JPH09243823A

JPH09243823A - 偏光フィルムの製造方法

Info

Publication number: JPH09243823A
Application number: JP8080654A
Authority: JP
Inventors: Shuichi Kitamura; 秀一北村; Yoshikazu Shinkai; 美和新開
Original assignee: Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
Current assignee: Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
Priority date: 1996-03-07
Filing date: 1996-03-07
Publication date: 1997-09-19

Abstract

(57)【要約】【課題】光学性能が非常に優れ、かつ耐熱時の寸法安
定性に優れた偏光フィルムの製造方法を提供すること。【解決手段】ポリビニルアルコール系フィルムを、ホ
ウ素化合物を含む溶液中で延伸するに際して、「ホウ素
化合物を含む溶液中での延伸倍率（倍）／ホウ素化合物
を含む溶液中の浸漬時間（分）」の値が０．１〜１．５
である偏光フィルムの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学性能が非常に
優れ、かつ耐熱時の寸法安定性に優れた偏光フィルムの
製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、卓上電子計算機、電子時計、ワー
プロ、自動車や機械類の計器類等に液晶表示装置が用い
られ、これらに伴い偏光板の需要も増大している。偏光
板は一般に偏光能を有する偏光フィルムの両面あるいは
片面に、接着剤層を介して保護フィルムを形成させたも
のが繁用され、現在、知られている代表的なポリビニル
アルコール（以下、ＰＶＡと略記する）系偏光フィルム
としてはＰＶＡ系フィルムにヨウ素を染色させたものと
二色性染料を染色させたものがあり、これらはＰＶＡの
水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染
色した後一軸延伸してからホウ素化合物で耐久性処理を
行ったものが用いられ、更にＰＶＡ系偏光フィルムの欠
点である耐湿性を保護するために保護フィルムが設けら
れ、該保護フィルムとしては酢酸セルロース系フィルム
が表面保護フィルムとして光学的透明性、無配向性等に
優れているため汎用されている。

【０００３】上記ＰＶＡ系偏光フィルムの耐湿性、耐湿
熱性の向上を目的とした製造方法として、例えば特開昭
６２−２２３７０４号公報ではＰＶＡ系偏光フィルムを
ホウ酸水溶液で耐久化処理するのに、第１処理浴を１０
〜５５℃、第２処理浴を５５〜８０℃の温度範囲にして
処理すること、特開昭６２−２２６１０４号公報では耐
久化処理液であるホウ酸水溶液の中に無機塩を添加する
こと、又、特開平７−１９８９３９号公報ではＰＶＡ系
フィルムの総重量に対してホウ素原子を４．５〜７．０
重量％含有させる工程を２つ以上し、それぞれの工程で
ホウ素化合物濃度の異なる処理液に浸漬することが提案
されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報開示技術では、偏光性能や耐久性については向上して
いるものの、得られた偏光フィルムの耐熱時の寸法安定
性については何ら考慮されておらず、本発明者等が詳細
に検討した結果、該公報開示技術ではまだまだ満足のい
くものではなく、又、最近の技術の高度化に伴い要求性
能も益々高くなっており、更なる高光学特性と優れた寸
法安定性を備えもった偏光フィルム、偏光板の開発が望
まれている。更に、上記技術で得られた偏光板は偏光板
クロスニコルでブルーリークが発生したり、ブルーリー
クを抑えると平行透過率が低下したり、波長４００〜５
００ｎｍ領域で平行透過率／直交透過率の値（コントラ
スト）が上がりにくく、又、波長５５０〜７８０ｎｍ領
域でコントラストが低下したりする等の不具合が生じる
ことが判明した。本発明は、このような背景下におい
て、上記課題を解決した偏光フィルムの製造方法を提供
することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】しかるに、本発明者等は
かかる課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、ＰＶＡ
系フィルムを、ホウ素化合物を含む水溶液中で延伸する
に際して、「ホウ素化合物を含む水溶液中での延伸倍率
（倍）／ホウ素化合物を含む水溶液中の浸漬時間
（分）」の値が０．１〜１．５となるように処理するこ
とにより、光学性能や寸法安定性に非常に優れた高コン
トラストを有する偏光フィルムが得られることを見いだ
し、本発明を完成した。特に、本発明ではホウ素化合物
を含む水溶液で処理するに際して、ＰＶＡ系フィルム中
に含まれるホウ素含有量を３．５〜５．８重量％にする
ことでより顕著に本発明の効果を発揮する。

