JPH093614A - 金属溶射皮膜の形成方法 - Google Patents

金属溶射皮膜の形成方法

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JPH093614A
JPH093614A JP7155936A JP15593695A JPH093614A JP H093614 A JPH093614 A JP H093614A JP 7155936 A JP7155936 A JP 7155936A JP 15593695 A JP15593695 A JP 15593695A JP H093614 A JPH093614 A JP H093614A
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和義 常田
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健二 蓮井
Toru Taki
徹 多記
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 耐食性、耐熱性、耐溶剤性などにすぐれたプ
ライマー層を形成する水性プライマーを使用して金属溶
射皮膜による長期間犠牲防食作用を発揮できる金属溶射
皮膜の形成方法を提供する。 【構成】 被溶射基材上に不溶性固体粒子を含有する一
液常温自己架橋型樹脂水性分散液を塗布し粗い表面を有
するプライマー層を形成し、次いで該プライマー層上に
金属溶射する金属溶射皮膜の形成方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、金属溶射皮膜の形成方
法に関するものである。更に詳しくは金属を溶射する前
に、溶射皮膜の密着性を向上させるために被溶射基材表
面を粗面化する手段として、通常行なわれているブラス
ト処理によらないで、耐食性、耐熱性、耐溶剤性等に優
れたプライマーを塗布することにより粗面化する、金属
溶射皮膜の形成方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、例えば被塗物基材として鋼材
を例にとると、亜鉛又は亜鉛−アルミニウム合金等の鉄
より卑なる金属を、電気メッキ法、溶融メッキ法あるい
は溶射法等により被覆する方法が広く行なわれている。
このような方法によれば、鉄基材より卑なる被覆金属の
犠牲防食作用により鉄を保護することが出来るので、建
築用鋼材、自動車車体などの薄板鋼板、各種電装ケース
など、各種の産業用機材のために使用されている。
【0003】ところで、前記方法のうち、電気メッキ法
や溶融メッキ法等は、特定の工場以外では普通簡単には
実施出来ない。何となれば、メッキ槽の大きさ等により
被塗物の大きさに制限があること、特に溶融メッキ法は
450〜600℃もの高温の溶融金属中に被塗物を浸漬
するため熱歪の問題等が起り、従って、薄板鋼板には適
用出来ないなどの各種制限があったからである。
【0004】一方、金属溶射法は、基材をほとんど加熱
しなくてよいため寸法上の狂いが殆んど生じないこと、
溶射皮膜を所望の厚さで得られること、大型基材であっ
ても現場施工が可能であること、溶射皮膜上には有機質
の塗料が密着し易いこと等の各種特徴を有するため橋梁
や鋼構造物などのために使用されており、かつ今後もそ
の利用範囲は拡大するものと予想されている。
【0005】しかしながら、金属を溶射により、表面が
平滑な鋼材等の表面に直接被覆する場合、基材と金属皮
膜との間には親和性や化学的結合が期待出来ないため、
基材への金属溶射皮膜の密着性は極めて小さいものであ
ることがさけられなかった。
【0006】かかる欠点を改良するため、従来から平滑
な基材に対しサンドブラストやグリットブラストなどの
ブラスト処理を施し基材表面を粗面化し、基材と金属溶
射皮膜間にアンカー効果を持たせることが行われている
(例えば、特開昭50−65335号公報等)。
【0007】しかしながら、このような前処理としての
ブラスト処理作業には、非常に熟練度が要求され、か
つ、作業時間が長くかかり、更にブラストにより多量に
