JPH10189398A - 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔 - Google Patents
電解コンデンサ用アルミニウム電極箔Info
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- JPH10189398A JPH10189398A JP8359898A JP35989896A JPH10189398A JP H10189398 A JPH10189398 A JP H10189398A JP 8359898 A JP8359898 A JP 8359898A JP 35989896 A JP35989896 A JP 35989896A JP H10189398 A JPH10189398 A JP H10189398A
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- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 78
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 76
- 239000011888 foil Substances 0.000 title claims abstract description 70
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims description 13
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 87
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims abstract description 32
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 43
- 238000003825 pressing Methods 0.000 abstract description 4
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 59
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 10
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 3
- FLDCSPABIQBYKP-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,2-dimethylbenzimidazole Chemical compound ClC1=CC=C2N(C)C(C)=NC2=C1 FLDCSPABIQBYKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001741 Ammonium adipate Substances 0.000 description 2
- 235000019293 ammonium adipate Nutrition 0.000 description 2
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000012792 core layer Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000010731 rolling oil Substances 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- NGPGDYLVALNKEG-UHFFFAOYSA-N azanium;azane;2,3,4-trihydroxy-4-oxobutanoate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O NGPGDYLVALNKEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000000866 electrolytic etching Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- WYXIGTJNYDDFFH-UHFFFAOYSA-Q triazanium;borate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]B([O-])[O-] WYXIGTJNYDDFFH-UHFFFAOYSA-Q 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/004—Details
- H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/004—Details
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Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】箔の強度向上と単位体積当たりの静電容量の増
大を、確実にかつ安定的に実現し得る電解コンデンサ用
アルミニウム電極箔を提供する。 【解決手段】少なくとも片面にスポンジ状エッチング層
２が形成されるとともに、該スポンジ状エッチング層２
が厚み方向に圧下されている。かつ圧下されたスポンジ
状エッチング層２のアルミニウム密度ｄ２が０．８〜
２．２ｇ／ｃｍ３に規定されてなる。
大を、確実にかつ安定的に実現し得る電解コンデンサ用
アルミニウム電極箔を提供する。 【解決手段】少なくとも片面にスポンジ状エッチング層
２が形成されるとともに、該スポンジ状エッチング層２
が厚み方向に圧下されている。かつ圧下されたスポンジ
状エッチング層２のアルミニウム密度ｄ２が０．８〜
２．２ｇ／ｃｍ３に規定されてなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、電解コンデンサ
