KR102629649B1 - 광정렬 조성물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 적어도 하나의 광반응성 그룹을 갖는 적어도 하나의 단일 광정렬 중합체, 바람직하게는 단독중합체 또는 공중합체; 및 화학식 I의 적어도 하나의 단일 용매를 포함하는 광정렬 조성물에 관한 것이다. 추가로, 본 발명은 코팅 또는 프린팅, 특히 프린팅, 더욱 특히 잉크젯 또는 오프셋 프린팅 프로세스, 가장 특히 오프셋 프린팅 프로세스에 있어서의 당해 조성물의 용도에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 액정용 배향층의 제조에 있어서의, 그리고 구조화되지 않은 및 구조화된 광학 소자 및 다중층 시스템, 특히 액정 디스플레이 LCD의 구성시의, 당해 광정렬 조성물의 용도에 관한 것이다.
화학식 I
(R-CO-O-R')
상기 화학식 I에서, R 및 R'는 서로 독립적으로 직쇄 또는 분지쇄 알킬이고, 단, 적어도 하나의 알킬 쇄는 분지된다.

Description

광정렬 조성물
본 발명은 적어도 하나의 광반응성 그룹을 갖는 적어도 하나의 단일 광정렬 중합체, 바람직하게는 단독중합체 또는 공중합체; 및 화학식 I의 적어도 하나의 단일 용매를 포함하는 광정렬 조성물(photoalignment composition)에 관한 것이다.
화학식 I
(R-CO-O-R')
상기 화학식 I에서,
R 및 R'는 서로 독립적으로 직쇄 또는 분지쇄 알킬이고, 단, 적어도 하나의 알킬 쇄는 분지된다.
추가로, 본 발명은 코팅(coating) 또는 프린팅(printing), 특히 프린팅, 더욱 특히 잉크젯 또는 오프셋(offset) 프린팅 프로세스, 가장 특히 오프셋 프린팅 프로세스에 있어서의 당해 조성물의 용도에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 액정용 정렬층의 제조에 있어서의, 그리고 구조화되지 않은 및 구조화된 광학 소자 및 다중층 시스템, 특히 액정 디스플레이 LCD의 구성시의, 당해 광정렬 조성물의 용도에 관한 것이다.
일반적으로 광정렬 재료 2가지 주요 기술, 코팅 및 프린팅으로 도포된다.
코팅 방법으로는 예를 들면 스핀(spin) 코팅, 에어 닥터(air doctor) 코팅, 블레이드 코팅, 나이프 코팅, 리버스 롤(reverse-roll) 코팅, 전사 롤(transfer roll) 코팅, 그라비어 롤 코팅, 키스 롤(kiss roll) 코팅, 캐스트(cast) 코팅, 분무(spray) 코팅, 슬롯-오리피스 코팅, 캘린더 코팅, 전착 코팅, 딥(dip) 코팅 또는 다이(die) 코팅이 있다.
프린팅 방법으로는 예를 들면 플렉소그래피(flexography) 프린팅과 같은 릴리프(relief) 프린팅, 직접 그라비어 프린팅 또는 오프셋 그라비어(gravure) 프린팅과 같은 인타글리오(intaglio) 프린팅, 오프셋 프린팅과 같은 리소그래피(lithography) 프린팅, 또는 스크린 프린팅과 같은 스텐실(stencil) 프린팅이 있다.
일반적으로, 이미지 전사 방법 및 사용된 이미지 캐리어(image carrier)의 일반적인 유형에 의해 구별되는 5가지 주요 프린팅 프로세스가 있다.
프로세스에 따라, 프린팅된 이미지는 직접 또는 간접적으로 기판에 전사된다. 직접 프린팅에서는 이미지가 이미지 캐리어로부터 기판으로 직접 전달되며, 직접 프린팅의 예로는 그라비어, 플렉소그래피, 스크린 프린팅 및 레터프레스(letterpress) 프린팅 프로세스가 있다. 간접 또는 오프셋 프린팅에서, 이미지는 우선 이미지 캐리어로부터 블랭킷 실린더로 이송된 다음 기판으로 전사된다. 현재 지배적인 프린팅 기술인 리소그래피는 간접(오프셋) 프로세스이다.
이미지 캐리어(또는 플레이트)는 릴리프, 평면(planographic), 인타글리오 또는 스크린의 4가지 유형으로 분류될 수 있다. 릴리프 프린팅에서, 이미지 또는 프린팅 영역이 이미지가 없는 영역 위로 올라간다. 5가지 주요 프린팅 프로세스 중, 릴리프 프린팅에 의존하는 것은 레터프레스 및 플렉소그래피이다. 평면 프린팅에서, 이미지 영역과 이미지가 없는 영역이 동일한 평면에 있다. 이미지 영역과 이미지가 없는 영역은 상이한 물리화학적 특성에 의해 정의된다. 리소그래피는 평면 프로세스이다. 인타글리오 프로세스에서, 프린팅되지 않는 영역은 기판과 공통 표면 레벨에 있는 한편, 상이한 깊이 및/또는 크기의 미세 에칭되거나 새겨진 웰로 이루어진 프린팅 영역은 오목하다. 그라비어는 인타글리오 프로세스이다. 스크린 프로세스(다공성 프린팅이라고도 함)에서, 이미지는 그림이나 문자 이미지가 있는 다공성 메쉬를 통해 잉크를 밀어 내어 기판으로 전사된다.
잉크젯 프린팅은 전술된 통상의 프린팅 프로세스와 비교하여 상당히 상이한 특징(예를 들면, 이미지 캐리어가 부족하다)에도 불구하고, 프린팅이라고도 불리는 더 확고하고 강력하게 성장하는 산업용 이미지 침착 프로세스를 대표한다. 잉크젯 프린터는 연속 또는 드롭-온-디맨드(drop-on-demand)(DOD) 모드로 작동할 수 있다. 연속 모드에서 유체는 노즐을 통해 펌핑되어 액체 제트를 형성한다. 주기적인 섭동을 가함으로써, 균일한 간격과 크기의 액적이 얻어지며, 표면 장력에 의한 제트 분해(jet break-up)가 일어난다. 이를 위해 상기 유체는 특정 전도성을 가져야 한다. 드롭-온-디맨드는 전자 제품 및 디스플레이와 같은 다수의 산업 분야에서 선택되는 방법이다. 이는 주로, 액적 크기가 작고, 정확도가 높으며, 유체를 더 전도성으로 만들기 위한 도펀트를 사용할 필요가 없기 때문이다. 음향 펄스(acoustic pulse)는 저장조로부터 노즐을 통해 유체 액적을 분사한다. 펄스는 열에 의해(버블-젯) 또는 압전(piezo-electric)에 의해(피에조-젯) 생성될 수 있다. 압전 DOD는 일반적으로 다양한 용매에 더 적합한 것이다. 잉크젯 프린팅 기술의 가장 중요한 부분은 유체 및 이의 물성일 것이다. 유체 파라미터는 한편으로는 특정 프린터로 프린팅하는 동안 액적을 신뢰성 있게 얻는데 최적화되어야 한다(예를 들면, 점도 및 표면 장력). 유체는 또한 특정 기판 및 균일한 필름으로 우수한 습윤(wetting) 성질을 얻는데 최적화되어야 한다.
플렉소그래피 기술은 LCD 업계에서 액정 정렬층을 성공적으로 도포하는 데 사용된다. 플렉소그래피 기술에 따르면, 액정 정렬층은 임의의 에칭 프로세스를 필요로 하지 않으며 소정의 패턴으로 직접 프린팅될 수 있다. 일반적으로 기재되는 바와 같이, 플렉소그래피 프로세스는 기판(통상적으로 유리)의 원하는 표면 상에 일정량의 정렬 재료를 소정의 패턴으로 전사시키는 일련의 롤러를 사용하는 사실상 연속적인 프로세스일 수 있다. 달리 말하면, 플렉소그래피 장치는 상기 프로세스를 통해 순차적으로 복수의 유리 패널들을 자동으로 운반하도록 구성될 수 있다. 이 장치는 소정의 패턴으로 배열된 일련의 유지 셀들을 갖는 특별한 수지 플레이트를 사용하여 일정량의 정렬 재료 프로세싱 용액을 보유한다. 상기 수지 판(resin plate)을 회전시키고 이어서 유리 패널 표면과 직접 접촉시켜 용액을 방출시켜 소정의 패턴을 전사하여 표면 상에 액정 정렬층을 형성시킨다. 이어서 상기 유리 패널을 가열하여 액정 정렬층을 예비-경화시킨다.
보다 상세하게는 플렉소그래피 프린팅에 의한 액정 정렬층의 제조가 다음에 기술된다. 정렬 재료 용액을 소위 아닐록스 롤(anilox roll) 상에 떨어뜨려 유지한다. 아닐록스 롤은 바람직하게는 크롬, 또는 크롬과 니켈(정렬 재료 용액 접촉 표면)로 도금된다. 피라미드 형상을 갖는 셀이 아닐록스 롤에서 대략 20㎛의 깊이로 형성되어, 상기 정렬 재료는 셀 내에 보유될 수 있다.
닥터 롤(doctor roll)이 아닐록스 롤과 함께 회전하여, 정렬 재료 용액이 아닐록스 롤의 표면 상에 균일하게 도포되는 것을 돕는다. 수지 판은 통상적으로 구리를 포함하는 하부 판에 부착된다. 바람직한 양태에서, 수지 판은 폴리부타디엔 수지, 예를 들어 아사히 카세이(Asahi Kasei) 감광성 수지("APR")로부터 형성된다. 설명의 편의상, 수지 판은 이하 "APR 판"으로 설명될 것이다.
APR 판은 소정 패턴의 외부 표면을 포함한다. 상기 패턴은 복수의 셀들을 인타글리오로 포함하여, 상기 정렬 재료 용액이 상기 셀 내에 수용될 수 있도록 한다. 셀의 깊이는 바람직하게는 대략 15 내지 20㎛ 범위이다. 따라서, 상기 일반적인 설명과는 달리, 액정 정렬층 도포를 위한 플렉소그래피 프린터는 릴리프 프로세스 대신에 인타글리오를 사용한다.
정렬 재료 용액이 아닐록스 롤 상에 분배된다. 아닐록스 롤과 닥터 롤은 외주부에서 회전하여 접촉한다. 닥터 롤에 의해 제공된 접촉 압력은 정렬 재료 용액이 아닐록스 롤에서(즉, 셀 내에서) 균일하게 분포되는 것을 도우며, 아닐록스 롤의 셀을 채우기 위해 일정량의 상기 용액을 가져 오는 것을 돕는다. 이어서 APR 판은 아닐록스 롤과 접촉하여 정렬 재료 용액이 APR 판에 공급 또는 전달된다. 통상적으로, APR 판으로 전달된 정렬 재료 용액의 양은 닥터 롤이 아닐록스 롤에(또는 아닐록스 롤이 닥터 롤에) 가하는 접촉력에 의해 결정된다. 이어서 정렬 재료 용액은 APR 판 셀에 보유한다.
LCD 패널 또는 유리가 프린팅용 테이블에 고정된다. APR 판을 고정하는 구리판이 회전하는 것과 동시에 테이블이 전진하고 상기 유리가 앞으로 이동한다. 따라서 APR 판이 유리 기판과 직접 접촉하여, APR 판 내의 패턴의 셀로부터 유리에 정렬 재료 용액이 도포된다. 그 결과, 배향 층이 유리 기판 상에 형성된다.
이들 재료는 매우 효율적이고 경제적인 대규모 제작 프로세스에 대한 접근성을 제공하기 때문에, 광정렬 조성물에 대한 엄청난 요구가 존재한다. 그러나, 이들의 프린팅능과 같은 적용 가능성은 종종 높은 산업 표준을 충족시키지 못한다. 여기에는, 일정한 습윤성, 도포된 층의 원하는 두께, 층의 전체 표면에 걸친 균일성과 같은 고품질 표준이 요구된다.
따라서 무결점의 균일한 표면의 요구를 충족시키는 얇은 액정 정렬층의 제조를 위해 우수한 코팅능 또는 프린팅능을 허용하는 광정렬 재료에 대한 지속적인 요구가 존재한다.
본 발명에서, 개선된 프린팅 프로세스에 대한 접근을 제공하는 상기 언급된 신규한 광정렬 조성물이 발견되었다.
따라서, 본 발명은
a) 적어도 하나의 광반응성 그룹을 갖는 적어도 하나의 단일 광정렬 중합체, 바람직하게는 단독중합체 또는 공중합체;
c) 바람직하게는 광반응성 그룹을 갖지 않는 추가의 중합체, 및
b) 화학식 I의 적어도 하나의 단일 용매
를 갖는 광정렬 조성물에 관한 것이다.
화학식 I
(R-CO-O-R')
상기 화학식 I에서,
R 및 R'는 서로 독립적으로 직쇄 알킬이고; 바람직하게는 직쇄 분지쇄 C1-C6알킬; 더욱 바람직하게는 분지쇄 C1-C6알킬, 가장 바람직하게는 분지쇄 C3-, C4-, C5-, C6알킬, 특히 가장 바람직하게는 분지쇄 C4알킬이며; 단, 적어도 하나의 알킬 쇄는 분지된다.
상기 화학식 I에서 R 및 R'가 동시에 분지쇄 알킬인 본 발명의 광정렬 조성물이 바람직하다.
본 발명의 맥락에서 아래에서 제공된 용어들은 아래에 제공된 의미와 선호도를 갖는다.
- "중합체"는 예를 들면 단독중합체, 공중합체, 그래프트 중합체, 블럭 중합체, 고도로 분지된 중합체 또는 올리고머를 의미하고; 바람직하게는 중합체 또는 공중합체를 의미하고; 본 발명의 바람직한 "중합체"는 특히 한정되지 않는 주쇄를 포함하며, 예를 들면 폴리암산, 부분적으로 이미드화된 폴리암산, 폴리이미드, 폴리암산 에스테르, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리실록산, 폴리말레이미드, 폴리아크릴레이트, 폴리비닐, 셀룰로스 유도체, 폴리아세탈, 폴리우레아, 폴리우레탄, 폴리스티렌 유도체, 폴리(스티렌-페닐-말레이미드)-유도체 및 폴리(메트)아크릴레이트, 사이클로 올레핀 중합체 또는 이들의 혼합물이 대표된다. 가장 바람직한 "중합체"는 폴리암산, 부분적으로 이미드화된 폴리암산, 폴리이미드, 폴리암산 에스테르, 폴리실록산 유도체 또는 이들의 혼합물이고; 폴리암산, 부분적으로 이미드화된 폴리암산, 폴리이미드 및 이들의 혼합물이 가장 바람직하고 폴리암산이 특히 가장 바람직하다.
- "코팅"은 예를 들면 코팅 기술, 예를 들면 스핀-코팅, 메니스커스(meniscus)-코팅, 와이어(wire)-코팅, 슬롯-코팅, 프린팅, 예를 들면 오프셋-프린팅, 플렉소-프린팅, 그라비어-프린팅, 특히 잉크젯 또는 오프셋 프린팅을 의미한다.
- "광정렬 중합체"는 정렬광의 조사 후 광반응을 견딜 수 있는 광반응성 그룹을 포함하는 유기 중합체, 공중합체 또는 올리고머를 의미한다.
- "정렬광(aligning light)"은 광정렬을 개시할 수 있는 파장의 광을 의미한다. 바람직하게는, 파장은 UV-A, UVB 및/또는 UV/C 범위 또는 가시 범위이다. 이는 적절한 파장인 광정렬 화합물에 의존한다. 바람직하게는, 광반응성 그룹은 가시광 및/또는 UV광에 민감하다. 더욱 바람직하게는, 정렬광은 적어도 부분적으로 선형광된, 타원 편광된, 예를 들면 원편광된, 또는 비(non)-편광된, 가장 바람직하게는 원편광된, 또는 비스듬히 노광되거나 비-편광된 광, 또는 적어도 부분적으로 선편광된 광이다. 특히, 가장 바람직한 정렬광은 실질적으로 편광된 광, 특히 선편광된 광을 지칭하거나; 정렬광은 비스듬한 조사에 의해 적용되는 비-편광된 광을 지칭한다.
- "광조사 없이 액정 분자의 정렬을 제어하는 특성을 갖는 정렬 그룹"은 액정을 정렬시킬 수 있는, 바람직하게는 액정을 자향성으로(homeotropically) 또는 평면으로 정렬시킬 수 있는 유기 그룹을 의미한다.
이러한 정렬 그룹의 예로는 치환되지 않거나 치환된 스테로이드성 스켈레톤(steroidal skeleton), 예를 들면 적어도 하나의 단일 헤테로원자 및/또는 적어도 하나의 단일 브릿징 그룹에 의해 차단되지 않거나 차단된 콜레스테롤 그룹이 있으며, 바람직하게는, 콜레스테롤 그룹은 콜레스테릴, 콜레스타닐, 콜레스탄이고; 또는 정렬 그룹은 치환되지 않거나 치환된 유기 화학 구조이며, 이는, 예를 들면, 1,4-사이클로헥실렌 및 1,4-페닐렌 중의 임의의 하나로부터 선택된 3 내지 4개 환이고, 이는 직쇄형으로, 예를 들면 직접 커플링되거나 1,2-에틸렌을 통해 커플링되고, 이의 유기 화학 구조는 바람직하게는 1,4-사이클로헥실렌의 3 또는 4개 조각, 1,4-페닐렌의 3 또는 4개 조각으로 이루어지거나 1,4-사이클로헥실렌과 1,4-페닐렌 둘 다로 이루어지며, 여기서 이들의 조각의 총 수는 3 또는 4개 조각이고; 치환체는 예를 들면 직쇄 또는 분지쇄 C1-C30알킬이다.
