JPH09328311A - イオン交換性層状珪酸塩の球状造粒物およびその製造法 - Google Patents
イオン交換性層状珪酸塩の球状造粒物およびその製造法Info
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- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 title claims abstract description 57
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 45
- 239000008187 granular material Substances 0.000 title claims abstract description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 121
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims abstract description 41
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 claims abstract description 17
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 8
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical group O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 7
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010445 mica Substances 0.000 claims description 4
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000271 hectorite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L hectorite Chemical group [Li+].[OH-].[OH-].[Na+].[Mg+2].O1[Si]2([O-])O[Si]1([O-])O[Si]([O-])(O1)O[Si]1([O-])O2 KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 abstract description 3
- -1 TaCl 5 Inorganic materials 0.000 description 199
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 50
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 33
- AQYCWSHDYILNJO-UHFFFAOYSA-N methyl 6-methyl-3-oxo-4h-1,4-benzoxazine-8-carboxylate Chemical compound N1C(=O)COC2=C1C=C(C)C=C2C(=O)OC AQYCWSHDYILNJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000000047 product Substances 0.000 description 25
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 23
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 18
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 18
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 18
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 17
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 16
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 16
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 15
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 13
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 12
- 125000001145 hydrido group Chemical group *[H] 0.000 description 11
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 11
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 9
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 8
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 7
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 7
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 7
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 7
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 7
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 7
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 6
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- NYTVYUMUZSEDHG-UHFFFAOYSA-N C1=CC2=CC=CC=C2C1[Zr](=C(C)C)C1C2=CC=CC=C2C=C1 Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C1[Zr](=C(C)C)C1C2=CC=CC=C2C=C1 NYTVYUMUZSEDHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910021293 PO 4 Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 5
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000002734 clay mineral Substances 0.000 description 5
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 5
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 5
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 5
- ALSOCDGAZNNNME-UHFFFAOYSA-N ethene;hex-1-ene Chemical compound C=C.CCCCC=C ALSOCDGAZNNNME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 5
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 5
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 5
- 229910021647 smectite Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 description 5
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 5
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BDLXNUKTLKNYRE-UHFFFAOYSA-N CC1=C(C)C(C)=C(C)C1[Zr]C1C(C)=C(C)C(C)=C1C Chemical compound CC1=C(C)C(C)=C(C)C1[Zr]C1C(C)=C(C)C(C)=C1C BDLXNUKTLKNYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000011361 granulated particle Substances 0.000 description 4
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 4
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 4
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N trimethylphosphine Chemical compound CP(C)C YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VPGLGRNSAYHXPY-UHFFFAOYSA-L zirconium(2+);dichloride Chemical compound Cl[Zr]Cl VPGLGRNSAYHXPY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NJNGPXRQMNQRLL-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)=[Zr](C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 Chemical compound C(C)(C)=[Zr](C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 NJNGPXRQMNQRLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IIJHUYBZCHWWOZ-UHFFFAOYSA-N C(C)C1(C=CC=C1)[Zr]C1(C=CC=C1)CC Chemical compound C(C)C1(C=CC=C1)[Zr]C1(C=CC=C1)CC IIJHUYBZCHWWOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WBUJRBXYIVVCNN-UHFFFAOYSA-N C(C)C1=C(C(=C(C1(C)[Zr]C1(C(=C(C(=C1CC)C)C)C)C)C)C)C Chemical compound C(C)C1=C(C(=C(C1(C)[Zr]C1(C(=C(C(=C1CC)C)C)C)C)C)C)C WBUJRBXYIVVCNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZUKISFQHJPRJGF-UHFFFAOYSA-N C(C)[Zr](C1C=CC=C1)C1C(=C(C(=C1C)C)C)C Chemical compound C(C)[Zr](C1C=CC=C1)C1C(=C(C(=C1C)C)C)C ZUKISFQHJPRJGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WJZMFTYEIIOPIC-UHFFFAOYSA-N C1(C=CC=C1)[Zr]C1C=CC2=CC=CC=C12 Chemical compound C1(C=CC=C1)[Zr]C1C=CC2=CC=CC=C12 WJZMFTYEIIOPIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VHNNPTGLWYHNHE-UHFFFAOYSA-N C1=CC2=CC=CC=C2C1[Zr]C1C2=CC=CC=C2C=C1 Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C1[Zr]C1C2=CC=CC=C2C=C1 VHNNPTGLWYHNHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JAKYKQHNJUDFCT-UHFFFAOYSA-N C1=CC=C2C([Zr])C=CC2=C1 Chemical compound C1=CC=C2C([Zr])C=CC2=C1 JAKYKQHNJUDFCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OLYFEVQPCGPWKL-UHFFFAOYSA-N C1=CC=CC1[Zr]([SiH](C)C)C1C=CC=C1 Chemical compound C1=CC=CC1[Zr]([SiH](C)C)C1C=CC=C1 OLYFEVQPCGPWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OJTASADKSHOQHQ-UHFFFAOYSA-N C=[Zr](C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 Chemical compound C=[Zr](C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 OJTASADKSHOQHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MBVIIPUAENVLDG-UHFFFAOYSA-N CC1(C=CC=C1)[Zr]C1(C=CC=C1)C Chemical compound CC1(C=CC=C1)[Zr]C1(C=CC=C1)C MBVIIPUAENVLDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VRGAOYALVRANFN-UHFFFAOYSA-N CC1=C(C(=C(C1(C)[Zr]C1C=CC=C1)C)C)C Chemical compound CC1=C(C(=C(C1(C)[Zr]C1C=CC=C1)C)C)C VRGAOYALVRANFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SKTBBXWJJOQKBV-UHFFFAOYSA-N CC1=C(C(C=C1)(C)[Zr]C1C=CC=C1)C Chemical compound CC1=C(C(C=C1)(C)[Zr]C1C=CC=C1)C SKTBBXWJJOQKBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RVEYJJWOHLDJPA-UHFFFAOYSA-N CC1=C(C)C(C)=C(C)C1(C)[Zr]C1(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C Chemical compound CC1=C(C)C(C)=C(C)C1(C)[Zr]C1(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C RVEYJJWOHLDJPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CFNUQMQNJWFIEL-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=CC1(C)[Zr]C1(C)C=CC=C1C Chemical compound CC1=CC=CC1(C)[Zr]C1(C)C=CC=C1C CFNUQMQNJWFIEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BEMMTNKEKWCPAI-UHFFFAOYSA-N CC[Zr](C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 Chemical compound CC[Zr](C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 BEMMTNKEKWCPAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- QRUYYSPCOGSZGQ-UHFFFAOYSA-L cyclopentane;dichlorozirconium Chemical compound Cl[Zr]Cl.[CH]1[CH][CH][CH][CH]1.[CH]1[CH][CH][CH][CH]1 QRUYYSPCOGSZGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- QKIUAMUSENSFQQ-UHFFFAOYSA-N dimethylazanide Chemical compound C[N-]C QKIUAMUSENSFQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 3
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 3
- DQVXWCCLFKMJTQ-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenoxy)boronic acid Chemical compound CC1=CC=C(OB(O)O)C=C1 DQVXWCCLFKMJTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFRIPBOVARWFNK-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)=[Zr](C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC1=2)C1C=CC=C1 Chemical compound C(C)(C)=[Zr](C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC1=2)C1C=CC=C1 KFRIPBOVARWFNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JCBHGTBOAGRXKA-UHFFFAOYSA-N C1(C=CC=C1)[Zr]C1(C(=C(C(=C1)C)C)C)C Chemical compound C1(C=CC=C1)[Zr]C1(C(=C(C(=C1)C)C)C)C JCBHGTBOAGRXKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRHODLBZJKAKRN-UHFFFAOYSA-N C1=CC=CC1[Zr](C)(C)C1C=CC=C1 Chemical compound C1=CC=CC1[Zr](C)(C)C1C=CC=C1 BRHODLBZJKAKRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DUNYJZDMGMKWMC-UHFFFAOYSA-N CC1=C(C)C(C)([Zr]C2(C)C=CC(C)=C2C)C=C1 Chemical compound CC1=C(C)C(C)([Zr]C2(C)C=CC(C)=C2C)C=C1 DUNYJZDMGMKWMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MSVMXTWPQBFQQF-UHFFFAOYSA-N C[Zr](C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 Chemical compound C[Zr](C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 MSVMXTWPQBFQQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRKDNCWZNBPNLR-UHFFFAOYSA-N FC(F)(F)C1(C=CC=C1)[Zr]C1(C=CC=C1)C(F)(F)F Chemical compound FC(F)(F)C1(C=CC=C1)[Zr]C1(C=CC=C1)C(F)(F)F HRKDNCWZNBPNLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CAZRWGNQBORTDL-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].C1(C=CC=C1)[Zr+2]C1(C(=C(C(=C1)C)C)C)C Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1(C=CC=C1)[Zr+2]C1(C(=C(C(=C1)C)C)C)C CAZRWGNQBORTDL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- JFWBIRAGFWPMTI-UHFFFAOYSA-N [Zr].[CH]1C=CC=C1 Chemical compound [Zr].[CH]1C=CC=C1 JFWBIRAGFWPMTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWSNYHWTGQZSCH-UHFFFAOYSA-N [Zr]C Chemical compound [Zr]C CWSNYHWTGQZSCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005998 bromoethyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005997 bromomethyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004799 bromophenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 125000002603 chloroethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])Cl 0.000 description 2
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 2
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 125000003784 fluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(F)C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 2
- 125000001207 fluorophenyl group Chemical group 0.000 description 2
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 2
- WFSPUOYRSOLZIS-UHFFFAOYSA-N silane zirconium Chemical compound [SiH4].[Zr] WFSPUOYRSOLZIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 125000005309 thioalkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 2
- LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentafluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPFSXSQOIZGXBY-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-N-(methoxymethyl)-1-propan-2-yloxy-1-propoxymethanamine Chemical compound CCCOC(NCOC)(OCC)OC(C)C LPFSXSQOIZGXBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBALTUBRZPIPZ-UHFFFAOYSA-N 2,6-di(propan-2-yl)aniline Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(C(C)C)=C1N WKBALTUBRZPIPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-1-ene Chemical compound CC(C)C=C YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDTAOIUHUHHCMU-UHFFFAOYSA-N 3-methylpent-1-ene Chemical compound CCC(C)C=C LDTAOIUHUHHCMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRZCOLNOCZKSDF-UHFFFAOYSA-N 4-fluoroaniline Chemical compound NC1=CC=C(F)C=C1 KRZCOLNOCZKSDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910016569 AlF 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017119 AlPO Inorganic materials 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVSYRGCAFXIXDJ-UHFFFAOYSA-N C1(C=CC=C1)[Zr](C)([Si](C)(C)C)C1C=CC=C1 Chemical compound C1(C=CC=C1)[Zr](C)([Si](C)(C)C)C1C=CC=C1 ZVSYRGCAFXIXDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTPSFIFDLWZNOL-UHFFFAOYSA-N C1(C=CC=C1)[Zr](CC1=CC=CC=C1)([Si](C)(C)C)C1C=CC=C1 Chemical compound C1(C=CC=C1)[Zr](CC1=CC=CC=C1)([Si](C)(C)C)C1C=CC=C1 FTPSFIFDLWZNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPTOEGJQHOZZFC-UHFFFAOYSA-N C1(C=CC=C1)[Zr](C[Si](C)(C)C)([Si](C)(C)C)C1C=CC=C1 Chemical compound C1(C=CC=C1)[Zr](C[Si](C)(C)C)([Si](C)(C)C)C1C=CC=C1 LPTOEGJQHOZZFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYDKZOGGRJOZSV-UHFFFAOYSA-N C1(C=CC=C1)[Zr]([Si](C)(C)C)C1C=CC=C1 Chemical compound C1(C=CC=C1)[Zr]([Si](C)(C)C)C1C=CC=C1 YYDKZOGGRJOZSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRYUGGGJGSALHM-UHFFFAOYSA-N C1(C=CC=C1)[Zr]([Si](C)(C)C)[Si](C)(C)C Chemical compound C1(C=CC=C1)[Zr]([Si](C)(C)C)[Si](C)(C)C SRYUGGGJGSALHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXLVYPODMQUIFT-UHFFFAOYSA-N C1(C=CC=C1)[Zr][Si](C)(C)C Chemical compound C1(C=CC=C1)[Zr][Si](C)(C)C IXLVYPODMQUIFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJTQEAXBIXXILJ-UHFFFAOYSA-L CC(C)=[Zr](Cl)(Cl)(C1C=CC=C1)C1=CC=CC2=C1CC1=CC=CC=C21 Chemical compound CC(C)=[Zr](Cl)(Cl)(C1C=CC=C1)C1=CC=CC2=C1CC1=CC=CC=C21 XJTQEAXBIXXILJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GHUNGDAEQRFFMV-UHFFFAOYSA-L CC(C)=[Zr](Cl)(Cl)(C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 Chemical compound CC(C)=[Zr](Cl)(Cl)(C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 GHUNGDAEQRFFMV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- COGDHYACUGJWNU-UHFFFAOYSA-N CC1(C=CC=C1)C1CCCC1 Chemical compound CC1(C=CC=C1)C1CCCC1 COGDHYACUGJWNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHHAUUVITWQDQI-UHFFFAOYSA-L CC1=C(C)C(C)(C(C)=C1C)[Zr](Cl)(Cl)C1C=CC=C1 Chemical compound CC1=C(C)C(C)(C(C)=C1C)[Zr](Cl)(Cl)C1C=CC=C1 LHHAUUVITWQDQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZENBYXNIPVOGCE-UHFFFAOYSA-N CC=CC=C[Zr] Chemical compound CC=CC=C[Zr] ZENBYXNIPVOGCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXGOWQHFCBIPLK-UHFFFAOYSA-L CC[Zr](Cl)(Cl)(C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 Chemical compound CC[Zr](Cl)(Cl)(C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 UXGOWQHFCBIPLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VWOTWOPAYZNLIU-UHFFFAOYSA-L C[SiH]C.Cl[Zr](Cl)(C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 Chemical compound C[SiH]C.Cl[Zr](Cl)(C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 VWOTWOPAYZNLIU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NXNNTBTYTUJMHX-UHFFFAOYSA-N C[Si](C)(C)C1(C=CC=C1)[Zr]C1(C=CC=C1)[Si](C)(C)C Chemical compound C[Si](C)(C)C1(C=CC=C1)[Zr]C1(C=CC=C1)[Si](C)(C)C NXNNTBTYTUJMHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKGXTGFRRRBMTN-UHFFFAOYSA-N C[Zr](C1C=CC=C1)(C1C=CC=C1)[Si](c1ccccc1)(c1ccccc1)c1ccccc1 Chemical compound C[Zr](C1C=CC=C1)(C1C=CC=C1)[Si](c1ccccc1)(c1ccccc1)c1ccccc1 ZKGXTGFRRRBMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVZOLHDRKMPIRA-UHFFFAOYSA-L C[Zr](Cl)(Cl)(C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 Chemical compound C[Zr](Cl)(Cl)(C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 NVZOLHDRKMPIRA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HRCNWDPGYQRDAF-UHFFFAOYSA-N C[Zr]C1C=CC=C1 Chemical compound C[Zr]C1C=CC=C1 HRCNWDPGYQRDAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004573 CdF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDKQIYIAJNASMS-UHFFFAOYSA-L Cl[Zr](Cl)(=C)(C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 Chemical compound Cl[Zr](Cl)(=C)(C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 LDKQIYIAJNASMS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical group CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- FEKMNBAGOGBRKK-UHFFFAOYSA-L FC1=C(C(=C(C(=C1S(=O)(=O)[O-])F)F)F)F.C1(C=CC=C1)[Zr+2]C1C=CC=C1.FC1=C(C(=C(C(=C1S(=O)(=O)[O-])F)F)F)F Chemical compound FC1=C(C(=C(C(=C1S(=O)(=O)[O-])F)F)F)F.C1(C=CC=C1)[Zr+2]C1C=CC=C1.FC1=C(C(=C(C(=C1S(=O)(=O)[O-])F)F)F)F FEKMNBAGOGBRKK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017768 LaF 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015275 MoF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019800 NbF 5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000080590 Niso Species 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282376 Panthera tigris Species 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004529 TaF 5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007926 ZrCl Inorganic materials 0.000 description 1