用アルミニウム電極箔に関する。
用アルミニウム電極箔に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】アルミ
ニウム電解コンデンサ用電極材として一般に用いられる
アルミニウム箔には、その実効面積を拡大して単位面積
当たりの静電容量を増大させるため、一般に電気化学的
あるいは化学的エッチング処理が施される。また、エッ
チング特性を高めるために、エッチング処理前にアルミ
ニウム箔の表面層除去、酸化皮膜形成、焼鈍等の種々の
処理が行われることも多い。
ニウム電解コンデンサ用電極材として一般に用いられる
アルミニウム箔には、その実効面積を拡大して単位面積
当たりの静電容量を増大させるため、一般に電気化学的
あるいは化学的エッチング処理が施される。また、エッ
チング特性を高めるために、エッチング処理前にアルミ
ニウム箔の表面層除去、酸化皮膜形成、焼鈍等の種々の
処理が行われることも多い。
【０００３】しかしながら、エッチングによりアルミニ
ウム箔の拡面率を可及的に高めることは、言い換えると
深さの深いエッチングピットを多数形成することであ
り、このことがアルミニウム箔の機械的な強度を低下さ
せ、エッチング後の化成処理工程等においてアルミニウ
ム箔を破断させるという問題点があった。そのため、箔
厚を厚くするような対策が行われているが、箔厚を厚く
するとコンデンササイズが大きくなってしまい、やはり
不都合である。このため、電解コンデンサ用アルミニウ
ム電極箔の静電容量の増大と強度向上とを同時に実現す
る方法が望まれていた。
ウム箔の拡面率を可及的に高めることは、言い換えると
深さの深いエッチングピットを多数形成することであ
り、このことがアルミニウム箔の機械的な強度を低下さ
せ、エッチング後の化成処理工程等においてアルミニウ
ム箔を破断させるという問題点があった。そのため、箔
厚を厚くするような対策が行われているが、箔厚を厚く
するとコンデンササイズが大きくなってしまい、やはり
不都合である。このため、電解コンデンサ用アルミニウ
ム電極箔の静電容量の増大と強度向上とを同時に実現す
る方法が望まれていた。
【０００４】このような技術的背景のなかで、本出願人
は、静電容量の増大を保証しつつ、厚みを増すことなく
強度を向上させ得るものとして、アルミニウム箔をエッ
チングしたのちに圧下する電解コンデンサ用アルミニウ
ム電極箔の製造方法を提案した（特開平６−２０４０９
４号）。この方法によれば、エッチング箔の圧下によ
り、単位体積当たりの静電容量の増大とともに箔の強度
向上をも実現することができるものであった。
は、静電容量の増大を保証しつつ、厚みを増すことなく
強度を向上させ得るものとして、アルミニウム箔をエッ
チングしたのちに圧下する電解コンデンサ用アルミニウ
ム電極箔の製造方法を提案した（特開平６−２０４０９
４号）。この方法によれば、エッチング箔の圧下によ
り、単位体積当たりの静電容量の増大とともに箔の強度
向上をも実現することができるものであった。
【０００５】しかしながら、エッチング箔を同じ圧下率
で圧下しても、エッチング箔のエッチング状態によっ
て、単位体積当たりの静電容量の増大や箔の強度向上を
得られない場合があることが、その後の発明者らの研究
により判明した。そして、さらに研究を続けた結果、圧
下されたエッチング層のアルミニウム密度が、単位体積
当たりの静電容量の増大効果や、箔の強度向上効果に対
する支配的要因として作用していることを知見した。
で圧下しても、エッチング箔のエッチング状態によっ
て、単位体積当たりの静電容量の増大や箔の強度向上を
得られない場合があることが、その後の発明者らの研究
により判明した。そして、さらに研究を続けた結果、圧
下されたエッチング層のアルミニウム密度が、単位体積
当たりの静電容量の増大効果や、箔の強度向上効果に対
する支配的要因として作用していることを知見した。
【０００６】この発明は、このような知見に基づいてな
されたものであって、箔の強度向上と単位体積当たりの
静電容量の増大を、確実にかつ安定的に実現し得る電解
コンデンサ用アルミニウム電極箔の提供を目的とする。
されたものであって、箔の強度向上と単位体積当たりの
静電容量の増大を、確実にかつ安定的に実現し得る電解
コンデンサ用アルミニウム電極箔の提供を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明に係る電解コンデンサ用アルミニウム電極
箔は、アルミニウム箔の少なくとも片面にスポンジ状エ
ッチング層を有するとともに、該スポンジ状エッチング
層が厚み方向に圧下されており、かつ圧下されたスポン
ジ状エッチング層のアルミニウム密度ｄ２が０．８〜
２．２ｇ／ｃｍ３に規定されてなることを特徴とするも
のである。
に、この発明に係る電解コンデンサ用アルミニウム電極
箔は、アルミニウム箔の少なくとも片面にスポンジ状エ
ッチング層を有するとともに、該スポンジ状エッチング
層が厚み方向に圧下されており、かつ圧下されたスポン
ジ状エッチング層のアルミニウム密度ｄ２が０．８〜
２．２ｇ／ｃｍ３に規定されてなることを特徴とするも
のである。
【０００８】また、圧下前のスポンジ状エッチング層の
アルミニウム密度ｄ１が１．０ｇ／ｃｍ３以下に規定さ
れているエッチング箔を使用することを特徴とするもの
である。
アルミニウム密度ｄ１が１．０ｇ／ｃｍ３以下に規定さ
れているエッチング箔を使用することを特徴とするもの
である。
【０００９】さらに、圧下後のエッチング層のアルミニ
ウム密度ｄ２と圧下前のエッチング層のアルミニウム密
度ｄ１との比ｄ２／ｄ１が１．２〜３．７であることを
特徴とするものである。
ウム密度ｄ２と圧下前のエッチング層のアルミニウム密
度ｄ１との比ｄ２／ｄ１が１．２〜３．７であることを
特徴とするものである。
【００１０】なお、この明細書において、アルミニウム
密度、厚さ、圧下率はいずれも平均値をいうものであ
る。
密度、厚さ、圧下率はいずれも平均値をいうものであ
る。
【００１１】電極箔として用いられるアルミニウム箔は
純度９９．９％以上の高純度のものが望ましいが、これ
