JP2006135310A - コンデンサ用電極シート及びその製造方法並びに電解コンデンサ - Google Patents
コンデンサ用電極シート及びその製造方法並びに電解コンデンサ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006135310A JP2006135310A JP2005294976A JP2005294976A JP2006135310A JP 2006135310 A JP2006135310 A JP 2006135310A JP 2005294976 A JP2005294976 A JP 2005294976A JP 2005294976 A JP2005294976 A JP 2005294976A JP 2006135310 A JP2006135310 A JP 2006135310A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode sheet
- capacitor
- valve action
- alloy
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims abstract description 62
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 47
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 57
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 57
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims abstract description 56
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 52
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 49
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 47
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 34
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 34
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 14
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 13
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 13
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims description 43
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 claims description 28
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 26
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 19
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 12
- 239000010405 anode material Substances 0.000 claims description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 11
- 229910018580 Al—Zr Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 10
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 9
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000010285 flame spraying Methods 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 62
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 23
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 11
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 9
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007712 rapid solidification Methods 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010027146 Melanoderma Diseases 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 229910018575 Al—Ti Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 238000010288 cold spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
- C23C4/06—Metallic material
- C23C4/08—Metallic material containing only metal elements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/18—After-treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/0029—Processes of manufacture
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/004—Details
- H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
- H01G9/042—Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by the material
- H01G9/045—Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by the material based on aluminium
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/004—Details