- "광반응성 그룹"은 광조사 후의 반응을 견딜 수 있는 유기 그룹을 의미한다. 예를 들면 광반응성 그룹은 고리화전자 반응, 라디칼 반응, 광이성체화 및 노리시(Norrish) 반응을 생성시킬 수 있으며, 예를 들면 이량체화 가능한, 분해 가능한, 이성체화 가능한, 중합 가능한 및/또는 가교결합 가능한 그룹이고; 더욱 바람직하게는 광반응성 그룹은 신나메이트-, 쿠마린-, 퀴놀린-, 아조-, 스틸벤-, 시아노스틸벤-, 칼콘-, 디페닐아세틸렌, 벤질리덴-프탈이미딘, 벤질리덴아세토페논, 페닐렌디아크릴로일, 스틸바졸 및/또는 아조-그룹이고; 가장 바람직하게는 신나메이트-, 쿠마린-, 퀴놀린-, 시아노스틸벤-, 및/또는 칼콘-그룹이고; 특히 가장 바람직하게는 신나메이트- 또는 시아노스틸벤 그룹이고, 더욱 특히 바람직하게는 신나메이트 그룹이다.
- "직쇄 알킬"은 예를 들면 직쇄 C1-C40알킬, 특히 직쇄 C1-C30알킬, 바람직하게는 직쇄 C1-C24알킬, 더욱 바람직하게는 직쇄 C1-C16알킬, 가장 바람직하게는 직쇄 C1-C10알킬, 특히 가장 바람직하게는 직쇄 C1-C6알킬, 매우 특히 가장 바람직하게는 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸 또는 헥실을 의미하며; 직쇄 C1-C10알킬은 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실 또는 운데실이고; 직쇄 C1-C16알킬은 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실 또는 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실 또는 헥사데실이다.
- "분지쇄 알킬"은 예를 들면 분지쇄 C3-C40알킬, 특히 분지쇄 C3-C30알킬, 바람직하게는 분지쇄 C3-C20알킬, 더욱 바람직하게는 분지쇄 C3-C16알킬, 가장 바람직하게는 분지쇄 C3-C10알킬이고, 특히 가장 바람직하게는 분지쇄 C3-C6알킬이고, 이는 분지쇄 C3-C4-C5-C6알킬이고, 매우 특히 가장 바람직하게는 C3-C6알킬 이소프로필, 2급-부틸, 3급-부틸, 이소펜틸, 디메틸 프로필, 또는 2-메틸펜탄, 3-메틸펜탄, 2,3-디메틸부탄, 2,2-디메틸부탄을 의미한다.
분지쇄 C3-C10알킬은 예를 들면 이소프로필, 2급-부틸, 3급-부틸, 이소펜틸, 디메틸 프로필, 또는 2-메틸펜탄, 3-메틸펜탄, 2,3-디메틸부탄, 2,2-디메틸부탄 이소헵틸, 이소옥틸, 이소노닐, 이소데실이다.
분지쇄 C3-C16알킬은 예를 들면 이소프로필, 2급-부틸, 3급-부틸, 이소펜틸, 디메틸 프로필, 또는 2-메틸펜탄, 3-메틸펜탄, 2,3-디메틸부탄, 2,2-디메틸부탄, 이소헵틸, 이소옥틸, 이소노닐, 이소데실, 이소운데실, 이소도데실, 이소트리데실, 이소테트라데실, 이소펜타데실 또는 이소헥사데실이다.
분지쇄 C3-C20알킬은 예를 들면 이소프로필, 2급-부틸, 3급-부틸, 이소펜틸, 디메틸 프로필, 또는 2-메틸펜탄, 3-메틸펜탄, 2,3-디메틸부탄, 2,2-디메틸부탄, 이소헵틸, 이소옥틸, 이소노닐, 이소데실, 이소운데실, 이소도데실, 이소트리데실, 이소테트라데실, 이소펜타데실, 이소헥사데실, 이소헵타데실, 이소옥타데실, 이소논데실, 이소에이코실이다.
분지쇄 C3-C30알킬은 예를 들면 이소프로필, 2급-부틸, 3급-부틸, 이소펜틸, 디메틸 프로필, 또는 2-메틸펜탄, 3-메틸펜탄, 2,3-디메틸부탄, 2,2-디메틸부탄, 이소헵틸, 이소옥틸, 이소노닐, 이소데실, 이소운데실, 이소도데실, 이소트리데실, 이소테트라데실, 이소펜타데실, 이소헥사데실, 이소헵타데실, 이소옥타데실, 이소논데실, 이소에이코실, 이소헤네이코실, 이소트리코실, 이소테트라코실, 이소펜타코실, 이소헥사코실, 이소헵타코실, 이소옥타코실, 이소노나코실 또는 이소트리아콘틸이다.
분지쇄 C3-C40알킬은 예를 들면 이소프로필, 2급-부틸, 3급-부틸, 이소펜틸, 디메틸 프로필, 또는 2-메틸펜탄, 3-메틸펜탄, 2,3-디메틸부탄, 2,2-디메틸부탄, 이소헵틸, 이소옥틸, 이소노닐, 이소데실, 이소운데실, 이소도데실, 이소트리데실, 이소테트라데실, 이소펜타데실, 이소헥사데실, 이소헵타데실, 이소옥타데실, 이소논데실, 이소에이코실, 이소헤네이코실, 이소트리코실, 이소테트라코실, 이소펜타코실, 이소헥사코실, 이소헵타코실, 이소옥타코실, 이소노나코실 또는 이소트리아콘틸 또는 테트라콘틸이다.
- "알킬렌"은 단일 용어로 사용되는 경우 (C1-C12)알킬렌, 바람직하게는 C1-C6알킬렌(이는 연결 그룹(linking group)에 의해 분지쇄, 직쇄, 치환된, 치환되지 않은, 차단되지 않은 또는 차단된다), 및 지환식 그룹, 예를 들면 사이클로헥실렌 또는 C17-C40 지환식 그룹, 또는 -Si(R3)2- 또는 -O-Si(R3)2-을 의미하고, 여기서 R3은 C1-C24알킬렌, 바람직하게는 적어도 하나의 C1-C6알킬, 더욱 바람직하게는 메틸, 에틸, 프로필이다.
- C1-C6알킬렌은 예를 들면 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌, 이소프로필렌, 2급-부틸렌, 3급-부틸렌, 펜틸렌, 이소펜틸렌, 헥실렌, 이소헥실렌이다.
- C1-C30알킬은 바람직하게는 C1-C30알킬, 더욱 바람직하게는 C1-C16알킬, 가장 바람직하게는 C1-C12알킬, 특히 가장 바람직하게는 C1-C6알킬이고, 이는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, 펜틸, 이소펜틸, 헥실, 이소헥실이다. C1-C30알킬은 제공된 모든 선호도 내에서 기재된 바와 같은 직쇄 C1-C30알킬 및 분지쇄 C3-C30알킬의 의미를 갖는다.
- "지환식 그룹"은 치환되지 않거나 치환된 스테로이드성 스켈레톤, 예를 들면 콜레스테롤 그룹의 의미를 갖고, 이는 차단되지 않거나 적어도 하나의 단일 헤테로원자 및/또는 적어도 하나의 단일 브릿징 그룹에 의해 차단되고, 바람직하게는, 콜레스테롤 그룹은 콜레스테릴, 콜레스타닐, 콜레스탄이고; 또는 "지환식 그룹"은 유기 화학 구조의 의미를 갖고, 이는 예를 들면 사이클로헥실렌, 특히 1,4-사이클로헥실렌이다.
- "브릿징 그룹"은 -O-, -CH(OH)-, -CO-, -CH2(CO)-, -SO-, -CH2(SO)-, -S02-, -CH2(S02)-, -COO-, -OCO-, -COCF2-, -CF2CO, -S-CO-, -CO-S-, -SOO-, -OSO-, -SOS-, -O-CO-O, -CH2-CH2-, -OCH2-, -CH2O-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH-, -CH=N-, -C(CH3)=N-, -N=N- 또는 단일 결합; 또는 사이클릭, 직쇄 또는 분지쇄, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C24알킬렌의 의미를 갖고, 이때 하나 이상의 C-원자, -CH- 및/또는 -CH2- 그룹은 서로 독립적으로 연결 그룹에 의해 서로 독립적으로 대체될 수 있다.
- "연결 그룹"은 -O-, -CO, -CO-O-, -O-CO-,
Figure 112017108134818-pct00001
, -NR1-, -NR1-CO-, -CO-NR1-, -NR1-CO-O-, -O-CO-NR1-, -NR1-CO-NR1-, -CH=CH-, -C≡C-, -O-CO-O-, 또는 -Si(CH3)2-O-Si(CH3)2-, 또는 단일 결합의 의미를 갖고, 여기서 R1은 수소 원자 또는 C1-C6알킬을 나타내고, 단, 연결 그룹의 산소 원자는 서로 직접 연결되지 않는다.
바람직하게는, 본 발명은, 적어도 하나의 광반응성 그룹을 포함하는 적어도 하나의 단일 광정렬 중합체, 바람직하게는 단독중합체를 포함하는 광정렬 조성물에 관한 것이다.
또한 바람직하게는, 본 발명은, 적어도 2개의 단량체를 포함하는 적어도 하나의 단일 광정렬 중합체를 포함하는 광정렬 조성물에 관한 것으로, 여기서, 적어도 제1 단량체는 광반응성 그룹을 포함하고, 바람직하게는 적어도 제2 단량체는 제1 단량체와 동일하거나 상이한 추가의 광반응성 그룹을 포함하거나, 적어도 제2 단량체는 광반응성 그룹을 포함하지 않으며, 전술한 의미 및 선호도 내에서 바람직하게는 광조사 없이 액정 분자의 정렬을 제어하는 특성을 나타내는 정렬 그룹을 포함한다.
추가로 더욱 바람직하게는, 본 발명은, 광반응성 그룹을 갖는 적어도 하나의 단량체 및 광조사 없이 액정 분자의 정렬을 제어하는 특성을 나타내는 정렬 그룹을 갖는 하나의 단량체를 포함하는, 적어도 하나의 단일 광정렬 중합체를 포함하는 광정렬 조성물에 관한 것이다.
또한 더욱 바람직하게는, 본 발명은, 제1 단량체와 동일하게 광반응성 그룹을 갖는 적어도 2개의 단량체를 포함하는, 적어도 하나의 단일 광정렬 중합체를 포함하는 광정렬 조성물에 관한 것이다.
추가로, 더욱 바람직하게는, 본 발명은, c) 폴리암산, 부분적으로 이미드화된 폴리암산, 폴리이미드, 폴리암산 에스테르 또는 폴리실록산인 주쇄를 포함하는, 광반응성 그룹을 갖지 않는 추가의 중합체를 포함하는 광정렬 조성물에 관한 것이다
또한, 상기 제공된 의미 및 선호도 내에서, 광반응성 그룹을 갖지 않는 추가의 중합체를 포함하고 바람직하게는 광정렬 중합체와 동일한 주쇄를 갖는 광정렬 조성물이 추가로 더욱 바람직하며; 바람직하게는 상기 주쇄는 폴리암산, 부분적으로 이미드화된 폴리암산, 폴리이미드, 폴리암산 에스테르, 폴리실록산, 폴리실록산 유도체 또는 이들의 혼합물이고; 더욱 바람직하게는 상기 주쇄는 폴리암산, 부분적으로 이미드화된 폴리암산, 폴리이미드 및 이들의 혼합물이고; 가장 바람직하게는 상기 주쇄는 폴리암산이고; 특히 가장 바람직하게는 상기 주쇄는 더욱 바람직하게는 상기 주쇄는 폴리암산, 폴리이미드 또는 이들의 혼합물이다.
바람직하게는, 본 발명은 광정렬 조성물에 관한 것으로, 여기서, 광정렬 중합체는 바람직하게는 이량체화 가능한, 이성체화 가능한, 중합 가능한 및/또는 가교결합 가능한 그룹인 광반응성 그룹을 포함하고; 더욱 바람직하게는 상기 광반응성 그룹은 신나메이트-, 쿠마린-, 퀴놀린-, 아조-, 스틸벤-, 시아노스틸벤-, 칼콘-, 디페닐아세틸렌, 벤질리덴프탈이미딘, 벤질리덴아세토페논, 페닐렌디아크릴로일, 스틸바졸 및/또는 아조-그룹이고; 가장 바람직하게는 신나메이트-, 쿠마린-, 퀴놀린-, 시아노스틸벤-, 및/또는 칼콘-그룹이고; 특히 가장 바람직하게는 신나메이트- 또는 시아노스틸벤 그룹, 더욱 특히 바람직하게는 신나메이트 그룹이다.
더욱 바람직하게는, 본 발명은
a) 광반응성 그룹을 갖는 적어도 하나의 단일 광정렬 중합체,
c) 바람직하게는, 동일한 주쇄를 광정렬 중합체로서 갖는 추가의 중합체,
b) 화학식 I의 적어도 하나의 단일 용매
를 포함하는 광정렬 조성물에 관한 것이다.
화학식 I
(R-CO-O-R')
상기 화학식 I에서,
R 및 R'는 서로 독립적으로 직쇄 알킬; 바람직하게는 직쇄 분지쇄 C1-C6알킬; 바람직하게는 분지쇄 C1-C6알킬, 더욱 바람직하게는 분지쇄 C3- 또는 C4알킬이고, 단, 적어도 하나의 알킬 쇄는 분지되고;
여기서, 상기 광정렬 중합체는 신나메이트-, 쿠마린-, 퀴놀린-, 아조-, 스틸벤- 및/또는 시아노스틸벤-그룹인 광반응성 그룹을 갖고; 특히 본원에 참조로 인용된 광정렬 화합물은, US Re36625, US 6201087, US 6107427, US 6335409, US5965761, US 6277502, US 6649230, US 6833421, US 6831148, US 7514514, US 7750185, US 7994273, US 8436132, US 7687118, US 6340506, US 7959990, US 8173749, US 2011-0065859-A1, US-2010-0048849-A1, US 2010-0266814 A1, US 2012-0316317 A1, US 2013-0035446 A1, US 2014-0162076 A1, US 2014-0192305 A1, US 2014-0249244 A1, US 2014-0342086 A1, US 20140162076 A1에 기재된 광정렬 재료이다.
본원에 참조로 인용된 바람직한 광정렬 중합체는 다음과 같고:
- US Re36,625, 청구항 1-8, 더욱 바람직하게는 실시예 1-6, 컬럼 7, 라인 58 - 컬럼 33, 라인 8에 열거된 것;
- US 6107427, 청구항, 더욱 바람직하게는 실시예 1-9에 열거된 것이 더욱 바람직하고;
- US 5965761, 청구항 1-7, 더욱 바람직하게는 실시예 1-6, 컬럼 9, 라인 9 - 컬럼 17, 라인 9에 열거된 것;
- US 6277502, 청구항 1-4, 더욱 바람직하게는 실시예 1-5, 컬럼 8, 라인 55 - 컬럼 16, 라인 37에 열거된 것;
- US 6632909, 청구항 1-6, 더욱 바람직하게는 실시예 1-7, 컬럼 9, 라인 50 - 컬럼 89, 라인 24에 열거된 것;
- US 6649230, 청구항, 더욱 바람직하게는 실시예 1-4에 열거된 것;
- US 6833421, 청구항, 더욱 바람직하게는 실시예 1-9에 열거된 것;
- US 7687118, 청구항, 더욱 바람직하게는 실시예 1-18에 열거된 것;
- US 817374, US 8329823, 및 US 8557922의 광정렬 중합체가 추가로 바람직하며, 여기서 상기 광정렬 중합체는 적어도 하나의 디아민 (I) 또는 적어도 2개의 디아민, 및 테트라카복실산 무수물을 포함한다.