に限定されることはなく、電解コンデンサ電極用として
用いられる純度のもので良い。また、アルミニウム箔
は、箔圧延工程を終了し、要すれば最終焼鈍を終えた厚
さ２００μｍ以下のものが用いられ、好ましくは１５〜
１２０μｍの厚さのものが用いられる。
純度９９．９％以上の高純度のものが望ましいが、これ
に限定されることはなく、電解コンデンサ電極用として
用いられる純度のもので良い。また、アルミニウム箔
は、箔圧延工程を終了し、要すれば最終焼鈍を終えた厚
さ２００μｍ以下のものが用いられ、好ましくは１５〜
１２０μｍの厚さのものが用いられる。
【００１２】前記スポンジ状エッチング層はアルミニウ
ム箔をエッチングすることにより得られるものである。
ここに、スポンジ状エッチング層とは、図１に示すよう
に、三次元方向においてほぼ連続気泡状態に複雑に連通
した空隙部（２ａ）を有するエッチング組織層（２）を
いう。もとより、存在する空隙部のすべてが完全に連通
している必要はなく、非連通状態の独立した空隙部を含
んでいても良い。なお、箔厚方向にほぼ垂直にピットが
発生しているトンネルエッチングタイプの場合は、圧下
することにより、トンネル状ピットの長さが短くなり、
圧下率に相当する容量低下となり圧下の効果は見られな
い。これに対して、スポンジ状エッチングでは、多くの
空隙部の容積の減少に比べて空隙部の表面積の減少が小
さくなるため、圧下効果が得られるものである。
ム箔をエッチングすることにより得られるものである。
ここに、スポンジ状エッチング層とは、図１に示すよう
に、三次元方向においてほぼ連続気泡状態に複雑に連通
した空隙部（２ａ）を有するエッチング組織層（２）を
いう。もとより、存在する空隙部のすべてが完全に連通
している必要はなく、非連通状態の独立した空隙部を含
んでいても良い。なお、箔厚方向にほぼ垂直にピットが
発生しているトンネルエッチングタイプの場合は、圧下
することにより、トンネル状ピットの長さが短くなり、
圧下率に相当する容量低下となり圧下の効果は見られな
い。これに対して、スポンジ状エッチングでは、多くの
空隙部の容積の減少に比べて空隙部の表面積の減少が小
さくなるため、圧下効果が得られるものである。
【００１３】上記のようなスポンジ状エッチング層
（２）は、アルミニウム箔の少なくとも片面に形成され
たものであれば良いが、一般的にはアルミニウム箔の両
面に形成されたものとなされる。また、スポンジ状エッ
チング層（２）の形成は、各種のエッチング条件、例え
ば処理溶液の組成、液温、処理時間等を適宜組み合わせ
たエッチング処理をアルミニウム箔に施すことにより行
われる。スポンジ状エッチング層（２）の形成を可能と
するエッチング条件についてその一例を説明すると、エ
ッチング処理は電圧を印加しての電気化学的エッチン
グ、電圧印加のない化学的エッチングいずれでも良い。
処理溶液は、ＨＣｌ、ＨＮＯ３、Ｈ３ＰＯ４の混合溶
液、ＨＣｌ、ＨＮＯ３、Ｈ２ＳＯ４の混合溶液、ＨＣ
ｌ、ＨＮＯ３、Ｈ３ＰＯ４、Ｈ２ＳＯ４の混合溶液、Ｈ
Ｃｌ、ＨＮＯ３、Ｈ３ＰＯ４、Ｈ２ＳＯ４、ＡｌＣｌ３
の混合溶液、ＨＣｌとＨ２ＳＯ４の混合溶液、ＨＣｌ水
溶液、等を挙げ得る。液温は３０〜８５℃程度とするの
が望ましい。処理時間は他のエッチング条件との関係で
変わるが、一般的には１〜２０分程度とするのが良い。
電解エッチングの場合、印加電圧は交流、交直重畳ある
いはパルスとするのが良い。また、電流密度は３〜３０
Ａ／ｄｍ２に設定するのが良い。また、エッチング処理
形態は、１回の処理による１段エッチングでも良いし、
あるいはエッチング条件を変えて順次的に２回以上の処
理を施した２段エッチングや３段エッチング等でも良
い。
（２）は、アルミニウム箔の少なくとも片面に形成され
たものであれば良いが、一般的にはアルミニウム箔の両
面に形成されたものとなされる。また、スポンジ状エッ
チング層（２）の形成は、各種のエッチング条件、例え
ば処理溶液の組成、液温、処理時間等を適宜組み合わせ
たエッチング処理をアルミニウム箔に施すことにより行
われる。スポンジ状エッチング層（２）の形成を可能と
するエッチング条件についてその一例を説明すると、エ
ッチング処理は電圧を印加しての電気化学的エッチン
グ、電圧印加のない化学的エッチングいずれでも良い。
処理溶液は、ＨＣｌ、ＨＮＯ３、Ｈ３ＰＯ４の混合溶
液、ＨＣｌ、ＨＮＯ３、Ｈ２ＳＯ４の混合溶液、ＨＣ
ｌ、ＨＮＯ３、Ｈ３ＰＯ４、Ｈ２ＳＯ４の混合溶液、Ｈ
Ｃｌ、ＨＮＯ３、Ｈ３ＰＯ４、Ｈ２ＳＯ４、ＡｌＣｌ３
の混合溶液、ＨＣｌとＨ２ＳＯ４の混合溶液、ＨＣｌ水
溶液、等を挙げ得る。液温は３０〜８５℃程度とするの
が望ましい。処理時間は他のエッチング条件との関係で
変わるが、一般的には１〜２０分程度とするのが良い。
電解エッチングの場合、印加電圧は交流、交直重畳ある
いはパルスとするのが良い。また、電流密度は３〜３０
Ａ／ｄｍ２に設定するのが良い。また、エッチング処理
形態は、１回の処理による１段エッチングでも良いし、
あるいはエッチング条件を変えて順次的に２回以上の処
理を施した２段エッチングや３段エッチング等でも良
い。
【００１４】また、エッチング処理前に表面層除去、酸
化皮膜の形成、焼鈍等のエッチング特性を向上させるた
めの種々の処理を任意に行っても良い。
化皮膜の形成、焼鈍等のエッチング特性を向上させるた
めの種々の処理を任意に行っても良い。
【００１５】スポンジ状エッチング層（２）は厚み方向
に圧下されていなければならない。このエッチング層
（２）の圧下により、箔の静電容量をあまり低下させる
ことなく、強度の向上を図ることができるからである。
ここに、エッチング層（２）の厚みが減少する一方、箔
の静電容量が低下しないことは、換言すれば、エッチン
グ層（２）の厚み減少分だけ箔の単位体積当たりの静電
容量が増大することを意味し、従って薄型、高性能、高
強度の電極箔となしうることを意味する。しかしなが
ら、圧下後のエッチング層（２）のアルミニウム密度が
０．８ｇ／ｃｍ３未満では、箔の単位体積当たりの静電
容量は若干増大するものの、空隙がいまだ多く存在して
十分な強度向上効果が得られない。一方、圧下後のエッ
チング層（２）のアルミニウム密度が２．２ｇ／ｃｍ３