発生する粉塵は作業の安全、衛生上は勿論のこと環境汚
染の問題があり、従って何等かの予防処理を施さねばな
らず、そのため加工コストの面でも好ましいものではな
かった。
【0008】加えて、板厚が約1mm以下の薄板鋼板や
無機材料などにブラスト処理を施すと、一般に研磨材の
衝撃力により大きな歪みが生じたり、極端な場合基材が
破損することが屡々あった。
【0009】そこで前述の如きブラスト処理を施さずに
金属溶射を行う方法も提案されている。
【0010】例えば、被溶射基材上に不溶性固体粒子を
含有するプライマーを塗布し、粗い表面を有するプライ
マー層を形成し、該プライマー層上に金属溶射する方法
(特公平2−54422号)が知られており、この方法
は、ブラスト処理による前述の問題点を解消する方法と
して注目されるようになってきている。
【0011】ところで前記プライマーとして大気汚染防
止、省資源あるいは火災対策上の観点から水もしくは水
を主成分とする溶媒を用いた水性プライマーの利用、特
に現場施工が出来、かつ可使時間等の問題の少ない一液
常温乾燥型水性プライマーが強く望まれている。
【0012】このような一液常温乾燥型水性プライマー
については、前述の特公平2−54422号にも開示さ
れている。しかしながら該プライマーは、非架橋型の水
性プライマーであるため、成膜時、架橋により網状高分
子化されないため、耐食性、耐熱性、耐溶剤性、密着性
等の各種塗膜性能が不十分であり、それ故金属溶射皮膜
の本来の犠牲防食作用が長期間十分発揮されないケース
がしばしば発生している。
【0013】従って、例えば被溶射基材を完全に防錆し
なかった場合、溶射皮膜表面を有機溶剤を含む封孔剤で
封孔処理した場合、高温で金属溶射した場合や被溶射基
材を太陽光の灼熱にさらされる屋外に設置した場合、あ
るいは雨水等に晒される屋外に設置した場合などにおい
てはプライマー層が劣化したり、フクレが生じたり、場
合により剥離したりする結果、金属溶射皮膜自体は健全
であるにもかかわらず、プライマー層の欠陥により金属
溶射皮膜にフクレが生じたり、剥離し、長期間犠牲防食
作用が発揮されない。
【0014】そのため、市場で実用化されているプラス
マーは、前述の如き欠陥が生じにくい有機溶剤系二液硬
化型エポキシ樹脂プライマーが主流となっている。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、これまで述
べたような従来の金属溶射皮膜の形成方法の問題点を克
服した、すなわち被溶射基材表面を粗面化する手段とし
て、プラスト法によらないでプライマー塗布法で行な
い、かつプライマーとして有機溶剤を使用しない、もし
くは使用したとしても少量ですむ、水を溶媒とし、かつ
耐食性、耐熱性、耐溶剤性等に優れたプライマー層を形
成する水性プライマーを使用することにより、金属溶射
皮膜による長期間犠牲防食作用が発揮出来る、金属溶射
皮膜の形成方法を提供することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、このよう
な現状を克服するために研究を行なった結果、プライマ
ーとして一液常温自己架橋型樹脂水性分散液を使用する
ことにより、長期犠牲防食作用が発揮出来、また安全衛
生及び環境保全上に優れるという知見を得て本発明を完
成したものである。
【0017】本発明に従って、被溶射基材上に、不溶性
固体粒子を含有する一液常温自己架橋型樹脂水性分散液
を塗布し、粗い表面を有するプライマー層を形成し、次
いで該プライマー層上に金属溶射することを特徴とする
金属溶射皮膜の形成方法が提供される。
【0018】以下本発明を詳細に説明する。
【0019】本発明の方法において使用される「被溶射
基材」(以下単に基材という)とは、ブリキ板、ダル鋼
板、みがき鋼板、黒皮鋼板、ケレンした錆鋼板、溶接鋼
板、鋳物等の鉄素材;アルミニウム、亜鉛等の非鉄金
属;ABS、PPO、塩化ビニル等のプラスチックス;
スレート板、硅酸カルシウム板、セメント等の無機材
料;其の他ガラス、木材、合板、あるいはこれら基材を
