KR102415449B1 - 광 정렬가능한 오브젝트 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 광 정렬가능한 오브젝트를 제조하기 위한 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 광 정렬가능한 오브젝트들 및 그것들을 사용한 디바이스들의 상이한 실시예들 뿐만 아니라, 광 정렬가능한 오브젝트의 제조를 위한 조성들을 제공한다.

Description

광 정렬가능한 오브젝트{PHOTO－ALIGNABLE OBJECT}
본 발명은 광 정렬 속성들을 가진 오브젝트(object)들 및 그것의 준비를 위한 방법들에 관한 것이다.
최근에, 광 정렬은 수동형 3D 텔레비전 및 모니터들을 위해, 또한 필름 패터닝 리타더들로서 알려진, 3D-변환기 필름들과 같은, 다양한 애플리케이션들을 위한 액정 디스플레이들(LCD) 및 이방성 광학 필름들의 대규모 생산에서 성공적으로 도입되어 왔다. 상기 애플리케이션들의 각각에서, 얇은 광 정렬 층들은 액정들을 정렬시키기 위해 이용된다. 광 정렬 층이 스위칭 가능한 액정들을 정렬시키기 위해 액정 패널 내부에서 사용되는 경우에, 광 정렬 층의 정렬 속성은, 액정 재료가 인가된 전기장과의 상호 작용으로 인해 그것이 스위칭될 때마다 재정렬되어야 하기 때문에 디스플레이의 수명에 걸쳐 유지되어야 한다. 이방성 광학 필름들의 경우에, 액정들은 광 정렬 층에 의해 그것들이 정렬된 후 교차-결합된다. 특정 실시예들이, 예를 들면, US'6'717'644에서 발견될 수 있다.
솔질된 표면들에 의한 액정들의 종래의 정렬에 비교하여, 광 정렬 기술은, 높은 재생성, 정렬 패터닝 및 롤 대 롤 제조를 위한 적합성과 같은, 많은 이점들을 가진다. 또한, 광 정렬은, 광 정렬 층들에서 정렬을 발생시키는 광이 표면 변조를 따를 수 있기 때문에, 렌즈들과 같은, 곡선 표면들 상에 적용될 수 있으며, 이것은 대안적인 정렬 방법들의 대부분에 대한 경우는 아니다. 최신의 광 정렬 기술에서, 광 정렬 재료들의 얇은 층들이 유리 판 또는 플라스틱 포일과 같은, 기판에 적용된다. 정렬 정보는 정렬 층의 표면에 의해 전달되므로, 그것의 두께는 덜 중요하며 디바이스 제조자들은 재료 비용들을 감소시키기 위해 낮은 두께를 선택한다. 최신 기술에서 광 정렬 층들의 통상적인 두께는 대략 100nm 이하이다. 이것은 특히 LCD들에서 정렬 층들로서 애플리케이션을 위한 경우이며, 여기에서 보다 두꺼운 층들은 그것들이 LCD를 스위칭하기 위한 유효 임계 전압의 증가를 야기한다는 단점을 가진다.
기판들이 편평하거나 약간 곡선인 한, 광 정렬 층에 동종으로 적용하기 위해 사용될 수 있는 상이한 표준 코팅 기술들이 있다. 그러나, 광 정렬 층이 보다 작은 구조들, 예를 들면, 마이크로 렌즈들 또는 마이크로-프리즘들과 같은, 마이크로구조들 또는 직사각형 구조들과 같은, 형태의 갑작스런 변화들을 보이는 구조들을 포함하는 기판에 적용되어야 한다면, 얇은 동종 층의 코팅은 보다 복잡하며 특정 애플리케이션에 의존하여, 심지어 불가능할 수 있다.
최신의 광 정렬 기술의 추가 단점은 액정들과 같은, 정렬될 필요가 있는 재료들에 대한 지지대로서 사용되는 기판들이 먼저 얇은 광 정렬 층으로 코팅되어야 하며, 이것은 비용들 및 제조 시간을 증가시키며 제조 수율을 감소시킨다는 것이다.
본 발명의 목적은 최신의 광 정렬 기술의 상기 언급된 단점들을 극복하는, 해결책을 제공하는 것이다.
본 발명은 광 정렬가능한 오브젝트를 제조하기 위한 방법을 포함한다. 본 발명은 광 정렬가능한 오브젝트의 제조를 위한 조성들을 추가로 제공한다. 본 발명은 또한 이러한 오브젝트들을 통합한 디바이스들 뿐만 아니라, 광 정렬가능한 오브젝트들의 상이한 실시예들을 제공한다.
본 발명에 따른 방법에서, 오브젝트는 광 정렬가능한 재료를 포함하는, 재료 조성으로부터 제조된다. 본 발명의 방법은 상기 오브젝트 자체가 광 정렬가능하며 얇은 광 정렬 층의 부가적인 증착이 요구되지 않는 최신의 광 정렬 기술의 것과 상이하다. 이것은 코팅 단계들의 수가 감소되며, 이는 제조시 수율을 증가시킨다는 이점을 가진다.
따라서, 광 정렬가능한 오브젝트의 준비를 위한 본 발명의 방법은,
- 광 정렬가능한 재료를 포함하는 재료 조성을 제공하는 단계, 및
- 상기 재료 조성으로부터의 오브젝트의 생성 단계를 포함한다.
상기 재료 조성은 광 정렬가능한 재료 단독으로 이루어질 수 있거나 그것은 부가적인 물질들을 포함한다. 바람직하게는, 상기 재료 조성은 적어도 하나의 광 정렬가능한 재료 및 적어도 하나의 부가적인 물질을 포함하며, 여기에서 상기 재료들은 그렇게 선택되어 상기 조성으로부터 준비된 오브젝트에서, 상 분리가 발생할 수 있도록 하며, 따라서 적어도 하나의 종류의 광 정렬가능한 재료의 농도는 오브젝트의 벌크에서보다 적어도 상기 오브젝트의 하나의 표면에서 더 높다.
이러한 애플리케이션의 의미에서 오브젝트는 임의의 형태 또는 형상을 가질 수 있다. 예를 들면, 그것은 복잡한 표면들을 가진 몸체일 수 있다. 바람직한 실시예에서, 오브젝트는 가요성 포일이다. 또 다른 바람직한 실시예에서, 상기 오브젝트는 마이크로 렌즈들 또는 마이크로 프리즘들과 같은 마이크로구조들과 같은, 지형상 표면 구조들, 또는 직사각형 구조들과 같은, 형태의 갑작스런 변화들을 보이는 구조들을 포함한다.
상기 오브젝트는 압출, 주조, 성형, 2D- 또는 3D-인쇄 또는 코팅과 같은 임의의 적절한 방법에 의해 생성될 수 있다.
본 발명은 첨부한 도면들에 의해 추가로 예시된다. 다양한 특징들이 반드시 일정한 비율로 그려지지 않는다는 것이 강조된다.
도 1은 얇은 광 정렬 층이 지지대에 적용되는, 최신의 광 정렬 기술의 예를 묘사한 도면.
도 2는 애플리케이션을 도시한 도면이고, 여기에서 표면 구조를 가진 광 정렬가능한 오브젝트는 최상부 상에서 슬레이브 재료를 정렬시키기 위해 사용되었다.
도 3은 셀을 도시한 도면이고, 여기에서 액정은 2개의 광 정렬된 오브젝트들에 의해 정렬된다.
도 4는 표면 구조들을 가진 광 정렬가능한 오브젝트를 생성하는 예를 예시한 도면.
도 5는 각인에 의해 표면 구조들을 가진 광 정렬가능한 오브젝트를 생성하는 방법을 예시한 도면.
도 6은 표면 구조들을 가진 광 정렬된 오브젝트를 사용하여 광학적으로 이방성 렌즈들을 생성하기 위한 방법을 도시한 도면.
본 발명의 제 1 양태에 따르면, 광 정렬가능한 오브젝트를 제조하기 위한 방법에 제공되고 있다.
본 출원의 맥락에서, 광 정렬가능한 오브젝트는 광 정렬가능한 재료를 포함하는, 오브젝트를 의미한다.
광 정렬가능한 오브젝트의 준비를 위한 본 발명의 방법은:
- 광 정렬가능한 재료를 포함하는 재료 조성을 제공하는 단계, 및
- 상기 재료 조성으로부터 오브젝트의 생성 단계를 포함한다.
본 발명에 따른 오브젝트는 임의의 형태를 가질 수 있다. 예를 들면, 오브젝트는 구체, 입방체, 원통, 튜브, 슬리브, 포일, 렌즈, 타원체, 직육면체, 원환체, 원뿔, 쐐기, 피라미드 또는 프리즘의 형태를 가질 수 있다. 오브젝트는 편평하거나 곡선이고, 단단하거나 유연할 수 있다. 오브젝트들의 상기 예들은 단지 본 발명의 범위를 예시하기 위해 선택된, 기본적인 기하학적 형태들이지만, 용어(오브젝트)는 임의의 다른 오브젝트를 포함할 것이며, 이것은 훨씬 더 복잡한 형태들 및 표면들을 가질 수 있다.
오브젝트는, 예를 들면, 독립형(free standing) 필름일 수 있다. 독립형 필름은 직접, 예를 들면, 압출에 의해 준비될 수 있거나, 재료 조성으로부터 만들어진 오브젝트는 지지대 상에서의 필름으로서 생성될 수 있으며, 이것은 추가 단계에서, 지지대로부터 제거된다.
본 발명에 따른 오브젝트의 치수를 특성화하기 위해, 오브젝트의 두께는 오브젝트의 두께 방향을 따라 최대 두께로서 정의될 것이다. 두께 방향은 오브젝트의 최소 치수의 방향일 것이다. 예를 들면, 포일의 경우에, 두께 방향은 포일 표면에 수직이다. 오브젝트가 두께 방향을 따라 지형상 표면 구조를 갖는 경우에, 두께는, 이것이 오브젝트(11)의 두께(d)로 도 2에서 표시되는 바와 같이, 구조의 최상부까지 측정될 것이다.
본 발명에 따른 오브젝트의 두께는 200 nm 이상이다. 바람직하게는, 오브젝트의 두께는 500 nm 이상, 보다 바람직하게는 2 ㎛ 이상 및 가장 바람직하게는 10 ㎛ 이상이다. 몇몇 애플리케이션들에 대해, 예를 들면, 오브젝트가 그것의 제조 동안 또는 그 후 지지대 상에 있지 않도록 의도된다면, 오브젝트의 두께는 바람직하게는 50 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 200 ㎛ 이상 및 가장 바람직하게는 1 mm 이상이다.
본 출원의 맥락에서, "광 정렬가능한 재료"는 이방성 속성들이 정렬한 광으로의 노출 시 유도될 수 있는 재료이다. 유사하게, "광 정렬가능한 오브젝트"는 이방성 속성들이 정렬한 광으로의 노출 시 유도될 수 있는 오브젝트이다. 또한, 용어들("광 정렬된 재료" 및 "광 정렬된 오브젝트")은 정렬한 광으로의 노출에 의해 정렬된 광 정렬가능한 재료들 및 광 정렬가능한 오브젝트들을 나타내기 위해 사용된다.
본 출원의 맥락에서, 용어("정렬한 광")는, 광 정렬가능한 재료에서 이방성을 유도할 수 있으며, 적어도 부분적으로 선형적으로 또는 타원으로 편광되고/되거나 사선 방향으로부터 광 정렬가능한 재료의 표면에 입사되는 광을 의미할 것이다. 바람직하게는, 정렬한 광은 5:1 이상의 편광의 정도를 갖고 선형적으로 편광된다. 정렬한 광의 파장들, 강도 및 에너지는 광 정렬가능한 재료의 감광성에 의존하여 선택된다. 통상적으로, 파장들은 UV-A, UV-B 및/또는 UV-C 범위에 있거나 가시 범위에 있다. 바람직하게는, 정렬한 광은 450 nm 미만의 파장들의 광을 포함한다. 정렬한 광이 420 nm 미만의 파장들의 광을 포함하는 것이 더 바람직하다.
정렬한 광이 선형적으로 편광된다면, 정렬한 광의 편광 면은 정렬한 광의 전파 방향 및 편광 방향에 의해 정의된 평면을 의미할 것이다. 정렬한 광이 타원 편광되는 경우에, 편광 면은 광의 전파 방향에 의해 및 편광 타원의 주축에 의해 정의된 평면을 의미할 것이다.
용어들("이방성의" 및 "이방성")은 예를 들면, 광 흡수, 복굴절, 전기 도전성, 분자 배향, 다른 재료들의 정렬을 위한, 예를 들면, 액정들에 대한 속성, 또는 탄성 계수와 같은, 기계적 속성들을 나타낼 수 있다. 본 출원의 맥락에서, 용어("정렬 방향")는 이방성 속성의 대칭 축을 나타낼 것이다.
