TWI548896B - 長型圖案配向膜及使用其之長型圖案相位差薄膜 - Google Patents

長型圖案配向膜及使用其之長型圖案相位差薄膜 Download PDF

Info

Publication number
TWI548896B
TWI548896B TW101133653A TW101133653A TWI548896B TW I548896 B TWI548896 B TW I548896B TW 101133653 A TW101133653 A TW 101133653A TW 101133653 A TW101133653 A TW 101133653A TW I548896 B TWI548896 B TW I548896B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
alignment
pattern
film
region
layer
Prior art date
Application number
TW101133653A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201337350A (zh
Inventor
Keiji Kashima
Hiroyuki Nishimura
Masanori Fukuda
Yuugo Noritake
Original Assignee
Dainippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2012045433A external-priority patent/JP2012198523A/ja
Application filed by Dainippon Printing Co Ltd filed Critical Dainippon Printing Co Ltd
Publication of TW201337350A publication Critical patent/TW201337350A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI548896B publication Critical patent/TWI548896B/zh

Links

Description

長型圖案配向膜及使用其之長型圖案相位差薄膜
本發明係關於一種可容易且大量地製造圖案相位差薄膜之長型圖案配向膜者。
作為平板顯示器,先前主流為二維顯示者,而近年來,可進行三維顯示之平板顯示器開始受到注目,亦存在一部分市售者。而且,傾向於在今後之平板顯示器中理所應當地要求可進行三維顯示作為其性能,從而在廣泛之領域中推進可進行三維顯示之平板顯示器之研究。
於平板顯示器中進行三維顯示時,通常必需對視聽者以某種方式個別地顯示右眼用影像與左眼用影像。作為個別地顯示右眼用影像與左眼用影像之方法,已知有例如稱為被動方式者。一面參照圖一面對如上所述之被動方式之三維顯示方式進行說明。圖19係表示被動方式之三維顯示之一例之概略圖。如圖19所示,於該方式中,首先,將構成平板顯示器之像素呈圖案狀分割為右眼用影像顯示像素與左眼用影像顯示像素該2種之數個像素,使一方之群組之像素顯示右眼用影像,使另一方之群組之像素顯示左眼用影像。又,使用直線偏光板及形成有與該像素之分割圖案相對應之圖案狀之相位差層之圖案相位差薄膜,將右眼用影像與左眼用影像轉換為相互處於正交關係之圓偏光。進而,使視聽者佩戴 對右眼用透鏡與左眼用透鏡採用相互正交之圓偏光透鏡之圓偏光眼鏡,使右眼用影像僅通過右眼用透鏡,且使左眼用影像僅通過左眼用透鏡。如此般,藉由使右眼用影像僅到達右眼,使左眼用影像僅到達左眼而可進行三維顯示者為被動方式。
於如上所述之被動方式中,存在如下之優點:藉由使用上述圖案相位差薄膜與對應之圓偏光眼鏡,可容易地實現可進行三維顯示者。
然而,如上述般,於被動方式中,必需使用圖案相位差薄膜,但現狀為對於如上所述之圖案相位差薄膜尚未廣泛地進行研究、開發,作為標準之技術亦不存在確立者。就該方面而言,於專利文獻1中,揭示有包含如下各部作為圖案相位差薄膜之圖案相位差板:光配向膜,其於玻璃基板上配向規制力被控制成圖案狀;及相位差層,其形成於該光配向膜上,且以液晶化合物之排列與上述光配向膜之圖案相對應之方式圖案化。然而,如上所述之專利文獻1中揭示之圖案相位差板必需使用玻璃板,故而價格較高,且無法大量地製造大面積者,而其實用性上存在缺點。
根據如上所述之情況,關於具有實用性之圖案相位差薄膜仍然處於研究開發階段,達到作為一般者而為人所知者幾乎不存在,其結果,存在尚未獲得可利用廉價且簡易之方法大量地製造且可顯示三維影像之顯示裝置等問題。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2005-49865號公報
本發明係鑒於如上所述之情況而完成者,其主要目的在於提供一種可容易且大量地製造圖案相位差薄膜之長型圖案配向膜。
為解決上述課題,本發明提供一種長型圖案配向膜,其特徵在於:其為長條狀,且包含含有光配向材料之配向層,上述配向層包含:第1配向區域,其使具有折射率異向性之棒狀化合物沿固定方向排列;及第2配向區域,其使上述棒狀化合物沿與上述第1配向區域不同之方向排列。
根據本發明,藉由包含第1配向區域及第2配向區域,而可利用塗佈棒狀化合物,容易地形成包含棒狀化合物之排列方向不同之第1相位差區域及第2相位差區域之相位差層。
又,藉由為長條狀,而可容易地形成能大量形成圖案相位差薄膜之長型圖案相位差薄膜。又,藉由為長條狀,而可使製造製程之自由度較高。
於本發明中,較佳為上述第1配向區域及上述第2配向區域形成為於長度方向上相互平行之帶狀圖案。
藉此,易於使形成有上述第1相位差區域及第2相位差區域之圖案與顯示裝置中所使用之彩色濾光片等中形成有像素之圖案成為對應關係。又,可藉由準備捲繞成輥狀之長條狀之配向層,一面將該輥狀之長條狀之配向層捲開一面搬送,並且一面連續地搬送一面照射偏光紫外線,而容易且大量地形成。
於本發明中,較佳為上述第1配向區域及上述第2配向區域之上述棒狀化合物排列之方向相差90°。其原因在於,於如上所述之圖案配向膜上形成有相位差層之情形時,可在包含於相位差層中之第1相位差區域與上述第2相位差區域中使折射率成為最大之方向(遲相軸方向)成為相互正交之關係,而可實現更佳地用以製造3D顯示裝置者。
於本發明中,較佳為上述第1配向區域及上述第2配向區域之上述棒狀化合物排列之方向各自相對於長度方向為0°及90°之方向,或上述第1配向區域及上述第2配向區域之上述棒狀化合物排列之方向各自相對於長度方向為45°及135°之方向。
其原因在於,藉由為如上所述之排列方向,例如可實現較佳地用於TN(Twisted Nematic,扭曲向列)方式之3D液晶顯示裝置者。
其原因在於,藉由為如上所述之排列方向,例如可實現較佳地用於VA(Vertical Alignment,垂直配向)方式或IPS(In Plane Switching,共平面切換)方式之3D液晶顯示裝置者。
於本發明中,較佳為於上述配向層上形成有透明薄膜基材。其原因在於可使配向層之形成變得容易。
於本發明中,較佳為於上述透明薄膜基材之形成有上述配向層之面之相反面上形成有抗反射層及/或防眩層。其原因在於,當製造顯示裝置時,可形成能獲得顯示品質良好之顯示裝置之圖案相位差薄膜。
本發明提供一種長型圖案相位差薄膜,其特徵在於,其包含:上述長型圖案配向膜;及相位差層,其形成於上述長型圖案配向膜之上述配向層上,且含有具有折射率異向性之棒狀化合物。
根據本發明,藉由包含上述長型圖案配向膜,而可成為包含棒狀化合物之排列方向不同之第1相位差區域及第2相位差區域者。
因此,可容易且大量地形成可應用於三維顯示裝置之圖案相位差薄膜。
又,藉由為長條狀,而可使圖案相位差薄膜之製造製程之自由度較高。
於本發明中,較佳為上述相位差層之面內延遲值相當於λ/4份。藉此,通過上述第1相位差區域與第2相位差區域之直線偏光可分別成為相互處於正交關係之圓偏光,因此藉由使上述相位差層之面內延遲值相當於λ/4份,可使本發明 之長型圖案位相位差薄膜成為更佳地用以製造3D顯示裝置者。
於本發明中,較佳為於上述相位差層上依序形成有黏著層及隔片。其原因在於可使與其他構件之貼合變得容易。
根據本發明之長型圖案配向膜,發揮可容易且大量地製造圖案相位差薄膜之效果。
本發明係關於一種長型圖案配向膜及使用其之長型圖案相位差薄膜者。
以下,詳細地對本發明之長型圖案配向膜及長型圖案相位差薄膜進行說明。
A.長型圖案配向膜
首先,對本發明之長型圖案配向膜進行說明。
本發明之長型圖案配向膜之特徵在於:其為長條狀,且包含含有光配向材料之配向層,上述配向層包含:第1配向區域,其使具有折射率異向性之棒狀化合物沿固定方向排列;及第2配向區域,其使上述棒狀化合物沿與上述第1配向區域不同之方向排列。
一面參照圖一面對如上所述之本發明之長型圖案配向膜進行說明。圖1係圖2之A-A線剖面圖,圖2係表示本發明之長型圖案相位差薄膜之一例之概略平面圖。如圖1及圖 2中例示般,本發明之長型圖案配向膜10包含:長條狀之透明薄膜基材1;及配向層2,其形成於上述透明薄膜基材1上,為長條狀且含有光配向材料;上述配向層2包含:第1配向區域2a,其使上述棒狀化合物沿固定方向排列;及第2配向區域2b,其使上述棒狀化合物沿與上述第1配向區域2a不同之方向排列。
再者,於該例中,第1配向區域具有使棒狀化合物沿與長度方向(長條方向)正交之方向排列之配向規制力,第2配向區域具有使棒狀化合物沿與長度方向平行之方向排列之配向規制力。又,第1配向區域2a及第2配向區域2b分別形成為與長度方向(長條方向)平行之W1、W2之寬度之帶狀。
再者,所謂長條狀,係指幾何學上長方體或與長方體類似之形狀中,尤其長度遠大於寬度及厚度,且厚度遠小於長度及寬度之形狀。例如,係指為帶狀之形狀且為可捲繞成輥狀之程度之長度者。作為如上所述之長型圖案相位差薄膜之長度,根據對製造裝置可設置之重量等任意地決定即可,具體而言,長度較佳為設為10 m以上之範圍內,其中,較佳為設為50 m~5000 m之範圍內,特佳為設為100 m~4000 m之範圍內。
又,長度較佳為相對於寬度為10倍以上,其中,較佳為50倍~5000倍之範圍內,特佳為100倍~4000倍之範圍內。又,厚度較佳為寬度之1/1000倍~1/1000000倍之範圍 內,尤其,就具體之厚度而言,配向層較佳為0.01 μm~1.0 μm,相位差層較佳為0.5 μm~2 μm,透明薄膜基材較佳為10~1000 μm之範圍內。其原因在於可成為處理性等優異者。
根據本發明,藉由包含第1配向區域及第2配向區域,而可利用塗佈棒狀化合物,容易地形成包含棒狀化合物之排列方向不同之第1相位差區域及第2相位差區域之相位差層。
又,藉由為長條狀,而可利用連續地塗佈棒狀化合物,容易地形成能大量形成圖案相位差薄膜之長型圖案相位差薄膜。又,藉由為長條狀,而可使長型圖案相位差薄膜之製造製程之自由度較高,例如製成輥狀加以保存,或可自以輥狀保存之狀態捲出而形成長型圖案相位差薄膜等。
本發明之長型圖案配向膜至少包含配向層。
以下,詳細地對本發明之長型圖案配向膜之各構成進行說明。
1.配向層
本發明中使用之配向層為長條狀且含有光配向材料。
又,其為具有當形成相位差層時使棒狀化合物排列之功能者。而且,本發明中使用之配向層係藉由將上述第1配向區域及第2配向區域呈圖案狀形成於表面,而依據該圖案使上述相位差層中第1相位差區域與上述第2相位差區域呈圖案狀配置。
