JPH1187189A

JPH1187189A - 電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法

Info

Publication number: JPH1187189A
Application number: JP23841997A
Authority: JP
Inventors: Mariko Sakata; 真理子坂田; Yoshihiko Asakawa; 義彦浅川; Masanori Sakurai; 真紀櫻井; Takeshi Owaki; 武史大脇; Setsu Nishizawa; 節西澤
Original assignee: Kobe Steel Ltd
Current assignee: Kobe Steel Ltd
Priority date: 1997-09-03
Filing date: 1997-09-03
Publication date: 1999-03-30

Abstract

(57)【要約】【課題】電解エッチング性に優れ、電解エッチング後
の静電容量が高い電解コンデンサ用アルミニウム箔の製
造方法を提供する。【解決手段】アルミニウム箔の冷間圧延後にアルミ
ニウム箔に付着した潤滑油を非水溶性有機系洗浄剤によ
り洗浄後、該アルミニウム箔を露点０℃以下の酸化性ガ
ス雰囲気中で乾燥する工程を含む電解コンデンサー用ア
ルミニウム箔の製造方法である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電解コンデンサ用
アルミニウム箔の製造方法に係り、特に、電解エッチン
グ特性に優れ、高い静電容量を発現し、アルミニウム箔
表面の静電容量も均一な電解コンデンサ用アルミニウム
箔の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】アルミニウムは、電気化学的にエッチン
グすることにより表面積を拡大でき、また、陽極酸化に
より表面に耐電圧性の酸化皮膜が形成され、誘電体とし
て利用でき、電解コンデンサの電極箔として利用した場
合に、比較的大きな静電容量を得ることができる。した
がって、アルミニウム電解コンデンサは、他のコンデン
サに比べて、小型で大容量で、しかも安価に製造でき、
エレクトロニクス機器などの電子回路に不可欠な電子部
品として、広く汎用されている。

【０００３】アルミニウム電解コンデンサの基本構造
は、図１に示すようなモデルで表される。即ち、リード
線５を各々配した陽極アルミニウム箔１と陰極アルミニ
ウム箔２の両極２枚のアルミニウム箔の間にセパレート
紙３を挟み、円柱状に巻いた後、セパレート紙３に電解
液を含浸させ、図示しないパッケージ内に封入した構造
となっている。通常、このアルミニウム箔乃至アルミニ
ウム合金箔（以下単にアルミニウム箔と言う）素材には
Al純度が、陽極用には99.96%以上、あるいは99.9% 以
上、また、陰極用には99% 以上、あるいは99.8% 以上
の、各々高純度アルミニウムが使用される。

【０００４】このような構成からなるアルミニウム電解
コンデンサの静電容量（Ｃ）は、主としてアルミニウム
箔（特に陽極アルミニウム箔１）の表面積と、陽極アル
ミニウム箔１の表面に設ける誘電体（バリヤー酸化皮
膜）４の厚さによって決定され、具体的には次式、Ｃ＝
8.855 ×10^-8εＳ／ｄ（μＦ）〔但し、ε：誘電率（８
〜９）、Ｓ：誘電体の表面積（ｃｍ²）、ｄ：誘電体の
厚み（ｃｍ）〕で表される。

【０００５】したがって、アルミニウム電解コンデンサ
の静電容量を大きくするためには、アルミニウム箔の表
面積を拡大して、誘電体の表面積と厚みを大きくするこ
とが重要となる。このアルミニウム箔の表面積の拡大
は、素材アルミニウム箔コイル（厚さ0.02〜0.11mm、幅
500mm 程度) を電解液中に浸漬するとともに交流電流を
付与し、連続的に電解エッチングすることによって行わ
れる。そして、この電解エッチングにより、アルミニウ
ム箔の表面に微細な凹部（以下エッチングピットと言
う）が形成され、この結果、アルミニウム箔の表面の実
効面積が拡大し、電極箔としての高い静電容量を確保す
る。