- H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
- H01G9/048—Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by their structure
- H01G9/055—Etched foil electrodes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
Abstract
【課題】 溶射層のポロシティ含有率を抑制し得て漏れ電流を小さくできると共に大きな静電容量を確保できるコンデンサ用電極シートの製造方法を提供する。
【解決手段】 Al−弁作用金属の合金の粉末をアルミニウム箔2の表面に溶射することによってアルミニウム箔2の少なくとも片面にAl−弁作用金属の合金からなる溶射層3を積層するコンデンサ用電極シートの製造方法において、前記溶射時に少なくとも前記合金のマトリックスAl相を溶融せしめることによって前記溶射層3のポロシティ含有率を20 vol%以下に制御することを特徴とする。
【選択図】 図1
【解決手段】 Al−弁作用金属の合金の粉末をアルミニウム箔2の表面に溶射することによってアルミニウム箔2の少なくとも片面にAl−弁作用金属の合金からなる溶射層3を積層するコンデンサ用電極シートの製造方法において、前記溶射時に少なくとも前記合金のマトリックスAl相を溶融せしめることによって前記溶射層3のポロシティ含有率を20 vol%以下に制御することを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
この発明は、大きな静電容量が得られると共に漏れ電流が少ないコンデンサ用電極シート及びその製造方法並びに電解コンデンサに関する。
なお、この明細書において、「アルミニウム」の語は、アルミニウム及びその合金を含む意味で用いる。また、この明細書において、「Al」の表記は、アルミニウム(金属単体)を意味する。
近年、電気機器のデジタル化が進むのに伴い、電解コンデンサとしては小型で大容量のものが求められるようになってきている。とりわけ、パーソナルコンピュータや携帯電話等の通信機器では、搭載されるCPUの演算速度の増大に伴い、コンデンサの静電容量をさらに増大させることが強く求められている。
大きな静電容量を確保できるコンデンサ用電極箔としては、Ti、Zr等の弁作用金属(バルブメタル)とAlとからなる合金箔を急冷凝固法により作製し、この合金箔をエッチング処理した後、さらに陽極酸化処理を施して表面に酸化皮膜を形成せしめたものが知られている(特許文献1参照)。
しかし、このような急冷凝固法により得られたアルミニウム合金箔は、十分な強度が得られず、特に曲げ強度が低くて耐折り曲げ性に劣っていた。近年では、電解コンデンサとしては、小型化の要請から、電極箔が捲回された構成のものが最も多く用いられているが、上記従来のアルミニウム合金箔(急冷凝固法により得られたもの)では、捲回すると折損が生じてしまうことから、実用に供することは到底できなかった。
また、大きな静電容量を確保できるコンデンサ用電極箔として、Al−弁作用金属の金属間化合物をAl中に微細分散せしめてなる電極箔が公知である(特許文献2参照)。この電極箔では、静電容量を増大させることはできるものの、金属間化合物がAl中に析出していることにより十分な強度が得られず、特に曲げ強度が低くて耐折り曲げ性に劣っていた。
このような状況の中、弁作用金属であるZr、Ti等を含有したアルミニウム合金(例えばAl−Zr合金、Al−Ti合金等)の粉末をアルミニウム箔の表面に溶射した後、不活性雰囲気中で焼結または圧延することによって、アルミニウム箔の表面に多孔質の被覆層を形成せしめた電極箔を、電解コンデンサ用電極材料として用いることが提案されている(特許文献3参照)。この電極箔は、大きな静電容量が得られると共に、高い折り曲げ強度を有していて耐折り曲げ性に優れていることから、捲回タイプの電解コンデンサにも適用可能である。
特開昭60−66806号公報(特許請求の範囲、第2頁右下欄)
特開平1−124212号公報(特許請求の範囲)
特開平2−91918号公報(特許請求の範囲)
しかしながら、Al−弁作用金属の合金の粉末を溶射することにより形成された溶射層には、ポロシティ(小孔、中空)が多く存在しているが、このポロシティの表面には酸化膜が形成されているために漏れ電流が大きくなるという問題があった。勿論、このポロシティは、圧延処理等によって潰すことは可能であるが、圧延処理を行ってポロシティを潰してもポロシティに一旦形成された酸化膜は溶射層内に巻き込んだ状態で残存してしまうので、圧延処理をしたとしても漏れ電流を小さく抑制することはできなかった。
この発明は、かかる技術的背景に鑑みてなされたものであって、溶射層のポロシティ含有率を抑制し得て漏れ電流を小さくできると共に大きな静電容量を確保できるコンデンサ用電極シート及びその製造方法並びに小型でかつ大容量で漏れ電流の小さい電解コンデンサを提供することを目的とする。
前記目的を達成するために、本発明者は鋭意研究の結果、特定の溶射条件等を設定することによって溶射層のポロシティ(porosity)含有率を低減できること、さらに形成された溶射層内のポロシティ含有率が20 vol%以下であれば、漏れ電流を小さくできると共に大きな静電容量を確保できることを見出すに至り、この発明を完成した。即ち、本発明は以下の手段を提供する。
[1]Al−弁作用金属の合金の粉末をアルミニウム箔の表面に溶射することによって前記アルミニウム箔の少なくとも片面にAl−弁作用金属の合金からなる溶射層を積層するコンデンサ用電極シートの製造方法において、
前記溶射時に少なくとも前記合金のマトリックスAl相を溶融せしめることによって前記溶射層のポロシティ含有率を20 vol%以下に制御することを特徴とするコンデンサ用電極シートの製造方法。
前記溶射時に少なくとも前記合金のマトリックスAl相を溶融せしめることによって前記溶射層のポロシティ含有率を20 vol%以下に制御することを特徴とするコンデンサ用電極シートの製造方法。
[2]Al−弁作用金属の合金の粉末をアルミニウム箔の表面に溶射することによって前記アルミニウム箔の少なくとも片面にAl−弁作用金属の合金からなる溶射層を積層するコンデンサ用電極シートの製造方法において、
前記溶射時に、前記合金の高融点析出物であるAl−弁作用金属の金属間化合物は未溶融状態とし、前記合金のマトリックスであるAl相を溶融せしめることによって、前記溶射層のポロシティ含有率を12 vol%以下に制御することを特徴とするコンデンサ用電極シートの製造方法。
前記溶射時に、前記合金の高融点析出物であるAl−弁作用金属の金属間化合物は未溶融状態とし、前記合金のマトリックスであるAl相を溶融せしめることによって、前記溶射層のポロシティ含有率を12 vol%以下に制御することを特徴とするコンデンサ用電極シートの製造方法。
[3]Al−弁作用金属の合金の粉末をアルミニウム箔の表面に溶射することによって前記アルミニウム箔の少なくとも片面にAl−弁作用金属の合金からなる溶射層を積層するコンデンサ用電極シートの製造方法において、
