CN116438230A - 光学膜制造用膜和光学膜的制造方法 - Google Patents

Abstract

提供具有良好的生产率且能够得到光学性能优异的光学膜的光学膜制造用膜、以及使用这种光学膜制造用膜进行的光学膜的制造方法。本发明为光学膜制造用膜，其为包含聚乙烯醇的光学膜制造用膜，在以前述聚乙烯醇的浓度成为12质量％的方式溶解有前述光学膜制造用膜的水溶液的动态粘度测定中，复数粘度η^* ₁(30)与复数粘度η^* ₁(80)之比Rt(η^* ₁(30)/η^* ₁(80))为4.5以上且50以下。[复数粘度η^* ₁(30)是30℃的前述水溶液的根据动态粘弹性测定而得到的角频率为1rad/秒时的复数粘度，复数粘度η^* ₁(80)是80℃的前述水溶液的根据动态粘弹性测定而得到的角频率为1rad/秒时的复数粘度]。

Description

光学膜制造用膜和光学膜的制造方法

技术领域

本发明涉及光学膜制造用膜和光学膜的制造方法。

背景技术

具有透光和遮光功能的偏振板与使光的偏振状态发生变化的液晶同为液晶显示器(LCD)的基本构成要素。多种偏振板具有在偏振膜的表面贴合有三乙酸纤维素(TAC)膜等保护膜的结构。作为偏振膜，使将聚乙烯醇膜(以下有时将“聚乙烯醇”简写为“PVA”)单轴拉伸而成的基体(拉伸膜)吸附碘系色素(I₃ ^-、I₅ ^-等)、二色性有机染料之类的二色性色素而得到的偏振膜成为主流。

LCD在计算器和腕表等小型仪器、智能手机、笔记本个人电脑、液晶监测器、液晶彩色投影仪、液晶电视、车载用导航系统、便携电话、室内外使用的计量设备等宽泛的范围内使用。近年来，对于这些设备要求显示品质的提高。与此相伴，对于偏振膜也要求高性能化，具体而言，要求偏振度、透射度等光学性能优异的偏振膜。

作为光学性能等得以改善的偏振膜，已知的是使用聚合度高的PVA而得的偏振膜(专利文献1)。该专利文献1中，使用将高聚合度的PVA溶解于以二甲基亚砜作为主成分的溶剂而得到的PVA制膜溶液来进行制膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平1-105204号公报

发明内容

发明要解决的问题

在PVA膜的工业制造中，考虑到环境方面、经济性等，通常将使用水作为溶剂的PVA水溶液用作制膜溶液。但是，如专利文献1那样，聚合度高的PVA因其水溶液的粘度上升而制膜性差，在工业生产上并不优选。因此，期望在防止生产率恶化的同时还提高光学膜的光学性能的方法。

本发明是基于以上那样的情况而作出的，其目的在于，提供具有良好的生产率且能够得到光学性能优异的光学膜的光学膜制造用膜、以及使用这种光学膜制造用膜进行的光学膜的制造方法。

用于解决问题的手段

前述目的通过提供如下技术方案中的任一项来实现。

[1]光学膜制造用膜，其为包含PVA的光学膜制造用膜，在以前述PVA的浓度成为12质量％的方式溶解有前述光学膜制造用膜的水溶液的动态粘度测定中，复数粘度η^* ₁(30)与复数粘度η^* ₁(80)之比Rt(η^* ₁(30)/η^* ₁(80))为4.5以上且50以下；

[前述复数粘度η^* ₁(30)是30℃的前述水溶液的根据动态粘弹性测定而得到的角频率为1rad/秒时的复数粘度。前述复数粘度η^* ₁(80)是80℃的前述水溶液的根据动态粘弹性测定而得到的角频率为1rad/秒时的复数粘度。]

[2]根据[1]的光学膜制造用膜，其中，前述复数粘度η^* ₁(30)与复数粘度η^* ₅₀₀(30)之比R_ω(30)(η^* ₁(30)/η^* ₅₀₀(30))为5以上且150以下；

[前述复数粘度η^* ₅₀₀(30)是30℃的前述水溶液的根据动态粘弹性测定而得到的角频率为500rad/秒时的复数粘度。]

[3]根据[1]或[2]的光学膜制造用膜，其中，前述PVA包含具有含硅基团的改性PVA；

[4]根据[3]的光学膜制造用膜，其中，前述改性PVA中的前述含硅基团相对于全部结构单元的含量为0.01摩尔％以上且2摩尔％以下；

[5]根据[1]～[4]中任一项的光学膜制造用膜，其中，前述光学膜为偏振膜；

[6]光学膜的制造方法，其具备将[1]～[5]中任一项的光学膜制造用膜进行单轴拉伸的工序；

[7]根据[6]的光学膜的制造方法，其中，前述光学膜为偏振膜。

发明效果

根据本发明，可提供具有良好的生产率且能够得到光学性能优异的光学膜的光学膜制造用膜、以及使用这种光学膜制造用膜进行的光学膜的制造方法。

附图说明

图1是使实施例1的光学膜制造用膜(PVA膜)以PVA的浓度成为12质量％的方式发生溶解而得到的30℃的PVA水溶液的根据动态粘弹性测定而得到的复数粘度的流动曲线。