Figure 112017108134818-pct00002
여기서, A는 5 또는 6개 원자의 모노사이클릭 환, 5 또는 6개 원자의 2개의 인접한 모노사이클릭 환, 8, 9 또는 10개 원자의 바이사이클릭 환 시스템, 또는 13 또는 14개 원자의 트리사이클릭 환 시스템으로부터 선택되는 치환되지 않거나 치환된 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 방향족 그룹을 나타내고;
화학식 (I)의 다음의 화합물 잔기인, 화합물 잔기 (Ia)는 직쇄 또는 분지쇄 C1-C16플루오르알킬 그룹을 나타내고,
Figure 112017108134818-pct00003
여기서,
F는 불소이고,
x1은 1 내지 15의 정수, 바람직하게는 1 내지 10의 정수; 더욱 바람직하게는 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8 또는 9, 가장 바람직하게는 3, 4, 5 또는 7이고;
B는 직쇄 또는 분지쇄 C1-C16알킬 그룹을 나타내고, 이는 치환되지 않거나, 불소 치환체(들) 이외에도 디-(C1-C16알킬)아미노, C1-C6알킬옥시, 니트로, 시아노 및/또는 염소에 의해 치환되고; 이때 하나 이상의 -CH2- 그룹은 각각 서로 독립적으로 연결 그룹에 의해 대체될 수 있고;
D는 탄소수 1 내지 40의 치환되지 않거나 치환된, 지방족, 방향족 및/또는 지환식 디아민 그룹을 나타내고;
바람직하게는 D는 탄소수 1 내지 40의 치환되지 않거나 치환된, 지방족, 방향족 및/또는 지환식 디아민 그룹을 나타내고, 상기 디아민 그룹은, 하나 이상의 헤테로원자 및/또는 브릿징 그룹 및/또는 방향족 그룹 및/또는 지환식 그룹을 포함할 수 있는 지방족 그룹을 포함하고;
E는 방향족 그룹, 산소 원자, 황 원자, -NH-, -N(C1-C6알킬)-, -CR2R3을 나타내고, 여기서, R2 및 R3은 서로 독립적으로 수소 또는 사이클릭, 직쇄 또는 분지쇄, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C24알킬이고, 이때 하나 이상의 -CH2- 그룹(들)은 서로 독립적으로 연결 그룹에 의해 대체될 수 있고, 단, R2 및 R3 중의 적어도 하나는 수소가 아니고;
S1, S2는 각각 서로 독립적으로 스페이서 단위(spacer unit)를 나타내고;
X, Y는 각각 서로 독립적으로 수소, 불소, 염소, 시아노; 치환되지 않거나 불소로 치환된 C1-C12알킬을 나타내고, 이때 하나 이상의 -CH2- 그룹은 연결 그룹에 의해 대체될 수 있고;
n, n1는 각각 서로 독립적으로 1, 2, 3 또는 4이고, 바람직하게는 n1은 1이고 n은 1 또는 2이고;
단, n이 2, 3, 또는 4인 경우, 각각의 A, B, x1, E, S1, S2, X, Y는 동일하거나 상이하고; n1이 2, 3 또는 4인 경우, 각각의 B, x1은 동일하거나 상이하고;
바람직하게는, n > 1인 경우, 화합물 (I)은 여러 측쇄들을 갖고[이때 측쇄는, 그룹 D가 없는 구조 (I)의 의미를 갖는다], 이는 그룹 D 내의 하나의 원자 위치에서 잔기 D에 연결되고, 예를 들면 2 또는 3개의 측쇄들은 그룹 D 내의 하나의 단일 탄소 원자에 연결되거나, 또는 이들은 그룹 D 내의 상이한 원자 위치에서, 예를 들면 그룹 D 내의 인접한 원자 위치에서 그룹 D에 연결될 수 있거나/있고 이들은 더 멀리 떨어져서 연결될 수 있다.
또한,
a) 디아민 (I) 및 테트라카복실산 이무수물을 기본 빌딩 블럭(basic building block)으로 포함하는 중합체이고, 더욱 바람직하게는 폴리암산, 폴리암산 에스테르, 폴리이미드 또는 이들의 혼합물로부터 선택되고, 가장 바람직하게는 폴리암산인, 적어도 하나의 단일 광정렬 중합체;
c) 바람직하게는, 디아민 (I) 테트라카복실산 이무수물을 기본 빌딩 블럭으로 포함하는 중합체이고, 더욱 바람직하게는 폴리암산, 폴리암산 에스테르, 폴리이미드 또는 이들의 혼합물로부터 선택되고, 가장 바람직하게는 폴리암산인, 추가의 중합체; 및
b) 화학식 I의 적어도 하나의 단일 용매
를 포함하는 광정렬 조성물이 가장 바람직하다.
화학식 I
(R-CO-O-R')
상기 화학식 I에서, R 및 R'는 서로 독립적으로 직쇄 알킬; 바람직하게는 직쇄 분지쇄 C1-C6알킬; 더욱 바람직하게는 분지쇄 C1-C6알킬, 가장 바람직하게는 분지쇄 C3-, C4-, C5-, C6알킬, 특히 가장 바람직하게는 분지쇄 C4알킬이고; 단, 적어도 하나의 알킬 쇄는 분지된다.
본 발명의 맥락에서 용어 "폴리이미드"는 부분적으로 또는 전체적으로 이미드화된 폴리암산 또는 폴리암산 에스테르의 의미를 갖는다. 유하사게, 용어 "이미드화"는 본 발명의 맥락에서 부분적 또는 전체적 이미드화의 의미를 갖는다.
추가의 더욱 바람직한 디아민 (I)은, 연결 그룹이 -O-, -CO, -CO-O-, -O-CO-,
Figure 112017108134818-pct00004
, -NR1-, -NR1-CO-, -CO-NR1-, -NR1-CO-O-, -O-CO-NR1-, -NR1-CO-NR1-, -CH=CH-, -C≡C-, -O-CO-O-, 및 -Si(CH3)2-O-Si(CH3)2-로부터 선택되고, 여기서, R1은 수소 원자 또는 C1-C6알킬을 나타내고; 단, 연결 그룹의 산소 원자는 서로 직접 연결되지 않는다.
추가의 더욱 바람직한 디아민 (I)은, 스페이서 단위가 단일 결합, 사이클릭, 직쇄 또는 분지쇄, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C24알킬렌이고, 이때 하나 이상의 -CH2- 그룹은 전술된 바와 같이 서로 독립적으로 연결 그룹에 의해 대체될 수 있고/있거나 브릿징 그룹을 통해 연결된 비방향족, 방향족, 치환되지 않거나 치환된 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹에 의해 대체될 수 있다.
추가의 더욱 바람직한 디아민 (I)은, 브릿징 그룹이 -CH(OH)-, -CO-, -CH2(CO)-, -SO-, -CH2(SO)-, -S02-, -CH2(S02)-, -COO-, -OCO-, -COCF2-, -CF2CO, -S-CO-, -CO-S-, -SOO-, -OSO-, -SOS-, -O-CO-O, -CH2-CH2-, -OCH2-, -CH2O-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH-, -CH=N-, -C(CH3)=N-, -N=N- 또는 단일 결합으로부터 선택되거나; 또는 사이클릭, 직쇄 또는 분지쇄, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C24알킬렌이고, 이때 하나 이상의 -CH2- 그룹은 전술된 바와 같이 서로 독립적으로 연결 그룹에 의해 대체될 수 있다.
추가의 더욱 바람직한 디아민 (I)은,
D가 바람직하게는 화학식 (III)으로부터 선택되고,
H(R5)N-(Sp1)k1-(X1)t1-(Z3-C3)a3-(Z4-C4)a4-(X2)t2-(Sp2)k2-N(R6)H (III)
여기서,
R5, R6은 각각 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C6알킬을 나타내고;
Sp1, Sp2는 각각 서로 독립적으로 치환되지 않거나 치환된 직쇄 또는 분지쇄 C1-C20알킬렌을 나타내고, 이때 하나 이상의 -CH2- 그룹은 서로 독립적으로 연결 그룹에 의해 대체될 수 있고,
k1, k2는 각각 독립적으로 0 또는 1의 값을 갖는 정수이고;
X1, X2는 각각 독립적으로 연결 스페이서(linking spacer)를 나타내고;
t1, t2는 각각 독립적으로 0 또는 1의 값을 갖는 정수이고;
C3, C4는 각각 독립적으로 비방향족, 방향족, 치환되거나 치환되지 않은 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내고, 이는 측쇄 T를 가질 수 있고,
Z3은 브릿징 그룹을 나타내고;
Z4는 치환되거나 치환되지 않은 직쇄 또는 분지쇄 C1-C20알킬렌 그룹을 나타내고, 이때 하나 이상의 -CH2- 그룹은 서로 독립적으로 비방향족, 방향족, 치환되지 않거나 치환된 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹에 의해 및/또는 헤테로원자에 의해 및/또는 브릿징 그룹에 의해 대체될 수 있으며;
a3, a4는 독립적으로 0 내지 3의 정수이고, a3 + a4 ≤ 4이고;
D는 그룹 Sp1 및/또는 그룹 Sp2을 통해 식 (I)의 적어도 하나의 그룹 S1에 적어도 한 번 연결되고; 및/또는 그룹 C3 및/또는 그룹 C4의 적어도 하나의 비방향족, 방향족, 치환되거나 치환되지 않은 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭을 통해 연결되고; 및/또는 그룹 C4 및/또는 그룹 C3의 적어도 하나의 측쇄 T를 통해 연결되고; 및/또는 그룹 Z4를 통해 연결되고; k1, k2, a3 및 a4 중의 적어도 하나는 0이 아니고; 연결 그룹 및 브릿징 그룹은 전술한 바와 같다.
추가의 더욱 바람직한 디아민 (I)은, 상기 측쇄 T가 치환되거나 치환되지 않은 직쇄 또는 분지쇄 C1-C20알킬렌 그룹을 나타내고, 이때 하나 이상의 -CH2- 그룹(들)은 서로 독립적으로 비방향족, 방향족, 치환되지 않거나 치환된 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹, 또는 헤테로원자에 의해 및/또는 브릿징 그룹에 의해 대체될 수 있으며, 이는 전술한 바와 같이 화학식 (I)의 적어도 하나의 그룹 S1에 적어도 한 번 연결된다.
적어도 하나의 디아민 화합물 (I) 또는 화학식 (I)의 적어도 2개의 상이한 디아민으로 이루어진, US 817374, US 8329823, 및 US 8557922의 광정렬 중합체가 추가로 더욱 바람직하며,
여기서, C3, C4는 서로 독립적으로 그룹 G2의 화합물로부터 선택되고, 이때 G2는
Figure 112017108134818-pct00005
Figure 112017108134818-pct00006
Figure 112017108134818-pct00007
Figure 112017108134818-pct00008
및
Figure 112017108134818-pct00009
이고,
여기서, "
Figure 112017108134818-pct00010
"는 전술한 바와 같은 화학식 (III)의 화합물의 인접한 그룹에 대한 C3 및 C4의 연결 결합을 지칭하고;
L은 -CH3, -COCH3, -OCH3, 니트로, 시아노, 할로겐, CH2=CH-, CH2=C(CH3)-, CH2=CH-(CO)O-, CH2=CH-O-, -NR5R6, CH2=C(CH3)-(CO)O-, CH2=C(CH3)-O-이고, 여기서, R5, R6은 각각 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C6알킬을 나타내고;
T는 치환되거나 치환되지 않은 직쇄 또는 분지쇄 C1-C20알킬렌 그룹을 나타내고, 이때 하나 이상의 -CH2- 그룹은 서로 독립적으로 비방향족, 방향족, 치환되지 않거나 치환된 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹 또는 헤테로원자에 의해 및/또는 브릿징 그룹에 의해 대체될 수 있으며;
m은 0 내지 2의 정수이고;
u1는 0 내지 4의 정수이고, 단, m + u1은 ≤ 4이고;
u2는 0 내지 3의 정수이고, 단, m + u2는 ≤ 3이고;
u3은 0 내지 2의 정수이고, 단, m + u3은 ≤ 2이다.
추가의 더욱 바람직한 디아민 (I)은,
D가 다음의 화합물들의 그룹으로부터 선택되고:
Figure 112017108134818-pct00011
Figure 112017108134818-pct00012
및
Figure 112017108134818-pct00013
여기서,
L, L1, L2 및 L3은 서로 독립적으로 -CH3, -COCH3, -OCH3, 니트로, 시아노, 할로겐, CH2=CH-, CH2=C(CH3)-, CH2=CH-(CO)O-, CH2=CH-O-, -NR5R6, CH2=C(CH3)-(CO)O- 또는 CH2=C(CH3)-O-이고,
T, T1, T2 및 T3은 서로 독립적으로 치환되거나 치환되지 않은 직쇄 또는 분지쇄 C1-C20알킬렌 그룹이고, 이때 하나 이상의 -CH2- 그룹(들)은 서로 독립적으로 비방향족, 방향족, 치환되지 않거나 치환된 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹에 의해 및/또는 헤테로원자에 의해 및/또는 브릿징 그룹에 의해 대체될 수 있으며;
"
Figure 112017108134818-pct00014
"는 단일 결합이고,
q는 1 또는 2의 정수이고;
q1, q2 및 q3은 서로 독립적으로 0 내지 2의 정수이고;
m은 1 또는 2의 정수이고;
m1, m2 및 m3은 서로 독립적으로 0 내지 2의 정수이고;
u3, u3' 및 u3"은 서로 독립적으로 0 내지 2의 정수이고;
R5, R6은 각각 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C6알킬을 나타내고;
Z4는 치환되거나 치환되지 않은 직쇄 또는 분지쇄 C1-C20알킬렌 그룹을 나타내고, 이때 하나 이상의 -CH2- 그룹은 서로 독립적으로 비방향족, 방향족, 치환되지 않거나 치환된 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹에 의해 및/또는 헤테로원자에 의해 및/또는 브릿징 그룹에 의해 대체될 수 있으며;
D는, 청구항 1에 기재된 바와 같이, 단일 결합 "
Figure 112017108134818-pct00015
"를 통해, 또는 측쇄 T, T1, T2 또는 T3을 통해, 또는 그룹 Z4를 통해, 화학식 (I)의 적어도 하나의 그룹 S1에 적어도 1회 연결되며,
단, u3 + q 또는 u3 + m ≤ 4이고;
u3 + q1 및/또는 u3' + q2 또는/및 u3 + m1 또는/및 u3' + m2 또는/및 u3" + q3 또는/및 u3" + m3 ≤ 4이고;
q1 + q2 및 m1 + m2 및 q1 + q2 + q3 및 m1 + m2 + m3 ≥ 1이다.
추가의 더욱 바람직한 디아민 (I)은, 화학식 (Ia)의 화합물 잔기가 -CF2H 및 -CF3의 말단 단위를 갖는 직쇄 또는 분지쇄 C1-C16플루오르알킬 그룹을 나타낸다.
Figure 112017108134818-pct00016
추가의 더욱 바람직한 디아민 (I)은,
S1, S2가 각각 서로 독립적으로 단일 결합이거나, 사이클릭, 직쇄 또는 분지쇄, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C24알킬렌을 나타내고, 이때 하나 이상의 -CH2- 그룹은 서로 독립적으로 연결 그룹에 의해 대체될 수 있고; 및/또는 화학식 (IV)의 비방향족, 방향족, 치환되지 않거나 치환된 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹이고,
-(Z1-C1)a1-(Z2-C2)a2-(Z1a)a3- (IV)
여기서, C1, C2는 각각 독립적으로 비방향족, 방향족, 치환되지 않거나 치환된 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹을 나타내고,
Z1, Z2, Z1a는 각각 독립적으로 브릿징 그룹을 나타내고,
a1, a2 및 a3은 각각 독립적으로 0 내지 3의 정수를 나타내고, a1 + a2 + a3 ≤ 6이고, 상기 브릿징 그룹 Z1, Z1a 및 Z2는 전술한 바와 같다.
실시예 1 내지 20에 기재된, US 817374, US 8329823, 및 US 8557922의 광정렬 중합체가 가장 바람직하고;
테트라카복실산 무수물 및 화학식 (VI), (VII), (VIII), (IX), (X), (XI), (XIa) 또는 (XIb)의 적어도 하나의 디아민 화합물 또는 화학식 (VI), (VII), (VIII), (IX), (X), (XI), (XIa) 또는 (XIb)의 적어도 2개의 디아민 화합물로 이루어진 광정렬 중합체가 가장 특히 바람직하고,
Figure 112017108134818-pct00017
Figure 112017108134818-pct00018
Figure 112017108134818-pct00019
Figure 112017108134818-pct00020
Figure 112017108134818-pct00021
여기서, A, B, x1, n, n1, D, E, S2, S1, X 및 Y는 청구항 1에 제공된 의미를 갖고,
R5, R6 및 Z4는 상기 제공된 바와 동일한 의미를 갖고;
L은 -CH3, -OCH3, -COCH3, 니트로, 시아노, 할로겐, CH2=CH-, CH2=C(CH3)-, CH2=CH-(CO)O-, CH2=CH-O-, CH2=C(CH3)-(CO)O-, 또는 CH2=C(CH3)-O-이고,
u3은 0 내지 2의 정수이다.
바람직하게는 화학식 (XII)의 디아민으로 이루어지고,
Figure 112017108134818-pct00022
여기서, x1, B, n, n1, D, E, S1, X, Y, Z1, L, u1 및 u2는 동일한 의미를 갖는다.
더욱 바람직하게는 하기 화학식으로부터 선택된 적어도 하나의 디아민 화합물 또는 적어도 2개의 디아민 화합물로 이루어진다:
Figure 112017108134818-pct00023
여기서, S1는 청구된 바와 같이 상기 제공된 의미를 갖고,
Figure 112017108134818-pct00024
의 화합물 잔기는 직쇄 또는 분지쇄 C1-C8플루오르알킬 그룹을 나타내고, 여기서,
F는 불소이고,
x1은 1 내지 9의 정수이고,
B는 직쇄 또는 분지쇄 C1-C16알킬 그룹을 나타내고, 이는 치환되지 않거나, 불소 치환체(들) 이외에도 디-(C1-C16알킬)아미노, C1-C6알킬옥시, 니트로, 시아노 및/또는 염소에 의해 치환되고; 이때 하나 이상의 -CH2- 그룹은 -O-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -NR1-, -NR1-CO-, -CO-NR1- 및 -CH=CH-로부터 선택된 연결 그룹에 의해 독립적으로 대체될 수 있고, 여기서, R1은 수소 원자 또는 C1-C6알킬을 나타내고; 단, 산소 원자는 서로 직접 연결되지 않고; C1-C8플루오르알킬 그룹은 -CF2H, -CF3으로부터 선택된 말단 단위를 갖는다.