【０００６】尚、コントラストとは上記の如く平行透過
率（Ａ）と直交透過率（Ｂ）の比（（Ａ）／（Ｂ））で
あり、平行透過率（Ａ）とは２枚の偏光板をその配向方
向が同一になるように重ね合わせた場合の透過率（％）
を、直交透過率（Ｂ）とは２枚の偏光板をその配向方向
が直交になるように重ね合わせた場合の透過率（％）を
それぞれ意味する。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、本発明について具体的に説
明する。本発明の偏光フィルムは、ＰＶＡ系フィルムの
一軸延伸フィルムであり、ＰＶＡは通常、酢酸ビニルを
重合したポリ酢酸ビニルをケン化して製造されるが、本
発明では必ずしもこれに限定されるものではなく、少量
の不飽和カルボン酸（塩、エステル、アミド、ニトリル
等を含む）、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和
スルホン酸塩等、酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有
していても良い。ＰＶＡにおける平均ケン化度は８５〜
１００モル％、好ましくは９８〜１００モル％が実用的
である。又、本発明のＰＶＡの平均重合度としては任意
のものが使用可能であるが、１５００〜１００００、好
ましくは２６００〜７０００、より好ましくは３０００
〜５０００が有利である。

【０００８】該偏光フィルムの製造方法としては、ま
ず、ＰＶＡを水又は有機溶媒に溶解した原液を流延製膜
して、該フィルムを延伸してヨウ素化合物あるいは二色
性染料の水溶液に浸漬し染色するか、延伸と染色を同時
に行うか、ヨウ素化合物あるいは二色性染料により染色
して延伸するかした後、ホウ素化合物処理する。本発明
では、いずれの段階でも延伸可能であるが、少なくとも
該ホウ素化合物処理中で延伸することが必須である。

【０００９】原液調製に際して使用される溶媒として
は、例えば水はもちろん、ジメチルスルホキシド（ＤＭ
ＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン、グリセリン、エチレン
グリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコ
ール、トリメチロールプロパン等の多価アルコール、エ
チレンジアミン、ジエチレントリアミン等のアミン類及
びこれらの混合物が用いられる。

【００１０】上記有機溶媒中には少量、例えば５〜３０
重量％の水を含有させても差し支えない。原液中のＰＶ
Ａの濃度は５〜２０重量％が実用的である。該溶剤を用
いて得られたＰＶＡ製膜原液は、キャスト法、押出法等
任意の方法で製膜される。製膜方法としては乾・湿式製
膜法にて、即ち、該溶液を口金スリットから一旦空気
中、又は窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性雰囲気中
に吐出し、次いで凝固浴中に導いて未延伸フィルムを形
成せしめる。又は口金から吐出された製膜溶液は一旦ロ
ーラー、あるいはベルトコンベアー等の上で溶剤を一部
乾燥した後で凝固浴中に導入しても差し支えない。

【００１１】又、凝固浴に用いる溶媒には前記ＰＶＡの
溶剤と混和性を有するもので、例えばメタノール、エタ
ノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、
アセトン、ベンゼン、トルエン等が挙げられる。ＰＶＡ
系フィルムを得る方法としては、その他ＰＶＡの溶液を
凝固浴中に導入してフィルム化するいわゆるゲル製膜法
等も実施可能である。