塗料にて塗装したもの等、各種のものが挙げられる。
【0020】本発明の方法において金属溶射の前に被溶
射基材上に塗布する一液常温自己架橋型樹脂水性分散液
は、常温で成膜時に架橋反応し、網状高分子化してプラ
イマー層となる硬化塗膜を形成する結合剤、プライマー
層の表面を粗面化するための不溶性固体粒子及び溶媒で
ある水もしくは必要に応じて少量の有機溶剤を混和した
水を成分とし、さらに必要に応じ粗面化に左程寄与しな
い着色顔料、体質顔料、防錆顔料や改質樹脂や増粘剤、
沈澱防止剤、一時防錆剤、分散剤、潤滑剤、成膜助剤、
硬化促進剤、消泡剤、凍結防止剤などの各種添加剤等を
配合したものから構成される。
【0021】前記結合剤としては、塗布後、溶媒が蒸発
すると、結合剤が網目構造に反応して硬化塗膜を形成す
るものであれば、従来から公知の各種結合剤が挙げられ
るが、本発明においては、特に次に説明する結合剤が好
適である。
【0022】すなわちカルボニル基(但し、カルボキシ
ル基及びカルボン酸エステル基に基づくカルボニル基を
除く;以下単にカルボニル基という)を含有する共重合
体(A)分子中に少なくとも2個以上のヒドラゾン残基
を含有するヒドラゾン化合物(B)とを共重合体(A)
のカルボニル基1当量に対し、ヒドラゾン化合物(B)
のヒドラゾン残基が0.1〜2当量となるように混合し
てなるものである。但し、両者は、脱水縮合架橋反応す
るので、(A)成分である共重合体は、水性分散体の状
態にして(B)成分と混合する。両者は、塗布により得
られた塗膜から水が蒸発すると、すみやかに前記反応が
生じる。
【0023】カルボニル基を含有する共重合体(A)の
水性分散体は、特開平5−51559号公報等に記載の
公知の方法、例えばカルボニル基含有不飽和単量体とそ
の他共重合可能な不飽和単量体からなる単量体混合物を
乳化剤存在下で水中で乳化重合させて得られる水性分散
体等が代表的なものとして挙げられるが、特に本発明に
おいては、以下の自己乳化させて得られる水性分散体
が、機械的安定性、溶剤混合安定性、貯蔵安定性等がよ
いので不溶性固体粒子を配合しても耐水性を低下させる
分散助剤を使用することなく練合出来、それ故好まし
い。
【0024】即ち、好ましい(A)成分であるカルボニ
ル基を含有する共重合体の水性分散体はカルボニル基含
有不飽和単量体、カルボキシル基含有不飽和単量体及び
その他共重合可能な不飽和単量体を少量の乳化剤の存在
下で水中で乳化重合させ、重量平均分子量約1万〜30
万の共重合体を製造し、次いで中和剤である塩基性化合
物でカルボキシル基を中和させ、さらに必要に応じ親水
性溶剤を少量配合させたものである。
【0025】前記カルボニル基含有不飽和単量体として
は、ダイアセトンアクリルアミド、アクロレイン、ビニ
ルメチルケトン、ビニルエチルケトン、ダイアセトン
(メタ)アクリレート等が代表的なものとして挙げられ
る。
【0026】前記カルボキシル基含有不飽和単量体とし
ては(メタ)アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フ
マル酸等が代表的なものとして挙げられる。
【0027】前記その他共重合可能な不飽和単量体とし
ては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸
エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル
酸エチルヘキシル等の(メタ)アクリル酸アルキルエス
テル;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロ
キシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル
(メタ)アクリレート等の水酸基含有不飽和単量体;グ
リシジル(メタ)アクリレート等のグリシジル基含有不
飽和単量体;N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−
イソブチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール
(メタ)アクリルアミド、N−エトキシメチル(メタ)
アクリルアミド、(メタ)アクリルアミド等のアミド基
含有不飽和単量体;その他スチレン、(メタ)アクリロ
ニトリル、酢酸ビニル、塩化ビニル、エチレン等が代表
的なものとして挙げられる。
【0028】なお、前記カルボニル基含有不飽和単量体
の含有量は、全不飽和単量体中2〜30重量%、好まし
くは、3〜20重量%が適当である。カルボニル基含有
不飽和単量体の量が前記範囲より少ないと架橋密度が小
さくなり、本来の塗膜性能が十分期待出来なくなり、逆
に多いと耐水性等が低下する傾向にある。
【0029】また前記カルボキシル基含有不飽和単量体
の含有量は、全不飽和単量体中0.3〜10重量%、好
ましくは0.5〜5重量%が適当である。カルボキシル
基含有不飽和単量体の量が前記範囲より少ないと自己乳
化作用が不十分となり、機械的安定性等が低下し、逆に
多いと耐水性等が低下する傾向にある。
【0030】前記中和剤である塩基性化合物としては、
アンモニア、トリエチルアミン、ジメチルエタノールア
ミン、モノエタノールアミン、トリエタノールアミン、
モルホリン等が代表的なものとして挙げられる。中和剤
の量は、共重合体のカルボキシル基に対し当量の0.3
〜1.5倍の範囲が適当である。
【0031】また必要に応じ配合する親水性溶剤として
は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ
メチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエー
テル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチ
レングリコールモノブチルエーテル等が代表的なものと
して挙げられる。親水性溶剤量は、前記共重合体の0〜
30重量%、好ましくは5〜25重量%配合するのが適
当である。
【0032】このようにして得られるカルボニル基を含
有する共重合体(A)の水性分散体は、残部が水からな
り、固形分20〜50重量%、好ましくは30〜45重
量%のものが適当である。
【0033】このような水性分散体に(B)成分である
ヒドラゾン化合物を配合することにより結合剤の水性分
散体が得られる。
【0034】ヒドラゾン化合物としては、特にビスアセ
チルジヒドラゾンが水への溶解性が小さく、またカルボ
ニル基を含有する共重合体との反応物が加水分解せず、
仮に過剰に配合しても耐水性を低下させることがないた
め好ましい。
【0035】ヒドラゾン化合物の配合量は共重合体
(A)のカルボニル基1当量に対してヒドラゾン残基が
0.1〜2当量、好ましくは0.3〜1.2当量となる
ような量が適当である。ヒドラゾン化合物の量が前記範
囲より少ないと架橋密度が小さくなり、本来の塗膜性能
が十分期待出来ず、逆に多くしても塗膜性能の向上は認
められない。
【0036】なお、ヒドラゾン化合物は、カルボニル基
を含有する共重合体(A)の水分散体に安定に分散する
ようメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ア
セトン等の溶剤に溶解させて約20%前後の溶液として
混合するのが好適である。
【0037】また本発明において好適に使用出来る別の
結合剤としては、前述のカルボニル基を含有する共重合
体(A)と分子中に少なくとも2個以上のヒドラジン残
基を含有するヒドラジン化合物(B′)とを共重合体
(A)のカルボニル基1当量に対し、ヒドラジン化合物
(B′)のヒドラジン残基が0.1〜2当量となるよう
に混合してなるものである。この場合も両者は脱水縮合
架橋反応するので(A)成分である共重合体は、前述の
通り水性分散体の状態にして(B′)成分と混合し、結
合剤の水分散体とする。
【0038】ヒドラジン化合物としては、しゅう酸ジヒ
ドラジド、マロン酸ジヒドラジド、こはく酸ジヒドラジ
ド、グルタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジ
ド、セバシン酸ジヒドラジド、マレイン酸ジヒドラジ