가장 특히 바람직한 광정렬 중합체는 하기의 적어도 하나의 디아민으로 구성된 중합체이다:
6-{[((2E)-3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일)옥시]}헥실 3,5-디아미노벤조에이트
6-{[((2E)-3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일)옥시]}헥실 3,5-디아미노벤조에이트
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11-{[((2E)-3-{4-[(4-(트리플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일)옥시]}운데실 3,5-디아미노벤조에이트
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2{2-[2-{[((2E)-3-{4-[(4-(트리플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일)옥시]}에톡시]에톡시}에틸 3,5-디아미노벤조에이트
2,2-디메틸-3-{[((2E)-3-{4-[(4-(트리플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일)옥시]}프로필 3,5-디아미노벤조에이트
2-{[((2E)-3-{4-[(4-(3,3,3-트리플루오로프로폭시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일)옥시]}에틸 3,5-디아미노벤조에이트
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4-{[((2E)-3-{4-[(4-(3,3,3-트리플루오로프로폭시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일)옥시]}부틸 3,5-디아미노벤조에이트
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7-{[((2E)-3-{4-[(4-(3,3,3-트리플루오로프로폭시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일)옥시]}헵틸 3,5-디아미노벤조에이트
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11-{[((2E)-3-{4-[(4-(3,3,3-트리플루오로프로폭시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일)옥시]}운데실 3,5-디아미노벤조에이트
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2{2-[2-{[((2E)-3-{4-[(4-(3,3,3-트리플루오로프로폭시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일)옥시]}에톡시]에톡시}에틸 3,5-디아미노벤조에이트
2,2-디메틸-3-{[((2E)-3-{4-[(4-(3,3,3-트리플루오로프로폭시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일)옥시]}프로필 3,5-디아미노벤조에이트
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3,5-디아미노벤질 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
3,5-디아미노벤질 (2E) 3-{4-[(4-(3,3,4,4,5,5,6,6,6-노나플루오로헥실옥시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
3,5-디아미노벤질 (2E) 3-{4-[(4-(2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필옥시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
3,5-디아미노벤질 (2E) 3-{4-[(4-(2,2,3,4,4,4-헥사플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
3,5-디아미노벤질 (2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
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3,5-디아미노벤질 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,6,6,6-헵타플루오로헥실옥시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
3,5-디아미노벤질 (2E) 3-{4-[(4-(4,5,5,5-테트라플루오로-4-(트리플루오로메틸)펜틸옥시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
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3,5-디아미노벤질 (2E) 3-{4-[(4-[(4,4,4-트리플루오로부톡시)카보닐]아미노)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
3,5-디아미노벤질 (2E) 3-{4-[(4-[(4,4,4-트리플루오로펜틸옥시)카보닐]아미노)벤조일]옥시}페닐}아크릴레이트
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2,5-디아미노벤질 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
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2,5-디아미노벤질 (2E) 3-{4-[4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로펜틸로일옥시)벤조일옥시]페닐}아크릴레이트
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2-(3,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시}페닐}아크릴레이트
2-(3,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-트리플루오로메톡시벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}아크릴레이트
2-(3,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}아크릴레이트
2-(3,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}아크릴레이트
2-(3,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}아크릴레이트
2-(3,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}아크릴레이트
2-(3,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}아크릴레이트
2-(3,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시}-3-메톡시페닐}아크릴레이트
2-(3,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-트리플루오로메톡시페녹시)카보닐]페닐}아크릴레이트
2-(3,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)페녹시)카보닐]페닐}아크릴레이트
2-(3,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)페녹시)카보닐]페닐}아크릴레이트
2-(3,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)p en옥시)카보닐]페닐}아크릴레이트
2-(3,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,5!5,5-펜타플루오로페녹시)페녹시)카보닐]페닐}아크릴레이트
2-(3,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)페녹시)카보닐]페닐}아크릴레이트
2-(2,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-트리플루오로메톡시벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,5-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-트리플루오로메톡시벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필옥시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(2,2,3,4,4,4-헥사플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(3,3,4,4,5,5,6,6,6-노나플루오로헥실옥시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로프로폭시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,6,6,6-헵타플루오로헥실옥시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(5,5,6,6,6-펜타플루오로헥실)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시}페닐}아크릴레이트
[4-[(E)-3-[2-(2,4-디아미노페닐)에톡시]-3-옥소-프로프-1-에닐]페닐] 4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조에이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(3-플루오로-4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로페녹시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(3,4-디(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시카보닐)페녹시)카보닐]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-[(4,4,4-트리플루오로부톡시)카보닐]아미노)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-[(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)카보닐]아미노)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(3-메톡시-4-트리플루오로메톡시벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시}페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시}-3-메톡시페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)페녹시)카보닐]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)페녹시)카보닐]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)페녹시)카보닐]페닐}아크릴레이트
2-(2,4-디아미노페닐)에틸 (2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)페녹시)카보닐]페닐}아크릴레이트
3-(3,5-디아미노페닐)프로필 (2E) 3-{4-[(4-트리플루오로메톡시벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
3-(3,5-디아미노페닐)프로필 (2E) 3-{4-[(4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
3-(3,5-디아미노페닐)프로필 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
3-(3,5-디아미노페닐)프로필 (2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
3-(3,5-디아미노페닐)프로필 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
3-(3,5-디아미노페닐)프로필 (2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
3-(3,5-디아미노페닐)프로필 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시}페닐}아크릴레이트
3-(2,4-디아미노페닐)프로필 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
3-(2,4-디아미노페닐)프로필 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
3-(2,4-디아미노페닐)프로필 (2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
3-(2,4-디아미노페닐)프로필 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시}페닐}아크릴레이트
6-(2,4-디아미노페닐)헥실 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
6-(2,4-디아미노페닐)헥실 (2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
6-(2,4-디아미노페닐)헥실 (2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}아크릴레이트
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E)-3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-트리플루오로메톡시벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시}페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시-4-트리플루오로메톡시벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시}페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-트리플루오로메톡시벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시}-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-트리플루오로메톡시페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2,2-비스(4-아미노벤질)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
6-{[((2E)-3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일)옥시]}헥실
3,5-디아미노-4-[6-{[((2E)-3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일)옥시]}헥실옥시]벤조에이트
2,2'-비스[(2E)-3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(4-트리플루오로메톡시벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시}페닐]프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(3-메톡시-4-트리플루오로메톡시벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시}페닐]프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(4-트리플루오로메톡시벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시}-3-메톡시페닐]프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(4-트리플루오로메톡시페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
[4-[(E)-3-[[5-아미노-2-[4-아미노-2-[[(E)-3-[4-[4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일]옥시페닐]프로프-2-에노일]옥시메틸]페닐]페닐]메톡시]-3-옥소-프로프-1-에닐]페닐] 4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조에이트
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일 메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2,2'-비스[(2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일]메틸 4,4'-디아미노 1,1'-비페닐
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E)-3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E)-3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-트리플루오로메톡시벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시}페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시-4-트리플루오로메톡시벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시}페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-트리플루오로메톡시벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
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2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시}-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-트리플루오로메톡시페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,5!5,5-펜타플루오로페녹시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(2,4-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-트리플루오로메톡시벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시}페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시-4-트리플루오로메톡시벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(3-메톡시 4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시}페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-트리플루오로메톡시벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤조일)옥시]-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부타노일)옥시)벤조일]옥시}-3-메톡시페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-트리플루오로메톡시페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(5,5,5-트리플루오로펜틸옥시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(4,4,5,5,5-펜타플루오로페녹시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올
2-(3,5-디아미노페닐)-1,3 디[(2E) 3-{4-[(4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)페녹시)카보닐]페닐}프로프-2-에노일] 프로판디올.
디아민 화합물은 당업계에 알려진 방법에 따라 제조되거나, 화학식 (XIV)의 화합물, 바람직하게는 화학식 (XV)의 화합물을 화학식 (XVI)의 디니트로 화합물과 접촉시키고 이어서 수득된 화학식 (XVIa)의 디니트로 화합물을 화학식 (XII)의 상응하는 디아미노 화합물로 전환시키는 것을 포함하는 방법에 따라 제조된다.
Figure 112017108134818-pct00025
Figure 112017108134818-pct00026
Figure 112017108134818-pct00027
Figure 112017108134818-pct00028
Figure 112017108134818-pct00029
Figure 112017108134818-pct00030
여기서, F, x1, n1, n, B, D, X, Y, Z1, L, u1, u2 및 S는 상기 제공된 바와 동일한 의미 및 선호도를 갖고, D1은 상기 제공된 바와 같이 D와 동일한 의미 및 선호도를 갖고, 단, D의 2개의 아미노 그룹은 2개의 니트로 그룹에 의해 대체된다.
화합물 (XIV) 및 (XVI)의 반응은 다수의 공지된 방법에 의해 수행될 수 있다(참조: J. March, Advanced Organic Chemistry, second edition, pages 363 and 365).
일반적으로 본 발명의 광정렬 중합체의 제조 방법은, 임의로 하나 이상의 추가의 기타 디아민의 존재하에, 하나 이상의 테트라카복실산 무수물과 디아민 (I)의 중축합 반응, 바람직하게는 하기한 제공된 화학식 (V)의 중축합 반응을 통해 적용된다.
바람직하게는, 테트라카복실산 무수물은 화학식 (V)의 화합물이다.
Figure 112017108134818-pct00031
여기서,
T는 4가 유기 라디칼이다.
4가 유기 라디칼 T는 바람직하게는 지방족, 지환식 또는 방향족 테트라카복실산 이무수물로부터 유도된다.
지방족 또는 지환식 테트라카복실산 이무수물의 바람직한 예는 다음과 같다:
1,1,4,4-부탄테트라카복실산 이무수물,
에틸렌말레산 이무수물,
1,2,3,4-사이클로부탄테트라카복실산 이무수물,
1,2,3,4-사이클로펜탄테트라카복실산 이무수물,
2,3,5-트리카복시사이클로펜틸아세트산 이무수물,
3,5,6-트리카복시노보닐아세트산 이무수물,
2,3,4,5-테트라하이드로푸란테트라카복실산 이무수물,
rel-[1S,5R,6R]-3-옥사비사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온-6-스피로-3'-(테트라하이드로푸란 2',5'-디온),
4-(2,5-디옥소테트라하이드로푸란-3-일)테트라하이드로나프탈렌-1,2-디카복실산 이무수물,
5-(2,5-디옥소테트라하이드로푸란-3-일)-3-메틸-3-사이클로헥센-1,2-디카복실산 이무수물,
비사이클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카복실산 이무수물,
비사이클로[2.2.2]옥탄-2,3,5,6-테트라카복실산 이무수물,
1,8-디메틸비사이클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카복실산 이무수물,
피로멜리트산 이무수물,
3,3',4,4'-벤조페논테트라카복실산 이무수물,
4,4'-옥시디프탈산 이무수물,
3,3',4,4'-디페닐설폰테트라카복실산 이무수물,
1,4,5,8-나프탈렌테트라카복실산 이무수물,
2,3,6,7-나프탈렌테트라카복실산 이무수물,
3,3',4,4'-디메틸디페닐실란테트라카복실산 이무수물,
3,3',4,4'-테트라페닐실란테트라카복실산 이무수물,
1,2,3,4-푸란테트라카복실산 이무수물,
4,4'-비스(3,4-디카복시페녹시)디페닐 설파이드 이무수물,
4,4'-비스(3,4-디카복시페녹시)디페닐 설폰 이무수물,
4,4'-비스(3,4-디카복시페녹시)디페닐프로판 이무수물,
3,3',4,4'-비페닐테트라카복실산 이무수물,
에틸렌 글리콜 비스(트리멜리트산) 이무수물,
4,4'-(1,4-페닐렌)비스(프탈산) 이무수물,
4,4'-(1,3-페닐렌)비스(프탈산) 이무수물,
4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물,
4,4'-옥시디(1,4-페닐렌)비스(프탈산) 이무수물, 및
4,4'-메틸렌디(1,4-페닐렌)비스(프탈산) 이무수물.
방향족 테트라카복실산 이무수물의 바람직한 예는 다음과 같다:
피로멜리트산 이무수물,
3,3',4,4'-벤조페논테트라카복실산 이무수물,
4,4'-옥시디프탈산 이무수물,
3,3',4,4'-디페닐설폰테트라카복실산 이무수물,
1,4,5,8-나프탈렌테트라카복실산 이무수물,
2,3,6,7-나프탈렌테트라카복실산 이무수물,
3,3',4,4'-디메틸디페닐실란테트라카복실산 이무수물,
3,3',4,4'-테트라페닐실란테트라카복실산 이무수물,
1,2,3,4-푸란테트라카복실산 이무수물,
4,4'-비스(3,4-디카복시페녹시)디페닐 설파이드 이무수물,
4,4'-비스(3,4-디카복시페녹시)디페닐 설폰 이무수물,
4,4'-비스(3,4-디카복시페녹시)디페닐프로판 이무수물,
3,3',4,4'-비페닐테트라카복실산 이무수물,
에틸렌 글리콜 비스(트리멜리트산) 이무수물,
4,4'-(1,4-페닐렌)비스(프탈산) 이무수물,
4,4'-(1,3-페닐렌)비스(프탈산) 이무수물,
4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물,
4,4'-옥시디(1,4-페닐렌)비스(프탈산) 이무수물,
4,4'-메틸렌디(1,4-페닐렌)비스(프탈산) 이무수물,
등.
더욱 바람직하게는, 4가 유기 라디칼 T의 형성에 사용되는 테트라카복실산 이무수물은 다음으로부터 선택된다:
1,2,3,4-사이클로부탄테트라카복실산 이무수물,
1,2,3,4-사이클로펜탄테트라카복실산 이무수물,
2,3,5-트리카복시사이클로펜틸아세트산 이무수물,
5-(2,5-디옥소테트라하이드로푸란-3-일)-3-메틸-3-사이클로헥센-1,2-디카복실산 이무수물,
4-(2,5-디옥소테트라하이드로푸란-3-일)테트라하이드로나프탈렌-1,2-디카복실산 이무수물,
4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물 및
비사이클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카복실산 이무수물.
중합체, 공중합체 또는 올리고머, 특히 폴리암산, 폴리암산 에스테르 및 폴리이미드 및 이들의 혼합물은 공지된 방법에 따라, 예를 들면 문헌[Plast. Eng. 36 (1996), (Polyimides, fundamentals and applications), Marcel Dekker, Inc.]에 기재된 바와 같이 제조될 수 있다.
예를 들면, 폴리암산의 제조를 위한 아미드화, 중축합 반응은 극성 비양성자성 유기 용매, 예를 들면 γ-부티로락톤, N,N-디메틸아세트아미드, 2-부톡시에탄올(BC), N-메틸피롤리돈 또는 N,N-디메틸포름아미드 중의 용액에서 수행된다. 대부분의 경우 등몰량의 무수물 및 디아민, 즉, 무수물 그룹 1개당 하나의 아미노 그룹이 사용된다. 중합체, 공중합체 또는 올리고머의 분자량을 안정화시키는 것이 요망되는 경우, 당해 목적을 위해, 2개의 성분들 중의 하나를 화학량론적 양 미만으로 또는 과량으로 첨가하거나 디카복실산 일수화물 형태 또는 모노아민 형태의 일관능성을 첨가하는 것이 가능하다. 일관능성 화합물의 예로는 말레산 무수물, 프탈산 무수물, 아닐린 등이 있다. 바람직하게는 상기 반응은 100℃ 미만의 온도에서 수행된다.
폴리이미드의 형성을 위한 폴리암산의 이미드화, 사이클화는 가열에 의해, 즉 물의 제거로 인한 축합에 의해 또는 적절한 시약을 사용하는 기타 이미드화 반응에 의해 수행될 수 있다.
부분 이미드화는 예를 들면 이미드화가 순전히 열에 의해 수행되는 경우에 달성되고, 폴리암산의 이미드화는 항상 완결될 수는 없으며, 즉, 생성된 폴리이미드는 폴리암산 부분을 여전히 함유할 수 있다. 완전 이미드화 반응은 60 내지 250℃의 온도에서, 바람직하게는 200℃ 미만의 온도에서 수행된다.
저온에서 이미드화를 달성하기 위해, 물의 제거를 촉진시키는 추가의 시약이 상기 반응 혼합물에 첨가된다. 이러한 시약은, 예를 들면, 산 무수물, 예를 들면 아세트산 무수물, 프로피온산 무수물, 프탈산 무수물, 트리플루오로아세트산 무수물 또는 3급 아민, 예를 들면 트리에틸아민, 트리메틸아민, 트리부틸아민, 피리딘, N,N-디메틸아닐린, 루티딘, 콜리딘 등으로 이루어진 혼합물이다. 물의 제거를 촉진시키는 전술한 추가의 시약의 양은 바람직하게는 축합 대상 폴리암산 1당량당 적어도 4당량의 산 무수물 및 2당량의 아민이다.
본 발명의 액정 정렬제(alignment agent)에 사용되는 각각의 중합체의 이미드화도는 중합체의 제조에 사용되는 촉매량, 반응 시간 및 반응 온도를 제어하여 임의로 조절될 수있다. 본 명세서에서, 중합체의 "이미드화도"는 중합체의 총 반복 단위(recurring unit)의 수에 대한 이미드 환 또는 이소이미드 환을 형성하는 중합체의 반복 단위 수의 비율(%)을 지칭한다. 본 명세서에서, 탈수 및 폐환되지 않은 폴리암산의 이미드화도는 0%이다. 각각의 중합체의 이미드화도는, 중합체를 중수소화 디메틸 설폭사이드에 용해시키고 테트라메틸실란을 표준 물질로 사용하여 실온에서 1H-NMR로 측정하여 하기 식으로부터 산출함으로써 결정된다.