【００１２】原反フィルムとしてはその膜厚は３０〜１
００μｍ、好ましくは５０〜９０μｍが必要である。３
０μｍ以下では延伸不能となり、１００μｍ以上では膜
厚精度が低下し不適当である。前記の如くして得られる
ＰＶＡ未延伸フィルムは次に延伸及び染色、ホウ素化合
物処理が施される。延伸と染色及びホウ素化合物処理は
別々に行っても同時に行っても良いが、本発明では少な
くともホウ素化合物処理工程中に一軸延伸を実施するこ
とが必要である。

【００１３】フィルムへの染色つまり偏光素子の吸着は
フィルムに偏光素子を含有する液体を接触させることに
よって行われる。通常はヨウ素−ヨウ化カリウムの水溶
液が用いられ、ヨウ素の濃度は０．１〜２ｇ／ｌ、ヨウ
化カリウムの濃度は１０〜５０ｇ／ｌ、ヨウ素／ヨウ化
カリウムの重量比は２０〜１００が適当である。染色時
間は３０〜５００秒程度が実用的である。染色工程での
処理浴の温度は５〜５０℃が好ましい。水溶媒以外に水
と相溶性のある有機溶媒を少量含有させても差し支えな
い。接触手段としては浸漬、塗布、噴霧等の任意の手段
が適用できる。

【００１４】延伸は一軸方向に３．５〜１０倍、好まし
くは４．５〜７、特に好ましくは５〜７倍に延伸するこ
とが望ましく、耐熱時の寸法収縮が小さく、高透過、高
偏光の偏光フィルムが得られる。この際、前記と直角方
向にも若干の延伸（幅方向の収縮を防止する程度あるい
はそれ以上の延伸）を行っても差し支えない。延伸倍率
が上記範囲を外れると、即ち３．５倍未満では光学性能
が低く、７倍を越えると延伸時の張力が高くなり好まし
くない。延伸時の温度条件は４０〜１３０℃から選ぶの
が望ましい。更に、かかる延伸倍率は最終的に上記の範
囲に設定されれば良く、延伸操作は一段階のみならず、
製造工程の任意の範囲の段階に実施すれば良い。

【００１５】ホウ素化合物処理はホウ素化合物を含む溶
液であればよく、該ホウ素化合物としてはホウ酸、ホウ
砂が実用的である。ホウ素化合物は水溶液又は水−有機
溶媒混合液の形で濃度０．５〜２モル／ｌ程度で用いら
れ、液中には少量のヨウ化カリウムを共存させるのが実
用上望ましい。

【００１６】本発明では、上記の如き少なくともホウ素
化合物処理中に延伸することが必要で、該ホウ素化合物
中延伸処理において、「ホウ素化合物を含む溶液中での
延伸倍率（倍）（Ａ）とホウ素化合物を含む溶液中の浸
漬時間（分）（Ｔ）」の比、即ち（Ａ）／（Ｔ）の値が
０．１〜１．５、好ましくは０．１〜１．３、更に好ま
しくは０．１〜１．０であることが必要である。本発明
では、かかる延伸倍率と浸漬時間との関係を満足する条
件で処理することが最大の特徴で、これにより耐熱時の
寸法安定性に優れた効果を発揮するのである。ホウ素化
合物を含む溶液中での延伸倍率（倍）（Ａ）／ホウ素化
合物を含む溶液中の浸漬時間（分）（Ｔ）の値が０．１
未満では製造効率が悪く、又光学性能が低くなり、一方
１．５を越えると偏光フィルムの光学性能が低下し、耐
熱時の寸法収縮が大きくなり好ましくない。

【００１７】かかるホウ素化合物の処理工程により、Ｐ
ＶＡ系フィルム中に含まれるホウ素含有量を３．５〜
５．８重量％、好ましくは４．０〜５．０重量％にする
ことが好ましく、光学特性の効果が顕著に発揮され、か
つ耐熱時の寸法収縮が軽減され、寸法安定性に優れた偏
光フィルムが得られる。該ホウ素含有量が３．５重量％
未満では偏光フィルムの寸法収縮は小さくなるが光学性
能が低下し、５．８重量％を越えると耐熱時の寸法収縮
が大きくなり、本発明の効果を顕著に発揮しない。又、
本発明では、上記の如く染色したＰＶＡ系フィルム（偏
光フィルム）をホウ素化合物を含む水溶液で処理するこ
とが好ましいが、該ホウ素化合物溶液中延伸処理を染色
の前あるいは染色と同時に行い、偏光フィルムとするこ
とも可能である。