【０００６】また陽極用のアルミニウム電極箔の場合、
前記図１の通り、アルミニウム箔1の表面には、誘電体
層であるバリヤー酸化皮膜4 が必要となり、このバリヤ
ー酸化皮膜4 の形成は、前記電解エッチング工程に続
く、化成（陽極酸化）処理工程によって、同じく連続的
に行われる。

【０００７】このように、電解エッチング工程は、アル
ミニウム箔の表面積を拡大（アルミニウム箔の表面を粗
面化）し、実効面積を拡大して、単位面積当たりの高い
静電容量を確保し、電解コンデンサの小型化、高容量化
を可能とする上で、非常に重要な工程になっている。

【０００８】この電解エッチング工程において問題とな
る点は、エッチングによるアルミニウム箔の減量が過
度になり、減量の増加割合に対する静電容量の向上が乏
しく、その結果単位面積当たりの静電容量の増加が低く
なる点と、エッチングピットの初期の発生が不均一で
まばらとなり、アルミニウム箔表面の溶け残りが多くな
り、エッチングムラが生じ、箔表面での静電容量のばら
つきが生じる点である。したがって、電解エッチング工
程において、エッチングによるアルミニウム箔の減量
が必要以上に大きくならず、且つ高い静電容量が達成で
きること、およびアルミニウム箔表面の静電容量を均
一にすることが重要な技術的課題となっている。

【０００９】したがって、従来から、前記のこの技術
的課題達成のために、種々の技術が提案されている。ま
ず、アルミニウム電極箔の素材である、アルミニウム箔
の化学成分組成や組織の面からは、99.99 ％の高純度ア
ルミニウムをベースとし、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｃｕ等の特定の
不純物量を規制することが、特開昭62−8492号、特開昭
62−181416号、特開平 −33176 号、特開平1 −38865
号、特開平2 −51212号、特開平4 −247855号、特開平4
−124806号、特開平5 −5145号等の各公報に開示され
ている。これらは基本的に、前記不純物による粗大な析
出物がアルミニウム箔表面に存在していると、電解エッ
チングを施した際に粗大孔が生じるという問題を解消し
たものである。

【００１０】また、アルミニウム箔の熱処理や製造条件
の面からは、99.99 ％の高純度アルミニウムをベースと
し、均熱条件や焼鈍条件を特定して、不純物による粗大
な析出物が箔表面に存在するのを防止する方法が、特開
平2 −200749号、特開平4 −176847号、特開平4 −3115
50号等の各公報で開示されている。

【００１１】更に、電解エッチングの処理条件の面から
の改善技術も種々提案されている。例えば、電解液にし
ゅう酸をエッチング抑制剤として添加するとともに、塩
酸等の電解液濃度を高くして、エッチング時間を短くし
て、エッチングピットの粗大化を防止する（ピット径を
小さくする）とともに、深いエッチングピットを得るこ
とが、特開平7 −161586号公報に開示されている。ま
た、静電容量の向上のために、硫酸、燐酸、シュウ酸、
ほう酸、クロム酸等の多孔質型陽極酸化皮膜生成能力を
持つ酸を含有する水溶液を用いて陽極酸化を行った後に
電解エッチングを行うことでエッチングピットの制御を
行い、エッチングピットの粗大化を防止する（ピット径
を小さくする）とともに、深いエッチングピットを得る
技術が特開昭55−127013号公報に開示されている。

【００１２】しかしながら、近年、電解コンデンサの小
型化や高容量化に伴い、電解コンデンサ用アルミニウム
電極箔には、前記の技術的課題である高い静電容量の
みならず、前記のアルミニウム箔表面の各部で静電容
量が均一であることが求められている。特に、アルミニ
ウム電極箔の素材であるアルミニウム箔の電解エッチン
グは、広幅の箔コイルの状態で行われ、電解エッチング
後にコイルの幅方向に分割され、所定幅の複数の電極箔
とされるため、箔コイルの中心部と端部、或いは長手方
向の各部など、箔コイルの表面各部での静電容量のばら
つきは、そのまま電極箔同士のばらつきとなり、多量に
生産される電解コンデンサの静電容量の均一性や再現性
にとって、致命的な欠陥となりうる。したがって、電解
エッチングされた後のアルミニウム箔コイル表面の任意
の二箇所の静電容量の差はできるだけ少なく、好ましく
は2.0 μF/cm² 以下、より好ましくは1.0 μF/cm² 以下
(但し、静電容量は化成電圧2Vにて誘電体酸化皮膜を形
成した箔で測定) とする必要がある。