이미드화도(%) = 1-(A1/A2×B)×100
A1: NH 그룹의 양성자에 기초한 피크 면적 (10ppm 부근)
A2: 아크릴레이트 이중 결합의 하나의 양성자에 기초한 피크 면적 (6.5ppm 부근)
B: 중합체 전구체 중의 NH 그룹의 하나의 양성자에 대한 아크릴레이트 양성자의 수의 비
이미드화되는 일반적으로 1 내지 99%, 바람직하게는 5 내지 50%, 더욱 바람직하게는 10 내지 40%의 범위이다.
사이클화는, 폴리이미드의 형성시 물의 열 제거와 함께 중축합 반응 후에 수행될 수 있다.
본 발명의 추가의 바람직한 양태는, 예를 들면 참조로 인용되어 있는 US 6,201,087 B1에 기재되어 있는 쿠마린- 및 퀴놀린-그룹인 광반응성 그룹을 포함하는 광정렬 중합체에 관한 것이다. US 6,201,087, 청구항 1-14에 기재된 것; 더욱 바람직하게는 실시예 1-10에, 컬럼 10, 라인 6 내지 컬럼 31, 라인 54에 열거된 것이다.
본 발명의 추가의 바람직한 양태는, 예를 들면 US 7959990에 기재되어 있는 시아노스틸벤-그룹 광반응성 그룹을 포함하는 광정렬 중합체에 관한 것이다.
화학식 (IV)의 적어도 하나의 단량체 또는 적어도 2개의 단량체 포함하는 광정렬 중합체가 더욱 바람직하다.
Figure 112017108134818-pct00032
여기서,
A 및 B는 각각 독립적으로 5 내지 40개 원자의 환 시스템이고, 이때 각각의 환 시스템은 전자 접합(electron conjugation)(π-π 결합)을 통해 화학식 (IV)에 나타낸 이중 결합에 직접 연결되는 적어도 하나의 불포화를 포함하고,
여기서, 상기 환 시스템은 할로겐 원자, 하이드록실 그룹 및/또는 극성 그룹, 예를 들면 니트로, 니트릴 또는 카복시 그룹, 및/또는 탄소수 1 내지 30의 사이클릭, 직쇄 또는 분지쇄 알킬 잔기(이들은 메틸, 불소 및/또는 염소에 의해 치환되지 않거나 일치환 또는 다치환된다)에 의해 치환되지 않거나 일치환 또는 다치환될 수 있고, 이때 하나 이상의, 바람직하게는 인접하지 않은 -CH2- 그룹은 독립적으로 -O-, -CO- -CO-O-, -O-CO-, -NR1-, -NR1-CO-, -CO-NR1-, -NR1-CO-O-, -O-CO-NR1-, -NR1-CO-NR1-, -CH=CH-, -C≡C-, -O-CO-O- 및 -Si(CH3)2-O-Si(CH3)2-, 방향족 또는 지환식 그룹으로부터 선택된 그룹에 의해 대체될 수 있고, 여기서, R1은 수소 원자이거나, 저급 알킬; 및/또는 탄소수 1 내지 20, 바람직하게는 탄소수 1 내지 10의 아크릴로일옥시, 알콕시, 알킬카보닐옥시, 알킬옥시카보닐옥시, 메타크릴로일옥시, 비닐, 알릴, 비닐옥시 및/또는 알릴옥시 그룹이고,
S1은 단일 공유 결합 또는 스페이서 단위이고;
n은 1, 2 또는 3이고;
X 및 Y는, 하나는 수소 원자이고 나머지 하나는 바람직하게는 그룹 -COR2, -COOR2, -COSR2, -CO-NR2, -SOR2, -SOCF3, -SO2CF2COR2, -SOOR2, -C≡S, -NO2, -CF3, -CN으로부터 선택되는 전자 구인 그룹인 그룹을 나타내고, 여기서 R2는 수소 원자이거나 탄소수 1 내지 16의 직쇄 또는 분지쇄 알킬 또는 알킬렌 그룹이고, 이때 하나 이상의, 바람직하게는 인접하지 않은 -CH2- 그룹은 독립적으로 -O-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -C=C-, -C≡C- 그룹으로부터 선택된 그룹에 의해, 또는 임의로 치환된 알킬에 의해, 또는 중합 가능한 그룹에 의해 대체될 수 있고,
G는 임의로 알킬로 치환된 수소 원자이거나 중합 가능한 그룹이고,
단, Y가 -CN이고 A가 치환되지 않은 페닐렌인 경우, B는 -CN, -NO2 또는 -COOH에 의해 파라-치환된 페닐렌일 수 없고;
단, 환 시스템 A가 할로겐, 시아노 및/또는 니트로로 치환되지 않거나 치환된 1,4-페닐렌이고 환 시스템 B가 할로겐, 시아노 및/또는 니트로로 치환되지 않거나 치환된 1,4-페닐렌, 또는 피리미딘-2.5-디일, 피리딘-2,5-디일, 2,5-티오페닐렌디일, 2,5-푸라닐렌, 1,4-나프틸렌 또는 2.6-나프틸렌인 경우, X는 탄소수 1 내지 12의 -CN 및 -COO-알킬과는 상이하다.
본 발명의 추가의 바람직한 양태는
- 문헌[J. Photopolym. Sci. Technol., 11, 187 (1998)]에 기재된 칼콘-그룹, 문헌[Chem. Mat., 11, 1293 (1999)]에 기재된 디페닐아세틸렌 그룹,
- 문헌[Macromol. Chem. Phys., 199, 375 (1998)]에 기재된 벤질리덴프탈이미딘,
- 문헌[Japan. J. Appl. Phys., 1, 37, 2620 (1998)]에 기재된 페닐렌디아크릴로일 그룹,
- 문헌[J. Photopolym. Sci. Technol., 12, 279 (1999)]에 기재된 스틸바졸 유도체 그룹,
- 문헌[Chemical Reviews, 100, 1847 (2000))]에 기재된 아조 유도체 그룹
을 포함하는 광정렬 재료에 관한 것으로, 이들 문헌은 본원에 참조로 인용된다.
특히 가장 바람직하게는, 본 발명은, 상기 및 하기 기재한 의미 및 선호도 내에서,
a) 적어도 하나의 디아민 (I) 또는 적어도 2개의 디아민 (I) 및 적어도 하나의 테트라카복실산 이무수물을 포함하는, 폴리암산, 폴리이미드 또는 이들의 혼합물, 바람직하게는 폴리암산인 광반응성 그룹을 갖는 적어도 하나의 단일 광정렬 중합체
를 포함하는 광정렬 조성물에 관한 것이다.
추가로 특히 가장 바람직하게는, 본 발명은, 전술한 의미 및 선호도 내에서,
c) 적어도 하나의 디아민 (DX) 및 적어도 하나의 테트라카복실산 이무수물을 포함하는, 폴리암산, 폴리이미드 또는 이들의 혼합물인, 광반응성 그룹을 갖지 않는 추가의 중합체
를 포함하는 광정렬 조성물에 관한 것이다.
일반적으로 광정렬 중합체의 양은 상기 광정렬 중합체 및 광반응성 그룹을 갖지 않는 중합체의 총 중량의 0.5 내지 50중량%, 바람직하게는 1 내지 25중량%, 가장 바람직하게는 1 내지 20중량%, 특히 가장 바람직하게는 1 내지 15중량%, 더욱 특히 가장 바람직하게는 1 내지 10중량%이다.
본 발명의 맥락에서 디아민 (DX)는 유기 디아민의 의미를 갖는다. 디아민 (DX)는 상업적으로 이용 가능하거나 공지된 방법으로 접근 가능할 수 있다. 제2 아미노 그룹은 예를 들면 치환 반응에 의해 접근 가능하다. 바람직하게는, 디아민 (DX)는 다음의 화합물들의 그룹으로부터 선택되고:
Figure 112017108134818-pct00033
여기서,
L, L1, L2 및 L3은 서로 독립적으로 수소, -CH3, -COCH3, -OCH3, 니트로, 니트릴, 할로겐, CH2=CH-, CH2=C(CH3)-, CH2=CH-(CO)O-, CH2=CH-O-, -NR5R6, CH2=C(CH3)-(CO)O- 또는 CH2=C(CH3)-O-이고,
T, T1, T2 및 T3은 서로 독립적으로 수소, 치환되거나 치환되지 않은 직쇄 또는 분지쇄 C1-C24알킬렌 그룹이고, 이때 하나 이상의 C-원자, CH- 또는 CH2- 그룹은 서로 독립적으로 비방향족, 방향족, 치환되지 않거나 치환된 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹, 및/또는 헤테로원자에 의해 및/또는 연결 그룹에 의해 대체될 수 있고;
u3, u3' 및 u3"는 서로 독립적으로 0 내지 2의 정수이고;
R5, R6은 각각 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C6알킬을 나타내고;
Z4는 치환되거나 치환되지 않은 직쇄 또는 분지쇄 C1-C20알킬렌 그룹을 나타내고, 이때 하나 이상의 -CH2- 그룹은 서로 독립적으로 비방향족, 방향족, 치환되지 않거나 치환된 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 그룹에 의해 및/또는 헤테로원자에 의해 및/또는 브릿징 그룹에 의해 대체될 수 있으며; 바람직하게는 Z4는 치환되지 않거나 치환된 직쇄 또는 분지쇄 C1-C12알킬렌 그룹, C1-C6알킬렌이고, 이때 하나 이상의, 바람직하게는 인접하지 않은 -C-원자, CH- 또는 CH2- 그룹은 산소 또는 질소 원자에 의해 대체될 수 있고; 더욱 바람직하게는 Z4는 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌, 2,2-디메틸-프로필렌, 부틸렌, 펜틸렌, 헥실렌, (-O-C1-C6알킬렌)2메틸렌 또는 (-(CO)O-CC1-C6알킬렌)2메틸렌 또는 이들의 모노- 또는 바이-라디칼이고;
디아민 (DX)는 하기 화합물이고:
Figure 112017108134818-pct00034
Figure 112017108134818-pct00035
여기서, X4, X5, X6, X7, X8, X9, X10 및 X11은 서로 독립적으로 브릿징 그룹 또는 단일 결합이고; 바람직하게는 X7 및 X8, X9 및 X10 또는 X11은 서로 독립적으로 단일 결합, -O-알콕시-, 예를 들면 -O-메틸렌-, 메틸렌-O-; C1-C12알킬렌, 예를 들면 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 펜틸렌 또는 헥실렌, 치환되거나 치환되지 않은 1,1'-사이클로헥실렌, -SO-, -S-, -SO2-, -O-, -N(R25)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, 1,1'-사이클로헥실, 치환되거나 치환되지 않은 4-(C1-C30알킬)-사이클로헥실, 치환되거나 치환되지 않은 3,4"-비스[4'-(C1-C30알킬)-1,1' 비-(사이클로헥실)-4-일], 1,1'-비(사이클로헥실)-4-일이고, 여기서, R25는 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸 또는 헥실이고;
바람직하게는 X10은 -SO-, -SO2-, -O-, -N(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, 1,1'-사이클로헥실, 4-(C1-C30알킬)-사이클로헥실, 3,4"-비스[4'-(C1-C30알킬)-1,1'-비(사이클로헥실)-4-일] 또는 1,1'-비(사이클로헥실)-4-일이고, X9 및 X11은 동일하고, 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 펜틸렌, 헥실렌, 단일 결합 또는 -O-이고;
n은 0 내지 3의 정수, 바람직하게는, 0 또는 1이고;
n이 0인 경우 X9 및 X11은 동일하고, 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 펜틸렌, 헥실렌, 단일 결합 -O-; -S-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-이고;
디아민 (DX)는
Figure 112017108134818-pct00036
이고,
여기서, X5는 브릿징 그룹 또는 단일 결합이고, X17은 CH2, O, NH이고;
디아민 (DX)는 화학식 (XV)이고,
Figure 112017108134818-pct00037
여기서, R9, R10, R11은 수소 또는 C1-C30알킬이고, 바람직하게는 R9 및 R10은 수소, 메틸이고, R11은 수소, 또는 C1-C30알킬, 바람직하게는 메틸, 또는 2-메틸헵탄이고, n은 0이고, y가 1이고 y가 0이고, n가 1인 경우, y1은 단일 결합 또는 이중 결합이고, X18은 카보닐 또는 단일 결합 또는 NH이고, X17은 CH2, O, NH이고;
디아민 (DX)는
Figure 112017108134818-pct00038
이고,
더욱 바람직하게는,
Figure 112017108134818-pct00039
이고,
여기서, R11 및 R12는 수소, 또는 C1-C30알킬, 바람직하게는 메틸이고,
X15 및 X16은 서로 독립적으로 단일 결합 또는 C1-C30알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, -COO- 및 -CONH-; -COO(C1-C6알킬렌)-, -CONH(C1-C6알킬렌)-이다.
화학식 (IX-1)의 디아민 (DX)가 더욱 바람직하고:
Figure 112017108134818-pct00040
여기서, X6은 브릿징 그룹 또는 단일 결합이고, 바람직하게는 예를 들면 -O-, -S- 또는 치환되거나 치환되지 않은, 분지쇄 또는 직쇄 C1-C6알킬렌, -O(CH2CH2O)n-; -O-(C1-C12알킬)n-O-, -S-(C1-C12알킬)n-S-, 트리아진, 1,3,5-트리아지난-2,4,6-트리온, 1,1'-사이클로헥실렌, NR5((C1-C6알킬)nNR6), -(피페리딘)n1-(C1-C6알킬)n-(피페리딘)n이고,
여기서, n은 1 내지 6의 정수이고, n1은 0 내지 6의 정수이고,
R5 및 R6은 각각 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C6알킬을 나타내고;
R11, R12, R13 및 R14는 각각 서로 독립적으로 수소, 또는 C1-C30알킬, 바람직하게는 메틸이고; X6은 단일 결합, -O-, 또는 -CH2-이고;
특히 더욱 바람직한 디아민 (DX)는 하기 화합물들로부터 선택되고:
Figure 112017108134818-pct00041
및
Figure 112017108134818-pct00042
여기서, n은 서로 독립적으로 0 또는 1이고;
R3은 C1-C24알킬, 바람직하게는 적어도 하나의 C1-C6알킬, 더욱 바람직하게는 메틸, 에틸, 프로필이고;
R9, R10은 서로 독립적으로 수소 또는 C1-C30알킬이고, 바람직하게는 R9, R10은 서로 독립적으로 수소 또는 메틸이고, R11 및 R12는 각각 서로 독립적으로 수소, 또는 C1-C30알킬, 바람직하게는 메틸이고;
X14 및 X17은 서로 독립적으로 브릿징 그룹 또는 단일 결합이고, 바람직하게는 예를 들면 -O-, -S- 또는 치환되거나 치환되지 않은, 분지쇄 또는 직쇄 C1-C6알킬렌, -O(CH2CH2O)n-; -O-(C1-C12알킬)n-O-, -S-(C1-C12알킬)n-S-, 트리아진, 1,3,5-트리아지난-2,4,6-트리온, 1,1'-사이클로헥실렌, NR5((C1-C6알킬)nNR6), -(피페리딘)n1-(C1-C6알킬)n-(피페리딘)n이고,
n은 1 내지 6의 정수이고, n1은 0 내지 6의 정수이고,
R5 및 R6은 각각 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C6알킬을 나타내고;
추가로 더욱 바람직한 디아민 (DX)는
4,4'-디아미노디페닐, 4,4'-디아미노디페닐-3,3'-디메톡시, 4,4'-디아미노디페닐-3,3'-디메틸, 4,4'-디아미노디페닐-3,3'-디하이드록시, 4,4'-디아미노-디페닐메탄, 4,4'-디아미노디-페닐설파이드, 4,4'-디아미노-디페닐설폰, 4,4'-디아미노디페닐카보닐, 4,4'-디아미노디페닐 옥소메틸렌, 4,4'-디아미노디페닐-비스(트리플루오로메틸)-메틸렌, ,4'-디아미노디페닐-비스(트리플루오로메틸)메틸렌-3,3'-디메톡시 또는 4,4'-디아미노디페닐-비스(트리플루오로메틸)메틸렌-3,3'-디하이드록시, 4,4'-디아미노디페닐 에테르, 4,4'-(p-페닐렌이소프로필리덴)비스아닐린, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-헥사플루오로-프로판, 2,2'-비스[4-4-아미노-2-트리플루오로-메틸-페녹시)페닐)헥사플루오로프로판, 4,4'-디아미노-2,2'-비스/트리플루오로메틸)-비페닐, 4,4'-비스[4-아미노-2-트리플루오로메틸)페녹시]-옥타플루오로비페닐이고;
추가로 디아민 (DX)는 하기 제공된 바와 같고:
Figure 112017108134818-pct00043
Figure 112017108134818-pct00044
여기서, n은 0 또는 1이고, X9 및 X10 또는 X11은 상기 제공된 의미 및 선호도를 갖고;
Figure 112017108134818-pct00045
및 추가로, 1-콜레스테릴-옥시-2,4-디아미노-벤젠, 1-콜레스타닐옥시-2,4-디아미노벤젠, 콜레스테릴옥시(3,5-디아미노-벤조일), 콜레스탄-일옥시(3,5-디아미노벤조일)이고;
추가로, 디아민 (DX)는 참조로 인용된 EP-A-1,818,354의 페이지 10, 라인 48-58 및 페이지 11, 라인 1-19에 기재된 디아민이다.