ド、フマル酸ジヒドラジド、イタコン酸ジヒドラジド、
エチレン−1,2−ジヒドラジド、プロピレン−1,3
−ジヒドラジド等が代表的なものとして挙げられる。
【0039】ヒドラジン化合物の配合量は、共重合体
(A)のカルボニル基1当量に対してヒドラジン残基が
0.1〜2当量、好ましくは0.3〜1.2当量となる
ような量が適当である。ヒドラジン化合物の量が前記範
囲より少ないと架橋密度が小さくなり、本来の塗膜性能
が十分期待出来ず、逆に多くすると耐水性が低下する。
【0040】なお、前述のヒドラゾン化合物を使用した
場合と、ヒドラジン化合物を使用した場合とは、いずれ
も塗膜形成時に溶媒が蒸発すると常温で、カルボニル基
を含有する共重合体(A)と架橋反応し、耐食性、耐熱
性、耐溶剤性等に優れたプライマー層を形成するが、ヒ
ドラジン化合物を使用した場合は、カルボニル基を含有
する共重合体との反応生成物が加水分解するため、耐水
性についてはヒドラゾン化合物を使用した場合の方が望
ましい。
【0041】金属溶射の前に塗布される一液常温自己架
橋型樹脂水性分散液の必須構成成分であるプライマー層
の表面を粗面化するための不溶性固体粒子は、平均粒径
5〜200μm、好ましくは30〜100μmの溶媒不
溶性の粒子であり、例えば銅、ニッケル、アルミニウ
ム、亜鉛、鉄、珪素などの金属、あるいはこれらの酸化
物、窒化物、炭化物、合金や各種プラスチック粉末等が
代表的なものとして挙げられる。
【0042】特に珪砂、アルミナ、炭化珪素が、化学的
安定性があり、溶射材である金属と腐食電池を形成しな
いため好ましい。
【0043】なお、不溶性固体粒子の粒径が、前記範囲
より小さいと後述する表面粗さのプライマー層が形成し
にくくなり、逆に大き過ぎると水性分散液中で沈澱しや
すくなり、またスプレー塗装する場合、ノズル詰りが生
じやすくなり、塗装作業性が悪くなり、さらに後述する
表面粗さのプライマー層が形成しにくくなる傾向にあ
る。
【0044】不溶性固体粒子の配合量は、前述の結合剤
固形分に対し、25〜400容量%、好ましくは65〜
150容量%とするのが適当である。
【0045】なお、不溶性固体粒子が、前記範囲より少
ないと後述する表面粗さのプライマー層が形成しにくく
なり、逆に多過ぎると相対的に結合剤量が少なくなりプ
ライマー層の物理的、化学的強度が低下するため好まし
くない。
【0046】本発明においてプライマー層を形成するた
めの一液常温自己架橋型樹脂水性分散液は、以上説明し
た構成成分からなり、その固形分は、30〜90重量
%、好ましくは50〜80重量%が適当である。
【0047】一方本発明において金属溶射皮膜を形成す
る金属材料としては、従来から通常使用されている各種
金属材料が、被溶射基材の種類に応じ任意に使用可能で
あり、具体的には、亜鉛、アルミニウム、亜鉛−アルミ
ニウム合金、亜鉛−アルミニウム擬合金、丹銅、黄銅、
キャプロニッケル等が代表的なものとして挙げられる。
【0048】次に本発明の金属溶射皮膜の形成方法につ
いて説明する。
【0049】被溶射基材表面を必要に応じ脱脂処理、浮
錆やゴミ等の付着物の除去処理などの前処理を行なった
後、前述の一液常温自己架橋型樹脂水性分散液を必要に
応じて溶媒で粘度調整してスプレー塗装、刷毛塗装、ロ
ール塗装等の手段にて塗布する。
【0050】塗布量は、10〜300g/m2 、好まし
くは20〜150g/m2 が適当であり、このようにし
て形成させたプライマー層の表面は、表面の凹凸の平均
間隔(Sm)と十点平均粗さ(Rz)の比Sm/Rzが
5以下で、かつRzが10〜250μmの粗面を有する
ものが望ましい。
【0051】ここで、本発明における十点平均粗さ(R
z)と表面の凹凸の平均間隔(Sm)は、いずれもJI
S−B−0601に定義されており、市販の触針式の表
面粗さ計で容易に評価することができる。
【0052】金属溶射を行う場合には、高温で溶融した
金属粒子(粒子径数μm〜百数十μm)が高速で基材に
向って飛来し、基材と衝突し、冷却、固化する。
【0053】この瞬間的なプロセスにおいて高い溶射効
率と優れた密着性の金属皮膜を得るためには、基材表面