【００１３】この点、前記従来技術のうち、まず、素材
面からの、アルミニウム箔の化学成分組成や組織あるい
は製造条件の改良は、箔材料中の不純物の析出による電
解エッチング時の粗大孔の防止などに、それなりの効果
は認められるものの、アルミニウム箔の任意の二箇所
の、あるいは特に幅方向の静電容量の均一性については
考慮されていない。この点は、前記電解エッチング処理
条件の面からの改善技術も同様である。

【００１４】電極箔としての高い静電容量を確保し、箔
表面の静電容量の均一性を得ようとすると、アルミニウ
ム箔材料表面を均質にして、電解エッチングでのエッチ
ングムラの発生を防止する( 以下電解エッチング性と言
う) ことが重要となってくる。そして、アルミニウム箔
材料表面の均質性は、電解エッチングされるアルミニウ
ム箔表面に生成している酸化皮膜の均質性に大きく依存
しており、その結果、アルミニウム箔表面の酸化皮膜の
均質性は、前記電解エッチング性に大きく影響する。

【００１５】このため、特公平7 −113155号公報のよう
に、アルミニウム箔を圧延後、アルミニウムに対し吸着
性の高い酸または化合物を含有する水溶液に接触させ、
圧延後のアルミニウム箔を焼鈍後、長時間放置しても、
保管雰囲気中の水分や酸素と反応して箔表面層が変質す
ることを抑制することが開示されている。また、特公平
6 −188155号公報には、アルミニウム箔を圧延および焼
鈍後、アルミニウム箔コイルの表面層( 主として酸化皮
膜) を除去し、連続的に酸化性の雰囲気で酸化処理し、
コイルの幅方向に膜厚の一定な酸化皮膜を形成すること
が開示されている。更に、特公平4 −77453 号公報のよ
うに、アルミニウム箔の最終冷間圧延後の焼鈍中あるい
は焼鈍後に、水分を除去した雰囲気で膜厚の一定な酸化
皮膜を生成させることが開示されている。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
従来の電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法にお
いては、厳密には乃至ミクロ的に見ると、酸化皮膜が不
均質で、箔表面から見たエッチングピットの均質性やピ
ット密度も不十分となり、高い静電容量が得にくいこと
を、本発明者らは知見した。また、酸化皮膜形成工程で
の雰囲気管理や、工程間のリードタイムの管理が十分で
なければ、コイルの幅方向で、電解エッチングムラが生
じ、静電容量のばらつきが生じることもある。更に、例
え、コイルの幅方向に膜厚の一定な酸化皮膜を形成して
も、電解エッチング後のアルミニウム箔コイルの幅方向
や長手方向に静電容量のばらつきが生じることもある。
即ち、従来技術のように、例え、電解エッチング前のア
ルミニウム箔コイル表面層の変質を抑制し、特に、アル
ミニウム箔コイル表面の幅方向に膜厚の一定な酸化皮膜
を形成したとしても、ミクロ的に見ると、酸化皮膜が不
均質で、箔表面から見たエッチングピットの均質性やピ
ット密度も不十分となりやすく、高い静電容量が得にく
いことが判明した。したがって、これら従来の電解コン
デンサ用アルミニウム箔の製造方法は、アルミニウム箔
コイルの電解エッチング性改善の決め手になり難い。

【００１７】したがって本発明は、これらの点に鑑み、
前記従来技術の問題点を克服し、電解エッチング性に優
れ、エッチングピットの均質性やピット密度が高く、電
極箔としての高い静電容量を確保した電解コンデンサ用
アルミニウム箔を提供することを目的とする。