화학식 (IX-1)의 디아민 (DX)가 가장 바람직하다.
Figure 112017108134818-pct00046
여기서, X6은 상기 제공된 의미 및 선호도를 갖고, 바람직하게는 예를 들면 단일 결합, -O-, -S- 또는 치환되거나 치환되지 않은 C1-C6알킬렌, -O-(CH2CH2O)n-; -O-(C1-C12알킬)n-O-, -S-(C1-C12알킬)n-S-, 트리아진, 1,3,5-트리아지난-2,4,6-트리온, 1,1'-사이클로헥실렌, NR5((C1-C6알킬)nNR6), -(피페리딘)n1-(C1-C6알킬)n-(피페리딘)n이고,
여기서, n은 1 내지 6의 정수이고, n1은 0 내지 6의 정수이고, R11, R12, R13 및 R14는 각각 서로 독립적으로 상기 제공된 바와 동일한 의미 및 선호도를 갖고, 바람직하게는 X6은 단일 결합, -O-, -CH2-이다.
추가로 가장 바람직한 디아민 (DX)는 하기 제공된 바와 같고:
Figure 112017108134818-pct00047
여기서, X6, R11 및 R12는 서로 독립적으로 상기 제공된 바와 동일한 의미 및 선호도를 갖고, R11 및 R12는 바람직하게는 수소, C1-C6알킬, 바람직하게는 C1-알킬 또는 하이드록실이고, X6은 바람직하게는 단일 결합, -O-, -CH2-이다.
계획된 적용 방법에서, 추가의 용매를 첨가함으로써 상기 조성물을 조정하는 것이 유리할 수 있다. 따라서, 또한 본 발명은 제공된 기재와 선호도 내에서 광정렬 조성물에 관한 것이며, 이는 또한 d) 적어도 하나의 추가의 용매를 포함한다.
본 발명의 맥락에서 용어 "추가의 용매"는 하기의 의미 및 선호도를 갖는다:
본 발명에서 사용되는 용매 또는 용매 혼합물은 본 발명에 따르는 조성물을 용해시킬 수 있는 임의의 용매일 수 있다. 바람직하게는 적어도 하나의 추가의 용매는 극성 용매 또는 비극성 용매이다. 특히 바람직한 용매는 유리와 같은 기판에 대한 광정렬 조성물의 우수한 코팅능 또는 프린팅능을 초래하는 용매이다.
비극성 용매는 낮은 유전 상수를 갖고 물과 혼화성이지 않으며, 예를 들면 헥산, 벤젠, 톨루엔, 디에틸 에테르, 클로로포름, 에틸 아세테이트, 디클로로메탄, 클로로벤젠이다.
바람직한 극성 용매는 비양성자성 또는 양성자성 극성 용매이다.
극성 비양성자성 용매는 양성자성 용매와 이온용해력(ion dissolving power)을 공유하지만 산성 수소는 부족한 용매이다. 이들 용매는 일반적으로 높은 유전 상수를 갖고 고도로 극성이다. 예로는 1,4-디옥산, 테트라하이드로푸란(THF), 아세톤, 아세토니트릴(MeCN), N,N-디메틸포름아미드(DMF), N,N-디메틸아세트아미드, 디메틸 설폭사이드(DMSO), N-메틸피롤리돈(NMP), N-에틸피롤리돈(NEP), N-비닐피롤리돈, 테트라메틸우레아, 헥사메틸인산 트리아미드, 감마-부티로락톤(BL), N-메틸모르폴린, 아세토니트릴, 에틸카비톨 아세테이트, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 디아세테이트, 디프로필렌 글리콜, 클로로벤젠, 테트라하이드로푸란, 사이클로펜타논(CP), 메틸에틸케톤(MEK), 에틸 아세테이트(EA), 아니솔(AN), 에틸에톡시 프로피오네이트, 사이클로헥사논(CHN), 메틸 이소부틸 케톤(MIBK), 1-메톡시-2-프로판올 아세테이트(MPA), 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르, 디클로로메탄, 및 이들의 혼합물이 있다. 바람직한 비양성자성 용매로는 N-메틸피롤리돈(NMP), N-에틸피롤리돈(NEP), 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르, 에틸에톡시 프로피오네이트 또는 감마-부티로락톤(BL) 또는 이들의 혼합물이 있다. N-메틸피롤리돈(NMP)이 특히 바람직하다.
극성 양성자성 용매는 해리 가능한 H+, 예를 들면 수소 플루오라이드를 함유하는 용매이며, 양성자성 용매로 불린다. 당해 용매의 분자는 H+(양성자)을 공여할 수 있다. 반면, 비양성자성 용매는 수소 결합을 공여할 수 없다. 양성자성 용매의 통상적인 특징은 수소 결합을 나타낸다는 점, (이는 매우 약한 산성임에도) 산성 수소를 갖는다는 점, 이온(공유되지 않는 자유 원자 쌍에 의한 양이온, 수소 결합에 의한 음이온)을 안정화시킬 수 있다는 점이다. 예로는 아세트산, n-부탄올, 이소프로판올, n-프로판올, 에탄올, 메탄올, 포름산, 2-부톡시에탄올(BC), 에틸카비톨, 부틸카비톨, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 모노아세테이트, 디프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 물이 있다. 바람직한 극성 양성자성 용매는 2-부톡시에탄올(BC)이다.
바람직한 추가의 용매는 감마-부티로락톤(BL), N-메틸피롤리돈(NMP), N-에틸피롤리돈(NEP), 2-부톡시에탄올(BC), 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르, 에틸에톡시 프로피오네이트, N-비닐피롤리돈, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드, 에틸셀로솔브, 에틸카비톨, 부틸카비톨, 에틸카비톨 아세테이트, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 모노아세테이트, 프로필렌 글리콜 디아세테이트, 디프로필렌 글리콜, 및 디프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 클로로벤젠, 테트라하이드로푸란, N-메틸피롤리돈(NMP), 부틸셀로솔브, 사이클로펜타논(CP), 메틸에틸케톤(MEK), 에틸 아세테이트(EA), 아니솔(AN), 사이클로헥사논(CHN), 메틸 이소부틸 케톤(MIBK), 1-메톡시-2-프로판올 아세테이트(MPA), N,N-디메틸포름아미드(DMF), 디클로로메탄, 감마-부티로락톤(BL), 및 이들의 혼합물이다.
더욱 바람직한 용매는 감마-부티로락톤(BL), N-메틸피롤리돈(NMP), N-에틸피롤리돈(NEP), N-비닐피롤리돈, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸-포름아미드, 에틸셀로솔브, 메틸에틸케톤(MEK), 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르, 에틸에톡시 프로피오네이트, 사이클로헥사논(CHN), 2-부톡시에탄올(BC) 부틸셀로솔브, 에틸카비톨, 부틸카비톨, 에틸카비톨 아세테이트, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 모노아세테이트, 프로필렌 글리콜 디아세테이트, 디프로필렌 글리콜, 및 디프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 클로로벤젠, 테트라하이드로푸란, 및 이들의 혼합물이다.
가장 바람직한 추가의 용매는 메틸에틸케톤(MEK), 사이클로헥사논(CHN), 부티로락톤(BL), N-메틸피롤리돈(NMP), 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르, 에틸에톡시 프로피오네이트, N-에틸피롤리돈(NEP), 디메틸포름아미드 및 2-부톡시에탄올(BC) 및 이들의 혼합물이다.
부티로락톤(BL), N-메틸피롤리돈(NMP), N-에틸피롤리돈(NEP), 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르, 에틸에톡시 프로피오네이트, 디메틸포름아미드 및/또는 2-부톡시에탄올(BC)이 특히 가장 바람직하고, N-메틸피롤리돈(NMP), N-에틸피롤리돈(NEP), 디메틸포름아미드 및/또는 2-부톡시에탄올(BC) 및 이들의 혼합물이 더욱 특히 가장 바람직하다.
본 발명의 추가의 양태는, 상기 제공된 의미 및 선호도 내에서, 적어도 하나의 비양성자성 극성 용매 이외에도, 바람직하게는 2개의 비양성자성 극성 용매, 더욱 바람직하게는 N-메틸피롤리돈(NMP) 또는 N-에틸피롤리돈(NEP)으로부터 선택되는 적어도 하나의 용매, 가장 바람직하게는 N-메틸피롤리돈(NMP) 및 2-부톡시에탄올(BC) 또는 N-에틸피롤리돈(NEP) 및 2-부톡시에탄올(BC)인 2개의 비양성자성 용매를 포함하는, 광정렬 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 더욱 바람직한 양태는, 전술한 의미 및 선호도 내에서, 바람직하게는 1 내지 100mPa.s의 범위, 더욱 바람직하게는 1 내지 50mPa.s의 범위, 더욱 더 바람직하게는 10 내지 40mPa.s의 범위(오프셋 프린팅용), 4 내지 15mPa.s의 범위(잉크젯 프린팅용), 가장 바람직하게는 15 내지 40mPa.s의 범위(오프셋 프린팅용); 및 4 내지 10mPa.s의 범위(잉크젯 프린팅용)의 점도를 갖는 본 발명의 광정렬 조성물을 기판에 도포함으로써 무결점의 균일한 액정 정렬층을 제조하는 방법에 관한 것으로, 상기 조성물은 부티로락톤(BL), N-메틸피롤리돈(NMP), N-에틸피롤리돈(NEP), 디메틸포름아미드 및 2-부톡시에탄올(BC)와 같은 용매의 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나의 용매를 추가로 포함하고, 본 발명의 조성물 내의 용매 (I) 및 임의의 추가의 용매의 양은 99 내지 70중량%, 바람직하게는 99 내지 80중량%, 더욱 바람직하게는 99 내지 90중량% 범위이다.
본 발명의 광정렬 조성물의 용매를 포함하는 모든 성분들의 모든 중량비의 합은 100%이다.
본 발명에서, 본 발명의 광정렬 조성물은 계면활성제를 추가로 포함할 수 있다.
계면활성제는 표면 또는 계면에서 물리적으로 흡착하여 계면에서의 에너지 관계를 변화시키는 경향이 있는 화학 물질이다. 이로써 계면활성제는 표면 장력을 변화시킨다.
적합한 계면활성제는 습윤-, 또는 레벨링-, 블로킹-, 스크래치-, 슬립-, 마모(mar)- 또는 마멸(abrasion)-내성-; 탈기-, 소포-, 소수성화-, 분산-, 레올로지 제어-제제; 바람직하게는 습윤-, 레벨링-, 블로킹- 스크래치-, 슬립-, 마모- 또는 마멸-내성-제제; 분산- 및 레올로지 제어-제제; 더욱 바람직하게는 습윤-, 분산-, 레벨링-, 블로킹- 스크래치-내성-제제; 가장 바람직하게는 습윤-, 분산-, 레벨링-제제이다. 습윤- 및 레벨링-제제가 특히 가장 바람직하다.
전술한 특성을 갖는 계면활성제는 당업계에 잘 알려져 있다.
바람직하게는, 계면활성제는 비-중합체성 또는 중합체성; 반응성 또는 비반응성, 포화 또는 불포화; 비이온성, 양쪽성, 음이온성 또는 양이온성 화합물이다. 본 발명의 맥락에서 반응성은 가교결합 가능한, 중합 가능한, 또는 이량체화 가능한의 의미를 갖는다.
바람직한 계면활성제는 중합체성이며 가교결합, 중합, 또는 이량체화 가능하다.
양쪽성은 예를 들면 알킬 암포(디)아세테이트, 아미도 베타인 또는 알칼리 베타인이다.
양이온성 계면활성제는 예를 들면 알킬 디메틸아민, 알킬 아미도프로필아민, 알킬 이미다졸린 유도체, 4급화된 아민 에톡실레이트, 4급 암모늄 화합물이고;
더욱 바람직하게는, 중합체인 계면활성제는 (블럭, 통계, 그래프, 분지된) 단독중합체 또는 공중합체이거나, 반응성 또는 비반응성이고, 예를 들면 가교결합, 중합, 또는 이량체화 가능한 계면활성제이다. 반응성, 예를 들면 가교결합 가능한 계면활성제가 가장 바람직하다.
비-중합체성 계면활성제의 예는 유기 설포네이트 유도체, 예를 들면 알킬 페놀 에테르 설페이트, 알파 올레핀 설포네이트, 방향족 하이드로카본 설폰산, 염 및 블렌드, 나프탈렌 설포네이트, 축합된 나프탈렌 설포네이트, 지방산 알코올 설페이트, 디-알킬 설포-석시네이트, 모노-알킬 설포석시네이트, 알킬 설포석시나메이트, 디-알킬 설포석시네이트, 레시틴 유도체, 예를 들면 소자레시틴(sojalecitine); 텐사이드(tenside) 유도체, 예를 들면 양이온성, 음이온성 또는 양쪽성 텐사이드 특히 지방산 에스테르 유도체; 카본산 에스테르 또는 에테르 유도체, 예를 들면 하이드록시관능성 카본산 에스테르 또는 에테르 유도체, 알킬 에테르 포스페이트, 알킬 에테르 카복실산 및 염, 알킬 에테르 설페이트; 알킬 포스페이트, 알킬 벤젠 설폰산 및 염, 알킬 페놀 에테르 포스페이트, 알킬 페놀 에테르 설페이트, 방향족 하이드로카본 설폰산, 염 및 블렌드이다.
바람직한 비-중합체성 계면활성제는 카본산 에스테르 또는 에테르 유도체, 특히, Disperbyk®-108이다.
중합체성 계면활성제의 예는 예를 들면 유기 중합체, 예를 들면 아미드 중합체, 이미드 중합체, 폴리우레탄, 실리콘/실록산 중합체, 플루오로 중합체 또는 아크릴레이트 중합체, 폴리에테르 폴리카본산 구조(유기-개질된 폴리실록산 또는 아민 유도체를 또한 함유함), 또는 비이온성 분산 중합체이다.
유기 중합체 계면활성제는 예를 들면 하이드로카본 계면활성제, 예를 들면 고비점 방향족, 케톤 및 에스테르의 용매 블렌드, 또는 fame(Fatty Acid Modified Emulsifiers)(지방산 개질된 에멀젼화제)이다.
Fame은 지방산 화학을 기반으로 하며, 급 아민을 기본으로 하는 극성의 헤드를 갖고, 예를 들면 지방산 개질된 폴리에스테르, 산성 그룹을 갖는 지방족 폴리에테르, 지방산 개질된 용액, 물 중의 폴리에스테르가 있다.
실리콘/실록산 중합체는 예를 들면 반응성 또는 비반응성 폴리실록산, 예를 들면
유기적으로 개질된 폴리실록산
유기적으로 개질된 폴리실록산
플루오로카본 개질된 폴리실록산
무용매 개질된 폴리실록산
개질된 폴리실록산 에멀젼
폴리실록산
폴리실록산 공중합체
폴리에테르 실록산 공중합체
이소시아네이트-말단 폴리실록산
불포화 말단 그룹으로 개질된 폴리실록산
폴리실록산 개질된 폴리이소시아네이트
폴리에테르 실록산 공중합체의 에멀젼
퓸드 실리카를 함유하는 폴리실록산계 생성물
실리콘 아크릴레이트이다.
플루오로 중합체는 예를 들면
플루오로카본 개질된 중합체
플루오로카본 개질된 폴리아크릴레이트
플루오로실리콘
중합체성 플루오로카본 화합물이다.
아크릴레이트 중합체는 예를 들면
아크릴 중합체
암모늄 폴리아크릴레이트
나트륨 폴리아크릴레이트
암모늄 폴리아크릴레이트 공중합체
나트륨 폴리아크릴레이트 공중합체이다.
비이온성 분산 중합체는 예를 들면
아민 옥사이드
알킬 폴리사카라이드
블럭 공중합체
캐스터유 에톡실레이트
세토-올레일 알코올 에톡실레이트
세토-스테아릴 알코올 에톡실레이트
데실 알코올 에톡실레이트
디노닐 페놀 에톡실레이트
도데실 페놀 에톡실레이트
말단-종결된(end-capped) 에톡실레이트
에테르 아민 유도체
에톡실레이티드 알카놀아미드
에틸렌 글리콜 에스테르
지방산 알카놀아미드
지방산 알코올 알콕실레이트
라우릴 알코올 에톡실레이트
모노-분지 알코올 에톡실레이트
중성 알코올 에톡실레이트
모닐 페놀 에톡실레이트
옥틸 페놀 에톡실레이트
올레일 아민 에톡실레이트
랜덤 공중합체 알콕실레이트
소르비탄 에스테르 에톡실레이트
스테아르산 에톡실레이트
스테아릴 아민 에톡실레이트
합성 알코올 에톡실레이트
톨유(tall oil) 지방산 에톡실레이트
탤로우(tallow) 아민 에톡실레이트
트리드(trid) 트리데카놀 에톡실레이트이다.
바람직한 중합체성 계면활성제는 비이온성 중합체성 계면활성제, 특히 실리콘 또는 실록산 중합체이고, 가장 바람직하게는 실리콘 아크릴레이트, 특히, Tego®Rad 2500이다.
