JP5531604B2 - 積層体の製造方法 - Google Patents

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本発明は、積層体およびその製造方法に関する。
積層体に関し、いくつかの技術が開示されている。例えば、特許文献1には、透明ポリマーフィルムを延伸してなる、実質的に可視光の1/2波長の位相差値を有する位相差フィルム上に、液晶性化合物からなる、実質的に可視光の1/4波長の位相差値を有する複屈折層が形成された複合位相差板が開示されている。また、特許文献2には、透明ポリマーフィルムを延伸してなる、実質的に可視光の1/4波長又は1/2波長の位相差値を有する位相差フィルム上に、液晶性化合物からなる、実質的に可視光の1/4波長の位相差値を有する複屈折層と、実質的に可視光の1/2波長の位相差値を有する少なくとも1層の複屈折層とが形成された複合位相差板が開示されている。
これら位相差板では、液晶を配向させるために配向膜が用いられる。配向膜としては、ポリイミド系の配向膜がよく知られている。しかし、ポリイミド系の配向膜は有機溶剤を用いて製膜するため、一般的に耐溶剤性が低い一軸延伸フィルムなどへ塗布すると、一軸延伸フィルムのリタデーションなどが変化してしまう。よって、PVA(ポリビニルアルコール)などの水溶性の材料からなる配向膜が用いられているが、積層体の耐水性や光学特性などに課題があった。また、ラビングの手法を用いるため、ゴミなどの異物による配向欠陥などの課題があった。
また、液晶配向方法又は液晶分子配向法に関しても、いくつかの技術が開示されている。例えば、特許文献3には、少なくとも一方の基板に対して一軸性を有する部材を密着させ、後に取り除くことによって、その基板によって挟まれる液晶を配向させることを特徴とする液晶配向方法、基板上に有機膜を設けた後に前記一軸性を有する部材を密着させることを特徴とする前記の液晶配向方法、一軸性を有する部材がラビング処理を施された部材であることを特徴とする前記の液晶配向方法、前記の液晶配向方法を利用して製造された液晶素子などが、開示されている。
また、例えば、特許文献4には、基板に直接ラビング処理を行うことなく液晶分子配列を行うようにした液晶分子配向法において、(a)基板と液晶分子配向性を有する部材を、アクリレート(メタクリレート)系エネルギー線硬化性樹脂組成物が該部材の液晶分子配向性を有する面と接して挟み込まれるように、積層する工程と、(b)液晶分子配向性を有する部材の上面及び/又は下面からエネルギー線を照射する工程と、(c)液晶分子配向性を有する部材を剥離し、液晶分子を配向する工程とを施すことを特徴とする液晶分子配向法、液晶分子配向性を有する部材が延伸樹脂フィルム、ラビング樹脂フィルム、または直線偏光を照射して表面に異方性を持たせた樹脂フィルムである前記の液晶分子配向法、基板上にアクリレート(メタクリレート)系エネルギー線硬化樹脂製の液晶分子配向性転写層を有する積層体などが、開示されている。
特開2002−372622号公報 特開2002−372623号公報 特開平6−43458号公報 特開平8−313910号公報
本発明の目的は、耐溶剤性および耐水性の向上を図った積層体およびその製造方法を提供することにある。
本発明の一態様に係る積層体は、一軸配向性の透明基材、透明樹脂層、および高分子液晶層を含む積層体であり、前記透明樹脂層は、前記高分子液晶層に接する面(a)を有し、該面(a)はモールド表面の転写により形成された液晶配向性を有する面であり、前記高分子液晶層は、前記面(a)に接して配向された液晶性モノマーの重合または前記面(a)に接して配向された架橋性高分子液晶の架橋により形成された高分子液晶層であり、前記一軸配向性の透明基材の光学軸と、前記高分子液晶層の高分子液晶の配向方向とが異なる。
本発明の一態様に係る積層体の製造方法は、一軸配向性の透明基材、透明樹脂層、および高分子液晶層を有する積層体の製造方法であって、(1)前記一軸配向性の透明基材の片側表面に硬化性樹脂組成物の層を形成する工程と、(2)前記硬化性樹脂組成物の層に、液晶を配向させるためのパターンの反転パターンを表面に有するモールドを押圧する工程と、(3)前記硬化性樹脂組成物の層と、前記モールドの表面とが接した状態で、硬化性樹脂組成物を硬化させて透明樹脂とする工程と、(4)前記モールドを剥離して、液晶配向性を有する面(a)を有する透明樹脂層を形成する工程と、(5)前記面(a)の上に、液晶性モノマーの層を形成して該液晶性モノマーを配向させ、液晶性モノマーが配向した状態で該液晶性モノマーを重合することにより、または、架橋性高分子液晶の層を形成して、該架橋性高分子液晶を配向させ、架橋性高分子液晶を架橋することにより、高分子液晶層を形成する工程と、を有し、前記一軸配向性の透明基材の光学軸の方向と、前記面(a)の配向方向とが異なる。
本発明によれば、耐溶剤性および耐水性の向上を図った積層体およびその製造方法を提供することが可能になる。
本発明の一実施形態に係る積層体10の製造方法の1例を概略的に表す図である。 本発明の一実施形態に係る積層体10を表す分解斜視図である。
次に、本発明の実施形態を、添付する図面を参照して説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係る積層体の製造方法の一例を表す図である。図2は、図1の製造方法で製造された積層体10を表す分解斜視図である。積層体10は、波長板(例えば、1/2波長板、1/4波長板)として機能し、光の偏光状態の変換(例えば、直線偏光(円偏光)から円偏光(直線偏光)への変換)が可能である。積層体10は、一軸配向性の透明基材11(以下、単に一軸配向性基材)、透明樹脂層12、高分子液晶層13が順に積層されて構成される。
