JP7324171B2 - フッ素含有共重合体、組成物、光学フィルム、液晶フィルム、ハードコートフィルム、偏光板 - Google Patents

Description

本発明は、フッ素含有共重合体、組成物、光学フィルム、液晶フィルム、ハードコートフィルムおよび偏光板に関する。

ポリマー材料は、近年、多分野でますます利用されている。それに伴い、それぞれの分野に応じて、マトリクスとしてのポリマーの性状とともに、その表面や界面の特性が重要となっている。

光学補償シートおよび位相差フィルム等の光学フィルムは、画像着色解消または視野角拡大等のために、様々な画像表示装置で用いられている。
光学フィルムとしては延伸複屈折フィルムが使用されていたが、近年、延伸複屈折フィルムに代えて、液晶化合物からなる光学異方性層を有するフィルム（液晶フィルム）を使用することが提案されている。

例えば、ムラを生じることなく、表示品位の高い画像を表示するために、所定のフルオロ脂肪族基含有共重合体を含有する光学異方性層を有する光学フィルムを使用することが提案されている（特許文献１）。

一方で、このようなフルオロ脂肪族基含有共重合体は、汎用溶剤（フッ素非含有有機溶媒）への溶解性が低いので、例えば、液晶フィルムを製膜する際、塗工液から析出してしまい、製造および品質上の問題を発生することがある。

特開２００４－１９８５１１号公報

液晶化合物を用いて形成される光学異方性層においては、液晶化合物を均一に配向させ配向欠陥を生じさせないようにする要求がある（以下、このような要求を満たすことを、配向性に優れるともいう）。また、ムラや欠陥のない均質性に対する要求がある。
そこで、本発明は、溶解性に優れ、配向性と均質な塗布性に優れる膜を形成することができるフッ素原子含有共重合体、上記共重合体を含有する組成物、上記組成物から形成される層を有する光学フィルム、液晶フィルム、ハードコートフィルム、偏光板を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、所定のフッ素原子含有共重合体を用いて光学フィルムを形成することで、本発明の課題が達成されることを見出した。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

〔１〕
下記一般式（１）で表される繰返し単位を含み、ブロック構造、グラフト構造、スター構造もしくは分岐構造を有するフッ素原子含有共重合体。

一般式（１）中、Ｒ^１は水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。Ｌ^１は二価の連結基を表す。Ｒｆは少なくとも１つのフッ素原子を含有する置換基を表す。
〔２〕
上記一般式（１）中、Ｒｆのフッ素原子が結合している炭素原子数が１～４である〔１〕に記載のフッ素原子含有共重合体。
〔３〕
上記一般式（１）中、Ｒｆのフッ素原子が結合している炭素原子数が４である〔１〕に記載のフッ素原子含有共重合体。
〔４〕
〔１〕～〔３〕のいずれかに記載のフッ素原子含有共重合体が、さらに下記一般式（２）で表される繰返し単位を有するフッ素原子含有共重合体。

一般式（２）中、Ｒ^２は水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。Ｒ^３は置換基を有していてもよい炭素環または複素環を含有し、Ｌ^２は単結合または二価の連結基を表す。
〔５〕
〔１〕～〔４〕に記載のフッ素原子含有共重合体が、さらに下記一般式（３）で表される繰返し単位を有するフッ素原子含有共重合体。

一般式（３）中、Ｒ^５は水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。Ｌ^３は単結合または二価の連結基を表し、Ｑ^１はカチオン重合性基及びラジカル重合性基からなる群より選ばれる反応性基を含む基を表す。
〔６〕
〔１〕～〔５〕に記載のフッ素原子含有共重合体が、さらに下記一般式（４）で表される繰返し単位を有するフッ素原子含有共重合体。

一般式（４）中、Ｒ^６は水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。Ｕ^１およびＵ^２は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯＯ－、－ＮＨ－を表す。Ｒ^７およびＲ^８は、それぞれ独立に、水素原子、あるいは、置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは無置換のアリール基、または、置換もしくは無置換のヘテロアリール基を表し、Ｒ^７およびＲ^８は、これらの組み合わせからなる連結基を介して互いに連結していてもよい。Ｌ^４は、単結合または二価の連結基を表す。
〔７〕
〔１〕～〔６〕のいずれかに記載のフッ素原子含有共重合体を含有する組成物。
〔８〕
〔１〕～〔６〕のいずれかに記載のフッ素原子含有共重合体および重合性液晶化合物を含有する液晶組成物。
〔９〕
〔８〕に記載の液晶組成物から形成される層を有する光学フィルム。
〔１０〕
〔８〕に記載の液晶組成物から形成される層を有する液晶フィルム。
〔１１〕
〔７〕に記載の組成物または〔８〕に記載の液晶組成物から形成される層を有するハードコートフィルム。
〔１２〕
〔７〕に記載の組成物または〔８〕に記載の液晶組成物から形成される層を有する偏光板。

本発明によれば、溶解性に優れ、配向性と均質な塗布性に優れる膜を形成することができるフッ素原子含有共重合体、上記共重合体を含有する組成物、上記組成物から形成される層を有する光学フィルム、液晶フィルム、ハードコートフィルム、偏光板を提供することができる。

図１Ａは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するブロック構造の一例を示す図である。 図１Ｂは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するブロック構造の一例を示す図である。 図１Ｃは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するブロック構造の一例を示す図である。 図１Ｄは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するブロック構造の一例を示す図である。 図１Ｅは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するブロック構造の一例を示す図である。 図２Ａは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するグラフト構造の一例を示す図である。 図２Ｂは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するグラフト構造の一例を示す図である。 図２Ｃは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するグラフト構造の一例を示す図である。 図２Ｄは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するグラフト構造の一例を示す図である。 図２Ｅは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するグラフト構造の一例を示す図である。 図２Ｆは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するグラフト構造の一例を示す図である。 図２Ｇは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するグラフト構造の一例を示す図である。 図３は、グラフト構造を有するフッ素原子含有共重合体を合成する方法を説明する図である。 図４Ａは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するスター構造の一例を示す図である。 図４Ｂは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するスター構造の一例を示す図である。 図４Ｃは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するスター構造の一例を示す図である。 図４Ｄは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するスター構造の一例を示す図である。 図５Ａは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するブランチ構造の一例を示す図である。 図５Ｂは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するブランチ構造の一例を示す図である。 図５Ｃは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するブランチ構造の一例を示す図である。 図５Ｄは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するブランチ構造の一例を示す図である。 図５Ｅは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するブランチ構造の一例を示す図である。 図５Ｆは、本発明のフッ素原子含有共重合体が有するブランチ構造の一例を示す図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、表記される二価の基（例えば、－ＣＯ－Ｏ－）の結合方向は特に制限されず、例えば、後述する一般式（Ｗ）中のＤ^１が－ＣＯ－Ｏ－である場合、Ａｒ側に結合している位置を＊１、Ｇ^１側に結合している位置を＊２とすると、Ｄ^１は、＊１－ＣＯ－Ｏ－＊２であってもよく、＊１－Ｏ－ＣＯ－＊２であってもよい。

本明細書において、（メタ）アクリレートはアクリレートおよびメタクリレートを表す。また（メタ）アクリル酸はアクリル酸およびメタクリル酸を表す。（メタ）アクリロイル基とは、メタアクリロイル基またはアクリロイル基を表す。
本明細書において、樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）、および分散度（分子量分布ともいう）（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ＧＰＣ（Ｇｅｌ Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）装置（東ソー製ＨＬＣ－８１２０ＧＰＣ）によるＧＰＣ測定（溶剤：テトラヒドロフラン、流量（サンプル注入量）：１０μＬ、カラム：東ソー社製ＴＳＫ ｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ－Ｍ、カラム温度：４０℃、流速：１．０ｍＬ／分、検出器：示差屈折率検出器（Ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ Ｉｎｄｅｘ Ｄｅｔｅｃｔｏｒ））によるポリスチレン換算値として定義される。

本明細書中における基（原子団）の表記について、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基と共に置換基を有する基をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。また、本明細書中における「有機基」とは、少なくとも１個の炭素原子を含む基をいう。

また、本明細書において、「置換基を有していてもよい」というときの置換基の種類、置換基の位置、および、置換基の数は特に限定されない。置換基の数は例えば、１つ、２つ、３つ、またはそれ以上であってもよい。置換基の例としては水素原子を除く一価の非金属原子団を挙げられ、例えば、以下の置換基群Ｔから選択できる。
（置換基Ｔ）
置換基Ｔとしては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、および、ｔｅｒｔ－ブトキシ基等のアルコキシ基；フェノキシ基およびｐ－トリルオキシ基等のアリールオキシ基；メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、および、フェノキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、および、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基；アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、および、メトキサリル基等のアシル基；メチルスルファニル基およびｔｅｒｔ－ブチルスルファニル基等のアルキルスルファニル基；フェニルスルファニル基およびｐ－トリルスルファニル基等のアリールスルファニル基；アルキル基；シクロアルキル基；アリール基；ヘテロアリール基；水酸基；カルボキシ基；ホルミル基；スルホ基；シアノ基；アルキルアミノカルボニル基；アリールアミノカルボニル基；スルホンアミド基；シリル基；アミノ基；モノアルキルアミノ基；ジアルキルアミノ基；アリールアミノ基；ならびに、これらの組み合わせが挙げられる。

本発明のブロック構造、グラフト構造もしくは分岐構造を有する、フッ素原子含有共重合体が溶解性に優れ、該共重合体を含む膜が配向性と均質な塗布性に優れる理由について、詳細には明らかになっていないが、本発明者らは以下のように推察している。
本発明のフッ素原子含有繰返し単位は、ブロック構造、グラフト構造もしくは分岐構造を有するため、フッ素原子団が塊として存在することで、共重合体の塗膜表面への移行性が向上する。また、フッ素置換アルキル鎖長が１～４のランダム構造を有する共重合体においては、フッ素原子団の塊が小さく、汎用溶剤への溶解性は優れるものの、塗膜表面への移行性は低い。一方、本発明の共重合体においては、上記フッ素原子団が塊として存在することに起因し、フッ素置換アルキル鎖長が１～４でも塗膜表面への移行性が高く、このような共重合体を組成物中に添加することで、塗膜の表面張力を低下させ、塗工時における組成物の基材に対するぬれ性（均質塗工性）、塗膜表面の面状を良好なものとできると考えている。

［フッ素原子含有共重合体］
本発明のフッ素原子含有共重合体は、後述する一次構造を有している。
この一次構造は、フッ素原子含有共重合体を形成する繰り返し単位が１種である場合、グラフト構造、分岐構造又は星型構造であり、上記繰り返し単位が２種以上である場合、ブロック構造、グラフト構造、分岐構造又星型構造である。
フッ素原子含有共重合体は、上記一次構造を１種有していても、２種以上を有していてもよい。

まず、フッ素原子含有共重合体が有する一次構造について、模式図を参照して説明するが、本発明はこれらの一次構造に限定されない。
以下の説明においては、理解のため、１～４種の繰り返し単位Ａ～Ｄからなるポリマー（共重合体）を例に挙げるが、本発明においては、後述するように、繰り返し単位は１～４種に限定されない。また、図中における繰り返し単位Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤはそれぞれ別の構造（繰り返し単位）で置き換えることができる。

本発明において、「主鎖方向」とは、フッ素原子含有共重合体を形成する各部分構造において、この部分構造を形成する繰り返し単位の結合方向を意味する。
また、本発明において、「繰り返し単位からなる」とは、特定の繰り返し単位のみからなる態様に加えて、特定の繰り返し単位と、これとは別の１種以上の繰り返し単位からなる態様を包含する。別の繰り返し単位としては、特に限定されないが、例えば、グラフト鎖を導入するための、重合性基を有する化合物由来の繰り返し単位、又は、後述する、２種以上の構成成分からなる繰り返し単位が挙げられる。