(1)第1配向區域及第2配向區域
本發明中之配向層中形成之第1配向區域及第2配向區域均為具有使相位差層中所含有之棒狀化合物沿一方向排列之功能之區域,且使棒狀化合物排列之方向互不相同。又,於本發明中,該第1配向區域及第2配向區域形成為圖案狀。
本發明中之配向層中形成第1配向區域及第2配向區域之圖案可根據本發明之長型圖案配向膜之用途等而適當決定,並無特別限定。作為如上所述之圖案,例如可列舉帶狀圖案、馬賽克狀圖案、鋸齒配置狀圖案等。其中,於本發明中,較佳為上述第1配向區域及上述第2配向區域形成為相互平行之帶狀圖案。藉由以如上所述之圖案形成第1配向區域及第2配向區域,例如於使用利用本發明之長型圖案配向膜而形成之圖案相位差薄膜製造液晶顯示裝置之情形時,易於使形成有上述第1配向區域及上述第2配向區域之圖案與液晶顯示裝置中使用之彩色濾光片中形成有像素之圖案成為對應關係。因此,藉由上述第1配向區域及上述第2配向區域形成為相互平行之帶狀圖案,可使用本發明之長型圖案配向膜容易地製造3D液晶顯示裝置。換言之,可使本發明之長型圖案配向膜成為較佳地用於3D液晶顯示裝置者。
又,藉由上述第1配向區域及上述第2配向區域形成為相互平行之帶狀圖案,於使用本發明之長型圖案配向膜製造電漿顯示器、有機EL(Electro-Luminescence,電致發光)或 FED(Field Emission Display,場發射顯示器)等發光型顯示裝置之情形時,易於使形成有上述第1配向區域及上述第2配向區域之圖案與發光型顯示裝置中的發光型顯示器中形成有像素部之圖案經由偏光板成為對應關係。因此,藉由上述第1配向區域及上述第2配向區域形成為相互平行之帶狀圖案,可使用本發明之長型圖案配向膜容易地製造3D發光型顯示裝置。換言之,可使本發明之長型圖案配向膜成為較佳地用於3D發光型顯示裝置者。再者,亦可視需要對上述發光型顯示裝置使用彩色濾光片。
再者,作為上述第1配向區域及上述第2配向區域形成為相互平行之帶狀圖案之情形之具體例,例如可列舉已說明之圖1及圖2所示者。
於上述第1配向區域及第2配向區域形成為帶狀圖案之情形時,第1配向區域及第2配向區域之寬度既可相同,或者亦可不同。然而,於本發明中,較佳為第1配向區域之寬度與第2配向區域之寬度相同。其原因在於,由於液晶顯示裝置中使用之彩色濾光片中,通常包含R、G、B等之像素部以同一寬度形成,故而藉由將上述第1配向區域及上述第2配向區域之寬度設為同一寬度,於使用本發明之長型圖案配向膜製造可進行三維顯示之液晶顯示裝置之情形時,易於使形成有上述第1配向區域及上述第2配向區域之圖案與液晶顯示裝置中使用之彩色濾光片中形成有像素部之圖案成為 對應關係,其結果,可使用本發明之長型圖案配向膜容易地製造3D液晶顯示裝置。又,由於發光型顯示裝置中使用之像素部亦以同一寬度形成,故而藉由將上述第1配向區域及上述第2配向區域之寬度設為同一寬度,於使用本發明之長型圖案配向膜製造可進行三維顯示之發光型顯示裝置之情形時,易於使形成有上述第1配向區域及上述第2配向區域之圖案與發光型顯示裝置中使用之形成有像素部之圖案成為對應關係,其結果,可使用本發明之長型圖案配向膜容易地製造3D發光型顯示裝置。於與彩色濾光片之條紋圖案進行位置對準之情形時,較佳為將形成有上述第1配向區域及上述第2配向區域之圖案與上述彩色濾光片之條紋圖案設為成為對應關係般之寬度。
作為上述第1配向區域及上述第2配向區域之具體之寬度,根據本發明之長型圖案配向膜之用途而適當決定。例如,於將本發明之長型圖案配向膜用以製造可進行三維顯示之液晶顯示裝置之情形時,上述第1配向區域及第2配向區域之寬度係以與液晶顯示裝置中使用之彩色濾光片中形成有像素部之寬度相對應之方式適當決定。如上所述,上述第1配向區域及第2配向區域之寬度並無特別限定,通常,較佳為50 μm~1000 μm之範圍內,更佳為100 μm~600 μm之範圍內。
又,於本發明中,於上述第1配向區域及上述第2配向區 域形成為上述帶狀圖案之情形時,亦可於上述第1配向區域及上述第2配向區域之間設置吸收光之黑線。於此情形時,黑線之寬度並無特別限定,通常,較佳為10 μm~30 μm之範圍內。
再者,作為形成有如上所述之黑線之區域,既可為具有配向規制力之區域,亦可為不具有配向規制力之區域。
進而,於本發明中,於上述第1配向區域及上述第2配向區域形成為上述帶狀圖案之情形時,作為形成帶狀圖案之方向,並無特別限定。例如,上述帶狀圖案之形成方向既可為與本發明之長型圖案配向膜之長度方向(長條方向)平行之方向,或亦可為正交方向,進而,亦可為傾斜地交叉之方向。其中,於本發明中,上述帶狀圖案較佳為帶狀之形成方向為與長型圖案配向膜之長度方向平行之方向,即,上述第1配向區域及上述第2配向區域形成為於長度方向上相互平行之帶狀圖案。
藉此,易於使形成有上述第1相位差區域及第2相位差區域之圖案與顯示裝置中使用之彩色濾光片等中形成有像素之圖案成為對應關係。又,可藉由準備捲繞成輥狀之長條狀之配向層,一面將該輥狀之長條狀之配向層捲開一面連續地搬送,並且照射偏光紫外線,而容易且大量地形成。
作為本發明中之第1配向區域及第2配向區域所具有之配向規制力,即,使棒狀化合物排列之方向,只要為互不相同 者則並無特別限定,較佳為相差90°。其原因在於,可形成具有使棒狀化合物排列之方向正交般之配向規制力之第1及第2配向區域,即,可在上述第1相位差區域與上述第2相位差區域中使折射率成為最大之方向(遲相軸方向)成為相互正交之關係,故可實現更佳地用以製造能進行三維顯示之顯示裝置者。
再者,所謂相差90°之方向,只要為當使用本發明之長型圖案配向膜形成可進行三維顯示之顯示裝置時,可精度良好地進行三維顯示者,則並無特別限定,通常,較佳為90°±3°之範圍內,其中,較佳為90°±2°左右之範圍內,其中,較佳為90°±1°左右之範圍內。其原因在於可製成高性能之可進行三維顯示之顯示裝置。
作為如上所述之使棒狀化合物排列之方向相差90°之第1配向區域及第2配向區域之具體例,較佳為如已說明之圖2所示,相對於長型圖案配向膜之長度方向為90°(第1配向區域2a)及0°(第2配向區域2b)之方向,或如圖3中例示般,相對於長度方向為45°(第1配向區域2a)及135°(第2配向區域2b)之方向。其原因在於,藉由為90°及0°之方向,例如可製成較佳地用於TN方式之三維液晶顯示裝置者。又,藉由為45°及135°之方向,例如可製成較佳地用於VA方式或IPS方式之三維液晶顯示裝置者。
再者,關於圖3中之符號,由於為表示與圖2相同之構件 者,故省略此處之說明。又,各配向區域中之箭頭之方向為使各個區域中之棒狀化合物排列之方向。
(2)光配向材料
本發明中使用之光配向材料係指可藉由偏光紫外線照射而表現配向規制力之材料。又,「配向規制力」係指使下述之棒狀化合物排列之相互作用。
作為如上所述之光配向材料,只要為藉由照射偏光而表現上述配向規制力者,則並無特別限定。如上所述之光配向材料可大致分為藉由順反變化僅使分子形狀發生變化而可逆地改變配向規制力之光異構化材料、及藉由照射偏光而使分子本身發生變化之光反應材料。於本發明中,可較佳地使用上述光異構化材料及上述光反應材料之任一種,但更佳為使用光反應材料。如上述般,光反應材料係藉由照射偏光使分子發生反應而表現配向規制力者,故而能夠不可逆地表現配向規制力。因此,光反應材料於配向規制力之經時穩定性方面更優異。
上述光反應材料可根據藉由偏光照射而發生之反應之類型加以區分。具體而言,可分為藉由發生光二聚反應而表現配向規制力之光二聚型材料、藉由發生光分解反應而表現配向規制力之光分解型材料、藉由發生光結合反應而表現配向規制力之光結合型材料、及藉由發生光分解反應與光結合反應而表現配向規制力之光分解-結合型材料等。於本發明 中,可較佳地使用上述光反應材料之任一種,其中,就穩定性及反應性(感度)等觀點而言,更佳為使用光二聚型材料。
本發明中使用之光二聚型材料只要為藉由發生光二聚反應可表現配向規制力之材料,則並無特別限定。其中,於本發明中,發生光二聚反應之光之波長較佳為280 nm以上,特佳為280 nm~400 nm之範圍內,進而較佳為300 nm~380 nm之範圍內。
作為如上所述之光二聚型材料,可例示含有肉桂酸酯、香豆素、苯亞甲基苄甲內醯胺、苯亞甲基苯乙酮、二苯乙炔、苯乙烯基吡啶、尿嘧啶、喹啉酮、順丁烯二醯亞胺、或次肉桂基乙酸衍生物之聚合物。其中,於步驟中,較佳地使用含有肉桂酸酯或香豆素之至少一者之聚合物、含有肉桂酸酯及香豆素之聚合物。作為如上所述之光二聚型材料之具體例,例如可列舉日本專利特開平9-118717公報、日本專利特表平10-506420號公報、日本專利特表2003-505561號公報、及WO2010/150748號公報、WO2011/1260195公報、WO2011/126021號公報、WO2011/126022號公報中記載之化合物。
作為本發明中之上述肉桂酸酯及香豆素,較佳地使用下述式Ia、Ib所示者。
[化1]
上述式中,A表示嘧啶-2,5-二基、吡啶-2,5-二基、2,5-伸噻吩基、2,5-伸呋喃基、1,4-或2,6-伸萘基,或表示為非取代、或者由氟、氯或碳原子為1~18個之環式、直鏈狀或支鏈狀烷基殘基(為非取代,或者由氟、氯進行一或多取代,亦可為一個以上之不鄰接之-CH2-基獨立地由基C取代)進行一或多取代之伸苯基。
上述式中,B表示氫原子,或者表示可與第二物質,例如聚合物、低聚物、單體、光活性聚合物、光活性低聚物及/或光活性單體或者表面發生反應或相互作用之基。
上述式中,C表示選自-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR1-、-NR1-CO-、-CO-NR1-、-NR1-CO-O-、-O-CO-NR1-、-NR1-CO-NR1-、-CH=CH-、-C≡C-、-O-CO-O-及-Si(CH3)2-O-Si(CH3)2-(R1表示氫原子或低級烷基)中之基。
上述式中,D表示選自-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR1-、-NR1-CO-、-CO-NR1-、-NR1-CO-O-、-O-CO-NR1-、-NR1-CO-NR1-、-CH=CH-、-C≡C-、-O-CO-O-及-Si(CH3)2-O-Si(CH3)2-(R1表示氫原子或低級烷基)中之基、芳香族基或脂環基。
上述式中,S1及S2係相互獨立地表示單鍵或間隔基單位,例如碳原子為1~40個之直鏈狀或支鏈狀伸烷基(為非取代,或者由氟、氯進行一或多取代,亦可為1個以上之不鄰接之-CH2-基獨立地由基D取代,但氧原子相互之間未直接鍵結)。
上述式中,Q表示氧原子或-NR1-(R1表示氫原子或低級烷基)。
上述式中,X及Y係相互獨立地表示氫、氟、氯、氰基、碳原子為1~12個之烷基(有時由氟取代,有時1個以上之不鄰接之烷基-CH2-基由-O-、-CO-O-、-O-CO-及/或-CH=CH-取代)。
再者,作為如上所述之光二聚型材料,具體而言,可使用WO08/031243號公報或WO08/130555號公報中由Rolic公司作為ROP-103(商品名)而市售者。
又,作為本發明中使用之光配向材料,亦可為具有折射率異向性者。其原因在於,於使用如上所述之光配向材料之情形時,可將利用本發明之製造方法而製造之圖案配向膜用作 圖案相位差薄膜。
再者,作為如上所述之具有折射率異向性之光配向材料,具體而言,可使用日本專利特開2002-82224號公報中記載者。