- YVNTUTUOQJXUOU-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].C(C)C1=C(C(=C(C1(C)[Zr+2]C1(C(=C(C(=C1CC)C)C)C)C)C)C)C Chemical compound [Cl-].[Cl-].C(C)C1=C(C(=C(C1(C)[Zr+2]C1(C(=C(C(=C1CC)C)C)C)C)C)C)C YVNTUTUOQJXUOU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UWCVVTLRDNFXER-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].C1(C=CC=C1)[Zr+2]C1(C(=C(C=C1)C)C)C Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1(C=CC=C1)[Zr+2]C1(C(=C(C=C1)C)C)C UWCVVTLRDNFXER-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NWBSMOHZFZYBLB-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].C1=CC2=CC=CC=C2C1[Zr+2](=C(C)C)C1C2=CC=CC=C2C=C1 Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=CC2=CC=CC=C2C1[Zr+2](=C(C)C)C1C2=CC=CC=C2C=C1 NWBSMOHZFZYBLB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SLARNVPEXUQXLR-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].CC1=C(C)C(C)([Zr++]C2(C)C=CC(C)=C2C)C=C1 Chemical compound [Cl-].[Cl-].CC1=C(C)C(C)([Zr++]C2(C)C=CC(C)=C2C)C=C1 SLARNVPEXUQXLR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XRMLSJOTMSZVND-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].CC1=CC=CC1(C)[Zr++]C1(C)C=CC=C1C Chemical compound [Cl-].[Cl-].CC1=CC=CC1(C)[Zr++]C1(C)C=CC=C1C XRMLSJOTMSZVND-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PCGLKNXWLGQMKK-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].CC=1C(=C(C(C1)(C)[Zr+3]=C)C)C.C(C)[NH-] Chemical compound [Cl-].[Cl-].CC=1C(=C(C(C1)(C)[Zr+3]=C)C)C.C(C)[NH-] PCGLKNXWLGQMKK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SNIHLWWHYORYDJ-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].FC(F)(F)C1(C=CC=C1)[Zr+2]C1(C=CC=C1)C(F)(F)F Chemical compound [Cl-].[Cl-].FC(F)(F)C1(C=CC=C1)[Zr+2]C1(C=CC=C1)C(F)(F)F SNIHLWWHYORYDJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XCLXCDFTDRJVTQ-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].FC(F)(F)[Zr+2](C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 Chemical compound [Cl-].[Cl-].FC(F)(F)[Zr+2](C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 XCLXCDFTDRJVTQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UOVFKPJXELUPMF-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].[Zr+2].CC=1C(=C(C(C1)(C)[SiH3])C)C Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zr+2].CC=1C(=C(C(C1)(C)[SiH3])C)C UOVFKPJXELUPMF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HWNAAHGOKTZECO-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].[Zr+2].C[SiH](C1(C(=C(C(=C1)C)C)C)C)C Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zr+2].C[SiH](C1(C(=C(C(=C1)C)C)C)C)C HWNAAHGOKTZECO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YDWRQAGSLZNIBA-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].[Zr+3].CC(C1(C(=C(C(=C1)C)C)C)[NH-])C Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zr+3].CC(C1(C(=C(C(=C1)C)C)C)[NH-])C YDWRQAGSLZNIBA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HURRBGVVGYCBDJ-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].[Zr+3].C[SiH](C1(C(=C(C(=C1)C)C)C)C)C.C(C1=CC=CC=C1)[NH-] Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zr+3].C[SiH](C1(C(=C(C(=C1)C)C)C)C)C.C(C1=CC=CC=C1)[NH-] HURRBGVVGYCBDJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QZLVHKFFAMDEAO-UHFFFAOYSA-L [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[Zr++](C1C=Cc2ccccc12)C1C=Cc2ccccc12 Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[Zr++](C1C=Cc2ccccc12)C1C=Cc2ccccc12 QZLVHKFFAMDEAO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052767 actinium Inorganic materials 0.000 description 1
- QQINRWTZWGJFDB-UHFFFAOYSA-N actinium atom Chemical compound [Ac] QQINRWTZWGJFDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 description 1
- 125000005234 alkyl aluminium group Chemical group 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000000649 benzylidene group Chemical group [H]C(=[*])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 238000012661 block copolymerization Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- MSZJEPVVQWJCIF-UHFFFAOYSA-N butylazanide Chemical group CCCC[NH-] MSZJEPVVQWJCIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZUKCLOWAMFDDB-UHFFFAOYSA-L butylcyclopentane;dichlorozirconium Chemical compound Cl[Zr]Cl.CCCC[C]1[CH][CH][CH][CH]1.CCCC[C]1[CH][CH][CH][CH]1 KZUKCLOWAMFDDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VNSBYDPZHCQWNB-UHFFFAOYSA-N calcium;aluminum;dioxido(oxo)silane;sodium;hydrate Chemical compound O.[Na].[Al].[Ca+2].[O-][Si]([O-])=O VNSBYDPZHCQWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- KDKNVCQXFIBDBD-UHFFFAOYSA-N carbanide;1,2,3,4,5-pentamethylcyclopentane;zirconium(2+) Chemical group [CH3-].[CH3-].[Zr+2].C[C]1[C](C)[C](C)[C](C)[C]1C.C[C]1[C](C)[C](C)[C](C)[C]1C KDKNVCQXFIBDBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SSLYIXHGTXGSJZ-UHFFFAOYSA-L cyclopentane;dichlorozirconium;indene Chemical compound Cl[Zr]Cl.[CH]1[CH][CH][CH][CH]1.C1=CC=C[C]2[CH][CH][CH][C]21 SSLYIXHGTXGSJZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- IVTQDRJBWSBJQM-UHFFFAOYSA-L dichlorozirconium;indene Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C1[Zr](Cl)(Cl)C1C2=CC=CC=C2C=C1 IVTQDRJBWSBJQM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LOKCKYUBKHNUCV-UHFFFAOYSA-L dichlorozirconium;methylcyclopentane Chemical compound Cl[Zr]Cl.C[C]1[CH][CH][CH][CH]1.C[C]1[CH][CH][CH][CH]1 LOKCKYUBKHNUCV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LDYLHMQUPCBROZ-UHFFFAOYSA-N diethyl(methoxy)alumane Chemical compound [O-]C.CC[Al+]CC LDYLHMQUPCBROZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical group CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UZBQIPPOMKBLAS-UHFFFAOYSA-N diethylazanide Chemical compound CC[N-]CC UZBQIPPOMKBLAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical group CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical group CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N dysprosium atom Chemical compound [Dy] KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000000219 ethylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 150000002363 hafnium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical group C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N holmium atom Chemical compound [Ho] KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 125000006303 iodophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000654 isopropylidene group Chemical group C(C)(C)=* 0.000 description 1
- 238000010902 jet-milling Methods 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940094522 laponite Drugs 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- XCOBTUNSZUJCDH-UHFFFAOYSA-B lithium magnesium sodium silicate Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Na+].[Na+].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].O1[Si](O2)([O-])O[Si]3([O-])O[Si]1([O-])O[Si]2([O-])O3.O1[Si](O2)([O-])O[Si]3([O-])O[Si]1([O-])O[Si]2([O-])O3.O1[Si](O2)([O-])O[Si]3([O-])O[Si]1([O-])O[Si]2([O-])O3.O1[Si](O2)([O-])O[Si]3([O-])O[Si]1([O-])O[Si]2([O-])O3.O1[Si](O2)([O-])O[Si]3([O-])O[Si]1([O-])O[Si]2([O-])O3.O1[Si](O2)([O-])O[Si]3([O-])O[Si]1([O-])O[Si]2([O-])O3 XCOBTUNSZUJCDH-UHFFFAOYSA-B 0.000 description 1
- OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N lutetium atom Chemical compound [Lu] OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- CPOFMOWDMVWCLF-UHFFFAOYSA-N methyl(oxo)alumane Chemical compound C[Al]=O CPOFMOWDMVWCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQOIBQBPAXOVGP-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-2-methylpropan-2-amine Chemical group CCNC(C)(C)C XQOIBQBPAXOVGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930014626 natural product Natural products 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229910000273 nontronite Inorganic materials 0.000 description 1
- XVUUAHJGFJVHEG-UHFFFAOYSA-N o-(2-methylphenyl)hydroxylamine Chemical group CC1=CC=CC=C1ON XVUUAHJGFJVHEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000879 optical micrograph Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMMOXUPEWRXHJS-UHFFFAOYSA-N pent-2-ene Chemical compound CCC=CC QMMOXUPEWRXHJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002097 pentamethylcyclopentadienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005504 petroleum refining Methods 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005328 phosphinyl group Chemical group [PH2](=O)* 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 230000037048 polymerization activity Effects 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000275 saponite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910000269 smectite group Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNWZYDSEVLFSMS-UHFFFAOYSA-N tripropylalumane Chemical compound CCC[Al](CCC)CCC CNWZYDSEVLFSMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N uranium Chemical compound [U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U] DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
- Glanulating (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 機械的強度や耐磨耗性に優れ、粒子の破砕や
微粉の生成が抑制された、実質的に球状のイオン交換性
層状珪酸塩の球状造粒物及びその製造法の提供。 【解決手段】 下記条件(A)〜(C)を同時に充足す
る、イオン交換性層状珪酸塩の球状造粒物。 (A):平均粒径が20μm以上、1000μm以下で
あり、かつ平均粒径が10μm以下の粒子の数が全粒子
数の20%以下であること、 (B):M/Lの値が0.8以上、1.0以下である粒
子の数が、全粒子の50%以上、100%以下であるこ
と(Lは粒子の最大径の値を、Mは粒子の最大径と直交
する径の最大値を示す)、 (C):粒子の圧壊強度が、0.5MPa以上であるこ
と。 イオン交換性層状珪酸塩をその交換性陽イオンの30%
以上を周期律表の第2族〜第14族の陽イオンまたはH
+ に交換するイオン交換処理に対して得られたイオン交
換処理済珪酸塩であって、平均粒径0.5〜20μmの
微粉からなるものを分散させてなるスラリーを、噴霧乾
燥処理に付す上記球状造粒物の製造法。
微粉の生成が抑制された、実質的に球状のイオン交換性
層状珪酸塩の球状造粒物及びその製造法の提供。 【解決手段】 下記条件(A)〜(C)を同時に充足す
る、イオン交換性層状珪酸塩の球状造粒物。 (A):平均粒径が20μm以上、1000μm以下で
あり、かつ平均粒径が10μm以下の粒子の数が全粒子
数の20%以下であること、 (B):M/Lの値が0.8以上、1.0以下である粒
子の数が、全粒子の50%以上、100%以下であるこ
と(Lは粒子の最大径の値を、Mは粒子の最大径と直交
する径の最大値を示す)、 (C):粒子の圧壊強度が、0.5MPa以上であるこ
と。 イオン交換性層状珪酸塩をその交換性陽イオンの30%
以上を周期律表の第2族〜第14族の陽イオンまたはH
+ に交換するイオン交換処理に対して得られたイオン交
換処理済珪酸塩であって、平均粒径0.5〜20μmの
微粉からなるものを分散させてなるスラリーを、噴霧乾
燥処理に付す上記球状造粒物の製造法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、イオン交換性層状
珪酸塩の球状造粒物およびその製造法に関するものであ
る。さらに詳しくは、本発明によるイオン交換性層状珪
酸塩の球状造粒物は、機械的強度や耐磨耗性に優れ、反
応や安定運転の阻害となる粒子の破砕や微粉等の生成も
抑制され、そして粒子が球状であって流動性に優れてい
るところから、触媒成分ないし触媒担体成分として、あ
るいは各種のプラスチック、塗料、化粧品や医薬品用の
添加剤として、好適に使用できるものである。
珪酸塩の球状造粒物およびその製造法に関するものであ
る。さらに詳しくは、本発明によるイオン交換性層状珪
酸塩の球状造粒物は、機械的強度や耐磨耗性に優れ、反
応や安定運転の阻害となる粒子の破砕や微粉等の生成も
抑制され、そして粒子が球状であって流動性に優れてい
るところから、触媒成分ないし触媒担体成分として、あ
るいは各種のプラスチック、塗料、化粧品や医薬品用の
添加剤として、好適に使用できるものである。
【0002】イオン交換性層状珪酸塩は、各種触媒成分
ないし触媒担体として、あるいはプラスチック、塗料等
の添加剤として、また、その優れた使用触感から化粧品
や医薬品の添加剤粉末として、広く用いられている。特
に、石油精製や酸化・還元、水素化、脱水素、アルキル
化をはじめとする種々の化学反応、またオレフィン類の
重合反応にあずかる触媒成分あるいは触媒担体成分とし
て工業的に使用される場合も多い。
ないし触媒担体として、あるいはプラスチック、塗料等
の添加剤として、また、その優れた使用触感から化粧品
や医薬品の添加剤粉末として、広く用いられている。特
に、石油精製や酸化・還元、水素化、脱水素、アルキル
化をはじめとする種々の化学反応、またオレフィン類の
重合反応にあずかる触媒成分あるいは触媒担体成分とし
て工業的に使用される場合も多い。
【0003】一般に、触媒を利用する反応系は、気相、
液相いずれにしても、いわゆる不均一系触媒反応が主体
であって、一般に固定層、移動層、噴流層あるいは懸濁
床等の形式で行われる。このために大部分の触媒は、原
料および(または)反応生成物の流通や物質・熱の移動
などをよくすることを考慮して粒状に成形されたり、あ
らかじめ粒状の担体をつくりこれに触媒となるべき物質
や助触媒等を担持させて用いられることが多い。本発明
によるイオン交換性層状珪酸塩の球状造粒物は、このよ
うな触媒成分ないし触媒担体として特に好ましいもので
ある。
液相いずれにしても、いわゆる不均一系触媒反応が主体
であって、一般に固定層、移動層、噴流層あるいは懸濁
床等の形式で行われる。このために大部分の触媒は、原
料および(または)反応生成物の流通や物質・熱の移動
などをよくすることを考慮して粒状に成形されたり、あ
らかじめ粒状の担体をつくりこれに触媒となるべき物質
や助触媒等を担持させて用いられることが多い。本発明
によるイオン交換性層状珪酸塩の球状造粒物は、このよ
うな触媒成分ないし触媒担体として特に好ましいもので
ある。
【0004】
【従来の技術】イオン交換性層状珪酸塩に代表される、
いわゆる粘土鉱物は、それが粉末状態で使用される場
合、天然品であれ、合成品であれ、通常、機械力による
粉砕によって粉末化されているが、そのほとんどは不定
形の形状を呈しているものである。しかし、そのような
不定形形状のものは、本発明者らが知る限りでは、触媒
成分や触媒担体として使用する場合には流動性が悪くて
取り扱いが悪いものでありがちであり、一方、プラスチ
ックや塗料の添加剤として使用する場合には添加効果が
悪く、また、化粧品分野では満足できる使用触感を得る
ことが難しかった。
いわゆる粘土鉱物は、それが粉末状態で使用される場
合、天然品であれ、合成品であれ、通常、機械力による
粉砕によって粉末化されているが、そのほとんどは不定
形の形状を呈しているものである。しかし、そのような
不定形形状のものは、本発明者らが知る限りでは、触媒
成分や触媒担体として使用する場合には流動性が悪くて
取り扱いが悪いものでありがちであり、一方、プラスチ
ックや塗料の添加剤として使用する場合には添加効果が
悪く、また、化粧品分野では満足できる使用触感を得る
ことが難しかった。
【0005】従来、このような粘土鉱物の形状改良方法
としては、たとえば、水膨潤性粘土鉱物を水に分散さ
せ、これを噴霧乾燥する方法(特開昭63−50311
号公報)、微粉雲母をその溶融温度で加熱再結晶させる
方法(特開平6−263431号公報)、酸処理スメク
タイト粘土を混合、凝集させて顆粒にする方法(特開平
6−263431号公報)等が知られている。
としては、たとえば、水膨潤性粘土鉱物を水に分散さ
せ、これを噴霧乾燥する方法(特開昭63−50311
号公報)、微粉雲母をその溶融温度で加熱再結晶させる
方法(特開平6−263431号公報)、酸処理スメク
タイト粘土を混合、凝集させて顆粒にする方法(特開平
6−263431号公報)等が知られている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】これらの方法の中で、
噴霧乾燥による方法は、簡便で粒径の整った球状粉末が
得られるが、経済性を向上させるために水膨潤性粘土鉱
物の水性分散液の濃度を上げるとスラリー粘度が上昇し
てノズルの目詰まりや形状不良を起こしやすく、また、
スラリー粘度を良好に保つために濃度を下げると粒子径
の小さな粉末しか得られず、生産性も不十分となるな
ど、本発明者らの知るところでは工業的には必ずしも経
済的なものとはいえなかった。
噴霧乾燥による方法は、簡便で粒径の整った球状粉末が
得られるが、経済性を向上させるために水膨潤性粘土鉱
物の水性分散液の濃度を上げるとスラリー粘度が上昇し
てノズルの目詰まりや形状不良を起こしやすく、また、
スラリー粘度を良好に保つために濃度を下げると粒子径
の小さな粉末しか得られず、生産性も不十分となるな
ど、本発明者らの知るところでは工業的には必ずしも経
済的なものとはいえなかった。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記従来技術
の問題点を改良するものである。
の問題点を改良するものである。
【0008】したがって、本発明によるイオン交換性層
状珪酸塩の球状造粒物は、下記の条件(A)〜(C)を
同時に充足すること、を特徴とするものである。 条件(A):平均粒径が20μm以上、1000μm以
下であり、かつ平均粒径が10μm以下の粒子の数が全
粒子数の20%以下であること、 条件(B):M/Lの値が0.8以上、1.0以下であ
る粒子の数が、全粒子の50%以上、100%以下であ
ること(ここで、Lは粒子の最大径の値を、Mは粒子の
最大径と直交する径の最大値を、それぞれ示す)、 条件(C):粒子の圧壊強度が、0.5MPa以上であ
ること。 <効果>本発明によれば、機械的強度や耐磨耗性に優
れ、粒子の破砕や微粉の生成が抑制された、実質的に球
状のイオン交換性層状珪酸塩の球状造粒物およびその製
造法が提供される。このような球状造粒物は、流動性が
良好で粒子性状が良好であるところから、触媒担体等の
触媒成分として、あるいは各種のプラスチック、塗料や
化粧品等の添加剤として、特に好適なものである。すな
わち、本発明によれば、種々の化学反応、例えばオレフ
ィン類の重合反応、等における触媒成分、例えば触媒担
体、として工業的に使用される場合、微粉や粗粒が少な
く、嵩密度が高く、流動性が良好で触媒および反応生成
物もしくは熱の移動などを良好にすることができる。ま
た、球状であることからプラスチック、ゴム等に対して
成型効率が高い優れた充填材として使用することができ
る。
状珪酸塩の球状造粒物は、下記の条件(A)〜(C)を
同時に充足すること、を特徴とするものである。 条件(A):平均粒径が20μm以上、1000μm以
下であり、かつ平均粒径が10μm以下の粒子の数が全