（ブロック構造）
本発明において、ブロック構造とは、単一種の繰り返し単位からなる部分構造同士の主鎖方向が、ポリマー鎖内において単一の直線方向である構造をいう。ブロック構造は、２種以上の繰り返し単位からなる。
本発明において、１つの繰り返し単位が２種以上の構成成分からなる場合、単一種の繰り返し単位からなる部分構造は、各構成成分が同一である繰り返し単位が結合してなる部分構造と、構成成分の少なくとも一つが異なる繰り返し単位を含んでなる部分構造を含む。

本発明のフッ素原子含有共重合体が有するブロック構造は、上記したものであれば特に限定されず、例えば、図１Ａ～図１Ｅ（合わせて図１ということがある。）に示す構造が挙げられる。図１において、Ａ～Ｄは互いに異なる繰り返し単位を表す（図２～５においても同じ）。
図１Ａに示すブロック構造は、繰り返し単位Ａからなる部分構造と、繰り返し単位Ｂからなる部分構造とが、ポリマー鎖内において単一の直線方向に、結合したブロック構造（Ａ－Ｂ型）である。図１Ｂに示すブロック構造は、繰り返し単位Ａからなる部分構造の両端部に対し、繰り返し単位Ｂからなる部分構造がポリマー鎖内において単一の直線方向に結合したブロック構造（Ｂ－Ａ－Ｂ型）である。図１Ｃに示すブロック構造は、繰り返し単位Ｂからなる部分構造と、繰り返し単位Ａからなる部分構造と、更に第３成分として繰り返し単位Ｃからなる部分構造とが、この順で、ポリマー鎖内において単一の直線方向に結合したブロック構造である。図１Ｄに示すブロック構造は、図１Ｃに示すブロック構造において、繰り返し単位Ｃからなる部分構造に、更に第４成分として繰り返し単位Ｄからなる部分構造がポリマー鎖内において単一の直線方向に結合したブロック構造である。図１Ｅに示すブロック構造は、繰り返し単位Ａからなる部分構造と、繰り返し単位Ｂからなる部分構造とが、ポリマー鎖内において単一の直線方向に交互に２回繰り返された（結合した）ブロック構造である。

ブロック構造を有するポリマーは、ブロック共重合体の通常の重合方法により、得ることができる。例えば、リビングラジカル重合法、リビングカチオン重合、又は、リビングアニオン重合法が挙げられる。リビングラジカル重合法、リビングカチオン重合、又は、リビングアニオン重合法の例として、「精密ラジカル重合ガイドブック（Aldrich）」（URL:http://www.sigmaaldrich.com/japan/materialscience/polymer-science/crp-guide.html）、又は、遠藤剛編、澤本光男他著、「高分子の合成（上）－ラジカル重合・カチオン重合・アニオン重合」、講談社、2010年、p60、p105-108、p249-259及びp381-386を参照できる。

図１Ｂに示すブロック構造を持つポリマーは、例えば、以下に示すように、リビングラジカル重合法における原子移動ラジカル重合（ＡＴＲＰ）法を用いて、末端構造（繰り返し単位Ｂ）を開始点として、各繰り返し単位となるモノマーを順に反応させることにより繰り返し単位を伸長させて、合成することもできる。

Ｒは、末端基を示し、後述する末端構造の末端基と同義である。

また、図１Ｂに示すブロック構造を持つポリマーは、例えば、以下に示すように、ブロモ化合物等を連鎖移動剤として用いて、連鎖移動剤を中心点として、その両側に繰り返し単位を伸長して合成することできる。なお、この場合、下記のように、繰り返し単位Ａからなる２つの部分構造間に連鎖移動剤の残基が介在する。

（グラフト構造）
本発明において、グラフト構造とは、下記の条件（Ｇ－１）～（Ｇ－３）をともに満たすものを意味する。
（Ｇ－１）１種類又は２種類以上の繰り返し単位からなるポリマーＰＡ^Ｇ１（幹ポリマーともいう）に対し、１種類又は２種類以上の繰り返し単位からなる別のポリマーＰＢ^Ｇ１（枝ポリマーともいう）が１つ以上結合した構造である。
（Ｇ－２）ポリマー鎖内において、上記ポリマーＰＢ^Ｇ１の主鎖方向と、上記ポリマーＰＡ^Ｇ１の主鎖方向とは異なる。
（Ｇ－３）上記ポリマーＰＢ^Ｇ１に対し、上記ポリマーＰＢ^Ｇ１の主鎖方向と異なる主鎖方向を有するポリマーＰＢ^Ｇ２が結合していない。

上記グラフト構造において、上記ポリマーＰＡ^Ｇ１及び上記ポリマーＰＢ^Ｇ１は、同一であっても異なっていてもよく、上記ポリマーＰＢ^Ｇ１が複数存在する場合も、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。また、上記ポリマーＰＡ^Ｇ１及び上記ポリマーＰＢ^Ｇ１を形成する繰り返し単位の結合様式（構造）は、各ポリマーにおいて単一の直線方向に結合したものであれば特に限定されず、ブロック構造でもランダム構造でもよい。
更に、ポリマーＰＡ^Ｇ１に結合するポリマーＰＢ^Ｇ１の数は、１つ以上であればよく、フッ素原子含有共重合体の特性等に応じて適宜に決定される。例えば、１個以上とすることができ、２００個以下とすることができる。好ましくは１００個以下であり、より好ましくは５０個以下である。

本発明のフッ素原子含有共重合体が有するグラフト構造は、上記したものであれば特に限定されず、例えば、図２Ａ～図２Ｇ（合わせて図２ということがある。）に示す構造が挙げられる。
図２Ａに示すグラフト構造は、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＡ^Ｇ１（幹ポリマー）に対し、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＢ^Ｇ１（枝ポリマー）が３本結合したグラフト構造である。図２Ｂに示すグラフト構造は、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＡ^Ｇ１（幹ポリマー）に対し、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＢ^Ｇ１（枝ポリマー）が６本結合したグラフト構造である。図２Ｃに示すグラフト構造は、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＡ^Ｇ１（幹ポリマー）に対し、繰り返し単位ＢからなるポリマーＰＢ^Ｇ１（枝ポリマー）が３本結合したグラフト構造である。

図２Ｄ～図２Ｇに示すグラフト構造は、更に、第３成分として繰り返し単位Ｃ、上記繰り返し単位Ｃと第４成分として繰り返し単位Ｄを有するグラフト構造である。
すなわち、図２Ｄに示すグラフト構造は、繰り返し単位Ａ及び繰り返し単位Ｃからなるランダム構造のポリマーＰＡ^Ｇ１（幹ポリマー）に対し、繰り返し単位ＢからなるポリマーＰＢ^Ｇ１（枝ポリマー）が３本結合したグラフト構造である。図２Ｅに示すグラフト構造は、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＡ^Ｇ１（幹ポリマー）に対し、繰り返し単位ＢからなるポリマーＰＢ^Ｇ１－Ｂが２本と、繰り返し単位ＣからなるポリマーＰＢ^Ｇ１―Ｃが１本結合したグラフト構造である。図２Ｆに示すグラフト構造は、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＡ^Ｇ１（幹ポリマー）に対し、繰り返し単位Ｂ及びＣからなるブロック構造（交互共重合構造を含む）のポリマーＰＢ^{Ｇ１－ＢＣ}が３本結合したグラフト構造である。図２Ｇに示すグラフト構造は、繰り返し単位Ａ及びＢからなるランダム構造のポリマーＰＡ^{Ｇ１―ＡＢ}（幹ポリマー）に対し、繰り返し単位Ｃ及びＤからなるブロック構造（交互共重合構造を含む）のポリマーＰＢ^{Ｇ１－ＣＤ}が３本結合したグラフト構造である。

グラフト構造を有するポリマーは、グラフト共重合体の通常の重合方法により、得ることができる。例えば、末端に重合性官能基（Ｙ）を有するマクロモノマー（Ｙ－Ｂ－Ｂ－Ｂ－Ｂ－Ｂ）を単独重合、若しくは、このマクロモノマーと同一のモノマー（Ｂ）若しくは異種のモノマー（Ａ）と共重合するｇｒａｆｔｉｎｇ ｔｈｒｏｕｇｈ法（図３に示す合成法１））、末端官能性ポリマー（Ｚ－Ｂ－Ｂ－Ｂ－Ｂ－Ｂ）の反応性基を利用して、他のポリマー鎖に結合させるｇｒａｆｔｉｎｇ ｔｏ法（図３に示す合成法２））、又は、重合開始点（Ｘ）を側鎖に持つポリマーとモノマー（Ｂ）を反応させて、繰り返し単位Ｂを有するポリマー鎖を生やすｇｒａｆｔｉｎｇ ｆｒｏｍ法（図３に示す合成法３））が挙げられる。これらの詳細は、例として、遠藤剛編、澤本光男他著、「高分子の合成（上）－ラジカル重合・カチオン重合・アニオン重合」、講談社、2010年、p60、p108-110及びp387-393を参照できる。
図３において、Ｘ及びＹは重合反応性基を表し、Ｗ及びＺは反応性基を表す。ここで、Ｚが表す反応性基とは、反応性基Ｗに対して重合とは異なる反応によってポリマーの部分構造を形成する基となるものを意味する。

ｇｒａｆｔｉｎｇ ｔｈｒｏｕｇｈ法に用いられるマクロモノマーとしては、グラフトポリマーの合成に通常用いられるものであれば特に限定されない。マクロモノマーは、市販品を用いてもよいし、適宜に合成したものを用いてもよい。マクロモノマーの合成方法としては、例えば、特開平５－２９５０１５号公報に記載の方法、又は、３－メルカプト－１－プロパノール等の連鎖移動剤とモノマーとの重合物と、イソシアネート基と重合性基を持つ化合物とを、例えばスズ触媒存在下で、反応させる方法等が挙げられる。また、マクロモノマーの合成法として、山下雄也著、「マクロモノマーの化学と工業」、アイピーシー出版部、1989年を、参照することができる。

（スター構造）
本発明において、スター構造（星型構造）とは、下記の条件（Ｓ－１）～（Ｓ－３）をともに満たすものを意味する。
（Ｓ－１）ポリマー中に核を１つ有する。
（Ｓ－２）上記核に対し、１種類又は２種類以上の繰り返し単位からなるポリマーＰＡ^Ｓ１が３つ以上結合している。
（Ｓ－３）上記ポリマーＰＡ^Ｓ１に対し、上記ポリマーＰＡ^Ｓ１の主鎖方向と異なる主鎖方向を有し、かつ、１種類又は２種類以上の繰り返し単位からなるポリマーＰＢ^Ｓ１が結合していない。

上記スター構造において、核に結合するポリマーＰＡ^Ｓ１の数は、３つ以上であればよく、フッ素原子含有共重合体の特性等に応じて適宜に決定される。ポリマーＰＡ^Ｓ１の数は、通常、後述する端部の数と同じである。複数存在するポリマーＰＡ^Ｓ１は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、「核」とは、上記ポリマーＰＡ^Ｓ１が結合可能な多分岐構造（基）を意味し、多数（例えば２～１２本）のポリマーが生える中心点となる。
上記スター構造において、ポリマーＰＡ^Ｓ１を形成する繰り返し単位の結合様式（構造）は、特に限定されず、ブロック構造でもランダム構造でもよい。