【００１８】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明では、アルミニウム箔の冷間圧延後にアル
ミニウム箔に付着した潤滑油等を洗浄剤により洗浄後、
雰囲気ガス中で乾燥する工程を含む電解コンデンサ用ア
ルミニウム箔の製造方法において、前記洗浄剤を水分を
含まぬ非水溶性有機系洗浄剤とするとともに、前記雰囲
気ガスを露点０℃以下の酸化性ガスとし、該雰囲気ガス
中でアルミニウム箔表面に酸化皮膜を生成させることを
要旨とする。

【００１９】前記要旨とすることにより、本発明では、
アルミニウム箔の電解エッチング性を改善することがで
きる。その結果、エッチングピットの均質性やピット密
度が高く、高い静電容量を確保することができる。そし
てまた、この高い静電容量を確保した上で、電解エッチ
ングでの単位エッチング減量(1mg/cm²) 当たりの静電容
量を大きくでき、好ましくは、9.0 μF/cm²以上 (但
し、静電容量は化成電圧2Vにて誘電体酸化皮膜を形成し
た箔で測定) とし、エッチング減量を少なくして箔の実
質的な厚みを確保し、電解箔の必要強度を確保すること
ができる。更に、静電容量の均一性についても、電解エ
ッチング後のアルミニウム箔の表面の任意の二箇所の静
電容量の差を小さくでき、好ましくは2.0 μF/cm² 以
下、より好ましくは1.0 μF/cm² 以下( 但し、静電容量
は化成電圧2Vにて誘電体酸化皮膜を形成した箔で測定)
とすることができる。特に、この静電容量の均一性につ
いては、前記アルミニウム箔がコイル状である場合に
は、コイルの幅方向端部とコイルの幅方向中心部など、
コイルの幅方向の静電容量を均一なものとすることがで
きる。また、このコイルの幅方向に限らず、コイルの長
手方向や圧延方向の距離をおいた部位同士など、要はコ
イルの任意の部位の静電容量の均一性を保障することが
可能である。

【００２０】本発明者らの知見によれば、アルミニウム
箔の電解エッチング性は、勿論前記した通り、アルミニ
ウム箔表面の酸化皮膜の均質性によって支配されるが、
その酸化皮膜の均質性とは、膜厚だけで決まるものでは
なく、酸化皮膜の緻密さなどの膜質によって決定され
る。即ち、アルミニウム箔表面の酸化皮膜の膜厚が大き
くても、酸化皮膜が比較的緻密でない場合には、膜厚が
小さくても酸化皮膜が比較的緻密である場合より、静電
容量が低くなることを知見した。

【００２１】そして、本発明者らは、この観点から、ア
ルミニウム箔表面の酸化皮膜の均質性に影響する電解コ
ンデンサ用アルミニウム箔の製造工程を見直したとこ
ろ、アルミニウム箔の冷間圧延後に、箔に付着した圧延
潤滑油を洗浄剤により洗浄後、該箔を雰囲気ガス中で乾
燥する工程が、アルミニウム箔表面の酸化皮膜の均質性
に大きく影響することを知見した。この洗浄−乾燥工程
は、電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造工程におい
て、冷間圧延で箔に付着した圧延潤滑油を除去するため
に必然的に行われるものである。

【００２２】通常、冷間圧延後のアルミニウム箔は酸化
皮膜の無い活性なアルミニウム金属面を有しているとと
もに、その表面が圧延油によって被覆されている。しか
し、冷間圧延後にアルミニウム箔に付着した潤滑油を洗
浄剤により洗浄した場合、前記活性なアルミニウム金属
面が表面に露出し、新生面として初めて雰囲気ガス中の
水分や酸素に触れる。そして、活性なアルミニウム金属
面は雰囲気ガス中の水分や酸素と反応して酸化皮膜を形
成する。ここにおいて、前記洗浄剤が水分を含む場合乃
至前記乾燥用雰囲気ガスが水分を含む場合、これらの水
分の影響により、アルミニウム箔表面に生成する酸化皮
膜は均質性＝酸化皮膜の緻密さを失い、欠陥の多い皮膜
となり、また、アルミニウム金属表面そのものの不均一
性（凹凸などの表面形状乃至組織の不均一性）が、その
ままアルミニウム箔表面に表れた皮膜となる。そして、
この不均一で欠陥の多い酸化皮膜が電解エッチング性を
悪化させ、高静電容量が得られない。

