JPH10158526A - 樹脂組成物及びその成形体表面への導体形成方法 - Google Patents
樹脂組成物及びその成形体表面への導体形成方法Info
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- H05K3/381—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the substrate
Abstract
着性を有する導体形成に好適な樹脂組成物およびこれを
用いた樹脂成形体表面への導体形成方法を提供する。 【解決手段】 樹脂成形体表面に良好な密着性を有する
導体を湿式処理で形成することができる樹脂組成物とし
て、酸、アルカリ耐性を有する樹脂マトリックス中に、
粒径1〜20μmの粒子が90vol.%以上である酸
またはアルカリに侵食される絶縁性の有機粒子または有
機と無機の複合粒子の一方あるいは両方の合計を5〜5
0vol.%含有することを特徴とする。
Description
その成形体表面への導体形成方法に関する。さらに詳し
くは樹脂表面に湿式処理により導体を形成する際に、良
好な密着性を発現する樹脂組成物およびその成形体表面
への密着性良好な導体形成方法に関する。特にプリント
配線板の絶縁材料およびその製造方法に好適であるが、
それに限定されるものではない。
付与、あるいはプリント配線板に代表されるような樹脂
表面の特定部分に導体パターンを形成する等の目的で、
めっき処理が施されている。この種の処理には、大別し
て蒸着、スパッタリング等の薄膜形成技術を用いる乾式
処理と樹脂表面に無電解めっきを析出させるための触媒
核を吸着させ、無電解めっき浴に浸漬する等の湿式処理
がある。
μm程度であり、配線板の導体として用いる場合インピ
ーダンスを低くできない。また、一般的に乾式プロセス
は樹脂と導体の密着性は良好であるが、生産性、コスト
の面で劣るため、プリント配線板等の低コストでの量産
用途には適さない。
コストの面では好適であるが、樹脂と導体の密着性が不
十分であり、これを改善するために樹脂表面の粗化が通
常行われる。粗化の方法としては、機械的(物理的)に
粗化する方法と薬品によりエッチングする化学的粗化方
法に大別される。前者は粗化状態の均一性にやや劣り、
かつそのスケールが比較的粗であるため、微細パターン
に対する密着力のばらつきが生じやすい。また、硬い樹
脂に対しては、十分な密着性を得にくい。一方、後者は
耐薬品性の良好な樹脂に対しては有効でない。
されている代表例を幾つか以下に記す。
ックスへの共重合 一例として、ABS(アクリロニトリル〔A成分〕−ブ
タジエン〔B成分〕−スチレン〔S成分〕)樹脂の場合
について述ベると、この樹脂の構造はABの母体の中に
B成分であるゴム成分が球状粒子として分散した二層
(海島)構造をとっている。これを酸化性のエッチング
液中に浸漬すると、表面に近いゴム粒子が選択的に酸化
溶解して表面に微小凹凸が生じる。この凹凸の中にめっ
き膜がくい込んでアンカー効果を生じるため良好な密着
性が得られている。また、プリント配線板の製造工程に
おいて、接着剤層を粗化することが公知であり、特公昭
63−10752号公報、特開平3−18096号公報
等にあるように、エポキシ樹脂等の接着剤中にアクリロ
ニトリルブタジエンゴム等のゴム成分を導入した場合に
同様な効果が報告されている。
には酸化性のエッチング液としてクロム酸を使用する必
要があり、近年の環境負荷低減の観点から好ましくな
い。また、ゴム成分の配合は、耐熱性、寸法安定性、絶
縁性(耐マイグレーション性)等を低下させることがあ
り、用途が限定される。 例2:薬剤に溶解する無機絶縁物の樹脂マトリックスへ
のブレンド 例1同様に薬剤に選択的にエッチングされる成分として
無機絶縁物を含有させた例が、特開昭60−16749
2号公報等に記されている。具体的な無機絶縁物として
は、ガラス、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム等が挙
げられ、良好な密着性が得られることが報告されてい
る。
カリあるいはアルカリ土類金属を含有しているため、耐
湿信頼性に劣るという問題があり、樹脂中に多量に含有