を超えると、箔の強度は向上するが、拡面率の向上に寄
与する有効な空隙部も減少して、箔の静電容量が低下
し、箔の単位体積当たりの静電容量が低下する。従っ
て、圧下後のエッチング層（２）のアルミニウム密度は
０．８〜２．２ｇ／ｃｍ３とする必要がある。特に好ま
しくは、１．０ｇ／ｃｍ３以上とすべきであり、また
１．８ｇ／ｃｍ３以下とすべきであり、さらには１．２
ｇ／ｃｍ３以上、１．５ｇ／ｃｍ３以下とすべきであ
る。
に圧下されていなければならない。このエッチング層
（２）の圧下により、箔の静電容量をあまり低下させる
ことなく、強度の向上を図ることができるからである。
ここに、エッチング層（２）の厚みが減少する一方、箔
の静電容量が低下しないことは、換言すれば、エッチン
グ層（２）の厚み減少分だけ箔の単位体積当たりの静電
容量が増大することを意味し、従って薄型、高性能、高
強度の電極箔となしうることを意味する。しかしなが
ら、圧下後のエッチング層（２）のアルミニウム密度が
０．８ｇ／ｃｍ３未満では、箔の単位体積当たりの静電
容量は若干増大するものの、空隙がいまだ多く存在して
十分な強度向上効果が得られない。一方、圧下後のエッ
チング層（２）のアルミニウム密度が２．２ｇ／ｃｍ３
を超えると、箔の強度は向上するが、拡面率の向上に寄
与する有効な空隙部も減少して、箔の静電容量が低下
し、箔の単位体積当たりの静電容量が低下する。従っ
て、圧下後のエッチング層（２）のアルミニウム密度は
０．８〜２．２ｇ／ｃｍ３とする必要がある。特に好ま
しくは、１．０ｇ／ｃｍ３以上とすべきであり、また
１．８ｇ／ｃｍ３以下とすべきであり、さらには１．２
ｇ／ｃｍ３以上、１．５ｇ／ｃｍ３以下とすべきであ
る。
【００１６】なお、圧下後のエッチング層（２）のアル
ミニウム密度は、アルミニウム箔の重量Ｗ１、エッチン
グ層（２）を除いたコア層（図１の（３））の計算重量
Ｗ２、エッチング層の体積Ｖ１を用いて、（Ｗ１−Ｗ
２）／Ｖ１の式により求めることができる。なお、計算
重量Ｗ２を求めるときのアルミニウム密度は２．７ｇ／
ｃｍ３とした。
ミニウム密度は、アルミニウム箔の重量Ｗ１、エッチン
グ層（２）を除いたコア層（図１の（３））の計算重量
Ｗ２、エッチング層の体積Ｖ１を用いて、（Ｗ１−Ｗ
２）／Ｖ１の式により求めることができる。なお、計算
重量Ｗ２を求めるときのアルミニウム密度は２．７ｇ／
ｃｍ３とした。
【００１７】スポンジ状エッチング層（２）の圧下は平
板プレス等の手段により行っても良いが、一般には、エ
ッチング後のアルミニウム箔に圧延を施すことにより行
うのが良く、コイル状のアルミニウム箔を巻き解きなが
ら連続的に圧延するのが、生産効率上あるいはバラツキ
のない一定の加圧力で圧下できることから好ましい。具
体的には、アルミニウム箔のエッチング処理後に、望ま
しくは表面洗浄、乾燥等の通常の後処理を行ったのち、
圧延を行う。また、圧延油（潤滑剤）がエッチング層の
空隙部に充填されると静電容量が低下し、かつその除去
も困難であることから、圧延油を用いることなく圧延す
るのが良い。
板プレス等の手段により行っても良いが、一般には、エ
ッチング後のアルミニウム箔に圧延を施すことにより行
うのが良く、コイル状のアルミニウム箔を巻き解きなが
ら連続的に圧延するのが、生産効率上あるいはバラツキ
のない一定の加圧力で圧下できることから好ましい。具
体的には、アルミニウム箔のエッチング処理後に、望ま
しくは表面洗浄、乾燥等の通常の後処理を行ったのち、
圧延を行う。また、圧延油（潤滑剤）がエッチング層の
空隙部に充填されると静電容量が低下し、かつその除去
も困難であることから、圧延油を用いることなく圧延す
るのが良い。
【００１８】なお、圧下条件はエッチングの程度により
変わるが、軽度のエッチングの場合には圧下率は低く、
逆に過度のエッチングの場合には圧下率は高くなるもの
で、アルミニウム箔の両面にスポンジ状エッチング層を
形成した場合、全体の圧下率は例えば５〜５０％の範囲
内で選択される。圧下は、ほぼエッチング層のみに対し
て行われるのが良く、エッチング層を除いたコア部分は
圧下されないのが望ましい。コア部分まで圧下されるよ
うな状態では、エッチング層が圧下され過ぎて空隙部が
目詰まりを生じて静電容量、強度ともに低下する。
変わるが、軽度のエッチングの場合には圧下率は低く、
逆に過度のエッチングの場合には圧下率は高くなるもの
で、アルミニウム箔の両面にスポンジ状エッチング層を
形成した場合、全体の圧下率は例えば５〜５０％の範囲
内で選択される。圧下は、ほぼエッチング層のみに対し
て行われるのが良く、エッチング層を除いたコア部分は
圧下されないのが望ましい。コア部分まで圧下されるよ
うな状態では、エッチング層が圧下され過ぎて空隙部が
目詰まりを生じて静電容量、強度ともに低下する。
【００１９】ところで、圧下前のスポンジ状エッチング
層についてはその組織や密度等が限定されるものではな
いが、静電容量の絶対値を大きく確保するために、アル
ミニウム密度ｄ１は１．０ｇ／ｃｍ３以下に設定するの
が望ましい。圧下前のスポンジ状エッチング層のアルミ
ニウム密度ｄ１が１．０ｇ／ｃｍ３を越える場合には、
エッチングによる空隙が少ないため静電容量が大きくな
らず、圧下後のエッチング層のアルミニウム密度ｄ２が
０．８〜２．２ｇ／ｃｍ３となるように圧下しても、圧
下を大きくできず強度向上効果に乏しいものとなる恐れ
がある。好ましくは０．９ｇ／ｃｍ３以下とするのが良
い。また、圧下前のエッチング層のアルミニウム密度ｄ
１が０．６ｇ／ｃｍ３未満では、無効な空隙が多すぎる
ため圧下しても単位体積当たりの静電容量をあまり増大
できないことから、圧下前のアルミニウム密度ｄ１は
０．６ｇ／ｃｍ３以上に規定するのが良い。特に０．７
〜０．９ｇ／ｃｍ３が好ましい。
層についてはその組織や密度等が限定されるものではな
いが、静電容量の絶対値を大きく確保するために、アル
ミニウム密度ｄ１は１．０ｇ／ｃｍ３以下に設定するの
が望ましい。圧下前のスポンジ状エッチング層のアルミ
ニウム密度ｄ１が１．０ｇ／ｃｍ３を越える場合には、
エッチングによる空隙が少ないため静電容量が大きくな
らず、圧下後のエッチング層のアルミニウム密度ｄ２が