具体实施方式

<光学膜制造用膜>

本发明的光学膜制造用膜为包含PVA的光学膜制造用膜，在以前述PVA的浓度成为12质量％的方式溶解有前述光学膜制造用膜的水溶液的动态粘度测定中，复数粘度η^* ₁(30)与复数粘度η^* ₁(80)之比Rt(η^* ₁(30)/η^* ₁(80))为4.5以上且50以下。

复数粘度η^* ₁(30)是30℃的前述水溶液的根据动态粘弹性测定而得到的角频率为1rad/秒时的复数粘度。复数粘度η^* ₁(80)是80℃的前述水溶液的根据动态粘弹性测定而得到的角频率为1rad/秒时的复数粘度。即，复数粘度η^* ₁(30)是以PVA的浓度成为12质量％的方式溶解有该光学膜制造用膜的30℃的水溶液的根据动态粘弹性测定而得到的角频率为1rad/秒时的复数粘度。复数粘度η^* ₁(80)是以PVA的浓度成为12质量％的方式溶解有该光学膜制造用膜的80℃的水溶液的根据动态粘弹性测定而得到的角频率为1rad/秒时的复数粘度。

(动态粘弹性测定)

动态粘弹性测定是指：对试样施加根据时间而发生变化(振动)的应变或应力，并测定由此产生的应力或应变，从而测定试样的力学性质的方法。动态粘弹性可通过使用动态粘弹性测定装置(流变仪)来进行测定。

在本发明中，动态粘弹性测定是利用TA instruments公司制的“ARES-G2”，并根据以下的条件而测得的值。

几何形状(geometry)：圆锥角为0.02rad的锥板和圆盘型板

板直径：40mm

应变：1％

角频率范围：1～500rad/秒

测定温度(水溶液的温度)：30℃或80℃

在本发明中，动态粘弹性测定使用将光学膜制造用膜以PVA浓度成为12质量％的方式而得到的PVA水溶液来进行。该PVA水溶液可通过向容器中称量光学膜制造用膜和蒸馏水后，边搅拌边在95℃下加热溶解4小时来制备。在光学膜制造用膜中包含除PVA之外的物质的情况下，预先求出PVA含量后再进行溶解。例如，在光学膜制造用膜中包含水分、增塑剂等水溶性物质的情况下，通过用水使光学膜制造用膜发生溶胀并进行清洗，从而使这些物质溶出，其后，通过在105℃的干燥机内使其干燥17小时以上并称量，从而能够求出光学膜制造用膜中的PVA含量。其中，在光学膜制造用膜中包含除PVA之外的物质的情况下，供于动态粘弹性测定的水溶液也通过将包含除PVA之外的物质这一状态的光学膜制造用膜溶解于水来进行制备。另外，在进行动态粘弹性测定时，将PVA的浓度为12质量％的水溶液设定为30℃或80℃来进行。

(复数粘度)

本发明的光学膜制造用膜中，复数粘度η^* ₁(30)与复数粘度η^* ₁(80)之比Rt(η^* ₁(30)/η^* ₁(80))必须为4.5以上且50以下。在Rt小于4.5的情况下，复数粘度η^* ₁(30)过低或复数粘度η^* ₁(80)过高。复数粘度η^* ₁(30)过低意味着由该光学膜制造用膜中的PVA的交联等实现的相互作用不充分，即便将该光学膜制造用膜拉伸也不会发生充分的取向，得不到光学性能优异的光学膜。另一方面，在复数粘度η^* ₁(80)过高的情况下，意味着即便将该光学膜制造用膜的制膜原液设为高温，粘度也不会充分降低，无法发挥出良好的生产率。从这种观点出发，优选的是：复数粘度η^* ₁(30)为15Pa·s以上，且前述复数粘度η^* ₁(80)为15Pa·s以下。另外，Rt超过50的光学膜制造用膜不容易制造。像这样，通过使Rt为前述范围，从而能够在维持良好生产率的同时，得到光学性能优异的光学膜。Rt优选为5以上，更优选为7以上。另一方面，Rt的上限优选为40。

本发明的光学膜制造用膜中，复数粘度η^* ₁(30)的下限优选为15Pa·s，更优选为30Pa·s。在复数粘度η^* ₁(30)为前述下限以上的情况下，由该光学膜制造用膜中的PVA的交联等实现的相互作用呈现特别充分的状态，因此，通过拉伸而发生特别充分的取向，能够进一步提高所得光学膜的光学性能。复数粘度η^* ₁(30)的上限优选为500Pa·s，更优选为400Pa·s。在复数粘度η^* ₁(30)为前述上限以下的情况下，在该光学膜制造用膜的制膜原液中，即便是制膜原液的温度为低温(30℃)的情况也可抑制粘度上升，能够发挥出更良好的生产率。