再者,本發明中使用之光配向材料既可僅為1種,或亦可使用2種以上。
(3)配向層
本發明中使用之配向層至少含有光配向材料,亦可視需要含有其他化合物。
作為如上所述之其他化合物,只要為不損害本發明中之配向層之配向規制力者,則並無特別限定。於本發明中,作為如上所述之其他化合物,較佳地使用具有一個以上之官能基之單體或低聚物。其原因在於,藉由包含如上所述之單體或低聚物,可使配向層成為與形成於配向層上且含有具有折射率異向性之棒狀化合物之相位差層之密接性優異者。
作為本發明中使用之上述單體或低聚物,例如可將具有丙烯酸酯系之官能基之單官能單體(例如,反應性(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯基吡咯啶酮)及多官能單體(例如,聚羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三乙(聚丙)二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙 烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸聚(甲基)丙烯酸酯(例如,異三聚氰酸EO(Ethylene Oxide,環氧乙烷)二丙烯酸酯等))、或雙酚茀衍生物(例如,雙苯氧基乙醇茀二(甲基)丙烯酸酯、雙酚茀二環氧(甲基)丙烯酸酯)等作為單體或混合者而使用。
進而,上述單體或低聚物較佳為使用在常溫(20~25℃)下為固體者。藉此,即便於透明薄膜基材上積層有配向層形成用層之長型配向膜形成用薄膜於捲成輥狀之狀態下保管之情形時,亦可防止發生因於透明基材之背面貼附配向層形成用層而引起之黏連。
作為本發明中之單體或低聚物之含量,只要為不損害配向層之配向規制力,且可發揮所期望之密接性等者,則並無特別限定,較佳為相對於上述光配向材料之質量為0.01倍~3倍之範圍內,特佳為0.05倍~1.5倍之範圍內。
本發明中之配向層之厚度只要為可對下述之具有折射率異向性之棒狀化合物表現所期望之配向規制力之範圍內,則並無特別限定,通常,較佳為0.01 μm~1.0 μm之範圍內,其中,較佳為0.03 μm~0.5 μm之範圍內,特佳為0.05 μm~0.20 μm之範圍內。
2.長型圖案配向膜
本發明之長型圖案配向膜至少包含配向層,且通常包含形成於上述配向層上之透明薄膜基材。其原因在於,可藉由準 備長條狀之透明薄膜基材,於該長條狀之透明薄膜基材上塗佈含有上述光配向材料之配向層形成用塗敷液,而容易地形成長條狀之配向層。
又,於本發明中,亦可視需要具有其他構成。作為如上所述之其他構成之例,例如可列舉如圖4中例示般,上述透明薄膜基材1之形成有上述配向層2之面之相反面上所形成的防眩層或抗反射層5等。其原因在於,當製造顯示裝置時,可形成能獲得顯示品質良好之顯示裝置之圖案相位差薄膜。
再者,關於圖4中之符號,由於為表示與圖1相同之構件者,故省略此處之說明。
(1)透明薄膜基材
本發明中使用之透明薄膜基材係具有支持配向層等之功能,且形成為長條狀者。
本發明中使用之透明薄膜基材較佳為相位差性較低者。更具體而言,本發明中使用之透明薄膜基材較佳為面內延遲值(Re值)為0 nm~10 nm之範圍內,更佳為0 nm~5 nm之範圍內,進而較佳為0 nm~3 nm之範圍內。其原因在於,若透明薄膜基材之面內延遲值大於上述範圍,則有使用本發明之長型圖案配向膜而形成之可顯示三維影像之顯示裝置之顯示品質變差之情形。
本發明中使用之透明薄膜基材較佳為可見光區域中之穿透率為80%以上,更佳為90%以上。此處,透明薄膜基材 之穿透率可利用JIS K7361-1(塑膠-透明材料之總透光率之試驗方法)而測定。
本發明中使用之透明薄膜基材較佳為具有可捲繞成輥狀之可撓性之柔性材。
作為如上所述之柔性材,可例示纖維素衍生物、降烯系聚合物、環烯烴系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯醇、聚醯亞胺、聚芳酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚碸、聚醚碸、非晶聚烯烴、改質丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯、環氧樹脂、聚碳酸酯、聚酯類等。其中,於本發明中,較佳為使用纖維素衍生物。其原因在於,纖維素衍生物尤其於光學等向性方面優異,因此於使用本發明之長型圖案配向膜而形成圖案相位差薄膜之情形時,可成為光學特性優異者。
於本發明中,於上述纖維素衍生物中,較佳為使用纖維素酯,進而,於纖維素酯類中,較佳為使用醯化纖維素類。其原因在於,醯化纖維素類於工業上被廣泛使用,故於獲得容易性之方面有利。
作為上述醯化纖維素類,較佳為碳數2~4之低級脂肪酸酯。作為低級脂肪酸酯,既可為例如乙酸纖維素般僅包含單一之低級脂肪酸酯者,又,亦可為例如乙酸丁酸纖維素或乙酸丙酸纖維素等包含數個脂肪酸酯者。
於本發明中,於上述低級脂肪酸酯中,可特佳地使用乙酸纖維素。作為乙酸纖維素,最佳為使用平均醋化度為57.5% ~62.5%(取代度:2.6~3.0)之三乙酸纖維素。此處,醋化度係指每纖維素單位質量之鍵結乙酸量。醋化度可利用ASTM:D-817-91(乙酸纖維素等之試驗方法)中之乙醯度之測定及計算而求得。再者,構成三乙酸纖維素薄膜之三乙酸纖維素之醋化度可將薄膜中所含有之可塑劑等雜質去除之後,利用上述方法而求得。
本發明中使用之透明薄膜基材之厚度只要為根據本發明之長型圖案配向膜之用途等,可賦予該長型圖案配向膜所需之自我支持性之範圍內,則並無特別限定,通常,較佳為25 μm~125 μm之範圍內,其中,較佳為40 μm~100 μm之範圍內,特佳為60 μm~80 μm之範圍內。其原因在於,若透明薄膜基材之厚度較上述範圍薄,則有無法賦予本發明之長型圖案配向膜所需之自我支持性之情形。又,若厚度較上述範圍厚,則例如有當對本發明之長型圖案配向膜進行裁斷加工,形成單片之圖案相位差薄膜時,導致加工屑增加,或裁斷刀之磨耗變快之情形。
本發明中使用之透明薄膜基材之構成並不限定於包含單一之層之構成,亦可具有積層有數層之構成。於具有積層有數層之構成之情形時,既可積層有同一組成之層,又,亦可積層有具有不同組成之數層。
本發明中使用之透明薄膜基材係形成為長條者,對於長度等,可設為與上述配向層相同。
(2)防眩層及抗反射層
於本發明中,藉由形成有如上所述之抗反射層,有當使用本發明之長型圖案配向膜製造液晶顯示裝置時,可獲得顯示品質良好之液晶顯示裝置的優點。再者,上述抗反射層及防眩層既可僅使用其中一者,又,亦可使用兩者。
上述防眩層係具有如下功能之層:使因來自太陽或螢光燈等之外部光入射至顯示裝置之顯示畫面進行反射而產生之畫面之映入減少。另一方面,上述抗反射層係具有如下功能者:藉由抑制表面之鏡面反射率而影像之對比度變高,其結果,使影像之視認性提高。作為本發明中使用之防眩層、抗反射層,只要為具有所期望之防眩功能或抗反射功能者,則並無特別限定,作為以提高顯示影像質量為目的而用於顯示裝置中者,通常可使用公知者。作為上述防眩層,例如可列舉分散有微粒子之樹脂層,作為上述抗反射層,例如可列舉具有積層有折射率不同之數層之構成者。再者,若於防眩層之最表面設置抗反射層,則可進一步提高明室中之影像之視認性。
3.長型圖案配向膜之製造方法
作為本發明之長型圖案配向膜之製造方法,只要為可穩定地製造至少包含上述配向層之長型圖案配向膜之方法,則並無特別限定,可使用一般之配向層之製造方法。
於本發明中,其中較佳為如下之包括準備步驟及曝光處理 之方法,上述準備步驟係於長條狀之透明薄膜基材上塗佈含有光配向材料之配向層形成用塗敷液,而形成包含未配向之配向層形成用層之長型配向膜形成用薄膜,上述曝光處理包含:第1曝光處理,其係一面連續地搬送上述長型配向膜形成用薄膜,一面對上述配向層形成用層照射偏光紫外線;及第2曝光處理,其係照射偏光方向與第1曝光處理中照射之偏光紫外線不同之偏光紫外線;且上述第1曝光處理及第2曝光處理之至少任一方對上述配向層形成用層圖案照射偏光紫外線。其原因在於,可容易且連續地形成長型圖案配向膜。
參照圖對如上所述之本發明之長型圖案配向膜之製造方法進行說明。圖5係表示上述長型圖案配向膜之製造方法之一例之步驟圖。如圖5中例示般,首先,於透明薄膜基材1上塗佈配向層形成用塗敷液(圖5(a)),而形成包含透明薄膜基材1及形成於上述透明薄膜基材1上且含有光配向材料之配向層形成用層2'的長型配向膜形成用薄膜3,一面連續地搬送該長型配向膜形成用薄膜3,一面經由遮罩對上述配向層形成用層2'圖案照射偏光紫外線(圖5(b)),而形成第1配向區域2a,繼而,全面照射與形成第1配向區域2a時之偏光紫外線不同之偏光紫外線(圖5(c)),藉此形成使棒狀化合物排列之方向與第1配向區域2a不同之第2配向區域2b,而獲得長型圖案配向膜10(圖5(d))。
再者,於該例中,圖5(a)為準備步驟。又,圖5(b)~(c)為曝光步驟,圖5(b)為第1曝光處理,圖5(c)為第2曝光處理。
又,參照圖對如上所述之長型圖案配向膜之形成中使用之長型圖案配向膜之製造裝置進行說明。圖6及圖7係表示長型圖案配向膜製造裝置之一例之概略圖。如圖6及圖7中例示般,長型圖案配向膜製造裝置30包含:搬送手段,其包含連續地搬送透明薄膜基材1之捲出.捲繞裝置31a及搬送用輥31b;及曝光手段,其包含對連續地搬送之上述長型配向膜形成用薄膜3之配向層形成用層照射偏光紫外線之第1曝光部32a及第2曝光部32b。又,包含:於透明薄膜基材1上塗佈配向層形成用塗敷液而形成配向層形成用層之配向層形成用塗敷液塗佈裝置33a及使塗膜乾燥之乾燥裝置33b。
此處,於圖6中,第1曝光部32a包含以與配向層形成用層上正交之方式照射紫外線之光源34、偏光片35及具有圖案狀之開口部之遮罩36,對搬送用輥上之長型配向膜形成用薄膜3進行圖案照射。另一方面,第2曝光部32b包含偏光軸之方向與第1曝光部不同之偏光片35。
又,於圖7中,第1曝光部32a及第2曝光部32b兩者均包含上述遮罩36,對搬送用輥31b上之配向層形成用層上圖案照射偏光紫外線。
(1)準備步驟
本發明中之準備步驟係形成包含透明薄膜基材及形成於上述透明薄膜基材上且含有光配向材料之配向層形成用層的長型配向膜形成用薄膜。
作為本步驟中之含有光配向材料之配向層形成用層之形成方法,只要為能夠以所期望之厚度形成含有光配向材料之配向層形成用層之方法,則並無特別限定,可列舉於透明薄膜基材上塗敷含有上述光配向材料之配向層形成用塗敷液之方法。
作為如上所述之配向層形成用塗敷液中所含有之光配向材料之含量,只要為根據塗佈方式等,可使上述配向層形成用塗敷液成為所期望之黏度之範圍內,則並無特別限定。其中,於本步驟中,配向層形成用塗敷液中之上述光配向材料之含量為0.5質量%~50質量%,較佳為1質量%~30質量%,更佳為2質量%~20質量%之範圍內。其原因在於,若光配向材料之含量多於上述範圍,則有根據塗佈方式,而難以形成平面性優異之配向層形成用層之情形,又,若薄於上述範圍,則溶劑之乾燥負荷增加,因此有無法使塗佈速度成為所期望之範圍之可能性。