【００２３】これに対し、本発明では、前記洗浄剤を水
分を含まぬ非水溶性有機系洗浄剤とするとともに、前記
乾燥用雰囲気ガスを露点０℃以下の酸化性ガスとするこ
とにより、前記水分の悪影響を無くすことができる。こ
の結果、洗浄−乾燥工程上で、特に乾燥工程の酸化性ガ
スにより、アルミニウム箔表面に生成する酸化皮膜は緻
密かつ均質となり、不均一なアルミニウム箔表面をも覆
うことで、全体として箔表面の均質な性状が得られる。
この結果、この工程以降、圧延あるいは焼鈍により、既
に生成している前記緻密な酸化皮膜の上に、更に酸化皮
膜が成長しても、初期の酸化皮膜が緻密で均質なため、
電解エッチングされるアルミニウム箔表面の酸化皮膜が
緻密で均質なまま保たれ、電解エッチング特性が確保さ
れ、高静電容量が得られる。

【００２４】

【発明の実施の形態】本発明におけるアルミニウム箔の
水分を含まぬ洗浄剤としては、トリクロロエチレン、ト
リクロエタンなど、それ自体は公知の非水溶性有機系洗
浄剤が適宜選択される。一方、アセトンやエタノールな
どの通常の水溶性の有機系洗浄剤は、元来水分を吸収し
易く、使用当初に水分を除去していたとしても、洗浄使
用中に水分を吸収するため、本発明におけるアルミニウ
ム箔の洗浄剤として使用できない。

【００２５】本発明における前記露点０℃以下の乾燥雰
囲気の酸化性ガスの種類としては、大気あるいは酸素、
酸化剤を含む窒素やアルゴンの不活性ガスなどが適宜選
択される。ただ、いずれのガスを用いるにしても、使用
ガスの露点は０℃以下に乾燥することが必要である。使
用ガスの露点が０℃を越えると、前記した通り、アルミ
ニウム箔表面に生成する酸化皮膜が均質性＝酸化皮膜の
緻密さを失い、欠陥の多い皮膜となる。なお、本発明の
乾燥工程上で緻密な酸化皮膜を生成させる上で、安価に
効率良く、アルミニウム箔表面に積極的に酸化皮膜を生
成乃至成長させるためには、前記酸化性ガスを大気とす
ることが好ましい。酸化性ガスを大気とすることによ
り、酸化皮膜の緻密さや、必要な酸化膜の厚みなどを確
実に確保することができる。また、洗浄−乾燥工程上で
アルミニウム箔表面に生成する酸化皮膜を緻密にする上
で、洗浄工程と乾燥工程との間で、アルミニウム箔が水
分と接触するのを防止するため、洗浄工程と乾燥工程と
を連続ライン化する、あるいは、洗浄工程から乾燥工程
への移行を短時間化することが好ましい。

【００２６】本発明アルミニウム電極箔の製造方法につ
いて、所定厚み乃至幅のアルミニウム箔圧延コイルを得
るまでは、常法により製造可能である。即ち、高純度の
アルミニウム鋳塊を、均熱処理後熱間圧延し、必要によ
り中間焼鈍しながら、複数回の冷間圧延で所定厚みに、
およびスリットして所定幅のアルミニウム箔圧延コイル
とする。そして、このアルミニウム箔圧延コイルは、前
記冷間圧延後、最終焼鈍し、電解エッチングされてアル
ミニウム箔表面に多数のエッチングピットが設けられ電
極用の箔とされる。