前記Al−弁作用金属の合金の粉末として粒径が5〜500μmのものを用いると共に、溶射熱量を3〜7kJ/lに設定して前記溶射を行うことを特徴とするコンデンサ用電極シートの製造方法。
前記Al−弁作用金属の合金の粉末として粒径が5〜500μmのものを用いると共に、溶射熱量を3〜7kJ/lに設定して前記溶射を行うことを特徴とするコンデンサ用電極シートの製造方法。
[4]Al−弁作用金属の合金の粉末としてα相含有率が5〜95 vol%のものを用いる前項3に記載のコンデンサ用電極シートの製造方法。
[5]アルミニウム箔の厚さが8〜200μmである前項1〜4のいずれか1項に記載のコンデンサ用電極シートの製造方法。
[6]Al−弁作用金属の合金からなる溶射層を積層した後、超音波洗浄することを特徴とする前項1〜5のいずれか1項に記載のコンデンサ用電極シートの製造方法。
[7]Al−弁作用金属の合金からなる溶射層を積層した後、圧延・焼鈍することを特徴とする前項1〜6のいずれか1項に記載のコンデンサ用電極シートの製造方法。
[8]Al−弁作用金属の合金からなる溶射層を積層した後、酸洗浄またはアルカリ洗浄を行うことを特徴とする前項1〜7のいずれか1項に記載のコンデンサ用電極シートの製造方法。
[9]Al−弁作用金属の合金の粉末として、Ti、Zr、Nb、Ta及びHfからなる群より選ばれる1種または2種以上の弁作用金属と、Alとの合金の粉末を用いる前項1〜8のいずれか1項に記載のコンデンサ用電極シートの製造方法。
[10]Al−弁作用金属の合金の粉末として、Al−Zr合金の粉末を用いる前項1〜9のいずれか1項に記載のコンデンサ用電極シートの製造方法。
[11]前項1〜10のいずれか1項に記載の製造方法により製造されたコンデンサ用電極シート。
[12]前項11に記載のコンデンサ用電極シートをエッチングした後、さらに化成処理を行って表面に誘電体皮膜を形成せしめることを特徴とする電解コンデンサ用陽極材の製造方法。
[13]前項12に記載の製造方法により製造された電解コンデンサ用陽極材。
[14]前項13に記載の陽極材を用いて構成された電解コンデンサ。
[1]の発明では、少なくとも合金(Al−弁作用金属の合金)のマトリックスAl相を溶融せしめて溶射するので、形成した溶射層のポロシティ含有率を20 vol%以下に抑制することができる。このように溶射層のポロシティ含有率が20 vol%以下に制御されるので、得られた電極シートは、漏れ電流が小さいものとなると共に、大きな静電容量を確保できる。
[2]の発明では、合金(Al−弁作用金属の合金)の高融点析出物であるAl−弁作用金属の金属間化合物は未溶融状態とし、かつ合金のマトリックスであるAl相を溶融せしめて溶射するので、即ち高融点析出物であるAl−弁作用金属の金属間化合物は溶融できないがマトリックスAl相は溶融できる低出力で溶射するので、形成した溶射層のポロシティ含有率を12 vol%以下に抑制することができる。このように溶射層のポロシティ含有率を12 vol%以下に制御できるので、得られた電極シートは、漏れ電流が非常に小さいものとなると共に、さらに大きな静電容量を確保できる。
[3]の発明では、Al−弁作用金属の合金の粉末として粒径が5〜500μmのものを用いると共に、溶射熱量を3〜7kJ/lの低出力で溶射を行うので、少なくとも合金(Al−弁作用金属の合金)のマトリックスAl相を溶融せしめて(即ち蒸発させることなく)溶射することができ、従って形成した溶射層のポロシティ含有率を20 vol%以下に抑制することが可能となる。このように溶射層のポロシティ含有率を20 vol%以下に制御できるので、得られた電極シートは、漏れ電流が小さいものとなると共に、大きな静電容量を確保できる。更に、溶射熱量が3〜7kJ/lであり低出力であるから、溶射時の熱によって芯材のアルミニウム箔が伸びて皺が発生するようなことがないし、溶射熱によって芯材のアルミニウム箔が溶断することもない。
[4]の発明では、更にAl−弁作用金属の合金の粉末としてα相含有率が5〜95 vol%のものを用いるので、組成を変化させることにより、得られる静電容量を調整できる利点がある。
[5]の発明では、溶射対象のアルミニウム箔として厚さが8〜200μmのアルミニウム箔を用いるので、溶射時の熱によって箔が溶断することがなく、且つより大きな静電容量を確保することができる。
[6]の発明では、アルミニウム箔にAl−弁作用金属の合金からなる溶射層が積層された電極シートを超音波洗浄するので、この超音波洗浄によって溶射層内の溶着状態の不安定な部分をエッチング前に除去することができ、これによりエッチング処理を経た後に良好なエッチング組織を形成せしめることができる。
[7]の発明では、アルミニウム箔にAl−弁作用金属の合金からなる溶射層が積層された電極シートを圧延及び焼鈍するので、溶射層内に存在していた微小なポロシティを消滅させることができて、漏れ電流がさらに少ない電極シートを製造することができる。なお、圧延・焼鈍は、それぞれ少なくとも1回以上行えば良い。
[8]の発明では、アルミニウム箔にAl−弁作用金属の合金からなる溶射層が積層された電極シートを酸洗浄またはアルカリ洗浄するので、溶射層内の溶着状態の不安定な部分をエッチング前に十分に除去することができ、これによりエッチング処理を経た後に良好なエッチング組織を形成せしめることができる。
[9]の発明では、より大きな静電容量を備えた電極シートを製造できる。
[10]の発明では、より一層大きな静電容量を備えた電極シートを製造できる。
[11]の発明に係るコンデンサ用電極シートでは、漏れ電流が小さいものとなると共に、大きな静電容量が得られる。
[12]の発明では、エッチングにより溶射層の表面積を増大させることができると共に、化成処理によって誘電率の大きい誘電体皮膜を形成できるので、容量をさらに向上させた電解コンデンサの提供が可能となる。
[13]の発明に係る陽極材は、漏れ電流が小さく、大きな静電容量が得られるから、この陽極材を用いれば、例えば小型でかつ大容量で漏れ電流の小さい捲回型の電解コンデンサの提供が十分に可能となる。
[14]の発明では、[13]の陽極材を用いて構成されているから、小型でかつ大容量で漏れ電流の小さい電解コンデンサが提供される。
この発明に係るコンデンサ用電極シート(1)の製造方法は、Al−弁作用金属の合金の粉末をアルミニウム箔(2)の表面に溶射することによって前記アルミニウム箔(2)の少なくとも片面にAl−弁作用金属の合金からなる溶射層(3)を積層するに際し、前記溶射時に少なくとも前記合金のマトリックスAl相を溶融せしめることによって前記溶射層(3)のポロシティ含有率を20 vol%以下に制御することを特徴とするものである。
この製造方法によれば、Al−弁作用金属の合金の粉末をアルミニウム箔(2)の表面に溶射する時に少なくとも合金(Al−弁作用金属の合金)のマトリックスAl相を溶融せしめて溶射するので、形成した溶射層(3)は緻密な形態を呈し、この溶射層(3)のポロシティ含有率を20 vol%以下に抑制することができる。このように溶射層のポロシティ含有率を20 vol%以下に制御できるので、得られた電極シート(1)は、漏れ電流が小さいものとなると共に大きな静電容量を確保することができる。例えば、前記アルミニウム箔(2)の両面に溶射するようにすれば、図1に示すように、アルミニウム箔からなる芯材(2)の両面にAl−弁作用金属の合金からなる溶射層(3)(3)が積層された電極シート(1)が得られる。更に、溶射によりAl−弁作用金属の合金層(3)を形成するので、得られた電極シート(1)は耐折り曲げ性にも優れており、捲回タイプの電解コンデンサにも適用できる。
