ＹまたはＹ¹は互いに無関係に水
素原子、弗素原子、塩素原子、シアノ基、場合によって
は弗素原子で置換されそしてＣＨ₂基または複数の非隣
接ＣＨ₂基が場合によっては−Ｏ−，−ＣＯＯ−、−Ｏ
ＯＣ−および／または−ＣＨ＝ＣＨ−で交換されていて
もよい炭素原子数１〜１２のアルキル基を意味し；Ａお
よびＡ’は互いに無関係にフェニレン、ピリジン−２、
５−ジイル、ピリミジン−２、５−ジイル、１、３−ジ
オキサン−２、５−ジイル、シクロヘキサン−１、４−
ジイル、ピペリジン−１、４−ジイルまたはピペラジン
−１、４−ジイルであり、ただしこれらは非置換であっ
てもまたは弗素原子、塩素原子、シアノ基、アルキル
基、アルコキシ基またはフルオロアルコキシ基で置換さ
れていてもよく；ＢおよびＢ’は互いに無関係に、フェ
ニレン、ピリジン−２、５−ジイル、ピリミジン−２、
５−ジイル、１、４−または２、６−ナフチレン、１、
３−ジオキサン−２、５−ジイルまたはシクロヘキサン
−１、４−ジイルを意味し、ただしこれらは非置換であ
ってもまたは場合によっては弗素原子、塩素原子、シア
ノ基、アルキル基、アルコキシ基またはフルオロアルコ
キシ基で置換されていてもよく；ＣおよびＣ’は互いに
無関係に、非置換であるかまたは場合によっては弗素原
子、塩素原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基ま
たはフルオロアルコキシ基で置換されていてもよいフェ
ニレン、またはピリミジン−２、５−ジイル、ピリジン
−２、５−ジイル、２、５−チオフェニレン、２、５−
フラニレンまたは１、４−または２、６−ナフチレンを
意味し；ＫまたはＫ’は互いに無関係に水素原子、弗素
原子、塩素原子、シアノ基、ニトロ基、または場合によ
っては弗素原子、塩素原子、シアノ基またはニトロ基で
置換されておりそして場合によってはそれのＣＨ₂基ま
たは複数の非隣接ＣＨ₂基が−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ま
たは−Ｃ≡Ｃ−で交換されている炭素原子数１〜２０の
直鎖状のまたは枝分かれアルキル基、アルコキシ基、ア
ルキル−ＣＯＯ、アルキル−ＣＯ−ＮＲ³またはアルキ
ル−ＯＣＯ基を意味し、その際にＲ³は水素原子または
低級アルキル基を意味し；ただし環Ａ、ＢおよびＣの少
なくとも一つおよび／または環Ａ’、Ｂ’およびＣ’の
少なくとも一つは少なくとも一つのアルコキシ基または
フルオロアルコキシ基で置換されているフェニレン残基
でありそして、Ｋがアルコキシ基またはフルオロアルコ
キシ基である場合には、環Ａ、ＢおよびＣの少なくとも
一つおよび／または環Ａ’、Ｂ’およびＣ’の少なくと
も一つは少なくとも一つの別のアルコキシ基またはフル
オロアルコキシ基で置換されているフェニレン残基であ
り；Ｚ、Ｚ’、Ｚ¹およびＺ^1'は互いに無関係に、単共
有結合、−（ＣＨ₂)_t−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−
Ｏ−、−Ｏ−ＯＣ−、−ＮＲ⁴−、−ＣＯ−ＮＲ⁴−、
−ＮＲ⁴−ＣＯ−、−（ＣＨ₂)_u−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ
₂)_u−、−（ＣＨ₂)_u−ＮＲ⁴−または−ＮＲ⁴−（Ｃ
Ｈ₂)_u−を意味し、その際にＲ⁴は水素原子または低級
アルキル基を意味し；ｔは１〜４の整数を意味し；ｕは
１〜３の整数を意味し；そしてｐ、ｐ’、ｎおよびｎ’
は互いに無関係に０または１を意味する。］で表される
ポリマーである。

【００１３】本発明は、本発明のポリマーを液晶の配向
層として用いることおよびおよび光学構成部品におい
て、特にハイブリッド層要素の製造に用いることにも関
する。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明のポリマーは、配向層を形
成するために単独でまたは混合状態で使用することがで
きる。本発明のポリマーには、ａ）ｗが１であり、ｗ¹が０でありそしてｗ²が０であ
る式Ｉで表される繰り返し構造単位を持つホモポリマ
ー、ｂ）０＜ｗ＜１、０＜ｗ¹＜１およびｗ²＝０である式
Ｉで表される繰り返し構造単位を持つコポリマー、およ
びｃ）０＜ｗ＜１、ｗ¹＝０および０＜ｗ²≦０．５であ
る式Ｉで表される繰り返し構造単位を持つコポリマーが
ある。

【００１５】ｃ）のところに記載したコポリマーが有利
である。ａ）のところに記載したホモポリマーが特に有
利である。本発明のポリマーは１０００〜５、０００、
０００、好ましくは５０００〜２、０００、０００、特
に有利には１０，０００〜１、０００、０００の分子量
Ｍ_wを有している。

【００１６】ｗ¹＝０である式Ｉの繰り返し単位を持つ
本発明のコポリマーの場合には、式Ｉについて規定した
残基Ｍ²のコモノマー単位の割合は５０％以下、好まし
くは３０％以下、特に好ましくは１５％以下である。
“コポリマー”とは好ましくはランダムなコポリマーを
意味する。繰り返し単位（Ｍ¹）および（Ｍ^1'）はアク
リレート類、例えば

【００１７】

【化３】

【００１８】アクリルアミド類、例えば

【００１９】

【化４】

【００２０】ビニルエーテルおよびビニルエステル、例
えば

【００２１】

【化５】

【００２２】スチレン誘導体、例えば

【００２３】

【化６】

【００２４】シロキサン類、例えば

【００２５】

【化７】

【００２６】（式中、Ｒ¹は水素原子または低級アルキ
ル基を意味する。）である。有利な“モノマー単位”Ｍ
¹はアクリレート、メタクリレート、２−クロロアクリ
レート、アクリルアミド、メタクリルアミド、２−クロ
ロアクリルアミド、スチレン誘導体およびシロキサン類
がある。

【００２７】特に有利な“モノマー単位”Ｍ¹はアクリ
レート、メタクリレートおよびスチレン誘導体である。
繰り返し単位Ｍ²も同様に（Ｍ¹）のところに記載した
ものおよび追加的単位、例えば直鎖状のまたは枝分かれ
アルキルエステル、フェニルアルキルエステル、フェノ
キシアルキルエステル、ヒドロキシアルキルエステル、
またはアクリル酸またはメタクリル酸のアリルエステ
ル、例えば

【００２８】

【化８】

【００２９】（式中、Ｒ²はアルキル、アリル、または
フェニル、フェノキシまたは水酸基で置換されたアルキ
ルを意味する。）がある。アルキルビニルエーテルまた
はアルキルビニルエステルには式

【００３０】

【化９】

【００３１】（式中、Ｒ³はアルキルを意味する。）で
表されるものがある。“低級アルキル”とは、単独でも
または組み込まれた形、例えば“低級アルコキシ”、
“ヒドロキシ低級アルキル”または“フェノキシ低級ア
ルキル”でも、炭素原子数１〜６、好ましくは１〜３の
直鎖状のまたは枝分かれした飽和の炭化水素基、例えば
メチル、エチル、プロピル、またはイソプロピル等であ
る。

【００３２】“アルキル”とは、単独でもまたは組み込
まれた形、例えば“アルコキシ”でも、炭素原子数２０
までの直鎖状のまたは枝分かれした飽和の炭化水素基で
ある。“フルオロアルコキシ”とは、炭化水素基が弗素
原子でモノ−またはポリ置換されている上述のアルコキ
シ基を意味する。フルオロアルコキシ基の例には１−フ
ルオロプロポキシ、１−フルオロペンチルオキシ、２−
フルオロプロポキシ、２、２−ジフルオロプロポキシ、
３−フルオロプロポキシ、３、３−ジフルオロプロポキ
シおよび３、３、３−トリフルオロプロポキシがある。

【００３３】本発明の関係において好ましい“スペーサ
ー単位”は、−（ＣＨ₂）_r−で表される直鎖状のまた
は枝分かれしたアルキレン基、ならびに−（ＣＨ₂）_r
−Ｏ−（ＣＨ₂）_s−、−（ＣＨ₂）_r−ＣＯＯ−（Ｃ
Ｈ₂）_s−、−（ＣＨ₂）_r−ＯＯＣ−（ＣＨ₂）
_s−、−（ＣＨ₂）_r−ＮＲ¹−ＣＯ−（ＣＨ₂）_s−
または−（ＣＨ₂）_r−ＮＲ¹−ＣＯＯ−（ＣＨ₂）_s
−を意味し、ただしＲ¹は水素原子または低級アルキル
でありそしてるｒおよびｓはｒ＋ｓ≦２４という条件の
もとでそれぞれ１〜２０、特に２〜１２の整数である。

【００３４】有利な“スペーサー単位”の例には１、４
−ブチレン、１，５−ペンチレン、１，６−ヘキシレ
ン、１，７−ヘプチレン、１，８−オクチレン、１，９
−ノニレン、１，１０−デシレン、１，１１−ウンデシ
レン、１，１２−ドデシレン、１，３−ブチレン、３−
メチレン−１，３−ブチレン、３−プロピレンオキシ−
６−ヘキシレン、３−プロピレンオキシ−６−ヘキシレ
ン、３−プロピレンオキシカルボニルオキシ−６−ヘキ
シレン、３−プロピレンオキシカルボニル−６−ヘキシ
レン、３−プロピレンカルボニルアミノ−６−ヘキシレ
ン、プロピレンカルバモイルヘキシレンおよびこれの類
似物がある。

【００３５】特に有利な“スペーサー単位”は式−（Ｃ
Ｈ₂）_r−で表される直鎖状アルキレン基、ならびに−
（ＣＨ₂）_r−Ｏ−（ＣＨ₂）_s−、−（ＣＨ₂）_r−
ＮＨ−ＣＯ−（ＣＨ₂）_s−または−（ＣＨ₂）_r−Ｎ
Ｈ−ＣＯＯ−（ＣＨ₂）_s−を意味し、ただしｒおよび
ｓはそれぞれ２〜１２でありそしてｒ＋ｓの合計は≦２
４、特に好ましくは≦１５である。