【００２７】本発明の洗浄−乾燥工程は、冷間圧延後に
行うが、電解エッチング前までの箔の冷間圧延工程の回
数に合わせて、一回乃至複数回、必要に応じて適宜行っ
て良い。但し、本発明の洗浄−乾燥工程の適用は、最終
箔厚に対し５倍の箔厚を有するアルミニウム箔の製造工
程（冷間圧延）以降の、箔厚が薄い＝圧下率が小さい段
階で行うことが好ましい。箔厚乃至箔材料のアルミニウ
ム板厚が厚い段階で行っても、冷間圧延の圧下率が高い
ために、本発明工程で生成した緻密な酸化皮膜が除去さ
れてしまい、効率が悪いからである。

【００２８】本発明に使用するアルミニウム箔のＡｌ純
度は、陽極用には99.96%以上、より好ましくは99.9% 以
上、また、陰極用には99% 以上、より好ましくは99.8%
以上の高純度アルミニウム箔を使用するのが好ましい。
また、JIS H 4170（1994）で規定されたAl純度99.99%以
上（合金番号IN 99)や、Al純度99.90%以上（合金番号IN
90 ）などを用いることも好ましいが、要は、使用電圧
などの用途や要求特性条件によって、適宜選択される。

【００２９】また、Ａｌ（アルミニウム) 箔中のＦｅ、
Ｓｉ、Ｃｕ等の不純物は、これら不純物による粗大な析
出物がアルミニウム箔表面に存在していると、電解エッ
チングを施した際に粗大孔（エッチングピット）が生じ
るという問題を生じる。したがって、前記従来技術と同
様、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｃｕ等の不純物は、これらの不純物量
を各々70ppm 以下に規制することが好ましい。

【００３０】本発明による電解コンデンサ用アルミニウ
ム箔は、中低圧用あるいは高圧用の陽極用にも陰極用に
も用いることができる。陽極に用いる場合には、塩酸水
溶液などの塩素含有水溶液で、直流または交流電解エッ
チングをした後、化成液として、ホウ酸系（ホウ酸、ホ
ウ酸アンモニウム、ホウ酸−ホウ砂）、燐酸塩系（第１
燐酸アンモニウム、第２燐酸アンモニウム、第３燐酸ア
ンモニウム、燐酸ナトリウム）、アジピン酸系（アジピ
ン酸、アジピン酸アンモニウム）、非水溶液系（エチレ
ングリコール）を用いた化成処理（陽極酸化処理）工程
により誘電体酸化皮膜が形成される。

【００３１】

【実施例】純度99.98%(Fe,Si,Cu の不純物量は各々70pp
m 以下) のアルミニウム鋳塊を、550 ℃で5 時間均熱処
理後、圧下率5 〜50% で熱間圧延し、圧下率25〜60% で
冷間圧延し、箔厚150 μm のアルミニウム箔圧延コイル
とした。次いで、この箔コイルに付着した圧延油を、非
水溶性有機系洗浄剤で水分を含まぬトリクロロエチレン
により、脱脂・洗浄した後、冷却器により乾燥した露点
0 ℃の大気中で乾燥した。更に、このアルミニウム箔コ
イルをスリットして幅500mm とし、その後、更に箔厚10
0 μm まで圧下率25〜60% で冷間圧延して最終箔膜厚と
し、再度この箔コイルに付着した圧延油を、非水溶性有
機系洗浄剤であるトリクロロエチレンにより、脱脂・洗
浄した後、冷却器により乾燥した露点0 ℃の大気中で乾
燥した。そして乾燥後のアルミニウム箔コイルを、コイ
ル実態温度70℃で真空引きの後、窒素中で、330 ℃×5
時間焼鈍し、本発明例の電解エッチング用のアルミニウ
ム箔とした。

【００３２】比較例として、アルミニウム箔コイルを、
前記発明例と同一の条件で、但し、箔コイルに付着した
圧延油の脱脂・洗浄、乾燥条件のみを変えて、電解エッ
チング用のアルミニウム箔とした。比較例１は、箔厚15
0 μm と箔厚100 μm ( 最終箔厚) の箔コイルの２段階
で、各々水溶性有機系洗浄剤であるアセトンにより、圧
延油の脱脂・洗浄を行い、そして乾燥を発明例と同じ露
点0 ℃の大気中で行った。比較例２は、やはり前記箔コ
イルの２段階で、発明例と同じ非水溶性有機系洗浄剤で
あるトリクロロエチレンにより脱脂・洗浄し、乾燥のみ
通常の大気中(梅雨時の露点20℃) で行い、電解エッチ
ング用のアルミニウム箔とした。