本发明的光学膜制造用膜中，复数粘度η^* ₁(80)优选为3Pa·s以上且15Pa·s以下。复数粘度η^* ₁(80)的上限有时也更优选为12Pa·s，进一步优选为10Pa·s或5Pa·s。在复数粘度η^* ₁(80)为前述上限以下的情况下，在光学膜制造用膜的制膜原液中，尤其是制膜原液的温度为高温(80℃)时的粘度上升进一步受到抑制，能够发挥出更良好的生产率。

本发明的光学膜制造用膜中，复数粘度η^* ₁(30)与复数粘度η^* ₅₀₀(30)之比R_ω(30)(η^* ₁(30)/η^* ₅₀₀(30))的下限例如可以为3，优选为5，更优选为10。在R_ω(30)为前述下限以上的情况下，在光学膜制造用膜的制膜原液中，制膜原液的粘度相对于剪切速度大幅降低，因此，能够发挥出更良好的生产率。另一方面，前述比R_ω(30)的上限优选为150，更优选为100。

本发明的光学膜制造用膜中，复数粘度η^* ₅₀₀(30)优选为1Pa·s以上且12Pa·s以下。复数粘度η^* ₅₀₀(30)的上限更优选为10Pa·s，进一步优选为5Pa·s，特别优选为4.5Pa·s。在复数粘度η^* ₅₀₀(30)为前述上限以下的情况下，在光学膜制造用膜的制膜原液中，剪切速度速时的粘度充分低，因此，能够发挥出更良好的生产率。

此处，复数粘度η^* ₅₀₀(30)是30℃的前述水溶液的根据动态粘弹性测定而得到的角频率为500rad/秒时的复数粘度。即，复数粘度η^* ₅₀₀(30)是以PVA的浓度成为12质量％的方式溶解有该光学膜制造用膜的30℃的水溶液的根据动态粘弹性测定而得到的角频率为500rad/秒时的复数粘度。

(PVA)

本发明的光学膜制造用膜中，PVA通常是成为主成分的成分。主成分是指按照质量基准计的含量最多的成分。作为本发明的光学膜制造用膜中的PVA的含量下限，优选为60质量％，更优选为80质量％，进一步优选为85质量％。通过将PVA的含量设为前述下限以上，从而能够进一步提高本发明的效果。另一方面，该含量的上限没有特别限定，可以为100质量％，优选为99质量％，更优选为95质量％。PVA可以仅为1种，也可以包含2种以上。需要说明的是，光学膜制造用膜中的各成分的含量(质量％)是以干燥状态、即除水之外的全部成分的总含量作为基准的值。

PVA为具有乙烯醇单元(-CH₂-CH(OH)-)作为结构单元的聚合物。PVA除了具有乙烯醇单元之外，还可以具有乙烯基酯单元和进一步的其它结构单元。

PVA的粘均聚合度的下限优选为1,000，更优选为1,500，进一步优选为2,000，特别优选为2,200。通过使PVA的粘均聚合度为前述下限以上，从而本发明的光学膜制造用膜的拉伸加工性变得优异，能够制造光学性能等更优异的光学膜。另一方面，前述粘均聚合度的上限优选为5,000，更优选为4,000，进一步优选为3,000，特别优选为2,700。通过使PVA的粘均聚合度为前述上限以下，从而发挥出良好的水溶性，另外，水溶液的粘度的上升受到抑制。因此，通过使PVA的粘均聚合度为前述上限以下，从而制膜性提高，能够提高本发明的光学膜制造用膜的生产率。

粘均聚合度是指按照JIS K6726-1994的记载而测得的平均聚合度。即，本说明书中，粘均聚合度如下求出：对PVA的残留乙烯酯基进行再皂化并精制后，在30℃的水中进行测定，根据由此得到的特性粘度[η](单位：分升/g)并利用下述式来求出。

粘均聚合度Po＝([η]×10⁴/8.29)^(1/0.62)

PVA的皂化度的下限优选为98.7摩尔％，更优选为99.0摩尔％，进一步优选为99.5摩尔％，更进一步优选为99.8摩尔％，特别优选为99.9摩尔％。通过使皂化度为前述下限以上，从而能够得到光学性能和耐湿热性更优异的光学膜。另一方面，皂化度的上限没有特别限定，从PVA的生产率的观点出发，优选为99.99摩尔％以下。

PVA的皂化度是指：PVA所具有的乙烯醇单元的摩尔数相对于通过皂化而能够转化为乙烯醇单元的结构单元(典型而言，为乙烯基酯单元)与乙烯醇单元的总摩尔数的比例(摩尔％)。PVA的皂化度可按照JIS K6726-1994的记载来测定。