することは好ましくない。また、無機絶縁物は一般的に
樹脂より比重が大きく、特にワニス等の液状のものを使
用する場合偏在が起こり、成形体表面に存在する割合が
低下しやすい。
く安価で樹脂成形体表面に良好な密着性を有する導体形
成に好適な樹脂組成物およびその導体形成方法を提供す
ることにある。
によって達成される。
る樹脂マトリックス中に、粒径1〜、20μmの粒子が
90vol.%以上である酸またはアルカリに侵食され
る絶縁性の有機粒子または有機と無機の複合粒子の一方
あるいは両方の合計を5〜50vol.%含有すること
を特徴とする樹脂組成物を提案するものであり、前記有
機粒子および複合粒子の有機成分が熱可塑性高分子で、
これが非晶性高分子の場合はガラス転移温度が90℃以
上、結晶性高分子の場合は融点が110℃以上であるこ
と、前記有機粒子および複合粒子の有機成分が熱硬化性
高分子であること、前記有機粒子および複合粒子の一部
に中空粒子を含むこと、前記複合粒子が無機のコア粒子
の周囲に熱可塑性または熱硬化性高分子が被覆されてい
ること、前記複合粒子が均質または中空の有機粒子の周
囲に炭酸カルシウムが被覆されており、炭酸カルシウム
が25wt.%以下であること、前記樹脂マトリックス
が感光性であること、前記感光性樹脂マトリックスがフ
ルオレン骨格を有するエポキシ−アクリレートまたはベ
ンゾシクロブテンであり、含有される有機粒子または複
合粒子の有機成分がポリメチルメタクリレート、ポリア
クリロニトリル、ポリスチレン、ナイロン、ポリカーボ
ネート、ポリ塩化ビニリデンの少なくとも1種の熱可塑
性高分子であること、前記感光性樹脂マトリックスがフ
ルオレン骨格を有するエポキシ−アクリレートまたはベ
ンゾシクロブテンであり、含有される有機粒子または複
合粒子の有機成分がエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ジ
アリルフタレート樹脂の少なくとも1種の熱硬化性高分
子であることを含む。また本発明は、粒径1〜20μm
の粒子が90vol.%以上である有機粒子または有機
と無機の複合粒子の一方あるいは両方の合計を樹脂組成
物固形分に対して5〜50vol.%含有する樹脂を成
形する工程とこの成形体表面を前記粒子が侵食される酸
またはアルカリ水溶液の一方または両方で逐次処理する
ことにより表面を粗化する工程とこの処理面に無電解め
っきを施した後熱処理する工程を少なくとも含むことを
特徴とする樹脂組成物の成形体表面への導体形成方法を
提案するものであり、前記粒子を粗化する酸、アルカリ
水溶液として、プリント配線板のデスミア処理用薬剤で
ある過マンガン酸塩およびその中和処理液を使用するこ
とを含む。
する。
クスは、含有させる粒子より酸またはアルカリ水溶液の
少なくとも一方に対する耐性を有するものであれば、特
に限定されない。例えば耐酸性がある樹脂としては、エ
ポキシ−アクリレート、ポリアミドイミド等、耐アルカ
リ性がある樹脂としては、ナイロン、ポリスチレン樹脂
等、またいずれに対しても耐性がある樹脂としては、ポ
リプロピレン、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリイミ
ド、ベンゾシクロブテン等が挙げられる。特にガラス転
移温度が高く、疎水性の強いフルオレン骨格を有するエ
ポキシ―アクリレートやベンゾシクロブテン樹脂も使用
できる。
としては、酸またはアルカリ水溶液に相対的に侵食され
るものでなければならない。有機粒子および複合粒子の
有機成分の好ましい具体例としては、ポリメチルメタク
リレート、ポリアクリロニトリル等のアクリル樹脂、ポ
リスチレン、ポリカーボネート、アセタール樹脂等の熱
可塑性樹脂が挙げられるが、これらに限定されるもので
はなく、樹脂マトリックスに対して相対的に侵食される
ものであればよい。これらの有機成分は、非晶性高分子
の場合はガラス転移温度が90℃以上、結晶性高分子の
場合は融点が110℃以上であることが好ましい。樹脂
成形体表面への導体形成方法については後述するが、密
着性を向上させるためにめっき後熱処理して樹脂の吸収
水分を除去することが有効であり、熱処理温度は、90
℃以上であることが好ましい。ガラス転移温度が90℃