一軸配向性基材11、高分子液晶層13は、それぞれ方向A1、A2を軸とする光学異方性を有し、それぞれ波長板として機能する。複数の波長板を積層することで、波長板の広帯域化が図られる。その結果、例えば、約400nm(青色)から約800nm(赤色)までの広い波長範囲において、直線偏光(円偏光)を円偏光(直線偏光)に変換することが可能となる。一例として、リタデーションが(a)1/4波長(λ/4)の一軸配向性基材11と、1/2波長(λ/2)の高分子液晶層13の組み合わせ、または(b)λ/2の一軸配向性基材11と、λ/4の高分子液晶層13の組み合わせにより、広帯域の1/4波長板を得ることができる。なお、このとき、方向A1、A2間の角度θは、例えば、60°±10°(50°以上70°以下)が好ましく、60°±5°(55°以上65°以下)がより好ましい。
透明樹脂層12は、高分子液晶層13に異方性を付与するためのパターンGを有する。後述のように、このパターンGに沿って、高分子液晶層13内の高分子液晶が配向される。即ち、パターンGの方向は、高分子液晶層13の配向方向A2と対応する。後述のように、パターンGは、例えば、略溝形状のパターンの集合体であり、この略溝形状に沿って高分子液晶が配向される。
図1に示すように、次のようにして、積層体10が製造される。即ち、一軸配向性基材11上に硬化性樹脂の層121が形成される(図1(a))。硬化性樹脂の層121の表面に、パターンGの反転パターンを表面に有するモールドMを押し当てる。次いで、硬化性樹脂の層121と、モールドMの表面とが接した状態で、硬化性樹脂を硬化させて透明樹脂12が形成される(図1(b)〜(d))。その後、透明樹脂層12上に高分子液晶層13が形成される(図1(e))。以下、この詳細を説明する。
A.一軸配向性基材11の準備
一軸配向性基材11は、既述のように方向A1に光学軸を有し、リタデーション値が制御される。
一軸配向性基材11は、ポリマーフイルムからなることが好ましい。ポリマーフイルムは、光学異方性を付与できるポリマーから形成する。このようなポリマーとしては、ポリオレフィン(例、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロポリオレフィン、ノルボルネン系ポリマー)、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリビニルアルコール、およびセルロースエステル等が挙げられる。また、アクリル系モノマー(アクリル酸エステル類、アクリル酸など)やメタクリル系モノマー(メタクリル酸エステル類、メタクリル酸など)のホモポリマーやコポリマーも挙げられる。なお、これらのポリマーの混合物を用いることもできる。
ポリマーフイルムは、複屈折のムラを少なくするために、ソルベントキャスト法や溶融押し出し法により製造することが好ましい。また、波長板に対する薄型化ニーズと、フィルムの機械的強度との関係から、ポリマーフイルムの厚さは、20〜500μmであることが好ましく、50〜200μmであることがさらに好ましく、50〜100μmであることが最も好ましい。
一軸配向性基材11の光学異方性は、ポリマーフイルム等の延伸により得ることが好ましい。延伸は一軸延伸であることが好ましい。一軸延伸は、2つ以上のロールの周速差を利用した縦一軸延伸またはポリマーフイルムの両サイドを掴んで幅方向に延伸するテンター延伸が好ましい。
λ/2のリタデーションを目標とする場合、例えば、特定波長(λ)550nmでの一軸配向性基材11のリタデーション値は、240乃至290nmであることが好ましく、250乃至280nmであることがより好ましい。λ/4を目標とする場合、例えば、特定波長(λ)550nmでの一軸配向性基材11のリタデーション値は、110乃至145nmであることが好ましく、120乃至140nmであることがより好ましい。なお、二枚以上のポリマーフイルムを用いて、一軸配向性基材11全体の光学的条件を満足してもよい。
一軸配向性基材11は、リタデーションの波長依存性が小さいことが好ましい。例えば、450nmでのリタデーション値R450と550nmでのリタデーション値R550の値の比率R450/R550が小さい(できるだけ1に近い)方が好ましい。
なお、一軸配向性基材11としては、市販のフィルムを使用することもできる。たとえば、シクロポリオレフィン樹脂フィルムとして、ゼオノア(日本ゼオン(株)製)、アートン(JSR(株)製)、エスシーナ(積水化学(株)製)、F1フィルム(グンゼ(株)製)等を使用できる。ポリカーボネート樹脂フィルムとして、ピュアエース(帝人化成(株)製)等を使用できる。
B.樹脂層12の形成(図1(a)〜(d)参照)
一軸配向性基材11上に、液晶を配向させるためのパターンGを有する透明樹脂層12が形成される。この工程は、次の(1)〜(4)に区分できる。
(1)一軸配向性基材11上への硬化性樹脂組成物の層121の形成(図1(a)参照)
一軸配向性基材11に硬化性樹脂組成物(例えば、紫外線硬化性樹脂組成物)の層121を設ける。例えば、一軸配向性基材11に硬化性樹脂を塗布する。この方法として、ポッティング法、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、スプレーコート法、キャスト法、ディップコート法、スクリーン印刷、転写法等が挙げられる。
25℃における硬化性樹脂組成物の粘度は、好ましくは、1mPa秒以上2000mPa秒以下であり、より好ましくは、5mPa秒以上1000mPa秒以下である。この場合、スピンコート法のような手段によって、表面が平滑な硬化性樹脂組成物の層121をより容易に形成可能となる。なお、硬化性樹脂組成物の粘度は、回転式粘度計を用いて、温度25℃の温度において測定される。なお、硬化性樹脂組成物を溶剤で希釈することで、粘度を調整できる。
硬化性樹脂組成物は、複数の重合性基を有する重合性化合物を含むことが好ましい。この場合には、硬化性樹脂組成物の層を所望の硬度までより容易に硬化可能となる。
また、硬化性樹脂組成物は、光硬化性の樹脂組成物であることが好ましい。該光硬化性樹脂組成物は、付加重合性不飽和基を有する化合物(例えば、官能性の紫外線硬化性化合物)および光重合開始剤を含む組成物であることが好ましい。なお、光重合開始剤は、光によって光重合性化合物にラジカル重合反応又はイオン重合反応を引き起こす化合物である。例えば、光重合性の組成物は、99質量%〜90質量%の光重合性化合物及び1質量%〜10質量%の光重合開始剤を含む。