(改性PVA)

PVA优选包含具有含硅基团的改性PVA(以下，有时将具有含硅基团的改性PVA称为“改性PVA”)。通过包含前述改性PVA，从而容易满足本发明所述的动态粘弹性的参数。

改性PVA是具有乙烯醇单元(-CH₂-CH(OH)-)作为结构单元，且具有含硅基团的聚合物。改性PVA可以含有包含含硅基团的结构单元，也可以进一步具有乙酸乙烯酯单元等乙烯基酯单元、其它结构单元。

改性PVA所具有的含硅基团只要为包含硅原子的基团就没有特别限定，优选为硅烷醇基或者能够在水的存在下转化为硅烷醇基的基团。硅烷醇基是指具有硅原子和键合于该硅原子的至少1个羟基的基团。硅烷醇基所具有的羟基数量通常为1～3中的任一者，优选为3。硅烷醇基所具有的羟基可以以盐(例如-ONa、-OK等)的状态存在。

能够在水的存在下转化为硅烷醇基的基团是指：将PVA在水中、在反应时间为2小时、反应温度为150℃的条件下进行加热时，能够转化为硅烷醇基的基团。该朝向硅烷醇基的转化可通过水解而发生。作为能够在水的存在下转化为硅烷醇基的基团，可列举出在硅原子上键合有至少1个烷氧基或酰氧基的基团等，具体而言，可列举出三甲氧基甲硅烷基、三乙氧基甲硅烷基、三异丙氧基甲硅烷基、二甲氧基甲基甲硅烷基、二乙氧基甲基甲硅烷基、甲氧基二甲基甲硅烷基、乙氧基二甲基甲硅烷基、三乙酰氧基甲硅烷基等。

作为硅烷醇基或者能够在水的存在下转化为硅烷醇基的基团，可列举出下述式(1)～(3)中任一者所示的基团。这些之中，优选为下述式(1)所示的基团。

[化1]

式(1)～(3)中，R¹各自独立地为氢原子、取代或非取代的碳原子数1～20的烃基、或者取代或非取代的碳原子数1～20的酰基。R²各自独立地为取代或非取代的碳原子数1～20的烃基。

作为R¹和R²所示的碳原子数1～20的烃基，可列举出脂肪族烃基、脂环式烃基(环己基等)、芳香族烃基(苯基等)等，优选为脂肪族烃基。作为脂肪族烃基，可列举出甲基、乙基、丙基等烷基；乙烯基等烯基；乙炔基等炔基等，优选为烷基。作为R¹和R²所示的烃基的碳原子数，优选为1～6，更优选为1～3。R¹和R²所示的烃基中具有的至少一部分氢原子任选被卤素原子、羧基、烷氧基(甲氧基、乙氧基等)等取代。

作为R¹所示的碳原子数1～20的酰基，可列举出氢原子或者在碳原子数1～19的烃基上键合有羰基(-CO-)的基团。作为碳原子数1～19的烃基，优选为脂肪族烃基，更优选为烷基。作为酰基，具体而言，可列举出甲酰基、乙酰基、丙酰基、苯甲酰基等。作为R¹所示的酰基的碳原子数，优选为1～6，更优选为1～3。R¹所示的酰基所具有的至少一部分氢原子任选被卤素原子、羧基、烷氧基(甲氧基等)等取代。

前述式(1)～(3)中任一者所示的基团中，至少一个R¹为氢原子时，该基团为硅烷醇基。此外，前述式(1)～(3)中任一者所示的基团中，所有的R¹均不是氢原子时，该基团为能够在水的存在下转化为硅烷醇基的基团。作为R¹，优选为氢原子、或者取代或非取代的碳原子数1～20的烃基。

从所得光学膜的光学性能的观点等出发，优选的是：含硅基团借助硅-碳键而直接键合于聚合物主链中的碳原子。

作为改性PVA中的含硅基团相对于全部结构单元的含量下限，优选为0.01摩尔％，更优选为0.05摩尔％，进一步优选为0.1摩尔％，进一步优选为0.2摩尔％。通过将含硅基团的含量设为前述下限以上，从而前述复数粘度η^* ₁(30)充分变高等，由此能够进一步提高所得光学性能。另一方面，改性PVA中的含硅基团相对于全部结构单元的含量上限优选为2.0摩尔％，优选为0.8摩尔％，更优选为0.6摩尔％。通过将含硅基团的含量设为前述上限以下，从而改性PVA的水溶性提高等，由此能够提高生产率(制膜性)等。

在改性PVA中，含硅基团的含量(摩尔％)由例如皂化前的乙烯基酯聚合物的质子NMR来求出。此处，测定皂化前的乙烯基酯聚合物的质子NMR时，将乙烯基酯聚合物用己烷-丙酮进行再沉淀精制而从聚合物中完全去除未反应单体，接着，进行2天的90℃减压干燥后，溶解于CDCl₃溶剂并供至分析。