未満あるいは融点が110℃未満であると、熱処理によ
り成形体表面に膨れ等の変形が発生することがある。な
お、樹脂マトリックスとして熱可塑性高分子を使用する
場合は、同様にガラス転移温度が90℃以上、融点が1
10℃以上である必要がある。これらの温度未満である
と、熱処理時に成形体が変形する。
をとっているため、耐薬品性の優れたものが多く、短時
間で粗化するには好ましくない。しかしながら、高度な
耐熱性、寸法安定性等が求められる場合は熱可塑性高分
子よりこれらの特性が優れているため、粗化に要する時
間は多少長くなるが配合することが好ましい。具体的に
はガラス転移温度が180℃以上を有するフルオレン骨
格を有するエポキシ−アクリレートやベンゾシクロブテ
ン樹脂マトリックスに、エポキシ樹脂、フェノール樹
脂、ジアリルフタレート樹脂等の硬化性樹脂を配合する
ことで、従来のエポキシ樹脂等の硬化性樹脂単独より高
性能であり、かつ導体との良好な密着性を有する樹脂組
成物が得られる。
粒子として使用する場合には特に限定されない。酸また
はアルカリ水溶液に侵食される有機成分で被覆されてい
れば、これが侵食され、コア粒子も合わせて除去され粗
化効果を発現するためである。一方被覆成分として使用
する場合には炭酸カルシウムが溶解されやすいため好適
である。前述したように炭酸カルシウムはアルカリ土類
金属を有するため耐湿信頼性を低下させる懸念があり、
単独で多量に配合することは好ましくない。複合化する
ことにより、配合量を単独の場合の25wt.%以下に
低減することができる。また、均質な有機粒子の場合も
含めてより短時間で侵食させ、かつ配合量を低減させる
ことができる中空粒子の使用が有効である。また、中空
の場合比重が小さくなり、成形体表面にむしろ粒子が濃
縮される傾向があり、有効な粗面が形成できる。
〜50vol.%である。5vo1.%未満の場合、成
形体麦面を粗化処理しても導体との良好な密着性を発現
する粗面が十分に得られない。一方、配合量が50vo
l.%を越えると、樹脂マトリックス自体の特性が著し
く変化する。また、粒子の粒径は1〜20μmが90v
ol.%以上である必要があり、好ましくは3〜15μ
mが95vol.%以上、更に好ましくは5〜10μm
が98vol.%以上である。1μmより小さいと十分
な導体との密着性を発現する有効な粗面が得られない。
一方、20μmより大きいと表面の凹凸が大きすぎるた
め外観を損なぃ、ことに導体パターンを成形体表面に形
成する場合、導体幅は表面の窪みに比べて大きくする必
要があるため、微細配線を形成する場合には不適であ
る。
ルカリ水溶液で侵食される粒子以外の絶縁性粒子を必要
に応じて添加することができる。例えば、樹脂成形体の
補強や寸法安定性、熱伝導性等を向上させるために、シ
リカ、アルミナ、酸化チタン、窒化ホウ素等の無機粒子
を含有させることができる。また、その他の添加剤とし
て難燃剤、着色剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤等を含有
させることもできる。
またはアルカリ水溶液である。近年の環境負荷削減の観
点から、有機溶剤を使用することは本質的に好ましくな
い。具体的には、酸としては硫酸、塩酸等の鉱酸、ある
いは必要に応じて酸化剤等を含有させてもよい。また、
アルカリとしては、水酸化ナトリウムが一般的である。
これらの処理に好適な薬剤として、プリント配線板のデ
スミア処理用薬剤がある。これは本来プリント配線板に
ドリルで穴あけすることにより生じ樹脂渣を除去し、良
好な密着性を有する無電解めっきを析出させるための薬
剤である。デスミア処理工程は、少量有機溶剤を含有す
るアルカリ水溶液による膨潤、過マンガン酸塩のアルカ
リ水溶液によるエッチング、マンガン残渣を除去する中
和の3工程からなるため、酸またはアルカリに侵食され
るいずれの粒子系にも使用できる。これらの各溶液への
浸漬は、樹脂の膨潤あるいは粒子の溶解性に応じて数分
から数十分間順次行えばよいが、各溶液への浸漬の中間
に十分な水洗工程を必要とする。なお、デスミア薬剤処
理前後に通常の酸、アルカリによる前処理または後処理
を行ってもよい。
について述べる。この方法は、樹脂組成物を成形する工