광 정렬가능한 재료를 포함하는 재료 조성으로부터의 오브젝트의 생성은 주조, 사출 성형 및 압력 성형을 포함하는 성형, 또는 압출, 2D- 또는 3D- 인쇄 및 코팅과 같은, 임의의 적절한 방법에 의해 행해질 수 있다. 적절한 코팅 방법들은, 예를 들면: 스핀-코팅, 블레이드 코팅, 나이프 코팅, 키스 롤 코팅, 캐스트 코팅, 슬롯-오리피스 코팅, 캘린더 코팅, 다이 코팅, 디핑, 브러싱, 바를 갖고 캐스팅, 롤러-코팅, 흐름-코팅, 와이어-코팅, 스프레이-코팅, 딥-코팅, 휠러-코팅, 캐스케이드-코팅, 커튼-코팅, 에어 나이프 코팅, 갭 코팅, 회전 스크린, 역 롤 코팅, 그라비어 코팅, 미터링 로드(메이어 바) 코팅, 슬롯 다이(압출) 코팅, 고온 용융 코팅, 롤러 코팅, 플렉소 코팅이다. 적절한 인쇄 방법들은: 실크 스크린 인쇄, 철판 인쇄와 같은 볼록판 인쇄, 잉크 젯 인쇄, 직접 그라비어 인쇄 또는 오프셋 그라비어 인쇄와 같은 오목판 인쇄, 오프셋 인쇄와 같은 리소그래픽 인쇄, 또는 스크린 인쇄와 같은 스텐실 인쇄를 포함한다.
오브젝트는 편평할 수 있거나 임의의 형태의 몰드인, 지지대 상에 광 정렬가능한 재료를 포함하는 재료 조성을 증착시킴으로써 제조될 수 있다.
지지대는 단단하거나 유연할 수 있다. 원칙적으로 그것은 임의의 재료로 이루어질 수 있다. 바람직하게는, 지지대는 플라스틱, 유리 또는 금속을 포함하거나 실리콘 웨이퍼이다. 지지대가 유연한 경우에, 지지대가 플라스틱이거나 금속 포일인 것이 선호된다. 바람직하게는, 재료 조성이 증착되는 지지대의 표면은 지형상 표면 구조를 가진다. 지형상 표면 구조들은 예를 들면, 마이크로렌즈들; 마이크로프리즘들을 포함한, 프리즘들; 직사각형 또는 삼각형 단면들을 가진 구조들 및 격자들을 포함한, 렌즈 어레이들 뿐만 아니라, 프레넬(Fresnel) 및 렌티큘러 렌즈들과 같은, 렌즈들이다. 상기 구조들은 주기적이거나 비-주기적일 수 있다.
지지대는 광 정렬가능한 재료를 포함하는 재료 조성의 증착 동안 움직일 수 있다. 예를 들면, 재료 조성의 오브젝트는 바람직하게는 플라스틱 또는 금속성인, 움직이는 가요성 포일로 재료 조성을 증착시킴으로써 연속적 롤 바이 롤 프로세스에서 생성될 수 있다. 결과적인 필름은 그 후 지지대 포일과 함께 롤 상에 감길 수 있거나 오브젝트는 지지대로부터 해제될 수 있으며 그 후 지지대 없이 독립형 필름으로서 감긴다.
지지대 상에 재료 조성을 증착시키는 대신에, 고정된 단면 프로파일의 광 정렬가능한 오브젝트가 압출 프로세스에 의해 생성될 수 있다. 압출에 의해 생성된 오브젝트들은, 예를 들면, 평면 또는 관형 필름들일 수 있다. 오브젝트들은 그 후 길이에서 절단되거나 롤 상에 감길 수 있다.
본 발명의 바람직한 방법들은 광 정렬가능한 오브젝트에서 표면 구조들을 생성하기 위한 단계들을 더 포함한다. 통상적인 구조들은 예를 들면, 마이크로렌즈들; 마이크로프리즘들을 포함한, 프리즘들; 직사각형 또는 삼각형 단면들을 가진 구조들 및 격자들을 포함한, 렌즈 어레이들 뿐만 아니라, 프레넬 및 렌티큘러 렌즈들과 같은, 렌즈들이다. 상기 언급된 대표적인 유형들의 구조들은 또한 역 구조 프로파일들을 포함할 것이며, 이것은 특히 구조가 또 다른 재료로 복제되도록 의도된다면 사용된다. 구조들은 주기적이거나 비-주기적일 수 있다. 용어(구조 요소)는 구조를 특성화할 수 있는 구조의 최소 요소를 나타낼 것이다. 예를 들면, 구조가 마이크로렌즈 어레이와 같은, 마이크로렌즈들을 포함한다면, 구조 요소는 마이크로렌즈이다. 주기적 구조의 경우에, 구조 요소는 주기적으로 반복되는 유닛이다. 구조 요소들의 방위각 치수는 100 nm에서 오브젝트의 크기까지의 범위를 커버할 수 있다. 바람직하게는, 본 발명에 따른 구조 요소의 최소 폭은 500 nm 이상, 보다 바람직하게는 5 ㎛ 이상 및 가장 바람직하게는 50 ㎛ 이상이다. 구조 깊이는 10 nm에서 수 센티미터들까지의 범위에 있을 수 있다. 바람직하게는, 구조의 깊이는 100 nm 이상, 보다 바람직하게는 1 ㎛ 이상 및 가장 바람직하게는 10 ㎛ 이상이다.
표면 구조들을 가진 광 정렬가능한 오브젝트들을 생성하기 위한 본 발명의 하나의 바람직한 방법에서, 광 정렬가능한 재료를 포함하는 재료 조성은 대응하는 구조를 제공하는 몰드로 주조되며 나중 단계에서 광 정렬가능한 재료를 포함하는 조성으로부터 생성된 오브젝트는 몰드로부터 제거된다.
표면 구조들을 가진 광 정렬가능한 오브젝트들을 생성하기 위한 본 발명의 또 다른 바람직한 방법에서, 구조는 대응하는 구조를 제공하는 엠보싱 툴을 사용하여, 오브젝트의 준비 동안 또는 그 후, 광 정렬가능한 오브젝트의 표면으로 양각된다.
표면 구조들을 생성하기 위한 추가 방법들은 예를 들면, 잉크 젯 인쇄 또는 3D-인쇄와 같은, 인쇄 프로세스에 의해, 요구된 형태로 포토리소그래피 및 에칭, 레이저 절제, 재료의 자기-조직 또는 재료 조성의 증착을 이용한다.
상기 설명된 광 정렬가능한 오브젝트들 중 임의의 것에서 이방성의 생성을 위해, 상기 방법은 광 정렬가능한 오브젝트를 광 정렬된 오브젝트로 변환하기 위해 광 정렬가능한 오브젝트를 정렬한 광에 노출시키는 단계를 포함할 수 있다.
상기 설명된 방법들의 바람직한 변형에 있어서, 슬레이브 재료가 광 정렬된 오브젝트의 표면상에 도포된다. 바람직하게는, 상기 슬레이브 재료는 액정 고분자(LCP) 재료이다. 상기 슬레이브 재료는 용매를 갖고 또는 그것 없이 코팅 및/또는 인쇄에 의해 도포될 수 있으며 오브젝트의 전체 오브젝트 면적 위에 또는 단지 그것의 부분들 상에 도포될 수 있다. 상기 슬레이브 재료는 오브젝트의 적어도 부분들을 커버하지만 그것의 전체 면적에 걸쳐 도포될 필요는 없다. 바람직하게는, 방법은 그것을 오브젝트에 도포하기 전 또는 후에 슬레이브 재료를 가열하는 단계를 수반한다. 상기 방법은 또한 열 처리 또는 화학 광선으로의 노출에 의해 슬레이브 재료에서 중합을 개시하는 단계를 포함할 수 있다. 슬레이브 재료의 특징에 의존하여, 그것은 질소와 같은 불활성 분위기 하에서, 또는 진공 하에서 중합을 수행하는데 도움이 될 수 있다. 상기 슬레이브 재료는 등방성 또는 이방성 염료들 및/또는 형광 염료들을 포함할 수 있다.
본 출원의 맥락에서, "슬레이브 재료"는 광 정렬된 재료와의 접촉 시 이방성을 수립하기 위한 능력을 갖는 임의의 재료를 나타낼 것이다. 광 정렬된 재료에서 및 슬레이브 재료에서 이방성의 특징은 서로 상이할 수 있다. 예를 들면, 슬레이브 재료는 가시 광선에 대한 광 흡수 이방성을 보일 수 있으며 그러므로 편광기로서 동작할 수 있는 반면, 광 정렬된 재료의 이방성은 단지 분자 배향에만 관련될 수 있다. 예를 들면, 정렬한 광에 민감하지 않은, 공중합체에서, 광 정렬가능한 재료의 성분(moiety)들이 또한 있지만, 정렬한 광으로의 노출 시 광-반응을 겪는, 감광성 성분들과의 상호 작용 때문에 이방성 속성들을 생성한다. 이러한 재료는 광 정렬가능한 재료의 및 슬레이브 재료의 속성들을 보이지만, 광 정렬가능한 재료의 의미에 포함될 것이다.
슬레이브 재료는 중합 가능한 및/또는 비-중합 가능한 화합물들을 포함할 수 있다. 본 출원의 맥락 내에서, 용어들("중합 가능한" 및 "중합된")은 각각 "교차-결합 가능한" 및 "교차-결합된"의 의미를 포함할 것이다. 마찬가지로, "중합"은 "교차-결합"의 의미를 포함할 것이다.
바람직하게는, 슬레이브 재료는 자기-조직 재료이다. 슬레이브 재료가 액정 재료인 것이 보다 바람직하며 슬레이브 재료가 액정 고분자 재료인 것이 특히 바람직하다.
본 출원의 맥락 내에서 사용된 바와 같이 액정 고분자(LCP) 재료는 액정 재료를 포함할 것이며, 이것은 액정 단위체들 및/또는 액정 올리고머들 및/또는 액정 고분자들 및/또는 교차-결합된 액정들을 포함한다. 액정 재료가 액정 단위체들을 포함하는 경우에, 이러한 단위체들은 통상적으로, 광 정렬된 재료와의 접촉으로 인해 이방성이 LCP 재료에서 생성된 후, 중합될 수 있다. 중합은 열 처리에 의해 또는 바람직하게는 uv-광을 포함하는, 화학 광선으로의 노출에 의해 개시될 수 있다. LCP-재료는 단일 유형의 액정 화합물로 이루어질 수 있지만, 또한 상이한 중합 가능한 및/또는 비-중합 가능한 화합물들의 조성일 수 있으며, 여기에서 화합물들의 모두가 액정 화합물들일 필요는 없다. 뿐만 아니라, LCP 재료는 첨가제들, 예를 들면, 광-개시제 또는 등방성 또는 이방성 형광 및/또는 비-형광 염료들을 포함할 수 있다.
본 발명의 제 2 양태에 따르면, 광 정렬가능한 오브젝트가 제공되고 있다.
오브젝트는 임의의 형태를 가질 수 있다; 그것은 가요성 포일의 형태에 있을 수 있지만, 또한 임의의 종류의 형상을 갖고 단단할 수 있다. 오브젝트는 예를 들면, 상이한 재료들의 층들의 스택에서 하나의 층으로서, 디바이스의 부분일 수 있으며, 이것은 하나가 다른 것 후에 생성될 수 있다.
이방성은 그것을 정렬한 광으로 노출시킴으로써 광 정렬가능한 오브젝트에서 생성된다. 광 정렬가능한 오브젝트에 유도된 이방성은 그 후 슬레이브 재료로 추가로 전달될 수 있으며, 이것은 예를 들면, 이에 제한되지 않지만: 스핀-코팅, 블레이드 코팅, 나이프 코팅, 키스 롤 코팅, 캐스트 코팅, 슬롯-오리피스 코팅, 캘린더 코팅, 다이 코팅, 디핑, 브러싱, 바를 갖고 캐스팅, 롤러-코팅, 흐름-코팅, 와이어-코팅, 스프레이-코팅, 딥-코팅, 휠러-코팅, 캐스케이드-코팅, 커튼-코팅, 에어 나이프 코팅, 갭 코팅, 회전 스크린, 역 롤 코팅, 그라비어 코팅, 미터링 로드(메이어 바) 코팅, 슬롯 다이(압출) 코팅, 고온 용융 코팅, 롤러 코팅, 플렉소 코팅, 실크 스크린 인쇄, 철판 인쇄와 같은 볼록판 인쇄, 잉크 젯 인쇄, 3D-인쇄, 직접 그라비어 인쇄 또는 오프셋 그라비어 인쇄와 같은 오목판 인쇄, 오프셋 인쇄와 같은 리소그래픽 인쇄, 또는 스크린 인쇄와 같은 스텐실 인쇄를 포함하는, 인쇄, 코팅 또는 주조 방법에 의해, 오브젝트의 표면과 접촉하게 된다.
바람직한 애플리케이션들은 예를 들면, 배향 패턴을 포함할 수 있는, 광학 리타더들 또는 편광 필름들을 만들기 위해, 슬레이브 재료들을 위해서 뿐만 아니라, LCD들에서 스위칭 가능한 액정들을 위한 정렬 표면으로서의 사용을 포함한다.
본 발명의 바람직한 실시예에서, 광 정렬가능한 오브젝트는 지형상 표면 구조를 가진다. 구조는 마이크로요소들 또는 마이크로요소들의 어레이들을 포함할 수 있다. 통상적인 구조들은, 예를 들면, 마이크로렌즈들; 마이크로프리즘들을 포함한, 프리즘들; 직사각형 또는 삼각형 단면들을 가진 구조들 및 격자들을 포함한, 렌즈 어레이들 뿐만 아니라, 프레넬 및 렌티큘러 렌즈들과 같은, 렌즈들이다. 구조들은 주기적이거나 비-주기적일 수 있다. 상기 언급된 대표적인 유형들의 구조들은 또한 역 구조 프로파일들을 포함할 것이며, 이것은 특히 구조가 또 다른 재료로 복제되도록 의도된다면 사용된다. 구조 요소들의 방위각 치수는 100 nm에서 오브젝트의 크기까지의 범위를 커버할 수 있다. 바람직하게는, 본 발명에 따른 구조 요소의 최소 폭은 500 nm 이상, 보다 바람직하게는 5 ㎛ 이상 및 가장 바람직하게는 50 ㎛ 이상이다. 구조 깊이는 10 nm에서 수 센티미터들까지의 범위에 있을 수 있다. 바람직하게는, 구조의 깊이는 100 nm 이상, 보다 바람직하게는 1 ㎛ 이상 및 가장 바람직하게는 10 ㎛ 이상이다.