ここで、光重合性化合物としての光重合性モノマーは、好ましくは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有するモノマー、ビニル基を有するモノマー、アリル基を有するモノマー、環状エーテル基を有するモノマーであり、より好ましくは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有するモノマーである。
また、光重合性モノマーにおける重合性基の数は、好ましくは、1個以上6個以下であり、より好ましくは、2個又は3個であり、特に好ましくは、2個である。光重合性モノマーでの重合性基の数が2個の場合、このモノマーを重合させたときの重合収縮がそれほど大きくない。このため、透明樹脂層12へのモールドMのパターンの転写精度が良好になる。
また、光重合性の組成物に含まれる光重合性モノマーにおける2個以上の重合性の基を有する光重合性モノマーの割合は、好ましくは、30質量%以上である。この場合に、良好な耐溶剤性及び/又は耐熱性を備えた透明樹脂層12(重合体)が得られる。そして、表面に、液晶を配向させるためのパターンGを有する透明樹脂層12に、後述する液晶性モノマーを含む溶液や、架橋性高分子液晶を含む溶液(以下、まとめて重合性液晶材料溶液とも記載する)を塗布する場合に、重合性液晶材料溶液に対する透明樹脂層12の溶解を低減又は予防できる。さらに、重合性液晶材料溶液を加熱して、液晶の配向を制御する場合に、透明樹脂層12の状態の変化を低減又は予防可能になる。
ここで、光重合性のモノマーは、好ましくは、アクリル酸(メタクリル酸)、アクリレート(メタクリレート)、アクリルアミド(メタクリルアミド)、ビニルエーテル、ビニルエステル、アリルエーテル、アリルエステル、スチレン系化合物であり、特に好ましくは、アクリレート(メタクリレート)である。
アクリレート(メタクリレート)の具体例としては、(A)フェノキシエチルアクリレート(メタクリレート)、ベンジルアクリレート(メタクリレート)、ステアリルアクリレート(メタクリレート)、ラウリルアクリレート(メタクリレート)、2−エチルヘキシルアクリレート(メタクリレート)、エトキシエチルアクリレート(メタクリレート)、メトキシエチルアクリレート(メタクリレート)、グリシジルアクリレート(メタクリレート)、テトラヒドロフルフリールアクリレート(メタクリレート)、アリルアクリレート(メタクリレート)、2−ヒドロキシエチルアクリレート(メタクリレート)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート(メタクリレート)、N、N−ジエチルアミノエチルアクリレート(メタクリレート)、N、N−ジメチルアミノエチルアクリレート(メタクリレート)、ジメチルアミノエチルアクリレート(メタクリレート)、メチルアダマンチルアクリレート(メタクリレート)、エチルアダマンチルアクリレート(メタクリレート)、ヒドロキシアダマンチルアクリレート(メタクリレート)、アダマンチルアクリレート(メタクリレート)、イソボルニルアクリレート(メタクリレート)のようなモノアクリレート(メタクリレート)、(B)1、3−ブタンジオールジアクリレート(メタクリレート)、1、4−ブタンジオールジアクリレート(メタクリレート)、1、6−ヘキサンジオールジアクリレート(メタクリレート)、ジエチレングリコールジアクリレート(メタクリレート)、トリエチレングリコールジアクリレート(メタクリレート)、テトラエチレングリコールジアクリレート(メタクリレート)、ネオペンチルグリコールジアクリレート(メタクリレート)、ポリオキシエチレングリコールジアクリレート(メタクリレート)、トリプロピレングリコールジアクリレート(メタクリレート)のようなジアクリレート(メタクリレート)、(C)トリメチロールプロパントリアクリレート(メタクリレート)、ペンタアエリスリトールトリアクリレート(メタクリレート)のようなトリアクリレート(メタクリレート)、(D)ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(メタクリレート)のような四個以上の重合性基を有するアクリレート(メタクリレート)が挙げられる。
ビニルエーテルとしては、アルキルビニルエーテル(エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテルなど)、(ヒドロキシアルキル)ビニル(4−ヒドロキシブチルビニルエーテルなど)などが挙げられる。
ビニルエステルとしては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、吉草酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、安息香酸ビニルなどが挙げられる。
アリルエーテルとしては、アルキルアリルエーテル(エチルアリルエーテル、プロピルアリルエーテル、(イソ)ブチルアリルエーテル、シクロヘキシルアリルエーテルなど)などが挙げられる。
アリルエステルとしては、アルキルアリルエステル(エチルアリルエステル、プロピルアリルエステル、イソブチルアリルエステルなど)などが挙げられる。
環状エーテル基を有するモノマーとしては、オキセタニル基を有するモノマー、オキシラニル基を有するモノマー、スピロオルトエーテル基を有するモノマーなどが挙げられる。
なお、光重合性の組成物を硬化させることによって得られる光重合性の化合物の重合硬化物(透明樹脂層12)が、高い引張強度を有するためには、光重合性のモノマーは、好ましくは、二個以上の重合性の基を有するアクリレート(メタクリレート)を含む。具体的には、1、3−ブタンジオールジアクリレート、1、4−ブタンジオールジアクリレート、1、6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリオキシエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートなどが挙げられる。
また、光重合性のモノマーの分子量は、好ましくは、100以上800以下であり、より好ましくは、200以上600以下である。なお、一種類の光重合性のモノマーが単独で用いられることもあり、二種類以上の光重合性のモノマーが併用されることもある。