程、成形体表面を酸またはアルカリ水溶液の少なくとも
一方で粗化する工程、該処理面に無電解めっきを施した
後熱処理する工程を含む。
い。樹脂組成物の樹脂マトリックスが熱可塑性高分子で
ある場合は、樹脂組成物を溶融させて所定の形状に成形
することができるし、適当な溶剤に樹脂組成物を溶解さ
せ、基板表面に塗布あるいは型に注入後溶剤を揮発させ
ることもできる。また、硬化性または非熱可塑性高分子
の場合は前駆体ワニスを基板表面に塗布後熱、光あるい
は放射線により硬化成形される。
性を発現させるために粗化される。前述した通り、粗化
には含有された粒子を侵食させる酸またはアルカリ水溶
液の一方あるいは両方で逐次処理される。殊にプリント
配線板のデスミア処理用薬剤を使用することで良好に粗
化される。これらの薬剤粗化処理前に、より表面粗化を
有効に行うために、バフ研磨等の機械的研磨をすること
が好ましい。特に表面が硬く、耐薬品性の強い樹脂に対
しては、粒子表面を覆っている樹脂薄層を削り取り粒子
表面を露出させることが極めて重要である。
っきが施される。無電解めっきを行うためにはめっき反
応を生起させるための触媒を基板表面に予め付加する必
要がある。この付加方法は特に限定されない。一般的に
無電解メッキの触媒としては、パラジウムをはじめとす
る貴金属が用いられ、特にパラジウムのコロイドタイプ
のものが作業性が良く多用されている。また、塩酸酸性
の塩化第二スズ溶液浸漬〔センシタイジング〕後に塩化
パラジウム溶液浸漬〔アクチベイティング〕することも
できる。さらに、銅、ニッケル等の金属塩溶液に浸漬
後、還元により金属を析出させ、次いで塩化パラジウム
水溶液中でパラジウム置換めっきを行うこともできる。
きの材質は特に限定されず、用途に応じたものを使用す
ることができる。例えばプリント配線板の導体回路を形
成する場合には、低コスト、低抵抗の銅を使用すること
が好ましいが、必要に応じてニッケル、金等をめっきす
ることもできる。また、一般的に無電解めっきは析出速
度が遅いため、無電解めっきを行った後電解めっきによ
る厚付けめっきを実施することもできる。
成する場合には、プリント配線板の製造で用いられてい
るフォトレジスト技術を用いてベタ状に形成した導体の
不要部分をエッチングしてもよいし、触媒付加後必要な
部分のみを析出させてもよい。
を向上させるために熱処理を行う。めっき処理後は成形
体/めっき界面に水分が多量に存在するためか良好な密
着性は得られない。そこで、この吸湿水分を除去するた
めに熱処理を行う。熱処理温度は90℃以上であること
が好ましいが、密着性が不十分な状態で急激に加熱する
とめっき膜の膨れが発生することがあるため、徐々に加
熱することが好ましい。なお、プリント配線板の配線や
パッドのような比較的小面積のパターン状のめっきが予
め形成されている場合は、水分の逃げ道が十分あるた
め、徐々に加熱しなくても差し支えない。
る。
キシ−アクリレートを樹脂固形分として50wt.%含
有するワニス〔新日本製鐵(株)製〕100重量部に松
本油脂製薬(株)製架橋型ポリメチルメタクリレート粒
子〔M−305、粒径;5−20μm〕20重量部を配
合し、混練機により20分間攪拌することにより均一分
散させた。これをFR−4アンクラッド板表面にカーテ
ンコーターにて厚み40μmとなる条件で塗布後、75
℃で25分間プリベークした。これに、500mj/c
m2の露光を行い、その後160℃で30分間加熱硬化
させた。硬化後の樹脂のガラス転移温度は180℃であ
った。
いて研磨することにより粗化した後シプレー(株)製デ
スミア薬剤〔サーキュポジット200MLBプロセス〕
を用いて膨潤、エッチング、中和処理を行った。
溶液を塗布後150℃で3時間熱処理を行い、さらに酸
素プラズマ処理を1分間行った。続いて、粒子を配合し
ていないフルオレン骨格を有するエポキシ−アクリレー
ト樹脂ワニスを同様にプリベークまで行った後所定のマ
スクパターンを通して露光し、1wt.%炭酸ナトリウ
ム水溶液により5分間現像後熱硬化した。
ウム水溶液中で10分間還元処理することにより、パタ
ーン状に金属銅を析出させた後十分水洗し、ジャパンエ
ナジー(株)製無電解銅めっき液KC−500中に4時
間浸漬することにより、厚み20μmの無電解銅を析出