지형상 표면 구조를 가진 광 정렬가능한 오브젝트들은 이것이 최신의 기술에서 행해진 바와 유사하게 광 정렬될 수 있으며 LCD들 또는 LCP 재료들에서 스위칭 가능한 액정들과 같은, 슬레이브 재료들을 정렬시키기 위해 사용될 수 있고, 후자는 광학 리타더들 또는 편광기들을 만들도록 허용한다. 오브젝트의 표면 구조가 슬레이브 재료로 형성될 때, 오브젝트 측면에서 슬레이브 재료의 경계는 또한 지형학적으로 구조화될 것이다. 그러므로, 슬레이브 재료의 광학적 속성들은 표면 구조에 따라 공간적으로 변조될 것이다. 이러한 방식으로 복제된 통상적인 구조들은 예를 들면, 마이크로렌즈들; 마이크로프리즘들을 포함한, 프리즘들; 직사각형 또는 삼각형 단면들을 가진 구조들 및 격자들을 포함한, 렌즈 어레이들 뿐만 아니라, 프레넬 및 렌티큘러 렌즈들과 같은, 렌즈들이다. 구조들은 주기적이거나 비-주기적일 수 있다. 이것은 2D 및 3D 모드 사이에서 스위칭하기 위한 시스템의 부분으로서, 무안경 입체영상 3D 디스플레이들에서 광학적으로 이방성 렌즈들을 위한 것과 같은, 광학 요소들을 위한 새로운 애플리케이션들을 가능하게 한다. 다른 애플리케이션들은 광 보안 요소들 뿐만 아니라, LCD들을 위한 휘도 강화 필름들, LCD들을 위한 광 추출(out-coupling) 어레이들 및 디스플레이들 또는 조명을 위한 유기 발광 디바이스들(OLED)을 포함한다.
도 1은 최신의 광 정렬 기술에 기초하는 디바이스의 예를 도시한다. 이러한 기술에서, 광 정렬가능한 재료는 기판(1)상에서 얇은 층(2)으로서 증착된다. 정렬한 광으로의 광 정렬가능한 재료의 층의 노출 시, 정렬 능력들이 이 층에 생성된다. 광 정렬 재료의 최상부에 액정 층(3)을 코팅한 후, 액정 재료는 정렬한 광에 의해 정의된 방향(4)에 따라 균일하게 정렬한다.
도 2의 예에서, 디바이스(10)는 본 발명에 따른 광 정렬가능한 오브젝트(11)에 기초하며, 이것은 표면 구조(12)를 포함한다. 정렬한 광에 광 정렬가능한 오브젝트를 노출시킬 때, 정렬 능력들이 오브젝트의 구조의 표면에서 생성된다. 광 정렬된 오브젝트의 최상부에 액정 층(13)을 코팅한 후, 액정 재료는 평균적으로 정렬한 광에 의해 정의된 방향(14)에 따라 정렬한다.
본 발명의 제 3 양태에 따르면, 광 정렬된 오브젝트를 포함하는 디바이스가 제공되고 있다.
본 발명에 따른 디바이스는 슬레이브 재료를 포함하며, 이것은 광 정렬된 오브젝트에 의해 정렬되었다. 슬레이브 재료는 슬레이브 재료에서의 정렬이 수립된 후 광 정렬된 오브젝트로부터 제거될 수 있다. 바람직하게는, 슬레이브 재료는 LCP 재료이다. 디바이스는 바람직하게는 60% 이상, 보다 바람직하게는 80% 이상 광 투과율을 갖고 가시 광선에 대해 투명하다. 상기 슬레이브 재료는 등방성 또는 이방성 염료들 및/또는 형광 염료들을 포함할 수 있다. 본 발명에 따른 바람직한 디바이스들은 금속성 또는 비-금속성 반사기를 추가로 포함한다. 디바이스는 바람직하게는 전자기 충격의 기계에 대하여 디바이스를 보호하기 위한 하나 이상의 층들을 포함한다.
본 발명의 바람직한 실시예에서, 슬레이브 재료는 지형학적으로 구조화되며 광 정렬된 오브젝트와 접촉하거나 접촉하였던 적어도 하나의 표면을 가진다. 통상적인 지형상 구조는, 예를 들면, 마이크로렌즈들; 마이크로프리즘들을 포함한, 프리즘들; 직사각형 또는 삼각형 단면들을 가진 구조들 및 격자들을 포함한, 렌즈 어레이들 뿐만 아니라, 프레넬 및 렌티큘러 렌즈들과 같은, 렌즈들이다. 구조들은 주기적이거나 비-주기적일 수 있다. 바람직하게는, 지형상 구조는 광 집속을 지원한다.
예로서, 도 6은 광학적으로 이방성 렌티큘러 렌즈들을 만드는 방법을 예시한다. 도 6a는 렌티큘러 렌즈들에 대해 요구된 표면 프로파일(51)을 제공하는 몰드(50)를 도시한다. 원칙적으로, 금속 또는 고분자와 같은, 임의의 재료가 몰드를 위해 사용될 수 있다. 광 정렬가능한 재료를 포함하는 재료 조성(52)은 주조(도 6b)와 같은, 적절한 방법에 의해 몰드에 증착된다. 재료 조성(52)의 종류에 의존하여, 가열 및/또는 uv-경화 단계가 그것을 고형화하기 위해 적용될 수 있다. 그 다음에, 획득된 광 정렬가능한 오브젝트(53)가 몰드로부터 제거될 수 있다. 도 6c에 도시된 바와 같이, 결과적인 광 정렬가능한 오브젝트(53)는, 몰드의 표면 구조가 오브젝트(53)로 복제되었기 때문인, 렌티큘러 렌즈 어레이의 표면 프로파일에 역인, 표면 프로파일(54)을 가진다. 광 정렬가능한 오브젝트(53)는 그 후 화살표(55)에 의해 표시된 정렬 방향을 갖고 그것을 광 정렬된 오브젝트로 변환하기 위해 정렬한 광에 노출된다. 그 다음에, LCP 재료가 광 정렬된 오브젝트(53) 상에 증착되며, 따라서 그것은 도 6d에 도시된 바와 같이, 표면 구조(54)를 채운다. LCP 재료 속성들에 의존하여, 열 처리 및/또는 uv-경화가 액정 분자들을 정렬시키기 위해 및 LCP를 고형화하기 위해 요구될 수 있다. 결과적인 LCP 층은 렌티큘러 렌즈 어레이(56)의 형태를 가진다. 액정 분자들의 배향 방향(57)은 광 정렬된 오브젝트(53)에서 생성된 정렬 방향(55)에 평행한다. 오브젝트(53)의 광학적 속성들 및 LCP 재료의 것은 렌티큘러 렌즈들(56) 및 오브젝트(53)가 함께 광학 디바이스(58)를 형성하도록 선택될 수 있다. 액정 분자들이 단축으로 정렬되기 때문에, LCP 층은 복굴절이다. 정렬 방향을 따르는 LCP의 굴절률은 이상 굴절률(ne)에 대응하는 반면 정렬 방향에 수직인 굴절률은 일반 굴절률(no)에 대응한다. 본 발명의 바람직한 실시예에서, 오브젝트(53)의 굴절률은 2개의 굴절률들(ne 및 no) 중 하나와 대략 동일한 것으로 선택된다. 예를 들면, 오브젝트의 굴절률이 LCP 층의 일반 굴절률(no)과 동일하며, 결과적으로 이상 굴절률(ne)과 상이하다면, 편광된 광에 대한 디바이스(58)의 광학적 속성은 광의 편광 방향에 의존한다. 배향 방향(57)에 평행한 편광 방향을 가진 편광된 광에 대해, 오브젝트(55) 및 LCP 재료 사이에서의 경계에 굴절률 단차가 있을 것이다. 그러므로, 디바이스(58)는 기하학적 구조 및 관련된 굴절률들과 부합하는 렌티큘러 렌즈 어레이처럼 동작할 것이다. 배향 방향(57)에 수직인 편광 방향을 가진 편광된 광에 대해, 그러나, 오브젝트(55) 및 LCP 재료 사이에서의 경계에 굴절률 차이가 없을 것이며 광은 굴절되지 않을 것이다. 그러므로, 광의 편광 방향에 의존하여, 렌즈 어레이는 활성이거나 활성이 아니다. 액정 셀과 같은, 90°만큼 광의 편광 면을 회전시킬 수 있는, 부가적인 광학 요소와 조합하여, 렌즈 어레이 디바이스(58)는 활성 및 비 활성 사이에서 스위칭될 수 있다.
바람직한 실시예에서, 디바이스는 광학적으로 이방성 렌즈들을 포함한다.
본 발명에 따른 디바이스들은, 예를 들면, 2D 및 3D 모드 사이에서 스위칭하기 위한 시스템의 부분으로서, 무안경 입체영상 3D 디스플레이들에서 사용될 수 있다. 다른 애플리케이션들은, 디스플레이들 또는 유기 발광 디바이스들(OLED) 조명 애플리케이션들처럼, LCD들을 위한 휘도 강화 필름들, LCD 및 OLED를 위한 광 추출 어레이들을 포함한다. 본 발명에 따른 추가 디바이스들은 LCD들을 위한 역광 유닛들의 부분으로서 사용될 수 있다. 바람직하게는, 본 발명에 따른 디바이스들은 광 보안 요소들에서 사용된다.
본 발명의 제 4 양태에 따르면, 본 발명은 광 정렬가능한 오브젝트의 제조를 위한 조성이 제공되고 있다.
광 정렬가능한 재료를 포함하는 재료 조성은 하나 이상의 유형의 광 정렬가능한 재료들을 포함할 수 있다.
광 정렬가능한 재료를 포함하는 재료 조성은 광 정렬가능한 성분들을 포함하지 않는 부가적인 물질들을 포함할 수 있다. 이러한 물질들은, 고분자들, 덴드리머들, 올리고머들, 프리폴리머들 및 단위체들을 포함하며, 이것은 오브젝트의 제조 동안 또는 그 후 중합될 수 있다. 적절한 고분자들의 클래스들의 예들은, 이에 제한되지 않지만: 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리사이클로올레핀 COP/COC, 폴리부타디엔, 폴리(메트)아크릴레이트들, 폴리에스테르, 폴리스틸렌, 폴리아미드, 폴리에테르, 폴리우레탄, 폴리이미드, 폴리아미드 산, 폴리카보네이트, 폴리-비닐알코올, 폴리-비닐클로라이드, 셀룰로오스 및 셀룰로오스 트리아세테이트와 같은 셀룰로오스 파생물들과 같은 폴리알킬렌들이다. 단위체들의 적절한 클래스들의 예들은: 단일 및 다작용기 (메트)아크릴레이트들, 에폭시들, 이소시아네이트, 알릴 파생물들 및 비닐 에테르들이다.
바람직하게는, 본 발명에 따른 광 정렬가능한 오브젝트는 20℃ 이상에서 액정 상을 갖지 않으며, 보다 바람직하게 그것은 10℃ 이상에서 액정 상을 갖지 않는다. 이유는 액정들이 통상적으로 작은 도메인들에서 자기 조직에 의해 정렬을 수립한다는 것이다. 광 정렬은, 재료의 등방성 상에서 광 정렬 프로세스를 수행하기 위해, 랜덤 액정 정렬과 경쟁해야 할 것이며 편광된 uv-광으로의 긴 노출 및/또는 액정 재료의 제거 온도 이상의 온도로 오브젝트를 가열하는 것을 요구할 것이고, 여기에서 액정들은 더 이상 순서를 갖지 않는다. 임의의 방식으로 이것은 정렬 프로세스를 복잡하게 할 것이다. 상기에 따르면, 오브젝트를 형성한 후 제거될 수 있는 임의의 용매들 없이, 광 정렬가능한 재료를 포함하는 재료 조성이 20℃ 이상에서 액정 상을 갖지 않는 것이 바람직하며, 10℃ 이상에서 갖지 않는 것이 보다 바람직하다. 다른 한편으로, 광 정렬가능한 재료를 포함하는 재료 구성의 개개의 물질들은 20℃ 이상에서 액정 상을 보이지 않는 것이 바람직하며, 10℃ 이상에서 보이지 않는 것이 보다 바람직하다.
광 정렬가능한 재료를 포함하는 재료 조성에 관하여 용어(물질들)는 예를 들면, 건조에 의해, 조성의 및 오브젝트의 준비를 위해 사용될 수 있으며 나중에 제거될, 용매들을 포함하지 않을 것이다. 다시 말해서, 용어(물질들)의 의미는 단지 최종 오브젝트에 남아있는 이들 화합물들만을 포함한다.
특히, 광 정렬가능한 재료를 포함하는 재료 조성은 접착력을 개선하기 위한 첨가제들을 포함할 수 있다.
뿐만 아니라, 광 정렬가능한 재료를 포함하는 재료 조성은 등방성 또는 이방성 염료들 및/또는 형광 염료들을 포함할 수 있다.
