JPH07294734A - 偏光板 - Google Patents

偏光板

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Publication number
JPH07294734A
JPH07294734A JP11382694A JP11382694A JPH07294734A JP H07294734 A JPH07294734 A JP H07294734A JP 11382694 A JP11382694 A JP 11382694A JP 11382694 A JP11382694 A JP 11382694A JP H07294734 A JPH07294734 A JP H07294734A
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JP
Japan
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film
polarizing plate
polarizing
vinyl acetate
ethylene
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Pending
Application number
JP11382694A
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English (en)
Inventor
Shuichi Kitamura
村 秀 一 北
Kuniyasu Kato
藤 邦 泰 加
Hiroyuki Nakajima
島 寛 幸 中
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Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd filed Critical Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、偏光フィルムと酢酸セルロース系
保護フィルムとの接着性に優れるため、耐久性が向上
し、耐湿熱性に優れた偏光板を提供する。 【構成】 カルボキシル基を導入した特定のエチレン−
酢酸ビニル系共重合体ケン化物、ホウ素化合物及びエチ
レン−酢酸ビニル系共重合体ケン化物の溶媒からなり、
ホウ素化合物の配合量がエチレン−酢酸ビニル系共重合
体ケン化物100重量部に対して0.05〜30重量部
である樹脂溶液を接着剤として用いて、偏光フィルムと
酢酸セルロース系保護フィルムを接着してなる偏光板。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は偏光フィルムと保護フィ
ルムとの接着性及び耐湿熱性に優れた偏光板に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】近年、卓上電子計算機、電子時計、ワー
プロ、自動車や機械類の計器類等に液晶表示装置が用い
られ、これらに伴い偏光板の需要も増大している。偏光
板は一般に偏光能を有する偏光フィルムの両面あるいは
片面に、接着剤層を介して保護フィルムを形成させたも
のである。現在、知られている代表的なポリビニルアル
コール系偏光フィルムとしてはポリビニルアルコール系
フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色
させたものがあり、これらはポリビニルアルコールの水
溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色
した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐
久性処理を行ったものが用いられ、保護フィルムとして
は、酢酸セルロース系フィルムが表面保護フィルムとし
て光学的透明性、無配向性等に優れているため汎用され
ている。
【0003】ポリビニルアルコール系フィルムも酢酸セ
ルロース系フィルムも親水性であるため、親水性の接着