本発明のフッ素原子含有共重合体が有するスター構造は、上記したものであれば特に限定されず、例えば、図４Ａ～図４Ｄ（合わせて図４ということがある。）に示す構造が挙げられる。
図４Ａに示すスター構造は、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＡ^Ｓ１が核に対して４本結合した構造である。図４Ｂに示すスター構造は、繰り返し単位Ａ及びＢをランダム構造で有するポリマーＰＡ^Ｓ１が核に対して４本結合した構造である。図４Ｃに示すスター構造は、繰り返し単位Ａからなる部分構造及び繰り返し単位Ｂからなる部分構造をブロック構造で有するポリマーＰＡ^Ｓ１が、その繰り返し単位Ａを介して、核に対して４本結合した構造である。図４Ｄに示すスター構造は、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＡ^Ｓ１が核に対して８本結合した構造である。

スター構造を有するポリマーは、スター共重合体の通常の重合方法により、得ることができる。例えば、多官能性開始剤を用いる方法、多官能性停止剤を用いる方法、ジビニル化合物によるリンキング反応を用いる方法が挙げられ、多官能性開始剤を用いる方法が好ましい。
上述した重合方法については、遠藤剛編、澤本光男他著、「高分子の合成（上）－ラジカル重合・カチオン重合・アニオン重合」、講談社、2010年、p110-113を参照することができる。
更に、スター構造を有するポリマーの合成には、アニオン重合も用いることができ、遠藤剛編、澤本光男他著、「高分子の合成（上）－ラジカル重合・カチオン重合・アニオン重合」、講談社、2010年、p395-402を参照することができる。

スター構造を形成する核としては、通常用いられる化合物を特に限定されることなく、使用できる。例えば、核となる化合物として、有機化合物（例えば、多置換芳香族環、糖、カリックスアレン若しくはデンドリマー）、無機化合物（例えば、環状シロキサン若しくはリンアミド）、又は、中心に金属を有する多座金属錯体などが挙げられる。
上述した核としては、以下に記載の化合物が例として挙げられる。また、遠藤剛編、澤本光男他著、「高分子の合成（上）－ラジカル重合・カチオン重合・アニオン重合」、講談社、2010年、p110-113を参照することができる。

（分岐構造）
本発明において、分岐構造とは、下記の条件（Ｂ－１）～（Ｂ－３）をともに満たすものを意味する。
（Ｂ－１）ポリマー中に核を１つ以上有する。
（Ｂ－２）上記核に対し、１種類又は２種類以上の繰り返し単位からなるポリマーＰＡ^Ｂ１が２つ以上結合している。
（Ｂ－３）上記ポリマーＰＡ^Ｂ１に対し、上記ポリマーＰＡ^Ｂ１の主鎖方向と異なる主鎖方向を有し、かつ、１種類又は２種類以上の繰り返し単位（世代）からなるポリマーＰＢ^Ｂ１が（核を介して）結合している。
上記条件（Ｂ－３）は、複数回満たすことができる。すなわち、上記のように結合したポリマーＰＢ^Ｂ１に対して、更に別のポリマーＰＢ^Ｂ１が（Ｂ－３）に規定の方向に結合する（各世代が繰り返してポリマー化する）ことができる（樹木状多分岐構造）。この場合、条件（Ｂ－３）を満たす複数回は、２回以上であればよく、フッ素原子含有共重合体の特性等に応じて適宜に決定される。例えば、２～７回とすることができる。

上記分岐構造において、上記ポリマーＰＡ^Ｂ１及び上記ポリマーＰＢ^Ｂ１は、同一であっても異なっていてもよい。また、上記ポリマーＰＡ^Ｂ１及び上記ポリマーＰＢ^Ｂ１を形成する繰り返し単位の結合様式（構造）は、特に限定されず、ランダム構造、ブロック構造、グラフト構造又はスター構造でもよい。すなわち、ブランチ構造には、例えば、核から生えるポリマーが、末端方向に従って、次々と分岐していく樹木状多分岐構造、更には、ブロック構造、グラフト構造及び／又はスター構造を組み合わせた構造等も、含まれる。ブランチ構造においては、分岐ごとに繰り返し単位を変更することもできる。
更に、ポリマー中に有する核の数は、１つ以上であればよく、フッ素原子含有共重合体の特性等に応じて適宜に決定される。例えば、１個以上とすることができ、１５０個以下とすることができる。また、核に結合するポリマーＰＡ^Ｂ１の数は、２つ以上であればよく、フッ素原子含有共重合体の特性等に応じて適宜に決定される。例えば、２個以上とすることができ、２０個以下とすることができる。更に、ポリマーＰＡ^Ｂ１に対して結合するポリマーＰＢ^Ｂ１の数は、フッ素原子含有共重合体の特性等に応じて適宜に決定され、例えば、１個以上とすることができ、１５０個以下とすることができる。特に、１個のポリマーＰＡ^Ｂ１（核）に結合するポリマーＰＢ^Ｂ１の数は２個以上が好ましい。

本発明のフッ素原子含有共重合体が有する分岐構造は、上記したものであれば特に限定されず、例えば、図５Ａ～図５Ｅ（合わせて図５ということがある。）に示す構造が挙げられる。
図５Ａ及び図５Ｂに示す分岐構造は、核に対して結合したポリマーＰＡ^Ｂ１に対し、更に結合したポリマーＰＢ^Ｂ１を有する。すなわち、核から末端方向に従って繰り返し単位Ａが次々と分岐した、樹木状多分岐構造である。図５Ｃに示す分岐構造は、分岐鎖の端部から繰り返し単位Ｂを分岐状に有すること以外は図５Ｂに示す樹木状多分岐構造と同じ構造である。図５Ｄに示す分岐構造は、繰り返し単位Ａ及び繰り返し単位Ｂを分岐状にランダムな配列で有すること以外は図５Ｂに示す樹木状多分岐構造と同じ構造である。図５Ｅに示す分岐構造は、分岐鎖の端部から繰り返し単位Ｂ（第２世代）を分岐状に有し、更にその途中から第３成分として繰り返し単位Ｃ（第３世代）を分岐状に有すること以外は図５Ｂに示す樹木状多分岐構造と同じ構造である。図１７Ｆに示す分岐構造は、繰り返し単位ＡからなるポリマーＰＡ^Ｓ１が核に対して５本結合したスター構造２つが、各スター構造の１つのポリマーＰＡ^Ｓ１同士で結合された構造である。

分岐構造を有するポリマーは、通常の重合方法により、得ることができる。例えば、divergent法又はconvergent法が挙げられ、convergent法が好ましい。上述した重合方法としては、Macromolecules,2005,38(21),p8701-8711、Macromolecules,2006,39(22),p4361-4365、又は、遠藤剛編、澤本光男他著、「高分子の合成（上）－ラジカル重合・カチオン重合・アニオン重合」、講談社、2010年、p402-414を参照することができる。

分岐構造を形成しうる核としては、上述のスター構造にて記載した核の他、ブロック構造、グラフト構造及びスター構造からなる群から選択される少なくとも１つ以上の構造を有するポリマー又はマクロモノマーであってもよい。
上述した核としては、Macromolecules,2005,38(21),p8701-8711、Macromolecules,2006,39(22),p4361-4365、又は、遠藤剛編、澤本光男他著、「高分子の合成（上）－ラジカル重合・カチオン重合・アニオン重合」、講談社、2010年、p402-414を参照することができる。

上記一次構造及び重合方法については、更に、遠藤剛編、澤本光男他著、「高分子の合成（上）－ラジカル重合・カチオン重合・アニオン重合」、講談社、2010年を参照できる。

本発明において、上述した各一次構造は、それぞれ、次のようにして、同定することができる。すなわち、グラフト構造、スター構造及び分岐構造は、静的光散乱測定から、平均２乗回転半径＜Ｓ^２＞を測定し、粒子の形状として、確認することができる。また、ブロック構造の有無は、核磁気共鳴（ＮＭＲ）測定により、確認できる。
上記一次構造の同定については、「若手研究者のための有機・高分子測定ラボガイド」、講談社、2006年が参照できる。

本発明において、フッ素原子含有共重合体は、溶解性、配向性および配向欠陥、の点で、２種以上の繰り返し単位からなる、ブロック構造、グラフト構造、分岐構造若しくはスター構造を有することが好ましく、２種以上の繰り返し単位からなる、グラフト構造又は分岐構造を有することが好ましい。
フッ素原子含有共重合体を形成する繰り返し単位は、１種又は２種以上であれば特に限定されない。２種以上の繰り返し単位からなる、ブロック構造、グラフト構造、分岐構造若しくはスター構造の場合、繰り返し単位は、２～１０種が好ましく、２～５種がより好ましく、２種又は３種が更に好ましい。繰り返し単位については後述する。

フッ素原子含有共重合体は、１分子当たり２～２５０個の端部を有することが好ましく、２～１００個の端部を有することがより好ましく、２～８０個の端部を有することが更に好ましく、２～５０個の端部を有することが特に好ましい。本発明においては、フッ素原子含有共重合体の端部とは、ある分子量のフッ素原子含有共重合体において採りうる末端の最大数を意味する。

フッ素原子含有共重合体の端部の数は、下記算出方法により、求めることができる。
フッ素原子含有共重合体がグラフト構造を有する場合、数平均分子量（Ｍｎ）を用いて、端部の数を求めることができる。
例えば、モノマーＡと、マクロモノマーＡＡ－１（Ｍｎ＝５，０００）の共重合によってグラフト構造を有するコポリマー（Ｍｎ＝１００，０００）を合成した場合は、
（端部の個数）＝（コポリマーの数平均分子量）／（マクロモノマーの数平均分子量）＋（幹の末端の個数）
より、
（端部の個数）＝１００，０００／５，０００＋２
＝２２（個）
として、算出することができる。
ここで、コポリマー及びマクロモノマーの数平均分子量は、後述する実施例で記載する方法等で測定することができる。

フッ素原子含有共重合体がスター構造又は分岐構造を有する場合は、核によって端部の個数が決まる。
スター構造の場合は、
（端部の個数）＝（核に用いた化合物の最大分岐数）
となる。
また、分岐構造の場合は、核の分岐数に各分岐点において用いた核の最大分岐数を掛け合わせることにより算出される。すなわち、
（端部の個数）＝核の最大分岐数×（分岐点１に用いた核の最大分岐数）×（分岐点２に用いた核の最大分岐数）×…×（分岐点ｎに用いた核の最大分岐数）
として算出することができる。ここで、ｎは分岐点の数（世代数－１と同義）を表す。
ブロック構造の場合、端部の個数は２である。

また、フッ素原子含有共重合体の、１分子当たりの端部の数は、元素分析又はＸ線光電子分光法（ＥＳＣＡ；Electron Spectroscopy for Chemical Analysis）の解析結果及び核磁気共鳴（ＮＭＲ；Nuclear Magnetic Resonance）測定より、繰り返し単位及び／又は重合開始点となる元素を同定して、算出することもできる。重合開始点となる元素としては、例えば、Ｓ原子、ハロゲン原子（Ｃｌ、Ｂｒ）、Ｓｉ原子、Ｎ原子、Ｏ原子等が挙げられる。また、繰り返し単位中に含まれる官能基としては、例えば、－ＳＯ_２－、－ＳＯ－等が挙げられる。

フッ素原子含有共重合体を形成する繰り返し単位について、説明する。

本発明のフッ素原子含有共重合体は、下記一般式（１）で表される繰返し単位を有するフッ素原子含有共重合体である。

一般式（１）中、Ｒ^１は水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。Ｌ^１は二価の連結基を表す。Ｒｆは少なくとも１つのフッ素原子を含有する置換基を表す。

一般式（１）中、Ｒ^１は水素原子、フッ素原子、または炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子またはメチル基であることがより好ましい。

一般式（１）中、Ｌ^１は二価の連結基であり、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－Ｏ－ＣＯ－を有していることが好ましく、－ＣＯ－Ｏ－を有していることがより好ましい。

一般式（１）中、Ｒｆは少なくとも１つのフッ素原子を含有する置換基である。置換基は、フッ素原子が結合した炭素数が１～６のアルキル基、炭素数が５～１２のアリール基であることが好ましく、フッ素原子が結合した炭素数が１～４のアルキル基であることがより好ましく、フッ素原子が結合した炭素数が４のアルキル基が最も好ましい。