粒子数の20%以下であること、 条件(B):M/Lの値が0.8以上、1.0以下であ
る粒子の数が、全粒子の50%以上、100%以下であ
ること(ここで、Lは粒子の最大径の値を、Mは粒子の
最大径と直交する径の最大値を、それぞれ示す)、 条件(C):粒子の圧壊強度が、0.5MPa以上であ
ること。 <効果>本発明によれば、機械的強度や耐磨耗性に優
れ、粒子の破砕や微粉の生成が抑制された、実質的に球
状のイオン交換性層状珪酸塩の球状造粒物およびその製
造法が提供される。このような球状造粒物は、流動性が
良好で粒子性状が良好であるところから、触媒担体等の
触媒成分として、あるいは各種のプラスチック、塗料や
化粧品等の添加剤として、特に好適なものである。すな
わち、本発明によれば、種々の化学反応、例えばオレフ
ィン類の重合反応、等における触媒成分、例えば触媒担
体、として工業的に使用される場合、微粉や粗粒が少な
く、嵩密度が高く、流動性が良好で触媒および反応生成
物もしくは熱の移動などを良好にすることができる。ま
た、球状であることからプラスチック、ゴム等に対して
成型効率が高い優れた充填材として使用することができ
る。
【0009】
〔イオン交換性層状珪酸塩の球状造粒物〕 <条件(A)〜(C)>本発明によるイオン交換性層状
珪酸塩の球状造粒物は、特定の条件(A)〜(C)を同
時に充足することを特徴とするものである。
珪酸塩の球状造粒物は、特定の条件(A)〜(C)を同
時に充足することを特徴とするものである。
【0010】ここで、条件(A)は、球状造粒物の平均
粒径および平均粒径が10μm以下の微小粒子の存在比
率に関するものであって、具体的には、平均粒径が20
μm以上、1000μm以下であり、かつ平均粒径が1
0μm以下の粒子の数が全粒子数の20%以下であるこ
と、というものである。本発明では、平均粒径が20μ
m以上、500μm以下、特に20μm以上、100μ
m以下、のものが好ましく、平均粒径が10μm以下の
粒子が全粒子の15%以下、特に10%以下、であるも
のが好ましい。従って、好ましい条件(A)は、平均粒
径および平均粒径10μm以下の粒子の存在量に関する
上記の好ましい条件のどちらか片方または両方を満たす
ものが本発明では好ましい。
粒径および平均粒径が10μm以下の微小粒子の存在比
率に関するものであって、具体的には、平均粒径が20
μm以上、1000μm以下であり、かつ平均粒径が1
0μm以下の粒子の数が全粒子数の20%以下であるこ
と、というものである。本発明では、平均粒径が20μ
m以上、500μm以下、特に20μm以上、100μ
m以下、のものが好ましく、平均粒径が10μm以下の
粒子が全粒子の15%以下、特に10%以下、であるも
のが好ましい。従って、好ましい条件(A)は、平均粒
径および平均粒径10μm以下の粒子の存在量に関する
上記の好ましい条件のどちらか片方または両方を満たす
ものが本発明では好ましい。
【0011】ここで、球状造粒物の平均粒径は、具体的
にはSEISHIN社製レーザーミクロンナイザーLM
S−24を用いて、エタノール中で測定して得られたと
きのものであり、平均粒径10μm以下の粒子の数は、
上記測定で得られた粒径分布から求めたときのものであ
る。
にはSEISHIN社製レーザーミクロンナイザーLM
S−24を用いて、エタノール中で測定して得られたと
きのものであり、平均粒径10μm以下の粒子の数は、
上記測定で得られた粒径分布から求めたときのものであ
る。
【0012】条件(B)は、造粒物の形状、即ち球状で
あること、を規定する条件であって、具体的には、M/
Lの値が0.8以上、1.0以下である粒子の数が、全
粒子の50%以上、100%以下であること(ここで、
Lは粒子の最大径の値を、Mは粒子の最大径と直交する
径の最大値を、それぞれ示す)というものである。本発
明で好ましい条件(B)は、M/Lの値が0.8以上、
1.0以下である粒子の数が、全粒子の70%以上、1
00%以下であること、というものである。
あること、を規定する条件であって、具体的には、M/
Lの値が0.8以上、1.0以下である粒子の数が、全
粒子の50%以上、100%以下であること(ここで、
Lは粒子の最大径の値を、Mは粒子の最大径と直交する
径の最大値を、それぞれ示す)というものである。本発
明で好ましい条件(B)は、M/Lの値が0.8以上、
1.0以下である粒子の数が、全粒子の70%以上、1
00%以下であること、というものである。
【0013】ここで、球状度を示すM/Lは任意の粒子
の100倍の光学顕微鏡写真を画像処理して求めたとき
のものである。
の100倍の光学顕微鏡写真を画像処理して求めたとき
のものである。
【0014】条件(C)は、球状造粒物の強度に関する
ものであって、具体的には、粒子の圧壊強度が1.0M
Pa以上であることというものである。本発明で好まし
い条件(C)は、圧壊強度が1.0MPa以上であるこ
と、というものである。
ものであって、具体的には、粒子の圧壊強度が1.0M
Pa以上であることというものである。本発明で好まし
い条件(C)は、圧壊強度が1.0MPa以上であるこ
と、というものである。
【0015】ここで、圧壊強度は、具体的には、SHI
MAZU社製微小圧縮試験器MCTM−500を用い
て、任意の10個以上の粒子の圧縮強度を測定し、その
平均値を圧縮強度として求めたときのものである。 <イオン交換性層状珪酸塩>本発明におけるイオン交換
性層状珪酸塩としては、スメクタイト族に属する水膨潤
性粘土鉱物が好ましい。一般にはモンモリロナイト、バ
イデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライ
トおよび雲母等がある。これらは天然品または合成品い
ずれであってもよい。市販品では、「クニピア」、「ス
メクトン」(いずれもクニミネ工業社製)、「ビーガ
ム」(バンダービルト社製)、「ラポナイト」(ラポル
テ社製)、「モンモリロナイトK10」(アルドリッチ
社製)、親水性スメクタイト(コープケミカル社製)、
フッ素4珪素雲母(トピー工業社製、コープケミカル社
製)等を利用することができる。本発明の実施に当たっ
ては、これらを単独で用いても、2種以上を任意に混合
してもよい。
MAZU社製微小圧縮試験器MCTM−500を用い
て、任意の10個以上の粒子の圧縮強度を測定し、その
平均値を圧縮強度として求めたときのものである。 <イオン交換性層状珪酸塩>本発明におけるイオン交換
性層状珪酸塩としては、スメクタイト族に属する水膨潤
性粘土鉱物が好ましい。一般にはモンモリロナイト、バ
イデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライ
トおよび雲母等がある。これらは天然品または合成品い
ずれであってもよい。市販品では、「クニピア」、「ス
メクトン」(いずれもクニミネ工業社製)、「ビーガ
ム」(バンダービルト社製)、「ラポナイト」(ラポル
テ社製)、「モンモリロナイトK10」(アルドリッチ
社製)、親水性スメクタイト(コープケミカル社製)、
フッ素4珪素雲母(トピー工業社製、コープケミカル社
製)等を利用することができる。本発明の実施に当たっ
ては、これらを単独で用いても、2種以上を任意に混合
してもよい。
【0016】なお、ここで「イオン交換性」というのは
層間陽イオンが交換可能であることを意味し、「層状」
というのは層構造を有することを意味する。 〔イオン交換性層状珪酸塩の球状造粒物の製造〕上記の
条件(A)〜(C)を同時に充足するイオン交換性層状
珪酸塩の球状造粒物は合目的的な任意の方法で製造する
ことができる。代表的かつ簡便で経済的な製造法の一つ
として、イオン交換性層状珪酸塩を、その交換性陽イオ
ンの30%以上を周期律表の第2族〜第14族の陽イオ
ンまたはH+ に交換するイオン交換処理に付して得られ
たイオン交換処理済珪酸塩の微粉を、分散媒に分散させ
てスラリーとし、次いで、このスラリーを噴霧乾燥処理
に付すことからなる方法を挙げることができる。 <イオン交換性層状珪酸塩>イオン交換性層状珪酸塩の
詳細は前記したとおりである。 <イオン交換>上記イオン交換性層状珪酸塩はイオン交
換性を利用して、その交換性陽イオンを別の第2族〜第
14族の陽イオンまたはH+ にイオン交換する。具体的
にはNa+ およびLi+ 以外の陽イオンをもつ塩類およ
び必要に応じて酸、アルカリおよび(または)有機物を
溶解させた水溶液中に、イオン交換性層状珪酸塩を懸濁
させ、攪拌混合する。
層間陽イオンが交換可能であることを意味し、「層状」
というのは層構造を有することを意味する。 〔イオン交換性層状珪酸塩の球状造粒物の製造〕上記の
条件(A)〜(C)を同時に充足するイオン交換性層状
珪酸塩の球状造粒物は合目的的な任意の方法で製造する
ことができる。代表的かつ簡便で経済的な製造法の一つ
として、イオン交換性層状珪酸塩を、その交換性陽イオ
ンの30%以上を周期律表の第2族〜第14族の陽イオ
ンまたはH+ に交換するイオン交換処理に付して得られ
たイオン交換処理済珪酸塩の微粉を、分散媒に分散させ
てスラリーとし、次いで、このスラリーを噴霧乾燥処理
に付すことからなる方法を挙げることができる。 <イオン交換性層状珪酸塩>イオン交換性層状珪酸塩の
詳細は前記したとおりである。 <イオン交換>上記イオン交換性層状珪酸塩はイオン交
換性を利用して、その交換性陽イオンを別の第2族〜第
14族の陽イオンまたはH+ にイオン交換する。具体的
にはNa+ およびLi+ 以外の陽イオンをもつ塩類およ
び必要に応じて酸、アルカリおよび(または)有機物を
溶解させた水溶液中に、イオン交換性層状珪酸塩を懸濁
させ、攪拌混合する。
【0017】ここで、イオン交換に際して用いられる塩
類としては、2〜14族原子からなる群より選ばれた少
なくとも一種の原子を含む陽イオンを含有する化合物で
あって、好ましくは、2〜14族原子からなる群より選
ばれた少なくとも一種の原子を含む陽イオンと、ハロゲ
ン原子、無機または有機酸由来の陰イオンからなる群よ
り選ばれた少なくとも一種の陰イオンとからなる化合物
であり、更に好ましくは、2〜14族原子からなる群よ
り選ばれた少なくとも一種の原子を含む陽イオンと、C
l、Br、I、F、PO4、SO4、NO3、CO3、
C2O4、ClO4、OOCCH3、CH3COCHC
OCH3、OCl2、O(NO3)2、O(ClO4)
2、O(SO4)、OH、O2Cl2、OCl3、OO
CH、OOCCH2CH3、C2H4O4およびC6H
5O7からなる群から選ばれる少なくとも一種の陰イオ
ンとからなる化合物である。この化合物の陽イオンとし
ては上記のうち特に第3〜12族のもの、就中Ti、Z
r、Hf、Cr、Zn、Sn、Cu、Ni、Fe、Nb
およびTaが好ましく、陰イオンとしては特にCl、S
O4、NO3およびPO4が好ましい。
類としては、2〜14族原子からなる群より選ばれた少
なくとも一種の原子を含む陽イオンを含有する化合物で
あって、好ましくは、2〜14族原子からなる群より選
ばれた少なくとも一種の原子を含む陽イオンと、ハロゲ
ン原子、無機または有機酸由来の陰イオンからなる群よ
り選ばれた少なくとも一種の陰イオンとからなる化合物
であり、更に好ましくは、2〜14族原子からなる群よ
り選ばれた少なくとも一種の原子を含む陽イオンと、C
l、Br、I、F、PO4、SO4、NO3、CO3、
C2O4、ClO4、OOCCH3、CH3COCHC
OCH3、OCl2、O(NO3)2、O(ClO4)
2、O(SO4)、OH、O2Cl2、OCl3、OO
CH、OOCCH2CH3、C2H4O4およびC6H
5O7からなる群から選ばれる少なくとも一種の陰イオ
ンとからなる化合物である。この化合物の陽イオンとし
ては上記のうち特に第3〜12族のもの、就中Ti、Z
r、Hf、Cr、Zn、Sn、Cu、Ni、Fe、Nb
およびTaが好ましく、陰イオンとしては特にCl、S
O4、NO3およびPO4が好ましい。
【0018】具体的には、CaCl2、CaSO4、C
aC2O4、Ca(NO3)2、Ca3(C6H
5O7)2、MgCl2、MgBr2、MgSO4、M
g(PO4)2、Mg(ClO4)2、MgC2O4、
Mg(NO3)2、Mg(OOCCH3)2、MgC4
H4O4、Sc(OOCCH3)2、Sc2(CO3)
3、Sc2(C2O4)3、Sc(NO3)3、Sc2
(SO4)3、ScF3、ScCl3、ScBr3、S
cI3、Y(OOCCH3)3、Y(CH3COCHC
OCH3)3、Y2(CO3)3、Y2(C
2O4)3、Y(NO3)3、Y(ClO4)3、YP
O4、Y2(SO4)3、YF3、YCl3、La(O
OCCH3)3、La(CH3COCHCOC
H3)3、La2(CO3)3、La(NO3)3、L
a(ClO4)3、La2(C2O4)3、LaP
O4、La2(SO4)3、LaF3、LaCl3、L
aBr3、LaI3、Sm(OOCCH3)3、Sm
(CH3COCHCOCH3)3、Sm2(C
O3)3、Sm(NO3)3、Sm(ClO4)3、S
m2(C2O4)3、Sm2(SO4)3、SmF3、
SmCl3、SmI3、YP(OOCCH3)3、Yb
(NO3)3、Yb、(ClO4)3、Yb(C
2O4)3、Yb2(SO4)3、YbF3、YbCl
3、Ti(OOCCH3)4、Ti(CO3)2、Ti
(NO3)4、Ti(SO4)2、TiF4、TiCl
4、TiBr4、TiI4、Zr(OOCCH3)4、
Zr(CH3COCHCOCH3)4、Zr(CO3)
2、Zr(NO3)4、Zr(SO4)2、ZrF4、
ZrCl4、ZrBr4、ZrI4、ZrOCl2、Z
rO(NO3)2、ZrO(ClO4)2、ZrO(S
O4)、Hf(OOCCH3)4、Hf(CO3)2、
Hf(NO3)4、Hf(SO4)2、HfOCl2、
HfF4、HfCl4、HfBr4、HfI4、V(C
H3COCHCOCH3)3、VOSO4、VOC
l3、VCl3、VCl4、VBr3、Nb(CH3C
OCHCOCH3)5、Nb2(CO3)5、Nb(N
O3)5、Nb2(SO4)5、NbF5、NbC
l5、NbBr5、NbI5、Ta(OOCC
H3)5、Ta2(CO3)5、Ta(NO3)5、T
a2(SO4)5、TaF5、TaCl5、TaB
r5、TaI5、Cr(CH3COCHCOC
H3)3、Cr(OOCH)2OH、Cr(N
O3)3、Cr(ClO4)3、CrPO4、Cr
2(SO4)3、CrO2Cl2、CrF3、CrCl
3、CrBr3、CrI3、MoOCl4、MoC
l3、MoCl4、MoCl5、MoF6、MoI2、
WCl4、WCl6、WF6、WBr5、Mn(OOC
CH3)2、Mn(CH3COCHCOCH3)2、M
nCO3、Mn(NO3)2、MnO、Mn(Cl
O4)2、MnF2、MnCl2、MnBr2、MnI
2、Fe(OOCCH3)2、Fe(CH3COCHC
OCH3)3、FeCO3、Fe(NO3)3、Fe
(ClO4)3、FePO4、FeSO4、Fe2(S
O4)3、FeF3、FeCl3、FeBr3、FeI
2、FeC6H5O7、Co(OOCCH3)2、Co
(CH3COCHCOCH3)3、CoCO3、Co
(NO3)2、CoC2O4、Co(ClO4)2、C
o3(PO4)2、CoSO4、CoF2、CoC
l2、CoBr2、CoI2、NiCO3、Ni(NO
3)2、NiC2O4、Ni(ClO4)2、NiSO
4、NiCl2、NiBr2、Pb(OOCC
H3)2、Pb(NO3)2、PbSO4、PbC
l2、PbBr2、CuCl2、CuBr2、Cu(N
O3)2、CuC2O4、Cu(ClO4)2、CuS
O4、Cu(OOCCH3)2、Zn(OOCCH3)
2、Zn(CH3COCHCOCH3)2、Zn(OO
CH)2、ZnCO3、Zn(NO3)2、Zn(Cl
O4)2、Zn3(PO4)2、Zn(SO4)、Zn
F2、ZnCl2、ZnBr2、ZnI2、Cd(OO
CCH3)2、Cd(CH3COCHCOCH3)2、
Cd(OOCCH2CH3)2、Cd(NO3)2、C
d(ClO4)2、Cd(SO4)、CdF2、CdC
l2、CdBr2、CdI2、AlCl3、AlI3、
AlBr3、AlF3、Al2(SO4)3、AlPO
4、Al2(C2O4)3、Al(NO3)3、Al
(CH3COCHCOCH3)3、GeCl4、GeB
r4、GeI4、Sn(OOCCH3)4、Sn(SO
4)2、SnF4、SnCl4、SnBr4、Sn
I4、Pb(OOCCH3)4、PbCO3、PbHP
O4、Pb(NO3)2、Pb(ClO4)2、PbS
O4、PbF2、PbCl2、PbBr2、PbI2等
が挙げられる。
aC2O4、Ca(NO3)2、Ca3(C6H
5O7)2、MgCl2、MgBr2、MgSO4、M
g(PO4)2、Mg(ClO4)2、MgC2O4、
Mg(NO3)2、Mg(OOCCH3)2、MgC4
H4O4、Sc(OOCCH3)2、Sc2(CO3)
3、Sc2(C2O4)3、Sc(NO3)3、Sc2
(SO4)3、ScF3、ScCl3、ScBr3、S
cI3、Y(OOCCH3)3、Y(CH3COCHC
OCH3)3、Y2(CO3)3、Y2(C
2O4)3、Y(NO3)3、Y(ClO4)3、YP
O4、Y2(SO4)3、YF3、YCl3、La(O
OCCH3)3、La(CH3COCHCOC
H3)3、La2(CO3)3、La(NO3)3、L
a(ClO4)3、La2(C2O4)3、LaP
O4、La2(SO4)3、LaF3、LaCl3、L
aBr3、LaI3、Sm(OOCCH3)3、Sm
(CH3COCHCOCH3)3、Sm2(C
O3)3、Sm(NO3)3、Sm(ClO4)3、S
m2(C2O4)3、Sm2(SO4)3、SmF3、
SmCl3、SmI3、YP(OOCCH3)3、Yb
(NO3)3、Yb、(ClO4)3、Yb(C
2O4)3、Yb2(SO4)3、YbF3、YbCl
3、Ti(OOCCH3)4、Ti(CO3)2、Ti
(NO3)4、Ti(SO4)2、TiF4、TiCl
4、TiBr4、TiI4、Zr(OOCCH3)4、
Zr(CH3COCHCOCH3)4、Zr(CO3)
2、Zr(NO3)4、Zr(SO4)2、ZrF4、
ZrCl4、ZrBr4、ZrI4、ZrOCl2、Z
rO(NO3)2、ZrO(ClO4)2、ZrO(S
O4)、Hf(OOCCH3)4、Hf(CO3)2、
Hf(NO3)4、Hf(SO4)2、HfOCl2、
HfF4、HfCl4、HfBr4、HfI4、V(C
H3COCHCOCH3)3、VOSO4、VOC
l3、VCl3、VCl4、VBr3、Nb(CH3C
OCHCOCH3)5、Nb2(CO3)5、Nb(N
O3)5、Nb2(SO4)5、NbF5、NbC
l5、NbBr5、NbI5、Ta(OOCC
H3)5、Ta2(CO3)5、Ta(NO3)5、T
a2(SO4)5、TaF5、TaCl5、TaB
r5、TaI5、Cr(CH3COCHCOC
H3)3、Cr(OOCH)2OH、Cr(N
O3)3、Cr(ClO4)3、CrPO4、Cr
2(SO4)3、CrO2Cl2、CrF3、CrCl
3、CrBr3、CrI3、MoOCl4、MoC
l3、MoCl4、MoCl5、MoF6、MoI2、
WCl4、WCl6、WF6、WBr5、Mn(OOC
CH3)2、Mn(CH3COCHCOCH3)2、M
nCO3、Mn(NO3)2、MnO、Mn(Cl
O4)2、MnF2、MnCl2、MnBr2、MnI
2、Fe(OOCCH3)2、Fe(CH3COCHC
OCH3)3、FeCO3、Fe(NO3)3、Fe
(ClO4)3、FePO4、FeSO4、Fe2(S
O4)3、FeF3、FeCl3、FeBr3、FeI
2、FeC6H5O7、Co(OOCCH3)2、Co
(CH3COCHCOCH3)3、CoCO3、Co
(NO3)2、CoC2O4、Co(ClO4)2、C
o3(PO4)2、CoSO4、CoF2、CoC
l2、CoBr2、CoI2、NiCO3、Ni(NO
3)2、NiC2O4、Ni(ClO4)2、NiSO
4、NiCl2、NiBr2、Pb(OOCC
H3)2、Pb(NO3)2、PbSO4、PbC
l2、PbBr2、CuCl2、CuBr2、Cu(N
O3)2、CuC2O4、Cu(ClO4)2、CuS
O4、Cu(OOCCH3)2、Zn(OOCCH3)
2、Zn(CH3COCHCOCH3)2、Zn(OO
CH)2、ZnCO3、Zn(NO3)2、Zn(Cl
O4)2、Zn3(PO4)2、Zn(SO4)、Zn
F2、ZnCl2、ZnBr2、ZnI2、Cd(OO
CCH3)2、Cd(CH3COCHCOCH3)2、
Cd(OOCCH2CH3)2、Cd(NO3)2、C
d(ClO4)2、Cd(SO4)、CdF2、CdC
l2、CdBr2、CdI2、AlCl3、AlI3、
AlBr3、AlF3、Al2(SO4)3、AlPO
4、Al2(C2O4)3、Al(NO3)3、Al
(CH3COCHCOCH3)3、GeCl4、GeB
r4、GeI4、Sn(OOCCH3)4、Sn(SO
4)2、SnF4、SnCl4、SnBr4、Sn
I4、Pb(OOCCH3)4、PbCO3、PbHP
O4、Pb(NO3)2、Pb(ClO4)2、PbS
O4、PbF2、PbCl2、PbBr2、PbI2等
が挙げられる。
【0019】イオン交換によってH+ 型にするための、
あるいはイオン交換処理浴中に存在させるべき酸は、好
ましくは塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、シュウ酸から選択さ
れる。処理に用いる塩類および酸は、2種以上であって
もよい。イオン交換に際して塩と酸とを組合せる場合に
おいては、塩類処理を行った後、酸処理を行う方法、酸
処理を行った後、塩類処理を行う方法、および塩類処理
と酸処理を同時に行う方法がある。
あるいはイオン交換処理浴中に存在させるべき酸は、好
ましくは塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、シュウ酸から選択さ
れる。処理に用いる塩類および酸は、2種以上であって
もよい。イオン交換に際して塩と酸とを組合せる場合に
おいては、塩類処理を行った後、酸処理を行う方法、酸
処理を行った後、塩類処理を行う方法、および塩類処理
と酸処理を同時に行う方法がある。
【0020】イオン交換浴中に存在させる場合のアルカ
リとしては、NaOH、KOHおよびNH3があり、こ
のうちKOHおよびNH3が好ましい。また、同様に存
在させることができる有機物としてはアルコール、ニト
ロベンゼン、高級炭化水素、フォルムアミドおよびヒド
ラジンがあり、このうちアルコールおよび高級炭化水素
が好ましい。
リとしては、NaOH、KOHおよびNH3があり、こ
のうちKOHおよびNH3が好ましい。また、同様に存
在させることができる有機物としてはアルコール、ニト
ロベンゼン、高級炭化水素、フォルムアミドおよびヒド
ラジンがあり、このうちアルコールおよび高級炭化水素
が好ましい。
【0021】塩類または酸によるイオン交換処理条件
は、特には制限されないが、通常、塩類および酸濃度
は、0.1〜30重量%、処理温度は室温〜沸点、処理
時間は、5分〜24時間の条件を選択する。
は、特には制限されないが、通常、塩類および酸濃度
は、0.1〜30重量%、処理温度は室温〜沸点、処理
時間は、5分〜24時間の条件を選択する。
【0022】上記の塩類を溶解させた水溶液中にイオン
交換性層状珪酸塩を攪拌混合する際の混合時間は適宜選
ばれるが、好ましくは30分以上であり、そのときの温
度は、通常、常温であるが、それよりも高くてもよい。
その後、この懸濁溶液を濾過、洗浄して、過剰の塩、
酸、アルカリ、有機物ならびに、交換したNa+ および
Li+ を除去する。上記のイオン交換および濾過、洗浄
処理は、一度行うだけでもよいし、さらに交換率を上げ
るために2度以上繰り返して行ってもよい。
交換性層状珪酸塩を攪拌混合する際の混合時間は適宜選
ばれるが、好ましくは30分以上であり、そのときの温
度は、通常、常温であるが、それよりも高くてもよい。
その後、この懸濁溶液を濾過、洗浄して、過剰の塩、
酸、アルカリ、有機物ならびに、交換したNa+ および
Li+ を除去する。上記のイオン交換および濾過、洗浄
処理は、一度行うだけでもよいし、さらに交換率を上げ
るために2度以上繰り返して行ってもよい。
【0023】このとき、イオン交換率が30%以上、好
ましくは50%以上、特に70%以上、であると良好な
スラリー、すなわち、スラリー濃度を上げても噴霧乾燥
に適したスラリー粘度を示すスラリー、を調製すること
ができる。ここで、イオン交換率は以下のように示すこ
とができる。
ましくは50%以上、特に70%以上、であると良好な
スラリー、すなわち、スラリー濃度を上げても噴霧乾燥
に適したスラリー粘度を示すスラリー、を調製すること
ができる。ここで、イオン交換率は以下のように示すこ
とができる。
【0024】(イオン交換率)=1−(Na+ および/
またはLi+ 残存量)/(Na+ およびLi+ 含量) イオン交換率を求めるための分析は、試料を700℃で
1時間加熱恒量とし、それをビードサンプラーにてビー
ドサンプルを作成し、そのサンプルについて蛍光X線測
定装置にてガラスビードを測定し、あらかじめ作成した
検量線に基づき定量した。 <スラリーの形成および噴霧乾燥>本発明では、前述の
イオン交換処理済珪酸塩の微粉を分散させてなるスラリ
ーを噴霧乾燥処理に付す。イオン交換処理済珪酸塩の微
粉を分散させる分散媒は、合目的的な任意のものを使用
することができる。本発明では、水あるいは有機溶媒、
例えばメタノール、エタノール、クロロホルム、塩化メ
チレン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キ
シレン、の単独または混合溶媒を用いる。これらの中で
特に好ましいものは水である。スラリー濃度は5〜70
%、好ましくは10〜50%、さらに好ましくは20〜
40%、である。最適なスラリー濃度はスラリー粘度を
考慮して適宜選ばれる。具体的には6000cps以
下、好ましくは10〜5000cps、特に好ましくは
100〜3000cps、である。すなわち、本発明に
おいては、スラリー粘度とは、B型粘度計で温度30
℃、6rpmで測定した粘度の値を意味し、この粘度が
6000cps超過であると噴霧ノズルへの液の送りが
難しく、また、ノズルの目詰まり等が生じる。逆に、粘
度を下げるためにスラリー濃度を下げると粒子径の小さ
な造粒品しか得られない。造粒粒子の粒子径は噴霧速度
にもよるが、スラリー濃度が5%未満では10μm以上
の粒子を得るのは難しい。噴霧に際しては、ディスクタ
イプや加圧ノズル式、2流体ノズル式などの一般的な噴
霧乾燥方法が適用できる。いずれの場合も噴霧時の熱風
の入り口温度は150℃〜300℃程度の広い温度範囲
で設定できる。また、排気温度はノズルからの噴霧流量
などによって規定されるが、おおむね100℃前後でよ
い。
またはLi+ 残存量)/(Na+ およびLi+ 含量) イオン交換率を求めるための分析は、試料を700℃で
1時間加熱恒量とし、それをビードサンプラーにてビー
ドサンプルを作成し、そのサンプルについて蛍光X線測
定装置にてガラスビードを測定し、あらかじめ作成した
検量線に基づき定量した。 <スラリーの形成および噴霧乾燥>本発明では、前述の
イオン交換処理済珪酸塩の微粉を分散させてなるスラリ
ーを噴霧乾燥処理に付す。イオン交換処理済珪酸塩の微
粉を分散させる分散媒は、合目的的な任意のものを使用
することができる。本発明では、水あるいは有機溶媒、
例えばメタノール、エタノール、クロロホルム、塩化メ
チレン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キ
シレン、の単独または混合溶媒を用いる。これらの中で
特に好ましいものは水である。スラリー濃度は5〜70
%、好ましくは10〜50%、さらに好ましくは20〜
40%、である。最適なスラリー濃度はスラリー粘度を
考慮して適宜選ばれる。具体的には6000cps以
下、好ましくは10〜5000cps、特に好ましくは
100〜3000cps、である。すなわち、本発明に
おいては、スラリー粘度とは、B型粘度計で温度30
℃、6rpmで測定した粘度の値を意味し、この粘度が
6000cps超過であると噴霧ノズルへの液の送りが
難しく、また、ノズルの目詰まり等が生じる。逆に、粘
度を下げるためにスラリー濃度を下げると粒子径の小さ
な造粒品しか得られない。造粒粒子の粒子径は噴霧速度
にもよるが、スラリー濃度が5%未満では10μm以上
の粒子を得るのは難しい。噴霧に際しては、ディスクタ
イプや加圧ノズル式、2流体ノズル式などの一般的な噴
霧乾燥方法が適用できる。いずれの場合も噴霧時の熱風
の入り口温度は150℃〜300℃程度の広い温度範囲
で設定できる。また、排気温度はノズルからの噴霧流量
などによって規定されるが、おおむね100℃前後でよ
い。
【0025】こうして粒子径が20μm以上1,000
μm以下で、10μm以上の粒子径の粒子が20%以下
である球状イオン交換性層状珪酸塩の造粒物を得ること
ができる。
μm以下で、10μm以上の粒子径の粒子が20%以下
である球状イオン交換性層状珪酸塩の造粒物を得ること
ができる。
【0026】この場合、噴霧乾燥処理前の珪酸塩の粒子
径を小さくすることで、造粒粒子の強度を増すことがで
きる。例えば、噴霧乾燥によって40μmの粒子を得る
場合、一次粒径を10μmであるものと2μmであるも
のとでは、造粒粒子の圧壊強度はそれぞれ、0.3MP
a、2.0MPaとなる。粒子を小さくすることは粒子
を粉砕することにより行うのがふつうであるが、この粉
砕はイオン交換を行う前に行ってもよいし、イオン交換
後に行ってもよい。本発明では、粒子径が0.5〜2
0.0μm、好ましくは0.5〜10.0μm、特に好
ましくは0.5〜7.0μm、の微粉を噴霧乾燥処理に
付すことが好ましい。
径を小さくすることで、造粒粒子の強度を増すことがで
きる。例えば、噴霧乾燥によって40μmの粒子を得る
場合、一次粒径を10μmであるものと2μmであるも
のとでは、造粒粒子の圧壊強度はそれぞれ、0.3MP
a、2.0MPaとなる。粒子を小さくすることは粒子
を粉砕することにより行うのがふつうであるが、この粉
砕はイオン交換を行う前に行ってもよいし、イオン交換
後に行ってもよい。本発明では、粒子径が0.5〜2
0.0μm、好ましくは0.5〜10.0μm、特に好
ましくは0.5〜7.0μm、の微粉を噴霧乾燥処理に
付すことが好ましい。
【0027】粉砕方法は特に限定されるものではない
が、高速の気流による粒子同士の衝突あるいは粒子の粉
砕装置壁での衝突により進行する方法によるのが工業的
規模で容易に行われる。具体的な装置としてはジェット
ミル、シングルトラックミル等が挙げられる。
が、高速の気流による粒子同士の衝突あるいは粒子の粉
砕装置壁での衝突により進行する方法によるのが工業的
規模で容易に行われる。具体的な装置としてはジェット
ミル、シングルトラックミル等が挙げられる。
【0028】また、造粒した粒子を噴霧乾燥温度以上で
焼成することによっても強度を増すことができる。この
ときの焼成温度は一般に高い方が望ましいが、イオン交
換性層状珪酸塩が溶融または構造破壊が起こる温度以
下、すなわち1000℃以下、好ましくは200〜80
0℃、特に好ましくは300〜600℃、で行われる。
時間は通常数分〜24時間、好ましくは2〜4時間、で
あり、雰囲気は不活性ガス、特に、チッ素およびアルゴ
ン、であることが好ましい。 〔球状造粒物の用途〕本発明によるイオン交換性層状珪
酸塩の造粒物は、例えば各種のプラスチック、塗料、化
粧品や医薬品用の添加剤としても好適なものであること
は前記したところであるが、特にオレフィン重合用触媒
成分用の担体として、好適に用いることができるもので
ある。とりわけ好ましくはメタロセン系遷移金属化合
物、必要に応じて有機アルミニウム化合物およびその他
の化合物を用いてなるオレフィン重合用触媒において、
有効に使用することができるものである。 <オレフィン重合用触媒成分としての用途>本発明によ
るイオン交換性層状珪酸塩の造粒物のオレフィン重合用
触媒成分としての用途は、例えば下記の(A)および
(B)、ならびに必要に応じて成分(C)からなるオレ
フィン重合用触媒の成分(B)としての用途である。
焼成することによっても強度を増すことができる。この
ときの焼成温度は一般に高い方が望ましいが、イオン交
換性層状珪酸塩が溶融または構造破壊が起こる温度以
下、すなわち1000℃以下、好ましくは200〜80
0℃、特に好ましくは300〜600℃、で行われる。
時間は通常数分〜24時間、好ましくは2〜4時間、で
あり、雰囲気は不活性ガス、特に、チッ素およびアルゴ
ン、であることが好ましい。 〔球状造粒物の用途〕本発明によるイオン交換性層状珪
酸塩の造粒物は、例えば各種のプラスチック、塗料、化
粧品や医薬品用の添加剤としても好適なものであること
は前記したところであるが、特にオレフィン重合用触媒
成分用の担体として、好適に用いることができるもので
ある。とりわけ好ましくはメタロセン系遷移金属化合
物、必要に応じて有機アルミニウム化合物およびその他
の化合物を用いてなるオレフィン重合用触媒において、
有効に使用することができるものである。 <オレフィン重合用触媒成分としての用途>本発明によ
るイオン交換性層状珪酸塩の造粒物のオレフィン重合用
触媒成分としての用途は、例えば下記の(A)および
(B)、ならびに必要に応じて成分(C)からなるオレ
フィン重合用触媒の成分(B)としての用途である。
【0029】 成分(A):メタロセン系遷移金属化合物 成分(B):イオン交換性層状珪酸塩の造粒物 成分(C):有機アルミニウム化合物 <<成分(A)>>このようなオレフィン重合用触媒に用い
られるメタロセン系遷移金属化合物(成分(A))は、
置換されていてもよい1個もしくは2個のシクロペンタ
ジエニル系配位子、すなわち置換基が結合して縮合環を
形成していてもよい1から2個のシクロペンタジエニル
環含有配位子、と長周期表の3、4、5または6族の遷
移金属とからなる有機金属化合物、あるいはそれらのカ