【００３６】本発明の関係において“非置換のまたは、
場合によっては弗素−、塩素−、シアノ−、アルキル−
またはアルコキシ置換されたフェニレン”には、非置換
のまたは弗素原子、塩素原子、シアノ基、アルキルまた
はアルコキシ基、好ましくは塩素原子、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基またはシアノ基で置換さ
れている１，３−または１，４−フェニレンが含まれ
る。

【００３７】“フェニレン”には１、２−、１，３−お
よび１，４−フェニレンがあり、１、３−および１、４
−フェニレンが有利であり、１、４−フェニレンが特に
有利である。式Ｉの化合物において、少なくとも一つの
アルコキシ基またはフルオロアルコキシ基を持つ少なく
とも一つのフェニレン基が存在している事が重要であ
る。基Ｋがアルコキシ基またはフルオロアルコキシ基で
ある場合には、少なくとも一つの別のアルコキシ−また
はフルオロアルコキシ置換基が存在していなければなら
ず、かつそれはＫ残基が存在するのと同じフェニレン基
かまたは式Ｉの化合物に含まれる他のフェニレン基の上
に位置していなければならない。

【００３８】上述の通り、ｗ¹が０である式Ｉの繰り返
し構造単位を持つコポリマーが有利であり、ｗ¹が０で
ありそしてｗ²が０である式Ｉの繰り返し構造単位を持
つホモポリマーが特に有利である。式Ｉの有利なおよび
特に有利な化合物には更に以下の通りに分けることがで
きる：ａ）Ａ、ＢおよびＣの三つの環を持つ式Ｉの化合物ｂ）ＢおよびＣの二つの環を持つ式Ｉの化合物ｃ）Ｃの一つの環を持つ式Ｉの化合物これらのうちでは、一つまたは二つの環を持つ式Ｉの化
合物が好ましい。芳香族環に存在する架橋性基に関して
は、ＸおよびＹが水素原子でありそしてＤが酸素原子で
ある化合物が有利である。

【００３９】従った、Ｍ¹、Ｍ²、Ｓ¹およびＫは式Ｉ
のところで定義した意味を有しそしてＤは酸素を意味
し、ＸおよびＹは水素原子を意味し、ｗは０＜ｗ＜１を
意味し；ｗ¹は０を意味し、ｗ²は０＜ｗ²＜０．５を
意味し、ｐは０を意味し、ｎは０または１を意味し、Ｚ
¹は単共有結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−Ｏ−、−ＣＨ₂
−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ₂−、−ＣＯ−Ｏ−または−Ｏ−Ｃ
Ｏ−を意味し、Ｃは非置換であってもまたはアルコキシ
基またはフルオロアルコキシ基で置換されているフェニ
レン基、ピリジン−２、５−ジイルまたはピリミジン−
２、５−ジイルを意味しそしてＢはフェニレン、ピリジ
ン−２、５−ジイル、ピリミジン−２、５−ジイル、シ
クロヘキサン−１、４−ジイルまたはジオキサン−１、
５−ジイルを意味し、ただしこれらは非置換であっても
またはアルコキシ基またはフルオロアルコキシ基で置換
されていてもよく；ただし環ＢおよびＣの少なくとも一
つは少なくとも一つのアルコキシ基またはフルオロアル
コキシ基で置換されているフェニレン残基でありそし
て、Ｋがアルコキシ基またはフルオロアルコキシ基を意
味する場合には、環ＢおよびＣの少なくとも一つは少な
くとも一つの別のアルコキシ基またはフルオロアルコキ
シ基で置換されているフェニレン残基であるで表される
式Ｉの化合物。

【００４０】一般式Ｉ中、Ｍ¹、Ｓ¹、Ｄ、Ｘ、Ｙ、
Ｋ、Ｚ¹、ＢおよびＣは上述の意味を有しそしてｐは０
でありそしてｎは１であるホモポリマーのうち、ｗは１
を意味しｗ¹は０を意味しそしてｗ²は０を意味するの
が有利である。一般式Ｉ中、Ｍ¹、Ｍ²、Ｓ¹およびＫ
は式Ｉのところで規定した意味を有しそしてＤは酸素原
子を意味し、ＸおよびＹは水素原子を意味し、ｗは０＜
ｗ＜１を意味し、ｗ¹は０を意味し、ｗ²は０＜ｗ²＜
０．５を意味し、ｐは０を意味し、ｎは０または１を意
味し、Ｂは非置換であるかまたはアルコキシ基またはフ
ルオロアルコキシ基で置換されていてもよいフェニレ
ン、またはシクロヘキサン−１、４−ジイルを意味し；
Ｃは非置換であってもまたはアルコキシ基またはフルオ
ロアルコキシ基で置換されているフェニレン基を意味
し、ただし存在するフェニレン残基の一つは少なくとも
一つのアルコキシ基またはフルオロアルコキシ基であり
そして、Ｋがアルコキシ基またはフルオロアルコキシ基
を意味する場合には、存在するフェニレン残基の少なく
とも一つは少なくともの一つの別のアルコキシ基または
フルオロアルコキシ基で置換されている化合物が特に有
利である。

【００４１】一般式Ｉ中、Ｍ¹、Ｓ¹、Ｄ、Ｘ、Ｙ、
Ｋ、ＢおよびＣは上述の意味を有し、ｐは０であり、ｎ
は０または１であり、ｗは１を意味し；ｗ¹およびｗ²
は０を意味するホモポリマーが特に有利である。

【００４２】式Ｉのポリマーは容易に製造できることに
特徴がある。その製造方法自体は等業者に知られてい
る。式Ｉのポリマーは原則として二つの異なる方法で製
造できる。予めに製造したモノマーを直接的に重合する
他に、反応性の桂皮酸誘導体を官能性ポリマーと重合体
同様に反応させる方法も可能である。

【００４３】直接重合のためには、それぞれの成分、即
ち式Ｉの成分の前駆体、スペーサーＳ¹および重合性成
分Ｍから最初にモノマーを製造する。次いでポリマーの
生成を自体公知の方法で実施することができる。重合は
例えば溶融状態または溶液状態で酸素の不存在下におよ
び熱的に、光化学的にまたはレドックス反応によって遊
離基を発生させ得る開始剤の存在下に実施することがで
きる。この反応は−１０℃〜１２０℃、好ましくは２０
℃〜１００℃の温度範囲内で実施することができる。

【００４４】配向層を製造するためには、本発明のポリ
マーを最初にキャリヤーに適用しなければならない。公
知のキャリヤー物質の例には酸化アルミニウム、二酸化
チタン、二酸化珪素（ガラスまたは石英）または混合酸
化物、例えばインジウム−錫酸化物（ＩＴＯ）がある。
本発明に従って光学的−または電気光学的装置のために
用いる場合には、ガラスまたは場合によっては電極で被
覆されたキャリヤー（例えばインジウム−錫酸化物（Ｉ
ＴＯ）で被覆されたガラス製シート）はキャリヤー物質
として特に重要である。ポリマーは、使用するために、
０．０５〜５０μｍの厚さの均一な層が生じる様にスピ
ン・コーティング（Spin coating) 装置でキャリヤーに
塗布する。この層を、直線状の偏光で露光することによ
って二量体化する。キャリヤーに結合した式Ｉの分子単
位を空間的に選択的に露光することによって、表面の全
く特定の領域を配向させることができそして同時に二量
体化によって安定化されている。

【００４５】例えば、選択された領域に配向層を生成す
るためには、配向させるべき領域を、偏光子および場合
によっては構造物を複写するためのマスクを使用して、
例えば高圧水銀ランプ、キセノンランプまたはパルス紫
外線レーザーに露光させる。露光時間は個々のランプに
出力に左右され、数秒〜１時間の間で変更することがで
きる。しかしながら二量体化は、架橋反応に適する輻射
線だけが通る様なフィルターを用いて均一な層に照射す
ることによって行うこともできる。

【００４６】本発明のポリマーを以下の実施例によって
更に詳細に説明する。以下の実施例において、ｇは繰り
返し単位の数を意味しているので、ポリマーは１０００
〜５、０００、０００、好ましくは５０００〜２、００
０、０００、特に好ましくは１０、０００〜１、００
０、０００の分子量Ｍ_wを有している。ｗ、ｗ¹および
ｗ²は０＜ｗ≦１、０≦ｗ¹＜１および０≦ｗ²≦０．
５のコモノマーのモル分率である。

【００４７】

【実施例】実施例１：ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシフ
ェニル）アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキシカルボ
ニル］−１−メチルエチレン］

【００４８】

【化１０】

【００４９】１．２ｇ（３．１９ｍｍｏｌ）の６−［３
（Ｅ）−（３，４−ジメトキシフェニル）アクリロイル
オキシ］−ヘキシル−２−メチルアクリレートおよび
５．２ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ）の２、２’−アゾビス
イソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）を５．２ｍｌのテトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶解する。この溶液を静かな
アルゴン流にて１５分フラッシュ洗浄する。次いで反応
容器を気密に閉じ、６０℃に加熱する。２４時間後に空
気を容器に通しそして溶液を４ｍｌのＴＨＦで希釈しそ
して８００ｍｌのジエチルエーテルに室温での激しい攪
拌下に滴加する。沈殿したポリマーを濾去し、水流ポン
プでの減圧下に６０℃で乾燥させる。更に精製するため
に、このポリマーを１０ｍｌのジクロロメタンに溶解
し、８００ｍｌのジエチルエーテル中に再び沈殿させ
る。この操作を、モノマーが薄層クロマトグラフィーで
検出されなくなるまで繰り返す。濾過および６０℃での
減圧下での乾燥によって、λ_max（ＣＨ₂Ｃｌ₂）：３
２２ｎｍ（Ａ（１％）＝４７５）の最大吸収を示す白色
の粉末として０．８８ｇのポリ［１−［６−［３（Ｅ）
−（３，４−ジメトキシフェニル）アクリロイルオキ
シ］−ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレ
ン］が得られる。

【００５０】出発原料として使用した［６−［３（Ｅ）
−（３，４−ジメトキシフェニル）アクリロイルオキ
シ］−ヘキシル−２−メタクリレートは次の様に製造し
た：［６−［３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシフェニル）ア
クリロイルオキシ］−ヘキシル−２−メタクリレート