中でも、Al−弁作用金属の合金の粉末をアルミニウム箔(2)の表面に溶射することによって前記アルミニウム箔(2)の少なくとも片面にAl−弁作用金属の合金からなる溶射層(3)を積層するに際して、前記溶射時に、前記合金の高融点析出物であるAl−弁作用金属の金属間化合物は未溶融状態とし、前記合金のマトリックスであるAl相を溶融せしめることによって、前記溶射層(3)のポロシティ含有率を12 vol%以下に制御するのが好ましい。この製造方法では、前記合金の高融点析出物であるAl−弁作用金属の金属間化合物は未溶融状態とし、前記合金のマトリックスであるAl相を溶融せしめて溶射するので、形成した溶射層(3)のポロシティ含有率を12 vol%以下に制御することが可能となる。前記溶射層(3)のポロシティ含有率は8 vol%以下に制御するのが特に好ましい。
なお、溶射層(3)のポロシティ含有率が20 vol%を超えた構成では、ポロシティ表面に形成される多くの酸化皮膜の存在によって漏れ電流が顕著に増大すると共に静電容量も低下する。
上記のように、Al−弁作用金属の合金の粉末をアルミニウム箔(2)の表面に溶射する時に少なくとも合金(Al−弁作用金属の合金)のマトリックスAl相を溶融せしめて溶射するためには、前記Al−弁作用金属の合金粉末として粒径が5〜500μmのものを用いると共に、溶射熱量を3〜7kJ/lに設定して溶射を行えば良い。
即ち、前記溶射に用いるAl−弁作用金属の合金の粉末の粒径は5〜500μmとするのが望ましい。5μm未満では、低出力溶射でも高融点析出物であるAl−弁作用金属の金属間化合物が溶融してしまいポロシティ含有率が増大する。一方500μmを超えると溶射層(3)のポロシティ含有率が増大して漏れ電流が大きくなる。中でも、Al−弁作用金属の合金の粉末の粒径は8〜200μmとするのが好ましく、特に好ましい範囲は10〜75μmである。粒径5〜500μmの粉末(Al−弁作用金属の合金の粉末)としては、例えば、平均粒径が50μmで、粒径分布範囲が10〜80μmの粉末(Al−弁作用金属の合金の粉末)を例示できる。
また、前記溶射の際の溶射熱量は3〜7kJ/lに設定するのが望ましい。3kJ/l未満では溶射皮膜層(3)の形成速度が顕著に低下する。一方7kJ/lを超えると、溶射出力が大きくなり過ぎて溶射中にAl相が蒸発し溶射層のポロシティ含有率が増大するし、弁作用金属がリッチな異相が生じ、ポロシティ含有率が50 vol%以上になると不均質な相によって静電容量が低くなる。中でも、前記溶射の際の溶射熱量は4〜6kJ/lに設定するのが特に望ましい。なお、この明細書では、過飽和のZrを含み、SEM観察にてα相と異なって見える相を「異相(Zrリッチ相)」と定義している。この異相の分布や量は、後述するα相含有率の算出方法と同様の手法により求められる。また、「リッチな異相」とは、固溶限を超えて、かつ金属間化合物の晶出が生じていない相を言う。
前記溶射熱量は、例えば、溶射電流や溶射混合ガス(水素、窒素、アルゴン等)の比率を変化させることにより調整することができる。前記溶射熱量は、ガスの解離電圧と溶射電流との積で求められる値(熱量)である。ガスの解離電圧はガス種によって異なる。
また、前記Al−弁作用金属の合金粉末としては、α相含有率が5〜95 vol%である合金粉末を用いるのが好ましい。α相含有率が5 vol%未満では、静電容量増加の効果が低下するので好ましくないし、95 vol%を超えると、曲げ強度が低下して容易に折れてしまうので好ましくない。中でも、α相含有率が10〜70 vol%である合金粉末を用いるのがより好ましく、特に好ましいのはα相含有率が20〜60 vol%である合金粉末である。なお、α相含有率は、組成像を走査電子顕微鏡(SEM)で観察し、その画像を画像処理することによって析出相の面積を算出し、全体の面積から該析出相の面積を減算することによって求められる。
前記溶射の手法としては、公知の溶射方法を採用することができ、特に限定されるものではないが、例えばフレーム溶射、アーク溶射、プラズマ溶射、コールドスプレー等を例示できる。
前記プラズマ溶射とは、電極の間にアルゴン、ヘリウム等のガスを流して放電すると、電離して高音高速のプラズマが発生するが、このプラズマを溶射の熱源として用いる溶射法であり、前記高音高速のプラズマ流(プラズマジェット)に溶射材料の粉末を投入して加熱加速せしめて基材に衝突させて溶射するものである。
前記コールドスプレーとは、溶射材料の融点または軟化温度よりも低い温度に加熱した高圧のガスを超音速流にし、この超音速流に溶射材料の粉末を投入して加速せしめ、固相状態のまま基材に衝突させて溶射するものである。
Alと合金をなす弁作用金属は、Ti、Zr、Nb、Ta、Hf等のいずれであってもその種類を問わず、1種または2種以上含有することによって静電容量の向上に同効を示すことは、例えば特開昭60−66806号公報、特開平1−124212号公報、特開平2−91918号公報等にも記載されているとおり、本発明の属する技術分野においては既に良く知られている事項である。従って、この発明の製造方法において、前記Al−弁作用金属の合金の粉末としては、Ti、Zr、Nb、Ta及びHfからなる群より選ばれる1種または2種以上の弁作用金属と、Alとの合金の粉末を用いるのが好ましい。このような構成を採用した場合には、より大きな静電容量を備えた電極シート(1)を製造することができる。中でも、前記Al−弁作用金属の合金の粉末としてはAl−Zr合金の粉末を用いるのが特に好ましい。
また、前記アルミニウム箔(2)としては、Al箔、またはTi、Zr、Nb、Ta及びHfからなる群より選ばれる1種または2種以上の弁作用金属、Alとからなる合金箔を用いるのが好ましい。この場合には、得られた電極シートを化成処理した時の皮膜欠陥が少なく漏れ電流をさらに小さくできる。
また、前記アルミニウム箔(2)としては、厚さが8〜200μmのものを用いるのが好ましい。8μm未満では、溶射熱によってアルミニウム箔が溶断することが懸念される上に、電極シート(1)としての剛性が不十分となり電極シート(1)を曲げたり切断した場合に割れが生じやすくなるので好ましくない。一方、200μmを超えると、電極シート(1)を捲回して捲回型ケースに収納する場合において捲回の際の曲率半径Rが大きくなってしまい捲回型ケースに収納するのが困難になるし、このような規制から溶射層(3)の厚さも薄くせざるを得なくなって十分な静電容量を確保することができなくなるので好ましくない。中でも、前記アルミニウム箔(2)としては、厚さが40〜100μmのものを用いるのが特に好ましい。