【００１８】その後、必要に応じて水洗処理、乾燥処理
が施され、本発明の偏光フィルムが得られる。水洗処理
は５〜３０℃で２分間以下で行われ、乾燥処理は３０〜
８０℃で３０〜５００秒間行われる。乾燥処理を行った
後、得られた本発明のＰＶＡ系偏光フィルムには、その
両面又は片面に光学的透明度と機械的強度に優れた酢酸
セルロース系保護フィルムが貼り合わされる。

【００１９】該酢酸セルロース系保護フィルムとしては
酢酸セルロース系フィルム、アクリル系フィルム、ポリ
エステル系フィルム、ポリオレフィン系フィルム、ポリ
カーボネート系フィルム、ポリエーテルエーテルケト系
フィルム、ポリスルホン系フィルム等が挙げられるが、
好適には二酢酸セルロースフィルム、三酢酸セルロース
フィルム等の酢酸セルロース系フィルム用いられ、更
に、必要に応じて、上記樹脂フィルムにサリチル酸エス
テル系化合物、ベンゾフェノール系化合物、ベンゾトリ
アゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッ
ケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤を配合させることも
可能である。又、該保護フィルムの表面をアルカリでケ
ン化処理したり、プラズマ処理、グロー放電処理、コロ
ナ放電処理、高周波処理、電子線処理等を行うと、更に
効果的である。又、ＰＶＡ系偏光フィルムと保護フィル
ムとの接着に際しては、ＰＶＡ系、ウレタン系、アクリ
ル系等の接着剤が用いられる。

【００２０】かくして得られた偏光フィルムは、上記の
如き特定のホウ素化合物溶液中延伸処理工程を施した製
造方法からなることより、光学性能に優れ、かつ耐熱時
の寸法安定性に非常に優れた効果を示し、更に高いコン
トラストを有する偏光板となるため、液晶表示装置や車
両用途、各種工業計器類、家庭用電化製品の表示等に有
用で、視認性がよくなったり、目が疲れるといったこと
もなくなる等の効果も併せ持つのである。

【００２１】更に、上記偏光板（本発明の偏光フィルム
に保護フィルムを貼合したもの）には必要に応じて透明
な粘着剤層を通常知られている方法で設けることができ
る。該粘着剤層としてはアクリル酸エステル、例えばア
クリル酸ブチル、アクリル酸エチル、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸２−エチルヘキシル等とα−モノオレフ
ィンカルボン酸、例えばアクリル酸、マレイン酸、イタ
コン酸、メタクリル酸、クロトン酸等との共重合物（ア
クリルニトリル、酢酸ビニル、スチロールの如きビニル
単量体を添加したものも含む。）を主体とするものが、
偏光フィルムの偏光特性を阻害することがないので特に
好ましいが、これに限定されることなく、透明性を有す
る粘着剤であれば使用可能で、例えばポリビニルエーテ
ル系、ゴム系等でもよい。

【００２２】又、更に偏光板の片面（上記粘着剤が設け
られていない面）に各種機能層を設けることも可能であ
り、機能層としては、例えばアンチグレア層、ハードコ
ート層、アンチリフレクション層、ハーフリフレクショ
ン層、反射層、蓄光層、エレクトロルミネッセンス層な
どが挙げられ、更に各種２種以上の組み合わせをするこ
とも可能で、例えばアンチグレア層とアンチリフレクシ
ョン層、蓄光層と反射層、蓄光層とハーフリフレクショ
ン層、蓄光層と光拡散層、蓄光層とエレクトロルミネッ
センス層、ハーフリフレクション層とエレクトロルミネ
ッセンス層等の組み合わせが挙げられる。但し、これら
に限定されることはない。