させた後150℃で1時間加熱処理を行った。
g/cmと良好であった。
型ポリメチルメタクリレート粒子M−305の代わりに
ナイロン12粒子〔オルガソール2001、粒径;8−
12μm、融点:175−179℃、日本リルサン
(株)製〕を用いた以外は同様の条件で実施し、無電解
銅めっきを樹脂表面に析出させた後加熱処理した。
9kg/cmと良好であった。
型ポリメチルメタクリレート粒子M−305の代わり
に、酸化チタンコア粒子〔粒径;3−5μm〕表面にナ
イロン12被覆した複合粒子〔粒径;7−10μm〕を
25重量部配合した以外は同様の条件で実施し、無電解
銅めっきを樹脂表面に析出させた後加熱処理した。
9kg/cmと良好であった。
型ポリメチルメタクリレート粒子M−305の代わり
に、フェノール樹脂粒子〔ベルパール、粒径;13−1
5μm、鐘紡(株)製〕を用い、デスミア薬剤処理のエ
ッチング時間を2倍に変更した以外は同様の条件で実施
し、無電解銅めっきを樹脂表面に析出させた後加熱処理
した。
g/cmと良好であった。
脂ワニス〔ダウケミカル(株)製〕100重量部に表面
に炭酸カルシウム処理された架橋型ポリメチルメタクリ
レート粒子〔M−305C、炭酸カルシウム/ポリメチ
ルメタクリレート(重量比)=2/8〕を20重量部配
合し、混練機により30分間攪拌することにより均一分
散させた。これをアルミナセラミック基板表面に1w
t.%の3−アミノプロピルトリエトキシシラン水溶液
を塗布した後、厚み10μmとなる条件でスピンコーテ
ィングし、75℃で30分間プリベークした。これに、
700mj/cm2の露光を行い、その後210℃で3
0分間窒素雰囲気下で加熱硬化させた。硬化後の樹脂の
ガラス転移温度は250℃であった。
いて研磨することにより粗化した後20wt.%塩酸中
に15分間予備浸漬し、次いでシプレー(株)製デスミ
ア薬剤〔サーキュポジット200MLBプロセス〕を用
いて膨潤、エッチング、中和処理を行った。
プロセスによりパラジウム触媒を吸着〔活性化I〕まで
させた後、粒子を配合していない感光性ベンゾシクロブ
テン樹脂ワニスを同様にプリベークまで行い、その後所
定のマスクパターンを通して露光し、ケロシンにより2
分間現像後熱硬化した。
セスに戻し、触媒を還元処理〔活性化II〕した後実施
例1同様に無電解銅めっきを2時間行い、厚み10μm
の無電解銅めっきを析出させた後、160℃で1時間加
熱処理した。
9kg/cmと良好であった。
に炭酸カルシウム処理された架橋型ポリメチルメタクリ
レート粒子M−305Cの代わりに、中空のポリ塩化ビ
ニリデン粒子〔F−04E、粒径;1−2μm、松本油
脂製薬(株)製〕を5重量部、M−305Cを15重量
部を用い、デスミア薬剤処理のエッチング時間を半分に
変更した以外は同様の条件で実施し、無電解銅めっきを
樹脂表面に析出させた後加熱処理した。
g/cmと良好であった。
プロピレン樹脂チップ100重量部に75℃で4時間乾
燥したナイロン6/66粒子〔粒径;10−20μm、
わかもと製薬(株)製〕を40重量部ドライブレンド後
190℃で2軸押し出し機により溶融混練することによ
りチップ化した。これを再び90℃で1時間乾燥後19
0℃で厚みが1.2mmの板状に射出成形した。
フにより機械的に研磨した後シプレー(株)製デスミア
薬剤〔サーキュポジット200MLBプロセス〕を用い
て膨潤、エッチング、中和処理を行った。
HPプロセスによりパラジウム触媒付与後無電解銅めっ
き(THP−Cu)を15分間実施し、厚み0.4μm
の下地無電解銅めっき層を形成後電解銅めっきにより厚
み18μmまで厚付けした。続いて表面を塩酸処理後パ
ラジウム付与〔SA−100;日立化成工業(株)製〕
し、無電解ニッケルめっき〔ニムテンSX;上村工業
(株)製〕を1μm析出させ、更にフラッシュ金めっき
〔IMGOLD−IB;日本高純度化学(株)製〕を薄
付けした。
8kg/cmとまずまず良好であった。
0重量部をシクロヘキサン500重量部に溶解させ、こ
れにナイロン12粒子〔オルガソール2001、粒径;
8−12μm、融点;175−179℃、日本リルサン
(株)製〕40重量部を配合し、混練機により20分間
攪拌することにより均一分散させた。これをステンレス