본 발명의 추가의 바람직한 양태는 2종의 또는 2종이 넘는 계면활성제의 조성물에 관한 것이다.
습윤성 및 레벨링성을 갖는 계면활성제를 위한 통상의 공급업자로는 예를 들면 ADD APT, Air Products, Akzo-Nobel, Akzo-Nobel Cellulosic Specialities, BASF, Borchers, BYK Chemie, Ciba Specialty Chemicals, Cognis, Condea Servo, Degussa-Goldschmidt, Dexter Chemical, Dow Chemical, Dow Corning, DuPont, Elementis, GE Silicones, International Speciality Product, Rhodia, Tego, Tiarco Chemical, Troy, UCB Chemical, Ultra Additive, Worlee, 3M, Additek, C. P. Hall, Cytec, Efka Additives, Hercules, Liaoyang Huaxing Chemical, Polyvel, R. T. Vanderbilt, Sovereign Chemical, Stepan, Tiarco Chemical, Sachtleben, Rhodia, Raschig, Potters Ballotini이 있다.
습윤성 및 레벨링성을 갖는 계면활성제의 예는 다음과 같다:
- Tego/Degussa로부터 입수 가능: Tego® Colorol, Tego® Dispers, Tego® Lipotin, Tego® Twin, Tego® Wet, Rewopol®, Tego® Surten, Tego®Rad, Tego®Glide, Tegomer®, Tego®Flow such as Tego®Flow 300, Tego® Colorol E, Tego® Colorol F, Tego® Colorol Standard, Tego® Dispers 655, Tego® Dispers 660 C, Tego® Dispers 661 C, Tego® Dispers 662 C,Tego® Dispers 680 UV, Tego® Dispers 681 UV, Tego® Lipotin A, Tego® Lipotin BL, Tego® Lipotin DB, Tego® Lipotin SB, Tego® Twin 4000, Tego® Wet 250, Tego® Wet 260, Tego® Wet 265, Tego® Wet 270, Tego® Wet 280, Tego® Wet 500, Tego® Wet 505, Tego® Wet 510, Tego® Wet 590, Tego® Wet 591, Tego® Wet KL 245, Rewopol® B 2003, Rewopol® M 365, Rewopol® SB DO 70, Rewopol® SB DO, Rewopol® SB DO 75 PG, Rewopol® SB FA 50, Rewoquat® W 75, Rewoteric® AM CAS, Tego® Surten W 11 1, Tego® Surten W 125, Tego® Surten W 130, Tego® Surten W 133, Tego® Surten W 5840, Tego® Surten W 5878, Tego®Rad 2100, Tego®Rad 2200 N, Tego®Rad 2250, Tego®Rad 2300, Tego®Rad 2500, Tego®Rad 2600, Tego®Rad 2700, Tego®Glide 130, Tego®Glide 406, Tego®Glide 410, Tego®Glide 411, Tego®Glide 415, Tego®Glide 420, Tego®Glide 432, Tego®Glide 435, Tego®Glide 440, Tego®Glide 450, Tego®Glide 482, Tego®Glide A 115, Tego®Glide B 1484, Tego®Glide ZG 400, Tego®Flow 300, Tegomer® CSi 2342, Tegomer® D 3403, Tegomer® E-si. Tegomer® ESi 2330, Tegomer® HSi 2311, Tegomer® VSi 2250.
- Efka로부터 입수 가능: EFKA 3033, EFKA 3034, EFKA 3232, EFKA 3277, EFKA 3299, EFKA 3883, EFKA 6903, EFKA 6906, EFKA 3522, EFKA 5010, EFKA 5044, EFKA 5054, EFKA 5055, EFKA 5063, EFKA, EFKA 5066, EFKA, EFKA 5207, EFKA 5244, Efka® 3500, Efka® 3600, Efka® 3650, Efka® 4590, EFKA® 5065, EFKA® 5070, Efka® 6225, Efka® 6230, Efka®, Efka® 7311, Efka® 7315, Efka® 7316, Efka® 7340, Efka® 7361, Efka® 7375, Efka® 7381, Efka® 7390, Efka® 7500, Efka® 7544, Efka® 7554, Efka® 7564
- BYK로부터 입수 가능: Byk® 첨가제, 예를 들면 Byk® 307, Byk® 333, Byk® 9075, Byk® 9076, Byk® 9077, Byk® 935, Byk® 961, Byk® A 560, Byk® W 909, BYKOPLAST® 1000, Disperplast 1011, Byk® S 706, Byk® W 909, Aquacer® 840, Byk®-077, Byk®-085, Byk®-315, Byk®-320, Byk®-321, Byk®-322, Byk®-323, Byk®-325, Byk®-336, Byk®-340, Byk®-345, Byk®-346, Byk®-347, Byk®-348, Byk®-352, Byk®-353, Byk®-354, Byk®-355, Byk®-356, Byk®-357, Byk®-358 N, Byk®-359, Byk®-360 P, Byk®-361 N, Byk®-363 P, Byk®-364 P, Byk®-365 P, Byk®-366 P, Byk®-368 P, Byk®-370, Byk®-371, Byk®-373, Byk®-375, Byk®-380 N, Byk®-381, Byk®-390, Byk®-392, Byk®-P 104 S, Byk®-S 706, Byk®-Silclean 3700, Byk®-UV 3500, Byk®-UV 3510, Byk®-UV 3530, Byketol®-OK, Byketol®-Special, Byketol®-WS, Minerpol® 221, DisperByk®-108.
가장 바람직한 계면활성제는, 안료 아핀(affine) 그룹을 갖는, Tego®Flow 300, Tego®Rad 2600, Tegomer® E-si, Tego®Rad 2700, EFKA-3883, EFKA 6903, EFKA 6906, EFKA 3299, Tego®Rad 2500 폴리디메틸실록산 및 DisperByk®-108 하이드록실 관능화된 카본산 에스테르이다. 특히 가장 바람직한 계면활성제는 Tego®Flow 300, Tego®Rad 2500 및 DisperByk®-108이다.
본 발명의 범위 내에서 용어 기판(substrate)은, 기본 재료의 전체 표면의 일부 또는 전부 상에 하나 이상의 층 또는 필름을 생성시키는 프로세스가 수행되는 기본 재료를 기술한다. 기판은, 예를 들면 유리, 금속, 중합체 필름 또는 복합 재료와 같은 모든 유형의 고체 재료로 이루어질 수 있다. 반드시 그러한 것은 아니지만, 대부분의 경우, 기판은 슬래브(slab) 형상으로 또는 개별적으로 절단된 조각들로 도포되며, 또는 가요성 기본 재료의 경우 실린더 형상으로 회전된다.
추가의 바람직한 양태에서, 본 발명은 상기 제공된 의미 및 선호도 내에서 용매 중의 계면활성제를 1 내지 99%, 바람직하게는 1 내지 20%, 더욱 바람직하게는 1 내지 10중량% 범위로 추가로 포함하는 광정렬 조성물에 관한 것이다.
상기 조성물 중의 계면활성제의 양은 기계적 열적 안정성 측면에서 목적으로 하는 성능, 및 광학 및 전기광학적 성능에 따라 결정된다.
추가의 바람직한 양태에서, 본 발명은 액정 광정렬 재료 상의 계면활성제의 추가 수준이 20% 미만, 바람직하게는 0.01 내지 10%, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 5중량%, 가장 바람직하게는 0.1 내지 1중량%인 방법에 관한 것이다.
바람직하게는, 본 발명은 계면활성제를 추가로 포함하는 광정렬 조성물에 관한 것으로, 상기 조성물은 전압 보유율(Voltage Holding Ratio)(VHR), 잔류 DC(Residual DC)(RDC) 또는 AC 메모리(AC Memory)(ACM)에 어떠한 부정적인 영향도 끼치지 않는다.
VHR, ACM 및 RDC는 액정 디스플레이 기술 분야에 통상적으로 알려진 값이며 다음과 같이 기술될 수 있다:
VHR: 박막 트랜지스터형 액정 디스플레이의 경우, 일정량의 전하가 매우 짧은 시간 기간에 걸쳐 픽셀의 전극에 인가되며, 이후 액정의 저항에 의해 드레인(drain)되지 않아야 한다. 당해 전하를 유지하고 이에 따라 액정에 걸친 전압 강하를 유지하는 능력은 "전압 보유 비"(VHR)로 정량화되어 있다. 이는 1개 프레임 기간(frame period) 이내의 1개 픽셀에서의 RMS-전압(root mean square voltage)(실효 전압)과, 인가된 전압의 초기 값의 비이다.
ACM (Alternative Current Memory)(교류 메모리): 7볼트(1kHz)의 AC(교류) 전압이 700시간 동안 셀에 인가된다. 셀의 프리틸트각(pretilt angle)은 AC 응력을 인가하기 전 및 인가한 후에 측정된다. ACM 성능은 프리틸트각 차이 △Θ 측면에서 나타낸다.
RDC (Residual Direct Current)(잔류 직류): V = 2VDC의 조절 가능한 DC(직류) 부품이 V = 2.8V(30Hz)의 대칭 구형파 신호에 추가되므로, 테스트 셀에 의해 전송되는 광의 변동(fluctuation)은 외부 DC 부품의 적절한 선택에 의해 제거되거나 적어도 최소화될 수 있다. 내부 잔류 DC-전압의 보상에 의해 플리커(flicker)가 제거되거나 최소화되는 외부-DC 전압은 내부 잔류-DC 전압과 동일한 것으로 간주된다.
전압 보유 비(VHR), 잔류 DC(RDC) 또는 AC 메모리(ACM)에 어떠한 부정적인 영향도 끼치지 않는 비이온성 계면활성제가 바람직하다.
본 발명의 추가의 바람직한 양태는, 모든 기재된 선호도에 의해 전술된 바와 같은 광정렬 조성물을 프린팅 또는 코팅에 의해 기판에 도포함을 포함하는, 액정 정렬층의 제조 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 전극으로 임의로 코팅된 기판[예를 들면, 인듐-주석 산화물(ITO)로 코팅된 유리판] 상에 상기 조성물을 도포하여 0.05 내지 100㎛ 두께의 균질한 층이 생성된다.
본 발명의 추가의 바람직한 양태는, <300nm, 바람직하게는 <250nm, 더욱 바람직하게는 <200nm 두께의 무결점의 균일한 액정 정렬층을 제조하기 위한, 전술된 바와 같은 방법 및 상기 방법의 모든 기재된 선호도에 관한 것으로; 바람직하게는, 상기 액정 광정렬 재료는 전술한 바와 같고 전술한 모든 선호도를 갖는 디아민 (I) 및 테트라카복실산 무수물을 포함하는 중합체이다.
코팅 방법으로는 예를 들면 스핀 코팅, 에어 닥터 코팅, 블레이드 코팅, 나이프 코팅, 리버스 롤 코팅, 전사 롤 코팅, 그라비어 롤 코팅, 키스 롤 코팅, 캐스트 코팅, 분무 코팅, 스핀-코팅, 메니스커스-코팅, 와이어-코팅, 슬롯-오리피스 코팅, 캘린더 코팅, 전착 코팅, 딥 코팅 또는 다이 코팅이 있다.
프린팅 방법으로는 예를 들면 잉크젯-프린팅, 직접-프린팅, 릴리프 프린팅(예를 들면 플렉소그래피 프린팅), 인타글리오 프린팅(예를 들면 직접 그라비어 프린팅 또는 오프셋 그라비어 프린팅), 리소그래피 프린팅(예를 들면 오프셋 프린팅), 또는 스텐실 프린팅(예를 들면 스크린 프린팅, 플렉소그래피-프린팅 또는 평면-프린팅)이 있다.
직접 프린팅, 예를 들면 그라비어, 플렉소그래피; 스크린 프린팅 및 레터프레스 프린팅 프로세스가 바람직하고; 간접 프린팅, 예를 들면 오프셋 프린팅; 및 평면 프린팅, 예를 들면 리소그래피; 릴리프 프린팅, 인타글리오 프린팅 및 잉크젯 프린팅; 및 플렉소그래피 프린팅이 추가로 바람직하다.
단일 프린팅 프로세스에 관한 기재는 통상의 지식이며 아래에 부분적으로 제공된다.
본 발명의 추가의 더욱 바람직한 양태는, 프린팅에 의해, 바람직하게는 간접 프린팅, 예를 들면 오프셋 프린팅에 의해; 평면 프린팅, 예를 들면 리소그래피; 릴리프 프린팅, 인타글리오 프린팅; 잉크젯 프린팅, 또는 플렉소그래피 프린팅; 더욱 바람직하게는 잉크젯 프린팅에 의해 기판에 도포되는 조성물을 포함하는, 전술된 바와 같은 방법 및 상기 방법의 모든 기재된 선호도에 관한 것이다.
본 발명의 추가의 바람직한 양태는, 액정 광정렬 재료를 정렬광으로 처리, 바람직하게는 정렬, 더욱 바람직하게는 가교결합 및/또는 이성체화시킴을 추가로 포함하는, 전술된 바와 같은 방법 및 상기 방법의 모든 기재된 선호도에 관한 것이다.
정렬 대상 영역은, 편광판 및 임의로 구조물 이미지를 생성시키기 위한 마스크를 사용하여 예를 들면 고압 수은 증기 램프, 제논 램프 또는 펄스 UV 레이저로 조사된다.
추가로, 편광면 및/또는 정렬광의 조사 방향을 제어함으로써, 액정 정렬층 내의 배향 방향 및 틸트각을 변화시킬 수 있다. 액정 정렬층의 특정 영역을 선택적으로 조사함으로써, 상기 층의 매우 특정한 영역이 정렬될 수 있음이 이해된다. 이러한 방식으로, 규정된 틸트각을 갖는 층이 제공될 수 있다. 유도된 배향 및 틸트각은 프로세스에 의해, 특히 가교결합 프로세스에 의해 액정 정렬층에 유지된다.
정렬광의 처리는 단일 단계로 또는 여러 개별 단계들로 수행될 수 있다. 본 발명의 바람직한 양태에서 정렬광 처리는 단일 단계로 수행된다.
정렬광의 입사 방향은 기판에 대해 법선이거나 임의의 경사각일 수 있다.
틸트각을 생성시키기 위해, 바람직하게는 정렬광은 경사각으로 노광된다.
본 발명의 추가의 바람직한 방법은
- 수직 정렬된 액정 정렬층의 제조 방법;
- 액정 정렬층의 다중 도메인 수직 정렬(multi-domain vertical alignment)의 제조 방법;
- 틸트된 광학 축을 갖는 액정 정렬층의 제조 방법
에 관한 것이다.
추가로, 본 발명은, 액정 정렬시의, 제공된 의미 및 모든 선호도 내에서 본 발명에서 기재되고 본 발명의 방법에 따라 제조된 광정렬 조성물을 포함하는 액정 정렬층의 용도에 관한 것이다.
본 발명의 추가의 양태는 본 발명의 방법으로 수득할 수 있는 액정 정렬층에 관한 것이다.
바람직하게는, 본 발명은 가교결합 및/또는 이성체화 형태의 본 발명에 따르는 광정렬 조성물을 포함하는 액정 정렬층에 관한 것이다.
본 발명의 추가의 바람직한 양태는 두께가 < 300nm, 바람직하게는 < 250nm, 더욱 바람직하게는 < 200nm인 액정 정렬층에 관한 것이다.
상기 액정 정렬층은 구조화되지 않거나 구조화된 광학 또는 전기광학 소자의 제조시에, 바람직하게는 하이브리드 층 소자의 제조시에 사용될 수 있다.
일반적으로, 임의로 인듐-주석 산화물(ITO)로 코팅된 유리 또는 플라스틱 기판과 같은 투명 지지체가 사용된다.
추가로, 정렬광의 조사 방향을 제어함으로써, 액정 정렬층 내의 배향 방향 및 틸트각을 변화시킬 수 있다. 중합체 또는 올리고머 층의 특정 영역을 선택적으로 조사함으로써, 상기 층의 매우 특정한 영역이 정렬될 수 있음이 이해된다. 이러한 방식으로, 규정된 틸트각을 갖는 층이 제공될 수 있다. 유도된 배향 및 틸트각은 프로세스에 의해, 특히 가교결합 프로세스에 의해 액정 정렬층에 유지된다.
더욱 바람직하게는, 본 발명은 중합체, 공중합체 또는 올리고머를 지지체에 도포하기 전에 또는 도포한 후에 이미드화가 수행되는 방법에 관한 것이다.
본 발명의 추가의 바람직한 방법은
- 수직 정렬된 액정 정렬층의 제조 방법;
- 액정 정렬층의 다중 도메인 수직 정렬의 제조 방법;
- 틸트된 광학 축을 갖는 액정 정렬층의 제조 방법
에 관한 것이다.
본 발명의 액정 정렬층은 중합체 겔, 중합체 네트워크, 중합체 필름 등의 형태로도 사용될 수 있음이 이해된다. 액정 정렬층은 구조화되지 않거나 구조화된 광학 또는 전기광학 소자의 제조시에, 바람직하게는 하이브리드 층 소자의 제조시에 사용될 수 있다.