【００５１】

【化１１】

【００５２】１．３ｇ（４．２１ｍｌ）の６−ヒドロキ
シヘキシル３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシフェニル）
アクリレートを１３ｍｌのテトラヒドロフランに溶解
し、１．０ｍｌ（７．３８ｍｍｏｌ）のトリエチルアミ
ンおよび１０ｍｇの２、６−ジ−第三ブチル−ｐ−クレ
ゾール（ＢＨＴ）を順次添加する。０．６１ｍｌ（６．
３２ｍｍｏｌ）のメタクリロイルクロライドおよび５ｍ
ｌのテトラヒドロフランを１５分の間に、０℃に冷却さ
れた溶液に添加し、次いで０℃で２時間反応させる。そ
の後に反応混合物をジエチルエーテルと水とに分け、そ
の有機相を塩化ナトリウム飽和水溶液で数回洗浄する。
次いで有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過しそし
て蒸発処理する。１００ｇのシリカゲルの上でクロロヘ
キサン・ジエチルエーテル（１：１）で残留物をクロマ
トグラフィー精製して１．２ｇの［６−［３（Ｅ）−
（３，４−ジメトキシフェニル）アクリロイルオキシ］
−ヘキシル−２−メタクリレートが得られる。

【００５３】６−ヒドロキシヘキシル−３（Ｅ）−
（３，４−ジメトキシフェニル）アクリレート

【００５４】

【化１２】

【００５５】０．７２ｍｌの１、８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ウンデセ−７−ン（１．５−５）および
５ｍｌのジメチルホルムアミドよりなる溶液を、１０ｍ
ｌのジメチルホルムアミドに１．０ｇの（Ｅ）−３，４
−ジメトキシ桂皮酸を溶解した溶液に１０分にわたって
室温で滴加する。その後に反応混合物を８０℃に加熱
し、０．１８ｇのテトラブチルアンモニウム沃化物およ
び０．７１ｍｌの６−クロロ−１−ヘキサノールを次い
で順次添加し、反応を１９時間継続する。その後に反応
混合物を室温に冷却しそしてジエチルエーテルと１Ｎの
塩酸とに分けそして有機相を塩化ナトリウム飽和溶液で
数回洗浄する。次いで有機相をＭｇＳＯ₄₄で乾燥し、濾
過しそして蒸発処理する。１５０ｇのシリカゲルの上で
トルエン／醋酸エチル（３：２）を用いて残留物をクロ
マトグラフィー精製して１．３５ｇの６−ヒドロキシヘ
キシル−３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシフェニル）ア
クリレートが得られる。

【００５６】以下のポリマーも同様な方法で合成でき
る：ｐ＝０、ｎ＝０、Ｘ＝Ｈ、Ｙ＝Ｈ、Ｄ＝Ｏ、ｗ＝
１、ｗ¹＝０およびｗ²＝０である式Ｉの化合物

【００５７】

【表１】

【００５８】

【表２】

【００５９】

【表３】

【００６０】実施例２ポリ［１−［１１−［３（Ｅ）−（３，４−ジエトキシ
フェニル）アクリロイルオキシ］−ウンデシルオキシカ
ルボニル］−１−メチルエチレン］

【００６１】

【化１３】

【００６２】１．０ｇ（２．１４ｍｍｏｌ）の１１−
［３（Ｅ）−（３，４−ジエトキシフェニル）アクリロ
イルオキシ］−ウンデシル−２−メチルアクリレートお
よび３．５ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）の２、２’−アゾ
ビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）から実施例１と同
様に操作を実施し、ポリ［１−［１１−［３（Ｅ）−
（３，４−ジエトキシフェニル）アクリロイルオキシ］
−ウンデシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレ
ン］を得る。

【００６３】出発原料として使用するの１１−［３
（Ｅ）−（３，４−ジエトキシフェニル）アクリロイル
オキシ］−ウンデシル−２−メチルアクリレートは次の
方法で製造した。メチル−３（Ｅ）−（３，４−ジエトキシフェニル）ア
クリレート

【００６４】

【化１４】

【００６５】１．８１ｇ（５．４０ｍｍｏｌ）のメチル
（トリフェニルホスホラニリデン）アクリレートを、
１．０ｇ（５．１５ｍｍｏｌ）の３、４−ジエトキシベ
ンズアルデヒドと１０ｍｌのトルエンとよりなる溶液に
室温で添加する。次いで反応を室温で１時間継続し、反
応懸濁物をシリカーゲル床で濾過することにより精製
し、濾液を蒸発処理する。シリカゲルの上でトルエン／
醋酸エチルを用いて残留物をクロマトグラフィー精製し
て、メチル−３（Ｅ）−（３，４−ジエトキシフェニ
ル）アクリレートを得る。

【００６６】３（Ｅ）−（３，４−ジエトキシフェニ
ル）アクリル酸

【００６７】

【化１５】

【００６８】１．０ｇ（４．００ｍｍｏｌ）のメチル−
３（Ｅ）−（３，４−ジエトキシフェニル）アクリレー
トを、メタノールに水酸化カリウムを溶解した１０％濃
度溶液３０ｍｌ中に懸濁させる。その後に２ｍｌの水を
添加し、この混合物を７０℃で３時間加熱する。次いで
この反応混合物を冷却しそしてジエチルエーテルと水と
に分け、有機相を塩化ナトリウム飽和溶液で数回洗浄し
そして一緒にした水性相を２５％の塩酸溶液でｐＨ４に
調整しそしてメチレンクロライドで数回抽出処理する。
メチレンクロライド相を一緒にし、ＭｇＳＯ₄4で乾燥
し、濾過しそして蒸発処理する。３（Ｅ）−（３，４−
ジエトキシフェニル）アクリル酸が得られる。

【００６９】１１−ヒドロキシウンデシル−３（Ｅ）−
（３，４−ジエトキシフェニル）アクリレート

【００７０】

【化１６】

【００７１】０．９４ｇ（４．００ｍｍｏｌ）の３
（Ｅ）−（３，４−ジエトキシフェニル）アクリル酸お
よび１．１０ｇ（４．４０ｍｍｏｌ）の１１−ブロモ−
１−ウンデカノールから出発して実施例１と同様に製造
しそして、トルエン／酢酸エチルを使用してのシリカゲ
ル上でのクロマトグラフィー精製によって１１−ヒドロ
キシウンデシル−３（Ｅ）−（３，４−ジエトキシフェ
ニル）アクリレートを得る。

【００７２】１１−［３（Ｅ）−（３，４−ジエトキシ
フェニル）アクリロイルオキシ］ウンデシル−２−メタ
クリレート

【００７３】

【化１７】

【００７４】実施例１と同様にして、１．５６ｇ（４．
００ｍｍｏｌ）の１１−ヒドロキシウンデシル−３
（Ｅ）−（３，４−ジエトキシフェニル）アクリレー
ト、０．４２ｍｌ（４．４０ｍｍｏｌ）のメタアクリロ
イルクロライドおよび０．６６ｍｌ（４．８０ｍｍｏ
ｌ）のトリエチルアミンから製造し、１１−［３（Ｅ）
−（３，４−ジエトキシフェニル）アクリロイルオキ
シ］ウンデシル−２−メタクリレートを得る。

【００７５】以下のポリマーを同様な方法で合成するこ
とができる：ｐ＝０、ｎ＝０または１、Ｘ＝Ｈ、Ｙ＝
Ｈ、Ｄ＝Ｏ、ｗ＝１、ｗ¹＝０およびｗ²＝０である式
Ｉの化合物

【００７６】

【表４】

【００７７】

【表５】

【００７８】

【表６】

【００７９】実施例３ポリ［１−［８−［３（Ｅ）−（４−エトキシ−３−プ
ロポキシフェニル）アクリロイルオキシ］−オクチルオ
キシカルボニル］−１−メチルエチレン］

【００８０】

【化１８】

【００８１】１．０ｇ（２．２４ｍｍｏｌ）の８−｛３
（Ｅ）−（４−エトキシ−３−プロポキシフェニル）ア
クリロイルオキシ｝−オクチル−２−メチルアクリレー
トおよび３．９ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）の２、２’−
アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）から実施例１
と同様に操作を実施し、ポリ［１−［８−［３（Ｅ）−
（４−エトキシ−３−プロポキシフェニル）アクリロイ
ルオキシ］−オクチルオキシカルボニル］−１−メチル
エチレン］を得る。

【００８２】出発原料として使用するの８−［３（Ｅ）
−（４−エトキシ−３−プロポキシフェニル）アクリロ
イルオキシ］−オクチル−２−メチルアクリレートは次
の方法で製造した。４−ベンゾイルオキシ−３−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド

【００８３】

【化１９】

【００８４】５．５２ｇ（４０ｍｍｏｌ）の３、４−ジ
ヒドロキシベンズアルデヒド、６．０９ｇ（４４ｍｍｏ
ｌ）の炭酸カリウム、７０ｍｇの沃化カリウム，１１０
ｍｌのアセトンおよび６．８４ｇ（４０ｍｍｏｌ）のベ
ンジルブロマイドより成る混合物を１５時間還流させ
る。その後にこの混合物を冷却し、反応懸濁物を濾過
し、濾液を蒸発処理する。シリカゲルの上でトルエン／
醋酸エチル（９：１）を用いて残留物をクロマトグラフ
ィー精製する。３．６ｇの４−ベンジルオキシ−３−ヒ
ドロキシベンズアルデヒドが得られる。

【００８５】４−ベンジルオキシ−３−プロポキシベン
ズアルデヒド

【００８６】

【化２０】

【００８７】２．１５ｇ（１５．６ｍｍｏｌ）の炭酸カ
リウム、０．２０ｇ（１．２２ｍｍｏｌ）の沃化カリウ
ムおよび１．２０ｍｌ（１３．２ｍｍｏｌ）のｎ−プロ
ピルブロマイドを、１８ｍｌのジメチルスルホキシド
（ＤＭＳＯ）に２．７３ｇ（１２．０ｍｍｏｌ）の４−
ベンジルオキシ−３−ヒドロキシベンズアルデヒドを溶
解した溶液に添加し、６０℃で２４時間反応させる。そ
の後に反応混合物を室温に冷却しそして醋酸エチルと水
とに分け、有機相を塩化ナトリウム飽和溶液で数回洗浄
し、ＭｇＳＯ₄で乾燥し、濾過しそして蒸発処理する。
５０ｇのシリカゲル上でトルエンを使用して残留物をク
ロマトグラフィー精製して、２．９０ｇの４−ベンジル
オキシ−３−ヒドロキシベンズアルデヒドを得る。