０．８〜２．２ｇ／ｃｍ３となるように圧下しても、圧
下を大きくできず強度向上効果に乏しいものとなる恐れ
がある。好ましくは０．９ｇ／ｃｍ３以下とするのが良
い。また、圧下前のエッチング層のアルミニウム密度ｄ
１が０．６ｇ／ｃｍ３未満では、無効な空隙が多すぎる
ため圧下しても単位体積当たりの静電容量をあまり増大
できないことから、圧下前のアルミニウム密度ｄ１は
０．６ｇ／ｃｍ３以上に規定するのが良い。特に０．７
〜０．９ｇ／ｃｍ３が好ましい。
【００２０】さらに、圧下前後のスポンジ状エッチング
層のアルミニウム密度ｄ２、ｄ１の比ｄ２／ｄ１の値は
１．２〜３．７とするのが良い。ｄ２／ｄ１が１．２未
満では、圧下前のスポンジ状エッチング層のアルミニウ
ム密度が１．０ｇ／ｃｍ３以下であっても、圧下が不足
して強度向上効果に乏しいものとなる場合がある。一
方、ｄ２／ｄ１が３．７を越えると、圧下が過度になっ
て空隙が減少したり空隙部が目詰まりを生じ、全体の静
電容量が低下してひいては単位体積当りの静電容量の増
大効果を得ることができない恐れがある。強度、静電容
量の両面から見るとｄ２／ｄ１は１．３〜２．７が特に
好ましい。
層のアルミニウム密度ｄ２、ｄ１の比ｄ２／ｄ１の値は
１．２〜３．７とするのが良い。ｄ２／ｄ１が１．２未
満では、圧下前のスポンジ状エッチング層のアルミニウ
ム密度が１．０ｇ／ｃｍ３以下であっても、圧下が不足
して強度向上効果に乏しいものとなる場合がある。一
方、ｄ２／ｄ１が３．７を越えると、圧下が過度になっ
て空隙が減少したり空隙部が目詰まりを生じ、全体の静
電容量が低下してひいては単位体積当りの静電容量の増
大効果を得ることができない恐れがある。強度、静電容
量の両面から見るとｄ２／ｄ１は１．３〜２．７が特に
好ましい。
【００２１】上記により圧下されたエッチング層（２）
のアルミニウム密度ｄ２が０．８〜２．２ｇ／ｃｍ３に
規定されたアルミニウム箔は、必要に応じ伸びを向上さ
せるために、２００〜５００℃の温度で焼鈍を行っても
良い。特に、真空焼鈍を行ったときは、圧延により、微
細孔が部分的に目詰まりを生じている場合でも目詰まり
部が破れ、再び開孔となる効果もある。上記のアルミニ
ウム箔は、これをそのまま電解コンデンサ陰極用電極箔
として用いても良いし、あるいはその後硼酸、硼酸アン
モニウム、アジピン酸アンモニウム、酒石酸アンモニウ
ム等の溶液あるいは水溶液中で陽極酸化処理し、酸化皮
膜を形成して陽極用電極箔として用いても良い。
のアルミニウム密度ｄ２が０．８〜２．２ｇ／ｃｍ３に
規定されたアルミニウム箔は、必要に応じ伸びを向上さ
せるために、２００〜５００℃の温度で焼鈍を行っても
良い。特に、真空焼鈍を行ったときは、圧延により、微
細孔が部分的に目詰まりを生じている場合でも目詰まり
部が破れ、再び開孔となる効果もある。上記のアルミニ
ウム箔は、これをそのまま電解コンデンサ陰極用電極箔
として用いても良いし、あるいはその後硼酸、硼酸アン
モニウム、アジピン酸アンモニウム、酒石酸アンモニウ
ム等の溶液あるいは水溶液中で陽極酸化処理し、酸化皮
膜を形成して陽極用電極箔として用いても良い。
【００２２】
【実施例】純度９９．９８％で厚さ１０８μｍの複数個
のコイル状アルミニウム箔を、Ｎ２ガス雰囲気中で３０
０℃×６時間焼鈍した。
のコイル状アルミニウム箔を、Ｎ２ガス雰囲気中で３０
０℃×６時間焼鈍した。
【００２３】次に、各コイルを巻き解きながら、表１に
示す各種の条件でエッチング処理して、各アルミニウム
箔の両面にスポンジ状エッチング層を形成した。このエ
ッチング層のアルミニウム密度ｄ１は表２に示すとおり
であった。
示す各種の条件でエッチング処理して、各アルミニウム
箔の両面にスポンジ状エッチング層を形成した。このエ
ッチング層のアルミニウム密度ｄ１は表２に示すとおり
であった。
【００２４】次に、これらのエッチング箔について、圧
延速度１００ｍ／分、潤滑剤無しの条件で圧下率を各種
に変えて圧延を行った。
延速度１００ｍ／分、潤滑剤無しの条件で圧下率を各種
に変えて圧延を行った。
【００２５】そして、圧延後のエッチング層のアルミニ
ウム密度ｄ２、及び圧下前後のエッチング層の密度の比
ｄ２／ｄ１を求めたところ表２のとおりであった。
ウム密度ｄ２、及び圧下前後のエッチング層の密度の比
ｄ２／ｄ１を求めたところ表２のとおりであった。
【００２６】なお、エッチング層のアルミニウム密度ｄ
１、ｄ２は、アルミニウム箔の重量Ｗ１、コア層の計算
重量Ｗ２、エッチング層の体積Ｖ１を用いて、（Ｗ１−
Ｗ２）／Ｖ１の式から求めた。
１、ｄ２は、アルミニウム箔の重量Ｗ１、コア層の計算
重量Ｗ２、エッチング層の体積Ｖ１を用いて、（Ｗ１−
Ｗ２）／Ｖ１の式から求めた。
【００２７】上記により製造した各アルミニウム箔につ
いて、圧下前後の引張強さを測定すると共に、圧下前後
の静電容量をアジピン酸アンモニウム浴中で２０Ｖに化
成したのち測定した。表２に、圧下前後の静電容量と圧
下率から単位体積当たりの静電容量の相対比を示した。
いて、圧下前後の引張強さを測定すると共に、圧下前後
の静電容量をアジピン酸アンモニウム浴中で２０Ｖに化
成したのち測定した。表２に、圧下前後の静電容量と圧
下率から単位体積当たりの静電容量の相対比を示した。
【００２８】また、実施例Ｎｏ７の試料につき、圧下前
後の断面写真を図２に、圧下前後のエッチング層の表面
二次電子像を図３にそれぞれ示す。
後の断面写真を図２に、圧下前後のエッチング層の表面
二次電子像を図３にそれぞれ示す。
【００２９】
【表１】
【００３０】
【表２】
【００３１】上記表２の結果から、本発明実施品は、強
度の向上及び単位体積当りの静電容量も顕著に増加して
いることがわかる。
度の向上及び単位体積当りの静電容量も顕著に増加して
いることがわかる。
【００３２】これに対し、圧下後のエッチング層の密度
が本発明範囲を上回る比較品（Ｎｏ１及び３）は、強度
の向上効果は認められるものの、単位体積当りの静電容
量は低下していることがわかる。また、圧下後のエッチ
ング層の密度が本発明範囲を下回る比較品（Ｎｏ２）
は、単位体積当りの静電容量は若干増大しているもの
の、強度の向上効果に乏しいことがわかる。
が本発明範囲を上回る比較品（Ｎｏ１及び３）は、強度
