JPH09293400A - 半導体メモリ装置の並列テスト回路 - Google Patents
半導体メモリ装置の並列テスト回路Info
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Abstract
列テスト回路を提供する。 【解決手段】 メモリブロックに隣接して形成された複
数個のデータ出力ラインを通じて伝送される多数のセル
データを比較する多数個の第1比較器と、前記多数個の
第1比較器の出力端に共通に接続され、前記多数個の第
1比較器の出力の伝達を受けて2次的に比較するための
第2比較器と、前記第2比較器の出力を多重化するため
の所定のマルチプレクサと、前記マルチプレクサの出力
端に選択的に接続される第1及び第2スイッチング手段
と、前記第1及び第2スイッチング手段の出力端に共通
に接続され、前記第1及び第2スイッチング手段の出力
をバッファリングする所定のデータ出力バッファとを備
え、所定の第1動作時に前記マルチプレクサと前記第1
スイッチング手段を接続し、所定の第2動作時に前記マ
ルチプレクサと第2スイッチング手段を接続して、2方
式のデータテストを実行する。
Description
並列テスト回路に係り、特に、高集積に有利な回路構成
を有する半導体メモリ装置の並列テスト回路に関するも
のである。
量化及び高集積化に伴ってチップサイズ(chip size) は
大きくなり、これによりテスト時間も長くなるようにな
る。大部分のメモリセルの不良はシングルビット不良(s
ingle bit fail) であり、このシングルビットの不良有
無を検証するためにシングルビットを一つずつ順次にテ
ストするのは、テスト時間及びテスト費用の面で不適当
である。従って、短時間内にチップの不良有無がチェッ
クできるテスト回路に対する必要性が大きくなり、この
ような必要によって実現された回路が、マルチビット並
列テスト(multi-bit parallel test) 回路である。この
分野に広く知られているように、マルチビット並列テス
ト回路は、全てのメモりセルに同一のデータを優先的に
書き込んだ後、メモリセルに記憶されたデータを一度の
アクセスサイクルの間多数個読み出し、この読出しデー
タを比較器で比較することにより、状態の異なるデータ
が読み出されるときに不良を感知可能になる。
高インピダンス(以下、Hi- Z)比較器がオプション
(option)として追加された一般的な並列テスト回路のデ
ータパスを示すものである。
回路で、上述したように一度のテスト動作時に多数のシ
ングルビットが同時にテストされる。前記並列テスト回
路は大きく2つに分類されるが、一つは、データ出力バ
ッファの出力が“0”、“1”のときにそれぞれ“合
格”及び“不良”を表すワン、ゼロ(one, zero) 比較
器であり、もう一つは、データ出力バッファの出力が正
常な場合には(即ち、“0”或いは“1”のデータのと
き)データのパターンまで分かることができ、不良の場
合にはHi−Zが出力されるワン、ゼロ、Hi−Z比較
器である。これら2つの方式のうち、未だに標準(stada
rd) 方式は無く、前記2つの方式が状況に応じて設定さ
れて用いられている。しかし、現在のテスト方式はワ
ン、ゼロ比較器にワン、ゼロ、Hi−Z比較器をオプシ
ョンとして追加して使用する方式が一般に採用されてい
る実状である。
モリバンクに分割され、前記各メモリバンクは所定個数
のメモリブロックに分けられる。図1では、2つのメモ
リバンクと、4つのメモリブロックのメモリアレイの構
成を実施例として示している。各メモリブロックには所
定個数のデータライン(以下、“DOライン”とする)
と、前記所定個数のDOラインと電気的に接続された一
つのDOラインマルチプレクサ(以下、“DO MU
X”とする)S1と、前記所定個数のDOラインに共通
に接続されたワン、ゼロ比較器S2と、ワン、ゼロ、H
i−Z比較器S3が接続される。前記DO MUXS1
の出力端、前記ワン、ゼロ比較器S2の出力端、及びワ
ン、ゼロ、Hi−Z比較器S3の出力端は、所定個数の
ファーストデータバス(以下、“FDB”とする)に共
通に接続される。前記図1の構成において、メモリブロ