【００２３】アンチグレア層とは、偏光板表面への蛍光
灯等の写り込み像を拡散し表示を見やすくしたり、指紋
等の付着を防止するためのもので、具体的には粒子径が
０．１〜２０μのシリカビーズ等の無機充填剤やアクリ
ル、スチレン、ジビニルベンゼン、メラミン、ベンゾグ
アナミン等の有機充填剤を配合したメラミン系樹脂、ウ
レタン系樹脂、アクリル系樹脂、アルキッド系樹脂、シ
リコーン系樹脂等の熱硬化性樹脂や多官能アクリル系の
紫外線或いは電子線等のエネルギー線硬化性樹脂等が用
いられ、保護フィルム層表面に、バーコート、ロールコ
ート、グラビアコート、エアナイフコート等の公知の塗
工方法により塗工される。該アンチグレア層の厚みは１
〜２０μ程度である。

【００２４】ハードコート層とは、表面硬度をＨ（鉛筆
硬度）以上にして耐擦傷性を付与するもので、具体的に
はメラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、
アルキッド系樹脂、シリコーン系樹脂等の熱硬化性樹脂
や多官能アクリル系樹脂を主成分とし、紫外線或いは電
子線等によるエネルギー線硬化性樹脂やＳｉＯ₂等の金
属酸化物等が用いられ、保護フィルム層表面に形成され
る。該層の形成方法としては、樹脂の場合にはバーコー
ト、ロールコート、グラビアコート、エアナイフコート
等の公知の塗工方法が、又金属酸化物の場合には真空蒸
着方法が好適に採用される。該ハードコート層の厚みは
１〜２０μ程度である。

【００２５】アンチリフレクション層とは、偏光板表面
での外光反射を抑制し表示を見やすくするためのもの
で、具体的にはフッ素系樹脂やＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、Ｚｒ
Ｏ₂、ＡｌＯ₃、ＴｉＯ₂等の金属酸化物等が用いられ、
保護フィルム層表面に形成される。該層の形成方法とし
ては、樹脂の場合にはバーコート、ロールコート、グラ
ビアコート、エアナイフコート等の公知の塗工方法が、
又金属酸化物の場合には真空蒸着方法が好適に採用さ
れ、該金属酸化物は２層以上積層されることが多く、該
アンチリフレクション層の厚みは０．０５〜１μ程度で
ある。又、上記アンチグレア層と該アンチリフレクショ
ン層の２層を併用して用いることも有効である。

【００２６】ハーフリフレクション層とは、昼間は外光
反射を利用し、夜間はバックライトからの透過光を利用
してディスプレイを表示させて低消費電力化を図るため
のもので、保護フィルム層の外側に形成される。具体的
には、鱗片状雲母、二酸化チタン被覆雲母、板状魚鱗
箔、六角板状塩基性炭酸鉛、酸塩化ビスマス等の微細雲
母又は真珠顔料、微小ガラスビーズ、ガラス粉砕粒等の
ガラス製品、プラスチックチップ、プラスチック粉砕粒
等のプラスチック製品等の透明及び／又は半透明粒子を
含有した粘着剤を用いて、（メタ）アクリル系樹脂、ア
セテート、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレ
タン等の光学的透明性を有する合成樹脂層を偏光板と貼
り合わせたり、上記合成樹脂層上に上記透明及び／又は
半透明粒子を被着したフィルムを粘着剤を介して偏光板
と貼り合わせたりする等の方法が採られるが、これに限
られるものではない。該ハーフリフレクション層付き偏
光板は実用的には液晶パネルの下偏光板として用いら
れ、ハーフリフレクション層が下層となるように、即ち
ハーフリフレクション層が設けられていない保護層が液
晶パネルに貼合される。