一般式（１）で表されるフッ素原子含有繰返し単位を以下に例示するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。

本発明のフッ素原子含有共重合体は、さらに下記一般式（２）で表される繰返し単位を有していてもよい。

一般式（２）中、Ｒ^２は水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。Ｒ^３は置換基を有していてもよい炭素環または複素環を含有し、Ｌ^２は単結合または二価の連結基を表す。

一般式（２）中、Ｒ^１は水素原子、フッ素原子、または炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子またはメチル基であることがより好ましい。

一般式（２）中、Ｌ^２は二価の連結基であり、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－Ｏ－ＣＯ－を有していることが好ましく、－ＣＯ－Ｏ－を有していることがより好ましい。

一般式（２）中、Ｒ^３は置換基を有していてもよい炭素環または複素環を含有する。炭素環は、炭素数５～２０の脂肪族炭化水素基、炭素数６～３０の芳香族炭化水素基が好ましく、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基がより好ましく、炭素数６～１５の芳香族炭化水素基が最も好ましい。複素環は、－Ｏ－、－Ｎ－、－Ｓ－を有していることが好ましく、－Ｎ－を有していることがより好ましい。上記炭素環または複素環は、単環であってもよく縮合環であってもよい。縮合環の場合、２～５個の環が縮合した基であるのが好ましい。

上記炭素環としては、それぞれ置換もしくは無置換の、フェニル基、インデニル基（メチルインデニル基、メドキシインデニル基、または、ヘテロ原子で置換されたインインデニル基（例えば、ベンゾフラニル基、チオナフテニル基、インドールニル基、インダゾールニル基、ベンズイミダゾールニル基、ベンゾトリアゾールニル基、および、１－ピラゾールピラジニル基等））、ナフチル基（メチルナフチル基、シアノナフチル基、フルオロナフチル基、ブロモナフチル基、および、ヘテロ原子で置換されたナフチル基（例えば、キノリル基、イソキノリル基、キナゾリル基、キノキサリル基、６，７－ピリドピリダジニル基、ベンゾテトラジニル基、および、プテリル基等））、フルオレニル基（２，７－ジメチルフルオレニル基、および、ヘテロ原子で置換されたフルオレニル基（例えば、カルバゾリル基、ジベンゾフラリル基、および、ジベンゾチオフェニル基等））、アントリル基（５－メチルアントリル基、および、ヘテロ原子で置換されたアントリル基（例えば、キサンテニル基、アクリジニル基、および、フェナジニル基等））、ピレニル基、ペリレニル基、または、フェナントレニル基が好ましく、置換または無置換のナフチル基がより好ましく、無置換のナフチル基がさらに好ましい。

フッ素原子含有共重合体が炭素環または複素環を含有する繰り返し単位を有する場合、その含有量は、フッ素原子含有共重合体の全繰り返し単位に対して、５～９０ｍｏｌ％が好ましく、１０～８０ｍｏｌ％がより好ましく、１５～７５ｍｏｌ％がさらに好ましい。
炭素環または複素環を含有する繰り返し単位は、１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。炭素環または複素環を含有する繰り返し単位を２種以上使用する場合は、その合計含有量が、上記範囲内であるのが好ましい。

一般式（２）で表される炭素環または複素環を有する繰返し単位を以下に例示するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。

本発明のフッ素原子含有共重合体は、さらに下記一般式（３）で表される繰返し単位を有していてもよい。

一般式（３）中、Ｒ^５は水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。Ｌ^３は単結合または二価の連結基を表し、Ｑ^１はカチオン重合性基及びラジカル重合性基からなる群より選ばれる反応性基を含む基を表す。

一般式（３）中、Ｒ^５は水素原子、フッ素原子、または炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子またはメチル基であることがより好ましい。

一般式（３）中、Ｌ^３は二価の連結基であり、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－Ｏ－ＣＯ－を有していることが好ましく、－ＣＯ－Ｏ－を有していることがより好ましい。

一般式（３）中、Ｑ^１はカチオン重合性基及びラジカル重合性基からなる群より選ばれる反応性基を含む基であり、液晶層の空気界面側と直接接触する層、または、液晶層の空気界面側と直接接触する層を形成するための材料（組成物）に含まれる化合物が有する官能基と反応可能な基を選択するのが好ましい。

反応性基を含む基を有する繰り返し単位の含有量は、フッ素原子含有共重合体の全繰り返し単位に対して、１～９０ｍｏｌ％が好ましく、３～８０ｍｏｌ％がより好ましく、５～７０ｍｏｌ％がさらに好ましい。
反応性基を含む基を有する繰り返し単位は、１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。反応性基を含む基を有する繰り返し単位を２種以上使用する場合は、その合計含有量が、上記範囲内であるのが好ましい。

一般式（３）で表される反応性基を含む基を有する繰返し単位を以下に例示するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。

本発明のフッ素原子含有共重合体は、さらに下記一般式（４）で表される繰返し単位を有していてもよい。

一般式（４）中、Ｒ^６は水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。Ｕ^１およびＵ^２は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯＯ－、－ＮＨ－を表す。Ｒ^７およびＲ^８は、それぞれ独立に、水素原子、あるいは、置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは無置換のアリール基、または、置換もしくは無置換のヘテロアリール基を表し、Ｒ^７およびＲ^８は、これらの組み合わせからなる連結基を介して互いに連結していてもよい。Ｌ^４は、単結合または二価の連結基を表す。

Ｒ^７およびＲ^８が示す、置換もしくは無置換のアリール基としては、例えば、１個から４個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と不飽和五員環とが縮合環を形成したものを挙げることができ、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基、ピレニル基等が挙げられる。

本発明においては、一般式（４）で表される繰り返し単位の含有量は、全繰り返し単位に対して１～８０質量％であることが好ましく、３～７０質量％であることがより好ましく、５～５０質量％であることが更に好ましい。

一般式（４）で表される繰返し単位を以下に例示するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。

フッ素原子含有共重合体は、上述した以外の繰り返し単位を有していてもよい。
フッ素原子含有共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０００～５０００００が好ましく、１５００～４０００００がより好ましく、２０００～３０００００がさらに好ましい。
フッ素原子含有共重合体の数平均分子量（Ｍｎ）は、５００～２５００００が好ましく、１０００～２０００００がより好ましく、１５００～１５００００がさらに好ましい。
フッ素原子含有共重合体の分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．００～２０．００が好ましく、１．００～１８．００がより好ましく、１．００～１６．００がさらに好ましい。
この範囲であると、汎用溶剤への溶解性および組成物との混和性に優れ、なおかつ本発明の主眼である光学異方性層の配向の均一性との両立が可能である。

組成物中、フッ素原子含有共重合体の含有量は、液晶化合物の全質量に対して、０．００１～５．００質量％が好ましく、０．０１～１．００質量％がより好ましく、０．０１～０．３０質量％がさらに好ましい。
フッ素原子含有共重合体を２種以上使用する場合は、その合計含有量が、上記範囲内であるのが好ましい。
なお、全固形分とは、光学異方性層を形成する成分を意図し、溶媒は含まれない。また、光学異方性層を形成する成分であれば、その性状が液体状であっても、固形分とみなす。

［液晶フィルム］
本発明の液晶フィルムは、液晶組成物を用いて形成される光学異方性層と支持体とを少なくとも有する。
また、上記液晶組成物は、重合性液晶化合物および上記フッ素原子含有共重合体を含む。
以下、本発明の液晶フィルムを構成する各層について説明する。

〔光学異方性層〕
＜液晶組成物＞
光学異方性層は、液晶組成物（光学異方性層形成用組成物）を用いて形成される。液晶組成物は、少なくとも、フッ素原子含有含有共重合体、および、重合性液晶化合物を含む。 以下、液晶組成物に含まれる成分について説明する。

（重合性液晶化合物）
液晶組成物は、重合性液晶化合物を含む。
重合性液晶化合物とは、重合性基を少なくとも１つ以上有する液晶化合物である。
一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプとに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプとがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。
重合性液晶化合物は、重合性基を有する限り、いずれの液晶化合物を用いることもでき、中でも、棒状の重合性液晶化合物または円盤状の重合性液晶化合物を用いるのが好ましく、棒状の重合性液晶化合物を用いるのがより好ましい。
なお、液晶組成物が、重合性液晶化合物以外の液晶化合物を含んでいてもよい。

重合性液晶化合物は１分子中に重合性基を２以上有するのが好ましい。また、２種以上の重合性液晶化合物を使用する場合、少なくとも１種の重合性液晶化合物が、１分子中に２以上の重合性基を有しているのが好ましい。
なお、液晶化合物が重合によって固定された後においてはもはや液晶性を示す必要はないが、こうして形成された層は便宜上液晶層と称することがある。液晶層は、配向した液晶化合物が、その配向状態を保ったまま固定された層であるのが好ましい。

重合性液晶化合物が有する、重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基、エポキシ基、または、オキセタン基が好ましく、重合反応が高速である点で、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。

棒状の重合性液晶化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１に記載の化合物、および、特開２００５－２８９９８０号公報の段落［００２６］～［００９８］に記載の化合物が挙げられる。円盤状の重合性液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落［００２０］～［００６７］に記載の化合物、および、特開２０１０－２４４０３８号公報の段落［００１３］～［０１０８］に記載の化合物が挙げられる。

また、棒状の重合性液晶化合物としては、スメクチック相を発現できる液晶化合物が挙げられ、例えば、特開２０１６－５１１７８号公報、特開２００８－２１４２６９号公報、特開２００８－１９２４０号公報、および、特開２００６－２７６８２１号公報に記載の化合物が挙げられる。

また、棒状の重合性液晶化合物として、波長３３０～３８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する重合性液晶化合物が好ましい。
また、棒状の重合性液晶化合物は、逆波長分散性の重合性液晶化合物であるのが好ましい。
ここで、本明細書において「逆波長分散性」の重合性液晶化合物とは、これを用いて作製された位相差フィルム（光学異方性層等）の特定波長（可視光範囲）における面内のレターデーション値（Ｒｅ）を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅが同等または高くなるものをいう。
具体的には、下記式を満たす光学異方性層を形成することができる重合性液晶化合物が好ましい。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００
ここで、上記式中、Ｒｅ（４５０）は、光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。面内レターデーションの値は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用い、測定波長の光を用いて測定することができる。

・一般式（Ａ１）～（Ａ５）
重合性液晶化合物は、一般式（Ａ１）～（Ａ５）で表される基からなる群から選択される基を有する化合物であるのが好ましい。このような基を有することで、重合性液晶化合物に、逆波長分散性を導入しやすい。

一般式（Ａ１）～（Ａ５）中、＊１および＊２は、結合位置を表す。
一般式（Ａ１）中、Ｑ^１は、ＮまたはＣＨを表し、Ｑ^２は、－Ｓ－、－Ｏ－、または、－Ｎ（Ｊ^５）－を表し、Ｊ^５は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｙ^１は、置換基を有してもよい、炭素数６～１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３～１２の芳香族複素環基を表す。
Ｊ^５が示す炭素数１～６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基等が挙げられる。
Ｙ^１が示す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、および、ナフチル基等のアリール基が挙げられる。
Ｙ^１が示す炭素数３～１２の芳香族複素環基としては、例えば、チエニル基、チアゾリル基、フリル基、および、ピリジル基等のヘテロアリール基が挙げられる。
また、Ｙ^１が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、および、ハロゲン原子等が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、および、シクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基がさらに好ましく、メチル基またはエチル基が特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、および、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基がさらに好ましく、メトキシ基またはエトキシ基が特に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、または、塩素原子が好ましい。