また、光重合性の組成物における光重合性のモノマーの割合は、光重合性のモノマーと光重合開始剤との合計量に対して、90質量%以上99質量%以下が好ましい。光重合性の組成物における光重合性のモノマーの割合が、90質量%以上であれば、光重合開始剤の残渣を低減可能になり、光重合性の化合物の重合体の物性の劣化を低減又は防止可能になる。一方、光重合性の組成物における光重合性のモノマーの割合が、99質量%以下であれば、光重合性のモノマーをより容易に重合させること、すなわち、光重合性の化合物の重合体をより容易に形成することが可能になる。その結果、光重合性の組成物に対して加熱のような操作は要求されないことになる。
一方、光重合開始剤としては、(A)アセトフェノン系光重合開始剤、(B)ベンゾイン系光重合開始剤、(C)ベンゾフェノン系光重合開始剤、(D)チオキサントン系光重合開始剤、(E)ペルフルオロ(tert−ブチルペルオキシド)、ペルフルオロベンゾイルペルオキシドのようなフッ素原子を含有する光重合開始剤、(F)α−アシルオキシムエステル、ベンジル−(o−エトキシカルボニル)−α−モノオキシム、アシルホスフィンオキシド、グリオキシエステル、3−ケトクマリン、2−エチルアントラキノン、カンファーキノン、テトラメチルチウラムスルフィド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルペルオキシド、ジアルキルペルオキシド、tert−ブチルペルオキシピバラートのようなその他の光重合開始剤が挙げられる。
ここで、光重合性の組成物における光重合開始剤の割合は、光重合性のモノマーと光重合開始剤との合計量に対して、1質量%以上10質量%以下である。光重合性の組成物における光重合開始剤の割合が、1質量%以上である場合には、光重合性のモノマーをより容易に重合させること、すなわち、光重合性の化合物の重合体をより容易に形成可能になる。その結果、光重合性の組成物に対して加熱のような操作を行うことは要求されないことになる。光重合性の組成物における光重合開始剤の割合が、10質量%以下であれば、光重合開始剤の残渣を低減可能になり、光重合性の化合物の重合体の物性の劣化を低減又は防止可能になる。
硬化性樹脂組成物は、界面活性剤を含むことがある。界面活性剤によって、モールドMを透明樹脂層12から剥離することが容易となる。界面活性剤は、好ましくは、(エーテル性酸素原子を有することがある)フルオロアルキル基、シリコーン鎖、又は炭素数4〜24の長鎖アルキル基を有する化合物を含み、より好ましくは、フルオロアルキル基を有する化合物を含む。フルオロアルキル基としては、ペルフルオロアルキル基、ポリフルオロアルキル基、ペルフルオロポリエーテル基などが挙げられる。シリコーン鎖としては、ジメチルシリコーン、メチルフェニルシリコーンなどが挙げられる。炭素数4〜24の長鎖アルキル基としては、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ドデシル基、ラウリル基、オクタデシル基などが挙げられる。炭素数4〜24の長鎖アルキル基は、直鎖状の基であることも分岐状の基であることもある。
硬化性樹脂組成物に含まれる界面活性剤の量は、モールドMの透明樹脂層12からの剥離性及び透明樹脂層12の表面への重合性液晶性材料溶液の塗布性によって決定される。一般的には、硬化性樹脂組成物に含まれる界面活性剤の量を増加させると、モールドMの透明樹脂層12からの剥離性は改善される。一方、界面活性剤が、透明樹脂層12の樹脂と完全に相溶しなかったり、透明樹脂層12の表面に塗布された重合性液晶性材料溶液が、はじかれたりすることがある。また、透明樹脂層12と高分子液晶層13との密着性が低下する場合がある。硬化性樹脂組成物に界面活性剤が全く存在しないか、量が少ない場合には、透明樹脂層12の表面に対する重合性液晶性材料溶液の塗布性にあまり問題はない。一方、モールドMを透明樹脂層12から剥離することが困難になることがある。
(2)硬化性樹脂組成物の層に、モールドMを押圧する(図1(b)参照)。
つぎに、前記硬化性樹脂組成物の層121に、液晶を配向させるためのパターンGの反転パターンを表面に有するモールドMを押圧する。
硬化性樹脂組成物が光重合性の化合物を含む場合、モールドMは、光透過性の材料から構成されることが好ましい。この場合、モールドMを通して、硬化性樹脂組成物に光を照射することで、該組成物を重合硬化できる。
このような光透過性の材料としては、ガラス、ポリエチレン−テレフタラート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)、シクロオレフィンポリマー(COP)、透明フッ素樹脂などが挙げられる。
モールドMのパターンは、例えば、ラビング処理により形成できる。硬化性樹脂組成物層121にパターンGを高い精度で形成できる。即ち、ラビング処理の条件及びモールドM(ラビング処理された樹脂の層)の種類に依らず、小さいチルト角を液晶にもたらしうる透明樹脂層12を形成可能になる。この結果、高分子液晶層13の光学特性の角度依存性を低減できる。
液晶を配向させるためのパターンG及びその反転のパターンは、可視光を回折または反射しない形状であることが好ましく、一般には、略溝形状のパターンの集合体であることが好ましい。そして、溝の深さが深く、溝の間隔が小さいほど、パターンGでのアンカリング力が増加する。パターンGのアンカリング力は、一般的には、1×10−5J/m以上であり、好ましくは、5×10−5J/m以上である。パターンGのアンカリング力が、1×10−5J/m以上であれば、一軸配向性が高く、低ヘーズの高分子液晶層13を得ることができる。
本発明においては、モールドMとして、市販のラビング処理された配向膜付き基板や、ラビング処理した樹脂フィルム(PETフィルムなど)が使用可能である。
また、上述したように25℃における光重合性の組成物の粘度が、1〜2000mPa・秒である場合には、室温でのパターン転写が好ましい。この場合、硬化性樹脂組成物の粘度が適切な範囲となり、パターンの転写の際に、硬化性樹脂組成物層121の厚さムラの増加が抑制される。
(3)硬化性樹脂組成物層121の硬化(図1(c)参照)