チオン型錯体である。(ここで、原子の周期律は、19
89年にIUPACにより推奨された18族方式に基づ
くものである。) このようなメタロセン系遷移金属化合物として好ましい
ものは、下記一般式[1]もしくは[2]で表される化
合物である。
られるメタロセン系遷移金属化合物(成分(A))は、
置換されていてもよい1個もしくは2個のシクロペンタ
ジエニル系配位子、すなわち置換基が結合して縮合環を
形成していてもよい1から2個のシクロペンタジエニル
環含有配位子、と長周期表の3、4、5または6族の遷
移金属とからなる有機金属化合物、あるいはそれらのカ
チオン型錯体である。(ここで、原子の周期律は、19
89年にIUPACにより推奨された18族方式に基づ
くものである。) このようなメタロセン系遷移金属化合物として好ましい
ものは、下記一般式[1]もしくは[2]で表される化
合物である。
【0030】 (CpR1 aH5-a )p(CpR2 bH5-b )qMR3 r …[1] [(CpR1 aH5-a )p(CpR2 bH5-b )qMR3 rLm]n+ [R4]n- …[2] (ここで、CpR1 aH5-a およびCpR2 bH
5-b は、シクロペンタジエニル(Cp)基の誘導体、す
なわち、シクロペンタジエニルのR1またはR2置換
体、を示す。R1およびR2は、それぞれ、炭素数1か
ら20の置換されていてもよい、炭化水素基、ケイ素含
有炭化水素基、リン含有炭化水素基、窒素含有炭化水素
基、または酸素含有炭化水素基であって、各々同一でも
異なっていてもよい。) R1および(または)R2が置換されたものである場
合、その置換基としては、炭素数1〜30のアルキル
基、アリール基、ハロゲンが好ましい。
5-b は、シクロペンタジエニル(Cp)基の誘導体、す
なわち、シクロペンタジエニルのR1またはR2置換
体、を示す。R1およびR2は、それぞれ、炭素数1か
ら20の置換されていてもよい、炭化水素基、ケイ素含
有炭化水素基、リン含有炭化水素基、窒素含有炭化水素
基、または酸素含有炭化水素基であって、各々同一でも
異なっていてもよい。) R1および(または)R2が置換されたものである場
合、その置換基としては、炭素数1〜30のアルキル
基、アリール基、ハロゲンが好ましい。
【0031】R1およびR2の具体例としては、(イ)
炭化水素基、例えば(i)炭素数1〜20、好ましくは
炭素数1〜10、のアルキル基、例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブ
チル基、t−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、
ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシ
ル基等、(ii)炭素数6〜30、好ましくは炭素数6〜
20、のアリール基、例えばフェニル基、p−トリル
基、o−トリル基、m−トリル基等、(ロ)上記炭化水
素のハロ置換体、例えばフルオロメチル基、フルオロエ
チル基、フルオロフェニル基、クロロメチル基、クロロ
エチル基、クロロフェニル基、ブロモメチル基、ブロモ
エチル基、ブロモフェニル基、ヨードメチル基、ヨード
エチル基、ヨードフェニル基等、(ハ)炭素数1〜3
0、好ましくは炭素数1〜10、のケイ素含有炭化水素
基、例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、
トリフェニルシリル基等、(ニ)炭素数1〜30、好ま
しくは炭素数1〜12、のリン含有炭化水素基、例えば
ジメチルフォスフィノ基、ジエチルフォスフィノ基、ジ
フェニルフォスフィノ基等、(ホ)炭素数1〜30、好
ましくは炭素数1〜10、の窒素含有炭化水素基、例え
ばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピ
ルアミノ基等、(ヘ)炭素数1〜30、好ましくは炭素
数1〜20、の酸素含有炭化水素基、例えば(i)アル
コキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、
t−ブトキシ基等、(ii)アリールオキシ基、例えばフ
ェノキシ、メチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキ
シ基、p−トリルオキシ基、m−トリルオキシ基、o−
トリルオキシ基等が挙げられる。
炭化水素基、例えば(i)炭素数1〜20、好ましくは
炭素数1〜10、のアルキル基、例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブ
チル基、t−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、
ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシ
ル基等、(ii)炭素数6〜30、好ましくは炭素数6〜
20、のアリール基、例えばフェニル基、p−トリル
基、o−トリル基、m−トリル基等、(ロ)上記炭化水
素のハロ置換体、例えばフルオロメチル基、フルオロエ
チル基、フルオロフェニル基、クロロメチル基、クロロ
エチル基、クロロフェニル基、ブロモメチル基、ブロモ
エチル基、ブロモフェニル基、ヨードメチル基、ヨード
エチル基、ヨードフェニル基等、(ハ)炭素数1〜3
0、好ましくは炭素数1〜10、のケイ素含有炭化水素
基、例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、
トリフェニルシリル基等、(ニ)炭素数1〜30、好ま
しくは炭素数1〜12、のリン含有炭化水素基、例えば
ジメチルフォスフィノ基、ジエチルフォスフィノ基、ジ
フェニルフォスフィノ基等、(ホ)炭素数1〜30、好
ましくは炭素数1〜10、の窒素含有炭化水素基、例え
ばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピ
ルアミノ基等、(ヘ)炭素数1〜30、好ましくは炭素
数1〜20、の酸素含有炭化水素基、例えば(i)アル
コキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、
t−ブトキシ基等、(ii)アリールオキシ基、例えばフ
ェノキシ、メチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキ
シ基、p−トリルオキシ基、m−トリルオキシ基、o−
トリルオキシ基等が挙げられる。
【0032】これらのうちで特に好ましいものは、炭素
数1〜4のアルキル基、就中メチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t
−ブチル基等、アルキル(好ましくは炭素数1〜4のも
の)置換のケイ素含有基、就中トリメチルシリル基、炭
素数1〜4のアルコキシ基、就中メトキシ基、アリール
オキシ基、就中フェノキシ基等である。
数1〜4のアルキル基、就中メチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t
−ブチル基等、アルキル(好ましくは炭素数1〜4のも
の)置換のケイ素含有基、就中トリメチルシリル基、炭
素数1〜4のアルコキシ基、就中メトキシ基、アリール
オキシ基、就中フェノキシ基等である。
【0033】また、2つのシクロペンタジエニル(C
p)基は、架橋基を介して互いに結合してもよい。その
ような架橋基の具体例としては、(イ)炭素数1〜3
0、好ましくは1〜20、のアルキレン基、例えばメチ
レン基、エチレン基、(ロ)炭素数1〜20のアルキリ
デン基、例えばエチリデン基、プロピリデン基、イソプ
ロピリデン基、フェニルメチリデン基、ジフェニルメチ
リデン基、(ハ)炭素数1〜20のケイ素含有架橋基、
例えばジメチルシリレン基、ジエチルシリレン基、ジプ
ロピルシリレン基、ジイソプロピルシリレン基、ジフェ
ニルシリレン基、メチルエチルシリレン基、メチルフェ
ニルシリレン基、メチルイソプロピルシリレン基、メチ
ル−t−ブチルシリレン基、(ニ)炭素数1〜20のゲ
ルマニウム含有架橋基、例えばジメチルゲルミレン基、
ジエチルゲルミレン基、ジプロピルゲルミレン基、ジイ
ソプロピルゲルミレン基、ジフェニルゲルミレン基、メ
チルエチルゲルミレン基、メチルフェニルゲルミレン
基、メチルイソプロピルゲルミレン基、メチル−t−ブ
チルゲルミレン基等、(ホ)窒素含有基、例えばアミノ
基等、(ヘ)ホウ素含有基、例えばホスフィニル基等が
あげられる。
p)基は、架橋基を介して互いに結合してもよい。その
ような架橋基の具体例としては、(イ)炭素数1〜3
0、好ましくは1〜20、のアルキレン基、例えばメチ
レン基、エチレン基、(ロ)炭素数1〜20のアルキリ
デン基、例えばエチリデン基、プロピリデン基、イソプ
ロピリデン基、フェニルメチリデン基、ジフェニルメチ
リデン基、(ハ)炭素数1〜20のケイ素含有架橋基、
例えばジメチルシリレン基、ジエチルシリレン基、ジプ
ロピルシリレン基、ジイソプロピルシリレン基、ジフェ
ニルシリレン基、メチルエチルシリレン基、メチルフェ
ニルシリレン基、メチルイソプロピルシリレン基、メチ
ル−t−ブチルシリレン基、(ニ)炭素数1〜20のゲ
ルマニウム含有架橋基、例えばジメチルゲルミレン基、
ジエチルゲルミレン基、ジプロピルゲルミレン基、ジイ
ソプロピルゲルミレン基、ジフェニルゲルミレン基、メ
チルエチルゲルミレン基、メチルフェニルゲルミレン
基、メチルイソプロピルゲルミレン基、メチル−t−ブ
チルゲルミレン基等、(ホ)窒素含有基、例えばアミノ
基等、(ヘ)ホウ素含有基、例えばホスフィニル基等が
あげられる。
【0034】同一のシクロペンタジエニル(Cp)基に
複数のR1が存在する場合、あるいは複数のR2が存在
する場合には、R1どうし、またはR2どうしがそのω
−端で互いに結合して環を形成してもよい。具体的に
は、インデニル基、テトラヒドロインデニル基、フルオ
レニル基、オクタヒドロフルオレニル基等が好ましくあ
げられ、これらは置換されていてもよい。この場合の置
換基としては、例えばメチル基、エチル基およびインデ
ニル基が好ましい。
複数のR1が存在する場合、あるいは複数のR2が存在
する場合には、R1どうし、またはR2どうしがそのω
−端で互いに結合して環を形成してもよい。具体的に
は、インデニル基、テトラヒドロインデニル基、フルオ
レニル基、オクタヒドロフルオレニル基等が好ましくあ
げられ、これらは置換されていてもよい。この場合の置
換基としては、例えばメチル基、エチル基およびインデ
ニル基が好ましい。
【0035】R3は、炭素数1から20の置換されても
よい炭化水素基、水素、ハロゲン、ケイ素含有置換基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アミド基、またはチ
オアルコキシ基である。具体的には、(イ)アルキル
基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペン
チル基、イソペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オ
クチル基、ノニル基、デシル基等、(ロ)アリール基、
例えばフェニル基、p−トリル基、o−トリル基、m−
トリル基等、(ハ)ハロ置換炭化水素基、例えばフルオ
ロメチル基、フルオロエチル基、フルオロフェニル基、
クロロメチル基、クロロエチル基、クロロフェニル基、
ブロモメチル基、ブロモエチル基、ブロモフェニル基、
ヨードメチル基、ヨードエチル基、ヨードフェニル基
等、(ニ)ハロゲン、例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ
素等、(ホ)ケイ素含有基、例えばトリメチルシリル
基、トリエチルシリル基、トリフェニルシリル基等、
(ヘ)アルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブ
トキシ基、t−ブトキシ基等、(ト)アリールオキシ
基、例えばフェノキシ、メチルフェノキシ、ペンタメチ
ルフェノキシ基、p−トリルオキシ基、m−トリルオキ
シ基、o−トリルオキシ基等、(チ)アミド基、例えば
ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジプロピルアミ
ド基、ジイソプロピルアミド基、エチル−t−ブチルア
ミド基、ビス(トリメチルシリル)アミド基等、(リ)
チオアルコキシ基、例えばメチルチオアルコキシ基、エ
チルチオアルコキシ基、プロピルチオアルコキシ基、ブ
チルチオアルコキシ基、t−ブチルチオアルコキシ基、
フェニルチオアルコキシ基等、および(ヌ)水素があげ
られる。これらのうちで好ましいものは、水素、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、フェニル基、塩素等のハロゲン、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ジメチルア
ミド基、メチルチオアルコキシ基があげられ、水素、メ
チル基および塩素が特に好ましい。
よい炭化水素基、水素、ハロゲン、ケイ素含有置換基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アミド基、またはチ
オアルコキシ基である。具体的には、(イ)アルキル
基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペン
チル基、イソペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オ
クチル基、ノニル基、デシル基等、(ロ)アリール基、
例えばフェニル基、p−トリル基、o−トリル基、m−
トリル基等、(ハ)ハロ置換炭化水素基、例えばフルオ
ロメチル基、フルオロエチル基、フルオロフェニル基、
クロロメチル基、クロロエチル基、クロロフェニル基、
ブロモメチル基、ブロモエチル基、ブロモフェニル基、
ヨードメチル基、ヨードエチル基、ヨードフェニル基
等、(ニ)ハロゲン、例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ
素等、(ホ)ケイ素含有基、例えばトリメチルシリル
基、トリエチルシリル基、トリフェニルシリル基等、
(ヘ)アルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブ
トキシ基、t−ブトキシ基等、(ト)アリールオキシ
基、例えばフェノキシ、メチルフェノキシ、ペンタメチ
ルフェノキシ基、p−トリルオキシ基、m−トリルオキ
シ基、o−トリルオキシ基等、(チ)アミド基、例えば
ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジプロピルアミ
ド基、ジイソプロピルアミド基、エチル−t−ブチルア
ミド基、ビス(トリメチルシリル)アミド基等、(リ)
チオアルコキシ基、例えばメチルチオアルコキシ基、エ
チルチオアルコキシ基、プロピルチオアルコキシ基、ブ
チルチオアルコキシ基、t−ブチルチオアルコキシ基、
フェニルチオアルコキシ基等、および(ヌ)水素があげ
られる。これらのうちで好ましいものは、水素、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、フェニル基、塩素等のハロゲン、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ジメチルア
ミド基、メチルチオアルコキシ基があげられ、水素、メ
チル基および塩素が特に好ましい。
【0036】また、このR3は、R1もしくはR2もし
くはCpと結合していてもよく、このような配位子の具
体例として、CpH4(CH2)nO−(1≦n≦
5)、CpMe4(CH2)nO−(1≦n≦5)、C
pH4(Me2Si)(t−Bu)N−、Cp(Me4
(Me2Si)(t−Bu)N−等(Cpはシクロペン
タジエニル基、Meはメチル、Buはブチル基を示す)
があげられる。
くはCpと結合していてもよく、このような配位子の具
体例として、CpH4(CH2)nO−(1≦n≦
5)、CpMe4(CH2)nO−(1≦n≦5)、C
pH4(Me2Si)(t−Bu)N−、Cp(Me4
(Me2Si)(t−Bu)N−等(Cpはシクロペン
タジエニル基、Meはメチル、Buはブチル基を示す)
があげられる。
【0037】さらに、R3が複数存在する場合には、こ
のうちの2つが相互に結合して二座配位子を形成しても
よい。このようなR3の具体例としては、−OCH2O
−、−OCH2CH2O−、−O(o−C6H4)O−
等があげられる。
のうちの2つが相互に結合して二座配位子を形成しても
よい。このようなR3の具体例としては、−OCH2O
−、−OCH2CH2O−、−O(o−C6H4)O−
等があげられる。
【0038】Mは、周期率表第3、4、5または6族の
遷移金属原子であり、具体的には、スカンジウム、イッ
トリウム、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジ
ム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビ
ウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリ
ウム、イッテルビウム、ルテチウム、アクチニウム、ト
リウム、プロトアクチニウム、ウラン、チタニウム、ジ
ルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタ
ル、クロム、モリブデン、タングステンがあげられる。
これらのうち、4族のチタニウム、ジルコニウム、ハフ
ニウムが好ましく用いられる。また、これらは混合して
用いてもよい。
遷移金属原子であり、具体的には、スカンジウム、イッ
トリウム、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジ
ム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビ
ウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリ
ウム、イッテルビウム、ルテチウム、アクチニウム、ト
リウム、プロトアクチニウム、ウラン、チタニウム、ジ
ルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタ
ル、クロム、モリブデン、タングステンがあげられる。
これらのうち、4族のチタニウム、ジルコニウム、ハフ
ニウムが好ましく用いられる。また、これらは混合して
用いてもよい。
【0039】Lは、電気的に中性な配位子を、mはその
個数で0以上の整数を示し、具体的にはジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル
類、アセトニトリルのようなニトリル類、ジメチルホル
ムアミドのようなアミド類、トリメチルホスフィンのよ
うなホスフィン類、トリメチルアミンのようなアミン類
をあげることができる。好ましくはテトラヒドロフラ
ン、トリメチルホスフィン、トリメチルアミンである。
個数で0以上の整数を示し、具体的にはジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル
類、アセトニトリルのようなニトリル類、ジメチルホル
ムアミドのようなアミド類、トリメチルホスフィンのよ
うなホスフィン類、トリメチルアミンのようなアミン類
をあげることができる。好ましくはテトラヒドロフラ
ン、トリメチルホスフィン、トリメチルアミンである。
【0040】[R4]n-は、カチオンを中和する1個ま
たは2個以上のアニオンであり、具体的には、テトラフ
ェニルボレート、テトラ(p−トリル)ボレート、カル
バドデカボレート、ジカルバウンデカボレート、テトラ
キス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、テトラフル
オロボレート、ヘキサフルオロフォスフェート等をあげ
ることができる。好ましくは、テトラフェニルボレー
ト、テトラ(p−トリル)ボレート、テトラフルオロボ
レート、ヘキサフルオロフォスフェートである。
たは2個以上のアニオンであり、具体的には、テトラフ
ェニルボレート、テトラ(p−トリル)ボレート、カル
バドデカボレート、ジカルバウンデカボレート、テトラ
キス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、テトラフル
オロボレート、ヘキサフルオロフォスフェート等をあげ
ることができる。好ましくは、テトラフェニルボレー
ト、テトラ(p−トリル)ボレート、テトラフルオロボ
レート、ヘキサフルオロフォスフェートである。
【0041】aおよびbは、それぞれ0〜5の整数であ
る。また、p、qおよびrは、それぞれMの価数をVと
した時に、メタロセン系遷移金属化合物が式[1]の場
合には、p+q+r=Vを満たす0または正の整数であ
り、メタロセン系遷移金属化合物が式[2]の場合に
は、p+q+r=V−nを満たす0または正の整数であ
る。通常pおよびqは0〜3の整数で、好ましくは0又
は1である。rは0〜3の整数で、好ましくは1又は2
である。nは0≦n≦Vを満たす整数である。
る。また、p、qおよびrは、それぞれMの価数をVと
した時に、メタロセン系遷移金属化合物が式[1]の場
合には、p+q+r=Vを満たす0または正の整数であ
り、メタロセン系遷移金属化合物が式[2]の場合に
は、p+q+r=V−nを満たす0または正の整数であ
る。通常pおよびqは0〜3の整数で、好ましくは0又
は1である。rは0〜3の整数で、好ましくは1又は2
である。nは0≦n≦Vを満たす整数である。
【0042】上述のメタロセン系遷移金属化合物は、具
体的には、ジルコニウムを例にとれば、式[1]に相当
するものとしては、(1) ビス(メチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、(2) ビス(エチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、
(3) ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジメチル、(4) ビス(エチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジメチル、(5) ビス(メチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(6) ビス
(エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化
物、(7) ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウムジクロライド、(8) ビス(トリメチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコウニムジクロライド、(9) ビ
ス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジクロライド、(10) ビス(エチルテトラメチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、(11) ビ
ス(インデニル)ジルコニウムジクロライド、(12) ビ
ス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメ
チル、(13) ビス(トリメチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジメチル、(14) ビス(テトラメチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、(15) ビス
(エチルテトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジメチル、(16) ビス(インデニル)ジルコニウム
ジメチル、(17) ビス(ジメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム二水素化物、(18) ビス(トリメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(19)
ビス(エチルテトラメチルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウム二水素化物、(20) ビス(トリメチルシリル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、(21)
ビス(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム二水素化物、(22) ビス(トリフルオロメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、(23)
ビス(トリフルオロメチルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジメチル、(24) ビス(トリフルオロメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(25)
イソプロピリデン−ビス(インデニル)ジルコニウム
ジクロライド、(26) イソプロピリデン−ビス(インデ
ニル)ジルコニウムジメチル、(27) イソプロピリデン
−ビス(インデニル)ジルコニウム二水素化物、(28)
ペンタメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロライド、(29) ペンタメチル
シクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジメチル、(30) ペンタメチルシクロペンタジエ
ニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化
物、(31) エチルテトラメチルシクロペンタジエニル
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(3
2) イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(フル
オレニル)ジルコニウムジクロライド、(33) イソプロ
ピリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジ
ルコニウムジメチル、(34) ジメチルシリル(シクロペ
ンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジメチ
ル、(35) イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ジルコニウム二水素化物、(36) ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、
(37) ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメ
チル、(38) ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジエチル、(39) ビス(シクロペンタジエニル)ジル
コニウムジプロピル、(40) ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジフェニル、(41) メチルシクロペン
タジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロライド、(42) エチルシクロペンタジエニル(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、(43) メ
チルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジメチル、(44) エチルシクロペンタジエニ
ル(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、(4
5) メチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム二水素化物、(46) エチルシクロペン
タジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水
素化物、(47) ジメチルシクロペンタジエニル(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、(48) ト
リメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、(49) テトラメチルシ
クロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロライド、(50) ビス(ペンタメチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、(51) テト
ラメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、(52) インデニル(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、(53)
ジメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジメチル、(54) トリメチルシクロペ
ンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
メチル、(55) テトラメチルシクロペンタジエニル(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、(56) ビ
ス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジメチル、(57) エチルテトラメチルシクロペンタジエ
ニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、
(58) インデニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジメチル、(59) ジメチルシクロペンタジエニル(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(60)
トリメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム二水素化物、(61) ビス(ペンタメチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(6
2) インデニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
二水素化物、(63) トリメチルシリルシクロペンタジエ
ニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、
(64) トリメチルシリルシクロペンタジエニル(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(65) トリ
フルオロメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、(66) トリフルオ
ロメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジメチル、(67) トリフルオロメチル
シクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム二水素化物、(68) ビス(シクロペンタジエニ
ル)(トリメチルシリル)(メチル)ジルコニウム、(6
9) ビス(シクロペンタジエニル)(トリフェニルシリ
ル)(メチル)ジルコニウム、(70) ビス(シクロペン
タジエニル)[トリス(トリメチルシリル)シリル]
(メチル)ジルコニウム、(71) ビス(シクロペンタジ
エニル)[ビス(メチルシリル)シリル](メチル)ジ
ルコニウム、(72) ビス(シクロペンタジエニル)(ト
リメチルシリル)(トリメチルシリルメチル)ジルコニ
ウム、(73) ビス(シクロペンタジエニル)(トリメチ
ルシリル)(ベンジル)ジルコニウム、(74) メチレン
−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロラ
イド、(75) エチレン−ビス(シクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロライド、(76) イソプロピリデン−
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、(77) ジメチルシリル−ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、(78) メチレン−ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、(79)
エチレン−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジメチル、(80) イソプロピリデン−ビス(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジメチル、(81) ジメチル
シリル−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