の粗面化状態が、溶融金属粒子の大きさとくらべてあま
り大き過ぎても、又あまり小さ過ぎても好ましくない。
【0054】従って、適切な表面粗さ(凹凸部の高低
差)を有し、かつ適切な凹凸の繰返し又は斜面の勾配が
必要である。
【0055】本発明の溶射皮膜の形成にさいし、溶射効
率の最も高く優れた密着性が得られるためには、次の如
き好ましい条件が示される。
【0056】まず、本発明において粗面の凹凸を表わす
十点平均粗さ(Rz)は、10〜250μm、好ましく
は30〜150μmの範囲にある必要がある。Rzが1
0μmにみたない場合には凹凸が小さいため、溶射効率
が著しく低下するとともに金属皮膜の密着性も低下す
る。一方、Rzが250μmをこえると、金属溶射皮膜
は付着し易くなるが、表面が粗くなりすぎるため表面仕
上り性が低下する。
【0057】一方、粗面の凹凸の繰返し頻度も重要であ
り、たとえRzが前記範囲に入っていても凹凸間の間隙
が大きいと粗面としての効果は低下する。
【0058】このような観点にたち、本発明において
は、凹凸の平均間隔(Sm)をRzで除した数、つまり
Sm/Rzが5以下、好ましくは3以下であることが望
ましい。
【0059】かくして適切な表面粗さと凹凸間隔を有す
る粗面が得られるため、金属の溶射効率は一段と高ま
り、優れた密着性が得られるのである。
【0060】しかして、本発明において必要とされるR
z及びSm/Rzを有する粗面を形成するための条件は
複雑であり、一義的に定義付けることは難しいが、前記
水性分散液の配合、不溶性固体粒子の粒子径、水性分散
液の粘度、塗布条件等をあらかじめ定めることにより一
定の粗面を得ることが出来る。
【0061】本発明においては、このようにして得られ
た特定表面粗さを有するプライマー層上に、金属を溶射
する。
【0062】このさい、金属を溶射する前のプライマー
層は必ずしも完全硬化状態でなくともよく、半硬化であ
ってもよい。またプライマー層を乾燥状態にした上に金
属溶射し、しかる後に完全硬化せしめる方法でもよい。
【0063】本発明において、前記金属溶射を行うため
の溶射方法としては、ガスフレーム溶射方法、電気アー
ク溶射方法、減圧内アーク溶射機による低温溶射方法等
があり、いずれの方法でもよいが、特に比較的低い温度
で溶射出来る低温溶射方法が好ましい。
【0064】前記低温溶射方法とは、アーク点の周辺よ
り噴射される低温の空気流を利用して、減圧させた環境
下で、連続的に金属線材を電気的にアーク溶融させ、同
時に前方の噴射気流中に吸引し、粉砕させ、常温近くま
で急冷却させ、液状の過冷却状態で溶融金属粒子を基材
上に付着せしめる方法からなるものである。従って、該
方法の場合には、単位時間の溶射量を比較多くし、溶射
膜厚を厚くすることが可能である。
【0065】本発明の金属溶射皮膜の形成方法は、以上
説明した通りであるが、さらに金属溶射皮膜の発錆によ
る消耗を防止したり、水の浸透を防止するために金属溶
射皮膜上に防食塗料等の各種封孔塗料を塗装したり、上
塗塗装することも可能である。
【0066】
【発明の効果】本発明の方法によれば、従来法のような
被溶射基材表面を粗面化したり、完全に防錆するため
の、より高度なブラスト処理作業が不要なため、粉塵等
による環境汚染が少なく、かつブラスト処理による粗面
と同様な粗面を有する皮膜を、不溶性固体粒子を含有す
る一液常温自己架橋型樹脂水性分散液を塗布することに
より形成出来るので作業性がよく、また有機溶剤の使用
量が少ないため大気汚染防止、省資源が可能となり、さ
らに密着性、耐食性、耐熱性、耐溶剤性等に優れたプラ
イマー層が形成出来るため金属溶射皮膜による長期犠牲
防食が可能となる。
【0067】
【実施例】以下本発明の詳細を実施例により説明する。
なお、実施例中「部」、「%」は特に断わりがない限
り、重量基準で示す。 <水性分散体A−1の調製>撹拌機、熱交換器、温度
計、滴下ロートを備えた4つ口フラスコに脱イオン水1
46部とドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウム0.