硬化性樹脂組成物層121を硬化させて透明樹脂層12を得る。硬化性樹脂組成物層121の表面にモールドMを押圧した状態で硬化性樹脂組成物を硬化させることで、パターンGを有する透明樹脂層12を簡便に形成できる。
例えば、紫外線(例えば、高圧水銀灯(周波数:1.5kHz以上2.0kHz以下、主波長光:255nm、315nm、及び365nm、365nmにおける照射エネルギー:1000mJ)の光)を硬化性樹脂組成物層121に照射することによって、硬化が達成される。
ここで、透明樹脂層12の厚さは、好ましくは3μm以上30μm以下であり、より好ましくは10μm以上20μm以下である。透明樹脂層12の厚さが、3μm以上であれば、透明樹脂層12の強度が小さすぎることはない。透明樹脂層12の厚さが、30μm以下であれば、透明樹脂層12の透過率が低すぎず、また透過率の角度依存性を低減可能となる。
なお、波長360nmの紫外線に対する、厚さ200μmの光重合性の化合物の重合硬化物の透過率は、好ましくは92%以上である。この場合、紫外線による、硬化性樹脂組成物層121の十分な光重合又は光硬化が可能となり、かつ最終的に得られる積層体10での黄色味を低減できて好ましい。
また、透明樹脂層12の引張強度は、好ましくは、30MPa以上である。引張強度が30MPa以上であれば、透明樹脂層12の機械的な強度が高くなり、折り曲げに強い積層体が得られる。
また、透明樹脂層12(光重合性の化合物の重合硬化物)に対する水の接触角は、好ましくは、50°以上90°以下であり、より好ましくは、60°以上80°以下である。接触角が50°以上であれば、透明樹脂層12からモールドMをより容易に剥離可能になる。一方、接触角が、90°以下であれば、透明樹脂層12に重合性液晶性材料溶液を塗布する際に、重合性液晶性材料溶液のはじきを低減又は防止可能となる。その結果、透明樹脂層12と高分子液晶層13間の密着性の劣化を低減又は防止可能となる。なお、光重合性の化合物の重合硬化物に対する水の接触角は、JIS K6768に従って、接触角測定装置を用いて測定される。
また、透明樹脂層12のヘーズ値は、好ましくは、0.5以下であり、さらに好ましくは、0.1以下である。透明樹脂層12のヘーズ値が、0.5以下であれば、積層体10のヘーズ値を低減可能となる。
また、透明樹脂層12のリタデーション値は、好ましくは、3nm以下であり、より好ましくは、1nm以下である。透明樹脂層12のリタデーション値が、3nm以下であれば、積層体10のリタデーション値をより容易に制御可能となり、積層体10の楕円率を向上可能となる。
(4)モールドMの分離(剥離)(図1(d)参照)。
透明樹脂層12からモールドMが分離(剥離)される。その結果、液晶配向性を有する面(a)を有する透明樹脂層12が形成される。面(a)は、高分子液晶を方向A2に配向させるためのパターンGを有する。既述のように、パターンGによって、方向A2が決定され得る、つまり、高分子液晶の配向を制御できる。
以上、図1を参照しながら、面(a)を有する透明樹脂層12の形成について述べたが、透明樹脂層12の形成方法はこれに限定されない。たとえば、一軸配向基材11と、液晶を配向させるためのパターンGの反転パターンを有するモールドMとを、該モールドMの反転パターンが一軸配向性基材11の側になるように接近または接触させる。ついで、硬化性樹脂組成物を、基板11とモールドMとの間に充填し、基板11とモールドMとが接近または接触した状態で、硬化性樹脂組成物に光を照射し、前記光硬化性組成物を硬化させて硬化物とする。その後に、モールドMを剥離することによって、透明樹脂層12を形成してもよい。
C.高分子液晶層13の形成(図1(e)参照)。
面(a)を有する透明樹脂層12上に高分子液晶層13が形成される。既述のように、高分子液晶層13は光学的異方性を有する。高分子液晶層13は次の(1)〜(3)の手順で形成できる。
(1)透明樹脂層12への重合性液晶性材料層の形成
面(a)を有する透明樹脂層12に、重合性液晶性材料を含む層(重合性液晶性材料層)が形成される。
ここで、重合性液晶性材料のリタデーションの値の波長分散は、小さいことが好ましい。例えば、波長550nmにおける重合性液晶性材料のリタデーションの値に対する波長450nmにおける重合性液晶性材料のリタデーションの値の比率Re450/550が、小さいことが好ましい。この比率が小さい場合には、良好な楕円率を備えた積層体10を得ることが可能となる。
また、重合性液晶性材料の複屈折率Δnが大きいと、高分子液晶層13の厚さを低減できるが、リタデーションの波長分散も大きくなる傾向がある。このため、リタデーションの波長分散が好ましい範囲内で、複屈折率Δnができるだけ大きい重合性液晶性材料が好ましい。
なお、波長360nmの紫外線に対する、厚さ200μmの高分子液晶の透過率は、好ましくは、92%以上である。透過率が92%以上であれば、紫外線による、重合性液晶性材料の十分な光重合又は光硬化が可能となり、かつ最終的に得られる積層体10の黄色味を低減できる。
この重合性液晶性材料は、重合性の基及びメソゲン基を有する材料であり、例えば、重合性の基を有する液晶性モノマー、液晶性ポリマー、若しくは、液晶性コポリマーを含む。
重合性の基は、好ましくは、光によって重合硬化可能なアクリロイル基又はメタクリロイル基、ビニル基、アリル基、環状エーテル基であり、より好ましくは、アクリロイル基(CH=CHCOO−)又はメタクリロイル基(CH=C(CH)COO−)である。
メソゲン基は、重合性液晶性材料の異方性に寄与する。メソゲン基は、好ましくは、脂環式炭化水素の環、芳香族炭化水素の環及び複素環の少なくとも一つを含む環基である。また、メソゲン基に含まれる環は、互いに直接的に結合してもよく、連結基を介して間接的に結合してもよい。
メソゲン基に含まれる環基は、同種あるいは異種の組み合わせの何れでも差し支えない。環基の数は2以上4以下が特に好ましく、2または3がとりわけ好ましい。環基の数が2以上であれば液晶性が発現する。環基の数が4以下であれば、液晶性モノマーの融点が低くなる。このため、重合性液晶性材料を重合硬化する工程において結晶析出が抑制され、高分子液晶層13のヘーズを低くできる。