改性PVA的粘均聚合度的适合范围与前述PVA的粘均聚合度的适合范围相同。另外，改性PVA的皂化度的适合范围与前述PVA的皂化度的适合范围相同。

改性PVA的粘均聚合度与含硅基团的含量之积的下限优选为100摩尔％，更优选为300摩尔％，进一步优选为500摩尔％，特别优选为700摩尔％。通过使前述乘积为前述下限以上，从而所得光学膜的光学性能等更优异。另一方面，前述乘积的上限优选为2，000摩尔％，更优选为1，500，进一步优选为1，200。通过使前述乘积为前述上限以下，从而能够进一步提高改性PVA的水溶性，能够进一步提高该光学膜制造用膜的生产率等。

改性PVA优选包含具有含硅基团的结构单元。作为具有含硅基团的结构单元，可列举出下述式(4)所示的结构单元。

[化2]

式(4)中，R³为氢原子或甲基。R⁴为单键或2价连接基团。R⁵为含硅基团。

作为R³，优选为氢原子。

作为R⁴所示的2价连接基团，可列举出-(CH₂)_n-(n为1～5的整数)或-CONR⁶-R⁷-(R⁶为氢原子或碳原子数1～5的烷基。R⁷为前述-(CH₂)_n-所示的基团、或者包含氧原子和氮原子中至少一者的2价烃基)所示的基团。

作为包含氧原子和氮原子中至少一者的2价烃基，可列举出-CH₂CH₂NHCH₂CH₂CH₂-、-CH₂CH₂NHCH₂CH₂-、-CH₂CH₂NHCH₂-、-CH₂CH₂N(CH₃)CH₂CH₂-、-CH₂CH₂N(CH₃)CH₂-、-CH₂CH₂OCH₂CH₂CH₂-、-CH₂CH₂OCH₂CH₂-、-CH₂CH₂OCH₂-等。作为包含氧原子和氮原子中至少一者的2价烃基的碳原子数，可以设为例如2以上且6以下。

R⁴优选为单键。

作为R⁵所示的含硅基团的具体例，如上所述，可列举出前述式(1)～(3)中任一者所示的基团，优选为前述式(1)所示的基团。

具有含硅基团的结构单元中包含的含硅基团的数量没有特别限定，可以为1。改性PVA的具有含硅基团的结构单元相对于全部结构单元的含量范围可以为上述含硅基团相对于全部结构单元的含量范围。此外，改性PVA的粘均聚合度与具有含硅基团的结构单元的含量之积的范围可以是上述粘均聚合度与含硅基团的含量之积的范围。

改性PVA可以具有除乙烯醇单元、乙烯基酯单元和具有含硅基团的结构单元之外的其它结构单元。其中，改性PVA的前述其它结构单元相对于全部结构单元的含量有时也优选为15摩尔％以下，更优选为5摩尔％以下，进一步优选为1摩尔％以下，更进一步优选为0.1摩尔％以下。改性PVA通过实质上由乙烯醇单元、乙烯基酯单元和具有含硅基团的结构单元构成，从而有时更充分地发挥本发明的效果。

该光学膜制造用膜可以单独含有1种改性PVA，也可以含有聚合度、皂化度和含硅基团的含量等互不相同的2种以上的改性PVA。

该光学膜制造用膜中的改性PVA的含量下限没有特别限定，优选为60质量％，更优选为80质量％，进一步优选为85质量％。通过将改性PVA的含量设为前述下限以上，从而能够进一步提高本发明的效果。另一方面，该含量的上限没有特别限定，可以为100质量％，优选为99质量％，更优选为95质量％。

另外，作为本发明的光学膜制造用膜中包含的改性PVA相对于全部PVA的含量，优选为60质量％以上，更优选为80质量％以上，更优选为90质量％以上，进一步优选为95质量％以上，更进一步优选为99质量％以上。本发明的光学膜制造用膜中，通过主要使用改性PVA来作为PVA，从而能够更充分地发挥出本发明的效果。该含量的上限没有特别限定，可以为100质量％。

(改性PVA的制造方法)

具有含硅基团的改性PVA的制造方法没有特别限定。可通过例如使乙烯基酯单体与具有含硅基团的单体共聚，并对所得乙烯基酯聚合物进行皂化来制造。

作为乙烯基酯单体，可列举出例如甲酸乙烯酯、乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、戊酸乙烯酯、癸酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯、硬脂酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、新戊酸乙烯酯、叔碳酸乙烯酯等。这些之中，优选为乙酸乙烯酯。