メチル、(82) メチレン−ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム二水素化物、(83) エチレン−ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(8
4) イソプロピリデン−ビス(シクロペンタジエニル)
ジルコニウム二水素化物、(85) ジメチルシリル−ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(8
6) ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムビス
(メタンスルホナト)、(87) ビス(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムビス(p−トルエンスルホナト)、
(88) ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムビス
(トリフルオロメタンスルホナト)、(89) ビス(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウムトリフルオロメタンス
ルホナトクロライド、(90) ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムビス(ベンゼンスルホナト)、(91)
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムビス(ペン
タフルオロベンゼンスルホナト)、(92) ビス(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムベンゼンスルホナトクロ
ライド、(93) ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム(エトキシ)トリフルオロメタンスルホナト、(94)
ビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムビス(トリフルオロメタンスルホナト)、(95) ビ
ス(インデニル)ジルコニウムビス(トリフルオロメタ
ンスルホナト)、(96) エチレンビス(インデニル)ジ
ルコニウムビス(トリフルオロメタンスルホナト)、(9
7) イソプロピリデン−ビス(インデニル)ジルコニウ
ムビス(トリフルオロメタンスルホナト)、(98) (第
3級ブチルアミド)ジメチル(テトラメチルシクロペン
タジエニル)シランジベンジルジルコニウム(第3級ブ
チルアミド)ジメチル(2,3,4,5−テトラメチル
シクロペンタジエニル)シランジベンジルジルコニウ
ム、(99) インデニルジルコニウムトリス(ジメチルア
ミド)、(100) インデニルジルコニウムトリス(ジエチ
ルアミド)、(101) インデニルジルコニウムトリス(ジ
−n−プロピルアミド)、(102) シクロペンタジエニル
ジルコニウムトリス(ジメチルアミド)、(103) メチル
シクロペンタジエニルジルコニウムトリス(ジメチルア
ミド)、(104) (第3級ブチルアミド)(テトラメチル
シクロペンタジエニル)−1,2−エタンジイルジルコ
ニウムジクロライド、(105) (メチルアミド)−(テト
ラメチルシクロペンタジエニル)−1,2−エタンジイ
ルジルコニウムジクロライド、(106) (エチルアミド)
(テトラメチルシクロペンタジエニル)メチレンジルコ
ニウムジクロライド、(107) (第3級ブチルアミド)ジ
メチル−(テトラメチルシクロペンタジエニル)シラン
ジルコニウムジクロライド、(108) (ベンジルアミド)
ジメチル(テトラメチルシクロペンタジエニル)シラン
ジルコニウムジクロライド、(109) (フェニルホスフィ
ド)ジメチル(テトラメチルシクロペンタジエニル)シ
ランジルコニウムジベンジル、(110) (フェニルアミ
ド)ジメチル(テトラメチルシクロペンタジエニル)シ
ランジルコニウムジクロライド、(111) (2−メトキシ
フェニルアミド)ジメチル(テトラメチルシクロペンタ
ジエニル)シランジルコニウムジクロライド、(112)
(4−フルオロフェニルアミド)ジメチル(テトラメチ
ルシロペンタジエニル)シランジルコニウムジクロライ
ド、(113) ((2,6−ジ(1−メチルエチル)フェニ
ル)アミド)ジメチル(テトラメチルシクロペンタジエ
ニル)アミドジルコニウムジクロライド、等がある。
体的には、ジルコニウムを例にとれば、式[1]に相当
するものとしては、(1) ビス(メチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、(2) ビス(エチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、
(3) ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジメチル、(4) ビス(エチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジメチル、(5) ビス(メチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(6) ビス
(エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化
物、(7) ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウムジクロライド、(8) ビス(トリメチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコウニムジクロライド、(9) ビ
ス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジクロライド、(10) ビス(エチルテトラメチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、(11) ビ
ス(インデニル)ジルコニウムジクロライド、(12) ビ
ス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメ
チル、(13) ビス(トリメチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジメチル、(14) ビス(テトラメチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、(15) ビス
(エチルテトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジメチル、(16) ビス(インデニル)ジルコニウム
ジメチル、(17) ビス(ジメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム二水素化物、(18) ビス(トリメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(19)
ビス(エチルテトラメチルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウム二水素化物、(20) ビス(トリメチルシリル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、(21)
ビス(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム二水素化物、(22) ビス(トリフルオロメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、(23)
ビス(トリフルオロメチルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジメチル、(24) ビス(トリフルオロメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(25)
イソプロピリデン−ビス(インデニル)ジルコニウム
ジクロライド、(26) イソプロピリデン−ビス(インデ
ニル)ジルコニウムジメチル、(27) イソプロピリデン
−ビス(インデニル)ジルコニウム二水素化物、(28)
ペンタメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロライド、(29) ペンタメチル
シクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジメチル、(30) ペンタメチルシクロペンタジエ
ニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化
物、(31) エチルテトラメチルシクロペンタジエニル
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(3
2) イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(フル
オレニル)ジルコニウムジクロライド、(33) イソプロ
ピリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジ
ルコニウムジメチル、(34) ジメチルシリル(シクロペ
ンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジメチ
ル、(35) イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ジルコニウム二水素化物、(36) ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、
(37) ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメ
チル、(38) ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジエチル、(39) ビス(シクロペンタジエニル)ジル
コニウムジプロピル、(40) ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジフェニル、(41) メチルシクロペン
タジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロライド、(42) エチルシクロペンタジエニル(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、(43) メ
チルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジメチル、(44) エチルシクロペンタジエニ
ル(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、(4
5) メチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム二水素化物、(46) エチルシクロペン
タジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水
素化物、(47) ジメチルシクロペンタジエニル(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、(48) ト
リメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、(49) テトラメチルシ
クロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロライド、(50) ビス(ペンタメチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、(51) テト
ラメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、(52) インデニル(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、(53)
ジメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジメチル、(54) トリメチルシクロペ
ンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
メチル、(55) テトラメチルシクロペンタジエニル(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、(56) ビ
ス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジメチル、(57) エチルテトラメチルシクロペンタジエ
ニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、
(58) インデニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジメチル、(59) ジメチルシクロペンタジエニル(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(60)
トリメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム二水素化物、(61) ビス(ペンタメチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(6
2) インデニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
二水素化物、(63) トリメチルシリルシクロペンタジエ
ニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、
(64) トリメチルシリルシクロペンタジエニル(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(65) トリ
フルオロメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、(66) トリフルオ
ロメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジメチル、(67) トリフルオロメチル
シクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム二水素化物、(68) ビス(シクロペンタジエニ
ル)(トリメチルシリル)(メチル)ジルコニウム、(6
9) ビス(シクロペンタジエニル)(トリフェニルシリ
ル)(メチル)ジルコニウム、(70) ビス(シクロペン
タジエニル)[トリス(トリメチルシリル)シリル]
(メチル)ジルコニウム、(71) ビス(シクロペンタジ
エニル)[ビス(メチルシリル)シリル](メチル)ジ
ルコニウム、(72) ビス(シクロペンタジエニル)(ト
リメチルシリル)(トリメチルシリルメチル)ジルコニ
ウム、(73) ビス(シクロペンタジエニル)(トリメチ
ルシリル)(ベンジル)ジルコニウム、(74) メチレン
−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロラ
イド、(75) エチレン−ビス(シクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロライド、(76) イソプロピリデン−
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、(77) ジメチルシリル−ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、(78) メチレン−ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、(79)
エチレン−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジメチル、(80) イソプロピリデン−ビス(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジメチル、(81) ジメチル
シリル−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
メチル、(82) メチレン−ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム二水素化物、(83) エチレン−ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(8
4) イソプロピリデン−ビス(シクロペンタジエニル)
ジルコニウム二水素化物、(85) ジメチルシリル−ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、(8
6) ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムビス
(メタンスルホナト)、(87) ビス(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムビス(p−トルエンスルホナト)、
(88) ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムビス
(トリフルオロメタンスルホナト)、(89) ビス(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウムトリフルオロメタンス
ルホナトクロライド、(90) ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムビス(ベンゼンスルホナト)、(91)
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムビス(ペン
タフルオロベンゼンスルホナト)、(92) ビス(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムベンゼンスルホナトクロ
ライド、(93) ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム(エトキシ)トリフルオロメタンスルホナト、(94)
ビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムビス(トリフルオロメタンスルホナト)、(95) ビ
ス(インデニル)ジルコニウムビス(トリフルオロメタ
ンスルホナト)、(96) エチレンビス(インデニル)ジ
ルコニウムビス(トリフルオロメタンスルホナト)、(9
7) イソプロピリデン−ビス(インデニル)ジルコニウ
ムビス(トリフルオロメタンスルホナト)、(98) (第
3級ブチルアミド)ジメチル(テトラメチルシクロペン
タジエニル)シランジベンジルジルコニウム(第3級ブ
チルアミド)ジメチル(2,3,4,5−テトラメチル
シクロペンタジエニル)シランジベンジルジルコニウ
ム、(99) インデニルジルコニウムトリス(ジメチルア
ミド)、(100) インデニルジルコニウムトリス(ジエチ
ルアミド)、(101) インデニルジルコニウムトリス(ジ
−n−プロピルアミド)、(102) シクロペンタジエニル
ジルコニウムトリス(ジメチルアミド)、(103) メチル
シクロペンタジエニルジルコニウムトリス(ジメチルア
ミド)、(104) (第3級ブチルアミド)(テトラメチル
シクロペンタジエニル)−1,2−エタンジイルジルコ
ニウムジクロライド、(105) (メチルアミド)−(テト
ラメチルシクロペンタジエニル)−1,2−エタンジイ
ルジルコニウムジクロライド、(106) (エチルアミド)
(テトラメチルシクロペンタジエニル)メチレンジルコ
ニウムジクロライド、(107) (第3級ブチルアミド)ジ
メチル−(テトラメチルシクロペンタジエニル)シラン
ジルコニウムジクロライド、(108) (ベンジルアミド)
ジメチル(テトラメチルシクロペンタジエニル)シラン
ジルコニウムジクロライド、(109) (フェニルホスフィ
ド)ジメチル(テトラメチルシクロペンタジエニル)シ
ランジルコニウムジベンジル、(110) (フェニルアミ
ド)ジメチル(テトラメチルシクロペンタジエニル)シ
ランジルコニウムジクロライド、(111) (2−メトキシ
フェニルアミド)ジメチル(テトラメチルシクロペンタ
ジエニル)シランジルコニウムジクロライド、(112)
(4−フルオロフェニルアミド)ジメチル(テトラメチ
ルシロペンタジエニル)シランジルコニウムジクロライ
ド、(113) ((2,6−ジ(1−メチルエチル)フェニ
ル)アミド)ジメチル(テトラメチルシクロペンタジエ
ニル)アミドジルコニウムジクロライド、等がある。
【0043】また、一般式[2]に相当するものとして
は、(1) ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)テト
ラヒドロフラン錯体、(2) ビス(エチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(3) ビス(メ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチル)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(4) ビス(エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロ
フラン錯体、(5) ビス(メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(6) ビス(エチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラ
フェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(7) ビ
ス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(ク
ロライド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフ
ラン錯体、(8) ビス(トリメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレ
ート)テトラヒドロフラン錯体、(9) ビス(テトラメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライ
ド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、(10) ビス(エチルテトラメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、(11) ビス(インデ
ニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、(12) ビス(ジメチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチル)(テ
トラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(13)
ビス(トリメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロ
フラン錯体、(14) ビス(テトラメチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレ
ート)テトラヒドロフラン錯体、(15) ビス(エチルテ
トラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチ
ル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、(16) ビス(インデニル)ジルコニウム(メチル)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(17) ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒ
ドロフラン錯体、(18) ビス(トリメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニル
ボレート)テトラヒドロフラン錯体、(19) ビス(エチ
ルテトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロ
フラン錯体、(20) ビス(トリメチルシリルシクロペン
タジエニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニル
ボレート)テトラヒドロフラン錯体、(21) ビス(トリ
メチルシリルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒ
ドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラ
ン錯体、(22) ビス(トリフルオロメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、(23) ビス(トリフ
ルオロメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒ
ドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラ
ン錯体、(24) イソプロピリデン−ビス(インデニル)
ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(25) イソプロピリデン
−ビス(インデニル)ジルコニウム(メチル)(テトラ
フェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(26) イ
ソプロピリデン−ビス(インデニル)ジルコニウム(ヒ
ドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラ
ン錯体、(27) ペンタメチルシクロペンタジエニル(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テ
トラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(28)
エチルテトラメチルシクロペンタジエニル(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフ
ェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(29) ペン
タメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(30) エチルテトラメチ
ルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジル
コニウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラ
ヒドロフラン錯体、(31) ペンタメチルシクロペンタジ
エニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリ
ド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、(32) エチルテトラメチルシクロペンタジエニル
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(33) イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(フ
ルオレニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェ
ニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(34) イソプ
ロピリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)
ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テ
トラヒドロフラン錯体、(35) イソプロピリデン(シク
ロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウム(ヒ
ドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラ
ン錯体、(36) ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)テトラ
ヒドロフラン錯体、(37) ビス(シクロペンタジエニ
ル)(メチル)ジルコニウム(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(38) ビス(シクロペン
タジエニル)(エチル)ジルコニウム(テトラフェニル
ボレート)テトラヒドロフラン錯体、(39) ビス(シク
ロペンタジエニル)(プロピル)ジルコニウム(テトラ
フェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(40) ビ
ス(シクロペンタジエニル)(フェニル)ジルコニウム
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(41) メチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、(42) エチルシクロ
ペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(クロライド)(テトラフェニルボレート)テトラヒド
ロフラン錯体、(43) ビス(エチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレ
ート)テトラヒドロフラン錯体、(44) メチルシクロペ
ンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフ
ラン錯体、(45) エチルシクロペンタジエニル(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェ
ニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(46) メチル
シクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラ
ヒドロフラン錯体、(47) エチルシクロペンタジエニル
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(48) ジメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジ
エニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニル
ボレート)テトラヒドロフラン錯体、(49) トリメチル
シクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)テト
ラヒドロフラン錯体、(50) テトラメチルシクロペンタ
ジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(クロ
ライド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラ
ン錯体、(51) ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレ
ート)テトラヒドロフラン錯体、(52) インデニル(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テ
トラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(53)
ジメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(54) トリメチルシクロ
ペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフ
ラン錯体、(55) テトラメチルシクロペンタジエニル
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチル)(テ
トラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(56)
ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒド
ロフラン錯体、(57) シクロペンタジエニル(インデニ
ル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(58) ジメチルシクロペ
ンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロ
フラン錯体、(59) トリメチルシクロペンタジエニル
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(60) ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テト
ラヒドロフラン錯体、(61) インデニル(シクロペンタ
ジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニル
ボレート)テトラヒドロフラン錯体、(62) トリメチル
シリルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)
ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テ
トラヒドロフラン錯体、(63) トリメチルシリルシクロ
ペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロ
フラン錯体、(64) トリフルオロメチルシクロペンタジ
エニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリ
ド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、(65) ビス(シクロペンタジエニル)(トリメチル
シリル)ジルコニウム(テトラフェニルボレート)テト
ラヒドロフラン錯体、(66) ビス(シクロペンタジエニ
ル)(トリフェニルシリル)ジルコニウム(テトラフェ
ニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(67) ビス
(シクロペンタジエニル)[トリス(トリメチルシリ
ル)シリル]ジルコニウム(テトラフェニルボレート)
テトラヒドロフラン錯体、(68) ビス(シクロペンタジ
エニル)(トリメチルシリルメチル)ジルコニウム(テ
トラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(69)
ビス(シクロペンタジエニル)(ベンジル)ジルコニ
ウム(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、(70) メチレン−ビス(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)
テトラヒドロフラン錯体、(71) エチレン−ビス(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テト
ラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(72)
イソプロピリデン−ビス(シクロペンタジエニル)ジル
コニウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)テ
トラヒドロフラン錯体、(73) ジメチルシリル−ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(74) メチレン−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒ
ドロフラン錯体、(75) エチレン−ビス(シクロペンタ
ジエニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、(76) イソプロピリ
デン−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(メ
チル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン
錯体、(77) ジメチルシリル−ビス(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(78) メチレン−ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(79) エチレン−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラ
ヒドロフラン錯体、(80) イソプロピリデン−ビス(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テト
ラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(81)
ジメチルシリル−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラ
ヒドロフラン錯体、(82) ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(メタンスルホナト)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(83) ビス(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウム(p−トルエンスル
ホナト)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラ
ン錯体、(84) ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム(トリフルオロメタンスルホナト)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(85) ビス(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウム(ベンゼンスルホナ
ト)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、(86) ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(ペンタフルオロベンゼンスルホナト)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(87) ビス(テ
トラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(トリ
フルオロメタンスルホナト)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(88) ビス(インデニ
ル)ジルコニウム(トリフルオロメタンスルホナト)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(89) エチレンビス(インデニル)ジルコニウム(トリ
フルオロメタンスルホナト)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(90) イソプロピリデン
−ビス(インデニル)ジルコニウム(トリフルオロメタ
ンスルホナト)(テトラフェニルボレート)テトラヒド
ロフラン錯体、等がある。
は、(1) ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)テト
ラヒドロフラン錯体、(2) ビス(エチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(3) ビス(メ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチル)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(4) ビス(エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロ
フラン錯体、(5) ビス(メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(6) ビス(エチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラ
フェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(7) ビ
ス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(ク
ロライド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフ
ラン錯体、(8) ビス(トリメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレ
ート)テトラヒドロフラン錯体、(9) ビス(テトラメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライ
ド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、(10) ビス(エチルテトラメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、(11) ビス(インデ
ニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、(12) ビス(ジメチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチル)(テ
トラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(13)
ビス(トリメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロ
フラン錯体、(14) ビス(テトラメチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレ
ート)テトラヒドロフラン錯体、(15) ビス(エチルテ
トラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチ
ル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、(16) ビス(インデニル)ジルコニウム(メチル)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(17) ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒ
ドロフラン錯体、(18) ビス(トリメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニル
ボレート)テトラヒドロフラン錯体、(19) ビス(エチ
ルテトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロ
フラン錯体、(20) ビス(トリメチルシリルシクロペン
タジエニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニル
ボレート)テトラヒドロフラン錯体、(21) ビス(トリ
メチルシリルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒ
ドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラ
ン錯体、(22) ビス(トリフルオロメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、(23) ビス(トリフ
ルオロメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒ
ドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラ
ン錯体、(24) イソプロピリデン−ビス(インデニル)
ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(25) イソプロピリデン
−ビス(インデニル)ジルコニウム(メチル)(テトラ
フェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(26) イ
ソプロピリデン−ビス(インデニル)ジルコニウム(ヒ
ドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラ
ン錯体、(27) ペンタメチルシクロペンタジエニル(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テ
トラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(28)
エチルテトラメチルシクロペンタジエニル(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフ
ェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(29) ペン
タメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(30) エチルテトラメチ
ルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジル
コニウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラ
ヒドロフラン錯体、(31) ペンタメチルシクロペンタジ
エニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリ
ド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、(32) エチルテトラメチルシクロペンタジエニル
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(33) イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(フ
ルオレニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェ
ニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(34) イソプ
ロピリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)
ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テ
トラヒドロフラン錯体、(35) イソプロピリデン(シク
ロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウム(ヒ
ドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラ
ン錯体、(36) ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)テトラ
ヒドロフラン錯体、(37) ビス(シクロペンタジエニ
ル)(メチル)ジルコニウム(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(38) ビス(シクロペン
タジエニル)(エチル)ジルコニウム(テトラフェニル
ボレート)テトラヒドロフラン錯体、(39) ビス(シク
ロペンタジエニル)(プロピル)ジルコニウム(テトラ
フェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(40) ビ
ス(シクロペンタジエニル)(フェニル)ジルコニウム
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(41) メチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、(42) エチルシクロ
ペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(クロライド)(テトラフェニルボレート)テトラヒド
ロフラン錯体、(43) ビス(エチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレ
ート)テトラヒドロフラン錯体、(44) メチルシクロペ
ンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフ
ラン錯体、(45) エチルシクロペンタジエニル(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェ
ニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(46) メチル
シクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラ
ヒドロフラン錯体、(47) エチルシクロペンタジエニル
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(48) ジメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジ
エニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニル
ボレート)テトラヒドロフラン錯体、(49) トリメチル
シクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)テト
ラヒドロフラン錯体、(50) テトラメチルシクロペンタ
ジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(クロ
ライド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラ
ン錯体、(51) ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレ
ート)テトラヒドロフラン錯体、(52) インデニル(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テ
トラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(53)
ジメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(54) トリメチルシクロ
ペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフ
ラン錯体、(55) テトラメチルシクロペンタジエニル
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチル)(テ
トラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(56)
ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒド
ロフラン錯体、(57) シクロペンタジエニル(インデニ
ル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(58) ジメチルシクロペ
ンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロ
フラン錯体、(59) トリメチルシクロペンタジエニル
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(60) ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テト
ラヒドロフラン錯体、(61) インデニル(シクロペンタ
ジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニル
ボレート)テトラヒドロフラン錯体、(62) トリメチル
シリルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)
ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テ
トラヒドロフラン錯体、(63) トリメチルシリルシクロ
ペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロ
フラン錯体、(64) トリフルオロメチルシクロペンタジ
エニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリ
ド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、(65) ビス(シクロペンタジエニル)(トリメチル
シリル)ジルコニウム(テトラフェニルボレート)テト
ラヒドロフラン錯体、(66) ビス(シクロペンタジエニ
ル)(トリフェニルシリル)ジルコニウム(テトラフェ
ニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(67) ビス
(シクロペンタジエニル)[トリス(トリメチルシリ
ル)シリル]ジルコニウム(テトラフェニルボレート)
テトラヒドロフラン錯体、(68) ビス(シクロペンタジ
エニル)(トリメチルシリルメチル)ジルコニウム(テ
トラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(69)
ビス(シクロペンタジエニル)(ベンジル)ジルコニ
ウム(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、(70) メチレン−ビス(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)
テトラヒドロフラン錯体、(71) エチレン−ビス(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テト
ラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(72)
イソプロピリデン−ビス(シクロペンタジエニル)ジル
コニウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)テ
トラヒドロフラン錯体、(73) ジメチルシリル−ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(74) メチレン−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒ
ドロフラン錯体、(75) エチレン−ビス(シクロペンタ
ジエニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、(76) イソプロピリ
デン−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(メ
チル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン
錯体、(77) ジメチルシリル−ビス(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(78) メチレン−ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(79) エチレン−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラ
ヒドロフラン錯体、(80) イソプロピリデン−ビス(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テト
ラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(81)
ジメチルシリル−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラ
ヒドロフラン錯体、(82) ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(メタンスルホナト)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(83) ビス(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウム(p−トルエンスル
ホナト)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラ
ン錯体、(84) ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム(トリフルオロメタンスルホナト)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(85) ビス(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウム(ベンゼンスルホナ
ト)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、(86) ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(ペンタフルオロベンゼンスルホナト)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(87) ビス(テ
トラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(トリ
フルオロメタンスルホナト)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(88) ビス(インデニ
ル)ジルコニウム(トリフルオロメタンスルホナト)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(89) エチレンビス(インデニル)ジルコニウム(トリ
フルオロメタンスルホナト)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(90) イソプロピリデン
−ビス(インデニル)ジルコニウム(トリフルオロメタ
ンスルホナト)(テトラフェニルボレート)テトラヒド
ロフラン錯体、等がある。
【0044】また、チタニウム化合物、ハフニウム化合
物等の他の第3、4、5、6族金属化合物についても、
上記と同様の化合物が挙げられる。更にこれらの化合物
の混合物を用いてもよい。 <<成分(B)>>この成分(B)は、イオン交換性層状珪
酸塩の球状造粒物に関して前記したところであるので、
詳細はそれを参照されたい。
物等の他の第3、4、5、6族金属化合物についても、
上記と同様の化合物が挙げられる。更にこれらの化合物
の混合物を用いてもよい。 <<成分(B)>>この成分(B)は、イオン交換性層状珪
酸塩の球状造粒物に関して前記したところであるので、
詳細はそれを参照されたい。
【0045】成分(B)は、実質的に乾燥したものであ
ることが好ましい。したがって、イオン交換性層状珪酸
塩の造粒物が吸着水および層間水を含むものである場合
には、その水分の全部または一部を除去して所定の水分
量以下にしたものが好ましい。水分量の除去方法は、合
目的的な任意のものを採用することができる。例えば、
加熱脱水、気体流通下の加熱脱水、減圧下の加熱脱水お
よび有機溶媒との共沸脱水等の方法が用いられかつ好ま
しい。加熱の際の温度は、水分が残存しないように、1
00℃以上、好ましくは150℃以上であるが、構造破
壊を生じるような高温条件は好ましくない。また、空気
流通下での加熱等の架橋構造を形成させるような加熱脱
水方法は、触媒の重合活性が低下することがあるので好
ましくない。加熱時間は通常0.5時間以上、好ましく
は1時間以上である。その際、除去した後の成分(B)
の水分含有率が、温度200℃、圧力1mmHgの条件
下で2時間脱水した場合の水分含有量を0重量%とした
とき、3重量%以下、好ましくは1重量%以下、下限は
0重量%以上であることが必要である。本願において
は、脱水されて水分含有率が3重量%以下に調整された
成分(B)は、成分(A)及び必要に応じて用いられる
成分(C)と接触する際に、同様の水分含有率を保つよ
うに取り扱われることが必要である。 <<成分(C)>>また、本発明において必要に応じて、成
分(C)として用いられる有機アルミニウム化合物の例
は、 AlR6 jX3-j (式中、R6はC1-20の炭化水素基、Xは水素、ハロゲ
ン、アルコキシ基であり、jは0<j≦3の数である)
で示されるものである。好ましい有機アルミニウム化合
物は、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウ
ム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミ
ニウム等のトリアルキルアルミニウムまたはジエチルア
ルミニウムモノクロライド、ジエチルアルミニウムメト
キシド等のハロゲンもしくはアルコキシ含有アルキルア
ルミニウムである。またこの他、メチルアルミノキサン
等のアルミノキサン等も使用できる。これらのうち特に
トリアルキルアルミニウムが好ましい。これらは、単独
であるいは任意の2種以上を混合して用いることができ
る。 <<触媒の形成>>上記の成分(A)、成分(B)および必
要に応じて成分(C)を接触させることによりオレフィ
ン重合触媒とすることができる。その接触方法は特に限
定されないが、以下のような接触順序で接触させること
ができる。また、この接触は、触媒調製時だけでなく、
オレフィンによる予備重合時(詳細後記)またはオレフ
ィンの重合時に行われることがある。
ることが好ましい。したがって、イオン交換性層状珪酸
塩の造粒物が吸着水および層間水を含むものである場合
には、その水分の全部または一部を除去して所定の水分
量以下にしたものが好ましい。水分量の除去方法は、合
目的的な任意のものを採用することができる。例えば、
加熱脱水、気体流通下の加熱脱水、減圧下の加熱脱水お
よび有機溶媒との共沸脱水等の方法が用いられかつ好ま
しい。加熱の際の温度は、水分が残存しないように、1
00℃以上、好ましくは150℃以上であるが、構造破
壊を生じるような高温条件は好ましくない。また、空気
流通下での加熱等の架橋構造を形成させるような加熱脱
水方法は、触媒の重合活性が低下することがあるので好
ましくない。加熱時間は通常0.5時間以上、好ましく
は1時間以上である。その際、除去した後の成分(B)
の水分含有率が、温度200℃、圧力1mmHgの条件
下で2時間脱水した場合の水分含有量を0重量%とした
とき、3重量%以下、好ましくは1重量%以下、下限は
0重量%以上であることが必要である。本願において
は、脱水されて水分含有率が3重量%以下に調整された
成分(B)は、成分(A)及び必要に応じて用いられる
成分(C)と接触する際に、同様の水分含有率を保つよ
うに取り扱われることが必要である。 <<成分(C)>>また、本発明において必要に応じて、成
分(C)として用いられる有機アルミニウム化合物の例
は、 AlR6 jX3-j (式中、R6はC1-20の炭化水素基、Xは水素、ハロゲ
ン、アルコキシ基であり、jは0<j≦3の数である)
で示されるものである。好ましい有機アルミニウム化合
物は、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウ
ム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミ
ニウム等のトリアルキルアルミニウムまたはジエチルア
ルミニウムモノクロライド、ジエチルアルミニウムメト
キシド等のハロゲンもしくはアルコキシ含有アルキルア
ルミニウムである。またこの他、メチルアルミノキサン
等のアルミノキサン等も使用できる。これらのうち特に
トリアルキルアルミニウムが好ましい。これらは、単独
であるいは任意の2種以上を混合して用いることができ
る。 <<触媒の形成>>上記の成分(A)、成分(B)および必
要に応じて成分(C)を接触させることによりオレフィ
ン重合触媒とすることができる。その接触方法は特に限
定されないが、以下のような接触順序で接触させること
ができる。また、この接触は、触媒調製時だけでなく、
オレフィンによる予備重合時(詳細後記)またはオレフ
ィンの重合時に行われることがある。
【0046】 成分(A)と成分(B)を接触させ
る。 成分(A)と成分(B)を接触させた後に成分
(C)を添加する。 成分(A)と成分(C)を接触させた後に成分
(B)を添加する。 成分(B)と成分(C)を接触させた後に成分
(A)を添加する。 三成分を同時に接触させる。
る。 成分(A)と成分(B)を接触させた後に成分
(C)を添加する。 成分(A)と成分(C)を接触させた後に成分
(B)を添加する。 成分(B)と成分(C)を接触させた後に成分
(A)を添加する。 三成分を同時に接触させる。
【0047】このようにして得られた本発明のオレフィ
ン重合用触媒も平均粒径20μm以上で、且つ、前記粒
子強度が0.5MPa以上のものである。なお、触媒各
成分の接触に際し、または接触の後にポリエチレン、ポ
リプロピレン等の重合体、シリカ、アルミナ等の無機酸
化物の固体を共存させ、あるいは接触させてもよい。
ン重合用触媒も平均粒径20μm以上で、且つ、前記粒
子強度が0.5MPa以上のものである。なお、触媒各
成分の接触に際し、または接触の後にポリエチレン、ポ
リプロピレン等の重合体、シリカ、アルミナ等の無機酸
化物の固体を共存させ、あるいは接触させてもよい。
【0048】各成分の接触は、窒素等の不活性ガス中
で、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレ
ン等の不活性炭化水素溶媒中で行うことができる。接触
温度は一般に−20℃〜溶媒の沸点の間であり、特に室
温から溶媒の沸点の間である。
で、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレ
ン等の不活性炭化水素溶媒中で行うことができる。接触
温度は一般に−20℃〜溶媒の沸点の間であり、特に室
温から溶媒の沸点の間である。
【0049】触媒各成分の使用量は、成分(B)1gあ
たり成分(A)が0.0001〜10mmol、好まし
くは0.001〜5mmolであり、成分(C)が0.