상기 조성에서 재료들의 유형에 의존하여, 광 정렬가능한 재료 및 다른 물질들 사이에서의 상 분리가 발생할 수 있다. 재료 조성의 적절한 선택에 의해, 오브젝트를 제조할 때, 광 정렬가능한 재료의 대부분이 오브젝트의 표면에 대해 분리되도록 상 분리를 제어하는 것이 가능하다. 이것은 또한 조성에서 광 정렬가능한 재료의 양을 감소시키도록 허용한다. 바람직하게는, 조성에서 광 정렬가능한 재료들의 합의 중량으로의 퍼센티지는 50% 미만, 보다 바람직하게는 20% 미만 및 가장 바람직하게는 10% 미만이다. 재료 조성을 갖고 만들어지는 오브젝트의 두께에 의존하여, 광 정렬가능한 재료의 양은 1 wt% 미만 또는 심지어 0.1 wt% 미만일 수 있다. 극단적인 경우들에서, 0.01 wt%의 광 정렬가능한 재료는 여전히 충분한 정렬 속성들을 달성하기에 충분하다. 바람직하게는, 광 정렬가능한 재료는, 상 분리를 지원하기 위해, 플루오르화 및/또는 실록산 성분들을 포함하고/하거나 폴리실록산이다.
바람직한 실시예에서, 본 발명에 따른 조성은 광 정렬가능한 재료 및 또 다른 물질을 포함하며, 이것은 광 정렬가능하거나 아닐 수 있다. 양쪽 광 정렬가능한 재료 및 다른 물질 모두는 고분자, 덴드리머, 올리고머, 프리폴리머 또는 단위체일 수 있다. 상기 광 정렬가능한 재료 및 다른 물질은 광 정렬가능한 재료 및 다른 물질의 단위체 쌍극자 모멘트들이 서로 상이하도록 그렇게 선택된다. 단위체 쌍극자 모멘트는 단위체의 쌍극자 모멘트 또는 고분자들, 올리고머들 및 프리폴리머들의 경우에 각각 이러한 고분자들, 올리고머들 및 프리폴리머들의 단위체 유닛들의 쌍극자 모멘트를 나타낼 것이다. 바람직하게는, 단위체 쌍극자 모멘트들은 0.5 디바이(Debye) 이상만큼, 보다 바람직하게는 1 디바이 이상만큼 및 가장 바람직하게는 1.5 디바이스 이상만큼 상이하다. 조성은 부가적인 광 정렬가능한 또는 비-광 정렬가능한 물질들을 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 오브젝트를 제조하기 위한 조성을 위한 광 정렬가능한 재료는 광-반응 메커니즘에 독립적인, 이방성 속성들이 정렬한 광으로의 노출 시 생성될 수 있는 임의의 종류의 감광성 재료일 수 있다. 그러므로, 적절한 광 정렬가능한 재료들은, 예를 들면, 정렬한 광으로의 노출 시 이방성이 광-이합체화, 광-분해, 트랜스-시스 이성질화 또는 광-프리스 재배열에 의해 유도되는 재료들이다. 선호된 광 정렬가능한 재료들은 이것들이며, 여기에서 정렬한 광으로의 노출 시, 생성된 이방성은 광 정렬 재료와 접촉하는 슬레이브 재료들이 배향될 수 있도록 한다. 바람직하게는, 이러한 슬레이브 재료는 액정 재료, 특히 LCP-재료이다.
상기 설명된 것들과 같은, 광 정렬가능한 재료들은 정렬한 광으로의 노출시 선호된 방향을 전개하고 따라서 이방성 속성들을 생성할 수 있는, 광 정렬가능한 성분들을 통합한다. 이러한 광 정렬가능한 성분들은 바람직하게는 이방성 흡수 속성들을 가진다. 통상적으로, 이러한 성분들은 230에서 500 nm까지의 파장 범위 내에서 흡수를 보인다. 바람직하게는, 광 정렬가능한 성분들은 300에서 450 nm까지의 파장 범위에서 광의 흡수를 보이고, 보다 바람직하게는 350에서 420 nm까지의 파장 범위에서 흡수를 보이는 성분들이다.
바람직하게는, 광 정렬가능한 성분들은 탄소-탄소, 탄소-질소 또는 질소-질소 이중 결합들을 갖는다.
예를 들면, 광 정렬가능한 성분들은 치환된 또는 치환되지 않은 아조(azo) 염료들, 안트라퀴논, 쿠마린, 메리시아닌, 2-메닐아조티아졸, 2-페닐아조벤조티아졸, 스틸벤, 시아노스틸벤, 플루오로스틸벤, 신나모니트릴, 칼콘, 신나메이트, 시아노신나메이트, 스틸바졸륨, 1,4-비스(2-페닐에틸레닐)벤존, 4,4'-비스(아릴아조)스틸벤들, 페릴렌, 4,8-디아미노-1,5-나프토퀴논 염료들, 아릴옥시카복실 파생물들, 아릴에스테르, N-아릴아미드, 폴리이미드, 예를 들면, 치환된 벤즈페논들, 벤조페논 이민들, 페닐하이드라존들, 및 세마카르바존과 같은, 두 개의 방향 고리들과 함께 케톤 성분 또는 케톤 파생물을 가진, 디아릴 케톤들이다.
상기 열거된 이방성 흡수 재료들의 준비는 예로서, Hoffman 외의, 미국 특허 번호 제 4,565,424 호에 의해, Jones 외의, 미국 특허 번호 제 4,401,369 호에서, Cole, Jr 외의 미국 특허 번호 제 4,122,027 호에서, Etzbach 외의 미국 특허 번호 제 4,667,020 호에서, 및 Shannon 외의, 미국 특허 번호 제 5,389,285 호에서 도시된 바와 같이, 잘 알려져 있다.
바람직하게는, 광 정렬가능한 성분들은 아릴아조, 폴리(아릴아조), 스틸벤, 시아노스틸벤, 신나메이트 또는 칼콘을 포함한다.
광 정렬가능한 재료는 단위체, 올리고머 또는 고분자의 형태를 가질 수 있다. 상기 광 정렬가능한 성분들은 고분자 또는 올리고머의 주 사슬 내에서 또는 곁사슬 내에서 공유 결합으로 결합될 수 있거나 그것들은 단위체의 부분일 수 있다. 광 정렬가능한 재료는 또한 상이한 유형들의 광 정렬가능한 성분들을 포함하는 공중합체일 수 있거나 그것은 광 정렬가능한 성분들을 갖는 및 그것이 없는 곁 사슬들을 포함하는 공중합체일 수 있다.
고분자들은 예를 들면 폴리아크릴레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리이미드, 폴리우레탄, 폴리아믹 산들, 폴리말레인이미드, 폴리-2-클로로아크릴레이트, 폴리-2-페닐아크릴레이트; 치환되지 않은, 또는 C1-C6알킬 치환된 폴리아크릴아미드, 폴리메타크릴아미드, 폴리-2-클로로아크릴아미드, 폴리-2-페닐아크릴아미드, 폴리에테르, 폴리비닐에테르, 폴리에스테르, 폴리비닐에스테르, 폴리스틸렌-파생물들, 폴리실록산, 폴리아크릴 또는 폴리메타크릴 산들의 곧은-사슬 또는 분기된 알킬 에스테르; 폴리페녹시알킬아크릴레이트, 폴리페녹시알킬메타크릴레이트들, 1 내지 20개의 탄소 원자들의 알킬 잔여물들을 가진 폴리페닐알킬메타크릴레이트; 폴리아크릴로니트릴, 폴리메타크릴로니트릴, 사이클로올레핀 폴리머들, 폴리스틸렌, 폴리-4-메틸스틸렌 또는 그것의 혼합물들을 나타낸다.
광 정렬가능한 재료는 또한 감광제들, 예를 들면, 케토쿠마린들 및 벤조페논들을 포함할 수 있다.
뿐만 아니라, 선호된 광 정렬가능한 단위체들 또는 올리고머들 또는 고분자들은 미국 특허 번호 제 5,539,074 호, 미국 특허 번호 제 6,201,087 호, 미국 특허 번호 제 6,107,427 호, 미국 특허 번호 제 6,632,909 호 및 미국 특허 번호 제 7,959,990 호에서 설명된다.
예들
광 정렬 고분자들의 합성들
준비 예 A1 4,4,4-트리플루오로부틸 (E)-3(4-하이드록시페닐)프롭-2-에노에이트
164.16 g의 p-쿠마르 산은 1000ml의 N-메틸-2-피롤리돈에 용해되었다. 152.54g의 1,8-디아자비사이클로[5,4,0]언덱-7-엔이, 237.99g의 1,1,1-트리플루오로-4-이오도부탄에 앞서, 천천히 부가된다. 갈색을 띤 용액은 교반 하에서 70℃로 가열되며 이러한 온도에서 2시간 동안 유지된다. HPLC 분석은 여전히 반응되지 않은 쿠마르의 존재를 보여주고, 부가적인 47.60 g의 트리플루오로-이오도부탄이 부가되며 반응은 70℃에서 또 다른 2시간 동안 계속된다.
반응 혼합물은 그 후 5000ml의 에틸 아세테이트를 갖고 희석되며 5000ml의 수용성 5% 염산 용액이 부가된다. 2-상 혼합물은 10분 동안 실온에서 교반되며, 수성 상은 제거된다. 유기 상은 5000ml의 수용성 5% 탄산수소 나트륨 용액 및 5000ml의 수용성 10% 염화 나트륨 용액을 갖고 세척된다. 남아있는 유기 상은 여과에 의해 제거되는, 몇몇 염 잔여물들을 포함하는 762g의 갈색 액체 생성물을 남기기 위해 3000ml의 톨루엔을 갖고 희석되며 진공 하에서 용매들을 증류시킴으로써 농축된다. 추가 증류는 437g의 액체 크루드 생성물을 제공한다. 400ml의 헵탄은 약 70℃에서 천천히 부가되며 혼합물은 실온으로 및 최종적으로 0℃로 냉각시킴으로써 결정화된다. 결정성 침전은 여과되고, 용매 혼합물 톨루엔/헵탄 = 1/1(v/v)를 갖고 세척되며 일정한 중량으로 40℃에서 진공 하에서 건조된다.
231.7g의 결정성 트리플루오로부틸 에스테르(A1)는 99.71%면적의 HPLC 순도를 갖고, 획득된다.
준비 예 A2 4,4,4-트리플루오로부틸(E)-3-[4-(6-하이드록시헥스옥시)페닐]프롭-2-에노에이트
231.00g의 트리플루오로부틸 에스테르(A1)가 1100ml 디메틸포름아미드에서 용해된다. 138.69g의 6-클로로-1-헥사놀이, 151.98g의 미세 분상된 탄산 칼륨 및 14.04g의 분상된 요오드화칼륨에 앞서 부가된다. 황갈색 현탁액이 100℃로 가열되며 이러한 온도에서 3시간 동안 교반된다. HPLC 분석은 0.5% 미만의 남아있는 A1을 보여준다. 황색 현탁액은 실온으로 냉각되고, 고상 염들은 여과되며 깨끗한 여과액은 5000ml의 에틸 아세테이트를 갖고 희석되고, 5000ml의 수용성 5% 염산 용액을 갖고, 그 후 5000ml의 수용성 5% 탄산수소 나트륨 용액을 갖고 및 마지막으로 5000ml의 수용성 10% 염화 나트륨 용액을 갖고 세척된다. 유기 상은 여과에 의해 제거되는, 몇몇 염 잔여물들을 포함하는 갈색 액체 생성물을 제공하기 위해 2000ml의 톨루엔을 갖고 희석되며 진공 하에서 용매들을 증류시킴으로써 부분적으로 농축된다. 추가 증류는 500g의 액체 크루드 생성물을 제공한다. 400ml의 헵탄은 약 70℃에서 천천히 부가되며 혼합물은 실온으로 냉각시킴으로써 결정화되어, 두꺼운, 결정성 질량을 야기한다. 냉각은 0℃로 계속되며 결정성 침전은 여과되고, 헵탄을 갖고 세척되며 일정한 중량으로 실온에서 진공 하에서 건조된다.
283.6g의 결정성 생성물(A2)이 96%면적의 HPLC 순도를 갖고 획득된다.
준비 예 A3 6-[4-[(E)-3-옥소-3-(4,4,4-트리플루오로부톡시)프롭-1-에닐]페녹시]헥실 2-메틸프롭-2-에노에이트
112.32g의 생성물(A2)은 600ml의 톨루엔에서 용해된다. 12.09g의 4-(디메틸아미노)피리딘이, 0.27g의 2,6,-디-tert-부틸-4-메틸페놀 및 36.16g의 메타크릴 산에 앞서 부가된다. 결과적인 황색 용액은 0℃로 냉각되며 100ml의 톨루엔에서 86.66g의 N,N'-디사이클로헥실 카르보디이미드의 용액이 천천히 부가된다. 1시간 동안 0℃ 내지 10℃에서 교반한 후, 냉각 배스는 제거되며 반응 혼합물은 실온에서 밤새 교반된다.
현탁액은 실온에서 30분들 동안 500ml의 수용성 5% 탄산수소 나트륨 용액을 갖고 처리된다. 수성 상은 제거된다. 유기 상은 200ml의 수용성 5% 염산염 산 용액을 갖고 한 번 및 200ml의 수용성 10% 염화 나트륨 용액을 갖고 한 번 세척된다. 유기 상은 필터링되며 진공 하에서 용매들을 증류시킴으로써 부분적으로 농축된다. 액체 잔여물은 여과되며 여과액은 200ml 내지 250ml의 최종 볼륨으로 추가로 농축된다. 200ml의 헵탄이 부가되며 혼합물은 약 -10℃로 냉각된다. 형성된 결정성 침전은 여과에 의해 분리되고, 냉각 헵탄을 갖고 세척되며 실온 아래에서 진공 하에 건조된다.