ックの個数が4つなので、FDBの個数も4つである。
このFDBはファーストデータバス比較器(以下、“F
DB比較器”とする)S4の入力端と電気的に接続され
る。このFDB比較器S4の出力端はセカンドデータバ
ス(以下、“SDB”とする)に接続され、SDBはN
ANDゲート1を通じて併合データバス(以下、“MD
B”とする)に接続される。前記MDBの端はデータバ
スマルチプレクサ(以下、“DB MUX”とする)S
5の入力端に接続され、前記DB MUXS5の出力端
はデータ出力バッファ(以下、“DOUT”とする)S
6の入力端に接続される。図1において、下端に示す構
成も上端の構成と同一である。
ネーブルクロック発生回路と、比較器のイネーブル信号
発生回路と、比較器と、FDB比較器と、MDB回路
と、DBMUXの詳細回路図である。これに対する回路
構成は当該分野によく知られている。
出されてDOラインに載せられたデータがDO MUX
S1を通じてFDBに送られ、SDBとMDBを経てD
OUTに伝達される。前記DOUTS6へ伝達されたデ
ータはチップの外部へ伝送される。
ン、ゼロテスト方式を基本とし、ワン、ゼロ、Hi−Z
テスト方式をオプションとした場合、DOラインに載せ
られたデータは比較器すなわちワン、ゼロ比較器S2、
ワン、ゼロ、Hi- Z比較器S3で一次的に比較動作が
行われ、前記ワン、ゼロ比較器S2、ワン、ゼロ、Hi
- Z比較器S3を通じて出力されるデータはFDBに載
せられる。このようなFDBのデータはFDB比較器S
4で2次比較動作を経た後、SDBに送られる。前記S
DBに載せられたデータはNANDゲート1を通じてM
DBに載せられ、DB MUXS5及びDOUTS6を
介してチップ外部へ伝送される。この過程で、メモリア
レイに記憶されたデータは所定の比較動作を経て不良有
無を検証する。前記比較器の比較動作は、図4及び図5
に示すような排他的論理和回路(exclusive OR)を使用す
ると、簡単に解決される。
タの状態変更はオプションとなっている回路を動作させ
て実行する。まず、図2に示す比較器イネーブル回路に
示したPFCOMは、並列テストモードと知らせる外部
信号PFTEが論理“ハイ”で、ローアドレスストロー
ブ信号RASBを受けて同期する信号PYEが論理“ハ
イ”で、読出し動作と知らせるWEBバッファの出力P
WRが論理“ロウ”で、カラムアドレスストローブ信号
CASBをバッファリングするCASBバッファの出力
PCが論理“ハイ”の場合に、論理“ハイ”にイネーブ
ルされる。
Hi−Z比較器をイネーブルする回路を示すものであ
る。並列テストが行われると、ワン、ゼロモードの場
合、PFCOMDが論理“ハイ”にイネーブルされ、ワ
ン、ゼロ、Hi−Zモードの場合、イネーブル信号PH
LZEが論理“ハイ”になるにしたがって、PFCOM
DPが論理“ハイ”にイネーブルされる。即ち、従来の
技術では各DOラインごとにDO MUXと、ワン、ゼ
ロ比較器及びワン、ゼロ、Hi−Z比較器が全て必要で
ある。即ち、図4の回路が必ず無ければならない。ま
た、データ経路(datapath) の前半部からデータ出力バ
ッファまでのパスを必要に応じて異にしなければならな
いため、レイアウト及び各回路の制御が相当に複雑であ
る。比較器を通過したデータはFDBラインに載せら
れ、このようなFDBラインに載せられたデータはFD
B比較器で再び比較動作が行われる。
ード動作やワン、ゼロ、Hi−Zモード動作を円滑に行
うためには、特定メモリブロックごとに各モードを実行
する比較器が全て接続されなければならないし、前記比
較器のバスラインが非常に複雑に接続されてレイアウト
サイズが相当に大きくなり、制御動作がかなり複雑にな
る。
は、チップ面積を減少した半導体メモリ装置の並列テス
ト回路を提供することにある。
列テスト動作を高速で実行する半導体メモリ装置を提供
することにある。
るために本発明は、多数のメモリセルを備えるメモリア
レイと、前記メモリセルの不良を高速でテストする半導
体メモリ装置の並列テスト回路において、メモリブロッ
クに隣接して形成された複数のデータ出力ラインを通じ
て伝送される多数のセルデータを比較する多数の第1比