01〜10000mmol、好ましくは0.1〜100
mmolである。また、成分(A)中の遷移金属と成分
(C)中のアルミニウムの原子比が1:0.01〜10
00000、好ましくは0.1〜100000である。
たり成分(A)が0.0001〜10mmol、好まし
くは0.001〜5mmolであり、成分(C)が0.
01〜10000mmol、好ましくは0.1〜100
mmolである。また、成分(A)中の遷移金属と成分
(C)中のアルミニウムの原子比が1:0.01〜10
00000、好ましくは0.1〜100000である。
【0050】このようにして得られた触媒は、接触後は
洗浄せずに用いることもできるし、また洗浄した後に用
いることもできる。
洗浄せずに用いることもできるし、また洗浄した後に用
いることもできる。
【0051】また、必要に応じて、有機アルミニウム化
合物、例えば成分(C)として前記したもの、を上記の
触媒に新たに組合わせることもできる。この際に用いら
れる有機アルミニウム化合物の量は、成分(A)中の遷
移金属に対するこの有機アルミニウム化合物中のアルミ
ニウムの原子比で1:0〜10000になるように選ば
れるのが普通である。
合物、例えば成分(C)として前記したもの、を上記の
触媒に新たに組合わせることもできる。この際に用いら
れる有機アルミニウム化合物の量は、成分(A)中の遷
移金属に対するこの有機アルミニウム化合物中のアルミ
ニウムの原子比で1:0〜10000になるように選ば
れるのが普通である。
【0052】このようにして得られたオレフィン重合用
触媒は、重合(本重合)に先だってあらかじめエチレ
ン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、1−オク
テン、4−メチル−1−ペンテン、3−メチル−1−ブ
テン、ビニルシクロアルカン、スチレン等のオレフィン
に接触させてこれを少量重合させることからなる予備的
重合処理に付しておくことができる。そして、この予備
重合処理済触媒は、必要に応じてさらに洗浄処理に付す
ことができる。
触媒は、重合(本重合)に先だってあらかじめエチレ
ン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、1−オク
テン、4−メチル−1−ペンテン、3−メチル−1−ブ
テン、ビニルシクロアルカン、スチレン等のオレフィン
に接触させてこれを少量重合させることからなる予備的
重合処理に付しておくことができる。そして、この予備
重合処理済触媒は、必要に応じてさらに洗浄処理に付す
ことができる。
【0053】この予備的な重合は、不活性溶媒中で本重
合に比較して穏和な条件で行うことが好ましく、固体触
媒1g当たり、0.01〜1000g、好ましくは0.
1〜100g、の重合体が生成するように行うことが望
ましい。
合に比較して穏和な条件で行うことが好ましく、固体触
媒1g当たり、0.01〜1000g、好ましくは0.
1〜100g、の重合体が生成するように行うことが望
ましい。
【0054】このような予備重合処理済触媒および洗浄
処理済触媒は本発明のオレフィン重合触媒の好ましい一
実施態様である。上記のようなオレフィン重合用触媒
は、エチレンおよび炭素数3〜10のα−オレフィン、
ならびにこれらと共重合可能な他の重合体の製造に用い
ることができる。
処理済触媒は本発明のオレフィン重合触媒の好ましい一
実施態様である。上記のようなオレフィン重合用触媒
は、エチレンおよび炭素数3〜10のα−オレフィン、
ならびにこれらと共重合可能な他の重合体の製造に用い
ることができる。
【0055】重合(本重合)に用いられる好適なオレフ
ィンとしては、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1
−ヘキセン、3−メチル−1−ブテン、3−メチル−1
−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、ビニルシクロ
アルカン、スチレンあるいはこれらの誘導体等がある。
また、重合は単独重合のほか通常公知のランダム共重合
やブロック共重合にも好適に適用できる。
ィンとしては、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1
−ヘキセン、3−メチル−1−ブテン、3−メチル−1
−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、ビニルシクロ
アルカン、スチレンあるいはこれらの誘導体等がある。
また、重合は単独重合のほか通常公知のランダム共重合
やブロック共重合にも好適に適用できる。
【0056】重合反応は、ブタン、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、トルエン、シクロヘキサン等の不活性炭
化水素や液化α−オレフィン等の溶媒存在下、あるいは
不存在下に行われる。温度は、−50℃〜250℃であ
り、圧力は特に制限されないが、好ましくは、常圧〜約
2000kgf/cm2 の範囲である。
ン、ヘプタン、トルエン、シクロヘキサン等の不活性炭
化水素や液化α−オレフィン等の溶媒存在下、あるいは
不存在下に行われる。温度は、−50℃〜250℃であ
り、圧力は特に制限されないが、好ましくは、常圧〜約
2000kgf/cm2 の範囲である。
【0057】また、重合系内に分子量調節剤として水素
を存在させることもできる。
を存在させることもできる。
【0058】
【実施例】下記の実施例は、本発明をさらに具体的に説
明するためのものである。本発明は、その要旨を逸脱し
ない限りこれら実施例によって制約を受けるものではな
い。 〔比較例1〕市販のモンモリロナイト(クニミネ工業製
「クニピアーF」)8kgを振動ボールミルによって粉
砕した。この粉砕物の平均粒径は5μmであった。これ
を塩化マグネシウム10kgを溶解させた脱塩水50リ
ットル中に分散させ、80℃で1時間攪拌した。この固
体成分を水洗した後、8.2%の塩酸水溶液56リット
ル中に分散させて90℃で2時間攪拌し、脱塩水で洗浄
した。このとき、イオン交換率は99%であった。
明するためのものである。本発明は、その要旨を逸脱し
ない限りこれら実施例によって制約を受けるものではな
い。 〔比較例1〕市販のモンモリロナイト(クニミネ工業製
「クニピアーF」)8kgを振動ボールミルによって粉
砕した。この粉砕物の平均粒径は5μmであった。これ
を塩化マグネシウム10kgを溶解させた脱塩水50リ
ットル中に分散させ、80℃で1時間攪拌した。この固
体成分を水洗した後、8.2%の塩酸水溶液56リット
ル中に分散させて90℃で2時間攪拌し、脱塩水で洗浄
した。このとき、イオン交換率は99%であった。
【0059】得られたモンモリロナイト処理品4.6k
gの水スラリー液を固形分濃度15.2%に調製し、ニ
ロ社製噴霧造粒装置P−6.3を用いて噴霧造粒を行っ
た。そのとき、スラリーの粘度はB型粘度計で1100
cpsであった。平均粒径が18μmの球状粒子が4.
6kg得られた。そのうち10μm以下の粒子は28%
であった。M/L≧0.8を満たす粒子数は全体の粒子
の79%であった。また、粒子の圧壊強度は2.5MP
aであった。 〔実施例1〕市販の膨潤性合成雲母(コープケミカル社
製、ME−100、平均粒径7μm)5.0kgをジェ
ットミル粉砕した。この粉砕物の平均粒径は2μmであ
った。これを硫酸亜鉛1.0kgを溶解させた脱塩水2
0リットル中に分散させ、常温で1時間攪拌した。これ
を濾過・洗浄した。このときのイオン交換率は58%で
あった。得られた合成雲母処理品5.0kgの水スラリ
ーを固形分濃度25.0%に調製し、噴霧乾燥処理を行
った。このとき、スラリー粘度は340cpsであっ
た。その結果、平均粒径58μmの球状粒子が4.5k
g得られた。平均粒径10μmの粒子の数は全粒子数の
9%であった。M/L≧0.8を満たす粒子数は全体の
粒子数の90%であった。嵩密度は0.91g/cm3
であった。球状粒子を任意に10個選んで圧壊強度を測
定したところ2.9MPaであった。 〔実施例2〕実施例1で製造した球状粒子を300℃で
2時間窒素雰囲気下で焼成し、圧壊強度を測定したとこ
ろ、5.0MPaであった。 〔比較例2〕市販のモンモリロナイト(クニミネ工業、
クニピアーF)3kgを振動ボールミルによって粉砕
(平均粒径5μm)し、これを水中に分散させ、8%ス
ラリーとした。これ以上の濃度では分散液が流動性を持
たず、噴霧することは不可能であった。このときスラリ
ー粘度はB型粘度計では測定不可能であった。このスラ
リーを噴霧乾燥した結果、平均粒径60μmの2.3k
gの不定形粒子を得た。球状粒子は得られなかった。 〔比較例3〕市販のモンモリロナイト(クニミネ工業、
クニピアーF)1kgを振動ボールミルによって粉砕
(平均粒径5μm)し、これを水中に分散させ、3%ス
ラリーとした。このときのスラリー粘度は2000cp
sであった。これを噴霧乾燥した結果、球状の粒子が
0.8kg得られた。その平均粒径は5μmであった。 〔比較例4〕市販の膨潤性合成雲母(コープケミカル社
製、ME−100、平均粒径7μm)1.0kgを脱塩
水10リットル中に分散させ、スラリーとした。このと
きスラリー粘度は7800cpsであった。また、これ
以上高濃度では流動性を示さなかった。このスラリーを
噴霧乾燥した結果、平均粒径73μmの粒子を0.8k
g得た。得られた粒子は不定形で、球状粒子は得られな
かった。 〔比較例5〕市販の膨潤性合成雲母(コープケミカル社
製、ME−100、平均粒径7μm)5.0kgをその
まま、硫酸亜鉛1.0kgを溶解させた脱塩水20リッ
トル中に分散させ、常温で1時間攪拌した。これを濾過
・洗浄した。このときイオン交換率は60%であった。
得られた合成雲母処理品5.0kgの水スラリー液を固
形分濃度25.0%に調製し、噴霧乾燥処理を行った。
このときスラリー粘度は240cpsであった。その結
果、平均粒径53μmの球状粒子が4.7kg得られ
た。M/L≧0.8を満たす粒子数は全体の粒子数の9
0%であった。嵩密度は0.91g/cm3 であった。
球状粒子10個を任意に選んで圧壊強度を測定したとこ
ろ0.2MPaであった。 〔参考例1〕 (1)成分(B)の製造法 市販の膨潤性合成雲母(コープケミカル社製、ME−1
00、平均粒径7μm)5.0kgをジェットミル粉砕
した。この平均粒径は2μmであった。これを硫酸亜鉛
1.0kgを溶解させた脱塩水20リットル中に分散さ
せ、常温で1時間攪拌した。これを濾過・洗浄した。こ
のときのイオン交換率は58%であった。得られた合成
雲母5.0kgの水スラリーを固形分濃度25.0%に
調製し、噴霧乾燥を行った。このときスラリー粘度は3
40cpsであった。その結果、平均粒径58μmの球
状粒子が4.5kg得られた。嵩密度は0.91g/c
m3 であった。球状粒子を任意に10個選んで圧壊強度
を測定したところ2.9MPaであった。
gの水スラリー液を固形分濃度15.2%に調製し、ニ
ロ社製噴霧造粒装置P−6.3を用いて噴霧造粒を行っ
た。そのとき、スラリーの粘度はB型粘度計で1100
cpsであった。平均粒径が18μmの球状粒子が4.