【００３３】これら発明例、比較例各々のアルミニウム
箔コイルを、電解エッチング液(: 8wt% 塩酸、0.1wt%硫
酸、5%塩化アルミニウムを含む水溶液、液温35℃) 、電
解条件( 周波数20Hz・正弦波、電流密度0.65A/cm² 、電
解時間2.3 分) で直接通電法にて、交流電解エッチング
を実施した。これら電解エッチング後のアルミニウム箔
コイルを、アジピン酸アンモニウム水溶液(60 ℃) 、化
成電圧2Vにて、化成処理( 陽極酸化処理) して誘電体酸
化皮膜を形成し、中低圧用の陽極アルミニウム箔を製造
した。

【００３４】これら電解エッチング後のアルミニウム箔
コイルの幅方向端部と幅方向中心部について、等価直列
回路( 測定液; アジピン酸アンモニウム水溶液、30℃、
測定周波数; 120Hz 、測定電圧50mv) にて静電容量 (μ
F/cm²)を各々測定し、両部位の静電容量の差も求めた。
また走査型電子顕微鏡にて、前記電解エッチング後(通
電0.05秒後) のアルミニウム箔コイル表面のエッチング
ピットを観察し、エッチングピットの発生密度 (個/0.1
5mm²) を求めた。更に、アルミニウム箔コイルの幅方向
端部の静電容量と電解エッチング減量とから、単位エッ
チング減量当たり（1mg)の静電容量を求めた。これらの
結果を表１に示す。

【００３５】表１から明らかな通り、本発明例No.1は、
比較例No.2、3 に比して、エッチングピットの発生密度
が高く、高静電容量が得られている。また、単位エッチ
ング減量当たり（1mg)の静電容量も高く、アルミニウム
箔コイルの幅方向端部と幅方向中心部の静電容量の差が
少なく、箔表面で均一な静電容量のものであることが分
かる。発明例のピット発生密度が高く、静電容量が高い
のは、前記箔コイルに付着した圧延油の脱脂・洗浄およ
び乾燥方法の違いによるものである。即ち、比較例は、
圧延油の脱脂・洗浄を、水溶性有機系洗浄剤であるアセ
トンにより行い、そして乾燥を通常の大気中で行ってい
る。そのため、脱脂・洗浄用の水溶性有機系洗浄剤に含
まれる水分、乃至乾燥用の通常の大気中に含まれる水分
や酸素によって、アルミニウム箔コイル表面の、電解エ
ッチング前までに形成されるコイル酸化皮膜が不均質な
ものとなり、電解エッチングによるピットの発生密度が
低く、静電容量の点で本発明例よりも劣っているもので
ある。

【００３６】これに対して、本発明例は、圧延油の脱脂
・洗浄を、非水溶性有機系洗浄剤により行い、そして乾
燥を、露点0 ℃の乾燥した大気中で行っている。そのた
め、脱脂・洗浄用の洗浄剤や乾燥用の通常の大気中に
は、水分や酸素が含まれていない。したがって、乾燥用
の大気中で、アルミニウム箔コイル表面の、電解エッチ
ング前までに形成されるコイル酸化皮膜が均質なものと
なり、電解エッチングによるピット発生の高密度化が図
れるものである。この結果、表１の通り、アルミニウム
箔コイルの静電容量が高くなっている。なお、表１にお
いて、各比較例は、アルミニウム箔コイルの幅方向端部
と幅方向中心部の静電容量の差と、単位エッチング減量
当たり（1mg)の静電容量が発明例と同等レベルとなって
いるが、これは発明例よりも低い静電容量を前提とした
ものに過ぎない。即ち、各比較例の静電容量を、発明例
と同等レベルの高い静電容量にしたと仮定した場合に
は、必然的に、各比較例の前記静電容量の差は大きくな
るとともに、エッチング減量も増して単位エッチング減
量当たりの静電容量も小さくなり、発明例レベルよりも
劣るものになる。したがって、表1 の結果は、やはり発
明例が、前記静電容量の差や、単位エッチング減量当た
りの静電容量においても、各比較例より優れていること
を証明しているものに他ならない。