【００２７】反射層とは、昼間に外光反射を利用してデ
ィスプレイを表示させてバックライトを省略するための
もので、具体的には三酢酸セルロース系フィルム等の酢
酸セルロース系フィルム、ポリエチレンテレフタレート
等の基材上にアルミニウム、銀等の高反射率を有する金
属を蒸着し、粘着剤を介して偏光板（一方の保護層）に
貼合される。該反射層付き偏光板は実用的には液晶パネ
ルの下偏光板として用いられ、反射層が下層となるよう
に、即ち反射層が設けられていない保護層が液晶パネル
に貼合される。

【００２８】蓄光層とは、昼間に外光を蓄えることで夜
間にはバックライト無しでディスプレイを表示させるこ
とができるためのもので、具体的には、硫化亜鉛、或い
は硫化カルシウムを母体とし、これに賦活剤として銅を
添加し、融剤を混ぜて焼成した緑色の蛍光体がよく用い
られたり、又、該蓄光型の塗料にラジウムやストロンチ
ウム等のα線、β線を放射する元素を微量加えて自ら発
光する発光型の塗料とし用いられる。該蓄光層は偏光板
の片面（一方の保護層）にアクリル樹脂等のバインダー
樹脂とともにコーティングされ、該蓄光層付き偏光板は
実用的には液晶パネルの下偏光板として用いられ、蓄光
層が下層となるように、即ち蓄光層が設けられていない
保護層が液晶パネルに貼合される。又、蓄光層の下層に
反射層を設けたり、蓄光層と偏光板の間にハーフリフレ
クション層を設けたすることも有効である。

【００２９】エレクトロルミネッセンス層とは、従来の
バックライトに代わり軽量化、薄膜化が図られるための
もので、実用的には液晶パネルの下偏光板の更に下層に
設けられる。エレクトロルミネッセンス材料としては、
無機材料のものと有機材料のものとがあり、無機材料と
しては硫化亜鉛等の蛍光体粒子等が挙げられ、有機材料
としてはトリス（８−キノリノラト）アルミニウム錯
体、ビス（ベンゾキノリノラト）ベリリウム錯体等が挙
げられる。実際の使用に際しては、エレクトロルミネッ
センス層の片面（偏光板側）にＩＴＯ電極を、もう片面
に誘電体層及び背面電極を設けて、ＩＴＯ電極と背面電
極に電流を通し発光させる。又、エレクトロルミネッセ
ンス層と偏光板の間に蓄光層又はハーフリフレクション
層を設けたりすることも有効である。

【００３０】又、本発明の偏光フィルムは、ＰＶＡ、ポ
リカーボネート、ポリエステル、ポリアリレート、ポリ
イミド、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリサルホ
ン、ポリエーテルサルホン、ポリビニリデンフルオライ
ド／ポリメチルメタアクリレート、液晶ポリマー、トリ
アセチルセルロース系樹脂、環状ポリオレフィン、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体ケン化物、ポリ塩化ビニル等
からなる位相差フィルムと積層して楕円偏光板としても
有用である。

【００３１】

【実施例】以下、本発明について実施例を挙げて具体的
に説明する。尚、実施例中「部」、「％」とあるのは特
に断りのない限り重量基準である。又、本発明でいう偏
光度は次式で示される。［（Ｈ₁₁−Ｈ₁）／（Ｈ₁₁＋Ｈ₁）］^1/2×１００（％）ここでＨ₁₁は２枚の偏光フィルムサンプルの重ね合わせ
時において、偏光フィルムの配向方向が同一方向になる
ように重ね合わせた状態で分光光度計を用いて測定した
透過率（％）、Ｈ₁は２枚のサンプルの重ね合わせた時
において、偏光フィルムの配向方向が互いに直交する方
向になるように重ね合わせた状態で測定した透過率
（％）である。