2部を仕込み、74℃に昇温させた後、さらに過硫酸ア
ンモニウム0.4部を添加し、74℃を保ちながら、ダ
イアセトンアクリルアミド8部、メタクリル酸2部、ア
クリル酸2−ヒドロキシエチル6部、メタクリル酸メチ
ル48部、メタクリル酸2−エチルヘキシル36部から
なる不飽和単量体100部とドデシルメルカプタン0.
3部の混合物を撹拌しながら3時間かけて滴下して乳化
重合させた。滴下終了後86℃に昇温して2時間熟成を
し、50℃に冷却させた。次いで撹拌下でジメチルエタ
ノールアミン0.8部とトリエチルアミン0.8部を添
加して、自己乳化させ、更にエチレングリコールモノブ
チルエーテル15部を添加して固形分38%、重量平均
分子量9万8千の水性分散体A−1を調製した。 <水性分散体A−2〜A−4の調製>表1に示す成分を
使用する以外は、水性分散体A−1と同様にして水性分
散体A−2〜A−4を調製した。
【0068】
【表1】 <樹脂水性分散液B−1の調製>水性分散体A−1 2
63部、平均粒径70μmの珪砂240部、酸化鉄錆顔
料6部、ビスアセチルジヒドラゾンの20%メチルエチ
ルケトン溶液6.7部(水性分散体中の共重合体のカル
ボニル基1当量に対し、ヒドラゾン残基0.5当量)を
十分に撹拌して、練合分散し、次いで増粘剤16部を添
加して樹脂水性分散液B−1を調製した。 <樹脂水性分散液B−2〜B−5の調製>表2に示す成
分を使用する以外は、樹脂水性分散液B−1と同様にし
て樹脂水性分散液B−2〜B−5を調製した。
【0069】
【表2】 実施例1 3.2×70×150mmの錆鋼板表面をディスクサン
ダーにてSIS−St3に素地調整し、該表面に樹脂水
性分散液B−1をエアースプレーによって40g/m2
の割合で塗布し、2時間自然乾燥させ、十点平均表面粗
さ(Rz)が90μm、表面の凹凸の平均間隙(Sm)
とRzの比(Sm/Rz)が2.2の皮膜を形成させ
た。
【0070】次いでプライマー層である該皮膜を形成さ
せた鋼板表面に、減圧内アーク溶射方法によりZn−A
l擬合金溶射を平均膜厚が80μmになるように溶射を
行った。なおZn−Al擬合金溶射の条件は、パンアー
トクラフト社のアーク溶射機PA100にて、直径1.
3mmφの純亜鉛線材と純アルミニウム線材を各1本ず
つ使用して、搬線速度5m/分、電圧15V、電流13
0A、空気圧6kg/cm2 で行った。
【0071】得られた溶射試験板は密着性、耐溶剤性、
耐熱性、耐食性の評価を行い、その結果を表3に示し
た。また一液常温自己架橋型である氏樹脂水性分散液B
−1貯蔵安定性の評価を表3に示した。 実施例2 実施例1において樹脂水性分散液B−1の代りに樹脂水
性分散液B−2(表2)を使用し、Rzが80μm、
(Sm/Rz)が2.4のプライマー層である皮膜を形
成する以外は、同様にして溶射試験板を作成した。
【0072】得られた溶射試験板の評価及び一液常温自
己架橋型である樹脂水性分散液B−2の評価を実施例1
と同様に行い、その結果を表3に示した。 実施例3 実施例1において樹脂水性分散液B−1の代りに樹脂水
性分散液B−3(表2)を使用し、Rzが70μm、
(Sm/Rz)が2.9のプライマー層である皮膜を形
成する以外は、同様にして溶射試験板を作成した。
【0073】得られた溶射試験板の評価及び一液常温自
己架橋型である樹脂水性分散液B−3の評価を実施例1
と同様に行い、その結果を表3に示した。 実施例4 実施例1において樹脂水性分散液B−1の代りに樹脂水
性分散液B−4(表2)を使用し、Rzが75μm、
(Sm/Rz)が2.8のプライマー層である皮膜を形
成する以外は、同様にして溶射試験板を作成した。
【0074】得られた溶射試験板の評価及び一液常温自
己架橋型である樹脂水性分散液B−4の評価を実施例1