較器と、前記多数の第1比較器の出力端に共通に接続さ
れ、前記多数の第1比較器の出力を受けて2次的に比較
するための第2比較器と、前記第2比較器の出力をマル
チプレクシングするための所定のマルチプレクサと、前
記マルチプレクサの出力端と選択的に接続される第1及
び第2スイッチング手段と、前記第1及び第2スイッチ
ング手段の出力端に共通に接続され、前記第1及び第2
スイッチング手段の出力をバッファリングする所定のデ
ータ出力バッファとを備え、所定の第1動作時に前記マ
ルチプレクサと前記第1スイッチング手段を接続し、所
定の第2動作時に前記マルチプレクサと第2スイッチン
グ手段を接続して、2方式のデータテストを実行するこ
とを特徴とする。
図面を参照して詳細に説明する。図8は、本発明の一実
施例による並列テスト時のデータパスを示すものであ
る。
モリバンクに分割され、前記各メモリバンクは所定個数
のメモリブロックに分けられる。4メガビット或いは1
6メガビット容量のメモリ装置で、通常にメモリアレイ
は4個のメモリバンクと16個のメモリブロックに分割
される。図8では、2個のメモリバンクと4個のメモリ
ブロックのメモリアレイの構成を実施例として示してい
る。各メモリブロックには所定個数のDOラインと、前
記所定個数のDOラインに電気的に連結された一つのD
O MUXS7と、前記所定個数のDOラインと共通に
接続されたワン、ゼロ、Hi−Z比較器S8が接続され
る。前記DO MUXS7の出力端と前記ワン、ゼロ、
Hi−Z比較器S8の出力端はFDBに共通に接続され
る。前記図8に示す構成で、メモリブロックの個数が4
つなので、FDBの個数も4つである。前記FDBはF
DB比較器S9の入力端と電気的に接続される。前記F
DB比較器S9の出力端はSDBに接続され、前記SD
BはNANDゲート10を介してMDBと接続される。
前記MDBの端はDBスイッチ(0,1)及びDBスイ
ッチ(0,1,Hi−Z)と選択的に接続される。前記
DBスイッチ(0,1)及びDBスイッチ(0,1,H
i−Z)の出力端はDOUTS12の入力端と接続され
る。図8において、下端の構成も上端の構成と同一であ
る。
ち、図1を構成するワン、ゼロ比較器を無くし、DB
MUXS10とDOUTS12との間に選択的に接続さ
れる2個のスイッチを接続した。従って、データの不良
有無だけを検証したいときには、DBスイッチ(0,
1)とDB MUXとを接続し、データの不良の可否と
データの状態を一度の動作で両方検証したい時にはDB
スイッチ(0,1,Hi−Z)とDB MUXを接続す
る。このような選択的な接続を通じて、図1を構成する
前記ワン、ゼロ比較器を無くしても上述したワン、ゼロ
モード動作とワン、ゼロ、Hi−Zモード動作を全て行
うようになる。これにより、DOラインにはノーマル動
作時に必要なDO MUX層とワン、ゼロ、Hi−Z比
較器だけ連結されており、2個のDBスイッチにより各
モードに該当する動作を選択的に行う。従って、回路の
レイアウトサイズを極小化しながら従来と同一の並列テ
スト動作を行う回路が実現される。
ルクロック発生回路で、図10は図8を構成する比較器
のイネーブル信号発生回路で、図11は図8を構成する
比較器の詳細回路図である。図12は図8を構成するF
DB比較器の詳細回路図で、図13は図8を構成するM
DB回路の詳細回路図で、図14は図8を構成するDB
マルチプレクサの詳細回路図である。
なければならないDO MUXとワン、ゼロ、Hi- Z
比較器のみを図8に示すようにDOラインに接続し、こ
れを通過したデータはFDBラインに載せられてFDB
比較器を通じてSDB及びMDBラインに伝達される。
このようなデータは、図14に示す回路で構成されるD
B MUXの端からワン、ゼロモードとワン、ゼロ、H
i−Zモードによるデータパスに区別されてデータ出力
バッファDOUTへ伝達される。
加信号PFTEとローアドレスストローブ信号RASB
に同期されるPYE、及びカラムアドレスストローブ信
号CASBをバッファリングするCASBバッファの出
力PCが全て論理“ハイ”に印加され、WEBバッファ
の出力PWRが論理“ロウ”であれば、PFCOMは