の板上にスピンコーティング後溶媒を乾燥することによ
り厚み15μmの皮膜を形成した。その後実施例7同様
の工程により導体を形成させた。
8kg/cmとまずまず良好であった。
耐性を有する樹脂マトリックス中に、粒径1〜20μm
の粒子が90vol.%以上である酸またはアルカリに
侵食される有機粒子または有機と無機の複合粒子の一方
あるいは両方の合計を5〜50vol.%含有する樹脂
組成物を用い、この成形体表面を前記粒子が侵食される
酸またはアルカリ水溶液の一方または両方で逐次処理す
ることにより表面を粗化する工程と、この処理面に無電
解めっきを施した後熱処理する工程を施すことにより、
樹脂成形体表面に良好な密着性を有する導体を安価に形
成することができる。特にプリント配線板等の導体パタ
ーンを形成する場合、感光性の樹脂組成物およびデスミ
ア薬剤を用いることにより、高密度な導体パターンを低
い環境負荷で作製できるため有効である。
Claims (11)
- 【請求項1】 酸、アルカリ耐性を有する樹脂マトリッ
クス中に、粒径1〜20μmの粒子が90vol.%以
上である酸またはアルカリに侵食される絶縁性の有機粒
子または有機と無機の複合粒子の一方あるいは両方の合
計を5〜50vol.%含有することを特徴とする樹脂
組成物。 - 【請求項2】 前記有機粒子および複合粒子の有機成分
が熱可塑性高分子で、これが非晶性高分子の場合はガラ
ス転移温度が90℃以上、結晶性高分子の場合は融点が
110℃以上である請求項1記載の樹脂組成物。 - 【請求項3】 前記有機粒子および複合粒子の有機成分
が熱硬化性高分子である請求項1記載の樹脂組成物。 - 【請求項4】 前記有機粒子および複合粒子の一部に中
空粒子を含む請求項1または2記載の樹脂組成物。 - 【請求項5】 前記複合粒子が無機のコア粒子の周囲に
熱可塑性または熱硬化性高分子が被覆されている請求項
1乃至4のうちいずれか1項に記載の樹脂組成物。 - 【請求項6】 前記複合粒子が均質または中空の有機粒
子の周囲に炭酸カルシウムが被覆されており、炭酸カル
シウムが25wt.%以下である請求項1、2および4
のうちいずれか1項に記載の樹脂組成物。 - 【請求項7】 前記樹脂マトリックスが感光性である請
求項1乃至6のうちいずれか1項に記載の樹脂組成物。 - 【請求項8】 前記感光性樹脂マトリックスがフルオレ
ン骨格を有するエポキシ−アクリレートまたはベンゾシ
クロブテンであり、含有される有機粒子または複合粒子
の有機成分がポリメチルメタクリレート、ポリアクリロ
ニトリル、ポリスチレン、ナイロン、ポリカーボネー
ト、ポリ塩化ビニリデンの少なくとも1種の熱可塑性高
分子である請求項7記載の樹脂組成物。 - 【請求項9】 前記感光性マトリックスがフルオレン骨
格を有するエポキシ−アクリレートまたはベンゾシクロ
ブテンであり、含有される有機粒子または複合粒子の有
機成分がエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタ
レート樹脂の少なくとも1種の熱硬化性高分子である請
求項7記載の樹脂組成物。 - 【請求項10】 粒径1〜20μmの粒子が90vo
l.%以上である有機粒子または有機と無機の複合粒子
の一方あるいは両方の合計を樹脂組成物固形分に対して
5〜50vol.%含有する樹脂を成形する工程とこの
成形体表面を前記粒子が侵食される酸またはアルカリ水
溶液の一方または両方で逐次処理することにより表面を
粗化する工程とこの処理面に無電解めっきを施した後熱
処理する工程を少なくとも含むことを特徴とする樹脂組
成物の成形体表面への導体形成方法。 - 【請求項11】 前記粒子を粗化する酸、アルカリ水溶
液として、プリント配線板のデスミア処理用薬剤である
過マンガン酸塩およびその中和処理液を使用する請求項
10記載の成形体表面への導体形成方法。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6214446B1 (en) * | 1998-03-03 | 2001-04-10 | Nec Corporation | Resin film and a method for connecting electronic parts by the use thereof |