の向上効果は認められるものの、単位体積当りの静電容
量は低下していることがわかる。また、圧下後のエッチ
ング層の密度が本発明範囲を下回る比較品（Ｎｏ２）
は、単位体積当りの静電容量は若干増大しているもの
の、強度の向上効果に乏しいことがわかる。
【００３３】
【発明の効果】この発明は、アルミニウム箔の少なくと
も片面にスポンジ状エッチング層が形成されるととも
に、該スポンジ状エッチング層が厚み方向に圧下されて
おり、かつ圧下されたスポンジ状エッチング層のアルミ
ニウム密度ｄ２が０．８〜２．２ｇ／ｃｍ３に規定され
てなるものであるから、従来の圧下処理されていないエ
ッチング箔に較べ、強度向上及び単位体積当たりの静電
容量の増大を確実にかつ安定的に実現することができ
る。しかも、製造途中の圧下率による管理ではなく、製
品上がりのスポンジ状エッチング層のアルミニウム密度
のみを制御すれば良いから、種々のアルミニウム電極箔
についての管理が極めて容易となる。
も片面にスポンジ状エッチング層が形成されるととも
に、該スポンジ状エッチング層が厚み方向に圧下されて
おり、かつ圧下されたスポンジ状エッチング層のアルミ
ニウム密度ｄ２が０．８〜２．２ｇ／ｃｍ３に規定され
てなるものであるから、従来の圧下処理されていないエ
ッチング箔に較べ、強度向上及び単位体積当たりの静電
容量の増大を確実にかつ安定的に実現することができ
る。しかも、製造途中の圧下率による管理ではなく、製
品上がりのスポンジ状エッチング層のアルミニウム密度
のみを制御すれば良いから、種々のアルミニウム電極箔
についての管理が極めて容易となる。
【００３４】また、圧下前のスポンジ状エッチング層の
アルミニウム密度ｄ１が１．０ｇ／ｃｍ３以下である場
合や、あるいは圧下後のエッチング層のアルミニウム密
度ｄ２と圧下前のエッチング層のアルミニウム密度ｄ１
との比ｄ２／ｄ１が１．２〜３．７である場合には、強
度向上及び単位体積当たりの静電容量の増大を益々確実
にかつ安定的に得ることができるとともに、さらに管理
が容易となる。
アルミニウム密度ｄ１が１．０ｇ／ｃｍ３以下である場
合や、あるいは圧下後のエッチング層のアルミニウム密
度ｄ２と圧下前のエッチング層のアルミニウム密度ｄ１
との比ｄ２／ｄ１が１．２〜３．７である場合には、強
度向上及び単位体積当たりの静電容量の増大を益々確実
にかつ安定的に得ることができるとともに、さらに管理
が容易となる。
【図１】（イ）は本発明の一実施形態に係るアルミニウ
ム箔の断面図、（ロ）はそのエッチング層の模式的拡大
断面図である。
ム箔の断面図、（ロ）はそのエッチング層の模式的拡大
断面図である。
【図２】（イ）は本発明実施品に係るアルミニウム箔の
圧下前の断面写真、（ロ）は同じく圧下後の断面写真、
（ハ）は同じく圧下前のエッチング層の断面拡大写真、
（ニ）は同じく圧下後のエッチング層の断面拡大写真で
ある。
圧下前の断面写真、（ロ）は同じく圧下後の断面写真、
（ハ）は同じく圧下前のエッチング層の断面拡大写真、
（ニ）は同じく圧下後のエッチング層の断面拡大写真で
ある。
【図３】（イ）は図２に示した本発明実施品における圧
下前のエッチング層の表面電子顕微鏡写真、（ロ）は同
じく圧下後のエッチング層の表面電子顕微鏡写真であ
る。
下前のエッチング層の表面電子顕微鏡写真、（ロ）は同
じく圧下後のエッチング層の表面電子顕微鏡写真であ
る。
１…アルミニウム電極箔 ２…エッチング層 ２ａ…空隙部 ３…コア部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤平 忠雄 堺市海山町６丁224番地 昭和アルミニウ ム株式会社内 (72)発明者 佃 市三 堺市海山町６丁224番地 昭和アルミニウ ム株式会社内 (72)発明者 礒山 永三 堺市海山町６丁224番地 昭和アルミニウ ム株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 少なくとも片面にスポンジ状エッチング
層が形成されるとともに、該スポンジ状エッチング層が
厚み方向に圧下されており、かつ圧下されたスポンジ状
エッチング層のアルミニウム密度ｄ２が０．８〜２．２
ｇ／ｃｍ３に規定されてなることを特徴とする電解コン
デンサ用アルミニウム電極箔。 - 【請求項２】 圧下前のスポンジ状エッチング層のアル
ミニウム密度ｄ１が１．０ｇ／ｃｍ３以下である請求項
１に記載の電解コンデンサ用アルミニウム電極箔。 - 【請求項３】 圧下後のエッチング層のアルミニウム密
度ｄ２と圧下前のエッチング層のアルミニウム密度ｄ１
との比ｄ２／ｄ１が１．２〜３．７である請求項１また
は２に記載の電解コンデンサ用アルミニウム電極箔。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35989896A JP3258249B2 (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔 |
| TW086116393A TW353187B (en) | 1996-12-25 | 1997-11-04 | Aluminum electrode foil for electrolytic capacitor and electrolytic capacitor using the foil |
| SG1997004599A SG65713A1 (en) | 1996-12-25 | 1997-12-20 | Aluminium electrode foil for electrolytic capacitor and electrolytic capacitor using the foil |
| US08/995,967 US6038124A (en) | 1996-12-25 | 1997-12-22 | Aluminum electrode foil for electrolytic capacitor and electrolytic capacitor using the foil |