この発明の製造方法では、前記Al−弁作用金属の合金からなる溶射層(3)をアルミニウム箔(2)に積層した工程の後に、超音波洗浄する工程を設けるのが好ましい。このような超音波洗浄を施すことによって、溶射層(3)内の溶着状態の不安定な部分をエッチング処理前に除去することができ、従ってエッチング処理を経た後に良好なエッチング組織を形成せしめることができる利点がある。なお、溶射層(3)に溶射原料粉末がそのまま付着することは避けられないものであるが、前記超音波洗浄工程を設けない場合には、このような付着物が付着した状態でエッチングが行われることとなり、エッチング処理液が即座に汚染されてしまい安定したエッチングを行うことが困難になるし、溶射層(3)内の溶着状態の不安定な部分が剥離してしまい大きな穴が発生して良好状態にエッチングすることが困難になる。従って、前記超音波洗浄工程を設けるのが好ましい。
前記超音波洗浄に用いる洗浄液としては、特に限定されるものではないが、例えばアセトン、メタノール、エタノール等が挙げられる。
また、この発明の製造方法では、前記Al−弁作用金属の合金からなる溶射層(3)をアルミニウム箔(2)に積層した工程の後に、圧延・焼鈍する工程を設けるのが好ましい。このような圧延・焼鈍処理を施すことによって、溶射層(3)内に存在していた微小なポロシティを消滅させることができて、漏れ電流がさらに少ない電極シート(1)を製造することができる。また、前記積層工程と前記圧延工程との間に焼鈍工程を設けても良いし、前記圧延工程の後に焼鈍工程を設けても良いし、或いはまた前記積層工程の後において前記圧延工程の前後の両方に焼鈍工程を設けるようにしても良い。即ち、圧延・焼鈍を行う場合には、圧延・焼鈍は、その実施順序はいかなる順序でも良く、それぞれ少なくとも1回以上行えば良い。
前記圧延を行う際の圧下率は1〜50%に設定するのが好ましい。1%未満では表面を平滑にする効果が得られ難くなるので好ましくないし、50%を超えるとシートの延性が著しく低下するので好ましくない。中でも、圧下率は5〜30%に設定するのがより好ましい。
また、この発明の製造方法では、前記Al−弁作用金属の合金からなる溶射層(3)をアルミニウム箔(2)に積層した工程の後に、酸洗浄またはアルカリ洗浄する工程を設けても良い。このような酸洗浄またはアルカリ洗浄処理を施すことによって、溶射層(3)内の溶着状態の不安定な部分をエッチング前に十分に除去することができ、従ってエッチング処理を経た後に良好なエッチング組織を形成せしめることができる。
前記酸洗浄に用いる酸としては、特に限定されるものではないが、例えば硝酸水溶液等を例示できる。また、前記アルカリ洗浄に用いるアルカリとしては、特に限定されるものではないが、例えば水酸化ナトリウム水溶液等を例示できる。
この発明の製造方法で製造された電極シート(1)において、溶射層(3)の厚さは5〜150μmであるのが好ましい。5μm未満ではエッチング処理時にアルミニウム箔の芯材(2)が露出して十分な静電容量が得られなくなるので好ましくない。一方150μmを超えると、電解質がエッチング層のすべてに入っていかなくなって十分な静電容量が得られなくなるので好ましくない。中でも、前記溶射層(3)の厚さは20〜120μmであるのがより好ましく、特に好ましいのは50〜100μmである。なお、この溶射層(3)の厚さは、圧延・焼鈍等の処理を行う場合には、これら処理を経た後の溶射層の厚さを意味するものである。
しかして、この発明の製造方法により製造された電極シート(1)をエッチングした後、さらに化成処理を行ってこの電極シートの表面に電気化学的に誘電体皮膜を形成させることによって、電解コンデンサ用陽極材として好適に用いられる電極シート(1)を製造することができる。
前記エッチング処理としては、例えば塩酸水溶液または硫酸アルミニウム溶液中で直流電流を通電してエッチングする方法等を例示できるが、特にこれに限定されない。
また、前記化成処理としては、特に限定されるものではないが、例えばホウ酸浴、リン酸浴またはアジピン酸浴中での化成処理等が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。
この発明に係る電解コンデンサは、上記陽極材を用いて構成されたものである。この発明のコンデンサ用電極シート(1)を構成素材にした陽極材を用いているので、小型でかつ大容量で漏れ電流の小さい電解コンデンサとなる。
次に、この発明の具体的実施例について説明する。
<実施例1>
Al−Zr合金(Al:73wt%、Zr:27wt%)の粉末(粒径15〜150μm)を、厚さ50μmの純度99.9%以上(Si:30ppm、Fe:15ppm、Cu:40ppm)のアルミニウム箔芯材(2)の両面にアーク溶射(溶射熱量5kJ/l)することによって、芯材(2)の両面にそれぞれ厚さ120μmの溶射層(3)(3)を積層して電極シート(1)を得た(図1参照)。前記Al−Zr合金粉末のα相含有率は40%であった。なお、溶射電流は180A、溶射混合ガス流量250L/分、溶射混合ガスの比率は水素:窒素:アルゴン=10:10:80( vol%)であった。得られた電極シートの断面の走査電子顕微鏡写真を図2に示す。前記溶射層(3)におけるポロシティ含有率は3vol %であった。
Al−Zr合金(Al:73wt%、Zr:27wt%)の粉末(粒径15〜150μm)を、厚さ50μmの純度99.9%以上(Si:30ppm、Fe:15ppm、Cu:40ppm)のアルミニウム箔芯材(2)の両面にアーク溶射(溶射熱量5kJ/l)することによって、芯材(2)の両面にそれぞれ厚さ120μmの溶射層(3)(3)を積層して電極シート(1)を得た(図1参照)。前記Al−Zr合金粉末のα相含有率は40%であった。なお、溶射電流は180A、溶射混合ガス流量250L/分、溶射混合ガスの比率は水素:窒素:アルゴン=10:10:80( vol%)であった。得られた電極シートの断面の走査電子顕微鏡写真を図2に示す。前記溶射層(3)におけるポロシティ含有率は3vol %であった。
次に、前記電極シートを、3%(質量%)H3PO4水溶液中に浸漬して90℃で120秒間煮沸することによって脱脂した後、流水で水洗し、更にアセトン溶媒中で超音波洗浄した。
更に、前記電極シートを、3%(質量%)の硝酸水溶液中に3分間浸漬することによって酸洗浄を行った後、50℃で5分間乾燥させた。
次に、乾燥後の電極シートを一対の圧延ロール間に挿通して圧下率20%で圧延した後、空気中で500℃で5分間加熱処理(焼鈍)を行った。
次いでエッチング処理を行った。エッチング液としてHCl(1モル/L)+H2SO4(3.5モル/L)水溶液を用い、温度75℃、電流密度DC0.5A/cm2 (片面)の条件でエッチング処理を行った。
更に、リン酸アンモニウム水溶液(濃度1.5g/L、85℃)中において電流密度5mA/cm2 で20V×10分の定電圧化成処理を行った。
次いで、空気中で500℃で5分間加熱処理(焼鈍)を行った後、前記化成処理と同条件で(但し定電圧化成処理時間は5分間)再度化成処理を行うことによって、電極シートを得た。
<実施例2、3、比較例1、2>
Al−Zr合金粉末を溶射する際の溶射熱量を表1に示す値に設定して溶射した以外は、実施例1と同様にして電極シートを得た。
Al−Zr合金粉末を溶射する際の溶射熱量を表1に示す値に設定して溶射した以外は、実施例1と同様にして電極シートを得た。
<実施例4、比較例3>