또한, 본 발명은, 본 발명에 따른 광정렬 조성물을 지지체에 도포하고, 이어서 용매를 증발시키고, 요구될 수 있는 임의의 이미드화 단계 후에, 바람직하게는 중합체 또는 올리고머 또는 중합체 혼합물 또는 올리고머 혼합물을 정렬광으로 처리하고, 바람직하게는 정렬광을 조사하여 이성체화 및/또는 가교결합시키는, 액정 정렬층의 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명의 바람직한 방법은 중합체 층 또는 올리고머 층의 특정 영역을 선택적으로 조사함으로써 상기 층의 매우 특정한 영역이 정렬되는 방법, 및/또는 정렬광의 조사 방향을 제어함으로써 액정 정렬층 내의 배향 방향 및 틸트각이 변하는 방법에 관한 것이다.
액정 정렬층은 중합체 또는 올리고머 재료의 용액으로부터 적합하게 제조된다. 중합체 또는 올리고머 용액은 전극으로 임의로 코팅된 지지체[예를 들면, 인듐-주석 산화물(ITO)로 코팅된 유리판]에 도포된다. 당해 프로세스에서는 스핀-코팅, 메니스커스-코팅, 와이어-코팅, 슬롯-코팅, 오프셋-프린팅, 플렉소-프린팅, 그라비어-프린팅과 같은 상이한 코팅 기술들이 사용될 수 있다. 이어서, 또는 임의로 선행하는 이미드화 단계 후에, 배향 대상 영역은, 편광판 및 임의로 구조물 이미지를 생성시키기 위한 마스크를 사용하여 예를 들면, 고압 수은 증기 램프, 제논 램프 또는 펄스 UV 레이저로 조사된다.
추가로, 본 발명은 바람직하게는 가교결합 형태인 본 발명에 따르는 액정 정렬층의 액정용 배향층으로서의 용도에 관한 것이다.
추가로, 본 발명은 바람직하게는, 인접한 액정 층의 수직 또는 평면 정렬을 유도하기 위한, 특히 MVA 모드에서의 셀의 작동을 위한 액정 정렬층의 용도에 관한 것이다.
조사 시간은 개별 램프들의 출력에 좌우되며 수 초에서부터 수 시간까지 다양하다. 그러나, 광반응(이량체화, 중합, 가교결합)은, 예를 들면 가교결합 반응을 위한 방사선의 통과만을 허용하는 필터를 사용하여 균질한 층을 조사함으로써 수행될 수도 있다.
본 발명의 액정 정렬층은 적어도 하나의 배향 층 및 구조화되지 않은 및 구조화된 광학 소자 및 다중층 시스템을 갖는 광학 또는 전기광학 디바이스의 제조시에 사용될 수 있음이 이해된다.
본 발명은 액정 배향시의 액정 정렬층의 용도에 관한 것이다.
바람직하게는, 인접한 액정 층의 수직 배향의 유도시에 사용된다.
본 발명의 추가의 양태는 바람직하게는 가교결합 형태인 본 발명에 따르는 광정렬 층을 포함하는 광학 또는 전기광학 디바이스에 관한 것이다. 전기광학 디바이스는 하나가 넘는 층, 바람직하게는 2개의 층을 포함할 수 있다. 층 또는 각각의 층들은 상이한 공간 배향을 갖는 하나 이상의 영역을 함유할 수 있다.
본 발명의 추가의 양태는, 전술된 적어도 하나의 액정 정렬층을 포함하는, 구조화되지 않거나 구조화된 광학 및 전기광학 구성 소자, 바람직하게는 액정 디스플레이 셀, 다중층 및 하이브리드 층 소자에 관한 것이다.
추가로, 본 발명은 바람직하게는, 인접한 액정 층의 수직 정렬을 유도하기 위한, 특히 MVA 모드에서의 셀의 작동을 위한 액정 정렬층의 용도에 관한 것이다.
인접한 액정 층의 수직 정렬 또는 평면 정렬을 유도하기 위한 액정 정렬층의 용도가 바람직하다.
본 발명의 추가의 바람직한 양태는 하나 이상의 액정 정렬층을 포함하는 광학 또는 전기광학 디바이스에 관한 것이다. 전기광학 디바이스는 하나가 넘는 층을 포함할 수 있다. 층 또는 각각의 층들은 상이한 공간 배향을 갖는 하나 이상의 영역을 함유할 수 있다.
광학 및 전기광학 소자를 위한 액정 정렬층의 용도가 추가로 바람직하다.
더욱 바람직하게는, 본 발명은, 본 발명에 따르는 중합체 층, 공중합체 또는 올리고머 층과 같은 적어도 하나의 액정 정렬층을 포함하는, 구조화되지 않거나 구조화된 광학 및 전기광학 구성 소자, 바람직하게는 액정 디스플레이 셀, 다중층 및 하이브리드 층 소자에 관한 것이다.
광학 부품, 시스템 또는 디바이스는 전자기 복사를 생성, 조작 또는 측정한다.
전기광학 부품, 시스템 또는 디바이스는 전기장에 의한 재료의 광학 특성의 변형에 의해 작동한다. 따라서 이는 재료의 전자기(광학) 상태 및 전기(전자) 상태의 상호 작용에 관련된다.
광학 또는 전기광학 부품은, 도파관(waveguide), 보안 또는 브랜드 보호 소자, 바코드, 광학 격자(optical grating), 필터, 위상차판(retarder), 보상 필름(compensation film), 반사성 편광 필름, 흡수성 편광 필름, 이방 산란막 보상판(anisotropically scattering film compensator) 및 위상차 필름(retardation film), 트위스티드 위상차 필름(twisted retarder film), 콜레스테릭(cholesteric) 액정 필름, 게스트-호스트 액정 필름, 단량체 주름진 필름(monomer corrugated film), 스멕틱(smectic) 액정 필름, 편광판, 압전 셀, 비선형 광학 특성을 나타내는 박막, 장식용 광학 소자, 휘도 향상 필름, 파장-대역(wavelength-band) 선택적 보상을 위한 부품, 다중 도메인 보상을 위한 부품, 멀티뷰 액정 디스플레이의 부품, 무채색 위상차판, 편광 상태 보정/조정 필름, 광학 또는 전기광학 센서의 부품, 휘도 향상 필름의 부품, 광기반 전기통신 디바이스용 부품, 이방성 흡수제를 갖는 패턴화된 G/H-편광판, 패턴화된 반사형 원형 편광판, 패턴화된 반사형 선형 편광판, 패턴화된 MC(단량체 주름진 필름)용으로 사용될 수 있다(이에 한정되지는 않는다).
보안 소자, 보상판 및 위상차 필름이 바람직하다.
본 발명의 이점은 당업자가 예측할 수 없는 것이었다. 놀랍게도, 본 발명의 광정렬 조성을 사용하여 높은 코팅 품질에 접근할 수 있는 것으로 밝혀졌다. 또한, 매우 놀랍게도, 균질한 무결점 필름의 요구 충족시키는 얇은 액정 정렬층의 제조가 본 발명의 광정렬 조성물에 의해 가능해졌다.
실시예
용매의 약어:
NMP: 1-메틸-2-피롤리돈 (cas: 872-5O-4)
BC: 2-부톡시에탄올(부틸 셀로솔브) (cas: 11-76-2)
IBIB: 이소부틸 이소부티레이트 (cas: 97-85-8)
형성된 중합체는 이의 고유 점도 및 NMR 데이터를 통해 특징지워졌다. NMR에서는 몇 가지 대표적인 신호를 볼 수 있었다. 적분값(integration)은 상대 값으로 제공된다.
중합체의 합성
폴리암산 1
0.820g(3.66mmol)의 2,3,5-트리카복시사이클로펜틸아세트산-1,2:3,4-무수물을 6.6mL의 NMP 중의 3.649g(3.66mmol)의 [4-[(E)-3-[[5-아미노-2-[4-아미노-2-[[(E)-3-[4-[4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일]옥시페닐]프로프-2-에노일]옥시메틸]페닐]페닐]메톡시]-3-옥소-프로프-1-에닐]페닐] 4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조에이트의 용액에 첨가한다. 이어서 0℃에서 2시간 동안 교반한다. 이어서 상기 혼합물을 실온에서 21시간 동안 반응시킨다. 상기 중합체 혼합물을 18mL의 THF로 희석하고, 800mL의 탈이온수로 침강시켜, 진공하에 실온에서 건조시킨 후, 폴리암산 1을 고유 점도[η] 0.50dL/g로 백색 분말 형태로 수득한다.
Figure 112017108134818-pct00048
폴리암산 2
폴리암산 1과 유사하게 합성하여, 4-{(1E)-3-[2-(2,4-디아미노페닐)에톡시]-3-옥소프로프-1-에닐}페닐 4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조에이트 및 [4-[(E)-3-[[5-아미노-2-[4-아미노-2-[[(E)-3-[4-[4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조일]옥시페닐]프로프-2-에노일]옥시메틸]페닐]페닐]메톡시]-3-옥소-프로프-1-에닐]페닐] 4-(4,4,4-트리플루오로부톡시)벤조에이트를 7/3의 몰 비로 디아민으로 사용하여, 폴리암산 2를 고유 점도[η] 0.33dL/g로 백색 분말 형태로 수득한다.
Figure 112017108134818-pct00049
Figure 112017108134818-pct00050
폴리암산 3
폴리암산 1과 유사하게 합성하여, 4-(4-아미노페녹시)아닐린 및 1,2,3,4-사이클로부탄 테트라카복실산 이무수물을 사용하여, 폴리암산 3을 고유 점도[η] 0.37dL/g로 백색 분말 형태로 수득한다.
Figure 112017108134818-pct00051
폴리암산 4
폴리암산 1의 합성과 유사하게 하여, 4-(4-아미노-2-메틸-페닐)-3-메틸-아닐린을 디아민으로 사용하여, 폴리암산 4를 고유 점도[η] 0.56dL/g로 백색 분말 형태로 수득한다.
Figure 112017108134818-pct00052
제형의 제조
제형 1
NMP 중의 폴리암산 1의 30% 용액 7.0835g을 NMP 중의 폴리암산 3의 20% 용액 201.875g에 첨가한다. 108.042g의 NMP 및 183.02g의 BC를 첨가한다. 상기 혼합물을 30분 동안 교반하고 0.2㎛ PTFE-필터로 여과하여 제형 1을 제공한다.
제형 2
NMP 중의 폴리암산 1의 30% 용액 7.0836g을 NMP 중의 폴리암산 3의 20% 용액 201.872g에 첨가한다. 108.043g의 NMP, 137.25g의 BC 및 45.75g의 IBIB를 첨가한다. 상기 혼합물을 30분 동안 교반하고 0.2㎛ PTFE-필터로 여과하여 제형 2를 제공한다.
제형 3
NMP 중의 폴리암산 2의 30% 용액 11.65g을 NMP 중의 폴리암산 4의 20% 용액 157.52g에 첨가한다. 144.85g의 NMP 및 139.6g의 BC 및 46.52g의 IBIB를 첨가한다. 상기 혼합물을 30분 동안 교반하고 0.2㎛ PTFE-필터로 여과하여 제형 3을 제공한다.
Figure 112017108134818-pct00053
도포예
오프셋 프린팅을 Nakan E-400 MIZ 상에서 다음의 파라미터로 수행한다:
- 코팅 속도 20m/min (조건 1), 또는 25m/min (조건 2)
- 아닐록스 롤 속도 20m/min (조건 1), 또는 25m/min (조건 2)
- 아닐록스 NIP 5 내지 8mm
- 테이블 NIP 10 내지 15mm
- 아닐록스-스크러버 압력 0.48Mpa
코팅된 기판은 핫플레이트 상에서 80℃에서 1.5분 동안 건조시키고 이어서 200℃에서 40분 동안 건조시킨다.
시험에 사용된 기판(조건 1 및 조건 2):
- 두께 0.3mm의 아사히 글래스 PD200
- ITO 코팅된 아사히 글래스 (스퍼터링 증착 SiO2 200nm/ITO 20nm)
- 컬러 필터(CF)
코팅 품질을 제어하여 하기 표에 열거하였으며, 표면 양상 품질은 "매우 우수, 무결점", "약간의 무라(mura), 몇 개의 결점", "무라, 결점" 및 "표면 전반에 걸친 무라, 결점"에 상응하는 1 내지 4로 각각 표기하고; 레벨링은 "매우 우수", "우수", "불량" 및 매우 불량에 상응하는 1 내지 4로 각각 표기하며, 이에 따라 불량한 레벨링은 일부 코팅되지 않은 영역이 발견될 수 있는 탈습윤(de-wetting)을 의미하기도 한다.
표:
Figure 112017108134818-pct00054
"표면 전반에 걸친 결점"의 예: CF 상에 코팅된 제형 1의 도 1에서, 코팅된 표면 전반에 걸쳐 현미경 결함이 발견될 수 있다.
"매우 우수한 레벨링을 갖는 우수한 코팅 양상"의 예: CF 상에 코팅된 제형 2의 도 1에서.

Claims (22)

  1. 광정렬 조성물로서,
    a) 적어도 하나의 광정렬 중합체, 및
    b) 화학식 I의 적어도 하나의 용매
    를 포함하는, 광정렬 조성물.
    화학식 I
    (R-CO-O-R')
    상기 화학식 I에서,
    R은 이소프로필이고 R'는 이소-부틸이다.
  2. 광정렬 조성물로서,
    a) 적어도 하나의 광반응성 그룹을 갖는 단독중합체 또는 공중합체인, 적어도 하나의 광정렬 중합체; 및
    b) 화학식 I의 적어도 하나의 용매
    를 포함하는, 광정렬 조성물.
    화학식 I
    (R-CO-O-R')
    상기 화학식 I에서,
    R은 이소프로필이고 R'는 이소-부틸이다.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, c) 광반응성 그룹을 갖지 않는 추가의 중합체를 포함하는, 광정렬 조성물.
  4. 제2항에 있어서, 상기 광반응성 그룹이 이량체화 가능한, 이성체화 가능한, 중합 가능한 및/또는 가교결합 가능한 그룹인, 광정렬 조성물.
  5. 제2항에 있어서, 상기 광반응성 그룹이 신나메이트-, 쿠마린-, 퀴놀린-, 아조-, 스틸벤-, 시아노스틸벤-, 칼콘-, 디페닐아세틸렌, 벤질리덴-프탈이미딘, 벤질리덴아세토페논, 페닐렌디아크릴로일, 스틸바졸 및/또는 아조-그룹인, 광정렬 조성물.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 적어도 2개의 단량체를 포함하는 적어도 하나의 광정렬 중합체를 포함하고, 이때 적어도 단량체는 광반응성 그룹을 포함하는, 광정렬 조성물.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 광반응성 그룹을 갖는 적어도 2개의 단량체를 포함하는 적어도 하나의 광정렬 중합체를 포함하는, 광정렬 조성물.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서, 폴리암산, 부분적으로 이미드화된 폴리암산, 폴리이미드, 폴리암산 에스테르 또는 폴리실록산인 주쇄를 포함하는, 광반응성 그룹을 갖지 않는 추가의 중합체를 포함하는, 광정렬 조성물.
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서, 동일한 주쇄를 광정렬 중합체로서 갖는, 광반응성 그룹을 갖지 않는 추가의 중합체를 포함하는, 광정렬 조성물.
  10. 제3항에 있어서, 적어도 하나의 광정렬 중합체를 상기 광정렬 중합체 및 광반응성 그룹을 갖지 않는 상기 중합체의 총 중량의 0.5 내지 50중량%의 양으로 포함하는, 광정렬 조성물.
  11. 제1항 또는 제2항에 있어서, d) 비양성자성 또는 양성자성 극성 용매인 적어도 하나의 추가의 극성 용매를 포함하는, 광정렬 조성물.
  12. 제1항 또는 제2항에 있어서, d) 적어도 하나의 비양성자성 극성 용매를 포함하는, 광정렬 조성물.
  13. 제1항 또는 제2항에 있어서, d) 2개의 비양성자성 극성 용매를 포함하는, 광정렬 조성물.
  14. 제1항 또는 제2항에 있어서, d) N-메틸피롤리돈(NMP) 또는 N-에틸피롤리돈(NEP)으로부터 선택된 적어도 하나의 용매를 포함하는, 광정렬 조성물.
  15. 제1항 또는 제2항에 있어서, d) N-메틸피롤리돈(NMP) 및 2-부톡시에탄올(BC) 또는 N-에틸피롤리돈(NEP) 및 2-부톡시에탄올(BC)인 2개의 비양성자성 용매를 포함하는, 광정렬 조성물.
  16. 제1항 또는 제2항에 있어서, 화학식 I의 용매를 상기 조성물의 총 중량에 대해 99 내지 70중량%의 총량으로 포함하는, 광정렬 조성물.
  17. 제1항 또는 제2항에 있어서, 화학식 I의 용매 및 추가의 용매를 상기 조성물의 총 중량에 대해 99 내지 70중량%의 총량으로 포함하는, 광정렬 조성물.
  18. 제1항 또는 제2항에 있어서, 적어도 하나의 계면활성제를 추가로 포함하는, 광정렬 조성물.
  19. 제1항 또는 제2항에 따르는 광정렬 조성물을 프린팅 또는 코팅에 의해 기판에 도포함을 포함하는, 액정 정렬층(aligning layer)의 제조 방법.
  20. 제1항 또는 제2항에 따르는 광정렬 조성물을 포함하는 액정 정렬층.
  21. 제20항에 있어서, 광학 및 전기광학 소자에서 사용되는, 액정 정렬층.
  22. 제20항에 따르는 액정 정렬층을 포함하는 광학 및 전기광학 소자.
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