“ハイ”にイネーブルされる。図11はDO比較器に対
する詳細回路図であって、並列テスト時にDOラインに
載せられたデータが全て論理“ハイ”であれば、MDO
Iは論理“ハイ”、MDOIBは論理“ロウ”になり、
DOラインに載せられたデータが論理“ロウ”であれ
ば、MDOIは論理“ロウ”、MDOIBは論理“ハ
イ”になる。一方、DOラインのデータが異なる場合に
は、MDOIとMDOIBは全てHi−Zになるワン、
ゼロ、Hi- ZモードのDO比較器である。図14のP
HLZEはワン、ゼロ、Hi−Zモードイネーブル信号
で、外部から印加される。
テスト時のデータパスを示すものである。図8との相違
点は、DBラインまではワン、ゼロ、Hi−Zモードで
出力データが載せられ、その後データ出力バッファ自体
のスイッチを通じてモードを決定して出力データが出力
されることにある。前記図15でも従来よりチップサイ
ズの利得及び動作速度の高速化が実現される。
テスト回路を実現すると、並列テスト時のデータ状態を
DB MUXでDBスイッチでモード選択を行うため
に、2つの方式を全て実行しながらDOラインに連結さ
れるバスライン及び比較器の数を極小化させ、これによ
り集積化を図ることができ、制御動作を簡素化して動作
速度を高速で実行することができる。
示す図。
生回路を示す図。
路を示す図。
図。
パスを示す図。
生回路を示す図。
回路を示す図。
路図。
ータ経路を示す図。
Claims (4)
- 【請求項1】 多数のメモリセルを備えるメモリアレイ
と、前記メモリセルの不良を高速でテストする半導体メ
モリ装置の並列テスト回路において、 メモリブロックに隣接して形成された複数のデータ出力
ラインを通じて伝送される多数のセルデータを比較する
多数の第1比較器と、 前記多数の第1比較器の出力端に共通に接続され、前記
多数の第1比較器の出力を受けて2次的に比較するため
の第2比較器と、 前記第2比較器の出力をマルチプレクシングするための
所定のマルチプレクサと、 前記マルチプレクサの出力
端と選択的に接続される第1及び第2スイッチング手段
と、 前記第1及び第2スイッチング手段の出力端に共通に接
続され、前記第1及び第2スイッチング手段の出力をバ
ッファリングする所定のデータ出力バッファとを備え、
所定の第1動作時に前記マルチプレクサと前記第1ス
イッチング手段を接続し、所定の第2動作時に前記マル
チプレクサと第2スイッチング手段を接続して、2方式
のデータテストを実行することを特徴とする半導体メモ
リ装置の並列テスト回路。 - 【請求項2】 前記第1動作が、所定のテスト動作だけ
を行うワン、ゼロ方式を使用する動作である請求項1記
載の半導体メモリ装置の並列テスト回路。 - 【請求項3】 前記第2動作が、所定のテスト動作及び
前記テストによるデータの状態を検証する動作を行うワ
ン、ゼロ、高インピーダンス方式を使用する動作である
請求項1記載の半導体メモリ装置の並列テスト回路。 - 【請求項4】 多数のメモリセルを備えるメモリアレイ
と、前記メモリセルの不良を高速でテストするように多
数の比較器を備える半導体メモリ装置の並列テスト回路
において、 メモリブロックに隣接して形成された複数のデータ出力
ラインを通じて伝送される多数のセルデータを比較する
多数の第1比較器と、 前記多数の第1比較器の出力端に共通に接続され、前記
多数の第1比較器の出力を受けて2次的に比較するため
の第2比較器と、 前記第2比較器の出力をマルチプレクシングするための
所定のマルチプレクサと、 回路内部に第1及び第2ス
イッチング手段が内蔵され、前記マルチプレクサの出力
をバッファリングする所定のデータ出力バッファとを備
え、 所定の第1動作時に前記マルチプレクサと第1スイッチ
ング手段を接続し、所定の第2動作時に前記マルチプレ
クサと前記第2スイッチング手段を接続して、2方式の
データテストを実行することを特徴とする半導体メモリ
装置の並列テスト回路。
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1996
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