Al−Zr合金粉末として表2に示す粒径のものを用いるものとした以外は、実施例2と同様にして電極シートを得た。
Al−Zr合金粉末として表2に示す粒径のものを用いるものとした以外は、実施例2と同様にして電極シートを得た。
<実施例5>
Al−Zr合金粉末として、Al−Zr合金(Al:82wt%、Zr:18wt%)の粉末を用いるものとした以外は、実施例2と同様にして電極シートを得た。
Al−Zr合金粉末として、Al−Zr合金(Al:82wt%、Zr:18wt%)の粉末を用いるものとした以外は、実施例2と同様にして電極シートを得た。
<実施例6>
超音波洗浄工程を省略した(アセトン溶媒中で超音波洗浄する工程を省略した)以外は、実施例2と同様にして電極シートを得た。
超音波洗浄工程を省略した(アセトン溶媒中で超音波洗浄する工程を省略した)以外は、実施例2と同様にして電極シートを得た。
<実施例7>
酸洗浄工程及び圧延工程を省略した以外は、実施例2と同様にして電極シートを得た。
酸洗浄工程及び圧延工程を省略した以外は、実施例2と同様にして電極シートを得た。
<実施例8>
酸洗浄工程を省略した(3質量%の硝酸水溶液中に3分間浸漬することによって酸洗浄する工程を省略した)以外は、実施例2と同様にして電極シートを得た。
酸洗浄工程を省略した(3質量%の硝酸水溶液中に3分間浸漬することによって酸洗浄する工程を省略した)以外は、実施例2と同様にして電極シートを得た。
<実施例9>
酸洗浄工程に代えて、アルカリ洗浄工程(5質量%の水酸化ナトリウム水溶液中に3分間浸漬することによってアルカリ洗浄する工程)を設けた以外は、実施例6と同様にして電極シートを得た。
酸洗浄工程に代えて、アルカリ洗浄工程(5質量%の水酸化ナトリウム水溶液中に3分間浸漬することによってアルカリ洗浄する工程)を設けた以外は、実施例6と同様にして電極シートを得た。
<実施例10>
超音波洗浄工程、酸洗浄工程及び圧延工程を省略した以外は、実施例2と同様にして電極シートを得た。
超音波洗浄工程、酸洗浄工程及び圧延工程を省略した以外は、実施例2と同様にして電極シートを得た。
上記のようにして得られた各電極シートのCV積及び漏れ電流量を測定すると共に、溶射層のポロシティ含有率を測定した。これら評価結果を表1〜3に示す。なお、CV積(μFV/cm2)については、表1では比較例2を100として相対値で示し、表2では比較例3を100として相対値で示し、表3では実施例10を100として相対値で示した。
<CV積の測定方法及び漏れ電流量の測定方法>
EIAJ法に準拠して測定した。
EIAJ法に準拠して測定した。
<溶射層のポロシティ含有率の測定方法>
溶射後の溶射層(未圧延状態)のポロシティ含有率を次のようにして測定した。即ち、走査電子顕微鏡(SEM)により組成像を観察したデジタル画像を画像解析することによって求められる。具体的には、デジタル画像においてポロシティは黒点として写し出されるため、この黒点の面積を画像解析により算出し、これに基づいてポロシティの含有割合(含有率)を求める。
溶射後の溶射層(未圧延状態)のポロシティ含有率を次のようにして測定した。即ち、走査電子顕微鏡(SEM)により組成像を観察したデジタル画像を画像解析することによって求められる。具体的には、デジタル画像においてポロシティは黒点として写し出されるため、この黒点の面積を画像解析により算出し、これに基づいてポロシティの含有割合(含有率)を求める。
1…コンデンサ用電極シート
2…アルミニウム箔
3…Al−弁作用金属の合金からなる溶射層
2…アルミニウム箔
3…Al−弁作用金属の合金からなる溶射層
Claims (14)
- Al−弁作用金属の合金の粉末をアルミニウム箔の表面に溶射することによって前記アルミニウム箔の少なくとも片面にAl−弁作用金属の合金からなる溶射層を積層するコンデンサ用電極シートの製造方法において、
前記溶射時に少なくとも前記合金のマトリックスAl相を溶融せしめることによって前記溶射層のポロシティ含有率を20 vol%以下に制御することを特徴とするコンデンサ用電極シートの製造方法。 - Al−弁作用金属の合金の粉末をアルミニウム箔の表面に溶射することによって前記アルミニウム箔の少なくとも片面にAl−弁作用金属の合金からなる溶射層を積層するコンデンサ用電極シートの製造方法において、
前記溶射時に、前記合金の高融点析出物であるAl−弁作用金属の金属間化合物は未溶融状態とし、前記合金のマトリックスであるAl相を溶融せしめることによって、前記溶射層のポロシティ含有率を12 vol%以下に制御することを特徴とするコンデンサ用電極シートの製造方法。 - Al−弁作用金属の合金の粉末をアルミニウム箔の表面に溶射することによって前記アルミニウム箔の少なくとも片面にAl−弁作用金属の合金からなる溶射層を積層するコンデンサ用電極シートの製造方法において、
前記Al−弁作用金属の合金の粉末として粒径が5〜500μmのものを用いると共に、溶射熱量を3〜7kJ/lに設定して前記溶射を行うことを特徴とするコンデンサ用電極シートの製造方法。 - Al−弁作用金属の合金の粉末としてα相含有率が5〜95 vol%のものを用いる請求項3に記載のコンデンサ用電極シートの製造方法。
- アルミニウム箔の厚さが8〜200μmである請求項1〜4のいずれか1項に記載のコンデンサ用電極シートの製造方法。
- Al−弁作用金属の合金からなる溶射層を積層した後、超音波洗浄することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のコンデンサ用電極シートの製造方法。
- Al−弁作用金属の合金からなる溶射層を積層した後、圧延・焼鈍することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のコンデンサ用電極シートの製造方法。
- Al−弁作用金属の合金からなる溶射層を積層した後、酸洗浄またはアルカリ洗浄を行うことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載のコンデンサ用電極シートの製造方法。
- Al−弁作用金属の合金の粉末として、Ti、Zr、Nb、Ta及びHfからなる群より選ばれる1種または2種以上の弁作用金属と、Alとの合金の粉末を用いる請求項1〜8のいずれか1項に記載のコンデンサ用電極シートの製造方法。
- Al−弁作用金属の合金の粉末として、Al−Zr合金の粉末を用いる請求項1〜9のいずれか1項に記載のコンデンサ用電極シートの製造方法。
- 請求項1〜10のいずれか1項に記載の製造方法により製造されたコンデンサ用電極シート。
- 請求項11に記載のコンデンサ用電極シートをエッチングした後、さらに化成処理を行って表面に誘電体皮膜を形成せしめることを特徴とする電解コンデンサ用陽極材の製造方法。
- 請求項12に記載の製造方法により製造された電解コンデンサ用陽極材。
- 請求項13に記載の陽極材を用いて構成された電解コンデンサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005294976A JP2006135310A (ja) | 2004-10-08 | 2005-10-07 | コンデンサ用電極シート及びその製造方法並びに電解コンデンサ |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004296366 | 2004-10-08 | ||