105.33g의 결정성 단위체(A3)가 97.3%면적의 HPLC 순도를 갖고 획득된다.
준비 예 A4 폴리-6-[4-[(E)-3-옥소-3-(4,4,4-트리플루오로부톡시)프롭-1-에닐]페녹시]헥실-2-메틸프롭-2-에노에이트
Figure 112021058143244-pat00001
25.00g의 단위체(A3)가 187ml N-메틸-2-피롤리돈에 용해된다. 거의 무색 용액이 질소를 갖고 제거하는 것에 앞서 5개의 사이클들의 진공을 적용함으로써 제거된다. 용액은 그 후 65±1℃로 가열되며 이 온도가 도달될 때, 동일한 방식으로 제거된, 19ml의 N-메틸-2-피롤리돈에서 0.125g 2,2'-아조비스(2-메틸프로피오니트릴)의 용액이 부가된다. 중합은 교반 하에서 65±1℃에서 6시간 동안 계속되며 그 후 실온으로 냉각된다.
고체 고분자는 활발한 교반 하에서 고분자 용액을 1500ml의 냉각된(-10℃) 메탄올로 떨어뜨림으로써 분리된다. 침전은 여전히 차가운 동안 여과되며 실온에서 진공 하에 건조된다.
고분자(A4)는 92164의 Mw 및 26774의 Mn을 갖고 획득된다.
준비 예 A5 폴리-6-[4-[(E)-3-옥소-3-(4,4,4-트리플루오로부톡시)프롭-1-에닐]페녹시]헥실 2-메틸프롭-2-에노에이트
25.00g의 단위체(A3)가 234ml의 톨루엔에 용해된다. 거의 무색 용액이 질소를 갖고 제거하는 것에 앞서 5개의 사이클들의 진공을 적용함으로써 잘 제거된다. 그것은 65±1℃로 가열되며 이 온도가 도달될 때, 동일한 방식으로 제거된 26ml 톨루엔에서 0.13 g 2,2'-아조비스(2-메틸프로피오니트릴)의 용액이 부가된다. 중합은 교반 하에서 65±1℃ 내부 온도에서 20시간들 동안 계속된다. 적은 톨루엔에 용해된, 0.13g AIBN의 제 2 부분이 부가되며 온도는 75℃로 증가된다. 중합은 추가 20시간들 동안 계속된다. 0.13g AIBN의 제 3 부분이 부가되며 중합은 75℃에서 20시간들 동안 계속된다. 0.13g AIBN의 제 4 부분이 부가되며 중합은 20시간들 동안 계속된다. 19989의 Mw 및 11700의 Mn을 갖고, 결과적인 고분자 용액은 있는 그대로 사용될 수 있거나 고체 고분자(A5)는 용매들의 증발에 의해 점착성 수지의 형태로 분리될 수 있다.
준비 예 A6: 6-[4-[(E)-3-옥소-3-(4,4,4-트리플루오로부톡시)프롭-1-에닐]페녹시]헥실 2-메틸프롭-2-에노에이트 및 6-[4-[(E)-3-메톡시-3-옥소-프롭-1-에닐]페녹시]헥시 2-메틸프롭-2-에노에이트의 공중합체
Figure 112021058143244-pat00002
14.00g의 단위체(A3) 및 11.00g의 단위체(6-[4-[(E)-3-메톡시-3-옥소-프롭-1-에닐]페녹시]헥실 2-메틸프롭-2-에노에이트 [439661-46-8])는 187ml의 N-메틸-2-피롤리돈에 용해된다. 용액은 질소를 갖고 제거하는 것에 앞서 5개의 사이클들의 진공을 적용함으로써 잘 제거된다. 용액은 그 후 65±1℃로 가열되며 이 온도가 도달될 때, 동일한 방식으로 제거된 19ml N-메틸-2-피롤리돈에서 0.127g 2,2'-아조비스(2-메틸프로피오나이트릴)의 용액이 부가된다. 중합은 교반 하에서 65±1℃ 내부 온도에서 6시간 동안 계속되며 그 후 실온으로 냉각된다.
고체 고분자는 활발한 교반 하에서 1500ml의 냉각된 (-10℃) 메탄올로 고분자 용액을 떨어뜨림으로써 분리된다. 침전은 여전히 냉각되면서 여과되며 거친 고분자가 실온에서 진공 하에 건조된다.
고분자(A6)는 88374의 Mw 및 35338의 Mn을 갖고 획득된다.
준비 예 A7 (E)-3-(4-아세톡시페닐)프롭-2-에노익 산
164.16 g의 p-쿠마르 산이 500ml의 피리딘에 용해되며 용액은 10℃로 냉각된다. 270g의 아세트산 무수물이 10 내지 15℃에서 20분 내에 교반 하에 부가된다. 반응 혼합물은 실온에서 밤새 교반된다. 깨끗한, 황갈색 용액은 1000g의 얼음 및 750ml의 25% 염산의 혼합물에 천천히 부가된다. 결과적인 무색 현탁액은 실온에서 2시간 동안 교반된다. 고체 생성물은 여과되고, 많은 양의 물로 잘 세척되며 일정한 중량으로 40℃에서 진공-건조된다. 204.4g의 무색, 결정성 OH- 보호 쿠마르 산(A7)은 95.2%면적의 HPLC 순도를 갖고 획득된다. 생성물은 98.9%면적의 HPLC 순도로 메틸 에틸 케톤에서의 재결정화에 의해 추가로 정제될 수 있다.
준비 예 A8 4,4,5,5,5-펜타플루오로펜틸(E)-3(4-아세톡시테닐)프롭-2-에노에이트
300ml의 디클로로메탄에서 51.55g의 OH-보호 쿠마르 산(A7), 53.40g의 4,4,5,5,5-펜타플루오로펜타놀 및 2.50g의 4-디메틸아미노피리딘의 혼합물이 0℃로 냉각된다. 50ml 디클로로메탄에서 61.90g 디사이클로헥실카보디이미드의 용액은 0℃에서 15분 내에 교반 하에서 부가된다. 백색 현탁액이 0℃에서 또 다른 75분 동안 및 그 후 실온에서 밤새 교반된다. 고체 DCC 요소는 현탁액으로부터 여과되며 여과액은 200ml의 5% 수용액 염산 용액을 갖고 한 번 및 200ml의 10% 수용성 염화 나트륨 용액을 갖고 두 번 세척된다. 황산 나트륨을 통해 유기 상을 건조시킨 후, 용매는 88.8% 면적의 HPLC 순도를 갖고 오일을 결정화함에 따라 90g의 OH-보호 펜타플루오로펜틸 에스테르(A8)를 산출하기 위해 증류에 의해 제거된다. 그것은 다음 단계를 위해 직접 사용된다.
준비 예 A9 4,4,5,5,5-펜타플루오로펜틸(E)-3-(4-하이드록시페닐)프롭-2-에노에이트
89.98g의 OH-보호 펜타플루오로펜틸 에스테르(A8)가 492ml의 테트라하이드로퓨레인에 용해된다. 49ml의 메탄올 및 12.3ml의 물이, 6.90g의 분상된 탄산 칼륨에 앞서 부가된다. 현탁액은 교반되며 2.5 시간 동안 60℃에서 가열된다. 800ml의 에틸 아세테이트가 부가되며 용액은 300ml의 5% 수용성 염산 용액을 갖고 세척된다. 유기 상은 300ml의 10% 수용성 염화 나트륨 용액을 갖고 2번 세척된다. 황산 나트륨 및 여과를 통해 유기 상을 건조시킨 후, 용매는 92.1%면적의 HPLC 순도를 가진 결정화 기름기가 함유된 생성물로서 80.5g의 펜타플루오로펜틸 에스테르(A9)(용매의 흔적들을 포함한)를 산출하기 위해 증류에 의해 제거된다. 제품은 94% 면적의 HPLC 순도를 제공하기 위해 톨루엔/헵탄에서 재결정화될 수 있다.
준비 예 A10 4,4,5,5,5,-펜타플루오로펜틸(E)-3-[4,(6-하이드록시헥스옥시)페닐]프롭-2-에노에이트
61.37g의 펜타플루오로펜틸 에스테르(A9)가 400ml의 디메틸포름아미드에 용해된다. 31.03g의 6-클로로-1-헥사놀이, 34.00g의 미세 분상된 탄산 칼륨 및 3.14g의 분상된 요오드화 칼륨에 앞서, 부가된다. 누르스름한 현탁액이 교반되며 3시간 동안 100℃에서 가열된다. 황색 현탁액은 실온으로 냉각되고, 고상 염들은 여과되며 깨끗한 여과액이 5℃의 온도에서 800ml의 물 및 200ml의 25% 수용성 염산의 혼합물에 천천히 부가된다. 침전된 생성물은 여과되며 필터 케이크는 물을 갖고 잘 세척된다. 그것은 500ml의 에틸 아세테이트에서 용해되며 용액은 300ml의 5% 수용성 탄산수소 나트륨 용액을 갖고 및 그 후 300ml의 10% 수용성 염화 나트륨 용액을 갖고 세척된다. 황산 나트륨을 갖고 유기 상을 건조시킨 후, 필터링된 용액은 냉각 시 결정화하는, 91.5% 면적의 HPLC 순도를 갖고 오렌지 오일로서 80g의 하이드록시알킬레이트 펜타플루오로펜틸 에스테르(A10)를 산출하기 위해 건조한 상태로 증발된다. 생성물은 94% 면적의 개선된 HPLC 순도를 제공하기 위해 톨루엔/헵탄에서 재결정화될 수 있다.
준비 예 A11 6-[4-[(E)-3-옥소-3-(4,4,5,5,5-펜타플루오로펜톡시)프롭-1-에닐]페녹시]헥실 2-메틸프롭-2-에노에이트
56.15g의 하이드록시알킬레이트화 펜타플루오로펜틸에스테르(A10)는 300ml의 톨루엔에 용해된다. 13.67g의 메타크릴 산, 1.29g의 4-디메틸아미노피리딘 및 0.13g의 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀이 부가되며 용액으로 전달된다. 0℃로 냉각시킨 후, 50ml 톨루엔에서 32.76g 디사이클로헥실카보디이미드의 용액이 0℃에서 15분 내에서 교반 하에 부가된다. 백색 현탁액은 0℃에서 또 다른 75분 동안 및 그 후 실온에서 밤새 교반된다. 350ml의 5% 수용성 탄산수소 나트륨 용액이 백색 현탁액에 부가되며 교반이 1시간 동안 계속된다. 현탁액이 필터링되고, 필터 케이크(주로 DCC 요소)가 톨루엔을 갖고 세척되며 수성 상이 분리된다. 유기 상은 500ml의 5% 수용성 염산염 용액 및 500ml의 10% 수용성 염화 나트륨 용액을 갖고 세척된다. 황산 나트륨을 통해 유기 상을 건조시킨 후, 용액은 약간 누르스름한 것으로서 64.97g의 펜타플루오로펜틸 에스테르 메타크릴레이트(A11)를 산출하기 위해 건조한 상태로 증발되어, 오일을 결정화한다. 결과적인 크루드 생성물은 400ml 디클로로메탄에 용해되며 100g 실리카 겔의 짧은 컬럼(공극 크기 60 옹스트롬, 230 내지 400 메시 입자 크기)을 통해 필터링된다. 여과액은 55.85g의 무색을 산출하기 위해 건조한 상태로 증발되고, 95.4% 면적의 HPLC 순도를 갖고 펜탈플루오로펜틸 에스테르 메타크릴레이트(A11)를 결정화한다.
준비 예 A12 폴리-6-[4-[(E)-3-옥소-3-(4,4,5,5,5-펜타플루오로펜톡시)프롭-1-에닐]페녹시]헥실 2-메틸프롭-2-에노에이트
Figure 112021058143244-pat00003
10.00g의 단위체(A11)가 45ml의 테트라하이드로퓨레인에 용해된다. 0.05g의 2,2'-아조비스(2-메틸프로피오니트릴 부가되며 용액은 질소를 갖고 제거되는 것에 앞서 5개의 사이클들의 진공을 적용함으로써 제거된다. 용액은 60℃에서 60시간 동안 질소 하에 교반된다. 고체 고분자는 활발한 교반 하에 500ml의 냉각된(-10℃) 메탄올로 고분자 용액을 떨어뜨림으로써 분리된다. 침전은 여전히 냉각되는 동안 여과되며 실온에서 진공 하에 건조된다.
고분자(A12)는 211'546의 Mw 및 110'369의 Mn을 갖고 획득된다.
준비 예 A13 (3,4,5-트리플루오로페닐)메틸(E)-3-(4-하이드록시페닐)프롭-2-에노에이트
18.18g의 p-쿠마르 산은 110ml의 N-메틸-피롤리돈에 용해된다. 16.90g의 1,8-디바자비사이클로[5,4,0]언덱-7엔이 20.00g의 3,4,5-트리플루오로벤질클로라이드에 앞서 드롭 방식으로 부가된다. 갈색을 띤 용액은 3시간 동안 70℃에서 교반되고, 실온으로 냉각되며 500ml의 에틸 아세테이트를 갖고 희석된다. 그것은 500ml의 5% 수용성 탄산수소 나트륨 용액 및 500ml의 물을 갖고 추출에 앞서, 500ml의 5% 수용성 염산 용액을 갖고 추출된다. 황산 나트륨을 통해 유기 상을 건조시킨 후, 용액은 필터링되며 32.00g의 약간 베이지색 결정성 생성물을 산출하기 위해 건조한 상태로 증발된다. 그것은 97.7% 면적의 순도를 가진(HPLC) 27.02g의 무색 트리플루오로벤질에스테르(A13)를 제공하기 위해 톨루엔으로부터 재결정화된다.