【００８８】２−（４−ベンジルオキシ−３−プロポキ
シフェニル）−５、５−ジメチル−１、３−ジオキサン

【００８９】

【化２１】

【００９０】１．４５ｇ（１３．９ｍｍｏｌ）のネオペ
ンチルグリコールおよび８８ｍｇ（０．４６ｍｍｏｌ）
のｐ−トルエンスルホン酸１水和物を、５０ｍｌのトル
エンに１．２５ｇ（４．６３ｍｍｏｌ）の４−ベンジル
オキシ−３−プロポキシベンズアルデヒドに溶解した溶
液に添加し、次いで水分離器の使用下に１時間還流させ
る。その後に反応混合物を室温に冷却しそしてトルエン
と重炭酸ナトリウム飽和溶液とに分け、有機相を水で数
回洗浄し、ＭｇＳＯ₄で乾燥し、濾過しそして蒸発処理
する。１０ｍｌのジエチルエーテルを使用して残留物を
結晶化させて、１．０７ｇの２−（４−ベンジルオキシ
−３−プロポキシフェニル）−５、５−ジメチル−１、
３−ジオキサンを得る。

【００９１】４−（５、５−ジメチル−１、３−ジオキ
サン−２−イル）−２−プロポキシフェニル

【００９２】

【化２２】

【００９３】１．０７ｇ（３．００ｍｍｏｌ）の２−
（４−ベンジルオキシ−３−プロポキシフェニル）−
５、５−ジメチル−１、３−ジオキサン、１５ｍｌのテ
トラヒドロフランおよび１０７ｇの１０％パラジウム／
Ｃ−水素化触媒よりなる混合物を室温で水素化する。６
２．４ｍｌの水素を吸収した後に、反応懸濁物をＤｉｃ
ａｌｉｔｅによって濾過しそして蒸発処理する。２５ｇ
のシリカゲルの上でトルエン／醋酸エチル（１９：１）
を用いて残留物をクロマトグラフィー精製して、７９０
ｍｇの４−（５、５−ジメチル−１、３−ジオキサン−
２−イル）−２−プロポキシフェノールが得られる。

【００９４】４−ヒドロキシ−３−プロポキシベンズア
ルデヒド

【００９５】

【化２３】

【００９６】１．２６ｇ（４．７４ｍｍｏｌ）の４−
（５、５−ジメチル−１、３−ジオキサン−２−イル）
−２−プロポキシフェノール、２０ｍｌのトルエンおよ
び２０ｍｌの蟻酸よりなる混合物を室温で２時間激しく
攪拌する。その後に反応混合物をトルエンと水に分け、
有機相を水で数回洗浄し、ＭｇＳＯ₄で乾燥し、濾過し
そして蒸発処理する。１０ｍｌのジエチルエーテルおよ
び２０ｍｌのヘキサンの混合物にて残留物を結晶化処理
して、０．７８ｍｇの４−ヒドロキシ−３−プロポキシ
ベンズアルデヒドを得る。

【００９７】３（Ｅ）−［４−ヒドロキシ−３−プロポ
キシフェニル］アクリル酸メチル

【００９８】

【化２４】

【００９９】０．７６ｇ（４．２２ｍｍｏｌ）の４−ヒ
ドロキシ−３−プロポキシベンズアルデヒドおよび１．
４８ｇ（４．４３ｍｍｏｌ）の（トリフェニルホスホラ
ニリデン）アクリル酸メチルから実施例２と同様にし
て、０．７８ｇの（Ｅ）−４−ヒドロキシ−３−プロポ
キシ桂皮酸メチルを製造する。３（Ｅ）−［４−エトキシ−３−プロポキシフェニル］
アクリル酸メチル

【０１００】

【化２５】

【０１０１】０．４９ｇ（６．６０ｍｍｏｌ）の臭化エ
チルおよび１．３７ｇ（９．９ｍｍｏｌ）の炭酸カリウ
ムを、７８０ｍｇ（３．３０ｍｍｏｌ）の（Ｅ）−４−
ヒドロキシ−３−プロポキシ桂皮酸メチルと１０ｍｌの
ブタノンとの混合物に添加し、次いで２時間還流させ
る。その後に反応混合物を室温に冷却し、醋酸エチルと
水に分け、その有機相を水で数回洗浄し、ＭｇＳＯ₄で
乾燥し、濾過しそして蒸発処理する。シリカゲルの上で
シクロヘキサン／醋酸エチル（９：１）を用いて残留物
をクロマトグラフィー精製して、３（Ｅ）−［４−エト
キシ−３−プロポキシフェニル］アクリル酸メチルを得
る。

【０１０２】３（Ｅ）−［４−エトキシ−３−プロポキ
シフェニル］アクリル酸

【０１０３】

【化２６】

【０１０４】１．０ｇ（３．７８ｍｍｏｌ）の３（Ｅ）
−［４−エトキシ−３−プロポキシフェニル］アクリル
酸メチルを、メタノールに水酸化カリウムを溶解した１
０％溶液５０ｍｌ中に懸濁させる。次いで２ｍｌの水を
添加し、この混合物を３時間、７０℃に加熱しそして次
に冷却する。その後に反応混合物をジエチルエーテルお
よび水に分け、その有機相を塩化ナトリウム飽和溶液で
数回洗浄し、集めた水性相を２５％濃度塩酸溶液でｐＨ
４に調整しそしてメチレンクロライドで数回抽出処理す
る。次にメチレンクロライド相を集め、ＭｇＳＯ₄で乾
燥し、濾過しそして蒸発処理する。３（Ｅ）−［４−エ
トキシ−３−プロポキシフェニル］アクリル酸が得られ
る。

【０１０５】３（Ｅ）−［４−エトキシ−３−プロポキ
シフェニル］アクリル酸−８−ヒドロキシオクチル

【０１０６】

【化２７】

【０１０７】１．０ｇ（４．００ｍｍｏｌ）の３（Ｅ）
−［４−エトキシ−３−プロポキシフェニル］アクリル
酸および０．９２ｇ（４．３９ｍｍｏｌ）の８−ブロモ
−１−ヘキサノールから実施例１と同様に製造する。ト
ルエン／醋酸エチルを使用して１５０ｇのシリカゲルで
クロマトグラフィー処理して３（Ｅ）−［４−エトキシ
−３−プロポキシフェニル］アクリル酸−８−ヒドロキ
シオクチルを得る。

【０１０８】８−「３（Ｅ）−（４−エトキシ−３−プ
ロポキシフェニル）アクリロイルオキシオクチル−２−
メタクリレート

【０１０９】

【化２８】

【０１１０】１．０ｇ（２．６４ｍｍｏｌ）の３（Ｅ）
−［４−エトキシ−３−プロポキシフェニル］アクリル
酸−８−ヒドロキシオクチル、０．２８ｍｌ（２．９０
ｍｍｏｌ）のメタクリロイルクロライドおよび０．４８
ｍｌ（３．４２ｍｍｏｌ）のトリエチルアミンから実施
例１と同様に実施して、８−「３（Ｅ）−（４−エトキ
シ−３−プロポキシフェニル）アクリロイルオキシオク
チル−２−メタクリレートを得る。

【０１１１】以下のポリマーも同様な方法で合成するこ
とができる：ｐ＝０、ｎ＝０または１、Ｘ＝Ｈ、Ｙ＝
Ｈ、Ｄ＝Ｏ、ｗ¹＝０およびｗ²＝０である式Ｉの化合
物

【０１１２】

【表７】

【０１１３】

【表８】

【０１１４】

【表９】

【０１１５】

【表１０】

【０１１６】

【表１１】

【０１１７】実施例４ポリ｛１−［６−［３−［３−メトキシ−４−（４−ト
ランス−ペンチルシクロヘキシル−メトキシ）フェニ
ル］−アクリロイルオキシ］ヘキシルオキシカルボニ
ル］−１−メチルエチレン｝

【０１１８】

【化２９】

【０１１９】１．９ｇ（１．８９ｍｍｏｌ）の６−｛３
（Ｅ）−［３−メトキシ−４−（４−トランス−ペンチ
ルシクロヘキシル−メトキシ）フェニル］−アクリロイ
ルオキシ］ヘキシル−２−メタクリレートおよび３．１
ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）の２，２’−アゾビスイソブ
チロニトリル（ＡＩＢＮ）から実施例１と同様にして、
０．９０ｇのポリ｛１−［６−［３−［３−メトキシ−
４−（４−トランス−ペンチルシクロヘキシル−メトキ
シ）フェニル］−アクリロイルオキシ］ヘキシルオキシ
カルボニル］−１−メチルエチレン｝を得る。

【０１２０】出発原料の６−｛３（Ｅ）−［３−メトキ
シ−４−（４−トランス−ペンチルシクロヘキシル−メ
トキシ）フェニル］−アクリロイルオキシ］ヘキシル−
２−メタクリレートは次の方法で製造した。４−ヒドロキシ−３（Ｅ）−メトキシ桂皮酸メチル

【０１２１】

【化３０】

【０１２２】２５ｇ（０．１３ｍｏｌ）の（Ｅ）−４−
ヒドロキシ−３−メトキシ桂皮酸を１８０ｍｌのメタノ
ールに溶解し、５ｍｌの濃硫酸を添加する。この溶液を
２時間還流する。その後にメタノールの大部分（約１５
０ｍｌ）を留去し、残留物を５００ｍｌの氷水に注ぎ込
む。沈殿したエステルを吸引濾過器で濾別し、次いで冷
水で、僅かのＮａＨＣＯ₃でそして再び冷水で洗浄し、
水流ポンプでの減圧下に５０℃で乾燥する。２５０ｇの
シリカゲルの上でジクロロメタン／ジエチルエーテル
（１９：１）を用いてクロマトグラフィー精製して、淡
黄色の油状物として２１．７８ｇの（Ｅ）−４−ヒドロ
キシ−３−メトキシ桂皮酸メチルを得る。