JP2005294976A JP2006135310A (ja) | 2004-10-08 | 2005-10-07 | コンデンサ用電極シート及びその製造方法並びに電解コンデンサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006135310A true JP2006135310A (ja) | 2006-05-25 |
Family
ID=38731746
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005294976A Pending JP2006135310A (ja) | 2004-10-08 | 2005-10-07 | コンデンサ用電極シート及びその製造方法並びに電解コンデンサ |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080094781A1 (ja) |
EP (1) | EP1800321A4 (ja) |
JP (1) | JP2006135310A (ja) |
CN (1) | CN101036207A (ja) |
TW (1) | TWI273615B (ja) |
WO (1) | WO2006038740A1 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008270525A (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Fujitsu Ltd | 電解コンデンサ |
WO2008132829A1 (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Fujitsu Limited | 電極箔及びその製造方法,並びに電解コンデンサ |
JP2008270524A (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Fujitsu Ltd | 電極箔及びその製造方法 |
WO2011013569A1 (ja) * | 2009-07-27 | 2011-02-03 | 三洋電機株式会社 | コンデンサ用電極体およびその製造方法、ならびにコンデンサ |
CN110340174A (zh) * | 2019-07-12 | 2019-10-18 | 南京工程学院 | 一种电容器用钽铝复合板带的生产方法 |
JP2021061431A (ja) * | 2020-12-28 | 2021-04-15 | 日本蓄電器工業株式会社 | 電解コンデンサ用電極部材および電解コンデンサ |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101873922B1 (ko) * | 2011-05-26 | 2018-07-03 | 도요 알루미늄 가부시키가이샤 | 알루미늄 전해 커패시터용 전극 재료 및 이의 제조 방법 |
JP5769528B2 (ja) | 2011-07-15 | 2015-08-26 | 東洋アルミニウム株式会社 | アルミニウム電解コンデンサ用電極材及びその製造方法 |
CN108666139A (zh) * | 2018-03-30 | 2018-10-16 | 益阳艾华富贤电子有限公司 | 阳极箔及铝电解电容器制作方法 |
CN110993349A (zh) * | 2019-12-19 | 2020-04-10 | 泉州泉石电子科技有限公司 | 一种基于热喷涂的平叠电容电极箔 |
CN111463016B (zh) * | 2020-04-10 | 2021-09-07 | 西安交通大学 | 一种电解电容器用多孔阳极铝箔的制备方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5524484A (en) * | 1978-08-09 | 1980-02-21 | Nippon Electric Co | Method of manufacturing solid electrolytic capacitor |
JPH0291918A (ja) * | 1988-09-29 | 1990-03-30 | Nippon Steel Corp | 電解コンデンサ用電極材料 |
US5314601A (en) * | 1989-06-30 | 1994-05-24 | Eltech Systems Corporation | Electrodes of improved service life |
JPH06267800A (ja) * | 1993-03-10 | 1994-09-22 | Sansha Electric Mfg Co Ltd | 電解コンデンサの生成方法 |
US5568353A (en) * | 1995-04-03 | 1996-10-22 | Motorola, Inc. | Electrochemical capacitor and method of making same |
US5716422A (en) * | 1996-03-25 | 1998-02-10 | Wilson Greatbatch Ltd. | Thermal spray deposited electrode component and method of manufacture |
EP0935265A3 (en) * | 1998-02-09 | 2002-06-12 | Wilson Greatbatch Ltd. | Thermal spray coated substrate for use in an electrical energy storage device and method |
EP1021583A4 (en) * | 1998-06-10 | 2003-04-02 | Us Nanocorp | ELECTRODES PRODUCED BY THERMAL SPRAYING |
US7199997B1 (en) * | 2000-06-09 | 2007-04-03 | U.S. Nanocorp, Inc. | Asymmetric electrochemical supercapacitor and method of manufacture thereof |
JP2001244152A (ja) * | 2000-03-01 | 2001-09-07 | Meidensha Corp | 電気二重層キャパシタの製造方法 |
-
2005
- 2005-10-07 EP EP05793087A patent/EP1800321A4/en not_active Withdrawn
- 2005-10-07 US US11/576,752 patent/US20080094781A1/en not_active Abandoned
- 2005-10-07 CN CNA2005800339772A patent/CN101036207A/zh active Pending