作为具有含硅基团的单体，可列举出乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基甲基二甲氧基硅烷、乙烯基二甲基甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基甲基二乙氧基硅烷、乙烯基二甲基乙氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、烯丙基甲基二甲氧基硅烷、烯丙基二甲基甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷、烯丙基甲基二乙氧基硅烷、烯丙基二甲基乙氧基硅烷、乙烯基三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、乙烯基异丁基二甲氧基硅烷、乙烯基乙基二甲氧基硅烷、乙烯基甲氧基二丁氧基硅烷、乙烯基二甲氧基丁氧基硅烷、乙烯基三丁氧基硅烷、乙烯基甲氧基二己氧基硅烷、乙烯基二甲氧基己氧基硅烷、乙烯基三己氧基硅烷、乙烯基甲氧基二辛氧基硅烷、乙烯基二甲氧基辛氧基硅烷、乙烯基三辛氧基硅烷、乙烯基甲氧基二月桂氧基硅烷、乙烯基二甲氧基月桂氧基硅烷、乙烯基甲氧基二油氧基硅烷、乙烯基二甲氧基油氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰胺-丙基三甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰胺-丙基三乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰胺-丙基三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、2-(甲基)丙烯酰胺-乙基三甲氧基硅烷、1-(甲基)丙烯酰胺-甲基三甲氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰胺-2-甲基丙基三甲氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰胺-异丙基三甲氧基硅烷、N-(2-(甲基)丙烯酰胺-乙基)-氨基丙基三甲氧基硅烷、(3-(甲基)丙烯酰胺-丙基)-氧基丙基三甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰胺-丙基三乙酰氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰胺-乙基三乙酰氧基硅烷、4-(甲基)丙烯酰胺-丁基三乙酰氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰胺-丙基三丙酰氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰胺-2-甲基丙基三乙酰氧基硅烷、N-(2-(甲基)丙烯酰胺-乙基)-氨基丙基三乙酰氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰胺-丙基异丁基二甲氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰胺-乙基二甲基甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰胺-丙基甲基二乙酰氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰胺-2-甲基丙基含氢二甲氧基硅烷、3-(N-甲基-(甲基)丙烯酰胺)-丙基三甲氧基硅烷、2-(N-乙基-(甲基)丙烯酰胺)-乙基三乙酰氧基硅烷等。

作为使乙烯基酯单体与具有含硅基团的单体进行共聚的方法，没有特别限定，可列举出本体聚合法、溶液聚合法、悬浮聚合法、乳液聚合法等公知方法。这些方法之中，优选为在无溶剂条件下进行的本体聚合法和使用醇等溶剂进行的溶液聚合法。作为在溶液聚合时用作溶剂的溶剂，可列举出乙酸甲酯、乙酸乙酯等酯；苯、甲苯等芳香族烃；甲醇、乙醇等低级醇等。

作为在共聚反应中使用的引发剂，可适当选择现有公知的偶氮系引发剂、过氧化物系引发剂、氧化还原系引发剂等。作为偶氮系引发剂，可列举出2，2’-偶氮双异丁腈、2，2’-偶氮双(2，4-二甲基戊腈)、2，2’-偶氮双(4-甲氧基-2，4-二甲基戊腈)等。作为过氧化物系引发剂，可列举出过氧化二碳酸二正丙酯、过氧化二碳酸二异丙酯、过氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、过氧化二碳酸二(乙氧基乙基)酯等过碳酸酯化合物；过氧化新癸酸叔丁酯、过氧化新癸酸α-异丙苯基酯、过氧化新癸酸叔丁酯等过酸酯化合物；乙酰基环己基磺酰基过氧化物、二异丁酰基过氧化物；苯氧基乙酸2，4，4-三甲基戊基-2-过氧基酯等。进而，可以将例示出的前述过氧化物系引发剂与过硫酸钾、过硫酸铵、过氧化氢等组合制成引发剂。作为氧化还原系引发剂，可列举出将前述过氧化物与亚硫酸氢钠、碳酸氢钠、酒石酸、L-抗坏血酸、雕白粉等还原剂组合而得的引发剂。

关于进行共聚反应时的聚合温度，没有特别限定，优选为0℃以上且180℃以下，更优选为20℃以上且160℃以下，进一步优选为30℃以上且150℃以下。

使乙烯基酯单体与具有含硅基团的单体进行共聚时，只要是不损害本发明效果的范围，就可以根据需要与能够共聚的其它单体进行共聚。作为该其它单体，可列举出例如乙烯；丙烯、1-丁烯、异丁烯等碳原子数2～30的烯烃；丙烯酸或其盐；丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸十二烷基酯、丙烯酸十八烷基酯等丙烯酸酯；甲基丙烯酸或其盐；甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸十二烷基酯、甲基丙烯酸十八烷基酯等甲基丙烯酸酯；丙烯酰胺、N-甲基丙烯酰胺、N-乙基丙烯酰胺、N，N-二甲基丙烯酰胺、二丙酮丙烯酰胺、丙烯酰胺丙磺酸或其盐、丙烯酰胺丙基二甲基胺或其盐、N-羟甲基丙烯酰胺或其衍生物等丙烯酰胺衍生物；甲基丙烯酰胺、N-甲基甲基丙烯酰胺、N-乙基甲基丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺丙磺酸或其盐、甲基丙烯酰胺丙基二甲基胺或其盐、N-羟甲基甲基丙烯酰胺或其衍生物等甲基丙烯酰胺衍生物；N-乙烯基甲酰胺、N-乙烯基乙酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮等N-乙烯基酰胺；甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、正丙基乙烯基醚、异丙基乙烯基醚、正丁基乙烯基醚、异丁基乙烯基醚、叔丁基乙烯基醚、十二烷基乙烯基醚、硬脂基乙烯基醚等乙烯基醚；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰代乙烯；氯乙烯、偏二氯乙烯、氟乙烯、偏二氟乙烯等卤代乙烯；乙酸烯丙酯、烯丙基氯等烯丙基化合物；马来酸或其盐、酯或酸酐；衣康酸或其盐、酯或酸酐；乙酸异丙烯酯等。乙烯基酯聚合物可以具有源自上述其它单体中的1种或2种以上单体的结构单元。