重合性液晶性材料としては、下記の材料が好ましい。
(a)重合性基とメソゲン基とを有する液晶性モノマー、
(b)付加重合性不飽和基とメソゲン基とを有する化合物の重合体に、架橋性基を導入した高分子。
なお、付加重合性不飽和基としては、エチレン性二重結合を含む基であり、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、およびアリル基等が挙げられ、アクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましい。
また、架橋性基は、前記重合性基と同様の基(光によって重合硬化可能なアクリロイル基等)を利用可能であり、好ましい態様も重合性基と同様である。
重合性液晶性材料としては、より具体的には下記材料が好ましい。
(a1)アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基から選ばれた少なくとも1種の重合性基を2個以上と、メソゲン基とを有する液晶性モノマー。
(b1)付加重合性不飽和基とメソゲン基とを有する化合物の重合体に、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基から選ばれた少なくとも1種の架橋性基を導入した高分子。
(a)の液晶性モノマーは複数の重合性基を有することが好ましい。すなわち架橋性の液晶性モノマーであることが好ましい。この場合には、重合性液晶性材料を所望の硬度までより容易に硬化可能となる。
(b)の高分子液晶を架橋するとき、架橋性の液晶性モノマーの場合よりも結晶化を抑制できるので、高い透明性を備えたフィルムを作製することが容易である。
架橋性の基および2以上の環基を有する液晶性モノマーとして、下記液晶性モノマー(A)を挙げることができる。
CH=CR−COO−(CHm1−(O)n1−X−M−Y−(O)n2−(CHm2−OCO−CR=CH ・・・(A)
ただし、式中の記号は以下の意味を示す。
、R:それぞれ独立な水素原子またはメチル基。
m1、m2:それぞれ独立な0〜12の整数。
n1:m1が0の場合は0、m1が1〜12の整数の場合は1。
n2:m2が0の場合は0、m2が1〜12の整数の場合は1。
X、Y:それぞれ独立な、単結合、「−COO−」、「−OCO−」、または「−CO−」。
M:2以上の環基が直接、または連結基を介して結合したメソゲン基。
m1およびm2としては、それぞれ独立に1〜12の整数であることが好ましく、2〜6の整数であることが特に好ましい。
液晶性モノマー(A)の具体例としては、たとえば下記化合物が挙げられる。
CH=CR−COO−(CHO−Ph−COO−Ph−O(CH−OCO−CR=CH
CH=CR−COO−(CHO−Ph−Z−Ph−Z−Ph−O(CH−OCO−CR=CH
CH=CR−COO−(CHO−Ph−Ph−O(CH−OCO−CR=CH
CH=CR−COO−(CHO−Ph≡Ph−O(CH−OCO−CR=CH
CH=CR−COO−(CHO−COO−Ph−Z−Ph−Z−Ph−OCO−O(CH−OCO−CR=CH
CH=CR−COO−(CHO−CO−Ph−Z−Ph−Z−Ph−CO−O(CH−OCO−CR=CH
ただし、式中の記号は以下の意味を示す。
、R:それぞれ独立な水素原子またはメチル基、
s、t:それぞれ独立な1〜12の整数、
、Z:それぞれ独立な単結合、「−COO−」、「−OCO−」、または「−CO−」
Ph:1、4−フェニレン基(ただし、メチル基またはメトキシ基で置換されていてもよい。)。
架橋性基を有する高分子液晶として、実施例で述べる高分子液晶(B−2)を挙げることができる。
なお、2種以上の重合性液晶性材料を併用することもできる。2種以上併用する場合の組み合わせや配合割合は、用途や求められる特性により適宜設定されることが好ましい。
重合性液晶性材料は、重合開始剤および界面活性剤を含むことができる。重合開始剤として、硬化性樹脂組成物での光重合開始剤と同様の材料を用いることができる。界面活性剤は、後述のように、重合性液晶性材料が透明樹脂層12の面に沿って配向することに寄与する。界面活性剤として、硬化性樹脂組成物での界面活性剤と同様の材料を用いることができる。重合性液晶性材料に含まれる界面活性剤の量は、重合性液晶性材料の配向を適切に制御する範囲とされる。
(2)重合性液晶性材料の配向
重合性液晶性材料層中の重合性液晶性材料を配向させる。例えば、重合性液晶性材料を加熱し、液晶温度範囲に保持することで、液晶性モノマーまたは架橋性基を有する高分子液晶がパターンGに対応して方向A2に配向する。このとき、大気と重合性液晶性材料間に界面活性剤が介在することで、液晶性モノマーまたは架橋性基を有する高分子液晶が、透明樹脂層12の面に対して水平に配向し易くなる。
(3)重合性液晶性材料の重合
配向された重合性液晶性材料を重合させて高分子液晶層13を得る。例えば、重合性液晶性材料層に紫外線を照射することで、重合性液晶性材料を重合硬化または架橋させる。ここで、重合性液晶性材料の反応率を向上させるためには、窒素雰囲気下で重合性液晶性材料に光を照射することが好ましい。この重合基の反応率は、好ましくは、70%以上である。重合体の反応率が高いと、高分子液晶層13の耐溶剤性および耐熱性を向上できる。
以上のようにして、積層体10が作成される。この積層体10の透明樹脂層12、高分子液晶層13は、重合して形成され、耐溶剤性および耐水性を有する。このため、一軸配向性基材11の耐溶剤性が比較的弱い場合であっても、透明樹脂層12、高分子液晶層13が一軸配向性基材11を保護し、積層体10全体として、耐溶剤性および耐水性を確保できる。また、一軸配向性基材11の光学軸と高分子液晶層13の液晶の配向方向とを異なる方向にすることで、積層体10全体としての波長特性の向上が図られる。
次に、本発明の実施例を具体的に説明する。
[合成例1]高分子液晶(B−1)の合成
次のように、液晶性モノマー(P6OCB、P6BCOH)を重合させて、高分子液晶(B−1)を合成した。
Figure 0005531604
なお、高分子液晶(B−1)中のx(ここでは、50)は、液晶性モノマー(P6OCB)の単位の数及び液晶性モノマー(P6BCOH)の単位の数の合計に対する液晶性モノマー(P6BCOH)の単位の数の割合(モル比)を表す。