【０１２３】３（Ｅ）−（３−メトキシ−４−（４−ト
ランス−ペンチルシクロヘキシルメトキシ）フェニル］
アクリル酸メチル

【０１２４】

【化３１】

【０１２５】３．２ｇ（１７．５ｍｍｏｌ）の（４−ト
ランス−ペンチルシクロヘキシル）メタノールおよび
４．０ｇ（１９．２ｍｍｏｌ）の４−ヒドロキシ−３−
メトキシ桂皮酸メチルを９０ｍｌのテトラヒドロフラン
に溶解する。４．６ｍｌ（１８．４ｍｍｏｌ）のトリブ
チルホスフィンおよび次いで４．６ｇ（１８．４ｍｍｏ
ｌ）の１、１−（アゾジカルボニル）ジピペリジンを少
量ずつ分けて室温にて、得られた透明な溶液に添加す
る。次いでこの黄色の懸濁物を室温で１５時間攪拌し、
ジエチルエーテルと水とに分け、その有機相を飽和の塩
化ナトリウム溶液で数回洗浄し、ＭｇＳＯ₄で乾燥し、
濾過しそして蒸発処理する。２００ｇのシリカゲルの上
でトルエン／醋酸エチル（３：１）を用いてクロマトグ
ラフィー精製し、４０ｍｌの醋酸エチルおよび８０ｍｌ
のヘキサンより成る混合物で再結晶処理して４．６ｇの
３（Ｅ）−［３−メトキシ−４−（４−トランス−ペン
チルシクロヘキシルメトキシ）フェニル］アクリル酸メ
チルが得られる。

【０１２６】３（Ｅ）−［３−メトキシ−４−（４−ト
ランス−ペンチルシクロヘキシルメトキシ）フェニル］
アクリル酸

【０１２７】

【化３２】

【０１２８】４．６ｇ（１２．３ｍｍｏｌ）の３（Ｅ）
−［３−メトキシ−４−（４−トランス−ペンチルシク
ロヘキシルメトキシ）フェニル］アクリル酸メチルを、
水酸化カリウムをメタノールに溶解した１０％濃度溶液
１５０ｍｌに懸濁させる。次に６ｍｌの水を添加し、こ
の混合物を７０℃に３時間加熱する。その後に反応混合
物を冷却し、ジエチルエーテルと水とに分け、その有機
相を飽和の塩化ナトリウム溶液で数回洗浄し、集めた水
性相を２５％濃度塩酸溶液でｐＨ４に調整し、メチレン
クロライドで数回抽出処理する。メチレンクロライド相
を集め、ＭｇＳＯ₄で乾燥し、濾過しそして蒸発処理す
る。３．８ｇの３（Ｅ）−［３−メトキシ−４−（４−
トランス−ペンチルシクロヘキシルメトキシ）フェニ
ル］アクリル酸が得られる。

【０１２９】３（Ｅ）−［３−メトキシ−４−（４−ト
ランス−ペンチルシクロヘキシルメトキシ）フェニル］
アクリル酸−６−ヒドロキシヘキシル

【０１３０】

【化３３】

【０１３１】１．９５ｇ（５．４１ｍｍｏｌ）の３
（Ｅ）−［３−メトキシ−４−（４−トランス−ペンチ
ルシクロヘキシルメトキシ）フェニル］アクリル酸およ
び０．８１ｍｌ（６．１１ｍｍｏｌ）の６−クロロ−１
−ヘキサノールから出発して実施例１と同様に実施し、
トルエン／醋酸エチル（３：１）を用いて１５０ｇのシ
リカゲルの上でクロマトグラフィー精製することで、
２．６ｇの３（Ｅ）−［３−メトキシ−４−（４−トラ
ンス−ペンチルシクロヘキシルメトキシ）フェニル］ア
クリル酸−６−ヒドロキシヘキシルを得る。

【０１３２】６−｛３（Ｅ）−［３−メトキシ−４−
（４−トランス−ペンチルシクロヘキシルメトキシ）フ
ェニル］アクリロイルオキシ｝ヘキシル−２メタクリレ
ート

【０１３３】

【化３４】

【０１３４】１．１３ｇ（５．４７ｍｍｏｌ）のジシク
ロヘキシルカルボジイミドを、１．８０ｇ（４．６９ｍ
ｍｏｌ）の３（Ｅ）−［３−メトキシ−４−（４−トラ
ンス−ペンチルシクロヘキシルメトキシ）フェニル］ア
クリル酸−６−ヒドロキシヘキシル、０．４０ｍｌ
（４．６９ｍｍｏｌ）のメタクリル酸および６７ｍｇ
（０．５５ｍｍｏｌ）の２、６−ジメトキシアミノピリ
ジンより成る混合物に０℃で添加する。この反応混合物
をシリカゲル床に通して濾過し、そして蒸発処理する。
１５０ｇのシリカゲルの上でヘキサン／ジエチルエーテ
ル（３：１）を用いて残留物をクロマトグラフィー精製
して、１．９ｇの６−｛３（Ｅ）−［３−メトキシ−４
−（４−トランス−ペンチルシクロヘキシルメトキシ）
フェニル］アクリロイルオキシ｝ヘキシル−２−メタク
リレートを得る。

【０１３５】以下のポリマーを同様な方法で合成するこ
とができる：Ｘ＝Ｈ、Ｙ＝Ｈ、Ｄ＝Ｏ、ｗ＝１、ｗ¹＝
０およびｗ²＝０である式Ｉの化合物

【０１３６】

【表１２】

【０１３７】

【表１３】

【０１３８】

【表１４】

【０１３９】

【表１５】

【０１４０】実施例５ポリ｛１−［６−［３（Ｅ）−［２−エトキシ−４’−
メトキシビフェニル−４−イル）−アクリロイルオキ
シ］ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレ
ン｝

【０１４１】

【化３５】

【０１４２】１．０ｇ（２．１４ｍｍｏｌ）の６−｛３
（Ｅ）−［３−（２−エトキシ−４’−メトキシビフェ
ニル−４−イル）−アクリロイルオキシ｝ヘキシル−２
−メチルアクリレートおよび３．５ｍｇ（０．０２ｍｍ
ｏｌ）の２、２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩ
ＢＮ）から出発して実施例１と同様にして、ポリ｛１−
［６−［３（Ｅ）−［２−エトキシ−４’−メトキシビ
フェニル−４−イル）−アクリロイルオキシ］ヘキシル
オキシカルボニル］−１−メチルエチレン｝を製造す
る。

【０１４３】出発物質の６−｛３（Ｅ）−［３−（２−
エトキシ−４’−メトキシビフェニル−４−イル）−ア
クリロイルオキシ｝ヘキシル−２−メチルアクリレート
は次の方法で製造する。３（Ｅ）−［３−エトキシ−４−ヒドロキシフェニル）
−アクリル酸メチル

【０１４４】

【化３６】

【０１４５】２．１ｇ（６．３２ｍｍｏｌ）の（トリフ
ェニルホスホラニリデン）アクリル酸メチルを、１．０
ｇ（６．０１ｍｍｏｌ）の３−エトキシ−４−ヒドロキ
シベンズアルデヒドおよび１０ｍｌのトルエンより成る
溶液に室温で添加する。次いで反応を室温で１時間継続
し、反応懸濁物をシリカゲル床で濾過することによって
精製し、濾液を蒸発処理する。トルエン／醋酸エチルを
用いてシリカゲルで残留物をクロマトグラフィー精製し
て３（Ｅ）−［３−エトキシ−４−ヒドロキシフェニ
ル）−アクリル酸メチルを得る。

【０１４６】３（Ｅ）−［３−エトキシ−４−トリフル
オロメタンスルホニルオキシフェニル）−アクリル酸メ
チル

【０１４７】

【化３７】

【０１４８】１．０ｇ（４．５０ｍｍｏｌ）の３（Ｅ）
−［３−エトキシ−４−ヒドロキシフェニル）−アクリ
ル酸メチルおよび１０ｍｌのメチレンクロライドより成
る溶液に０．９４ｍｌ（６．７５ｍｍｏｌ）のトリエチ
ルアミンを添加し、次いでこの反応混合物を０℃に冷却
する。１．１１ｍｌ（６．７５ｍｍｏｌ）のトリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物および５ｍｌのメチレンクロ
ライドより成る溶液をこの温度で３０分にわたって回分
的に添加する。その後に反応懸濁物をメチレンクロライ
ドと水とに分け、その有機相を塩化ナトリウム飽和溶液
で数回洗浄し、ＭｇＳＯ₄で乾燥し、濾過しそして蒸発
処理する。シリカゲルで残留物をクロマトグラフィー精
製して、３（Ｅ）−［３−エトキシ−４−トリフルオロ
メタンスルホニルオキシフェニル）−アクリル酸メチル
を得る。

【０１４９】３（Ｅ）−［２−エトキシ−４’−メトキ
シビフェニル−４−イル）−アクリル酸メチル

【０１５０】

【化３８】

【０１５１】１．０ｇ（２．８２ｍｍｏｌ）の３（Ｅ）
−［３−エトキシ−４−トリフルオロメタンスルホニル
オキシフェニル）−アクリル酸メチル、０．４７ｇ
（３．１０ｍｍｏｌ）の４−メトキシフェニル硼酸、
０．７１ｇ（８．４６ｍｍｏｌ）の重炭酸ナトリウムお
よび２０ｍｌのジメトキシエタンより成る混合物をアル
ゴンで３度フラッシュ洗浄し、１６３ｍｇ（０．１４ｍ
ｍｏｌ）のテトラキス（トリフェニルホスフィン）−パ
ラジウム（０）を次いで添加し、次に反応を８０℃で１
５時間継続する。その後に反応混合物を冷却しそして醋
酸エチルと水とに分け、その有機相を水で洗浄しそして
ＭｇＳＯ₄で乾燥し、濾過しそして蒸発処理する。残留
物を、トルエン／醋酸エチル（３：１）を用いて１００
ｇのシリカゲル上でクロマトグラフィー精製する。３
（Ｅ）−［２−エトキシ−４’−メトキシビフェニル−
４−イル）−アクリル酸メチルが得られる。

【０１５２】３（Ｅ）−［２−エトキシ−４’−メトキ
シビフェニル−４−イル）−アクリル酸

【０１５３】

【化３９】

【０１５４】１．０ｇ（３．２ｍｍｏｌ）の３（Ｅ）−
［２−エトキシ−４’−メトキシビフェニル−４−イ
ル）−アクリル酸メチル、５０ｍｌの水酸化カリウム１
０％濃度メタノール溶液および２ｍｌの水から実施例２
と同様にして、３（Ｅ）−［２−エトキシ−４’−メト
キシビフェニル−４−イル）−アクリル酸を得る。３（Ｅ）−［２−エトキシ−４’−メトキシビフェニル
−４−イル）−アクリル酸−６−ヒドロキシヘキシル