また、上記一般式（Ａ１）～（Ａ５）中、Ｚ^１、Ｚ^２およびＺ^３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０の一価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の一価の脂環式炭化水素基、炭素数６～２０の一価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＮＪ^６Ｊ^７、または、－ＳＪ^８を表し、Ｊ^６～Ｊ^８は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｚ^１およびＺ^２は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
炭素数１～２０の一価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～１５のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基がより好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基（１，１－ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ－ブチル基、または、１，１－ジメチル－３，３－ジメチル－ブチル基がさらに好ましく、メチル基、エチル基、または、ｔｅｒｔ－ブチル基が特に好ましい。
炭素数３～２０の一価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、および、エチルシクロヘキシル基等の単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、および、シクロデカジエン等の単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１^３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１^３，６．０^２，７］ドデシル基、および、アダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基；等が挙げられる。
炭素数６～２０の一価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、ナフチル基、および、ビフェニル基等が挙げられ、炭素数６～１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子、または、臭素原子が好ましい。
一方、Ｊ^６～Ｊ^８が示す炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基等が挙げられる。

また、上記一般式（Ａ２）および（Ａ３）中、Ａ^３およびＡ^４は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｎ（Ｊ^９）－、－Ｓ－、および、－ＣＯ－からなる群から選択される基を表し、Ｊ^９は、水素原子または置換基を表す。
Ｊ^９が示す置換基としては、上記一般式（Ａ１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

また、上記一般式（Ａ２）中、Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４～１６族の非金属原子を表す。
また、Ｘが示す第１４～１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、置換基を有する窒素原子、および、置換基を有する炭素原子が挙げられ、置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルキル置換アルコキシ基、環状アルキル基、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アルキルカルボニル基、スルホ基、および、水酸基等が挙げられる。

また、上記一般式（Ａ３）中、Ｄ^５およびＤ^６は、それぞれ独立に、単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＪ^１Ｊ^２－、－ＣＪ^１Ｊ^２－ＣＪ^３Ｊ^４－、－Ｏ－ＣＪ^１Ｊ^２－、－ＣＪ^１Ｊ^２－Ｏ－ＣＪ^３Ｊ^４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＪ^１Ｊ^２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＪ^１Ｊ^２－、－ＣＪ^１Ｊ^２－Ｏ－ＣＯ－ＣＪ^３Ｊ^４－、－ＣＪ^１Ｊ^２－ＣＯ－Ｏ－ＣＪ^３Ｊ^４－、－ＮＪ^１－ＣＪ^２Ｊ^３－、または、－ＣＯ－ＮＪ^１－を表す。Ｊ^１、Ｊ^２、Ｊ^３およびＪ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。

また、上記一般式（Ａ３）中、ＳＰ^３およびＳＰ^４は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された二価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。置換基としては、上記一般式（Ａ１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

また、上記一般式（Ａ３）中、Ｅ^３およびＥ^４は、それぞれ独立に一価の有機基を表す。

また、上記一般式（Ａ４）～（Ａ５）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
また、上記一般式（Ａ４）～（Ａ５）中、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
ここで、ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
また、Ｑ^３は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
ＡｘおよびＡｙとしては、特許文献３（国際公開第２０１４／０１０３２５号）の［００３９］～［００９５］段落に記載されたものが挙げられる。
また、Ｑ^３が示す炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基等が挙げられ、置換基としては、上記一般式（Ａ１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

・一般式（Ｗ）
中でも、重合性液晶化合物は、一般式（Ｗ）で表される逆波長分散性の重合性液晶化合物が好ましい。
Ｅ^１－ＳＰ^１－Ａ^１－Ｄ^３－Ｇ^１－Ｄ^１－Ａｒ－Ｄ^２－Ｇ^２－Ｄ^４－Ａ^２－ＳＰ^２－Ｅ^２ ・・（Ｗ）

上記一般式（Ｗ）中、Ａｒは、上述した一般式（Ａ１）～（Ａ５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの基を表す。なお、この場合、下記一般式（Ａ１）～（Ａ５）中、＊１はＤ^１との結合位置を表し、＊２はＤ^２との結合位置を表すのが好ましい。

上記一般式（Ｗ）中、Ｄ^１、Ｄ^２、Ｄ^３およびＤ^４は、それぞれ独立に、単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＪ^１Ｊ^２－、－ＣＪ^１Ｊ^２－ＣＪ^３Ｊ^４－、－Ｏ－ＣＪ^１Ｊ^２－、－ＣＪ^１Ｊ^２－Ｏ－ＣＪ^３Ｊ^４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＪ^１Ｊ^２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＪ^１Ｊ^２－、－ＣＪ^１Ｊ^２－Ｏ－ＣＯ－ＣＪ^３Ｊ^４－、－ＣＪ^１Ｊ^２－ＣＯ－Ｏ－ＣＪ^３Ｊ^４－、－ＮＪ^１－ＣＪ^２Ｊ^３－、または、－ＣＯ－ＮＪ^１－を表す。Ｊ^１、Ｊ^２、Ｊ^３およびＪ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
また、上記一般式（Ｗ）中、Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５～８の二価の脂環式炭化水素基を表し、脂環式炭化水素基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－または－ＮＨ－で置換されていてもよい。
また、上記一般式（Ｗ）中、Ａ^１およびＡ^２は、それぞれ独立に、炭素数６以上の芳香環基、または、炭素数６以上のシクロアルキレン環基を表す。
また、上記一般式（Ｗ）中、ＳＰ^１およびＳＰ^２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された二価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
また、上記一般式（Ｗ）中、Ｅ^１およびＥ^２は、それぞれ独立に一価の有機基を表し、Ｅ^１およびＥ^２の少なくとも一方は重合性基を表す。ただし、Ａｒが、上述の一般式（Ａ３）で表される基である場合は、Ｅ^１およびＥ^２ならびに上述の一般式（Ａ３）中のＥ^３およびＥ^４の少なくとも１つが重合性基を表す。

上記一般式（Ｗ）中、Ｇ^１およびＧ^２が示す炭素数５～８の二価の脂環式炭化水素基としては、５員環または６員環であることが好ましい。また、脂環式炭化水素基は、飽和でも不飽和でもよいが飽和脂環式炭化水素基が好ましい。Ｇ^１およびＧ^２で表される二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、特開２０１２－２１０６８号公報の段落［００７８］の記載を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。

上記一般式（Ｗ）中、Ａ^１およびＡ^２が示す炭素数６以上の芳香環基としては、例えば、ベンゼン環基、ナフタレン環基、アントラセン環基、および、フェナンスロリン環基等の芳香族炭化水素環基；フラン環基、ピロール環基、チオフェン環基、ピリジン環基、チアゾール環基、および、ベンゾチアゾール環基等の芳香族複素環基；が挙げられる。なかでも、ベンゼン環基（例えば、１，４－フェニル基等）が好ましい。
また、上記一般式（Ｗ）中、Ａ^１およびＡ^２が示す炭素数６以上のシクロアルキレン環基としては、例えば、シクロヘキサン環基、および、シクロヘキセン環基等が挙げられ、なかでも、シクロヘキサン環（例えば、シクロヘキサン－１，４－ジイル基等）が好ましい。

上記一般式（Ｗ）中、ＳＰ^１およびＳＰ^２が示す炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、または、ブチレン基が好ましい。

上記一般式（Ｗ）中、Ｅ^１およびＥ^２の少なくとも一方が示す重合性基は、特に限定されないが、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、アクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましい。この場合、重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の観点からアクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も高複屈折性液晶の重合性基として同様に使用できる。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性基を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基等が挙げられる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタン基、または、ビニルオキシ基がより好ましい。
特に好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。

上記一般式（Ｗ）で表される液晶化合物の好ましい例を以下に示すが、これらの液晶化合物に限定されるものではない。なお、下記式中の１，４－シクロヘキシレン基は、いずれもトランス－１，４－シクロヘキシレン基である。

なお、上記式中、「＊」は結合位置を表す。

なお、上記式ＩＩ－２－８およびＩＩ－２－９中のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

重合性液晶化合物は１種単独で使用してもよく、２種以上を使用してもよい。重合性液晶化合物の結晶化を抑制し、良好な溶解性と液晶性とを実現する観点からは、２種以上を使用するのが好ましい。また、上記で述べた以外の重合性液晶化合物を使用してもよい。
重合性液晶化合物としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）２０００年１０月３０日発行）に掲載された重合性液晶化合物、および、公知の重合性液晶化合物を使用してもよい。

液晶組成物中、重合性液晶化合物の含有量は、液晶組成物の固形分の全質量に対して、５０～９９．９９質量％が好ましく、６５～９９．５質量％がより好ましく、７０～９９質量％がさらに好ましい。
重合性液晶化合物は、１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。
重合性液晶化合物を２種以上使用する場合は、その合計含有量が、上記範囲内であるのが好ましい。
液晶組成物の固形分とは、光学異方性層を形成し得る成分であり、溶媒は含まれない。なお、上記成分の性状が液体状であっても、光学異方性層を形成し得る場合は、固形分として計算する。

また、重合性液晶化合物として、逆波長分散性である重合性液晶化合物（好ましくは、一般式（Ｗ）で表される重合性液晶化合物）を使用している場合、その含有量は、光学異方性層に逆波長分散性を付与する観点から、液晶組成物中の液晶化合物の全質量に対して、５０～１００質量％が好ましく、６５～９５質量％がより好ましく、７０～９０質量％がさらに好ましい。
逆波長分散性である重合性液晶化合物（好ましくは、一般式（Ｗ）で表される重合性液晶化合物）は、１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。逆波長分散性である重合性液晶化合物を２種以上使用する場合は、その合計含有量が、上記範囲内であるのが好ましい。
なお、上記液晶化合物の全質量とは、液晶組成物中の液晶性を示す化合物の合計質量であり、液晶組成物が非重合性の液晶化合物をも含む場合は、重合性液晶化合物のみならず、非重合性の液晶化合物の質量をも加えて得られる質量である。

（重合開始剤）
液晶組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。
使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、および、光重合開始剤が挙げられる。
光重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、オキシムエステル類、および、オニウム塩類等が挙げられる。必要に応じ、増感剤および／または連鎖移動剤と組み合わせることができる。
液晶組成物中、重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物と後述の非液晶性の重合性モノマーとの合計含有量に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～５質量％がより好ましい。
重合開始剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。重合開始剤を２種以上使用する場合は、その合計含有量が、上記範囲内であるのが好ましい。

（非液晶性の重合性モノマー）
液晶組成物は、塗工膜の均一性および膜の強度の観点から、非液晶性の重合性モノマーを含んでいてもよい。
非液晶性の重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。例えば、多官能性ラジカル重合性モノマーを使用でき、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３－シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼン及びその誘導体（例、１，４－ジビニルベンゼン、４－ビニル安息香酸－２－アクリロイルエチルエステル、１，４－ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミドが挙げられ、特に多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステルが好ましい。
液晶組成物中、非液晶性の重合性モノマーの含有量は、重合性液晶化合物の全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、２～３０質量％がより好ましい。
非液晶性の重合性モノマーは、１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。
非液晶性の重合性モノマーを２種以上使用する場合は、その合計含有量が、上記範囲内であるのが好ましい。

（有機溶媒）
液晶組成物は、有機溶媒を含んでいてもよい。有機溶媒としては、上述した重合性液晶化合物を完全に溶解し得るものが好ましく、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤が好ましい。
有機溶媒としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、および、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、および、乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、および、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン、および、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤；トルエンおよびキシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、および、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤；クロロホルムおよびクロロベンゼン等の塩素含有溶剤；等が挙げられる。