10mLのねじ口試験管に2.0gの液晶性モノマー(P6OCB)、2.0gの液晶性モノマー(P6BCOH)、40mgの重合開始剤(和光純薬社製、商品名「V40」)、120mgの1−ドデカンチオール(連鎖移動剤)、及び4.8gのN、N−ジメチルホルムアミドを投入し、ねじ口試験管内の空気を窒素で置換した後、ねじ口試験管を密閉した。ねじ口試験管を80℃の恒温槽にて18時間撹拌振とうさせ、上記液晶性モノマーの重合を行った。
重合生成物をメタノール中で洗浄して未反応の液晶性モノマーを除去した後、テトラヒドロフランに溶解させて得られた溶液をメタノール中に滴下して、生成物の再沈精製を行った。その後、生成物を真空乾燥器にて40℃で2時間乾燥させて、3.70g(収率92%)の白色の高分子液晶(B−1)を得た。
合成例1で得られた高分子液晶(B−1)の数平均分子量(Mn)、融点(Tm)、ガラス転移点(Tg)、透明点(Tc)、及びポリマー純度を表1に示す。
Figure 0005531604
[合成例2]架橋性高分子液晶(B−2)の合成例
合成例1で得られた高分子液晶(B−1)を用いて、架橋性高分子液晶(B−2)を得た。
Figure 0005531604
200mLの三つ口フラスコに、3.5gの高分子液晶(B−1)、3.35g(12.9mmol)の4−(4−アクリロキシ−ブチルオキシ)安息香酸(SYNTON社製、ST1680)、2.58g(21.4mmol)のジシクロヘキシルカルボジイミド、0.466g(3.82mmol)の1、4−ジメチルアミノピリジン、及び200mlのジクロロメタンを投入し、内容物を室温にて1昼夜撹拌した。
得られた反応溶液をろ過し、ろ液をヘキサン中へ滴下し、10分間撹拌した後に、ポリマーを取り出した。さらに、このポリマーをテトラヒドロフランに溶解させ、得られた溶液をメタノール中に滴下して、ポリマーの再沈精製を行った。その後、ポリマーを真空乾燥器にて室温で2時間乾燥させ、3.2g(収率90%)の白色の架橋性高分子液晶(B−2)を得た。
合成例4で得られた架橋性高分子液晶(B−2)の数平均分子量(Mn)、融点(Tm)、ガラス転移点(Tg)、透明点(Tc)、及びポリマー純度を表2に示す。
Figure 0005531604
[高分子液晶溶液および液晶性モノマー溶液の調製例]
[調製例2−1]
635質量部のシクロヘキサノンに、100質量部の架橋性高分子液晶(B−2)、1質量部の重合開始剤(チバスペシャリティーケミカルズ社製、商品名「イルガキュアー127」)、0.2質量部の界面活性剤(セイミケミカル社製、S420)を混合し、得られた混合物を細孔径0.5μmのPTFEフィルターを用いてろ過して、架橋性高分子液晶溶液(b−2−1)を得た。界面活性剤は、高分子液晶の水平配向を制御するために用いられる。
[調製例2−2]
調製例2−1と同様にして、表3に示す割合に従って325質量部のシクロヘキサノンを用いた以外は、架橋性高分子液晶溶液(b−2−2)を得た。
[調製例3−1]
同様に、表3に示す割合に従って、架橋性の液晶性モノマー溶液(c−1)を調製した。ここで、架橋性の液晶性モノマー溶液(c−1)には、架橋性の液晶性モノマー(BASF社製LC242)の100質量部に対して0.2質量部の界面活性剤(セイミケミカル社製、S420)を添加した。この液晶性モノマーLC242は、既述の液晶性モノマー(A)に対応する構造を有する。
[調製例3−2]
調製例3−1と同様にして、表3に示す割合に従って、280質量部のトルエンを用いた以外は、架橋性の液晶性モノマー溶液(c−2)を得た。
Figure 0005531604
[光硬化性単量体組成物の調製]
[調製例4]
撹拌機及び冷却管を装着した300mLの4つ口フラスコに、65gのビスフェノールA型エポキシアクリレート(新中村化学工業社製、NK オリゴ EA−1020)、35gのヘキサンジアクリレート(新中村化学工業社製、NK エステル A−HDN)、5.0gの光重合開始剤(チバスペシャリティーケミカルズ社製、IRGACURE184)、1.5gの界面活性剤(セイミケミカル社製、S420)、1.0gの重合禁止剤(和光純薬社製、Q1301)、及び100gのトルエンを投入した。フラスコの内部を常温に保ち、遮光した状態で、1時間撹拌して、光硬化性単量体組成物を得た。この組成物の粘度は、20mPa・秒であった。
[一軸配向性基材]
以下に、本実施例で使用する一軸配向性基材を示す。
ゼオノアZM14−275[Re(550)=275nm](素材:COP(環状ポリオレフィン )、日本ゼオン社製)
ゼオノアZM16−138[Re(550)=138nm](素材:COP、日本ゼオン社製)
ピュアエースT−138[Re(550)=138nm](素材:PC(ポリカーボネート)、帝人化成社製)
ピュアエースT−270[Re(550)=270nm](素材:PC、帝人化成社製)
[例1]
下記の工程[a]、[b]、及び[c]を順次に行うことによって、一軸配向性基材(一軸配向性基材11)上に、配向軸制御層(透明樹脂層12)及び水平配向した高分子液晶層(高分子液晶層13)を有する液晶積層体(積層体10)を得た。
[a]紫外線硬化性樹脂層(硬化性樹脂層121)の作製
一軸配向性基材であるゼオノアZM14−275[Re(550)=275nm]の表面に、光硬化性単量体組成物をスピンコート法により塗布して、紫外線硬化性樹脂層を作製した。
[b]配向軸制御層(透明樹脂層12)の作製
工程[a]で得られた紫外線硬化性樹脂層の表面に、ラビング処理したPET基板を押圧した。工程[b]においては、一軸配向性基材の光学軸と前記PET基板のラビング方向とのなす角が60度になるように、一軸配向性基材に対する前記PET基板の配置を調整した。
つぎに、紫外線硬化性樹脂層の表面に前記PET基板を押圧した状態を保ったまま、室温で紫外線硬化性樹脂層に700mJの強度の紫外線を照射することによって、紫外線硬化性樹脂層を硬化させた。つぎに、前記PET基板を、紫外線硬化性樹脂の硬化物から剥離することによって、前記PET基板のラビング溝が転写された配向軸制御層を作製した。配向軸制御層の膜厚は8.5μmであった。