준비 예 A14 (3,4,5-트리플루오로페닐)메틸 (E)-3-[4-(6-하이드록시헥스옥시)페닐]프롭-에노에이트
29.00g의 플루오로벤질에스테르(A13)가 140ml의 디메틸포름아미드에 용해된다. 15.43g의 6-클로로-1-헥사놀이, 16.91g의 미세 분상된 탄산 칼륨 및 1.56g의 분상된 요오드화 칼륨에 앞서, 부가된다. 누르스름한 현탁액이 교반되며 3시간 동안 100℃에서 가열된다. 황색 현탁액이 실온으로 냉각되고, 고상 염들이 여과되며 깨끗한 여과액이 5℃에서 800ml의 물 및 200ml의 25% 수용성 염산의 혼합물에 천천히 부가된다. 침전 생성물은 여과되며 필터 케이크는 물을 갖고 잘 세척된다. 그것은 그 후 400ml의 에틸 아세테이트에 용해되며 용액은 400ml의 5% 수용성 탄산수소 나트륨 용액을 갖고 및 그 후 300ml의 물을 갖고 세척된다. 황산 나트륨을 갖고 유기 상을 건조시킨 후, 필터링된 용액은 40.2g의 갈색을 띤 오일을 산출하기 위해 건조한 상태로 증발된다. 결과적인 크루드 생성물은 톨루엔에 용해되며 헵탄의 부가 및 90.7%면적의 HPLC 순도를 가진 30.48g의 무색 하이드록시알킬화 쿠마르 에스테르(A14)를 제공하기 위해 냉각시킴으로써 결정화된다.
준비 예 A15 6-[4-[(E)-3-옥소-3-[(3,4,5-트리플루오로페닐)메톡시]프롭-1-에닐]페녹시]헥실 2-메틸프롭-2-에노에이트
30.00g의 하이드록시알킬화 쿠마르 에스테르(A14)가 160ml의 톨루엔에 용해된다. 8.85g의 메타크릴 산, 2.96g의 4-디메틸아미노피리딘 및 0.07g의 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀이 부가되며 용액으로 전달된다. 0℃로 냉각시킨 후, 27ml 톨루엔에서 21.22g 디사이클로헥실카보디이미드의 용액은 0℃에서 15분 내에 교반 하에 부가된다. 백색 현탁액은 0℃에서 또 다른 75분 동안 및 그 후 실온에서 밤새 교반된다. 150ml의 5% 수용성 탄산수소 나트륨 용액이 백색 현탁액에 부가되며 교반은 1시간 동안 계속된다. 현탁액은 필터링되고, 필터 케이크(주로 DCC 요소)는 톨루엔을 갖고 세척되며 수성 상은 분리된다. 유기 상은 500ml의 5% 수용성 염산염 용액 및 500ml의 10% 수용성 염화 나트륨 용액을 갖고 세척된다. 황산 나트륨을 통해 유기 상을 건조시킨 후, 필터링된 용액은 38.37g의 갈색을 띤 오일을 산출하기 위해 건조한 상태로 증발된다. 결과적인 크루드 생성물은 800ml 디클로로메탄에 용해되며 200g 실리카 겔의 짧은 컬럼(공극 크기 60 옹스트롬, 230 내지 400 메시 입자 크기)을 통해 필터링된다. 여과액은 94.4%면적의 HPLC 순도를 가진 26.27g의 쿠색, 결정성 트리플루오로벤질에스테르 메타크릴레이트(A15)를 산출하기 위해 건조한 상태로 증발된다. 제품은 97.3%면적의 개선된 HPLC 순도를 제공하기 위해 톨루엔/헵탄에서 재결정화될 수 있다.
준비 예 A16 폴리-6-[4-[(E)-3-옥소-3-[(3,4,5-트리플루오로페닐)메톡시]프롭-1-에닐]페녹시]헥실 2-메틸프롭-2-에노에이트
Figure 112021058143244-pat00004
8.40g의 단위체(A15)가 38ml의 테트라하이드로퓨레인에 용해된다. 0.04g의 2,2'-아조비스(2-메틸프로피오니트릴이 부가되며 용액은 각각이 질소를 갖고 제거하는 것에 앞서, 5개의 사이클들의 진공을 적용함으로써 제거된다. 용액은 60℃에서 18시간 동안 질소 하에 교반된다. 고체 고분자는 활발한 교반 하에 500ml의 냉각된(-10℃) 메탄올로 고분자 용액을 떨어뜨림으로써 분리된다. 침전은 여전히 냉각되는 동안 여과되며 40℃에서 진공 하에 건조된다. 고분자(A16)는 290'955의 Mw 및 48,432의 Mn을 갖고 획득된다.
오브젝트 재료들(OSM)을 배향시키는 준비
OSM 1
15000의 Mw(플루카(Fluka))를 가진 1.98g의 폴리-메틸 메타크릴레이트가 OSM 1을 제공하기 위해 0.02g의 고분자(A4)에 앞서, 8.0g의 톨루엔에 용해된다.
OSM 2
15000의 Mw(Fluka)를 가진 3.409g의 폴리-메틸 메타크릴레이트가 OSM 2를 제공하기 위해 0.091g의 고분자(A4)에 앞서, 6.5g의 톨루엔에 용해된다.
OSM 3
15000의 Mw(Fluka)를 가진 1.9g의 폴리-메틸 메타크릴레이트가 OSM 3을 제공하기 위해 0.1g의 고분자(A4)에 앞서, 8.0g의 톨루엔에 용해된다.
OSM 4
15000의 Mw(Fluka)를 가진 3.325g의 폴리-메틸 메타크릴레이트가 OSM 4를 제공하기 위해 0.175g의 고분자(A4)에 앞서, 6.5g의 톨루엔에 용해된다.
OSM 5
3.28g의 CN9010EU(Sartomer), 3.28g의 SR351(Sartomer) 및 3.28g의 Miramer M1183(미원 스페셜티 케미칼)이 교반 하에 혼합된다. 0.1g의 고분자(A4)가 부가되고, 혼합물은 밤새 추가로 교반된다. 0SM 5를 제공하기 위해 0.1g의 과산화 디큐밀(Aldrich)이 부가되고, 혼합물은 1시간 동안 추가로 교반된다.
OSM 6
1.88g의 CN9010EU(Sartomer), 3.76g의 SR9035(Sartomer) 및 3.76g의 Miramer M1183(미원 스페셜티 케미칼)이 교반 하에 혼합된다. 0.5g의 고분자(A4)가 부가되고, 혼합물은 밤새 추가로 교반된다. 0SM 6을 제공하기 위해 0.1g의 과산화 디큐밀(Aldrich)이 부가되고, 혼합물은 1시간 동안 추가로 교반된다.
OSM 7
4g의 CN9010EU(Sartomer), 7.8g의 SR9035(Sartomer) 및 7.8g의 Miramer M1183(미원 스페셜티 케미칼)이 교반 하에 혼합된다. 0.2g의 고분자(A4)가 부가되고, 혼합물은 밤새 추가로 교반된다. 0SM 7을 제공하기 위해 0.2g의 이르가큐어(Irgacure) 819(BASF)가 부가되고, 혼합물은 1시간 동안 추가로 교반된다.
OSM 8
1.88g의 CN9010EU(Sartomer), 3.76g의 SR9035(Sartomer) 및 3.76g의 Miramer M1183(미원 스페셜티 케미칼)이 교반 하에 혼합된다. 0.5g의 고분자(A5)가 부가되고, 혼합물은 밤새 추가로 교반된다. 0SM 8을 제공하기 위해 0.1g의 이르가큐어 819(BASF)가 부가되고, 혼합물은 1시간 동안 추가로 교반된다.
OSM 9
1.88g의 CN9010EU(Sartomer), 3.76g의 SR9035(Sartomer) 및 3.76g의 Miramer M1183(미원 스페셜티 케미칼)이 교반 하에 혼합된다. 0.5g의 고분자(A6)가 부가되고, 혼합물은 밤새 추가로 교반된다. 0SM 9를 제공하기 위해 0.1g의 이르가큐어 819(BASF)가 부가되고, 혼합물은 1시간 동안 추가로 교반된다.
OSM 10
15000의 Mw(Fluka)를 가진 1.9g의 폴리-메틸 메타크릴레이트가 OSM 10을 제공하기 위해 0.1g의 고분자(A12)에 앞서, 8.0g의 톨루엔에 용해된다.
OSM 11
15000의 Mw(Fluka)를 가진 1.9g의 폴리-메틸 메타크릴레이트가 OSM 11을 제공하기 위해 0.1g의 고분자(A16)에 앞서, 8.0g의 톨루엔에 용해된다.
OSM 12
1.49g의 셀룰로오스 아세테이트(Eastman CA-398-3)가 OSM 12를 제공하기 위해 0.08g의 고분자(A12)에 앞서, 8.43g의 테트라하이드로퓨레인에 용해된다.
OSM 13
1.49g의 셀룰로오스 아세테이트(Eastman CA-398-3)가 OSM 13을 제공하기 위해 0.08g의 고분자(A16)에 앞서, 8.43g의 테트라하이드로퓨레인에 용해된다.
중합 가능한 액정 재료들(LCP)의 준비
LCP 1
1.9g의 Paliocolor LC242(BASF) 및 0.002g의 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀(Fluka)이 80℃에서 용융된다. 교반 하에 0.098g의 이르가큐어 907(BASF)가 LCP 1을 제공하기 위해 부가되고 혼합된다.
LCP 2
1.9g의 Paliocolor LC1057(BASF) 및 0.002g의 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀(Fluka)이 105℃에서 용융된다. 교반 하에 0.098g의 이르가큐어 907(BASF)가 LCP 2를 제공하기 위해 부가되고 혼합된다.
LCP 3
11.1g의 벤조 산, 2,5-비스[[4-[[6-[(1-옥소-2-프로페닐)옥시]헥실]옥실[벤조일]옥시]-, 펜틸 에스테르, 0.48g의 이르가큐어 907 (BASF), 0.06g의 TEGO 플로우 300(Evonik), 0.012g의 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀(Fluka) 및 0.36g의 Kayarad DPCA-20(Nippon Kayaku)가 LCP 3을 제공하기 위해 28.0g의 n-부틸 아세테이트에 용해된다.
적용 예들
적용 예 1
이 예에서, 디바이스는 도 3에 예시된 대로 만들어진다. OSM 1은 지지대로서 작용하는 두 개의 유리 판들(21, 25) 상에 와이어 바 넘버 0(RK Print-Coat Instruments)으로 코팅되며 4분 동안 80℃에서 건조되고, 이것은 1 ㎛의 두께를 가진 필름들의 형태로 오브젝트들을 제공한다. 획득된 오브젝트들(22 및 24)은 그 후 200 mJ/㎠(280 내지 320 nm)에서 선형으로 편광된 광에 노출되며, 그에 의해 각각 제 1 및 제 2 정렬 방향들(27, 28)을 정의한다. 40 ㎛ 두께 접착 테이프의 두 개의 스트립들(26, 27)은 스페이서들로서 제 1 유리의, 두 개의 평행 에지들에 가까운, 코팅된 측면으로 놓여진다. 제 1 유리는 그 후 60℃에서 핫 플레이트 상에 위치된다. 예열된 LCP 1(80℃)은 제 1 유리의 코팅된 측면으로 드롭된다. 제 2 유리는 그 후 두 개의 광 정렬 오브젝트들의 정렬 방향들(27, 28)이 평행하도록 LCP와 접촉하는 코팅된 측면을 갖고 위치된다. 그렇게 조립된 디바이스(20)는 LCP를 경화시키기 위해 10분 동안 80℃에서 가열되며 그 후 2000 mJ/㎠에서 uv-광(퓨전 UV 시스템즈, Bulb H)으로 노출된다. 교차된 편광기들 사이에 획득된 디바이스(20)를 배열할 때, 방향(29)에서 LCP의 균일한 배향이 관찰된다.
적용 예 2
디바이스가 적용 예 1과 동일한 방식으로, 그러나 OSM1 대신에 OSM 3을 사용하여 준비된다. OSM 1 필름들의 두게는 0.8 ㎛이다. 교차된 편광기들 사이에 획득된 디바이스를 배열할 때, LCP의 균일한 배향이 관찰된다.
적용 예 3
OSM 2는 지지대로서 두 개의 유리 판들로 133 ㎛ 설정을 가진 Zehntner 코터(ZUA 2000.150 Universal applicator)로 코팅되며 4분 동안 80℃에서 건조되고, 이것은 16 ㎛의 두께를 가진 필름들을 야기한다. 두 개의 오브젝트들을 사용하여, 디바이스는 적용 예 1에서와 동일한 방식으로 만들어진다. 교차된 편광기들 사이에 획득된 디바이스를 배열할 때, LCP의 균일한 배향이 관찰된다.