源自前述其它单体(除了乙烯基酯单体和具有含硅基团的单体之外的单体)的结构单元在乙烯基酯聚合物中所占的比例只要不妨碍本发明的效果就不必限定，根据构成乙烯基酯聚合物的全部结构单元的摩尔数，有时也优选为15摩尔％以下，更优选为5摩尔％以下，进一步优选为1摩尔％以下，更进一步优选为0.1摩尔％以下。

乙烯基酯聚合物接着按照公知方法在溶剂中进行皂化，并被导向改性PVA。作为皂化反应中使用的溶剂，优选为醇。作为醇，可列举出甲醇、乙醇等低级醇，特别适合使用甲醇。皂化反应中使用的溶剂除了醇之外，可以进一步含有丙酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯等酯、甲苯等有机溶剂。作为皂化反应中使用的催化剂，可列举出例如氢氧化钾、氢氧化钠等碱金属的氢氧化物；甲醇钠等碱催化剂；无机酸等酸催化剂等。作为皂化反应的温度，可以设为例如20℃以上且60℃以下。随着皂化反应的进行而逐渐析出凝胶状产物时，通过在该时刻将产物粉碎并清洗后，进行干燥而得到改性PVA。

另外，作为具有含硅基团的改性PVA，可以为利用甲硅烷基化剂向未改性的PVA等中导入含硅基团而得到的改性PVA；通过接枝共聚导入具有含硅基团的结构单元而得到的改性PVA等。作为前述甲硅烷基化剂，可列举出三乙氧基氯硅烷、甲基三氯硅烷等能够与PVA的羟基发生反应的反应性硅烷化合物。另外，作为除具有含硅基团的改性PVA之外的PVA，通过使用借助交联剂等进行了交联的PVA等，也容易获得本发明的光学膜制造用膜。

(增塑剂)

本发明的光学膜制造用膜优选包含增塑剂。通过使光学膜制造用膜包含增塑剂，从而能够提高拉伸性等。作为增塑剂，优选为多元醇。作为多元醇，可列举出乙二醇、甘油、丙二醇、二乙二醇、二甘油、三乙二醇、四乙二醇、三羟甲基丙烷等。这些之中，从提高拉伸性的效果的观点出发，优选为甘油。增塑剂可以使用1种或2种以上。

作为本发明的光学膜制造用膜中的增塑剂的含量下限，相对于PVA100质量份，优选为1质量份，更优选为3质量份，进一步优选为5质量份。通过使增塑剂的含量为前述下限以上，从而膜的拉伸性提高，能够进一步提高所得光学膜的光学性能等。另一方面，作为该增塑剂的含量上限，相对于PVA100质量份，优选为20质量份，更优选为17质量份，进一步优选为15质量份。通过使增塑剂的含量为前述上限以下，从而能够抑制膜变得过于柔软而导致处理性降低等。

(表面活性剂)

该光学膜制造用膜优选包含表面活性剂。通过使用包含表面活性剂的制膜原液来进行制膜，从而制膜性提高，抑制膜发生厚度不均，且膜容易从用于制膜的金属辊、带上剥离。由包含表面活性剂的制膜原液制造光学膜制造用膜时，所得膜中可能含有表面活性剂。

表面活性剂的种类没有特别限定，从自金属辊、带上剥离的剥离性的观点等出发，优选为阴离子性表面活性剂和非离子性表面活性剂。

作为阴离子性表面活性剂，可列举出例如月桂酸钾等羧酸型；聚氧乙烯月桂基醚硫酸盐、硫酸辛酯等硫酸酯型；十二烷基苯磺酸盐等磺酸型等。

作为非离子性表面活性剂，可列举出例如聚氧乙烯油烯基醚等烷基醚型；聚氧乙烯辛基苯基醚等烷基苯基醚型；聚氧乙烯月桂酸酯等烷基酯型；聚氧乙烯月桂基氨基醚等烷基胺型；聚氧乙烯月桂酸酰胺等烷基酰胺型；聚氧乙烯聚氧丙烯醚等聚丙二醇醚型；月桂酸二乙醇酰胺、油酸二乙醇酰胺等烷醇酰胺型；聚氧亚烷基烯丙基苯基醚等烯丙基苯基醚型等。