作為本步驟中之配向層形成用塗敷液中使用之溶劑,只要為可使光配向材料等溶解為所期望之濃度者,則並無特別限定,例如可例示苯、己烷等烴系溶劑,甲基乙基酮、甲基異 丁基酮、環己酮等酮系溶劑,四氫呋喃、1,2-二甲氧基乙烷、丙二醇單乙醚(PGME,Propylene Glycol Monomethyl Ether)等醚系溶劑,氯仿、二氯甲烷等鹵代烷系溶劑,乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇單甲醚乙酸酯等酯系溶劑,N,N-二甲基甲醯胺等醯胺系溶劑,及二甲亞碸等亞碸系溶劑,環己烷等環己酮系溶劑,甲醇、乙醇、及丙醇等醇系溶劑,但並不限定於該等。又,本步驟中使用之溶劑既可為1種,亦可為2種以上之溶劑之混合溶劑。
作為本步驟中之配向層形成用塗敷液之塗敷方法,只要為可達成所期望之平面性之方法,則並無特別限定。作為具體之塗佈方式,可例示凹版塗佈法、反向塗佈法、刮塗法、浸塗法、噴塗法、氣刀塗佈法,旋轉塗佈法、輥塗法、印刷法、浸漬提拉法、簾式塗佈法、模塗法、澆鑄法、棒式塗佈法、擠壓塗佈法、E型塗佈方法等。
對於上述配向層形成用塗敷液之塗膜之厚度,只要為可達成所期望之平面性之範圍內,亦並無特別限定,通常,較佳為0.1 μm~50 μm之範圍內,特佳為0.5 μm~30 μm之範圍內,其中,較佳為0.5 μm~10 μm之範圍內。
上述配向層形成用塗敷液之塗膜之乾燥方法可使用加熱乾燥方法、減壓乾燥方法、間隙乾燥方法等通常使用之乾燥方法。又,本步驟中之乾燥方法並不限定於單一之方法,根據例如基於殘留之溶劑量而依次改變乾燥方式等態樣,亦可 採用數個乾燥方式。
進而,作為上述配向層形成用塗敷液之塗膜之乾燥方法,可使用將調整為固定溫度之乾燥風吹至上述塗膜之方法,於使用如上所述之乾燥方法之情形時,吹至上述塗膜之乾燥風之風速較佳為3 m/秒以下,特佳為0.5 m/秒以下。
利用本步驟而形成之長型配向膜形成用薄膜至少包含上述透明薄膜基材及配向層形成用層,但為實現透明薄膜基材及配向層形成用層之間之密接性之提高、及防止可塑劑等成分自透明薄膜基材轉移至配向層形成用層或配向層形成用層中所含有之光配向材料向透明薄膜基材轉移的阻隔性之提高,亦可視需要包含中間層(例如,使季戊四醇三丙烯酸酯(PETA,Pentaerythritol Triacrylate)等交聯性單體硬化所得之厚度1 μm左右之層)。
(2)曝光步驟
本發明中之曝光步驟包含:第1曝光處理,其係一面連續地搬送長型配向膜形成用薄膜,一面對上述配向層形成用層照射偏光紫外線;及第2曝光處理,其係照射偏光方向與第1曝光處理中照射之偏光紫外線不同之偏光紫外線;且上述第1曝光處理及第2曝光處理之至少任一方對上述配向層形成用層圖案照射偏光紫外線。
作為本步驟中之長型配向膜形成用薄膜之搬送方法,只要為可連續地搬送長型配向膜形成用薄膜之方法,則並無特別 限定,可利用使用一般之搬送手段之方法。具體而言,可列舉使用供給輥狀之長型配向膜形成用薄膜之捲出機及捲繞長型配向膜形成用薄膜或長型圖案配向膜之捲繞機等的方法,使用帶式輸送機、搬送用輥等之方法。又,亦可為使用在藉由進行空氣之噴出與抽吸而使長型配向膜形成用薄膜懸浮之狀態下進行搬送之懸浮式搬送台的方法。
又,關於搬送時之對於長型配向膜形成用薄膜之張力賦予之有無,只要為可穩定地連續搬送長型配向膜形成用薄膜之方法,則並無特別限定,較佳為於施加既定之張力之狀態下搬送。其原因在於可更穩定地連續搬送。
作為本步驟中使用之搬送手段之顏色,於配置於對長型配向膜形成用薄膜照射偏光紫外線之部位之情形時,較佳為不反射已穿透長型配向膜形成用薄膜之偏光紫外線之顏色。具體而言,較佳為黑色。作為設為如上所述之黑色之方法,例如可列舉對表面進行鉻處理之方法。
作為本步驟中之搬送用輥之形狀,只要為可穩定地搬送長型配向膜形成用薄膜者,則並無特別限定,於配置於對長型配向膜形成用薄膜照射偏光紫外線之部位之情形時,較佳為可使長型配向膜形成用薄膜之配向層形成用層表面與曝光手段之距離保持固定者,通常,較佳為正圓形狀。
作為本步驟中之第1曝光處理及第2曝光處理中照射之偏光紫外線之偏光方向,可設為成為使上述第1配向區域及第 2配向區域之棒狀化合物排列之方向般之偏光方向。
具體而言,於光配向材料表現出於沿著偏光紫外線之偏光方向之方向上使棒狀化合物排列之配向規制力之情形時,可將第1曝光處理及第2曝光處理中照射之偏光方向分別設為與使棒狀化合物排列之方向相同。
作為本步驟中照射之偏光紫外線,既可聚光,亦可不聚光,但於如對如下所述之搬送用輥上之長型配向膜形成用薄膜進行上述圖案照射之情形時,即,於照射偏光紫外線之區域內產生與偏光紫外線之光源之距離之差之情形時,較佳為相對於搬送方向聚光。其原因在於,可減少由與光源之距離所產生之影響,而圖案精度良好地形成配向區域。
再者,作為如上所述之聚光方法,可列舉通常使用之方法,例如使用具有所期望之形狀之聚光反射器或聚光透鏡之方法。於本發明中,較佳為偏光紫外線為相對於與搬送方向正交之方向(寬度方向)成為平行光者,作為平行化方法,可列舉通常使用之方法,例如使用具有所期望之形狀之聚光反射器或聚光透鏡之方法。
作為本步驟中照射之偏光紫外線之波長,係根據光配向材料等而適當設定者,可設為使一般之光配向材料表現配向規制力時使用之波長,具體而言,較佳為使用波長為210 nm~380 nm、較佳為230 nm~380 nm、進而較佳為250 nm~380 nm之照射光。
作為如上所述之紫外線之光源,可例示低壓水銀燈(殺菌燈、螢光化學燈、黑光燈)、高壓放電燈(高壓水銀燈、金屬鹵素燈)、短弧放電燈(超高壓水銀燈、氙氣燈、水銀氙氣燈)等。其中,可較佳地使用金屬鹵素燈、氙氣燈、高壓水銀燈等。
作為本步驟中照射之偏光紫外線之生成方法,只要為可穩定地照射偏光紫外線之方法,則並無特別特限定,可使用經由僅能夠使固定方向之偏光通過之偏光片進行紫外線照射之方法。
作為如上所述之偏光片,可使用偏光之生成中通常使用者,例如可列舉具有狹縫狀之開口部之線柵型偏光片、或使用積層數塊石英板而利用布魯斯特角進行偏光分離之方法或利用折射率不同之蒸鍍多層膜之布魯斯特角而進行偏光分離之方法者等。
作為本步驟中照射之偏光紫外線之照射量,只要為可形成具有所期望之配向規制力之配向區域者,則並無特別限定,例如,於波長為310 nm之情形時,較佳為5 mJ/cm2~500 mJ/cm2之範圍內,其中,較佳為7 mJ/cm2~300 mJ/cm2之範圍內,且較佳為10 mJ/cm2~100 mJ/cm2之範圍內。其原因在於可形成具有充分之配向規制力之配向區域。
作為本步驟中之偏光紫外線之照射距離,即,受到偏光紫外線之照射之長型配向膜形成用薄膜之搬送方向之距離,只 要為可於各曝光處理中成為上述照射量者,則並無特別限定,可根據線速度等而適當設定。
於本步驟中,於照射距離較短之情形時,有易於成為圖案精度較高者之優點,於照射距離較長之情形時,有可成為即便於線速度較快之情形時亦具有充分之配向規制力之配向區域之優點。
再者,作為使照射距離變長之方法,可列舉將各曝光處理中之偏光紫外線之照射次數設為數次,或於搬送方向上使照射面積變大之方法。
作為本步驟中之第1及第2曝光處理中之偏光紫外線之照射方法,只要至少任一方為對上述配向層形成用層圖案照射偏光紫外線者,且可形成使棒狀化合物排列之方向不同之第1及第2配向區域,則並無特別限定,具體而言,可設為:第1曝光處理為全面照射、第2曝光處理為圖案照射(第1實施態樣);第1曝光處理為圖案照射、第2曝光處理為全面照射(第2實施態樣);第1曝光處理為圖案照射、第2曝光處理為圖案照射(第3實施態樣)。此處,於第1實施態樣之情形時,作為配向層形成用層,可藉由使用含有光異構化材料等能夠可逆地改變配向規制力之材料者,而形成第1配向區域及第2配向區域。具體而言,如圖8中例示般,作為第1曝光處理進行全面照射(圖8(a)),繼而,作為第2曝光處理,圖案照射偏光方向與第1曝光處理不同之偏光紫外 線(圖8(b)),藉此可形成第1配向區域及第2配向區域(圖8(c))。
又,於第2實施態樣之情形時,作為配向層形成用層,可藉由使用含有光二聚型材料等無法如光反應性材料等般可逆地改變配向規制力之材料者,而形成第1配向區域及第2配向區域。具體而言,如已說明之圖5所示,作為第1曝光處理進行圖案照射(圖5(b)),繼而,作為第2曝光處理,全面照射偏光方向與第1曝光處理不同之偏光紫外線(圖5(c)),藉此可形成第1配向區域及第2配向區域(圖5(d))。
進而,於第3實施態樣之情形時,作為配向層形成用層,可藉由使用可逆地改變配向規制力或無法可逆地改變配向規制力之材料,而形成第1配向區域及第2配向區域。具體而言,如圖9中例示般,作為第1曝光處理進行圖案照射(圖9(a)),繼而,作為第2曝光處理,對與第1曝光處理中照射之區域不同之區域圖案照射偏光方向與第1曝光處理不同之偏光紫外線(圖9(b)),藉此可形成第1配向區域及第2配向區域(圖9(c))。
再者,關於圖8~圖9中之符號,由於為表示與圖1相同之構件者,故省略此處之說明。
於本步驟中,其中較佳為第1曝光處理及第2曝光處理之一方為圖案照射,另一方為全面照射,特佳為第2實施態樣即第1曝光處理為圖案照射且第2曝光處理為全面照射。其 原因在於,藉由另一方為全面照射,可使進行曝光步驟之設備變得簡單,可容易且低成本地形成能使棒狀化合物於互不相同之方向上排列之第1配向區域及第2配向區域。
進而,由於無需在第1曝光處理及第2曝光處理中進行圖案對準,故可容易地形成圖案精度良好之第1及第2配向區域。
又,藉由為第2實施態樣之方法,可使用如上所述於配向規制力之經時穩定性方面優異之光反應材料作為構成配向層形成用層之材料。
作為進行本步驟中之圖案照射之方法,只要為可圖案精度良好地照射偏光紫外線者,則並無特別限定,較佳為於搬送上述長型配向膜形成用薄膜之搬送手段上進行上述圖案照射,即,以對搬送手段上之長型配向膜形成用薄膜進行圖案照射之方式配置進行圖案照射之曝光部及搬送手段,其中,較佳為搬送受到上述圖案照射之部位之上述長型配向膜形成用薄膜之搬送手段為搬送用輥,即,對搬送用輥上之長型配向膜形成用薄膜進行上述圖案照射。其原因在於,可使光源與長型配向膜形成用薄膜之距離穩定地保持固定,而可精度良好地形成能使棒狀化合物於互不相同之方向上排列之第1配向區域及第2配向區域。又,藉由使用搬送用輥,可容易地使光源與長型配向膜形成用薄膜之距離穩定地保持固定。
又,作為於以照射距離變長之方式進行本步驟中之圖案照射之情形時,具體而言,將各曝光處理中之偏光紫外線之照射次數設為數次,或於搬送方向上使照射面積變大而進行圖案照射之情形時進行圖案照射之方法,只要為可圖案精度良好地形成各曝光處理中形成之圖案狀之配向區域之方法,則並無特別限定,較佳為各曝光處理中進行之圖案照射係於同一搬送手段上進行之方法,即,以對同一搬送手段上之長型配向膜形成用薄膜進行之方式配置進行各曝光處理之圖案照射的曝光手段及搬送手段。其原因在於,藉由於同一搬送手段上進行,可防止所搬送之長型配向膜形成用薄膜於搬送中於寬度方向上發生振動等,而可圖案精度良好地照射偏光紫外線。
具體而言,於圖案照射之照射次數為數次之情形時,較佳為各曝光處理中進行之數次圖案照射係於同一搬送手段上進行之方法,即,上述圖案照射為數次圖案照射,且以各曝光處理中進行之數次圖案照射在同一搬送手段上進行之方式配置曝光手段及搬送手段。其原因在於,藉由各曝光處理中進行之數次圖案照射在同一搬送手段上進行,使數次圖案照射中包含之各個圖案照射間之對於上述長型配向膜形成用薄膜之圖案之位置對準為容易,而可圖案精度良好地形成第1配向區域及第2配向區域。又,即便於1次圖案照射中照射量不足之情形時,藉由對同一部位照射數次,亦可成為 充分之照射量,而可高速地搬送上述長型配向膜形成用薄膜。
圖10係表示於第1曝光處理中自數台第1曝光部32a進行數次圖案照射之情形時,數次圖案照射在同一搬送手段上進行之例的說明圖。