【００３７】

【表１】

【００３８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明方法によれ
ば、アルミニウム箔の電解エッチング性に優れ、静電容
量が高い電解コンデンサ用アルミニウム箔を提供するこ
とができる。しかも、従来のアルミニウム箔の製造方法
を、大幅に変更することなく、その効果が達成できる点
で工業的な意義は大きい。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、公知のアルミニウム電解コンデンサの
基本構造を示す説明図である。

【符号の説明】

１；陽極アルミニウム箔２；陰極アルミ
ニウム箔３；セパレート紙４；誘電体層
（バリヤー酸化皮膜）５；リード線

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者大脇武史神戸市西区高塚台１丁目５番５号株式会社神戸製鋼所神戸総合技術研究所内 (72)発明者西澤節神戸市西区高塚台１丁目５番５号株式会社神戸製鋼所神戸総合技術研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】アルミニウム箔の冷間圧延後に、アルミ
ニウム箔に付着した潤滑油等を洗浄剤により洗浄後、該
アルミニウム箔を雰囲気ガス中で乾燥する工程を含む電
解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法であって、前
記洗浄剤を水分を含まぬ非水溶性有機系洗浄剤とすると
ともに、前記雰囲気ガスを露点０℃以下の酸化性ガスと
し、該雰囲気ガス中でアルミニウム箔表面に酸化皮膜を
生成させることを特徴とする電解コンデンサ用アルミニ
ウム箔の製造方法。
【請求項２】前記酸化性ガスが大気である請求項１に
記載の電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法。
【請求項３】前記洗浄剤による洗浄を、最終箔厚に対
し５倍の箔厚を有するアルミニウム箔の製造工程以降に
行う請求項１乃至２のいずれか１項に記載の電解コンデ
ンサ用アルミニウム箔の製造方法。
【請求項４】前記非水溶性有機系洗浄剤が、トリクロ
ロエチレン、トリクロエタンから選択される請求項１乃
至３のいずれか１項に記載の電解コンデンサ用アルミニ
ウム箔の製造方法。
【請求項５】前記アルミニウム箔のＡｌ純度が99.6%
以上である請求項１乃至４のいずれか１項に記載の電解
コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法。
【請求項６】前記アルミニウム箔のＡｌ純度が99.99%
以上である請求項１乃至５のいずれか１項に記載の電解
コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法。
【請求項７】前記アルミニウム電極箔の、前記電解エ
ッチングでの単位エッチング減量(1mg/cm²) 当たりの静
電容量が、9.0 μF/cm²以上 (但し、静電容量は化成電
圧2Vにて誘電体酸化皮膜を形成した箔で測定) である請
求項１乃至６のいずれか１項に記載の電解コンデンサ用
アルミニウム電極箔の製造方法。
【請求項８】電解エッチングされた後のアルミニウム
箔表面の任意の二箇所の静電容量の差が2.0 μF/cm² 以
下 (但し、静電容量は化成電圧2Vにて誘電体酸化皮膜を
形成した箔で測定) である請求項１乃至７のいずれか１
項に記載の電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方
法。
【請求項９】電解エッチングされた後のアルミニウム
箔表面の任意の二箇所の静電容量の差が1.0 μF/cm² 以
下 (但し、静電容量は化成電圧2Vにて誘電体酸化皮膜を
形成した箔で測定) である請求項１乃至８のいずれか１
項に記載の電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方
法。
【請求項１０】前記アルミニウム箔がコイル状である
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の電解コンデンサ
用アルミニウム箔の製造方法。