| EP97122756A EP0851446B1 (en) | 1996-12-25 | 1997-12-23 | Method of manufacturing an aluminum electrode foil for electrolytic capacitor and an electrolytic capacitor using the foil |
| DE69728847T DE69728847T2 (de) | 1996-12-25 | 1997-12-23 | Verfahren zur Herstellung einer Aluminiumelektrodenfolie für Elektrolytkondensatoren und eines Elektrolytkondensators unter Verwendung dieser Folie |
| CN97108570A CN1132205C (zh) | 1996-12-25 | 1997-12-24 | 电解电容器用铝电极箔以及使用该电极箔的电解电容器 |
| KR1019970073827A KR100403245B1 (ko) | 1996-12-25 | 1997-12-24 | 전해콘덴서용알루미늄전극박및이박을사용한전해콘덴서 |
| MYPI97006282A MY123115A (en) | 1996-12-25 | 1997-12-24 | Aluminum electrode foil for electrolytic capacitor and electrolyitc capacitor using the foil |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35989896A JP3258249B2 (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10189398A true JPH10189398A (ja) | 1998-07-21 |
| JP3258249B2 JP3258249B2 (ja) | 2002-02-18 |
Family
ID=18466860
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35989896A Expired - Fee Related JP3258249B2 (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6038124A (ja) |
| EP (1) | EP0851446B1 (ja) |
| JP (1) | JP3258249B2 (ja) |
| KR (1) | KR100403245B1 (ja) |
| CN (1) | CN1132205C (ja) |
| DE (1) | DE69728847T2 (ja) |
| MY (1) | MY123115A (ja) |
| SG (1) | SG65713A1 (ja) |
| TW (1) | TW353187B (ja) |
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| JP2021061431A (ja) * | 2020-12-28 | 2021-04-15 | 日本蓄電器工業株式会社 | 電解コンデンサ用電極部材および電解コンデンサ |
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| WO2024071327A1 (ja) * | 2022-09-30 | 2024-04-04 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 電解コンデンサ用電極箔、電解コンデンサ、および電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
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| US6275729B1 (en) | 1998-10-02 | 2001-08-14 | Cardiac Pacemakers, Inc. | Smaller electrolytic capacitors for implantable defibrillators |
| WO2000019470A1 (en) * | 1998-09-30 | 2000-04-06 | Cardiac Pacemakers, Inc. | High-energy electrolytic capacitors for implantable defibrillators |
| US6556863B1 (en) | 1998-10-02 | 2003-04-29 | Cardiac Pacemakers, Inc. | High-energy capacitors for implantable defibrillators |
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| EP2264728B1 (en) * | 2009-06-16 | 2016-12-14 | Biotronik CRM Patent AG | Method of producing an aluminum slug anode |
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- 1996-12-25 JP JP35989896A patent/JP3258249B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-11-04 TW TW086116393A patent/TW353187B/zh not_active IP Right Cessation
- 1997-12-20 SG SG1997004599A patent/SG65713A1/en unknown