又,作為於上述第1曝光處理及第2曝光處理該兩處理均為圖案照射(第3實施態樣)之情形時進行圖案照射之方法,亦可為兩處理之圖案處理於不同之搬送手段上進行,較佳為兩處理之圖案照射在同一搬送手段上進行,即,以進行第1曝光處理及第2曝光處理之第1曝光部及第2曝光部對同一搬送手段上之長型配向膜形成用薄膜進行圖案照射之方式配置曝光手段及搬送手段。其原因在於,藉由圖案照射在同一搬送手段上進行,使上述第1及第2曝光處理間之對於上述長型配向膜形成用薄膜之圖案之位置對準為容易,而可圖案精度良好地形成第1配向區域及第2配向區域。
圖11係表示第1曝光處理及第2曝光處理為分別自第1曝光部32a及第2曝光部32b呈圖案狀照射偏光紫外線之圖案照射,且兩處理之圖案照射在同一搬送手段上進行之例的說明圖。
於本步驟中,於如第3實施態樣般第1曝光處理及第2曝光處理兩者均為圖案照射之情形時,第1曝光處理及第2曝光處理之圖案照射之圖案亦可為於第1及第2配向區域之 間具有不照射偏光紫外線之區域(非照射區域)者。
圖12係表示形成非照射區域之情形時之一例之步驟圖。如圖12中例示般,藉由於第1曝光處理及第2曝光處理該兩處理中使用包含遮斷偏光紫外線之照射般之遮光部之遮罩(圖12(a)~(b)),如圖12(c)所示,俯視時,可於第1配向區域與第2配向區域之間形成非照射區域2c(非配向性區域2c)。
再者,於非照射區域2c中,由於光配向材料未受到偏光紫外線照射之照射,故成為配向規制力為未表現狀態之非配向性區域。形成於上述非配向性區域上之具有折射率異向性之棒狀化合物可設為未配向狀態(各棒狀化合物分子之配向方向係針對每個分子而無規則地分佈)之緩衝區域。即,如圖12(d)中例示般,於俯視時包含將第1配向區域2a、非配向性區域2c及第2配向區域2b依序重複1次以上之圖案般之包含非配向性區域之配向層2上形成有相位差層的情形時,相位差層4係於俯視時,包含將位於第1配向區域2a正上部之第1相位差區域4a、位於非照射區域2c(於把握為製法產物之情形時,有稱作非配性向區域2c之情形)正上部之緩衝區域4c及位於第2配向區域2b正上部之第2相位差區域4b依序重複1次以上之圖案。相位差層之俯視構成成為於第1相位差區域4a與第2相位差區域4b之間夾著窄幅帶狀之緩衝區域4c之配置。再者,上述非配向性區域(非照 射區域)2c或緩衝區域4c之寬度可設為0.1 μm~10 μm左右。於所獲得之長型圖案相位差薄膜20中,相位差層4之俯視圖案為第1相位差區域4a、緩衝區域4c及第2相位差區域4b依序重複1次以上之圖案之情形時,由於第1相位差區域4a與第2相位差區域4b之交界線附近成為不清楚之穿透光之像,故減輕因像素之重複週期與第1相位差區域4a及第2相位差區域4b之重複週期之緩衝而產生之迭紋(條紋圖形),發揮不產生該迭紋或即便產生該迭紋但程度變得更輕之效果。
再者,關於圖12中之符號,由於為表示與圖1相同之構件者,故省略此處之說明。
作為本步驟中之圖案之形成方法,只要為可呈所期望之圖案狀照射偏光紫外線之方法,則並無特別限定,通常使用於長型配向膜形成用薄膜與光源之間配置具有可使偏光紫外線僅以所期望之圖案穿透之開口部之遮罩的方法。
作為構成本步驟中之遮罩之材料,只要為可形成所期望之開口部者,則並無特別限定,可列舉由紫外線所引起之劣化幾乎不存在之金屬或石英等。於本步驟中,其中較佳為對合成石英呈圖案狀蒸鍍Cr所得者。其原因在於,相對於溫度.濕度變化等之尺寸穩定性優異,可於配向層形成用層,圖案精度良好地形成配向區域。
作為進行本步驟中之全面照射之方法,只要為可於既定之 範圍中穩定地照射偏光紫外線者,則並無特別限定,較佳為對搬送手段間之上述長型配向膜形成用薄膜進行上述全面照射,其中較佳為對位於搬送用輥間之長型配向膜形成用薄膜進行上述全面照射。其原因在於可實現低成本化。又,可使進行曝光步驟之時序之自由度較高。
於本步驟中,當對配向層形成用層照射偏光紫外線時,較佳為以配向層形成用層之溫度成為固定之方式進行溫度調節。其原因在於可精度良好地形成配向區域。
於本步驟中,其中較佳為以配向層形成用層設為15℃~90℃之範圍內之方式進行溫度調節,其中較佳為設為15℃~60℃之範圍內。
又,作為溫度調節之方法,可列舉使用通常之加熱.冷卻裝置等溫度調節裝置之方法。具體而言,可列舉使用可鼓風既定之溫度之空氣之鼓風裝置之方法或使用可進行溫度調節者作為上述搬送手段之方法,更具體而言,可列舉使用可進行溫度調節之搬送用輥或帶式輸送機等之方法。
6.用途
作為本發明之長型圖案配向膜之用途,例如可列舉三維顯示裝置中使用之圖案相位差薄膜等。其中,可較佳地用於要求容易且大量地生產之圖案相位差薄膜之形成。
B.長型圖案相位差薄膜
繼而,對本發明之長型圖案相位差薄膜進行說明。
本發明之長型圖案相位差薄膜之特徵在於包含:上述長型圖案配向膜;及相位差層,其形成於上述長型圖案配向膜之上述配向層上,且含有具有折射率異向性之棒狀化合物。
參照圖對如上所述之本發明之長型圖案相位差薄膜進行說明。圖13係圖15之B-B線剖面圖,圖14係圖15之B-B線立體圖,圖15係表示本發明之長型圖案相位差薄膜之一例之概略平面圖。如圖13~圖15中例示般,本發明之長型圖案相位差薄膜20包含:上述長型圖案配向膜10;及相位差層4,其形成於上述長型圖案配向膜10中所包含之配向層2上,且含有具有折射率異向性之棒狀化合物。又,相位差層4係與上述第1配向區域2a及第2配向區域2b為同一圖案,且包含棒狀化合物沿著該等配向區域所具有之配向規制力排列之第1相位差區域4a及第2位相差區域4b。
再者,於圖15中,為容易說明,省略相位差層之記載。又,於該例中,第1配向區域具有使棒狀化合物沿與長度方向正交之方向排列之配向規制力,第2配向區域具有使棒狀化合物沿與長度方向平行之方向排列之配向規制力。
根據本發明,藉由包含上述長型圖案配向膜,可成為包含棒狀化合物之排列方向不同之第1相位差區域及第2相位差區域者。
因此,可容易且大量地形成可應用於三維顯示裝置之圖案相位差薄膜。
又,藉由為長條狀,可使圖案相位差薄膜之製造製程之自由度較高。
本發明之長型圖案相位差薄膜至少包含上述長型圖案配向膜及相位差層。
以下,詳細地對本發明之長型圖案相位差薄膜之各構成進行說明。
再者,關於上述長型圖案配向膜,由於與上述「A.長型圖案配向膜」之項中記載之內容相同,故省略此處之說明。
1.相位差層
本發明中之相位差層係形成於上述配向層上,且藉由含有具有折射率異向性之棒狀化合物而對本發明之長型圖案相位差薄膜賦予相位差性。又,於本發明中,藉由形成有上述圖案配向膜即具有如上所述之特徵之配向層,而使本發明中之相位差層中第1相位差區域與第2相位差區域形成為與形成有上述第1配向區域及上述第2配向區域之圖案相同之圖案狀,且使棒狀化合物於沿著各個配向區域所具有之配向規制力之方向上排列。
本發明中使用之相位差層係藉由含有下述之棒狀化合物,而成為表現相位差性者,該相位差性之程度係依存於棒狀化合物之種類及相位差層之厚度而決定。因此,本發明中使用之相位差層之厚度只要為可達成既定之相位差性之範圍內則並無特別限定,可根據本發明之長型圖案相位差薄膜 之用途等而適當決定。又,於本發明中之相位差層中,第1相位差區域及第2相位差區域之厚度大致相同。其中,本發明中之相位差層之厚度較佳為相位差層之面內延遲相當於λ/4份般之範圍內。藉此,可於本發明之長型圖案相位差薄膜中,將通過上述第1相位差區域及上述第2相位差區域之直線偏光分別設為相互處於正交關係之圓偏光,故而可使本發明之長型圖案相位差薄膜成為更佳地用於3D顯示裝置者。
於本發明中,於將相位差層之厚度設為相位差層之面內延遲相當於λ/4份般之範圍內之距離之情形時,具體設為何種程度之距離係根據下述之棒狀化合物之種類而適當決定。然而,就該距離而言,若為本發明中通常使用之棒狀化合物,則通常成為0.5 μm~2 μm之範圍內,但並不限定於此。
繼而,對相位差層中所含有之棒狀化合物進行說明。本發明中使用之棒狀化合物係具有折射率異向性者。作為本發明中之相位差層中所含有之棒狀化合物,只要為藉由規則地排列而可對本發明中之相位差層賦予所期望之相位差性者則並無特別限定。其中,本發明中使用之棒狀化合物較佳為表示液晶性之液晶性材料。其原因在於,液晶性材料之折射率異向性較大,因此對本發明之長型圖案相位差薄膜賦予所期望之相位差性變得容易。
作為本發明中使用之上述液晶性材料,例如可列舉呈現向 列相、層列相等液晶相之材料。於本發明中,呈現該等中任一液晶相之材料均可較佳地使用,其中,較佳地使用呈現向列相之液晶性材料。其原因在於,呈現向列相之液晶性材料與呈現其他液晶相之液晶性材料相比,易於規則地排列。
又,於本發明中,作為呈現上述向列相之液晶性材料,較佳為使用在液晶原基兩端具有間隔基之材料。其原因在於,由於在液晶原基兩端具有間隔基之液晶性材料之靈活性優異,故藉由使用如上所述之液晶性材料,可使本發明之長型圖案相位差薄膜為透明性優異者。
進而,本發明中使用之棒狀化合物較佳地使用於分子內具有聚合性官能基者,其中,更佳地使用具有可進行三維交聯之聚合性官能基者。其原因在於,藉由上述棒狀化合物具有聚合性官能基,可聚合並固定上述棒狀化合物,故而可獲得排列穩定性優異且不易產生相位差性之經時變化之相位差層。再者,於使用具有聚合性官能基之棒狀化合物之情形時,於本發明中之相位差層中含有藉由聚合性官能基而交聯之棒狀化合物。
再者,上述「三維交聯」係指使液晶性分子相互三維地聚合,而成為網狀(網狀物)構造之狀態。
作為上述聚合性官能基,例如可列舉藉由紫外線、電子束等游離輻射線、或熱量之作用而聚合之聚合性官能基。作為該等聚合性官能基之代表例,可列舉自由基聚合性官能基或 陽離子聚合性官能基等。進而,作為自由基聚合性官能基之代表例,可列舉具有至少一個可進行加成聚合之乙烯性不飽和雙鍵之官能基,作為具體例,可列舉具有取代基或不具有取代基之乙烯基、丙烯酸酯基(為包含丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基之總稱)等。又,作為上述陽離子聚合性官能基之具體例,可列舉環氧基等。除此以外,作為聚合性官能基,例如可列舉異氰酸酯基、不飽和三鍵等。於該等中,就製程上之方面而言,較佳地使用具有乙烯性不飽和雙鍵之官能基。
進而,本發明中之棒狀化合物為表現液晶性之液晶性材料,特佳為於末端具有上述聚合性官能基者。其原因在於,藉由使用如上所述之液晶材料,例如可相互進行三維聚合而成為網狀(網狀物)構造之狀態,故而可形成具備排列穩定性且光學特性之表現性優異之上述相位差層。
再者,於本發明中,於使用在單末端具有聚合性官能基之液晶性材料之情形時,可與其他分子進行交聯而使排列穩定化。
作為本發明中使用之棒狀化合物之具體例,可例示下述式(1)~(17)所示之化合物。
再者,於本發明中,上述棒狀化合物既可僅使用1種,又,亦可混合使用2種以上。例如,當混合使用在兩末端具有一個以上之聚合性官能基之液晶性材料與在單末端具有一個以上之聚合性官能基之液晶性材料作為上述棒狀化合物時,就可藉由兩者之調配比之調整而任意地調整聚合密度(交聯密度)及光學特性之方面而言較佳。又,就可靠性確保之觀點而言,較佳為在兩末端具有一個以上之聚合性官能基之液晶性材料,就液晶配向之觀點而言,較佳為兩末端之聚合性官能基為一個。
2.長型圖案相位差薄膜
(1)其他構成
本發明之長型圖案相位差薄膜至少包含上述圖案配向膜及相位差層,亦可視需要包含其他構成。作為如上所述之其他構成之例,例如,可列舉如圖16中例示般形成於相位差層4上之黏著層6及隔片7。