剤を用いて貼合しているのが一般的である。しかし、こ
れでは得られる偏光板は長時間高湿雰囲気下においては
吸水率が大きく、吸水するにつれて接着力が低下し、偏
光物性の低下が起こって、いわゆる耐湿性や寸法安定性
に問題が生じたり、又、高温下に置かれると偏光度も低
下して耐熱性が損なわれたりする場合がある。
【0004】これらの問題を解決するため、例えば、特
開昭56−50301号公報では、保護フィルムの酢酸
セルロース系フィルム表面をケン化処理して、接着剤と
酢酸セルロースとの接着力を強固にし、耐湿性、耐熱性
及び寸法安定性を改善することが提案されている。
【0005】又、特開昭61−245107号公報で
は、偏光フィルムの表面をポリビニルアルコール、カル
ボキシメチルセルロース、ウレタン系、アクリル系、エ
ポキシ系等の親水性高分子の水溶液又は接着剤で一度処
理した後、再度接着剤を介して保護フィルムを接着する
ことによって、接着強度の改善された偏光板を提供する
ことが提案されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開昭
56−50301号公報では、保護フィルムと接着剤層
との接着力は改善されるものの、偏光フィルムと接着剤
層との接着力に関しては従来のままで何ら考慮されてお
らず、これでは高温、高湿状態において充分な耐久性が
得られたとは言い難い。即ち、偏光フィルムの表面は内
部よりも吸着せしめたヨウ素等が多いことや、更に高
温、高湿状態ではヨウ素等が偏光フィルムの表面に一部
移行してしまうこと等が原因になって接着性を悪くす
る。これらを防止するためには接着剤層を厚くすること
が考えられるが、接着剤層を厚くすると、工業的に均一
塗布が困難となり、光学特性についても不利となるため
に望ましい方法ではない。
【0007】特開昭61−245107号公報について
は、偏光フィルムと接着剤層、及び接着剤層と保護フィ
ルムの接着性の改善を目指しているもので、いくらか実
用性の高い製品が得られるものの耐湿熱性等については
まだ充分とはいえず、更に偏光フィルムを接着剤で処理
した後、再度接着剤を使用する必要があり、作業工程が
繁雑となり、又、ウレタン系やエポキシ系の接着剤の使
用に際しては、混合撹拌した二液硬化型の接着剤を塗布
するため、該接着剤の可使時間の影響を免れることはで
きず工程管理は繁雑となり、まだまだ問題が残されると
ころである。
【0008】本出願人も特開平2−135402号公報
において、耐湿熱性及び寸法安定性を向上させるため、
ポリビニルアルコール系偏光フィルムと酢酸セルロース
系保護フィルムの接着剤にホウ素化合物の水溶液を使用
することを提案しているが、該方法では、接着性の点で
改善された偏光板が得られているが、該偏光板ではまだ
まだ満足するというものではなく、従来の偏光板を更に
上回る耐湿熱性を持った偏光板の出現が望まれているの
が実情である。
【0009】
【課題を解決するための手段】しかるに、本発明者等は
かかる課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、エチレ
ン含有量10〜50モル%、ケン化度90モル%以上
で、かつカルボキシル基を導入したエチレン−酢酸ビニ
ル系共重合体ケン化物(以下、エチレン−酢酸ビニル共
重合体ケン化物をEVOHと略記することがある)、ホ
ウ素化合物及びEVOHの溶媒からなり、好ましくはカ
ルボキシル基を導入したEVOHのカルボキシル基含有
量が(I)式を満足し、かつホウ素化合物としてホウ酸
を用い、しかも、ホウ素化合物の配合量がEVOH10
0重量部に対して0.05〜30重量部である樹脂溶液
を接着剤として用いて、偏光フィルムと酢酸セルロース
系保護フィルムを接着してなる偏光板が非常に強固に接
着した偏光板となり、耐湿熱性に優れた偏光板として有
用であることを見出し、本発明を完成した。 10≦Y≦665e-0.054Et・・・(I) Y:カルボキシル基含有量(μeq/g) Et:エチレン含有量(モル%)
【0010】更に、本発明においては、上記特定のEV