- 1997-12-22 US US08/995,967 patent/US6038124A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-12-23 EP EP97122756A patent/EP0851446B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-12-23 DE DE69728847T patent/DE69728847T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-24 MY MYPI97006282A patent/MY123115A/en unknown
- 1997-12-24 CN CN97108570A patent/CN1132205C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-24 KR KR1019970073827A patent/KR100403245B1/ko not_active IP Right Cessation
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| JP2003109866A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-11 | Nippon Chemicon Corp | 固体電解コンデンサ |
| WO2007116845A1 (ja) | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Nippon Chemi-Con Corporation | 電解コンデンサ用電極材 |
| WO2009063532A1 (ja) * | 2007-11-14 | 2009-05-22 | Nippon Light Metal Company, Ltd. | 電解コンデンサ用アルミニウムエッチド板 |
| JP4998559B2 (ja) * | 2007-11-14 | 2012-08-15 | 日本軽金属株式会社 | 電解コンデンサ用アルミニウムエッチド板 |
| CN109716467A (zh) * | 2016-09-16 | 2019-05-03 | 日本蓄电器工业株式会社 | 立体结构体 |
| WO2018051520A1 (ja) * | 2016-09-16 | 2018-03-22 | 日本蓄電器工業株式会社 | 電解コンデンサ用電極部材および電解コンデンサ |
| WO2018051522A1 (ja) * | 2016-09-16 | 2018-03-22 | 日本蓄電器工業株式会社 | 立体構造体 |
| CN109716468A (zh) * | 2016-09-16 | 2019-05-03 | 日本蓄电器工业株式会社 | 电解电容器用电极部件及电解电容器 |
| JPWO2018051520A1 (ja) * | 2016-09-16 | 2019-07-11 | 日本蓄電器工業株式会社 | 電解コンデンサ用電極部材および電解コンデンサ |
| JPWO2018051522A1 (ja) * | 2016-09-16 | 2019-07-18 | 日本蓄電器工業株式会社 | 立体構造体 |
| US10529497B2 (en) | 2016-09-16 | 2020-01-07 | Japan Capacitor Industrial Co., Ltd. | Stereostructure |
| US10957491B2 (en) | 2016-09-16 | 2021-03-23 | Japan Capacitor Industrial Co., Ltd. | Electrolytic capacitor-specific electrode member and electrolytic capacitor |
| CN109716468B (zh) * | 2016-09-16 | 2022-07-08 | 日本蓄电器工业株式会社 | 电解电容器用电极部件及电解电容器 |
| JP2021061431A (ja) * | 2020-12-28 | 2021-04-15 | 日本蓄電器工業株式会社 | 電解コンデンサ用電極部材および電解コンデンサ |
| WO2023008558A1 (ja) * | 2021-07-30 | 2023-02-02 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 電解コンデンサ用電極箔、電解コンデンサ、および電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
| WO2024071327A1 (ja) * | 2022-09-30 | 2024-04-04 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 電解コンデンサ用電極箔、電解コンデンサ、および電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0851446A2 (en) | 1998-07-01 |
| SG65713A1 (en) | 1999-06-22 |
| EP0851446B1 (en) | 2004-04-28 |
| KR100403245B1 (ko) | 2004-02-14 |
| CN1132205C (zh) | 2003-12-24 |
| MY123115A (en) | 2006-05-31 |
| EP0851446A3 (en) | 1999-12-22 |
| DE69728847D1 (de) | 2004-06-03 |
| KR19980064648A (ko) | 1998-10-07 |
| TW353187B (en) | 1999-02-21 |
| JP3258249B2 (ja) | 2002-02-18 |
| DE69728847T2 (de) | 2005-04-14 |
| CN1187018A (zh) | 1998-07-08 |
| US6038124A (en) | 2000-03-14 |
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