적용 예 4
적용 예 2에서처럼, OSM 3은 두 개의 유리 판들로 와이어 바 넘버 0(RK Print-Coat Instruments)으로 코팅되며 4분 동안 80℃에서 건조된다. 제 1 코팅된 유리 판(31)의 결과적인 OSM 3 층(32)의 최상부 상에, 셀룰로오스 트리아세테이트 필름으로부터 만들어진 0.5 cm 폭(80 ㎛) 스트립들(34)이 도 4a에 예시된 바와 같이, 0.5 cm의 거리를 갖고, 병렬로 위치된다. OSM 4는 여전히 용매를 포함하는, 막(33)을 준비하기 위해 와이어 바 넘버 0으로 코팅된다(도 4b). 필름이 4분 동안 80℃에서 건조된 후, 스트립들(34)은 대략 12 ㎛의 두께 차이를 갖고, 단지 필름(32)만을 포함하는 면적들 및 필름(32)의 최상부 상에 필름(33)을 포함하는 면적을 가진 구조화된 표면을 제공하기 위해 제거된다(도 4c). 획득된 오브젝트(35)는 그 후 200 mJ/㎠(280 내지 320 nm)에서 선형으로 편광된 광에 노출되고, 그에 의해 편광 방향은, 제거된 스트립들의 길이 방향에 대응하는, 구조의 길이 방향에 평행한다. 디바이스는 그 후 적용 예 1에서와 동일한 방식으로 두 개의 유리들을 사용하여 만들어진다. 교차 편광기들 사이에 획득된 디바이스를 배열할 때, LCP의 균일한 배향이 관찰된다.
적용 예 5
디바이스는 LCP 2가 LCP 1 대신에 사용되고, LCP 2가 그것을 오브젝트로 드롭시키기 전에 105℃로 예열되며 디바이스가 LCP를 경화시키기 전에 10분 동안 105℃로 가열되는 수정을 갖고, 적용 예 2에서와 동일한 방식으로 OSM 3을 사용하여 만들어진다. 교차된 편광기들 사이에 획득된 디바이스를 배열할 때, LCP 층의 균일한 배향이 관찰된다.
적용 예 6
디바이스는 LCP 2가 LCP 1 대신에 사용되고, LCP 2가 그것을 오브젝트로 드롭시키기 전에 105℃로 예열되며 디바이스가 LCP를 경화시키기 전에 10분 동안 105℃로 가열되는 수정을 갖고, 적용 예 4에서와 동일한 방식으로 만들어진다. 교차된 편광기들 사이에 획득된 디바이스를 배열할 때, LCP 층의 균일한 배향이 관찰된다.
적용 예 7
OSM 5는 두 개의 유리 판들로 와이어 바 넘버 0(RK Print-Coat Instruments)을 갖고 코팅된다. 코팅들은 먼저 15분 동안 150℃에서 및 그 후 10분 동안 200℃에서 경화되어, 1 ㎛의 두께를 가진 필름들을 야기한다. 두 개의 오브젝트들을 사용하여, 디바이스는 적용 예 1에서와 동일한 방식으로 만들어진다. 교차된 편광기들 사이에 획득된 디바이스를 배열할 때, LCP 층의 균일한 배향이 관찰된다.
적용 예 8
OSM 5는 반사하는 알루미늄 포일로 주조되며 먼저 15분 동안 150℃에서 및 그 후 10분 동안 200℃에서 경화되어, 대략 100 ㎛의 두께를 가진 필름을 야기한다. 획득된 오브젝트는 그 후 200 mJ/㎠(280 내지 320 nm)에서 선형으로 편광된 광에 노출된다. LCP 3은 30초 동안 2000 rpm으로 스핀 코팅되며 2분 동안 55℃에서 건조된다. 실온으로 냉각시킨 후, LCP 층은 1500 mJ/㎠(300 내지 400 nm)에서 질소 하여 UV 경화된다. LCP 층 위에 배열된 선형 편광기를 통해 LCP 층을 관찰할 때, 균일한 배향이 보여질 수 있다.
적용 예 9
OSM 6은 약 70 ㎛의 필름 두께를 제공하기 위해, 유리 판으로 300 ㎛ 설정을 갖고 Zehntner Coater(ZUA 2000.150 Universal applicator)로 코팅되고, 30분 동안 150℃에서 경화된다. 획득된 광 정렬가능한 오브젝트는 그 후 500 mJ/㎠(280 내지 320 nm)에서 선형으로 편광된 광에 노출된다. LCP 3은 30초 동안 2000 rpm에서 오브젝트의 최상부 상에 스핀 코팅되며 4분 동안 55℃에서 건조된다. 실온으로 냉각시킨 후, LCP 층은 1500 mJ/㎠(300 내지 400 nm)에서 질소 하에 UV 경화된다. OSM6 및 LCP 3 코팅에 기인한 필름 스택은 유리 판으로부터 엽렬된다. 교차된 편광기들 사이에 필름을 배열할 때, LCP의 균일한 배향이 관찰된다.
적용 예 10
OSM 7은 유리 판으로 50 ㎛ 설정을 갖고 Zehntner Coater(ZUA 2000.150 Universal applicator)를 갖고 코팅된다. 실온에서 5분 동안 대기한 후, 코팅은 약 10 ㎛의 두께를 가진 필름을 제공하기 위해, 4000 mJ/㎠에서 UV LED(395 nm)를 갖고 질소 하에 경화된다. 획득된 광 정렬가능한 오브젝트는 그 후 1000 mJ/㎠(280 내지 320 nm)에서 선형으로 편광된 광에 노출된다. LCP 3은 30초 동안 2000 rpm에서 스핀 코팅되며 4분 동안 55℃에서 건조된다. 실온으로 냉각시킨 후, LCP는 1500 mJ/㎠(300 내지 400 nm)에서 질소 하에 UV 경화된다. 교차된 편광기들 사이에 코팅된 유리 판을 관찰할 때, 균일한 배향이 보여진다.
적용 예 11
OSM 7은 유리 판으로 400 ㎛ 설정을 갖고 Zehntner Coater(ZUA 2000.150 Univeral applicator)로 코팅된다. 실온에서 5분 후, 결과적인 층은 4000 mJ/㎠(300 내지 400 nm)에서 질소 하에 경화되며 약 220 ㎛의 필름 두께를 가진다. 획득된 오브젝트는 그 후 1000 mJ/㎠(280 내지 320 nm)에서 선형으로 편광된 광에 노출된다. LCP 3은 30초 동안 2000 rpm으로 스핀 코팅되며 4분 동안 55℃에서 건조된다. 실온으로 냉각시킨 후, LCP는 1500 mJ/㎠(300 내지 400 nm)에서 질소 하에 UV 경화된다. 교차된 편광기들 사이에 코팅된 유리 판을 관찰할 때, 균일한 배향이 보여진다.
적용 예 12
엠보싱 툴(40)이 도 5a에 예시된 바와 같이, 유리 판상에서 서로에 평행한 접착 테이프의 점착성 스트립들(42)에 의해 제 1 유리 판(41)으로부터 준비된다. 스트립들 사이에서의 거리는 0.5 cm이며 스트립들의 폭은 1.8 cm이다. 테이프의 두께는 50 ㎛이다. 접착 스트립들을 가진 유리 판은 그 후 5분 동안 트리클로(1H, 1H, 2H, 2H-퍼플루오로옥틸)실란을 갖고 증기 처리되며, 이것은 그 후 유리 엠보싱 툴(40)이다. OSM 8은 필름(44)을 준비하기 위해, 제 2 유리 판(43)으로 200 ㎛ 설정을 갖고 Zehntner Coater(ZUA2000.150 Universal applicator)로 코팅된다. 유리 엠보싱 툴(40)은 필름(44)으로 눌려지며, 이것은 그 후 4000 mJ/㎠에서 UV LED(395 nm)의 uv 광을 갖고 유리 엠보싱 툴을 통해 조사에 의해 경화된다. 유리 엠보싱 툴은 그 후 제거된다. 이제 두 개의 높이 레벨들(46 및 47)(도 5b)을 갖고 구조화된 필름(45)이 제 2 유리 판(43) 상에 있으며, 그것의 보다 낮은 높이는 약 60 ㎛이며 보다 큰 높이가 약 105 ㎛이다. 그렇게 획득된 광 정렬가능한, 구조화된 오브젝트는 그 후 1000 mJ/㎠(280 내지 320 nm)에서 선형으로 편광된 광에 노출된다. LCP 3은 30초 동안 2000 rpm으로 광 정렬된, 구조화된 오브젝트(45)의 최상부 상에서 스핀 코팅되며 4분 동안 55℃에서 건조된다. 실온으로 냉각시킨 후, LCP는 1500 mJ/㎠(300 내지 400 nm)에서 질소 하에 UV 경화된다. 그렇게 획득된 디바이스는 교차된 편광기들 사이에 배열될 때, LCP 층의 균일한 배향이 관찰된다.
적용 예 13
OSM 9는 50℃로 예열되고, 여과되며 유리 판으로 50 ㎛ 설정을 갖고 Zehntner Coater(ZUA 2000.150 Universal applicator)로 코팅되고, 그 후 4000 mJ/㎠에서 UV LED(395 nm)의 광을 가진 조사에 의해 질소 하에 경화된다. 대략 10 ㎛의 두께를 가진 필름이 발생한다. 획득된 오브젝트는 그 후 1000 mJ/㎠(280 내지 320 nm)에서 선형으로 편광된 광에 노출된다. LCP 3은 30초 동안 2000 rpm으로 스핀 코팅되며 4분 동안 55℃에서 건조된다. 실온으로 냉각시킨 후, LCP는 1500 mJ/㎠(300-400nm)에서 질소 하에 UV 경화된다. 교차된 편광기들 사이에 LCP 층을 관찰할 때, 균일한 배향이 보여진다.
적용 예 14
디바이스는 적용 예 1에서와 동일한 방식으로, 그러나 OSM 1 대신에 OSM 10을 사용하여 준비되며 1.3 ㎛의 두께를 가진 결과적인 막이 200 mJ/㎠(280 내지 320 nm) 대신에 1000 mJ/㎠(280 내지 320 nm)에서 선형으로 편광된 광에 노출된다. 교차된 편광기들 사이에 획득된 디바이스를 배열할 때, LCP의 균일한 배향이 관찰된다.
적용 예 15
디바이스는 적용 예 1과 동일한 방식으로, 그러나 OSM 1 대신에 OSM 11을 사용하여 준비되며, 1.3 ㎛의 두께를 가진 결과적인 막이 200 mJ/㎠(280 내지 320 nm) 대신에 1000 mJ/㎠(280 내지 320 nm)에서 선형으로 편광된 광에 노출된다. 교차된 편광기들 사이에 획득된 디바이스를 배열할 때, LCP의 균일한 배향이 관찰된다.
적용 예 16
OSM 12는 유리 판으로 100 ㎛ 설정을 갖고 Zehntner Coater(ZUA 2000.150 Universal applicator)로 코팅된다. 실온에서 10분 후, 코팅은 13 ㎛의 드라이 필름 두께를 제공하기 위해 10분 동안 70℃에서 건조된다. 획득된 오브젝트는 그 후 1000 mJ/㎠(280 내지 320 nm)에서 선형으로 편광된 광에 노출된다. LCP 3은 30초 동안 2000 rpm에 스핀 코팅되며 4분 동안 55℃에서 건조된다. 실온으로 냉각시킨 후, LCP는 1500 mJ/㎠(300 내지 400 nm)에서 질소 하에 UV 경화된다. 교차된 편광기들 사이에 LCP 층을 관찰할 때, 균일한 배향이 보여진다.
적용 예 17
디바이스는 적용 예 16에서와 동일한 방식으로, 그러나, OSM 12 대신에 OSM 13을 사용하여 준비된다. 교차된 편광기들 사이에서의 LCP 층을 관찰할 때, 균일한 배향이 보여진다.
적용 예 18
OSM 6은 약 70 ㎛의 필름 두께를 제공하기 위해, 유리 판으로 300 ㎛ 설정을 갖고 Zehntner Coater(ZUA 2000.150 Universal applicator)로 코팅되고, 30분 동안 150℃에서 경화된다. 필름은 그 후 독립형 필름의 형태로 광 정렬가능한 오브젝트를 달성하기 위해 기판으로부터 제거된다.
적용 예 19
적용 예 18에 획득된 독립형 필름은 500 mJ/㎠(280 내지 320 nm)에서 선형으로 편광된 광에 노출된다. 독립형 필름의 형태로 광 정렬 오브젝트는 그 후 스핀 코터의 진공 척 상에 고정되며 LCP 3은 30초 동안 2000 rpm으로 광 정렬 오브젝트의 최상부 상에 스핀 코팅되며 4분 동안 55℃에서 건조된다. 실온으로 냉각시킨 후, LCP 층은 1500 mJ/㎠(300 내지 400 nm)에서 질소 하에 UV 경화된다. 교차된 편광기들 사이에 필름을 배열할 때, LCP의 균일한 배향이 관찰된다.
1: 기판 2: 얇은 층
3, 13: 액정 층 10: 디바이스
11, 53: 광 정렬가능한 오브젝트 12: 표면 구조
51, 54: 표면 프로파일 52: 재료 조성
55: 오브젝트
56: 렌티큘러 렌즈 어레이 58: 광학 디바이스

Claims (26)

  1. 광 정렬가능한 오브젝트(object)의 생성을 위한 방법에 있어서,
    - 광 정렬가능한 재료를 포함하는 재료 조성을 제공하는 단계와,
    - 3D-인쇄에 의해 상기 재료 조성으로부터 오브젝트(11, 22, 24, 35, 44, 45, 53)를 생성하는 단계를 포함하는, 광 정렬가능한 오브젝트의 생성을 위한 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 재료 조성은 광 정렬가능한 재료와, 광 정렬가능한 성분(moiety)들을 포함하지 않는, 다른 물질을 포함하는, 광 정렬가능한 오브젝트의 생성을 위한 방법.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 조성에서 상기 광 정렬가능한 재료들의 합의 중량에 의한 퍼센티지는 50% 미만인, 광 정렬가능한 오브젝트의 생성을 위한 방법.