液晶組成物中の有機溶媒の含有量は、固形分の溶解性、液粘度、塗布液のポットライフ、塗布機および塗布方式の適性、塗布膜の均一性および膜厚制御、ならびに、配向制御の観点等から適宜調節できる。
液晶組成物中の有機溶媒の含有量は、例えば、液晶組成物の固形分濃度が、１３～５０質量％となる量が好ましく、１５～４０質量％となる量がより好ましい。
有機溶媒は、１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。有機溶媒を２種以上使用する場合は、その合計含有量が、上記範囲内であるのが好ましい。

（その他の成分）
液晶組成物は、上述した以外のその他の成分を含んでいてもよい。
その他の成分として、例えば、光学異方性層の配向性の調整等の観点から、界面活性剤およびカイラル剤等を使用してもよい。
また、液晶組成物の粘度、相転移温度、配向均一性の調整、光学異方性層の膜物性、および、光学特性の調整等の観点から、サブ液晶化合物（非重合性の液晶化合物）を使用してもよい。サブ液晶化合物は、低分子液晶化合物であってもよい。また、サブ液晶化合物は、主鎖型液晶高分子または側鎖型液晶高分子であってもよい。
液晶組成物のポットライフ付与、および、光学異方性層の耐久性向上等の観点から、重合禁止剤、酸化防止剤、および、紫外線吸収剤等を使用してもよい。
さらなる機能付与、液物性の調整、および、膜物性の調整等の観点から、可塑剤、レターデーション調整剤、二色性色素、蛍光色素、フォトクロミック色素、サーモクロミック色素、光異性化材料、光二量化材料、ナノ粒子、および、チキソ剤等を添加してもよい。

＜形成方法＞
液晶組成物を用いた光学異方性層の形成方法は特に限定されず、例えば、支持体上に直接、液晶組成物を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜に対して加熱および／または冷却等の配向形成処理、および、硬化処理（紫外線の照射（光照射処理）または加熱処理）を施すことにより光学異方性層を形成できる。また、後述する配向膜上に、液晶組成物を塗布して、上述したのと同様の処理をして光学異方性層を形成してもよい。
液晶組成物の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、および、ダイコーティング法）により実施できる。

本発明においては、上記光学異方性層の厚みは特に限定されないが、０．１～１０μｍが好ましく、０．５～５μｍがより好ましい。

＜光学異方性層の配向性、光学特性＞
光学異方性層は、水平配向、垂直配向、傾斜配向、ハイブリッド配向、ランダムホモジニアス配向、および、コレステリック配向等種々の配向状態で配向させることができ、重合性液晶化合物の光学異方性と配向状態を適切に選択することにより種々の光学特性を付与できる。

例えば、好ましい一つの様態として、光学異方性層をポジティブＡプレートとしてもよい。ポジティブＡプレートを得るには、棒状の重合性液晶化合物を水平配向させることにより得ることができる。さらに、その面内レターデーションＲｅ（５５０）を１００～１６０ｎｍ（好ましくは１２０～１５０ｎｍ）とすると、正の一軸性λ／４プレートとして好適に使用できる。また、Ｒｅ（５５０）を２５０～３００ｎｍの範囲とすることで、正の一軸性λ／２プレートとして使用できる。ここで、Ｒｅ（５５０）は、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。面内レターデーションの値は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用いて測定することができる。

また好ましい一つの様態として、光学異方性層をポジティブＣプレートとしてもよい。ポジティブＣプレートを得るには、棒状の重合性液晶化合物を垂直配向させることにより得ることができる。その厚さ方向レターデーションＲｔｈ（５５０）は、例えば、２０～２００ｎｍであり、種々の光学補償機能および／または視野角向上機能等を付与する観点から、５０～１２０ｎｍが好ましい。

その他にも、光学異方性層は、ネガティブＡプレートまたはネガティブＣプレートであってもよい。また、液晶層をコレステリック配向させることにより、旋光性および波長選択反射性等を付与することもできる。

なお、本明細書において、Ａプレートは以下のように定義される。
Ａプレートは、ポジティブＡプレート（正のＡプレート）とネガティブＡプレート（負のＡプレート）との２種があり、フィルム面内の遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、ポジティブＡプレートは式（Ａ１）の関係を満たすものであり、ネガティブＡプレートは式（Ａ２）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＡプレートはＲｔｈが正の値を示し、ネガティブＡプレートはＲｔｈが負の値を示す。
式（Ａ１） ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ
式（Ａ２） ｎｙ＜ｎｘ≒ｎｚ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｙ－ｎｚ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、－１０～１０ｎｍ、好ましくは－５～５ｎｍの場合も「ｎｙ≒ｎｚ」に含まれ、（ｎｘ－ｎｚ）×ｄが、－１０～１０ｎｍ、好ましくは－５～５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｚ」に含まれる。
Ｃプレートは、ポジティブＣプレート（正のＣプレート）とネガティブＣプレート（負のＣプレート）との２種があり、ポジティブＣプレートは式（Ｃ１）の関係を満たすものであり、ネガティブＣプレートは式（Ｃ２）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＣプレートはＲｔｈが負の値を示し、ネガティブＣプレートはＲｔｈが正の値を示す。
式（Ｃ１） ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ
式（Ｃ２） ｎｚ＜ｎｘ≒ｎｙ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、０～１０ｎｍ、好ましくは０～５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｙ」に含まれる。

また、液晶組成物に使用する重合性液晶化合物およびその他の成分等を調整することで、光学異方性の波長分散性を適宜調整できる。
光学異方性層は、逆波長分散性を示すのが好ましい。具体例としては、光学異方性層が、一軸性の位相差層として、下記式（ＩＩ）を満たすのが好ましい。
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）＜１．００ ・・・（ＩＩ）
ここで、式（ＩＩ）中、Δｎ（４５０）は、光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける屈折率最大方向とその直交方向の屈折率差を表し、Δｎ（５５０）は、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける屈折率最大方向とその直交方向の屈折率差を表す。

〔支持体〕
本発明の液晶フィルムは、上述したように、支持体を有する。支持体としては特に制限はなく、公知の種々の材料を用いることができる。中でも、連続生産を可能とする点で、長尺状のポリマーフィルムが好ましい。
ポリマーフィルムとしては、ポリプロピレン、および、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン・環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、および、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂；ポリメチルメタクリレート等のポリメタクリル酸エステル・ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、および、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ならびに、これらの共重合体等をフィルム化したポリマーフィルムが挙げられる。これらのポリマーフィルムは、引張弾性率、曲げ弾性率、平行光線透過率、ヘイズ、光学異方性、光学等方性、易剥離性、および、易接着性等の観点に基づいて適宜選択できる。

本発明において、配向が均一な光学異方性層を得る観点から、液晶組成物を直接支持体に塗布して光学異方性層を形成する場合における、支持体の塗布側表面は平滑であるのが好ましく、その表面粗さＲａは３～５０ｎｍであるのが好ましい。
また、支持体上に後述の配向層を設け、液晶組成物を配向層に塗布して光学異方性層を形成する場合は、配向層の表面が平滑であればよく、その表面粗さＲａは３～５０ｎｍであるのが好ましい。後述する中間層等を設けて、これらの表面粗さを調整することも可能である。

また、長尺状のポリマーフィルムを用いるにあたっては、製造した液晶フィルムを巻き取った巻回体の状態におけるフィルム表面同士の形状転写およびブロッキング現象を防ぐ観点から、支持体における液晶組成物の塗布面とは逆側の表面に、アンチブロッキング処理またはマット処理等を行うことができる。また、フィルム端部にナーリングを設けても良い。

また、支持体は、剥離可能に設けられているのも好ましい。つまり、液晶フィルム中において、支持体は隣接する層から剥離可能に配置されるのも好ましい。この際、支持体上に光学異方性層を直接配置している場合は支持体と光学異方性層との界面にて剥離できるのが好ましい。また、支持体と光学異方性層との間に後述する配向層および／またはその他の層（中間層）が配置されている場合は、支持体と光学異方性層との間の任意の界面もしくは層内で剥離できるのが好ましい。

〔配向層〕
本発明の液晶フィルムは、必要に応じ、配向層を有してもよい。配向性がより優れる光学異方性層を得やすいという観点からは支持体上に配向層を設け、さらに配向層上に上述の光学異方性層を設けるのが好ましい。つまり本発明の液晶フィルムは、支持体と光学異方性層との間に光配向層を有するのが好ましい。

配向層には、公知の種々の配向層を用いることができ、例えば、ポリマー等の有機化合物からなるラビング膜（ラビング配向膜）、無機化合物の斜方蒸着膜、マイクログルーブを有する膜、および、有機化合物（例えば、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、または、ステアリル酸メチル等）を用いてラングミュア・ブロジェット法で形成したＬＢ膜（ラングミュア・ブロジェット膜）を累積させた膜等が挙げられる。
異物に起因する配向欠陥を未然に防ぐ観点から、配向層としては、光配向膜からなる光配向層も好ましい。

ラビング配向膜としては、例えば、ポリイミド、ポリビニルアルコール、特開平９－１５２５０９号公報に記載された重合性基を有するポリマー等の塗膜、ならびに、特開２００５－９７３７７号公報、特開２００５－９９２２８号公報、および、特開２００５－１２８５０３号公報記載の配向膜等が挙げられる。

本発明に利用可能な光配向膜の形成に用いられる光配向膜形成用組成物としては、多数の文献等に記載がある。例えば、ＷＯ０８／０５６５９７号公報、特開２００８－７６８３９号公報、および、特開２００９－１０９８３１号公報に記載のアゾ化合物を利用した材料；特開２０１２－１５５３０８号公報、特開２０１４－２６２６１号公報、特開２０１４－１２３０９１号公報、および、特開２０１５－２６０５０号公報に記載の光配向性ポリオルガノシロキサン複合材料；特開２０１２－２３４１４６に記載の桂皮酸基含有セルロースエステル材料；特開２０１２－１４５６６０号公報、および、特開２０１３－２３８７１７号公報に記載の光フリース転位反応もしくはその類似反応を利用した材料；特開２０１６－７１２８６号公報、特表２０１３－５１８２９６号公報、特表２０１４－５３３３７６号公報、特表２０１６－５３５１５８号公報、ＷＯ１０／１５０７４８号公報、ＷＯ１１／１２６０２２号公報、ＷＯ１３／０５４７８４号公報、ＷＯ１４／１０４３２０号公報、および、ＷＯ１６／００２７２２号公報に記載の光二量化可能な化合物（例えば、シンナメート化合物、カルコン化合物、および／または、クマリン化合物を各種ポリマーにペンダントさせた材料）等を、光配向膜形成用組成物に使用できる。
中でも、光配向に要する照射エネルギーおよび配向規制力等の観点から、アゾ基の光異性化反応を用いる光配向膜、または、シンナメート化合物の光反応を用いる光配向膜が好ましい。

配向膜を形成するために使用する配向膜形成用組成物（好ましくは光配向膜形成用組成物）には、必要に応じ、架橋剤、バインダー、可塑剤、増感剤、架橋触媒、密着力調整剤、および、レベリング剤等を添加できる。

配向層の膜厚としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１０～１０００ｎｍが好ましく、１０～３００ｎｍがより好ましい。配向層の表面粗さは先述したとおりである。

〔その他の層（中間層）〕
本発明の液晶フィルムは、必要に応じさらにその他の層を含むことができる。例えば、平滑化層、易接着層、易剥離層、遮光層、着色層、蛍光層、酸素バリア層、および、水蒸気バリア層等が挙げられる。このような層の機能を１つ以上有する層を中間層と総称する。中間層は、上述したような機能以外の機能を有する層であってもよい。
中間層を、例えば、支持体と光学異方性層との間、および／または、支持体と上述の配向層との間等に設けて、種々の機能を発現させることができる。