6kg得られた。そのうち10μm以下の粒子は28%
であった。M/L≧0.8を満たす粒子数は全体の粒子
の79%であった。また、粒子の圧壊強度は2.5MP
aであった。 〔実施例1〕市販の膨潤性合成雲母(コープケミカル社
製、ME−100、平均粒径7μm)5.0kgをジェ
ットミル粉砕した。この粉砕物の平均粒径は2μmであ
った。これを硫酸亜鉛1.0kgを溶解させた脱塩水2
0リットル中に分散させ、常温で1時間攪拌した。これ
を濾過・洗浄した。このときのイオン交換率は58%で
あった。得られた合成雲母処理品5.0kgの水スラリ
ーを固形分濃度25.0%に調製し、噴霧乾燥処理を行
った。このとき、スラリー粘度は340cpsであっ
た。その結果、平均粒径58μmの球状粒子が4.5k
g得られた。平均粒径10μmの粒子の数は全粒子数の
9%であった。M/L≧0.8を満たす粒子数は全体の
粒子数の90%であった。嵩密度は0.91g/cm3
であった。球状粒子を任意に10個選んで圧壊強度を測
定したところ2.9MPaであった。 〔実施例2〕実施例1で製造した球状粒子を300℃で
2時間窒素雰囲気下で焼成し、圧壊強度を測定したとこ
ろ、5.0MPaであった。 〔比較例2〕市販のモンモリロナイト(クニミネ工業、
クニピアーF)3kgを振動ボールミルによって粉砕
(平均粒径5μm)し、これを水中に分散させ、8%ス
ラリーとした。これ以上の濃度では分散液が流動性を持
たず、噴霧することは不可能であった。このときスラリ
ー粘度はB型粘度計では測定不可能であった。このスラ
リーを噴霧乾燥した結果、平均粒径60μmの2.3k
gの不定形粒子を得た。球状粒子は得られなかった。 〔比較例3〕市販のモンモリロナイト(クニミネ工業、
クニピアーF)1kgを振動ボールミルによって粉砕
(平均粒径5μm)し、これを水中に分散させ、3%ス
ラリーとした。このときのスラリー粘度は2000cp
sであった。これを噴霧乾燥した結果、球状の粒子が
0.8kg得られた。その平均粒径は5μmであった。 〔比較例4〕市販の膨潤性合成雲母(コープケミカル社
製、ME−100、平均粒径7μm)1.0kgを脱塩
水10リットル中に分散させ、スラリーとした。このと
きスラリー粘度は7800cpsであった。また、これ
以上高濃度では流動性を示さなかった。このスラリーを
噴霧乾燥した結果、平均粒径73μmの粒子を0.8k
g得た。得られた粒子は不定形で、球状粒子は得られな
かった。 〔比較例5〕市販の膨潤性合成雲母(コープケミカル社
製、ME−100、平均粒径7μm)5.0kgをその
まま、硫酸亜鉛1.0kgを溶解させた脱塩水20リッ
トル中に分散させ、常温で1時間攪拌した。これを濾過
・洗浄した。このときイオン交換率は60%であった。
得られた合成雲母処理品5.0kgの水スラリー液を固
形分濃度25.0%に調製し、噴霧乾燥処理を行った。
このときスラリー粘度は240cpsであった。その結
果、平均粒径53μmの球状粒子が4.7kg得られ
た。M/L≧0.8を満たす粒子数は全体の粒子数の9
0%であった。嵩密度は0.91g/cm3 であった。
球状粒子10個を任意に選んで圧壊強度を測定したとこ
ろ0.2MPaであった。 〔参考例1〕 (1)成分(B)の製造法 市販の膨潤性合成雲母(コープケミカル社製、ME−1
00、平均粒径7μm)5.0kgをジェットミル粉砕
した。この平均粒径は2μmであった。これを硫酸亜鉛
1.0kgを溶解させた脱塩水20リットル中に分散さ
せ、常温で1時間攪拌した。これを濾過・洗浄した。こ
のときのイオン交換率は58%であった。得られた合成
雲母5.0kgの水スラリーを固形分濃度25.0%に
調製し、噴霧乾燥を行った。このときスラリー粘度は3
40cpsであった。その結果、平均粒径58μmの球
状粒子が4.5kg得られた。嵩密度は0.91g/c
m3 であった。球状粒子を任意に10個選んで圧壊強度
を測定したところ2.9MPaであった。
【0060】得られた造粒品を150.0g入れて、減
圧下(1〜2mmHg)200℃に昇温し、200℃で
2時間の減圧下加熱処理を行った。この加熱処理で1
8.5gの重量減少が認められた。 (2)触媒製造法 上記加熱処理造粒品を、窒素雰囲気下で、200mlフ
ラスコに2.0g取り、そこにトルエンを62ml入れ
攪拌した。あらかじめ調製しておいたビス(ノルマルブ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド
のトルエン溶液(20μmol/ml)を8ml添加、
室温で10分間攪拌し、触媒とした。 (3)エチレン−ヘキセン共重合 1リットルオートクレーブにヘプタン485ml、1−
ヘキセン45ml、トリエチルアルミニウム0.5mm
olを順次仕込み、65℃に昇温した。エチレンを導入
して7kg/cm2 に保ち、(2)で得られた触媒成分
を80mg仕込み重合を開始した。90分間重合を続け
た。気相中のガスをパージして、重合を停止させた。得
られたエチレン−ヘキセン共重合体は36.8gであっ
た。得られたエチレン−ヘキセン共重合体の数平均粒径
は680μmであり、105μm以下の微粉は0.2%
以下であった。得られた重合体の形状はすべて球状であ
った。 〔参考比較例1〕 (1)成分(B)の製造法 比較例5で得られた造粒品を500mlフラスコに15
0.0g入れて、減圧下(1〜2mmHg)200℃に
昇温し、200℃で2時間の減圧下加熱処理を行った。
この加熱処理で17.5gの重量減少が認められた。 (2)触媒製造法 上記加熱処理造粒品を、参考例1の(2)と同様にして
触媒調製を行った。 (3)エチレン−ヘキセン共重合 参考例1の(3)と同様にしてエチレン−ヘキセン共重
合を行ったところ、44.2gのエチレン−ヘキセン共
重合体を得た。得られたエチレン−ヘキセン共重合体の
粒子はほとんど不定形であった。数平均粒径は750μ
mであり、105μm以下の微粉は2.7%であった。 〔参考比較例2〕 (1)触媒製造法 参考例1において、硫酸亜鉛処理、噴霧造粒した合成雲
母に変えて、硫酸亜鉛処理のみ行った合成雲母処理品
(パウダー状、平均粒径14μm)を使用した以外は、
参考例1の(2)と同様に触媒製造を行った。 (2)エチレン−ヘキセン共重合 参考例1の(3)と同様にエチレン−ヘキセン共重合を
行った。その結果、42.3gのエチレン−ヘキセン共
重合体を得た。得られた共重合体の形状はすべて不定形
であった。 〔参考例2〕 (1)成分(B)の製造法 Al2(SO4)3・14〜18H2O 0.95kg
を脱塩水20リットルに溶解させ、攪拌しながら市販の
親水性スメクタイト(コープケミカル社製、SWN)を
1.0kgを添加した。室温で1時間攪拌後、濾過・洗
浄した。このときイオン交換率は95%であった。得ら
れたケーキに固形分濃度が15wt%となるように脱塩
水を添加し、スラリーとして噴霧乾燥した。このとき、
スラリー粘度は420cpsであった。その結果、平均
粒径48μmの球状粒子が0.85kg得られた。嵩密
度は1.02g/cm3 であった。粒子を任意に10個
選んで圧壊強度を測定したところ3.2MPaであっ
た。
圧下(1〜2mmHg)200℃に昇温し、200℃で
2時間の減圧下加熱処理を行った。この加熱処理で1
8.5gの重量減少が認められた。 (2)触媒製造法 上記加熱処理造粒品を、窒素雰囲気下で、200mlフ
ラスコに2.0g取り、そこにトルエンを62ml入れ
攪拌した。あらかじめ調製しておいたビス(ノルマルブ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド
のトルエン溶液(20μmol/ml)を8ml添加、
室温で10分間攪拌し、触媒とした。 (3)エチレン−ヘキセン共重合 1リットルオートクレーブにヘプタン485ml、1−
ヘキセン45ml、トリエチルアルミニウム0.5mm
olを順次仕込み、65℃に昇温した。エチレンを導入
して7kg/cm2 に保ち、(2)で得られた触媒成分
を80mg仕込み重合を開始した。90分間重合を続け
た。気相中のガスをパージして、重合を停止させた。得
られたエチレン−ヘキセン共重合体は36.8gであっ
た。得られたエチレン−ヘキセン共重合体の数平均粒径
は680μmであり、105μm以下の微粉は0.2%
以下であった。得られた重合体の形状はすべて球状であ
った。 〔参考比較例1〕 (1)成分(B)の製造法 比較例5で得られた造粒品を500mlフラスコに15
0.0g入れて、減圧下(1〜2mmHg)200℃に
昇温し、200℃で2時間の減圧下加熱処理を行った。
この加熱処理で17.5gの重量減少が認められた。 (2)触媒製造法 上記加熱処理造粒品を、参考例1の(2)と同様にして
触媒調製を行った。 (3)エチレン−ヘキセン共重合 参考例1の(3)と同様にしてエチレン−ヘキセン共重
合を行ったところ、44.2gのエチレン−ヘキセン共
重合体を得た。得られたエチレン−ヘキセン共重合体の
粒子はほとんど不定形であった。数平均粒径は750μ
mであり、105μm以下の微粉は2.7%であった。 〔参考比較例2〕 (1)触媒製造法 参考例1において、硫酸亜鉛処理、噴霧造粒した合成雲
母に変えて、硫酸亜鉛処理のみ行った合成雲母処理品
(パウダー状、平均粒径14μm)を使用した以外は、
参考例1の(2)と同様に触媒製造を行った。 (2)エチレン−ヘキセン共重合 参考例1の(3)と同様にエチレン−ヘキセン共重合を
行った。その結果、42.3gのエチレン−ヘキセン共
重合体を得た。得られた共重合体の形状はすべて不定形
であった。 〔参考例2〕 (1)成分(B)の製造法 Al2(SO4)3・14〜18H2O 0.95kg
を脱塩水20リットルに溶解させ、攪拌しながら市販の
親水性スメクタイト(コープケミカル社製、SWN)を
1.0kgを添加した。室温で1時間攪拌後、濾過・洗
浄した。このときイオン交換率は95%であった。得ら
れたケーキに固形分濃度が15wt%となるように脱塩
水を添加し、スラリーとして噴霧乾燥した。このとき、
スラリー粘度は420cpsであった。その結果、平均
粒径48μmの球状粒子が0.85kg得られた。嵩密
度は1.02g/cm3 であった。粒子を任意に10個
選んで圧壊強度を測定したところ3.2MPaであっ
た。
【0061】得られた造粒品を500mlのフラスコに
150.0g入れて、減圧下(1〜2mmHg)で20
0℃に昇温し、200℃で2時間の減圧下加熱処理を行
った。この加熱処理で22.5gの重量減少が認められ
た。 (2)触媒製造法 内容積2リットルのフラスコへ上記造粒乾燥品を100
g分取し、ヘプタン1.0リットルを加えスラリーとす
る。このスラリーをあらかじめヘプタン3.0リットル
を導入した10リットルオートクレーブにフィードし、
液温30℃で攪拌しながら、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライドの20μm/mlトルエ
ン溶液を400mlフィードし、そのまま10分間反応
した。そこにトリエチルアルミニウムのヘプタン溶液
(0.62mmol/ml)を78ml加え、40℃ま
で昇温した後10分間攪拌した。その後エチレンをフィ
ードし、予備重合を120分間行った。その結果、46
0gの予備重合触媒が得られた。得られたこの予備重合
触媒はすべて球形で、嵩密度は4.6g/cm3 であ
り、6.5φのステンレスチュウブが流れた。 (3)エチレン重合 1リットルオートクレーブにヘプタン500ml導入
し、さらにトリエチルアルミニウム0.4mmolを導
入した。その後65℃まで昇温し、そこに上記(2)で
製造した予備重合触媒を0.37g添加した。その後エ
チレン圧を7kg/cm2 まで昇圧し、重合を開始し
た。平均粒径450μmの球形粒子が、11.2g得ら
れた。105μm以下の微粉は0.5%であった。 〔参考比較例3〕 (1)触媒製造法 参考例2において、硫酸アルミニウム処理、噴霧造粒し
た親水性スメクタイトに変えて、硫酸アルミニウム処理
のみ行った親水性スメクタイト(パウダー状、平均粒径
15μm)を用いた以外は参考例2の(1)と同様に担
体製造を行い、それを用いて予備重合を行った。その結
果、520gの予備重合触媒が得られた。得られた予備
重合触媒はすべて不定形で、嵩密度は0.1g/cm3
であり、12φのステンレスチュウブが流れなかった。 (2)エチレン重合 参考例2の(3)と同様にしてエチレン重合を行った結
果、平均球形が940μmの不定形粒子が14.4g得
られた。
150.0g入れて、減圧下(1〜2mmHg)で20
0℃に昇温し、200℃で2時間の減圧下加熱処理を行
った。この加熱処理で22.5gの重量減少が認められ
た。 (2)触媒製造法 内容積2リットルのフラスコへ上記造粒乾燥品を100
g分取し、ヘプタン1.0リットルを加えスラリーとす
る。このスラリーをあらかじめヘプタン3.0リットル
を導入した10リットルオートクレーブにフィードし、
液温30℃で攪拌しながら、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライドの20μm/mlトルエ
ン溶液を400mlフィードし、そのまま10分間反応
した。そこにトリエチルアルミニウムのヘプタン溶液
(0.62mmol/ml)を78ml加え、40℃ま
で昇温した後10分間攪拌した。その後エチレンをフィ
ードし、予備重合を120分間行った。その結果、46
0gの予備重合触媒が得られた。得られたこの予備重合
触媒はすべて球形で、嵩密度は4.6g/cm3 であ
り、6.5φのステンレスチュウブが流れた。 (3)エチレン重合 1リットルオートクレーブにヘプタン500ml導入
し、さらにトリエチルアルミニウム0.4mmolを導
入した。その後65℃まで昇温し、そこに上記(2)で
製造した予備重合触媒を0.37g添加した。その後エ
チレン圧を7kg/cm2 まで昇圧し、重合を開始し
た。平均粒径450μmの球形粒子が、11.2g得ら
れた。105μm以下の微粉は0.5%であった。 〔参考比較例3〕 (1)触媒製造法 参考例2において、硫酸アルミニウム処理、噴霧造粒し
た親水性スメクタイトに変えて、硫酸アルミニウム処理
のみ行った親水性スメクタイト(パウダー状、平均粒径
15μm)を用いた以外は参考例2の(1)と同様に担
体製造を行い、それを用いて予備重合を行った。その結
果、520gの予備重合触媒が得られた。得られた予備
重合触媒はすべて不定形で、嵩密度は0.1g/cm3
であり、12φのステンレスチュウブが流れなかった。 (2)エチレン重合 参考例2の(3)と同様にしてエチレン重合を行った結
果、平均球形が940μmの不定形粒子が14.4g得
られた。
【0062】
【発明の効果】本発明による球状イオン交換性層状珪酸
塩は、種々の化学反応、またはオレフィン類の重合反応
等にあずかる触媒成分あるいは触媒担体成分として工業
的に使用される場合、流通や物質・熱の移動などを良好
にでき、球状であることからプラスチック、ゴム等に対
して成型効率が高い優れた充填材となり、また、触媒や
触媒担体等に用いた場合、微粉や粗粒が少なく、嵩密度
が高く、流動性が良好な触媒、触媒担体を提供するもの
である。
塩は、種々の化学反応、またはオレフィン類の重合反応
等にあずかる触媒成分あるいは触媒担体成分として工業
的に使用される場合、流通や物質・熱の移動などを良好
にでき、球状であることからプラスチック、ゴム等に対
して成型効率が高い優れた充填材となり、また、触媒や
触媒担体等に用いた場合、微粉や粗粒が少なく、嵩密度
が高く、流動性が良好な触媒、触媒担体を提供するもの
である。
【図1】実施例1で得られた球状造粒物の粒子構造を示
す走査型電子顕微鏡写真(×1000)。
す走査型電子顕微鏡写真(×1000)。
【図2】比較例4で得られた粒子の粒子構造を示す走査
型電子顕微鏡写真(×1000)。
型電子顕微鏡写真(×1000)。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成8年7月18日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0034
【補正方法】変更
【補正内容】
【0034】同一のシクロペンタジエニル(Cp)基に
複数のR1が存在する場合、あるいは複数のR2が存在
する場合には、R1どうし、またはR2どうしがそのω
一端で互いに結合して環を形成してもよい。具体的に
は、インデニル基、テトラヒドロインデニル基、フルオ
レニル基、オクタヒドロフルオレニル基等が好ましくあ
げられ、これらは置換されていてもよい。この場合の置
換基としては、例えばメチル基、エチル基およびブチル
基が好ましい。
複数のR1が存在する場合、あるいは複数のR2が存在
する場合には、R1どうし、またはR2どうしがそのω
一端で互いに結合して環を形成してもよい。具体的に
は、インデニル基、テトラヒドロインデニル基、フルオ
レニル基、オクタヒドロフルオレニル基等が好ましくあ
げられ、これらは置換されていてもよい。この場合の置
換基としては、例えばメチル基、エチル基およびブチル
基が好ましい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09D 7/12 PSL C09D 7/12 PSL
Claims (7)
- 【請求項1】下記の条件(A)〜(C)を同時に充足す
ることを特徴とする、イオン交換性層状珪酸塩の球状造
粒物。 条件(A):平均粒径が20μm以上、1000μm以
下であり、かつ平均粒径が10μm以下の粒子の数が全
粒子数の20%以下であること、 条件(B):M/Lの値が0.8以上、1.0以下であ
る粒子の数が、全粒子の50%以上、100%以下であ
ること(ここで、Lは粒子の最大径の値を、Mは粒子の
最大径と直交する径の最大値を、それぞれ示す)、 条件(C):粒子の圧壊強度が、0.5MPa以上であ
ること。 - 【請求項2】イオン交換性層状珪酸塩が雲母である、請
求項1に記載のイオン交換性層状珪酸塩の球状造粒物。 - 【請求項3】イオン交換性層状珪酸塩がモンモリロナイ
トである、請求項1に記載のイオン交換性層状珪酸塩の
球状造粒物。 - 【請求項4】イオン交換性層状珪酸塩がヘクトライトで
ある、請求項1に記載のイオン交換性層状珪酸塩の球状
造粒物。 - 【請求項5】イオン交換性層状珪酸塩をその交換性陽イ
オンの30%以上を周期律表の第2族〜第14族の陽イ
オンまたはH+ に交換するイオン交換処理に対して得ら
れたイオン交換処理済珪酸塩であって、平均粒径0.5
〜20μmの微粉からなるものを分散させてなるスラリ
ーを、噴霧乾燥処理に付すことを特徴とする、請求項1
〜4のいずれか1項に記載のイオン交換性層状珪酸塩の
球状造粒物の製造法。 - 【請求項6】噴霧乾燥処理に付すスラリーの粘度が60
00cps以下である、請求項5に記載のイオン交換性
層状珪酸塩の球状造粒物の製造法。 - 【請求項7】噴霧乾燥処理に付すスラリーの固形分濃度
が10重量%以上、50重量%以下である、請求項5ま
たは6に記載のイオン交換性層状珪酸塩の球状造粒物の
製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8160554A JPH09328311A (ja) | 1996-05-31 | 1996-05-31 | イオン交換性層状珪酸塩の球状造粒物およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8160554A JPH09328311A (ja) | 1996-05-31 | 1996-05-31 | イオン交換性層状珪酸塩の球状造粒物およびその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09328311A true JPH09328311A (ja) | 1997-12-22 |
Family
ID=15717508
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8160554A Pending JPH09328311A (ja) | 1996-05-31 | 1996-05-31 | イオン交換性層状珪酸塩の球状造粒物およびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09328311A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002037812A (ja) * | 2000-07-24 | 2002-02-06 | Japan Polychem Corp | オレフィン重合用触媒およびそれを用いたポリオレフィンの製造方法 |
JP2003311155A (ja) * | 2002-03-27 | 2003-11-05 | Council Scient Ind Res | C−c結合形成反応に用いることができる、新規な、ジイソプロピルアミドで交換した積層二水酸化物を調製する方法 |
JP2005335981A (ja) * | 2004-05-25 | 2005-12-08 | Japan Polypropylene Corp | イオン交換性層状珪酸塩粒子の製造方法、それを用いたオレフィン重合用触媒成分 |
JP2007077227A (ja) * | 2005-09-13 | 2007-03-29 | Japan Polypropylene Corp | オレフィン重合用触媒担体の製造方法、それを用いたオレフィン重合用触媒成分 |
JP2007106846A (ja) * | 2005-10-12 | 2007-04-26 | Japan Polypropylene Corp | オレフィン重合用触媒担体並びにそれを用いたオレフィン重合用触媒成分 |
JP2008156395A (ja) * | 2006-12-21 | 2008-07-10 | Japan Polypropylene Corp | スメクタイトの造粒体およびオレフィン重合用触媒 |
JP2010207769A (ja) * | 2009-03-12 | 2010-09-24 | Aomori Prefectural Industrial Technology Research Center | 水素製造用光触媒 |
JP2010248294A (ja) * | 2009-04-10 | 2010-11-04 | Cci Corp | 制振塗料組成物 |
JP2013112568A (ja) * | 2011-11-29 | 2013-06-10 | Kunimine Industries Co Ltd | 層間に水素イオンを存在させた粘土粉末及びその製造方法 |
-
1996
- 1996-05-31 JP JP8160554A patent/JPH09328311A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002037812A (ja) * | 2000-07-24 | 2002-02-06 | Japan Polychem Corp | オレフィン重合用触媒およびそれを用いたポリオレフィンの製造方法 |
JP2003311155A (ja) * | 2002-03-27 | 2003-11-05 | Council Scient Ind Res | C−c結合形成反応に用いることができる、新規な、ジイソプロピルアミドで交換した積層二水酸化物を調製する方法 |
JP4494703B2 (ja) * | 2002-03-27 | 2010-06-30 | カウンシル オブ サイエンティフィク アンド インダストリアル リサーチ | C−c結合形成反応に用いることができる、新規な、ジイソプロピルアミドで交換した積層二水酸化物を調製する方法 |
JP2005335981A (ja) * | 2004-05-25 | 2005-12-08 | Japan Polypropylene Corp | イオン交換性層状珪酸塩粒子の製造方法、それを用いたオレフィン重合用触媒成分 |
JP2007077227A (ja) * | 2005-09-13 | 2007-03-29 | Japan Polypropylene Corp | オレフィン重合用触媒担体の製造方法、それを用いたオレフィン重合用触媒成分 |
JP2007106846A (ja) * | 2005-10-12 | 2007-04-26 | Japan Polypropylene Corp | オレフィン重合用触媒担体並びにそれを用いたオレフィン重合用触媒成分 |
JP2008156395A (ja) * | 2006-12-21 | 2008-07-10 | Japan Polypropylene Corp | スメクタイトの造粒体およびオレフィン重合用触媒 |
JP2010207769A (ja) * | 2009-03-12 | 2010-09-24 | Aomori Prefectural Industrial Technology Research Center | 水素製造用光触媒 |
JP2010248294A (ja) * | 2009-04-10 | 2010-11-04 | Cci Corp | 制振塗料組成物 |
JP2013112568A (ja) * | 2011-11-29 | 2013-06-10 | Kunimine Industries Co Ltd | 層間に水素イオンを存在させた粘土粉末及びその製造方法 |
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