[c]高分子液晶層(高分子液晶層13)の作製
架橋性液晶性モノマー溶液(c−1)を配向軸制御層の上にスピンコート法により塗布し、50℃で10分間乾燥した。その後に、100℃で3分間保持することによって、架橋性液晶性モノマー溶液(c−1)に含まれる架橋性液晶性モノマーLC242の配向処理を行った。この配向処理を行うことによって架橋性液晶性モノマーLC242が、配向軸制御層の上で一軸配向性基材の表面に対して水平に配向した。
その後、窒素雰囲気下で、室温で照度260mW/cmの紫外線を3分間照射して、架橋性液晶性モノマーLC242の光重合(架橋)を行うことによって、架橋した高分子液晶層を作製した。
このように、工程[a]、[b]、及び[c]の操作を行うことによって、一軸配向性基材上に、配向軸制御層、水平配向した高分子液晶層がこの順序で積層された液晶積層フィルム1を得た。
[例2]
一軸配向性基材としてゼオノアZM16−138[Re(550)=138nm]を用い、工程[c]において、架橋性液晶性モノマー溶液(c−1)の代わりに架橋性液晶性モノマー溶液(c−2)を用いたことを除いては、例1と同様にして液晶積層フィルム2を作製した。
[例3]
一軸配向性基材としてピュアエースT−270[Re(550)=270nm]を用いたことを除いては、例1と同様にして液晶積層フィルム3を作製した。
[例4]
一軸配向性基材としてピュアエースT−138[Re(550)=138nm]を用い、工程[c]において、架橋性液晶性モノマー溶液(c−1)の代わりに架橋性液晶性モノマー溶液(c−2)を用いたことを除いては、例1と同様にして液晶積層フィルム4を作製した。
[例5]
一軸配向性基材としてピュアエースT−270[Re(550)=270nm]を用い、工程[c]において、架橋性液晶性モノマー溶液(c−1)の代わりに架橋性高分子液晶溶液(b−2−1)を用いたことを除いては、例1と同様にして液晶積層フィルム5を作製した。
[例6]
一軸配向性基材としてピュアエースT−138[Re(550)=138nm]を用い、工程[c]において、架橋性液晶性モノマー溶液(c−1)の代わりに架橋性高分子液晶溶液(b−2−2)を用いたことを除いては、例1と同様にして液晶積層フィルム6を作製した。
例1〜6で得られた液晶積層フィルム1〜6の膜厚、リタデーション値、ヘーズ値などを表4、表5に示す。
Figure 0005531604
Figure 0005531604
[広帯域波長板としての評価]
例1〜6でそれぞれ得られた液晶積層フィルム1〜6の、波長450nm、550nm、及び650nmにおけるリタデーション値及び楕円率を測定した。結果を表6に示す。
Figure 0005531604
その結果、波長450〜650nmにおける液晶積層フィルム1〜6の楕円率が0.85以上であり、液晶積層フィルム1〜6は、広帯域四分の一波長板として機能することが確認された。
[高温高湿試験]
液晶積層フィルム1〜6につき、高温高湿試験を行った。60℃、90%RHに設定したオーブンに投入し、1000時間経過した後においても、いずれの液晶積層フィルムも、ヘーズ値、リタデーション値、楕円率の顕著な変化は見られなかった。
以上、本発明の実施形態及び実施例を、図面を参照して具体的に説明した。但し、本発明は、これら実施形態及び実施例のいずれにも限定されるものではなく、これら実施形態及び実施例は、本発明の範囲を逸脱することなく変形される又は変更されることがある。
10…積層体、11…一軸配向性基材、12…透明樹脂層、13…高分子液晶層、121…硬化性樹脂組成物層、M…モールド

Claims (8)

  1. 一軸配向性の透明基材、透明樹脂層、および高分子液晶層を有する積層体の製造方法であって、
    (1)前記一軸配向性の透明基材の片側表面に硬化性樹脂組成物の層を形成する工程と、
    (2)前記硬化性樹脂組成物の層に、ラビング処理により形成された、前記一軸配向性の透明基材の光学軸の方向と異なる配向方向に液晶を配向させるためのパターンの反転パターンを表面に有するモールドを押圧する工程と、
    (3)前記硬化性樹脂組成物の層と、前記モールドの表面とが接した状態で、硬化性樹脂組成物を硬化させて透明樹脂とする工程と、
    (4)前記モールドを剥離して、前記配向方向への液晶配向性を有する面(a)を有する透明樹脂層を形成する工程と、
    (5)前記面(a)の上に、液晶性モノマーの層を形成して該液晶性モノマーを前記配向方向に配向させ、液晶性モノマーが配向した状態で該液晶性モノマーを重合することにより、または、架橋性高分子液晶の層を形成して、該架橋性高分子液晶を前記配向方向に配向させ、架橋性高分子液晶を架橋することにより、高分子液晶層を形成する工程と、を有し、
    前記一軸配向性の透明基材の光学軸の方向と、前記面(a)の配向方向とが異なること、を特徴とする積層体の製造方法。
  2. 前記硬化性樹脂組成物が光硬化性樹脂組成物である請求項に記載の製造方法。
  3. 前記液晶性モノマーが、アクリロイル基およびメタクリロイル基から選ばれる少なくとも1種の重合性基の2個以上と、メソゲン基とを有する化合物である請求項またはに記載の製造方法。
  4. 前記液晶性モノマーが、次の化学式で表されるP6OCBおよびP6BCOHである請求項3記載の製造方法。
    Figure 0005531604
  5. 前記架橋性高分子液晶が、付加重合性不飽和基とメソゲン基とを有する化合物の重合体に、アクリロイル基およびメタクリロイル基から選ばれた少なくとも1種の架橋性基を導入した高分子液晶である請求項またはに記載の製造方法。
  6. 前記架橋性高分子液晶が次の化学式で表される請求項5記載の製造方法。
    Figure 0005531604
  7. 前記一軸配向性の透明基材の光学軸と、前記面(a)の配向方向とのなす角度が50°以上70°以下である、請求項のいずれかに記載の製造方法。
  8. 前記液晶性モノマーの層が,界面活性剤を含む
    請求項1〜7のいずれかに記載の製造方法。
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