OHの溶媒が水と炭素数1〜4の低級アルコールの混合
溶媒である場合、本発明の樹脂溶液を接着剤として用い
て偏光フィルムと酢酸セルロース系保護フィルムを接着
するとき、特に優れた耐湿熱性を持った偏光板が得られ
る。以下、本発明について具体的に説明する。
【0011】本発明の偏光フィルムは、ポリビニルアル
コール系フィルムの一軸延伸フィルムである。ポリビニ
ルアルコールは通常、酢酸ビニルを重合したポリ酢酸ビ
ニルをケン化して製造されるが、本発明では必ずしもこ
れに限定されるものではなく、少量の不飽和カルボン酸
(塩、エステル、アミド、ニトリル等を含む)、オレフ
ィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸塩等、酢
酸ビニルと共重合可能な成分を含有していても良い。ポ
リビニルアルコールにおける平均ケン化度は85〜10
0モル%、好ましくは98〜100モル%が実用的であ
る。又、本発明のポリビニルアルコールの平均重合度と
しては任意のものが使用可能であるが、1500〜50
00、好ましくは2600〜5000、より好ましくは
3000〜5000が有利である。
【0012】本発明の偏光フィルムの製造法としては、
ポリビニルアルコールを水又は有機溶媒に溶解した原液
を流延製膜して、該フィルムを延伸してヨウ素あるいは
二色性染料の水溶液に浸漬し染色するか、延伸と染色を
同時に行うか、ヨウ素あるいは二色性染料により染色し
て延伸するかした後、ホウ素化合物処理する方法が挙げ
られる。又、染色した後ホウ素化合物の溶液中で延伸す
る方法等もあり、適宜選択して用いることができる。原
液調製に際して使用される溶媒としては、例えば水はも
ちろん、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N−メチ
ルピロリドン、グリセリン、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、テトラエチレングリコール、トリメチロ
ールプロパン等の多価アルコール、エチレンジアミン、
ジエチレントリアミン等のアミン類及びこれらの混合物
が用いられる。
【0013】上記有機溶媒中には少量、例えば5〜30
重量%の水を含有させても差し支えない。原液中のポリ
ビニルアルコールの濃度は5〜20重量%が実用的であ
る。該溶剤を用いて得られたポリビニルアルコール製膜
原液は、キャスト法、押出法等任意の方法で製膜され
る。製膜方法としては乾・湿式製膜法にて、即ち、該溶
液を口金スリットから一旦空気中、又は窒素、ヘリウ
ム、アルゴン等の不活性雰囲気中に吐出し、次いで凝固
浴中に導いて未延伸フィルムを形成せしめる。又は口金
から吐出された製膜溶液は一旦ローラー、あるいはベル
トコンベアー等の上で溶剤を一部乾燥した後で凝固浴中
に導入しても差し支えない。
【0014】又、凝固浴に用いる溶媒には前記ポリビニ
ルアルコールの溶剤と混和性を有するもので、例えばメ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等の
アルコール類、アセトン、ベンゼン、トルエン等が挙げ
られる。ポリビニルアルコール系フィルムを得る方法と
しては、その他ポリビニルアルコールの溶液を凝固浴中
に導入してフィルム化するいわゆるゲル製膜法等も実施
可能である。
【0015】原反フィルムとしてはその膜厚は30〜1
00μm、好ましくは50〜90μmが必要である。3
0μm以下では延伸不能となり、100μm以上では膜
厚精度が低下し不適当である。前記の如くして得られる
ポリビニルアルコール未延伸フィルムは次に延伸及び染
色、ホウ素化合物処理が施される。延伸と染色更にホウ
素化合物処理は別々に行っても同時に行っても良いが、
本発明では染色工程、ホウ素化合物処理工程の少なくと
も一方の工程中に一軸延伸を実施することが望ましい。
【0016】延伸は一軸方向に3.5〜10倍、好まし
くは4.5〜7倍延伸することが望ましい。この際、前
記と直角方向にも若干の延伸(幅方向の収縮を防止する
程度あるいはそれ以上の延伸)を行っても差し支えな