〔製造方法〕
本発明の液晶フィルムは、例えば、支持体上に、各層を形成するための組成物（液晶組成物等）を順次積層塗布していくことで作製できる。
好ましい一つの様態として、下記工程（１）～（４）を順に有する態様が挙げられる。
（１）支持体上に配向膜形成用組成物を塗布して、塗膜を得る工程（塗布工程）
（２）塗膜にラビング処理または光配向処理を施して配向規制力を付与し、上記塗膜を配向層とする工程（配向規制力付与工程）
（３）配向層上に液晶組成物を塗布する工程
（４）重合性液晶化合物を配向させた後に配向状態を固定する工程
なお、工程（３）以降は、光学異方性層の形成方法として述べたとおりである。

＜塗布工程＞
塗布工程における塗布方法は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スピンコーティング、ダイコーティング、グラビアコーティング、フレキソ印刷、および、インクジェット印刷等が挙げられる。配向膜形成用組成物の塗布の後に溶剤除去工程（乾燥工程）を伴うことが好ましく、さらにポストベーク工程を伴うことができる。

＜配向規制力付与工程＞
配向規制力付与工程は、配向膜形成用組成物を用いて形成された塗膜にラビング処理または光照射処理等を行う工程である。ラビング処理は従来公知の方法で行うことができる。
光配向膜形成用組成物を用いて形成された塗膜に対する光照射処理は、偏光を照射するのが好ましい。偏光は特に制限はなく、例えば、直線偏光、円偏光、および、楕円偏光等が挙げられ、中でも、直線偏光が好ましい。水平配向した液晶層を形成する観点では垂直方向から偏光照射するのが好ましく、傾斜配向またはチルトを与える観点からは斜め方向から偏光を照射するのが好ましい。

偏光または非偏光における波長としては、光配向膜形成用組成物から形成された塗膜に、重合性液晶化合物等に対する配向制御能を付与することができる限り、特に制限はない。使用される光の種類としては、例えば、紫外線、近紫外線、および、可視光線等が挙げられる。中でも、２５０～４５０ｎｍの近紫外線が好ましい。
また、偏光または非偏光を照射するための光源としては、例えば、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、レーザー、および、ＬＥＤ（ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ）等が挙げられる。必要に応じ、光源から得た紫外線や可視光線に対して、干渉フィルタまたは色フィルタ等を用いることで、照射する波長範囲を制限することができる。また、これらの光源からの光に対して、偏光フィルタまたは偏光プリズム等を用いることで、直線偏光を得ることができる。

偏光または非偏光の積算光量としては、光配向膜形成用組成物の塗膜に、重合性液晶化合物等に対する配向制御能を付与することができる限り、特に制限はなく、例えば、１～３００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、３～１００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。
偏光または非偏光の照度としては、光配向膜形成用組成物の塗膜に、液晶化合物に対する配向制御能を付与することができる限り、特に制限はないが、０．１～３００ｍＷ／ｃｍ^２が好ましく、１～１００ｍＷ／ｃｍ^２がより好ましい。

［光学積層体］
本発明の光学積層体は、上述した液晶組成物からなる光学異方性層、接着剤、および、光学機能層、を有する光学積層体であって、光学異方性層と上記光学機能層とは、接着層を介して接合されている。本発明の光学積層体において、光学機能層は、さらに異なる層（例えば、別の光学機能層等）と接合していてもよい。
また、本発明の光学積層体において、光学異方性層の空気界面側ではない面が、さらに異なる層（例えば、支持体または別の光学機能層等）と接合していてもよい。

光学異方性層が光学機能層と接合している状態において、必要に応じて本発明の液晶フィルムを構成する支持体は、剥離して除去されていてもよい。
支持体を剥離して除去するにあたって、支持体上に光学異方性層を直接設けている場合は支持体と光学異方性層との界面にて剥離できる。また、支持体と光学異方性層との間に配向層および／またはその他の層（中間層）を設けた場合は、支持体と光学異方性層との間の任意の界面もしくは層内で剥離を行ってもよい。

〔光学機能層〕
光学機能層としては、偏光子、光学的に等方な層、位相差層、旋光層、反射層、散乱層、着色層、および、蛍光層等、種々の機能を持つ層を利用できる。
１つの光学機能層は、上述した層のうちの複数の機能を有していてもよい。また、１つの光学機能層が、複数の層からなっていてもよい。光学機能層を構成する複数の層の中の１つ以上は、光学的な機能を有さない層であってもよい。
例えば、光学機能層は、偏光子または位相差層が好ましい。
また、光学機能層は液晶層であるのも好ましい。なお、光学機能層として使用される液晶層は、上述の液晶組成物を用いて形成してもよいし、その他の組成物を用いて形成してもよい。このような液晶層は、例えば、位相差層として使用できる。

＜偏光子＞
偏光子は、光を特定の偏光に変換する機能を有する部材であれば特に限定されず、例えば、従来公知の吸収型偏光子および反射型偏光子が挙げられる。
吸収型直線偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子等が挙げられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子のいずれも適用できる。汎用性に優れる点で、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
反射型偏光子としては、例えば、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子、ワイヤーグリッド型偏光子等の反射型直線偏光子、および、選択反射域を有するコレステリック液晶を含む反射型円偏光子等が挙げられる。

偏光子の厚みは特に限定されないが、１～６０μｍが好ましく、１～３０μｍがより好ましく、２～２０μｍがさらに好ましい。
なお、光学異方性層の空気界面側であった面と接着層を介して接合する光学機能層として偏光子を配置する以外にも、光学異方性層の空気側界面であった面とは反対側の面に、直接または他の層（接着層等）を介して偏光子が配置されるのも好ましい。

＜位相差層＞
光学機能層として使用される位相差層は特に限定されず、公知の種々のものを利用できる。例えば、ポリマーフィルムおよびその延伸配向フィルム、液晶化合物を含む組成物を用いて形成される層（液晶層）、および、無機物を配向させることにより得られる層等が制限なく利用できる。
なお、本発明にて開示した液晶フィルムまたはその光学異方性層を位相差層（光学機能層）として使用してもよい。すなわち、本発明の液晶フィルムまたはその光学異方性層を複数組み合わせて光学積層体としてもよい。

〔接着層〕
本発明の光学積層体では、本発明の液晶フィルムの光学異方性層の空気界面側であった面と光学機能層とを接合するために接着層が使用されている。接着層を形成する接着剤としては公知の種々の材料を用いることができ、例えば、感圧性接着剤、ホットメルト型接着剤、熱硬化性接着剤、光硬化性接着剤、湿度硬化性接着剤、および、乾燥固化型接着剤等が挙げられる。

中でも、接着層を薄くできること、迅速に硬化できること、硬化後の諸物性に優れること等から、接着層は、光硬化性接着剤を硬化させてなる層であるのが好ましい。光硬化性接着剤としては、例えば、紫外線硬化性接着剤（ＵＶ接着剤）が挙げられる。
光硬化性接着剤としては、例えば、ラジカル重合型（例えば、アクリル系接着剤）とカチオン重合型（例えば、エポキシ系接着剤）とが挙げられる。また、接着剤は、光学機能層への影響が小さく抑えられる点で、無溶剤型の接着剤が好ましい。

接着層を形成する方法としては、例えば、光学異方性層の空気界面側に接着剤を塗布した後に、塗布された接着剤と光学機能層とを接触させて接合してもよい。また、光学機能層上に接着剤を塗布した後に、塗布された接着剤と光学異方性層とを接触させて接合してもよい。

接着剤との接触に先立ち、光学異方性層の空気界面側に易接着処理を施すことができる。易接着処理としては、例えば、活性エネルギー線照射処理、プラズマ処理、コロナ処理、および、蒸着処理等が挙げられる。表面のみを処理し光学異方性層の光学特性に及ぼす影響を最小限にとどめられる点で、プラズマ処理、または、コロナ処理が好ましい。

〔光学積層体の機能〕
本発明の光学積層体は、使用する光学機能層によって種々の用途に適用できる。

例えば、ポリマーフィルム、吸収型直線偏光子、接着層、光学異方性層、を少なくともこの順に有することにより、光学補償機能を有する液晶表示装置用偏光板を構成できる。この際、光学異方性層は、適用する液晶表示装置の方式に併せて適切な光学異方性を付与すればよい。ポリマーフィルムには、アンチグレア層、反射防止層、または、輝度向上層等を有していてもよい。斜視方向の光漏れや色味を調整するために、他の位相差層を組合せてもよい。

例えば、本発明の光学積層体を用いれば、本発明の光学積層体を有する円偏光板を作製できる。なお、上記円偏光板は、本発明の光学積層体を一部に含んでいてもよいし、本発明の光学積層体そのものであってもよい。

また、λ／４プレートとλ／２プレートとを組み合わせて広帯域λ／４プレートを構成することもできる。この際、λ／４プレートおよびλ／２プレートの少なくとも一方が本発明の液晶フィルムまたはその光学異方性層であるのが好ましい。上述のポジティブＣプレート、λ／４プレート、および、λ／２プレートの全てを、本発明の液晶フィルムまたはその光学異方性層とすることも、層間の密着に優れた光学積層体が得られる点で好ましい。

これ以外にも本発明の光学積層体の用途としては、輝度向上板、反射偏光板、波長選択反射素子、反射低減層、パターンドリターダー、コリメート素子、真贋判定シール、ホログラム素子、意匠性部材、および、加飾材等が挙げられる。

［画像表示装置］
本発明の光学積層体は、画像表示装置に適用できる。
画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機ＥＬ表示素子、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。本発明の光学積層体は、表示画質を向上させるための光学補償のために使用することもできるし、外光が表示素子で反射されることによる表示画質の低下を抑制するために使用することもできる。

〔液晶表示装置〕
画像表示装置の一例である液晶表示装置は、上述した本発明の光学積層体と、液晶セルとを有する液晶表示装置である。液晶セルは、ＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｃｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、または、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）が挙げられる。またそれ以外の方式であってもよい。液晶セルに合わせた光学補償構成および輝度向上構成に、本発明の光学積層体を適用して組み合わせることにより、優れた広視野角特性や黒表示の光漏れ防止、高輝度表示を実現できる。

〔有機ＥＬ表示装置〕
有機ＥＬ表示装置が上述の円偏光板を有するのも好ましい。この場合、円偏光板は反射防止板として機能するのが好ましい。
有機ＥＬ表示素子としては、公知の構成を広く利用できる。また、有機ＥＬ表示装置はさらにタッチパネルを具備していてもよい。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

〔フッ素原子含有共重合体の合成〕
＜合成例１：ポリマーＰ－１の合成＞
高分子の合成（講談社、2020年、p60、p108-110及びp387-393を参考に、ポリマーＰ－１を合成した。
得られたポリマーＰ－１を以下に示す。

＜合成例２：ポリマーＰ－３の合成＞
Macromolecules,2006,39(22),4361.を参考に、ポリマーＰ－３を合成した。
温度計、攪拌羽根及び還流環を備えた５００ｍＬの三つ口フラスコを十分に乾燥させ、ベンゼン１５０ｍＬを加え、－７８℃で攪拌してｎ－ＢｕＬｉ（ｎ－ブチルリチウム、０．１６Ｍのヘキサン溶液）を１２．５ｍＬ添加した。ペンタフルオロプロピルメタクリレートｐｒｅＡ－２（繰り返し単位Ａ－２を導く化合物ｐｒｅＡ－２。以下、繰り返し単位Ｘ－Ｙを導く化合物をｐｒｅＸ－Ｙということがある。）を１０．０ｇ加え、１時間攪拌した。温度計、攪拌羽根及び還流環を備えた５００ｍＬの三つ口フラスコで、４－（ジクロロメチルシリル）ジフェニルエチレンを１９６ｍｇと上記反応液を混合した。ここへ、ｓ－ＢｕＬｉ（ｓ－ブチルリチウム、０．５３Ｍのヘキサン溶液）を１．２６ｍＬ添加し、更にペンタフルオロプロピルメタクリレートｐｒｅＡ－２を５．０ｇ加え、１時間攪拌した後、トリクロロメチルシラン３３．２ｍｇを加え攪拌した。反応終了後、少量のメタノールを加え、反応溶液を室温まで放冷し、メチルエチルケトン３０ｇで希釈し、メタノール５００ｍＬで再沈殿させて白色固体を得た。得られた白色固体をろ別した後、５０℃で終夜乾燥することで目的の分岐構造を有するポリマーＰ－３を１０．０ｇ得た。
得られたポリマーＰ－３を以下に示す。
このポリマーＰ－３は、図５Ａに示す構造、具体的には、下記ポリマーＰ－３の右上のＳｉ原子が核となってポリマーＰＡ^Ｂ１が３つ結合し、更に、このポリマーＰＡ^Ｂ１に対して上記ジフェニルエチレン由来の核を介してポリマーＰＢ^Ｂ１が２つ結合した分岐構造を有していた。