JP2002265762A (ja) * | 2001-03-08 | 2002-09-18 | Nippon Kayaku Co Ltd | ベンゾシクロブテン樹脂組成物、樹脂結合型金属成型部品 |
JP2007103267A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Univ Waseda | 固体高分子電解質型燃料電池用バイポーラプレート及び固体高分子電解質型燃料電池 |
US7661190B2 (en) | 2003-03-04 | 2010-02-16 | Zeon Corporation | Process for producing multilayer printed wiring board |
JP2010251700A (ja) * | 2009-04-16 | 2010-11-04 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 剥離強度が強化された印刷回路基板用難燃性樹脂組成物、これを用いた印刷回路基板およびその製造方法 |
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Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20060115326A (ko) * | 2003-10-07 | 2006-11-08 | 가부시키가이샤 네오맥스 마테리아르 | 기판 및 그 제조방법 |
US9201299B2 (en) * | 2007-10-01 | 2015-12-01 | San-Ei Kagaku Co., Ltd. | Inorganic filler and organic filler-containing curable resin composition, resist film coated printed wiring board, and method for producing the same |
DE102008053518A1 (de) * | 2008-10-28 | 2010-06-02 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Epoxid-basierter Strukturschaum mit verbesserter Zähigkeit |
US20110303644A1 (en) * | 2010-06-09 | 2011-12-15 | Arlington Plating Company | Methods for Plating Plastic Articles |
US10804111B2 (en) * | 2015-09-15 | 2020-10-13 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Method for roughening surface using wet treatment |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPH0570528A (ja) | 1991-09-11 | 1993-03-23 | Nippon Steel Corp | アルカリ可溶型感光性樹脂及びそれを用いたアルカリ現像型感光性樹脂組成物 |
JP3219827B2 (ja) | 1992-03-02 | 2001-10-15 | イビデン株式会社 | アンカー形成用耐熱性樹脂粒子および無電解めっき用接着剤とこの接着剤を用いたプリント配線板の製造方法およびプリント配線板 |
US5854302A (en) | 1993-04-29 | 1998-12-29 | The Dow Chemical Company | Partially polymerized divinylsiloxane linked bisbenzocyclobutene resins and methods for making said resins |
JPH07179678A (ja) | 1993-12-24 | 1995-07-18 | Sumitomo Chem Co Ltd | ポリプロピレン樹脂組成物とそのフィルム |