い。延伸時の温度条件は40〜130℃から選ぶのが望
ましい。更に、かかる延伸倍率は最終的に上記の範囲に
設定されれば良く、延伸操作は一段階のみならず、製造
工程の任意の範囲の段階に実施すれば良い。
【0017】フィルムへの染色つまり偏光素子の吸着は
フィルムに偏光素子を含有する液体を接触させることに
よって行われる。通常はヨウ素−ヨウ化カリの水溶液が
用いられ、ヨウ素の濃度は0.1〜2g/l、ヨウ化カ
リの濃度は10〜50g/l、ヨウ素/ヨウ化カリの重
量比は20〜100が適当である。染色時間は30〜5
00秒程度が実用的である。処理浴の温度は5〜50℃
が好ましい。水溶媒以外に水と相溶性のある有機溶媒を
少量含有させても差し支えない。接触手段としては浸
漬、塗布、噴霧等の任意の手段が適用できる。
【0018】染色処理されたフィルムは次いでホウ素化
合物によって処理される。ホウ素化合物としてはホウ
酸、ホウ砂が実用的である。ホウ素化合物は水溶液又は
水−有機溶媒混合液の形で濃度0.5〜2モル/l程度
で用いられ、液中には少量のヨウ化カリを共存させるの
が実用上望ましい。処理法は浸漬法が望ましいが勿論塗
布法、噴霧法も実施可能である。処理時の温度は50〜
70℃程度、処理時間は5〜20分程度が好ましく、又
必要に応じて処理中に延伸操作を行っても良い。
【0019】このようにして得られたポリビニルアルコ
ールの偏光フィルムにはその両面あるいは片面に光学的
透明度と機械的強度に優れた酢酸セルロース系保護フィ
ルムが貼り合わされる。該酢酸セルロース系保護フィル
ムとしては二酢酸セルロース、三酢酸セルロース等のフ
ィルムがある。又、該保護フィルムの表面をアルカリで
ケン化処理したり、プラズマ処理、グロー放電処理、コ
ロナ放電処理、高周波処理、電子線処理等を行うと、更
に効果的である。
【0020】本発明では、上記の如く得られたポリビニ
ルアルコール系偏光フィルムと酢酸セルロース系保護フ
ィルムとの接着に際して、接着剤としてカルボキシル基
を導入したEVOH、ホウ酸又はホウ砂等のホウ素化合
物及びEVOHの溶媒からなる樹脂溶液を用いることが
最大の特徴である。
【0021】本発明で用いるEVOHは、エチレン含有
量が10〜50モル%、好ましくは15〜40モル%、
酢酸ビニル成分のケン化度が90モル%以上、好ましく
は95モル%以上で、好ましくは導入したカルボキシル
基の含有量が(I)式を満足する範囲でなければならな
い。更に好ましくはカルボキシル基含有量が(II)式を
満足するとき、本発明の効果を顕著に示す。 10≦Y≦665e-0.06Et・・・(II) Y:カルボキシル基含有量(μeq/g) Et:エチレン含有量(モル%) エチレン含有量が10モル%未満では接着層の耐水性が
低下し、一方50モル%を越えると基材との初期接着性
が低下し、又ケン化度が90モル%未満では接着層の耐
水性が低下して、本発明の効果は得られない。
【0022】更にカルボキシル基含有量が10μeq/
g未満では接着強度が不足することになり、(I)式の
上限を越えると耐水性が低下することとなり、本発明の
優れた接着性及び耐湿熱性がやや低下する。即ち、該E
VOHの組成が上記の範囲の時に、特に偏光フィルム及
び保護フィルムとの接着が強固になり、耐湿熱性に優れ
た偏光板が得られるのである。
【0023】上記のカルボキシル基を導入したEVOH
を得る方法としては、任意の方法があり、主に以下の
(1)〜(4)が挙げられるが、これに限るものではな
い。 (1)エチレンと酢酸ビニル、ギ酸ビニル、プロピオン
酸ビニル等のビニルエステルとエチレン性不飽和カルボ
ン酸との共重合体ケン化物。エチレン性不飽和カルボン
酸としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロト
ン酸等のモノカルボン酸をはじめ、無水マレイン酸、フ
マル酸、無水イタコン酸等のジカルボン酸及びその塩、
例えばナトリウム塩、又はそのモノエステル、例えばモ
ノメチル、モノエチル、モノプロピル、モノブチルエス
テル、又はジエステル等がいずれも用いられるが、ジエ