＜合成例３：ポリマーＰ－４の合成＞
１００ｍＬ三角フラスコにペンタフルオロプロピルメタクリレートｐｒｅＡ－２を２５．０ｇ、重合開始剤としてジメチル－２，２’－アゾビスイソブチレートを０．１６ｇ、核となる化合物としてテトラキス（３－メルカプトプロピオン酸）ペンタエリトリトールＩ－４を０．８６ｇ、及び、メチルエチルケトンを１５．０ｇ量りとり、これらを混合溶解させてモノマー組成物Ｐ４を調製した。
次いで、温度計、攪拌羽根及び還流環を備えた３００ｍＬの三つ口フラスコに、メチルエチルケトン１０．０ｇを仕込み、窒素気流下、８０℃で攪拌した。このメチルエチルケトン中に、上記モノマー組成物Ｐ４を、０．３１ｍＬ／ｍｉｎの速度で滴下した。滴下にはケミカルポンプを使用した。滴下終了後の反応溶液を、更に８０℃で２時間反応させ、次いで、ジメチル－２，２’－アゾビスイソブチレート０．０２ｇを更に添加し、得られた混合物を更に３時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を室温（３０℃）まで放冷し、メチルエチルケトン７０ｇで希釈し、メタノール１．４Ｌ及び水０．４Ｌの混合溶液にて再沈殿させて白色固体を得た。得られた白色固体をろ別した後、５０℃で終夜乾燥することで、目的のＰ－４を２０．０ｇ得た。
得られたポリマーＰ－４を以下に示す。下記構造において、Ｒで示す繰り返し単位に付した数字（４０）はポリマーＰＡ^Ｓ１中の繰り返し単位の数を表す。
このポリマーＰ－４は、図４Ａに示す構造、具体的には、繰り返し単位Ａ－２を有するポリマーＰＡ^Ｓ１が核に対して４本結合したスター構造を有していた。

＜合成例４：ポリマーＰ－５の合成＞
１０ｍＬバイアル瓶に、臭化銅（Ｉ）を０．２２ｍｇ、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’－ペンタメチルジエチレントリアミンを０．１７ｍｇ、及び、トルエンを１ｍＬ加え、均一な触媒溶液を得た。温度計、攪拌羽根及び還流環を備えた２００ｍＬの三つ口フラスコに、ペンタフルオロプロピルメタクリレートｐｒｅＡ－２を２０．０ｇ、ジメチル－２，２’－アゾビスイソブチレートを０．１７ｇ、及び、２－ブロモイソ酪酸エチルを６．７ｍｇ量りとり、触媒溶液を加えて、窒素気流下、７０℃で２０時間攪拌した。
次いで、得られた上記反応溶液に、３．７３ｇのボリブチレングリコールモノアクリレートｐｒｅＥ－１とトルエン２ｍＬの混合溶液を窒素置換した後に添加し、７０℃で攪拌した。反応終了後、反応溶液を室温まで放冷し、メチルエチルケトン７０ｇで希釈し、メタノール１．２Ｌ及び水０．５Ｌの混合溶液にて再沈殿させて白色沈殿を得た。得られた白色固体をろ別した後、５０℃で終夜乾燥することで目的のＰ－５を２０．０ｇ得た。
得られたポリマーＰ－５を以下に示す。このポリマーＰ－５は、２種の繰り返し単位〔ａ〕からなる図１Ａに示す構造、具体的には、繰り返し単位Ａ－２からなる部分構造と、繰り返し単位Ｅ－１からなる部分構造とがポリマー鎖内において単一の直線方向に結合したブロック構造（Ａ－Ｂ型）であった。

以下、下表１の一次構造に対応する上記合成法において、繰返し単位に対応するモノマーと組成比を変更する以外は同様にして、下表１のフッ素原子含有共重合体を合成した。

［実施例１～７および比較例１～２］
〔光配向膜形成用組成物の調製〕
ＷＯ２０１６／００２７２２号公報の実施例１に記載された光配向膜形成材料を調製し、これを本発明の液晶フィルムの製造に用いた。

〔液晶組成物の調製〕
下記組成の液晶組成物を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合性液晶化合物Ｌ－３ ４３．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ｌ－４ ４３．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ａ－１ １４．００質量部
・下記重合開始剤Ｓ－１（オキシムエステル類） ０．５０質量部
・上記フッ素原子含有共重合体Ｐ－５ ０．２３質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ－２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業社製）
６．００質量部
・メチルエチルケトン（溶媒） １６０．００質量部
・シクロペンタノン（溶媒） ５１．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、下記重合性液晶化合物Ｌ－３およびＬ－４のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、下記重合性液晶化合物Ｌ－３およびＬ－４は、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

重合性液晶化合物Ｌ－３

重合性液晶化合物Ｌ－４

重合性液晶化合物Ａ－１

重合開始剤Ｓ－１

フッ素原子含有共重合体Ｐ－５を、表２に記載のポリマーおよび添加量に変更したこと以外は組成物１と同様にして、液晶組成物２～１１を作製した。

＜溶解性の評価＞
作成した液晶組成物について、目視にてフッ素原子含有共重合体起因の液濁りの有無を観察し、観察の結果を下記基準に照らして区分した。結果を下記表２に示す。
Ａ：液濁りが全くなく、溶解性に非常に優れる
Ｂ：液濁りがわずかにある（濾過で除ける）
Ｃ：液が激しく白濁している（濾過で除けない）

〔セルロースアシレートフィルム１の作製〕
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記の化合物Ｇ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶剤） ６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

化合物Ｇ

（外層セルロースアシレートドープの作製）
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
メタノール（第２溶剤） １１質量部
上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（セルロースアシレートフィルム１の作製）
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。その後、得られたフィルムを熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。セルロースアシレートフィルム１のコア層は厚み３６μｍ、コア層の両側に配置された外層はそれぞれ厚み２μｍであった。得られたセルロースアシレートフィルム１の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションは０ｎｍであった。
得られたセルロースアシレートフィルム１を支持体とした。

〔液晶フィルムの作製〕
作製したセルロースアシレートフィルム１の片側の面に、先に調製した光配向膜形成用組成物をバーコーターで塗布した。
光配向膜形成用組成物を塗布後、得られたフィルムを１２０℃のホットプレート上で１分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ０．３μｍの光配向膜形成用組成物層を形成した。
得られた光配向膜形成用組成物層に偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層を形成した。
次いで、光配向層上に、先に調製した液晶組成物１～７をそれぞれバーコーターで塗布し、液晶組成物層を形成した。
形成した液晶組成物層をホットプレート上でいったん１１０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．３μｍの光学異方性層を形成し、液晶フィルムを作製した。得られた液晶フィルムの波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションは１４０ｎｍであった。

＜配向性の評価＞
作製した液晶フィルムについて、偏光顕微鏡を用いて消光位から２度ずらした状態で観察した。観察した際に部分的な明暗差が存在していない状態を、液晶ダイレクタが均一に配向している（配向性に優れる）と評価した。
観察の結果を下記基準に照らして区分した。結果を下記表１に示す。
Ａ：液晶ダイレクタが均一に整って配向し、表示性能が優れる
Ｂ：液晶ダイレクタの乱れが部分的であり、面状が安定している
Ｃ：液晶ダイレクタが大幅に乱れて面状が安定せず、表示性能が非常に劣る

＜配向欠陥の評価＞
裏面側から蛍光灯を照射し、液晶組成物層塗布面（おもて面）側から透過目視面検、及び液晶組成物層塗布面側から蛍光灯を照射した反射目視面検にて３ｍ^２検査し、輝点状の欠陥を採取した。更に、採取した欠陥を顕微鏡及びＩＲ、顕微ラマン分光装置で分析して、欠陥部の組成が、正常部と同一であるものの数をカウントし、その値を３で割って１ｍ^２当たりのブツ状欠陥の数を算出した。
Ａ：ブツ状欠陥が１ｍ^２当たりに換算し０個であり、発生していない
Ｂ：ブツ状欠陥が１ｍ^２当たりに換算し１～５個発生しているものの、低頻度であり気にならない
Ｃ：ブツ状欠陥が１ｍ^２当たりに換算し６個以上発生しており、気になる

実施例の結果より、本発明のフッ素原子含有共重合体は、溶解性に優れ、かつ、該共重合体を有する液晶フィルムは、配向性に優れ、かつ配向欠陥の少ないことが確認された。

Claims (7)

1. フッ素原子含有共重合体および重合性液晶化合物を含有する液晶組成物であって、
   前記フッ素原子含有共重合体が、一般式（１）で表される繰返し単位を含み、ブロック構造、スター構造もしくは分岐構造を有するフッ素原子含有共重合体であり、
   前記一般式（１）で表される繰返し単位の含有量が、前記フッ素原子含有共重合体の全繰返し単位に対して、４０～６０質量％であり、
   前記フッ素原子含有共重合体が、一般式（２）で表される繰返し単位、一般式（３）で表される繰返し単位、および、一般式（４）で表される繰返し単位からなる群から選択される繰返し単位を含む、液晶組成物。
   一般式（１）中、Ｒ^１は水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。Ｌ^１は二価の連結基を表す。Ｒｆは少なくとも１つのフッ素原子を含有する置換基を表す。
   一般式（２）中、Ｒ ^２ は水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。Ｒ ^３ は置換基を有していてもよい炭素環または複素環を含有し、Ｌ ^２ は単結合または二価の連結基を表す。
   一般式（３）中、Ｒ ^５ は水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。Ｌ ^３ は単結合または二価の連結基を表し、Ｑ ^１ はカチオン重合性基及びラジカル重合性基からなる群より選ばれる反応性基を含む基を表す。
   一般式（４）中、Ｒ ^６ は水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。Ｕ ^１ およびＵ ^２ は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯＯ－、－ＮＨ－を表す。Ｒ ^７ およびＲ ^８ は、それぞれ独立に、水素原子、あるいは、置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは無置換のアリール基、または、置換もしくは無置換のヘテロアリール基を表し、Ｒ ^７ およびＲ ^８ は、これらの組み合わせからなる連結基を介して互いに連結していてもよい。Ｌ ^４ は、単結合または二価の連結基を表す。
2. 前記一般式（１）中、Ｒｆのフッ素原子が直接結合している炭素原子数が１～４である請求項１に記載の液晶組成物。
3. 前記一般式（１）中、Ｒｆのフッ素原子が直接結合している炭素原子数が４である請求項１に記載の液晶組成物。
4. 請求項１～３のいずれか１項に記載の液晶組成物から形成される層を有する光学フィルム。
5. 請求項１～３のいずれか１項に記載の液晶組成物から形成される層を有する液晶フィルム。
6. 請求項１～３のいずれか１項に記載の液晶組成物から形成される層を有するハードコートフィルム。
7. 請求項１～３のいずれか１項に記載の液晶組成物から形成される層を有する偏光板。