【０１５５】

【化４０】

【０１５６】１．０ｇ（３．３５ｍｍｏｌ）の３（Ｅ）
−［２−エトキシ−４’−メトキシビフェニル−４−イ
ル）−アクリル酸、０．４９ｇ（３．６８ｍｍｏｌ）の
６−クロロ−１−ヘキサノールおよび０．５５ｇ（３．
６８ｍｍｏｌ）の１、８−ジアザビシクロ［５．４．
０］ウンデセ−７−ン（１．５−５）から実施例２と同
様にして、３（Ｅ）−［２−エトキシ−４’−メトキシ
ビフェニル−４−イル）−アクリル酸−６−ヒドロキシ
ヘキシルを得る。

【０１５７】６−［３（Ｅ）−（２−エトキシ−４’−
メトキシビフェニル−４−イル）−アクリロイルオキ
シ］ヘキシル−２−メタクリレート

【０１５８】

【化４１】

【０１５９】１．０ｇ（２．１４ｍｍｏｌ）の３（Ｅ）
−［２−エトキシ−４’−メトキシビフェニル−４−イ
ル）−アクリル酸−６−ヒドロキシヘキシル、０．３１
ｍｌ（３．２１ｍｍｏｌ）のメタクリロイルクロライド
およ０．５２ｍｌ（３．７５ｍｍｏｌ）のトリエチルア
ミンから実施例１と同様に製造して、６−［３（Ｅ）−
（２−エトキシ−４’−メトキシビフェニル−４−イ
ル）−アクリロイルオキシ］−ヘキシル−２−メタクリ
レートを得る。

【０１６０】以下のポリマーを同様な方法で合成するこ
とができる：Ｘ＝Ｈ、Ｙ＝Ｈ、Ｄ＝Ｏ、ｗ＝１、ｗ¹＝
０およびｗ²＝０である式Ｉの化合物

【０１６１】

【表１６】

【０１６２】

【表１７】

【０１６３】

【表１８】

【０１６４】

【表１９】

【０１６５】

【表２０】

【０１６６】

【表２１】

【０１６７】実施例６ポリ［１−［１１−［３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシ
フェニル）アクリロイルオキシ］−ウンデシルオキシカ
ルボニル］−１−メチルエチレン］Ｍｉｔｓｕｎｏｂｕに従うポリマー同様のエーテル化法
による

【０１６８】

【化４２】

【０１６９】２．５ｇ（４．０５ｍｍｏｌ）のポリ（２
−ヒドロキシエチルメタクリレート）貯蔵溶液（ＤＭＡ
中２１％濃度溶液）を、７．５ｍｌのジメチルアセトア
ミド（ＤＭＡ）にてアルゴン雰囲気で希釈する。２．３
２ｇ（８．８ｍｍｏｌ）のトリフェニルホスフィンおよ
び３．６２ｇ（８．１ｍｍｏｌ）の３−（４−ヒドロキ
シフェニル）アクリル酸メチルを、室温での攪拌下に反
応容器中で溶解し、その溶液を０℃に冷却する。１．４
ｍｌ（８．８ｍｍｏｌ）のジエチルアゾジカルボキシレ
ート（ＤＥＡＤ）を４時間にわたって滴加する。反応混
合物を更に１５分間、０℃で放置し、次いで氷浴を除い
た後に室温で１５時間攪拌する。次いで反応混合物を約
９００ｍｌのジエチルエーテルに激しい攪拌下に滴加
し、沈殿するポリマーを濾別し、水流ポンプでの減圧下
に６０℃で乾燥する。精製するために残留物を１０ｍｌ
のジクロロメタンに溶解し、ジエチルエーテル中に再び
沈殿させる。この操作を、薄層クロマトグラフィーでも
はやモノマーが検出されなくなるまで繰り返す。濾過お
よび減圧下での６０℃での乾燥にて、ポリ［１１−［３
（Ｅ）−３，４−ジメトキシフェニル）アクリロイルオ
キシ］ウンデシルオキシカルボニル］−１−メチルエチ
レン］を得る。

【０１７０】以下のポリマーも同様の方法で合成するこ
とができる。ポリ［１−［４−［３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシフ
ェニル）アクリロイルオキシ］ブチルカルボニル］−１
−メチルエチレン］ポリ［１−［５−［３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシフ
ェニル）アクリロイルオキシ］ペンチルカルボニル］−
１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシフ
ェニル）アクリロイルオキシ］ヘキシルカルボニル］−
１−メチルエチレン］ポリ［１−［７−［３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシフ
ェニル）アクリロイルオキシ］ヘプチルカルボニル］−
１−メチルエチレン］ポリ［１−［８−［３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシフ
ェニル）アクリロイルオキシ］オクチルカルボニル］−
１−メチルエチレン］ポリ［１−［９−［３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシフ
ェニル）アクリロイルオキシ］ノニルカルボニル］−１
−メチルエチレン］ポリ［１−［１０−［３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシ
フェニル）アクリロイルオキシ］デシルカルボニル］−
１−メチルエチレン］ポリ［１−［１１−［３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシ
フェニル）アクリロイルオキシ］ウンデシルカルボニ
ル］−１−メチルエチレン］ポリ［１−［１２−［３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシ
フェニル）アクリロイルオキシ］ドデシルカルボニル］
−１−メチルエチレン］ポリ［１−［５−［３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシフ
ェニル）アクリロイルオキシ］ペンチルカルボニル］−
１−メチルエチレン］−コ−１−［６−［３（Ｅ）−
（３，４−ジメトキシフェニル）アクリロイルオキシ］
ヘキシルカルボニル］−１−メチルエチレン］ポリ［１−［７−［３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシフ
ェニル）アクリロイルオキシ］ヘプチルカルボニル］−
１−メチルエチレン］−コ−１−［８−［３（Ｅ）−
（３，４−ジメトキシフェニル）アクリロイルオキシ］
オクチルカルボニル］−１−メチルエチレン］ポリ［１−［９−［３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシフ
ェニル）アクリロイルオキシ］ノニルカルボニル］−１
−メチルエチレン］−コ−１−［６−［３（Ｅ）−
（３，４−ジメトキシフェニル）アクリロイルオキシ］
ヘキシルカルボニル］−１−メチルエチレン］ポリ［１−［１０−［３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシ
フェニル）アクリロイルオキシ］デシルカルボニル］−
１−メチルエチレン］−コ−１−［６−［３（Ｅ）−
（３，４−ジメトキシフェニル）アクリロイルオキシ］
ヘキシルカルボニル］−１−メチルエチレン］ポリ［１−［１１−［３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシ
フェニル）アクリロイルオキシ］ウンデシルカルボニ
ル］−１−メチルエチレン］−コ−１−［７−［３
（Ｅ）−（３，４−ジメトキシフェニル）アクリロイル
オキシ］ヘプチルカルボニル］−１−メチルエチレン］ポリ［１−［８−［３（Ｅ）−（４−エトキシ−３−プ
ロポキシフェニル）アクリロイルオキシ］オクチルカル
ボニル］−１−メチルエチレン］ポリ［１−［９−［３（Ｅ）−（４−エトキシ−３−プ
ロポキシフェニル）アクリロイルオキシ］ノニルカルボ
ニル］−１−メチルエチレン］ポリ［１−［１１−［３（Ｅ）−（４−エトキシ−３−
プロポキシフェニル）アクリロイルオキシ］ウンデシル
カルボニル］−１−メチルエチレン］ポリ［１−［８−［３（Ｅ）−（４−エトキシ−３−プ
ロポキシフェニル）アクリロイルオキシ］オクチルカル
ボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−［８−［３
（Ｅ）−（３、４−ジメトキシフェニル）アクリロイル
オキシ］オクチルカルボニル］−１−メチルエチレン］ポリ［１−［９−［３（Ｅ）−（４−エトキシ−３−プ
ロポキシフェニル）アクリロイルオキシ］ノニルカルボ
ニル］−１−メチルエチレン−コ−１−［６−［３
（Ｅ）−（３、４−ジメトキシフェニル）アクリロイル
オキシ］ヘキシルカルボニル］−１−メチルエチレン］ポリ［１−［１０−［３（Ｅ）−（４−エトキシ−３−
プロポキシフェニル）アクリロイルオキシ］デシルカル
ボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−［１０−［３
（Ｅ）−（３、４−ジメトキシフェニル）アクリロイル
オキシ］デシルカルボニル］−１−メチルエチレン］ポリ｛１−［６−［３−［３−メトキシ−４−（４−ト
ランス−ペンチルシクロヘキシルメトキシ）フェニル］
アクリロイルオキシ］ヘキシルオキシカルボニル］−１
−メチルエチレン｝ポリ｛１−［１１−［３−［３−メトキシ−４−（４−
トランス−ペンチルシクロヘキシルメトキシ）フェニ
ル］アクリロイルオキシ］ウンデシルオキシカルボニ
ル］−１−メチルエチレン｝ポリ｛１−［６−［３−［３−メトキシ−４−（４−ト
ランス−ペンチルシクロヘキシルメトキシ）フェニル］
アクリロイルオキシ］ヘキシルオキシカルボニル］−１
−メチルエチレン−コ−１−［１０−［３（Ｅ）−
（３、４−ジメトキシフェニル）アクリロイルオキシ］
デシルカルボニル］−１−メチルエチレン｝ポリ｛１−［１１−［３−［３−メトキシ−４−（４−
トランス−ペンチルシクロヘキシルメトキシ）フェニ
ル］アクリロイルオキシ］ウンデシルオキシカルボニ
ル］−１−メチルエチレン−コ−１−［８−［３（Ｅ）
−（４−エトキシ−３−プロポキシフェニル）アクリロ
イルオキシ］オクチルカルボニル］−１−メチルエチレ
ン｝ポリ｛１−［６−［３（Ｅ）−［２−エトキシ−４’−
メトキシビフェニル−４−イル）アクリロイルオキシ］
ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン｝ポリ｛１−［１１−［３（Ｅ）−［２−エトキシ−４’
−メトキシビフェニル−４−イル）アクリロイルオキ
シ］ウンデシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレ
ン｝ポリ｛１−［６−［３（Ｅ）−［２−エトキシ−４’−
メトキシビフェニル−４−イル）アクリロイルオキシ］
ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン−コ
−１−［１１−［３（Ｅ）−（２−エトキシ−４’−メ
トキシビフェニル−４−イル）アクリロイルオキシ］ウ
ンデシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン｝ポリ｛１−［６−［３（Ｅ）−［２−エトキシ−４’−
メトキシビフェニル−４−イル）アクリロイルオキシ］
ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン−コ
−１−［８−［３（Ｅ）−（４−エトキシ−３−プロポ
キシフェニル）アクリロイルオキシ］オクチルカルボニ
ル］−１−メチルエチレン｝実施例７：ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−メ
トキシビフェニル）アクリロイルオキシ］−ヘキシルオ
キシカルボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−［２
−エチルヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチ
レン］