ステルの場合には、共重合体をケン化する時に酢酸ビニ
ルの部分だけでなく該ジエステルの少なくとも一方のエ
ステル基もケン化され得るようにケン化条件を定めるこ
とが必要である。
【0024】(2)EVOH又はその誘導体の後変性に
よってカルボキシル基を導入したもの。即ち、マレイン
酸等の多塩基酸もしくはその無水物によるエステル化、
モノクロル酢酸等のハロゲノアルキルカルボン酸による
カルボキシアルキル化、グリオキシル酸等のカルボキシ
ル基含有アルデヒドによるアセタール化等によりカルボ
キシル基を導入したもの。 (3)EVOH又はその誘導体の存在下にアクリル酸、
メタクリル酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、フマ
ル酸等、前記(1)で列挙したエチレン性不飽和カルボ
ン酸又はその塩、アルキルエステルを重合し、EVOH
にカルボン酸をグラフト重合した重合体。上記(2)、
(3)におけるカルボキシル基を含有するEVOHは必
要に応じて、ホルマール化、アセタール化、ブチラール
化、ウレタン化、スルホン酸化のエステル化、カチオン
化等、更に変性されても良い。
【0025】(4)通常の工業的製造法により得られる
一般のEVOHを過酸化物等で処理したもの。上記
(1)〜(4)の製造法において、本発明で特に好まし
いのは(4)の方法であり、かかる方法について以下詳
細に述べる。エチレン含有量10〜50モル%、ケン化
度90モル%以上の一般のEVOHを後述する水と低級
アルコールの混合溶媒あるいはジメチルスルホキシド
(DMSO)、N,N−ジメチルホルムアマイド(DM
F)等の溶剤に溶解させる。該EVOHの濃度は、1〜
50重量%が適当である。該溶液に過酸化水素(通常は
35重量%水溶液)をEVOHに対してEVOH/過酸
化水素水(35重量%水溶液)=1/0.03〜1/3
(重量比)になるように添加し、撹拌下で40〜90
℃、1〜50時間、好ましくは1〜20時間処理する。
又、場合によっては、反応速度を調整するため金属触媒
(CuCl2、CuSO4、MoO3、FeSO4、TiC
4、SeO2等)を溶液当たり1〜5000ppm、好
ましくは10〜3000ppm程度添加することが好ま
しい。又、この時の水、アルコール溶剤、EVOH、過
酸化水素の添加順序は上記の順序に限定されるものでは
ない。勿論、上記配合物を一括に仕込むことも可能であ
る。処理の終了時点は、スタート時の溶液の粘度が初期
粘度の1割程度以下となった点を1つの目安とする。
【0026】こうして得られたEVOH溶液は、そのま
ま本発明のEVOH溶液としてホウ酸あるいはホウ砂等
のホウ素化合物と配合し用いることができるが、好まし
くはカタラーゼ等の酵素を添加して残存過酸化水素を分
解除去した方が良い。尚、残存過酸化水素の除去方法は
上記方法に限るものではなく、本発明の効果を阻害しな
い限り公知の除去方法が採用され得る。該溶液より流動
層乾燥機、気流乾燥機、凍結乾燥機等による公知の方法
により、一旦水、アルコールあるいはDMSO、DMF
等の溶媒を除去して目的とするEVOHを得た後、ある
いは上記EVOH溶液の溶媒置換により、後述する如き
本発明で規定する水とアルコールの混合溶媒等に溶解さ
れて任意の溶液をつくることもできる。
【0027】又、該EVOHは、更に少量のプロピレ
ン、イソブテン、α−オクテン、α−ドデセン、α−オ
クタデセン等のα−オレフィン、不飽和カルボン酸又は
その塩・部分アルキルエステル・完全アルキルエステル
・ニトリル・アミド・無水物、不飽和スルホン酸又はそ
の塩等のコモノマーを共重合体成分として含んでいても
差し支えない。但し本発明ではこれらに限定されるもの
ではない。
【0028】本発明においては、上記の如きEVOHの
溶媒として水−アルコールの混合溶媒が用いられ、水が
10〜90重量%と炭素数1〜4の低級アルコール、特
にプロピルアルコール又はブチルアルコール、メチルア
ルコール、エチルアルコールの少なくとも1種が90〜
10重量%の混合物を用いることが望ましい。該水の量
は10〜90重量%、好ましくは30〜70重量%であ