再者,作為本發明中之黏著層及隔片,可使用一般之相位差薄膜中使用者。
(2)長型圖案相位差薄膜
本發明之相位差薄膜成為具有如下之構成者:以與形成有上述第1配向區域及第2配向區域之圖案相對應之方式,於相位差層呈圖案狀形成有第1相位差區域與第2相位差區域。此處,對於上述第1相位差區域及第2相位差區域所具 有之相位差性之程度,並無特別限定,可根據本發明之長型圖案相位差薄膜之用途等而適當決定。因此,對於第1相位差區域及第2相位差區域所表現之具體之面內延遲之數值範圍,亦無特別限定,根據長型圖案相位差薄膜之用途進行適當調整即可。其中,於將本發明之長型圖案相位差薄膜用以製造3D液晶顯示裝置之情形時,較佳為相位差層之面內延遲值相當於λ/4份之程度。更具體而言,上述相位差層之面內延遲值較佳為100 nm~160 nm之範圍內,更佳為110 nm~150 nm之範圍內,進而較佳為120 nm~140 nm之範圍內。再者,於本發明中之相位差層中,第1相位差區域及第2相位差區域所表現之面內延遲值係除遲相軸之方向不同以外,均大致相同。
此處,面內延遲值係表示折射率異向性體之面內方向上之雙折射性之程度之指標,於面內方向上將折射率最大之遲相軸方向之折射率設為Nx,將與遲相軸方向正交之快軸方向之折射率設為Ny,將與折射率異向性體之面內方向垂直之方向之厚度設為d之情形時,為由Re[nm]=(Nx-Ny)×d[nm]
所示之值。關於面內延遲值(Re值),例如可使用王子計測機器股份有限公司製造KOBRA-WR,利用平行偏光鏡旋轉法而測定,微小區域之面內延遲值亦可利用AXOMETRICS公司(美國)製造之AxoScan使用繆勒矩陣而測定。又,於本 案說明書中,只要不特別地另外進行記載,則Re值係指波長為589nm時之值。
又,對於本發明中之相位差層中形成有第1相位差區域及第2相位差區域之圖案,亦無特別限定,可根據本發明之長型圖案相位差薄膜之用途等而適當決定。再者,形成有第1相位差區域及第2相位差區域之圖案成為與配向層中形成有第1配向區域及第2配向區域之圖案一致者,故而藉由對形成第1配向區域及第2配向區域之圖案進行選擇,將同時決定形成有第1相位差區域及第2相位差區域之圖案。
再者,於本發明之長型圖案相位差薄膜中,於相位差層形成有包含第1相位差區域及第2相位差區域之圖案,可藉由例如於偏光板正交偏光鏡中加入樣品,使樣品旋轉之情形時確認明線與暗線之反轉而進行評估。此時,於包含第1相位差區域及第2相位差區域之圖案為微細之情形時,利用偏光顯微鏡進行觀察即可。又,亦可利用上述之AxoScan測定各圖案內之遲相軸之方向(角度)。
3.長型圖案相位差薄膜之製造方法
作為本發明之長型圖案相位差薄膜之製造方法,只要為可穩定地製造依序積層有上述透明薄膜基材、配向層及相位差層之長型圖案相位差薄膜之方法,則並無特別限定,可使用一般之相位差薄膜之製造方法。
具體而言,可列舉如下之方法:於上述圖案配向膜之上述 配向層上塗敷含有棒狀化合物之相位差層形成用塗敷液,使塗膜中所含有之棒狀化合物沿著上述配向層中所包含之配向區域所具有之配向規制力排列,視需要進行硬化處理而形成相位差層。
又,參照圖對如上所述之本發明之長型圖案相位差薄膜之形成中使用之長型圖案相位差薄膜製造裝置進行說明。圖17及圖18係表示長型圖案相位差薄膜製造裝置之一例之概略圖。如圖17及圖18中例示般,長型圖案相位差薄膜製造裝置40除包含上述長型圖案配向膜製造裝置以外,亦包含:塗佈手段41,其於由上述製造裝置形成之長型圖案配向膜10之配向層上塗佈含有具有折射率異向性之棒狀化合物之相位差層形成用塗敷液;配向手段42,其使上述相位差層形成用塗敷液之塗膜中所含有之棒狀化合物沿著上述配向層中所包含之第1配向區域及第2配向區域之不同之配向方向排列;及硬化手段43,其照射紫外線以使棒狀化合物硬化;而製造長型圖案相位差薄膜20。
本發明中之相位差層形成用塗敷液通常包含棒狀化合物與溶劑,亦可視需要包含其他化合物。作為上述相位差層形成用塗敷液中使用之溶劑,只要為可使上述棒狀化合物溶解為所期望之濃度且不侵蝕透明薄膜基材者,則並無特別限定,具體而言,可設為與上述「A.長型圖案配向膜」之項中記載者相同。
上述相位差層形成用塗敷液中之上述棒狀化合物之含量只要為根據將上述相位差層形成用塗敷液塗佈於透明薄膜基材上之塗敷方式等,可使上述相位差層形成用塗敷液之黏度為所期望之值之範圍內,則並無特別限定。其中,於本發明中,上述棒狀化合物之含量較佳為上述相位差層形成用塗敷液中之5質量%~40質量%之範圍內,其中較佳為10質量%~30質量%之範圍內。
又,作為其他化合物,只要不為於本發明中使用之相位差層中損害棒狀化合物之排列秩序者,則並無特別限定。作為本發明中使用之上述其他化合物,可列舉例如聚合起始劑、聚合抑制劑、可塑劑、界面活性劑及矽烷偶合劑等。
於本步驟中,於使用上述聚合性液晶材料作為上述棒狀化合物之情形時,較佳為使用聚合起始劑或聚合抑制劑作為上述其他化合物。
作為本發明中使用之聚合起始劑,可使用二苯基酮系化合物等一般而言公知者。又,於使用聚合起始劑之情形時,可併用聚合引發助劑。作為如上所述之聚合引發助劑,可例示三乙醇胺、甲基二乙醇胺等三級胺類,或苯甲酸2-二甲基氨基乙酯、4-二甲基醯胺苯甲酸乙酯等苯甲酸衍生物,但並不限定於該等。
作為將上述相位差層形成用塗敷液塗敷於上述透明薄膜基材上之塗佈方法及上述相位差層形成用塗敷液之塗膜之 乾燥方法,只要為可達成所期望之平面性之方法,則並無特別限定,可設為與上述「A.長型圖案配向膜」之項中記載者相同。
於本發明中,作為使形成於配向層上之上述相位差層形成用塗敷液之塗膜中所含有之棒狀化合物沿著上述配向層中所包含之配向區域所具有之配向規制力排列之方法,只要為可使其沿所期望之方向排列之方法,則並無特別限定,可使用一般之方法,於棒狀化合物為液晶性材料之情形時,使用將上述塗膜升溫至棒狀化合物之液晶相形成溫度以上之方法。
又,於使用聚合性材料作為上述棒狀化合物之情形時,聚合上述聚合性材料之方法並無特別限定,根據上述聚合性材料所具有之聚合性官能基之種類而適當決定即可。
4.用途
作為本發明之長型圖案相位差薄膜之用途,可列舉例如三維顯示裝置中使用之圖案相位差薄膜等。其中,可較佳地用於要求容易且大量地生產之圖案相位差薄膜之形成。
本發明並不限定於上述實施形態。上述實施形態係例示,具有與本發明之申請專利範圍中記載之技術思想實質上相同之構成且發揮相同之作用效果者均包含於本發明之技術範圍中。
[實施例]
以下,列舉實施例及比較例對本發明進行具體說明。
(實施例1)
使透明微粒子分散於透明樹脂中後塗佈於厚度80 μm之TAC(三乙酸纖維素)薄膜(富士薄膜股份有限公司製造Fujitac),而獲得霧度值為10~15之AG(Anti Glare,防眩)薄膜(大日本印刷股份有限公司製造),於該AG薄膜之AG面之相反側之面塗佈含有PETA與光聚合起始劑之塗敷液並使其UV(Ultraviolet,紫外線)硬化而成膜厚度1 μm之中間層(阻擋層),且作為寬度1 m長度2000 m之輥狀原料片材加以準備。利用圖6所示之裝置將含有光二聚反應型之光配向材料(商品名:ROP-103、Rolic公司製造)作為光配向材料之配向層形成用塗敷液塗佈於上述中間層側並使其乾燥,而成膜厚度0.1 μm之配向層形成用層。進而,經由沿與原料片材之搬送方向平行之方向利用鉻於合成石英上形成寬度500 μm之條紋圖案所得之遮罩,照射通過線柵之偏光紫外線(偏光軸相對於薄膜之搬送方向為45度之方向)。繼而,不通過遮罩而通過線柵照射偏光紫外線(偏光軸相對於薄膜之搬送方向為-45度之方向),而獲得包含配向層之長型圖案配向膜。
於上述經圖案化之長型圖案配向膜之配向層上塗佈溶解於溶劑中之液晶(Merck股份有限公司製造licrivue(商標註冊)RMS03-013C(商品名)),使其乾燥(液晶配向),並冷卻至 室溫左右後進行紫外線硬化,而形成相位差層之厚度為1 μm之長型圖案相位差薄膜。
利用偏光板正交偏光鏡觀察所獲得之長型圖案相位差薄膜,結果根據明暗圖形確認到配向層被圖案化。
(實施例2)
使用圖7所示之裝置,於第2次偏光紫外線照射中,經由將第1次偏光紫外線照射中使用者之開口部與遮光部交換之遮罩照射偏光紫外線,而形成包含配向層之長型圖案配向膜,除此以外,以與實施例1相同之方式形成長型圖案相位差薄膜。利用偏光板正交偏光鏡觀察所獲得之長型圖案相位差薄膜,結果獲得相同之結果。
(實施例3)
使用圖17所示之裝置,自原料片材連續地形成長型圖案相位差薄膜,除此以外,以與實施例1相同之方式形成長型圖案相位差薄膜。利用偏光板正交偏光鏡觀察所獲得之長型圖案相位差薄膜,結果獲得相同之結果。
(實施例4)
使用圖18所示之裝置,自原料片材連續地形成長型圖案相位差薄膜。除此以外,以與實施例3相同之方式形成長型圖案相位差薄膜。利用偏光板正交偏光鏡觀察所獲得之長型圖案相位差薄膜,結果獲得相同之結果。
1‧‧‧透明薄膜基材
2'‧‧‧配向層形成用層
2‧‧‧配向層
2a‧‧‧第1配向區域
2b‧‧‧第2配向區域
2c‧‧‧非配向性區域
3‧‧‧長型配向膜形成用薄膜
4‧‧‧相位差層
4a‧‧‧第1相位差區域
4b‧‧‧第2相位差區域
4c‧‧‧緩衝區域
5‧‧‧抗反射層或防眩層
6‧‧‧黏著層
7‧‧‧隔片
10‧‧‧長型圖案配向膜
12‧‧‧配向層形成用塗敷液
20‧‧‧長型圖案相位差薄膜
30‧‧‧長型圖案配向膜製造裝置
31‧‧‧搬送手段
31a‧‧‧捲出.捲繞裝置
31b‧‧‧搬送用輥
32a‧‧‧第1曝光部
32b‧‧‧第2曝光部
33a‧‧‧配向層形成用塗敷液塗佈裝置
33b‧‧‧乾燥裝置
34‧‧‧光源
35‧‧‧偏光片
36‧‧‧遮罩
40‧‧‧長型圖案相位差薄膜製造裝置
41‧‧‧塗佈手段
42‧‧‧配向手段
43‧‧‧硬化手段
101‧‧‧直線偏光板
102‧‧‧彩色濾光片
103‧‧‧圖案相位差薄膜
D1‧‧‧搬送方向
G1‧‧‧僅使左圓偏光穿透之透鏡
G2‧‧‧僅使右圓偏光穿透之透鏡
i1‧‧‧右眼用影像
i2‧‧‧左眼用影像
L1‧‧‧偏光紫外線
L2‧‧‧直線偏光
L3‧‧‧左圓偏光
L4‧‧‧右圓偏光
W1‧‧‧寬度
W2‧‧‧寬度
X1‧‧‧長度方向
圖1係圖2之A-A線剖面圖。
圖2係表示本發明之長型圖案配向膜之一例之概略平面圖。
圖3係表示本發明之長型圖案配向膜之其他例之概略平面圖。
圖4係表示本發明之長型圖案配向膜之其他例之概略剖面圖。
圖5係表示本發明之長型圖案配向膜之製造方法之一例之步驟。
圖6係表示本發明之長型圖案配向膜製造裝置之一例之概略圖。
圖7係表示本發明之長型圖案配向膜製造裝置之其他例之概略圖。
圖8係對本發明中使用之曝光步驟進行說明之說明圖。
圖9係對本發明中使用之曝光步驟進行說明之說明圖。
圖10係對本發明中使用之曝光步驟進行說明之說明圖。
圖11係對本發明中使用之曝光步驟進行說明之說明圖。
圖12係對本發明中使用之曝光步驟進行說明之說明圖。
圖13係圖15之B-B線剖面圖。
圖14係圖15之B-B線立體圖。
圖15係表示本發明之長型圖案相位差薄膜之一例之概略平面圖。
圖16係表示本發明之長型圖案相位差薄膜之其他例之概略剖面圖。
圖17係表示本發明之長型圖案相位差薄膜製造裝置之一例之概略圖。
圖18係表示本發明之長型圖案相位差薄膜製造裝置之其他例之概略圖。
圖19係表示可利用被動方式顯示三維影像之液晶顯示裝置之例之概略圖。
1‧‧‧透明薄膜基材
2‧‧‧配向層
2a‧‧‧第1配向區域
2b‧‧‧第2配向區域
10‧‧‧長型圖案配向膜