【０１７１】

【化４３】

【０１７２】０．３４ｇ（０．９１ｍｍｏｌ）の６−
［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−メトキシビフェニ
ル）アクリロイルオキシ］−ヘキシル−２−メタクリレ
ート、０．０１ｇ（０．０５ｍｍｏｌ）の２−エチルヘ
キシルメタクリレート（Ｆｌｕｋａ６４０７２）およ
び１．６ｍｇ（０．００９５ｍｍｏｌ）の２、２’−ア
ゾビスイソブチロニトリルを１．９ｍｌのテトラヒドロ
フラン（ＴＨＦ）に溶解する。この溶液を３０分間、静
かなアルゴン流にてフラッシュ洗浄する。反応容器を気
密に封じ、５５℃に１５時間加熱する。その後に容器を
開放し、その溶液を２ｍｌのＴＨＦで希釈しそして室温
で激しい攪拌下に０．９Ｌのジエチルエーテルに滴加す
る。沈殿するポリマーを濾別しそして水流ポンプでの減
圧下に５０℃で乾燥する。更に精製するためにポリマー
を約５ｍｌのジクロロメタンに溶解し、０．９Ｌのジエ
チルエーテル中に再び沈殿させる。薄層クロマトグラフ
ィーでもはやモノマーが検出されなくなるまで、この操
作を繰り返す。濾過しそして５０℃で水流ポンプでの減
圧下に乾燥することで、ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−
（３−エトキシ−４−メトキシビフェニル）アクリロイ
ルオキシ］−ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチル
エチレン−コ−１−［２−エチルヘキシルオキシカルボ
ニル］−１−メチルエチレン］を得る。

【０１７３】出発原料として使用した６−［３（Ｅ）−
（３−エトキシ−４−メトキシフェニル）アクリロイル
オキシ］−ヘキシル−２−メタクリレートは、ポリ［１
−［８−［３（Ｅ）−（４−エトキシ−３−プロポキシ
フェニル）アクリロイルオキシ］オクチルオキシカルボ
ニル］−１−メチルエチレン］（実施例３）と同様に製
造する。

【０１７４】以下のポリマーも同様の方法で製造するこ
とができる：ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−メ
トキシフェニル）アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキ
シカルボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−［２−
エチルヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレ
ン］（９：１）ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−メ
トキシフェニル）アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキ
シカルボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−［２−
エチルヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレ
ン］（４：１）ポリ［１−［１１−［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−
メトキシフェニル）アクリロイルオキシ］−ウンデシル
オキシカルボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−
［２−エチルヘキシルオキシカルボニル］−エチレン］ポリ［１−［８−［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−メ
トキシフェニル）アクリロイルオキシ］−オクチルオキ
シカルボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−ヘキシ
ロイルオキシカルボニルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−メ
トキシフェニル）アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキ
シカルボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−メトキ
シカルボニル−１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−メ
トキシフェニル）アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキ
シカルボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−エトキ
シカルボニル−１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−メ
トキシフェニル）アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキ
シカルボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−プロポ
キシカルボニル−１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−メ
トキシフェニル）アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキ
シカルボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−ブチル
オキシカルボニル−１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−メ
トキシフェニル）アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキ
シカルボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−ペンチ
ルオキシカルボニル−１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−メ
トキシフェニル）アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキ
シカルボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−ヘキシ
ルオキシカルボニル−１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−メ
トキシフェニル）アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキ
シカルボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−オクチ
ルオキシカルボニル−１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−メ
トキシフェニル）アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキ
シカルボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−ドデシ
ルオキシカルボニル−１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−メ
トキシフェニル）アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキ
シカルボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−オクタ
デシルオキシカルボニル−１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−メ
トキシフェニル）アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキ
シカルボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−アリル
オキシカルボニル−１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−メ
トキシフェニル）アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキ
シカルボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−フェニ
ルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−メ
トキシフェニル）アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキ
シカルボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−メトキ
シカルボニル−エチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−メ
トキシフェニル）アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキ
シカルボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−ブチル
オキシカルボニル−エチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３−エトキシ−４−メ
トキシフェニル）アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキ
シカルボニル］−１−メチルエチレン−コ−１−シアノ
エチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（２−エトキシ−４’−
メトキシフェニル−４−イル）アクリロイルオキシ］−
ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン−コ
−１−メトキシカルボニル−１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（２−エトキシ−４’−
メトキシビフェニル−４−イル）アクリロイルオキシ］
−ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン−
コ−１−エトキシカルボニル−１−メチルエチレン］
（１９：１）ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（２−エトキシ−４’−
メトキシビフェニル−４−イル）アクリロイルオキシ］
−ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン−
コ−１−プロポキシカルボニル−１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（２−エトキシ−４’−
エトキシビフェニル−４−イル）アクリロイルオキシ］
−ヘキシルオキシ−１−メチルエチレン−コ−１−［２
−メチルプロポキシカルボニル］−１−メチルエチレ
ン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（２−プロポキシ−４’
−エトキシビフェニル−４−イル）アクリロイルオキ
シ］−ヘキシルオキシ−１−メチルエチレン−コ−１−
ブチルオキシカルボニル−１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（２−プロポキシ−４’
−エトキシビフェニル−４−イル）アクリロイルオキ
シ］−ヘキシルオキシ−１−メチルエチレン−コ−１−
ペンチルオキシカルボニル−１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（２−プロポキシ−４’
−エトキシビフェニル−４−イル）アクリロイルオキ
シ］−ヘキシルオキシ−１−メチルエチレン−コ−１−
ヘキシルオキシカルボニル−１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（２−プロポキシ−４’
−エトキシビフェニル−４−イル）アクリロイルオキ
シ］−ヘキシルオキシ−１−メチルエチレン−コ−１−
［２−エチルヘキシルオキシカルボニル−１−メチルエ
チレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（２−エトキシ−４’−
メトキシビフェニル−４−イル）アクリロイルオキシ］
−ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン−
コ−１−オクチルオキシカルボニル−１−メチルエチレ
ン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（２−エトキシ−４’−
メトキシビフェニル−４−イル）アクリロイルオキシ］
−ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン−
コ−１−ウンデシルオキシカルボニル−１−メチルエチ
レン］ポリ［１−［６−［３−（３−メトキシ−４−（４−ト
ンス−ペンチルシクロヘキシル−メトキシ）フェニル］
アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキシカルボニル］−
１−メチルエチレン−コ−１−ドデシルオキシカルボニ
ル−１−メチルエチレン］ポリ［１−［８−［３−（３−メトキシ−４−（４−ト
ンス−ペンチルシクロヘキシル−メトキシ）フェニル］
アクリロイルオキシ］−オクチルオキシカルボニル］−
１−メチルエチレン−コ−１−オクタデシルオキシカル
ボニル−１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３−（３−メトキシ−４−（４−ト
ンス−ペンチルシクロヘキシル−メトキシ）フェニル］
アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキシカルボニル］−
１−メチルエチレン−コ−１−アリルオキシカルボニル
−１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３−（３−メトキシ−４−（４−ト
ンス−ペンチルシクロヘキシル−メトキシ）フェニル］
アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキシカルボニル］−
１−メチルエチレン−コ−１−［２−フェノキシエトキ
シカルボニル］−１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３−（３−メトキシ−４−（４−ト
ランス−ペンチルシクロヘキシル−メトキシ）フェニ
ル］アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキシカルボニ
ル］−１−メチルエチレン−コ−１−［２−フェニルエ
トキシカルボニル］−１−メチルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（２−エトキシ−４’−
メトキシビフエニル−４−イル）アクリロイルオキシ］
−ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン−
コ−１−フェニルエチレン］ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（２−エトキシ−４’−
メトキシビフエニル−４−イル）アクリロイルオキシ］
−ヘキシルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン−
コ−１−シアノエチレン］

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＣ０８Ｆ 20/56 Ｃ０８Ｆ 20/56 Ｃ０８Ｇ 77/38 Ｃ０８Ｇ 77/38 Ｇ０２Ｆ 1/1337 ５２０Ｇ０２Ｆ 1/1337 ５２０ (72)発明者アンドレアス・シユースタードイツ連邦共和国、79110 フライブルク、フアルケンベルガーストラーセ、14 (72)発明者フーベルト・ザイベルレドイツ連邦共和国、79576 ウアイル・アム・ライン、ボーデンゼーストラーセ、１