り、10重量%以下又は90重量%以上では均一な溶液
が得難く接着剤層が不透明になるという問題点が生じ
る。アルコール成分のプロピルアルコールとしてはn−
プロピルアルコール、iso−プロピルアルコールが、
又ブチルアルコールとしてはn−ブチルアルコール、i
so−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、
tert−ブチルアルコール等が挙げられるが、iso
−プロピルアルコールが好適に使用される。
【0029】かくして得られたカルボキシル基を導入し
たEVOHあるいはEVOH溶液にはホウ素化合物が配
合される。かかるEVOHとホウ素化合物の配合量につ
いては、本発明のEVOH100重量部に対してホウ素
化合物0.05〜30重量部、好ましくは0.05〜2
0重量部、更に好ましくは0.05〜10重量部配合し
なければならない。該ホウ素化合物の配合量が0.05
重量部未満では充分な架橋が生起しないため接着性が得
られず、又30重量部を越えると使用量の割には接着性
が上がらない。EVOH、ホウ素化合物、溶媒の混合順
序については特に制限されず、一括仕込みやEVOHを
溶媒で溶解した溶液にホウ素化合物を添加したり、EV
OHを後から添加する等、適宜選択される。そして、該
配合物は偏光フィルムと保護フィルムとの接着剤として
塗布されるわけであるが、その際かかる樹脂溶液の濃度
は特に制限はないが、各フィルムへの塗工性や放置安定
性等を考慮すれば、1〜50重量%、好ましくは1〜3
0重量%が望ましい。
【0030】通常、該接着剤は偏光フィルムあるいは保
護フィルム上に均一な膜を形成するように塗布されるの
が有利であり、塗布に際しては、乾燥後の厚みが0.0
1〜10μm、好ましくは0.05〜5μmとなるよう
にするのが実用的である。0.01μm未満では接着力
が不充分であり、一方、10μmを越える場合は、使用
量の割には効果は増加せず、又外観が悪化し、実用的で
はない。塗布操作は必ずしもロール等を用いる塗布手段
に限定されるものではなく、噴霧法、浸漬法等の手段も
含む。又、かかる接着剤には、ポリビニルアルコール等
の水溶性高分子を併用しても差し支えない。
【0031】上記偏光フィルムの少なくとも一方の面に
本発明の樹脂溶液を塗布し、上記酢酸セルロース系保護
フィルムと貼り合わせ、30〜100℃、好ましくは5
0〜80℃で0.5〜10分間、好ましくは1〜5分間
熱処理を行うことにより、偏光フィルム面と保護フィル
ム面が強固に接着した偏光板が得られる。又、酢酸セル
ロース系保護フィルムに該樹脂溶液を塗布し、偏光フィ
ルムと貼り合わせても差し支えない。
【0032】更に、上記偏光板には必要に応じて透明な
感圧性接着層を通常知られている方法で設けることがで
きる。即ち、該偏光板は感圧性接着剤を用い液晶セル面
に接着するか、あるいは一方又は両方の面に感圧性接着
剤を形成しておいて液晶セル面に貼着することによって
良好な液晶表示装置を提供することができる。該感圧性
接着層としてはアクリル酸エステル、例えばアクリル酸
ブチル、アクリル酸エチル、アクリル酸メチル、アクリ
ル酸2−エチルヘキシル等とα−モノオレフィンカルボ
ン酸、例えばアクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、メ
タクリル酸、クロトン酸等との共重合物(アクリルニト
リル、酢酸ビニル、スチロールの如きビニル単量体を添
加したものも含む。)を主体とするものが、偏光フィル
ムの偏光特性を阻害することがないので特に好ましい
が、これに限定されることなく、透明性を有する感圧性
接着剤であれば使用可能で、例えばポリビニルエーテル
系、ゴム系等でもよい。
【0033】かくして得られた偏光板は、偏光フィルム
と酢酸セルロース系保護フィルムとの接着性に優れるた
め、耐久性が向上し、高温、高湿状態で長期間放置して
もその偏光性が低下しないという特性を持ち、かかる特
性を利用して液晶表示体の用途に用いられ、特に車両用
途、各種工業計器類、家庭用電化製品の表示等に有用で
ある。
【0034】
【作用】本発明は、偏光フィルムに酢酸セルロース系保