  4. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 광 정렬가능한 재료와 상기 다른 물질은 상 분리되는, 광 정렬가능한 오브젝트의 생성을 위한 방법.
  5. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광 정렬가능한 재료는 플루오르화 성분들을 포함하는, 광 정렬가능한 오브젝트의 생성을 위한 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 광 정렬가능한 재료는 6-[4-[(E)-3-옥소-3-(4,4,4-트리플루오로부톡시)프롭-1-에닐]페녹시]헥실 2-메틸프롭-2-에노에이트 및 6-[4-[(E)-3-메톡시-3-옥소-프롭-1-에닐]페녹시]헥실 2-메틸프롭-2-에노에이트의 공중합체 또는 하기의 고분자 구조들 (i), (ii) 또는 (iii) 중 어느 하나인, 광 정렬가능한 오브젝트의 생성을 위한 방법.
    Figure 112021058143244-pat00005

    Figure 112021058143244-pat00006

    Figure 112021058143244-pat00007
  7. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 오브젝트의 두께는 500 ㎚ 이상인, 광 정렬가능한 오브젝트의 생성을 위한 방법.
  8. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 오브젝트는 곡선인(curved), 광 정렬가능한 오브젝트의 생성을 위한 방법.
  9. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 오브젝트는 이동 지지대 상에 생성되는, 광 정렬가능한 오브젝트의 생성을 위한 방법.
  10. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 오브젝트는 표면 구조를 갖는, 광 정렬가능한 오브젝트의 생성을 위한 방법.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 표면 구조는 렌즈들, 프레넬(Fresnel) 렌즈들, 렌티큘러(lenticular) 렌즈들, 렌즈 어레이들, 마이크로 렌즈들, 프리즘들, 격자들, 또는 직사각형 또는 삼각형 단면들을 가진 구조들과 같은 구조 요소들을 포함하는, 광 정렬가능한 오브젝트의 생성을 위한 방법.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 표면 구조의 구조 요소의 최소 폭은 500 ㎚ 이상인, 광 정렬가능한 오브젝트의 생성을 위한 방법.
  13. 제 10 항에 있어서,
    상기 표면 구조의 깊이는 100 ㎚ 이상인, 광 정렬가능한 오브젝트의 생성을 위한 방법.
  14. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    광 정렬된 오브젝트를 형성하기 위해, 상기 광 정렬가능한 오브젝트는 그 다음에 정렬한 광에 노출되는, 광 정렬가능한 오브젝트의 생성을 위한 방법.
  15. 제 14 항에 있어서,
    슬레이브 재료(13, 23, 56)는 상기 광 정렬된 오브젝트의 적어도 부분 상에 도포되는, 광 정렬가능한 오브젝트의 생성을 위한 방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 슬레이브 재료(13, 23, 56)는 LCP(액정 고분자) 재료인, 광 정렬가능한 오브젝트의 생성을 위한 방법.
  17. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 따라 제조된, 광 정렬가능한 오브젝트.
  18. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 따라 제조된 광 정렬가능한 오브젝트로서, 2 ㎛ 이상의 두께를 갖는, 광 정렬가능한 오브젝트.
  19. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 따라 제조된 광 정렬가능한 오브젝트로서, 지형상 표면 구조를 갖는, 광 정렬가능한 오브젝트(11, 35, 45, 53).
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 지형상 표면 구조의 깊이는 100 ㎚ 이상인, 광 정렬가능한 오브젝트(11, 35, 45, 53).
  21. 제 19 항에 있어서,
    상기 표면 구조는 마이크로 요소들을 포함하는, 광 정렬가능한 오브젝트(11, 35, 45, 53).
  22. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 따라 제조된 오브젝트를 정렬한 광에 노출시킴으로써 제조되는, 광 정렬된 오브젝트(11, 22, 24, 53).
  23. 제 22 항에 따른 광 정렬된 오브젝트(11, 22, 24, 53)에 의해 정렬된 슬레이브 재료(13, 23, 56)를 포함하는, 디바이스(10, 20, 58).
  24. 제 23 항에 있어서,
    상기 슬레이브 재료(13, 56)는 지형학적으로 구조화되는 적어도 하나의 표면(12, 54)을 가지며, 상기 광 정렬된 오브젝트(11, 53)와 접촉하거나 접촉한, 디바이스(10, 58).
  25. 제 24 항에 있어서,
    상기 슬레이브 재료는 이방성 렌즈들의 기능을 가지는, 디바이스(58).
  26. 제 23 항에 따른 디바이스를 포함하는, 무안경 입체영상(autostereoscopic) 3D 디스플레이.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102401926B1 (ko) 2014-07-31 2022-05-26 바스프 코팅스 게엠베하 Oled 디스플레이용의 반사방지 성질들을 도입한 캡슐화 구조물
CN104570538B (zh) * 2015-01-27 2017-11-24 京东方科技集团股份有限公司 一种显示装置
JP6672608B2 (ja) * 2015-04-08 2020-03-25 Jsr株式会社 潜像形成体、潜像形成体セット、潜像形成体の製造方法、画像表示方法及び装飾用積層体
JP2019522245A (ja) * 2016-07-29 2019-08-08 ロリク・テクノロジーズ・アーゲーＲｏｌｉｃ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ａｇ 液晶ポリマー材料上で配向を生じさせる方法
EP3665241B1 (en) * 2017-08-09 2021-04-28 Rolic Technologies AG Photoaligning polymer materials
CN110997614B (zh) 2017-08-09 2023-06-02 罗利克技术有限公司 制备光配向聚合物材料和组合物的方法
CN110764314B (zh) * 2018-07-27 2022-07-05 香港科技大学 一种高光效低偏色的液晶光配向层的制备方法
US20220145182A1 (en) 2019-02-12 2022-05-12 Rolic Technologies AG Method for the preparation of photoaligning polymer materials and compositions
US20220163853A1 (en) 2019-07-24 2022-05-26 Rolic Technologies AG Photo-alignable positive c-plate retarder
WO2022071410A1 (ja) * 2020-09-29 2022-04-07 富士フイルム株式会社 光学積層体、偏光板および画像表示装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001290028A (ja) 2000-04-05 2001-10-19 Fuji Xerox Co Ltd 光学フィルムの作製方法および光学フィルム
JP2005346029A (ja) 2004-06-04 2005-12-15 Ind Technol Res Inst マイクロ構造の可撓性液晶表示装置の液晶配向方法
JP2007535686A (ja) 2003-07-10 2007-12-06 オキュイティ・リミテッド レンズアレイ構造
JP2010175931A (ja) 2009-01-30 2010-08-12 Dic Corp 光配向膜用組成物、光配向膜、及び光学異方体

Family Cites Families (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4122027A (en) 1976-11-08 1978-10-24 General Electric Company Dichroic liquid crystal composition with 4,4-bis (substituted naphthylazo)azobenzene dichroic dyes
US4565424A (en) 1980-12-12 1986-01-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Asymmetric dichroic dye molecules having poly(arylazo) linking groups, a bis-substituted aryl thiazyl end group, and another end group
US4401369A (en) 1981-10-19 1983-08-30 Electronic Display Systems, Inc. Class of dichroic dyes for use with liquid crystals
DE3406209A1 (de) 1984-02-21 1985-08-29 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Azofarbstoffe und fluessigkristalline materialien, enthaltend diese farbstoffe
US5389285A (en) 1989-12-11 1995-02-14 Hercules Incorporated Liquid crystal coupled dichroic dyes
US6160597A (en) * 1993-02-17 2000-12-12 Rolic Ag Optical component and method of manufacture
DE59408097D1 (de) 1993-02-17 1999-05-20 Rolic Ag Orientierungsschicht für Flüssigkristalle
US5500765A (en) * 1994-05-11 1996-03-19 Dimension Technologies Inc. Convertible 2D/3D autostereoscopic display
JP3561970B2 (ja) * 1994-09-27 2004-09-08 セイコーエプソン株式会社 液晶配向膜の処理方法
DE59507348D1 (de) 1994-09-29 2000-01-05 Rolic Ag Zug Cumarin- und chinolinon-derivate zur herstellung von orientierungsschichten für flüssigkristalle
US5825448A (en) * 1995-05-19 1998-10-20 Kent State University Reflective optically active diffractive device
US6107427A (en) 1995-09-15 2000-08-22 Rolic Ag Cross-linkable, photoactive polymer materials
DE59814236D1 (de) 1997-02-24 2008-07-17 Rolic Ag Photovernetzbare Polymere
GB0119176D0 (en) * 2001-08-06 2001-09-26 Ocuity Ltd Optical switching apparatus
JP2004246314A (ja) * 2002-06-06 2004-09-02 Hitachi Chem Co Ltd 表面凹凸形成方法およびその利用
TWI337679B (en) * 2003-02-04 2011-02-21 Sipix Imaging Inc Novel compositions and assembly process for liquid crystal display
ES2376237T3 (es) 2003-05-21 2012-03-12 Z Corporation Sistema de material en polvo termopl�?stico para modelos de apariencia a partir de sistemas de impresión en 3d.
JP2004347948A (ja) * 2003-05-23 2004-12-09 Hitachi Chem Co Ltd 表面凹凸フィルムおよび感エネルギー性ネガ型樹脂組成物
TWI413809B (zh) 2004-12-27 2013-11-01 Dainippon Ink & Chemicals 光學薄膜、橢圓偏光板、圓偏光板、液晶顯示元件、及該光學薄膜之製法
EP1764405A1 (en) 2005-09-20 2007-03-21 Rolic AG Functionalized photoreactive compounds
WO2008004570A1 (fr) * 2006-07-05 2008-01-10 Nikon Corporation Filtre passe-bas optique, appareil photographique, dispositif de formation d'image et procédé de fabrication d'un filtre passe-bas optique
JP4936048B2 (ja) 2006-07-11 2012-05-23 日東電工株式会社 多官能化合物、光記録材料、光記録媒体、光記録再生装置、光導波路材料、および光配向膜材料
JP2008170678A (ja) * 2007-01-11 2008-07-24 Seiko Epson Corp 配向膜の形成方法及び液晶装置の製造方法
EP2222740B1 (en) * 2007-12-21 2017-10-11 Rolic AG Functionalized photoreactive compounds
US8760614B2 (en) * 2008-03-11 2014-06-24 Rolic Ltd. Optical biometric security element
JP5369479B2 (ja) 2008-04-11 2013-12-18 凸版印刷株式会社 表示体、粘着ラベル及び転写箔
KR101484250B1 (ko) * 2008-05-21 2015-01-19 삼성디스플레이 주식회사 광배향재, 이를 이용하여 형성한 배향막을 갖는 표시 기판및 그 표시 기판의 제조 방법
US9052549B2 (en) * 2008-11-27 2015-06-09 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display and manufacturing method thereof
CN101866030B (zh) * 2009-04-16 2014-07-23 财团法人工业技术研究院 低色偏偏光元件、低色偏偏光光源及液晶显示器
JP2010281998A (ja) * 2009-06-04 2010-12-16 Hayashi Telempu Co Ltd 偏光性回折格子
KR101724107B1 (ko) 2009-06-23 2017-04-06 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 광배향성을 갖는 열경화막 형성 조성물
KR101666622B1 (ko) * 2009-08-26 2016-10-17 삼성디스플레이 주식회사 광배향제 및 그것을 이용한 액정 표시 장치
TWI591096B (zh) * 2010-02-12 2017-07-11 羅利克股份公司 具橫向取代之光配向材料
KR101786792B1 (ko) * 2010-04-23 2017-10-18 롤리크 아게 광정렬 재료
WO2012085735A2 (en) 2010-12-21 2012-06-28 Koninklijke Philips Electronics N.V. Lighting system and method of manufacture
CN102402069A (zh) * 2011-11-11 2012-04-04 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板的配向膜制作方法
TWI449962B (zh) 2012-02-16 2014-08-21 Chunghwa Picture Tubes Ltd 用於三維顯示之液晶透鏡
BR112014029923A2 (pt) 2012-05-30 2017-06-27 Rolic Ag geração rápida de elementos com anisotropia individualmente padronizada
JP6277191B2 (ja) * 2012-09-05 2018-02-07 ルメンコ エルエルシーＬｕｍｅｎｃｏ，Ｌｌｃ フル・ボリューム３ｄおよび多方向運動を達成する円形および四角形ベースのマイクロ・レンズ・アレイのためのピクセル・マッピング、配置、および画像化

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001290028A (ja) 2000-04-05 2001-10-19 Fuji Xerox Co Ltd 光学フィルムの作製方法および光学フィルム
JP2007535686A (ja) 2003-07-10 2007-12-06 オキュイティ・リミテッド レンズアレイ構造
JP2005346029A (ja) 2004-06-04 2005-12-15 Ind Technol Res Inst マイクロ構造の可撓性液晶表示装置の液晶配向方法
JP2010175931A (ja) 2009-01-30 2010-08-12 Dic Corp 光配向膜用組成物、光配向膜、及び光学異方体

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HK1217316A1 (zh) 2017-01-06
TWI771052B (zh) 2022-07-11
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TW201512745A (zh) 2015-04-01
US10286616B2 (en) 2019-05-14
TWI683165B (zh) 2020-01-21
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EP3036094A1 (en) 2016-06-29
US20190210309A1 (en) 2019-07-11
JP6865795B2 (ja) 2021-04-28

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