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式Ｉ【化１】［式中、Ｍ¹およびＭ^1'は下記の群から選択される繰り
返しモノマー単位を意味する：アクリレート、メタクリ
レート、２−クロロアクリレート、２−フェニルアクリ
レート；場合によっては低級アルキル基でＮ−置換され
ていてもよいアクリルアミド、メタクリルアミド、２−
クロロアクリルアミドおよび２−フェニルアクリルアミ
ド；ビニルエーテル、ビニルエステル、スチレン誘導
体、シロキサン類；Ｍ²は下記の群から選択される繰り
返しモノマー単位を意味する：アクリレート、メタクリ
レート、２−クロロアクリレート、２−フェニルアクリ
レート；場合によっては低級アルキルでＮ−置換されて
いてもよいアクリルアミド、メタクリルアミド、２−ク
ロロアクリルアミドおよび２−フェニルアクリルアミ
ド；ビニルエーテル、ビニルエステル；アクリル酸また
はメタクリル酸の直鎖状−または枝分かれアルキルエス
テル、アクリル酸またはメタクリル酸のアリルエステ
ル、アルキルビニルエーテルまたは−エステル、フェノ
キシニアルキルアクリレートまたはフェノキシアルキル
メタクリレートまたはヒドロキシアルキルアクリレート
またはヒドロキシアルキルメタクリレート、フェニルア
ルキルアクリレートまたはフェニルアルキルメタクリレ
ート、ただしそれらのアルキル基は１〜２０、好ましく
は５〜２０、特に好ましくは５〜１８の炭素原子を有す
る；アクリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレ
ン、４−メチルスチレンまたはシロキサン類；ｗ、ｗ¹
およびｗ²は０＜ｗ≦１、０≦ｗ¹＜１および０≦ｗ²
≦０．５のコモノマーのモル分率であり、Ｓ¹およびＳ^1'は互いに無関係に、スペーサー単位、例
えば、場合によっては弗素原子、塩素原子またはシアノ
基で単−または複数置換された直鎖状のまたは枝分かれ
したアルキレン基−（ＣＨ₂）_r−を意味するかまたは
式 −（ＣＨ₂）_r−Ｌ−（ＣＨ₂）_s− （式中、Ｌは単一結合または連結用官能基、例えば−Ｏ
−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−ＮＲ¹−、−ＮＲ¹−
ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ¹−、−ＮＲ¹−ＣＯＯ−、−Ｏ
ＣＯ−ＮＲ¹−、−ＮＲ¹−ＣＯ−ＮＲ¹−、−ＣＨ＝
ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を意味し、その際にＲ¹は水素
原子または低級アルキル基を意味しそしてｒおよびｓは
ｒ＋ｓ≦２４という条件のもとで１〜２０の整数であ
り、Ｄ，Ｄ¹は互いに無関係に−Ｏ−または−ＮＲ²−を意
味し、その際にＲ²は水素原子または低級アルキル基で
あり、Ｘ、Ｘ¹、ＹまたはＹ¹は互いに無関係に水素原子、弗
素原子、塩素原子、シアノ基、場合によっては弗素原子
で置換されそしてＣＨ₂基または複数の非隣接ＣＨ₂基
が場合によっては−Ｏ−，−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−およ
び／または−ＣＨ＝ＣＨ−で交換されていてもよい炭素
原子数１〜１２のアルキル基を意味し；ＡおよびＡ’は
互いに無関係にフェニレン、ピリジン−２、５−ジイ
ル、ピリミジン−２、５−ジイル、１、３−ジオキサン
−２、５−ジイル、シクロヘキサン−１、４−ジイル、
ピペリジン−１、４−ジイルまたはピペラジン−１、４
−ジイルであり、ただしこれらは非置換であってもまた
は弗素原子、塩素原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基または
フルオロアルコキシ基で置換されていてもよく；Ｂおよ
びＢ’は互いに無関係に、フェニレン、ピリジン−２、
５−ジイル、ピリミジン−２、５−ジイル、１、４−ま
たは２、６−ナフチレン、１、３−ジオキサン−２、５
−ジイルまたはシクロヘキサン−１、４−ジイルを意味
し、ただしこれらは非置換であってもまたは場合によっ
ては弗素原子、塩素原子、シアノ基、アルキル基、アル
コキシ基またはフルオロアルコキシ基で置換されていて
もよく；ＣおよびＣ’は互いに無関係に、非置換である
かまたは場合によっては弗素原子、塩素原子、シアノ
基、アルキル基、アルコキシ基またはフルオロアルコキ
シ基で置換されていてもよいフェニレン、またはピリミ
ジン−２、５−ジイル、ピリジン−２、５−ジイル、
２、５−チオフェニレン、２、５−フラニレンまたは
１、４−または２、６−ナフチレンを意味し；Ｋまたは
Ｋ’は互いに無関係に水素原子、弗素原子、塩素原子、
シアノ基、ニトロ基、または場合によっては弗素原子、
塩素原子、シアノ基またはニトロ基で置換されておりそ
して場合によってはそれのＣＨ₂基または複数の非隣接
ＣＨ₂基が−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で
交換されている炭素原子数１〜２０の直鎖状のまたは枝
分かれアルキル基、アルコキシ基、アルキル−ＣＯＯ、
アルキル−ＣＯ−ＮＲ³またはアルキル−ＯＣＯ基を意
味し、その際にＲ³は水素原子または低級アルキル基を
意味し；ただし環Ａ、ＢおよびＣの少なくとも一つおよ
び／または環Ａ’、Ｂ’およびＣ’の少なくとも一つは
少なくとも一つのアルコキシ基またはフルオロアルコキ
シ基で置換されているフェニレン残基でありそして、Ｋ
がアルコキシ基またはフルオロアルコキシ基である場合
には、環Ａ、ＢおよびＣの少なくとも一つおよび／また
は環Ａ’、Ｂ’およびＣ’の少なくとも一つは少なくと
も一つの別のアルコキシ基またはフルオロアルコキシ基
で置換されているフェニレン残基であり；Ｚ、Ｚ’、Ｚ
¹およびＺ^1'は互いに無関係に、単共有結合、−（ＣＨ
₂)_t−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＯＣ
−、−ＮＲ⁴−、−ＣＯ−ＮＲ⁴−、−ＮＲ⁴−ＣＯ
−、−（ＣＨ₂)_u−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ₂)_u−、−（Ｃ
Ｈ₂)_u−ＮＲ⁴−または−ＮＲ⁴−（ＣＨ₂)_u−を意味
し、その際にＲ⁴は水素原子または低級アルキル基を意
味し；ｔは１〜４の整数を意味し；ｕは１〜３の整数を
意味し；そしてｐ、ｐ’、ｎおよびｎ’は互いに無関係
に０または１を意味する。］で表されるポリマー。
【請求項２】一般式Ｉ中、Ｍ¹、Ｍ²、Ｓ¹およびＫ
は請求項１に記載の意味を有しそしてＤは酸素を意味
し、ＸおよびＹは水素原子を意味し、ｗは０＜ｗ＜１を意味し；ｗ¹は０を意味し、ｗ²は０＜ｗ²＜０．５を意味し、ｐは０を意味し、ｎは０または１を意味し、Ｚ¹は単共有結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−Ｏ−、−ＣＨ
₂−Ｏ−、 −Ｏ−ＣＨ₂−、−ＣＯ−Ｏ−または−Ｏ−ＣＯ−を意
味し、Ｃは非置換であるかまたはアルコキシ基またはフルオロ
アルコキシ基で置換されているフェニレン、ピリジン−
２、５−ジイルまたはピリミジン−２、５−ジイルを意
味しそしてＢはフェニレン、ピリジン−２、５−ジイ
ル、ピリミジン−２、５−ジイル、シクロヘキサン−１、４−ジイルまたはジオキサン−
１、５−ジイルを意味し、ただしこれらは非置換である
かまたはアルコキシ基またはフルオロアルコキシ基で置
換されており；ただし環ＢおよびＣの少なくとも一つは
少なくとも一つのアルコキシ基またはフルオロアルコキ
シ基で置換されているフェニレン残基でありそして、Ｋ
がアルコキシ基またはフルオロアルコキシ基を意味する
場合には、環ＢおよびＣの少なくとも一つは少なくとも
一つの別のアルコキシ基またはフルオロアルコキシ基で
置換されているフェニレン残基である請求項１に記載の
ポリマー。
【請求項３】一般式Ｉ中、Ｍ¹、Ｓ¹、Ｄ、Ｘ、Ｙ、
Ｋ、Ｚ¹、Ｂ、Ｃ、ｎおよびｐは請求項２に記載の意味を有しそしてｗは１
を意味し；ｗ¹は０を意味しそしてｗ²は０を意味する
請求項２に記載のポリマー。
【請求項４】一般式Ｉ中、Ｍ¹、Ｍ²、Ｓ¹、Ｄ、
Ｘ、Ｙ、Ｋ、Ｚ¹、ｎ、ｐ、ｗ、ｗ¹およびｗ²は請求
項２に記載の意味を有しそしてＢは非置換であるかまた
はアルコキシ基またはフルオロアルコキシ基で置換され
ていてもよいフェニレン、またはシクロヘキサン−１、
４−ジイルを意味し；Ｃは非置換であってもまたはアル
コキシ基またはフルオロアルコキシ基で置換されている
フェニレン基を意味し、ただし存在するフェニレン残基の一つは少なくとも一つ
のアルコキシ基またはフルオロアルコキシ基でありそし
て、Ｋがアルコキシ基またはフルオロアルコキシ基を意
味する場合には、存在するフェニレン残基の少なくとも
一つは少なくともの一つの別のアルコキシ基またはフル
オロアルコキシ基で置換されている請求項２に記載のポ
リマー。
【請求項５】一般式Ｉ中、Ｍ¹、Ｓ¹、Ｄ、Ｘ、Ｙ、
Ｋ、Ｚ¹、Ｂ、Ｃ、ｎおよびｐは請求項４に記載の意味を有しそしてｗは１
を意味し；ｗ¹は０を意味しそしてｗ²は０を意味する
請求項４に記載のポリマー。
【請求項６】ポリ［１−［６−［３（Ｅ）−（３，４
−ジメトキシフェニル）アクリロイルオキシ］−ヘキシ
ルオキシカルボニル］−１−メチルエチレン］、ポリ
［１−［１１−［３（Ｅ）−（３，４−ジエトキシフェ
ニル）アクリロイルオキシ］−ウンデシルオキシカルボ
ニル］−１−メチルエチレン］、ポリ［１−［１１−
［３（Ｅ）−（３，４−ジメトキシフェニル）アクリロ
イルオキシ］−ウンデシルオキシカルボニル］−１−メ
チルエチレン］、ポリ［１−［８−［３（Ｅ）−（４−
エトキシ−３−プロポキシフェニル）アクリロイルオキ
シ］−オクチルオキシカルボニル］−１−メチルエチレ
ン］、ポリ｛１−［６−［３−［３−メトキシ−４−
（４−トランス−ペンチルシクロヘキシル−メトキシフ
ェニル］−アクリロイルオキシ］ヘキシルオキシカルボ
ニル］−１−メチルエチレン｝、ポリ［１−［６−［３
（Ｅ）−（２−エトキシ−４’−メトキシビフェニル−
４−イル）アクリロイルオキシ］−ヘキシルオキシカル
ボニル］−１−メチルエチレン］である請求項１〜５の
いずれか一つに記載のポリマー。
【請求項７】請求項１〜６のいずれか一つに記載の光
架橋性ポリマーを、液晶の配向層の製造におよび光学構
成部品において、特にハイブリッド層要素の製造に用い
る方法。