護フィルムを接着する際、接着剤としてカルボキシル基
を導入したEVOH、ホウ素化合物及びEVOHの溶媒
からなる樹脂溶液を用いることにより、強固な接着性が
得られるものであり、延いては耐湿熱性に優れた偏光板
を得ることができる。
【0035】
【実施例】以下、本発明について実施例を挙げて具体的
に説明する。尚、実施例中「部」、「%」とあるのは特
に断りのない限り重量基準である。又、本発明でいう偏
光度は
【数1】 で示され、H11は2枚の偏光フィルムサンプルの重ね合
わせ時において、偏光フィルムの配向方向が同一方向に
なるように重ね合わせた状態で分光光度計を用いて測定
した透過率(%)、H1は2枚のサンプルの重ね合わせ
時において、偏光フィルムの配向方向が互いに直交する
方向になるように重ね合わせた状態で測定した透過率
(%)である。
【0036】実施例1 平均重合度3800、ケン化度99.5モル%、厚さ8
0μmのPVA系フィルムをヨウ素0.2g/l、ヨウ
化カリ60g/lよりなる水溶液中に30℃にて240
秒浸漬し、次いでホウ酸70g/l、ヨウ化カリ30g
/lの組成の水溶液に浸漬すると共に、同時に6倍に一
軸延伸しつつ5分間にわたってホウ酸処理を行い、室温
で24時間乾燥して偏光フィルムを得た。アルカリで表
面処理した三酢酸セルロースフィルムに、本発明のEV
OH(カルボキシル基含有量100μeq/g)100
部に対してホウ酸10部からなる樹脂溶液(濃度6%)
を乾燥後の厚みが0.1μmとなるように塗布し、上記
偏光フィルムの両面に貼り合わせ、80℃、2分間、熱
風乾燥機中で熱処理を行い偏光板を得た。
【0037】尚、上記EVOHは、水50%、iso−
プロピルアルコール50%を含む混合溶液73部にEV
OH(エチレン含有量27モル%、ケン化度99.6モ
ル%、210℃で2160gの荷重をかけた時のMI
(メルトインデックス)8)15部を加え70〜80℃
にて約2時間撹拌し、透明な溶液を調製して、次に該溶
液に過酸化水素水(35%水溶液)12部及び硫酸鉄・
7水和物50ppmを添加し、80℃で約4時間撹拌下
で反応させた後、40℃に冷却し、更にカタラーゼを3
000ppmになるように添加し残存過酸化水素を除去
し、更に乾燥して得られたものである。かかるEVOH
のカルボキシル基含有量は100μeq/gであり、
(I)式(10≦Y≦155)を満足する。
【0038】これより得られた偏光板を70℃×90%
RH条件下に500時間放置して、該偏光板の光学特性
変化(%)(単体透過率、偏光度)を測定した。又、偏
光フィルムと三酢酸セルロースとの接着性については、
水中剥離試験、即ち、偏光フィルムと保護フィルムの積
層サンプルを幅25mm、長さ90mmに切断し、一端
を剥離させて、片方のフィルム端部に荷重(100g)
を吊り下げ、フィルムの他方の端部をもって、70℃の
温水に浸漬した時点から、接着面が完全に剥離するまで
の時間(秒)を測定することにより、接着力を評価し
た。当然のことながら剥離時間が長いほど良好である。
尚、評価基準は次の通りである。 ○ 剥離時間が900秒以上 △ 剥離時間が700秒以上〜900秒未満 × 剥離時間が700秒未満
【0039】実施例2 平均重合度1700、ケン化度99.9モル%、厚さ8
0μmのPVA系フィルムを用い、エチレン含有量25
モル%、ケン化度99.3モル%、MI10のEVOH
を実施例1に準じてカルボキシル基含有量を90μeq
/gに調製したEVOH(かかるEVOHは(I)式
(10≦Y≦172)を満足する)100部に対してホ
ウ酸8部からなる樹脂溶液(濃度6%)を用いた以外は
実施例1と同様に行い、偏光板を得た。これより得られ
た偏光板を実施例1と同様に測定した。
【0040】実施例3 平均重合度4500、ケン化度99.3モル%、厚さ8
0μmのPVA系フィルムを用い、エチレン含有量31
モル%、ケン化度99.8モル%、MI3のEVOHを
実施例1に準じてカルボキシル基含有量を110μeq
/gに調製したEVOH(かかるEVOHは(I)式
(10≦Y≦125)を満足する)100部に対してホ