JP3398226B2 (ja) | 1994-08-23 | 2003-04-21 | イビデン株式会社 | 金属膜被着体 |
FR2724176B1 (fr) | 1994-09-02 | 1997-01-03 | Rhone Poulenc Chimie | Particules composites polymere organique-carbonate de calcium, particules creuses de carbonate de calcium, leurs procedes de preparation, leur utilisation comme charges ou additifs dans les plastiques et les elastomeres. |
JPH09214141A (ja) | 1995-11-29 | 1997-08-15 | Nec Corp | 配線構造 |
JPH1098271A (ja) | 1996-03-29 | 1998-04-14 | Ibiden Co Ltd | 層間絶縁剤および多層プリント配線板 |
-
1996
- 1996-12-05 JP JP8325301A patent/JP3031272B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
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- 1997-12-05 US US08/986,104 patent/US6232398B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-03-23 US US09/815,059 patent/US20010011111A1/en not_active Abandoned
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6214446B1 (en) * | 1998-03-03 | 2001-04-10 | Nec Corporation | Resin film and a method for connecting electronic parts by the use thereof |
JP2002265762A (ja) * | 2001-03-08 | 2002-09-18 | Nippon Kayaku Co Ltd | ベンゾシクロブテン樹脂組成物、樹脂結合型金属成型部品 |
US7661190B2 (en) | 2003-03-04 | 2010-02-16 | Zeon Corporation | Process for producing multilayer printed wiring board |
KR101018944B1 (ko) | 2003-03-04 | 2011-03-02 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | 다층 프린트 배선판의 제조방법 및 다층 프린트 배선판 |
JP2007103267A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Univ Waseda | 固体高分子電解質型燃料電池用バイポーラプレート及び固体高分子電解質型燃料電池 |
JP2010251700A (ja) * | 2009-04-16 | 2010-11-04 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 剥離強度が強化された印刷回路基板用難燃性樹脂組成物、これを用いた印刷回路基板およびその製造方法 |
WO2023189800A1 (ja) * | 2022-03-30 | 2023-10-05 | 日本ゼオン株式会社 | 中空粒子及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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