【００３２】実施例１平均重合度３８００、ケン化度９９．５モル％のＰＶＡ
を水に溶解し、５．０％の溶液を得た。該溶液をポリエ
チレンテレフタレートフィルム上に流延後乾燥し原反フ
ィルム（８０μｍ）を得た。該フィルムをチャックに装
着し、ヨウ素０．２ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム６０ｇ／ｌ
よりなる水溶液中に３０℃にて２４０秒浸漬し、次いで
ホウ酸５０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム４０ｇ／ｌの組成か
らなる水溶液に５分間浸漬すると共に、同時に５．０倍
に一軸延伸した（ホウ素化合物を含む溶液中での延伸倍
率（Ａ）／ホウ素化合物を含む溶液中の浸漬時間（Ｔ）
の値＝１．０）後、室温で２４時間乾燥し、本発明の偏
光フィルムを得た（ホウ素含有量は４．７％）。次に得
られた偏光フィルムの両面に三酢酸セルロースフィルム
をＰＶＡ系接着剤（４％水溶液）により貼合し偏光板を
得、該偏光板の偏光度、透過率を高速多波長複屈折測定
装置（大塚電子（株）製：ＲＥＴＳ−２０００）により
測定した。又、該偏光板を８０℃、５００時間放置した
後の寸法収縮率を測定した。尚、寸法収縮率は、該偏光
板を１８０ｍｍ（ＭＤ方向）×２５ｍｍ（ＴＤ方向）の
大きさにサンプリングし、耐熱試験前後のＭＤ方向（一
軸延伸方向）の長さを測定し、下式より算出した。寸法収縮率＝（耐熱試験前のＭＤ方向の長さ−耐熱試験
後のＭＤ方向の長さ）×１００／耐熱試験前のＭＤ方向
の長さ

【００３３】実施例２実施例１において、ホウ酸中での延伸倍率を５．０倍、
浸漬時間を１０分にした（（Ａ）／（Ｔ）＝０．５）以
外は同様に行い、偏光フィルムを得（ホウ素含有量は
４．８％）、更に実施例１と同様に三酢酸セルロースフ
ィルムを貼合し偏光板を得た。該偏光板の偏光度、透過
率、寸法収縮率を実施例１と同様に測定した。

【００３４】実施例３実施例１において、ホウ酸中での延伸倍率を６．０倍、
浸漬時間を３０分にした（（Ａ）／（Ｔ）＝０．２）以
外は同様に行い、偏光フィルムを得（ホウ素含有量は
４．８％）、更に実施例１と同様に三酢酸セルロースフ
ィルムを貼合し偏光板を得た。該偏光板の偏光度、透過
率、寸法収縮率を実施例１と同様に測定した。

【００３５】実施例４実施例１において、平均重合度２６００、ケン化度９
９．５％のＰＶＡを用いた以外は同様に行い、偏光フィ
ルムを得（ホウ素含有量は４．５％）、更に実施例１と
同様に三酢酸セルロースフィルムを貼合し偏光板を得
た。該偏光板の偏光度、透過率、寸法収縮率を実施例１
と同様に測定した。

【００３６】実施例５実施例１において、平均重合度１７００、ケン化度９
９．５％のＰＶＡを用いた以外は同様に行い、偏光フィ
ルムを得（ホウ素含有量は４．３％）、更に実施例１と
同様に三酢酸セルロースフィルムを貼合し偏光板を得
た。該偏光板の偏光度、透過率、寸法収縮率を実施例１
と同様に測定した。

【００３７】実施例６実施例１において、ホウ酸濃度を４０ｇ／ｌにした以外
は同様に行い、偏光フィルムを得（ホウ素含有量は４．
３％）、更に実施例１と同様に三酢酸セルロースフィル
ムを貼合し偏光板を得た。該偏光板の偏光度、透過率、
寸法収縮率を実施例１と同様に測定した。

【００３８】実施例７実施例１において、ホウ酸濃度を７０ｇ／ｌにした以外
は同様に行い、偏光フィルムを得（ホウ素含有量は５．
８％）、更に実施例１と同様に三酢酸セルロースフィル
ムを貼合し偏光板を得た。該偏光板の偏光度、透過率、
寸法収縮率を実施例１と同様に測定した。