Claims (12)

  1. 一種長型圖案配向膜,其特徵在於:其為長條狀,且包含含有光配向材料之配向層,上述配向層包含:第1配向區域,其使具有折射率異向性之棒狀化合物沿固定方向排列;及第2配向區域,其使上述棒狀化合物沿與上述第1配向區域不同之方向排列,其中,上述光配向材料為藉由照射偏光而不可逆地表現配向規制力之光反應材料。
  2. 如申請專利範圍第1項之長型圖案配向膜,其中,上述配向層係於俯視時,於上述第1配向區域及上述第2配向區域之間包含非配向性區域。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之長型圖案配向膜,其中,上述第1配向區域及上述第2配向區域形成為於長度方向上相互平行之帶狀圖案。
  4. 如申請專利範圍第1項之長型圖案配向膜,其中,使上述第1配向區域及上述第2配向區域之上述棒狀化合物排列之方向相差90°。
  5. 如申請專利範圍第4項之長型圖案配向膜,其中,使上述第1配向區域及上述第2配向區域之上述棒狀化合物排列之方向各自相對於長度方向為0°及90°之方向。
  6. 如申請專利範圍第4項之長型圖案配向膜,其中,使上述第1配向區域及上述第2配向區域之上述棒狀化合 物排列之方向各自相對於長度方向為45°及135°之方向。
  7. 如申請專利範圍第1項之長型圖案配向膜,其中,於上述配向層上形成有透明薄膜基材。
  8. 如申請專利範圍第7項之長型圖案配向膜,其中,於上述透明薄膜基材之形成有上述配向層之面之相反面上形成有抗反射層及/或防眩層。
  9. 一種長型圖案相位差薄膜,其特徵在於,其包含:申請專利範圍第1至8項中任一項之長型圖案配向膜;及相位差層,其形成於上述長型圖案配向膜之上述配向層上,且含有具有折射率異向性之棒狀化合物。
  10. 如申請專利範圍第9項之長型圖案相位差薄膜,其中,上述配向層係於俯視時,包含將上述第1配向區域、上述非配向性區域及上述第2配向區域依序重複1次以上之圖案,上述相位差層係於俯視時,包含將位於上述第1配向區域正上部之第1相位差區域、位於上述非配向性區域正上部之緩衝區域及位於上述第2配向區域正上部之第2相位差區域依序重複1次以上之圖案。
  11. 如申請專利範圍第9項之長型圖案相位差薄膜,其中,上述相位差層之面內延遲值相當於λ/4份。
  12. 如申請專利範圍第9項之長型圖案相位差薄膜,其中,於上述相位差層上依序形成有黏著層及隔片。
TW101133653A 2012-03-01 2012-09-14 長型圖案配向膜及使用其之長型圖案相位差薄膜 TWI548896B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012045433A JP2012198523A (ja) 2011-03-04 2012-03-01 長尺パターン配向膜およびそれを用いた長尺パターン位相差フィルム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201337350A TW201337350A (zh) 2013-09-16
TWI548896B true TWI548896B (zh) 2016-09-11