と同様に行い、その結果を表3に示した。 比較例1 実施例1において樹脂水性分散液B−1の代りに樹脂水
性分散液B−5(表2)を使用し、Rzが80μm、
(Sm/Rz)が2.7のプライマー層である皮膜を形
成する以外は、同様にして溶射試験板を作成した。
【0075】得られた溶射試験板の評価及び一液常温非
架橋型である樹脂水性分散液B−5の評価を実施例1と
同様に行い、その結果を表3に示した。 比較例2 実施例1において樹脂水性分散液B−1の代りに樹脂水
性分散液B−6(表2)を使用し、Rzが90μm、
(Sm/Rz)が2.3のプライマー層である皮膜を形
成する以外は、同様にして溶射試験板を作成した。
【0076】得られた溶射試験板の評価及び一液常温自
己非架橋型である樹脂水性分散液B−6の評価を実施例
1と同様に行い、その結果を表3に示した。
【0077】
【表3】 注1)溶射試験板に、さらに300μm追加溶射を行な
い、20mmφのアルミ治具を、溶射皮膜と裏面の基板
にエポキシ樹脂接着剤で接着させ、治具周辺の皮膜を取
り除いた後、1mm/分の速度で引張り、垂直引張強度
をASTMC633に準じて測定した。
【0078】注2)溶射試験板をキシレン溶液に2時間
浸漬し、目視観察した。
【0079】注3)溶射試験板を150℃の乾燥炉中に
2時間静置し、目視観察した。
【0080】注4)溶射試験板を4日間水中に浸漬後、
塩水噴霧試験をそれぞれ2000時間、3000時間行
ない、目視観察した。
【0081】注5)樹脂水性分散液を50℃の温度下で
20日間放置し、ゲル化等の異常発生有無を目視判定し
た。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被溶射基材上に、平均粒径5〜200μ
    mの不溶性固体粒子を含有する一液常温自己架橋型樹脂
    水性分散液を塗布し、粗い表面を有するプライマー層を
    形成し、次いで該プライマー層上に金属溶射することを
    特徴とする金属溶射皮膜の形成方法。
  2. 【請求項2】 前記樹脂水性分散液が、カルボニル基
    (但し、カルボキシル基及びカルボン酸エステル基に基
    づくカルボニル基を除く)を含有する共重合体(A)の
    水性分散体と分子中に少なくとも2個のヒドラゾン残基
    を含有するヒドラゾン化合物(B)とを、共重合体
    (A)のカルボニル基1当量に対し、ヒドラゾン化合物
    (B)のヒドラゾン残基が0.1〜2当量となるように
    混合してなる混合物の固形分に対し、平均粒径5〜20
    0μmの不溶性固体粒子を25〜400容量%含有させ
    た分散液である請求項1の金属溶射皮膜の形成方法。
  3. 【請求項3】 前記樹脂水性分散液が、カルボニル基
    (但し、カルボキシル基及びカルボン酸エステル基に基
    づくカルボニル基を除く)を含有する共重合体(A)の
    水性分散体と分子中に少なくとも2個のヒドラジン残基
    を含有するヒドラジン化合物(B′)とを共重合体
    (A)のカルボニル基1当量に対し、ヒドラジン化合物
    (B′)のヒドラジン残基が0.1〜2当量となるよう
    に混合してなる混合物の固形分に対し、平均粒径5〜2
    00μmの不溶性固体粒子を25〜400容量%含有さ
    せた分散液である、請求項1の金属溶射皮膜の形成方
    法。
  4. 【請求項4】 プライマー層が、表面の凹凸の平均間隔
    (Sm)と十点平均粗さ(Rz)の比Sm/Rzが5以
    下で、かつRzが10〜250μmの粗い表面を有す
    る、請求項1乃至3の金属溶射皮膜の形成方法。
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