【００３９】比較例１実施例１において、ホウ酸中での延伸倍率を５．０倍、
浸漬時間を２．５分にした（（Ａ）／（Ｔ）＝２．０）
以外は同様に行い、偏光フィルムを得（ホウ素含有量は
４．６％）、更に実施例１と同様に三酢酸セルロースフ
ィルムを貼合し偏光板を得た。該偏光板の偏光度、透過
率、寸法収縮率を実施例１と同様に測定した。

【００４０】比較例２実施例１において、ホウ酸中での延伸倍率を５．０倍、
浸漬時間を１００分にした（（Ａ）／（Ｔ）＝０．０
５）以外は同様に行い、偏光フィルムを得（ホウ素含有
量は５．２％）、更に実施例１と同様に三酢酸セルロー
スフィルムを貼合し偏光板を得た。該偏光板の偏光度、
透過率、寸法収縮率を実施例１と同様に測定した。

【００４１】比較例３実施例１において、ＰＶＡ系フィルムを染色し、５．０
倍に一軸延伸した後、ホウ酸溶液中に４５分浸漬した以
外は同様に行い、偏光フィルムを得（ホウ素含有量は
５．１％）、更に実施例１と同様に三酢酸セルロースフ
ィルムを貼合し偏光板を得た。該偏光板の偏光度、透過
率、寸法収縮率を実施例１と同様に測定した。実施例、
比較例のそれぞれの測定結果を表１に示す。

【００４２】

【表１】偏光度透過率寸法収縮率ホウ素含有量（％）（％）（％）（％）実施例１９９．９４３．５１．２４．７〃２９９．９４３．８１．１４．８〃３９９．９４４．０１．１４．８〃４９９．９４３．２１．１４．５〃５９９．９４３．８１．１４．３〃６９９．９４３．５１．２４．３〃７９９．９４３．５１．３５．８比較例１９８．０４３．５１．４４．６〃２９６．０４３．５１．１５．２〃３９８．０４３．５１．１５．１

【００４３】

【発明の効果】本発明の偏光フィルムは、上記の如き特
定のホウ素化合物溶液中延伸処理工程を施した製造方法
からなるため、光学性能に優れ、かつ耐熱時の寸法安定
性に非常に優れた効果を示し、更に高いコントラストを
有する偏光板となるため、液晶表示装置や車両用途、各
種工業計器類、家庭用電化製品の表示等に有用で、視認
性がよくなったり、目が疲れるといったこともなくなる
等の効果も併せ持つものである。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ポリビニルアルコール系フィルムを、ホ
ウ素化合物を含む溶液中で延伸するに際して、「ホウ素
化合物を含む溶液中での延伸倍率（倍）／ホウ素化合物
を含む溶液中の浸漬時間（分）」の値が０．１〜１．５
であることを特徴とする偏光フィルムの製造方法。
【請求項２】ポリビニルアルコール系フィルムが、ヨ
ウ素化合物又は二色性染料の吸着配向により偏光性能が
付与されたポリビニルアルコール系フィルムであること
を特徴とする請求項１記載の偏光フィルムの製造方法。
【請求項３】ホウ素化合物を含む溶液中で延伸するに
際して、ポリビニルアルコール系フィルム中に含まれる
ホウ素含有量を３．５〜５．８重量％にすることを特徴
とする請求項１又は２記載の偏光フィルムの製造方法。
【請求項４】ポリビニルアルコール系フィルムを４．
５〜７．０倍に延伸することを特徴とする請求項１、２
又は３記載の偏光フィルムの製造方法。
【請求項５】ポリビニルアルコール系フィルムが重合
度２６００以上のポリビニルアルコール系樹脂からなる
ことを特徴とする請求項１〜４いずれか記載の偏光フィ
ルムの製造方法。