- 2005-10-07 WO PCT/JP2005/018911 patent/WO2006038740A1/en active Application Filing
- 2005-10-07 JP JP2005294976A patent/JP2006135310A/ja active Pending
- 2005-10-07 TW TW094135233A patent/TWI273615B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008270525A (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Fujitsu Ltd | 電解コンデンサ |
WO2008132829A1 (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Fujitsu Limited | 電極箔及びその製造方法,並びに電解コンデンサ |
JP2008270524A (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Fujitsu Ltd | 電極箔及びその製造方法 |
US8213159B2 (en) | 2007-04-20 | 2012-07-03 | Fujitsu Limited | Electrode foil, method of manufacturing electrode foil, and electrolytic capacitor |
WO2011013569A1 (ja) * | 2009-07-27 | 2011-02-03 | 三洋電機株式会社 | コンデンサ用電極体およびその製造方法、ならびにコンデンサ |
CN110340174A (zh) * | 2019-07-12 | 2019-10-18 | 南京工程学院 | 一种电容器用钽铝复合板带的生产方法 |
JP2021061431A (ja) * | 2020-12-28 | 2021-04-15 | 日本蓄電器工業株式会社 | 電解コンデンサ用電極部材および電解コンデンサ |
JP7028481B2 (ja) | 2020-12-28 | 2022-03-02 | 日本蓄電器工業株式会社 | 電解コンデンサ用電極部材および電解コンデンサ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101036207A (zh) | 2007-09-12 |
TWI273615B (en) | 2007-02-11 |
US20080094781A1 (en) | 2008-04-24 |
EP1800321A1 (en) | 2007-06-27 |
TW200620353A (en) | 2006-06-16 |
WO2006038740A1 (en) | 2006-04-13 |
EP1800321A4 (en) | 2010-05-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2006135310A (ja) | コンデンサ用電極シート及びその製造方法並びに電解コンデンサ | |
JP4958510B2 (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用電極材及びその製造方法 | |
US9142359B2 (en) | Electrode material for aluminum electrolytic capacitor and process for producing the electrode material | |
JP5769528B2 (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用電極材及びその製造方法 | |
US20110053764A1 (en) | Porous aluminum material having improved bending strength and production method therefor | |
JP5757867B2 (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用電極材及びその製造方法 | |
JP5511630B2 (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用電極材及びその製造方法 | |
US10079111B2 (en) | Method for producing electrode material for aluminum electrolytic capacitors, and electrode material for aluminum electrolytic capacitors | |
JP2007138236A (ja) | コンデンサ用電極シートおよびその製造方法 | |
JP6925874B2 (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用電極材及びその製造方法 | |
JP5053702B2 (ja) | コンデンサ用電極シートおよびその製造方法 | |
JPWO2016136804A1 (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用電極材及びその製造方法 | |
JP2006302917A (ja) | コンデンサ用電極シート及びその製造方法並びに電解コンデンサ | |
JP7317852B2 (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用電極材の製造方法 | |
US20080297983A1 (en) | Electrode Sheet For Capacitors, Method For Manufacturing The Same, And Electrolytic Capacitor | |
JP5573362B2 (ja) | 電極箔とこの電極箔を用いたコンデンサおよび電極箔の製造方法 | |
DE10005124C2 (de) | Elektrode sowie Verfahren zu ihrer Herstellung | |
TW200539205A (en) | Electrode sheet for capacitors, method for manufacturing the same, and electrolytic capacitor | |
JP2011096872A (ja) | 電極箔とその製造方法およびこの電極箔を用いたコンデンサ | |
JP2008021761A (ja) | バルブ金属複合電極箔およびその製造方法 | |
JP2011166045A (ja) | アルミ電解コンデンサ電極用アルミニウム箔 | |
JPH1187189A (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法 |