ウ酸10部からなる樹脂溶液(濃度5%)を用いた以外
は実施例1と同様に行い、偏光板を得た。これより得ら
れた偏光板を実施例1と同様に測定した。
【0041】比較例1 実施例1において、ホウ酸の配合量をEVOH100部
に対して40部に変えた以外は同様に行い、偏光板を得
た。これより得られた偏光板を実施例1と同様に測定し
た。
【0042】比較例2 実施例1において、ホウ酸を使用しなかった以外は同様
に行い偏光板を得た。これより得られた偏光板を実施例
1と同様に測定した。
【0043】比較例3 実施例1において、カルボキシル基導入処理を施してい
ないEVOH(エチレン含有量30モル%、ケン化度9
9.8モル%、MI8)を用いた以外は同様に行い、偏
光板を得た。これより得られた偏光板を実施例1と同様
に測定した。
【0044】比較例4 実施例1において、エチレン含有量55モル%、ケン化
度99.5モル%、EVOHを用いてカルボキシル基含
有量を80μeq/gに調製した以外は同様に行い、偏
光板を得た。これより得られた偏光板を実施例1と同様
に測定した。
【0045】比較例5 実施例1において、本発明の樹脂溶液の代わりに、重合
度1700、ケン化度99.9モル%のポリビニルアル
コール1重量%水溶液を用いた以外は同様に行い、偏光
板を得た。これより得られた偏光板を実施例1と同様に
測定した。
【0046】比較例6 実施例1において、本発明の樹脂溶液の代わりに、4%
ホウ酸水溶液を用いた以外は同様に行い、偏光板を得
た。これより得られた偏光板を実施例1と同様に測定し
た。実施例、比較例の評価結果をまとめて表1に示す。
【0047】
【表1】
【0048】
【発明の効果】本発明の偏光板は、偏光フィルムと酢酸
セルロース系保護フィルムとの接着性に優れるため、耐
久性が向上し、高温、高湿状態で長期間放置してもその
偏光性が低下しないという効果を示す。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エチレン含有量10〜50モル%、ケン
    化度90モル%以上で、かつカルボキシル基を導入した
    エチレン−酢酸ビニル系共重合体ケン化物、ホウ素化合
    物及びエチレン−酢酸ビニル系共重合体ケン化物の溶媒
    からなり、ホウ素化合物の配合量がエチレン−酢酸ビニ
    ル系共重合体ケン化物100重量部に対して0.05〜
    30重量部である樹脂溶液を接着剤として用いて、偏光
    フィルムと酢酸セルロース系保護フィルムを接着してな
    ることを特徴とする偏光板。
  2. 【請求項2】 カルボキシル基を導入したエチレン−酢
    酸ビニル系共重合体ケン化物のカルボキシル基含有量が
    (I)式を満足するエチレン−酢酸ビニル系共重合体ケ
    ン化物を用いることを特徴とする請求項1記載の偏光
    板。 10≦Y≦665e-0.054Et・・・(I) Y:カルボキシル基含有量(μeq/g) Et:エチレン含有量(モル%)
  3. 【請求項3】 上記エチレン−酢酸ビニル系共重合体ケ
    ン化物として、過酸化物処理により調製したエチレン−
    酢酸ビニル系共重合体ケン化物を用いることを特徴とす
    る請求項1又は2記載の偏光板。
  4. 【請求項4】 エチレン−酢酸ビニル系共重合体ケン化
    物の溶媒が水と炭素数1〜4の低級アルコールの混合溶
    媒であることを特徴とする請求項1、2又は3記載の偏
    光板。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09243823A (ja) * 1996-03-07 1997-09-19 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 偏光フィルムの製造方法
JP2003227928A (ja) * 2002-02-01 2003-08-15 Toray Ind Inc 偏光板

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