Family

ID=49628150

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW101133653A TWI548896B (zh) 2012-03-01 2012-09-14 長型圖案配向膜及使用其之長型圖案相位差薄膜

Country Status (1)

Country Link
TW (1) TWI548896B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103885229B (zh) * 2014-03-07 2017-01-11 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶面板及其制作方法、3d显示装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6368760B1 (en) * 1996-11-22 2002-04-09 Sharp Kabushiki Kaisha Phase sheet
JP2005232345A (ja) * 2004-02-20 2005-09-02 Hayashi Telempu Co Ltd 複屈折誘起材料重合体、偏光回折素子、および液晶配向膜
JP2010231003A (ja) * 2009-03-27 2010-10-14 Toppan Printing Co Ltd リターデイション基板の製造方法
US20120092742A1 (en) * 2010-07-26 2012-04-19 Sin Young Kim Mask

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6368760B1 (en) * 1996-11-22 2002-04-09 Sharp Kabushiki Kaisha Phase sheet
JP2005232345A (ja) * 2004-02-20 2005-09-02 Hayashi Telempu Co Ltd 複屈折誘起材料重合体、偏光回折素子、および液晶配向膜
JP2010231003A (ja) * 2009-03-27 2010-10-14 Toppan Printing Co Ltd リターデイション基板の製造方法
US20120092742A1 (en) * 2010-07-26 2012-04-19 Sin Young Kim Mask

Also Published As

Publication number Publication date
TW201337350A (zh) 2013-09-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5773023B2 (ja) パターン配向膜の製造方法、それを用いたパターン位相差フィルムの製造方法およびその製造装置
CN103842858B (zh) 长条型图案取向膜及使用其的长条型图案相位差薄膜
CN110799868B (zh) 液晶薄膜、光学层叠体、圆偏振片、有机电致发光显示装置
CN104339796B (zh) 层叠体
JP5720795B2 (ja) パターン位相差フィルム及びその製造方法
JP6724297B2 (ja) 光学積層体の製造方法、円偏光板の製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法
CN104808275A (zh) 光学各向异性膜
CN115698788A (zh) 光吸收各向异性膜、层叠体及图像显示装置
JP6586882B2 (ja) 位相差フィルム、位相差フィルムの製造方法、この位相差フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置、この画像表示装置を使用した3d画像表示システム
CN109891279A (zh) 光学物品的制造方法及光学物品
JP2014186248A (ja) 位相差フィルムの製造方法
JP5803311B2 (ja) パターン位相差フィルムの製造方法、それに用いるマスク、およびそれを用いたパターン位相差フィルム
JP2015052679A (ja) 位相差フィルム及びその製造方法
TWI548896B (zh) 長型圖案配向膜及使用其之長型圖案相位差薄膜
JP2015200725A (ja) 位相差フィルム及び位相差フィルムの製造方法
JP5652412B2 (ja) 位相差層形成用の重合性液晶組成物、位相差フィルム及び位相差フィルムの製造方法
CN114341274A (zh) 组合物、偏振器层、层叠体及图像显示装置
JP2013076762A (ja) パターン配向層用組成物、並びにパターン配向膜及びパターン位相差フィルムの製造方法
JP6398639B2 (ja) 位相差フィルム
JP2014119569A (ja) パターン位相差フィルム及びその製造方法
JPWO2013128692A1 (ja) 長尺パターン配向膜およびそれを用いた長尺パターン位相差フィルム
KR20150018422A (ko) 광학 이방성 적층체의 제조 방법
CN115989450A (zh) 光学膜、圆偏振片、有机电致发光显示装置
JP2013076758A (ja) パターン配向層用組成物、並びにパターン配向膜及びパターン位相差フィルムの製造方法
JP2014035369A (ja) 位相差フィルムの製造装置、及び位相差フィルムの製造方法