表面活性剂可以单独使用1种，或者组合使用2种以上。

该光学膜制造用膜包含表面活性剂时，其含量下限相对于PVA 100质量份优选为0.01质量份，更优选为0.02质量份，进一步优选为0.05质量份。通过将表面活性剂的含量设为前述下限以上，从而制膜性和剥离性进一步提高。另一方面，该含量的上限相对于PVA100质量份优选为0.5质量份，更优选为0.3质量份，进一步优选为0.1质量份。通过将表面活性剂的含量设为前述上限以下，从而能够抑制表面活性剂向膜的表面渗出而发生粘连，能够抑制处理性降低。

(其它添加剂等)

本发明的光学膜制造用膜中，可根据需要进一步适当含有填充剂、铜化合物等加工稳定剂、耐候性稳定剂、着色剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、抗氧化剂、抗静电剂、阻燃剂、其它热塑性树脂、润滑剂、香料、消泡剂、消臭剂、增量剂、剥离剂、脱模剂、增强剂、交联剂、防霉剂、防腐剂、结晶化速度延迟剂等添加剂。

本发明的光学膜制造用膜中的PVA、增塑剂和表面活性剂的总含量有时也优选为80质量％以上，更优选为90质量％以上，进一步优选为95质量％以上，更进一步优选为99质量％以上。本发明的光学膜制造用膜通过由PVA、增塑剂和表面活性剂实质构成，从而能够更充分地发挥出本发明的效果。

另外，本发明的光学膜制造用膜中的具有含硅基团的改性PVA、增塑剂和表面活性剂的总含量有时也优选为80质量％以上，更优选为90质量％以上，进一步优选为95质量％以上，更进一步优选为99质量％以上。本发明的光学膜制造用膜通过由具有含硅基团的改性PVA、增塑剂和表面活性剂实质构成，从而能够更充分地发挥出本发明的效果。

(形状/物性等)

本发明的光学膜制造用膜是作为光学膜的材料而使用的所谓原材膜。但本发明的光学膜制造用膜不限定于呈现卷状。

本发明的光学膜制造用膜的平均厚度没有特别限定，作为下限，优选为1μm，更优选为5μm，进一步优选为10μm。通过使平均厚度为前述下限以上，从而能够抑制在制造光学膜时的单轴拉伸处理时的断裂。此外，作为该平均厚度的上限，优选为75μm，更优选为60μm，进一步优选为45μm，更进一步优选为35μm。通过使平均厚度为前述上限以下，从而能够抑制单轴拉伸处理时的拉伸不均。需要说明的是，“平均厚度”是指在任意5点测得的厚度的平均值(以下，针对平均厚度是相同的)。

本发明的光学膜制造用膜可以为由1层PVA层(包含PVA的层)组成的单层膜，也可以为包含1层PVA层的多层膜。其中，在用于制造偏振膜时等，优选为单层膜。作为本发明的光学膜制造用膜所具有的PVA层的平均厚度的下限，优选为1μm，更优选为5μm，进一步优选为10μm。通过使平均厚度为前述下限以上，从而能够抑制在制造光学膜时的单轴拉伸处理时的断裂。此外，作为该平均厚度的上限，优选为75μm，更优选为60μm，进一步优选为45μm，更进一步优选为35μm。通过使平均厚度为前述上限以下，从而能够抑制单轴拉伸处理时的拉伸不均。

光学膜制造用膜中的PVA层的具体组成和适合组成可以引用上述光学膜制造用膜自体的具体组成和适合组成的记载。

本发明的光学膜制造用膜为单层膜时，为了确保操作性，平均厚度优选为20μm以上，更优选为30μm以上。另一方面，本发明的光学膜制造用膜为多层膜时，可以将PVA层的平均厚度设为20μm以下，也可以设为15μm以下。

多层膜是指具有2层以上的层的膜。多层膜的层数可以为5层以下，也可以为3层以下。作为多层膜，可列举出具有基材树脂层与PVA层的层叠结构的光学膜制造用膜。基材树脂层的平均厚度例如为20μm以上且500μm以下。多层膜中的基材树脂层优选能够与PVA层一同进行单轴拉伸。作为构成基材树脂层的树脂，可以使用聚酯、聚烯烃等。其中，优选为非晶质聚酯树脂，适合使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、以及使聚对苯二甲酸乙二醇酯与间苯二甲酸、1，4-环己烷二甲醇等共聚成分共聚而得到的非晶质聚酯树脂。可以在基材树脂层与PVA层之间设置有粘接剂层。

本发明的光学膜制造用膜的宽度没有特别限定，可根据其用途等来决定。例如，光学膜制造用膜的宽度下限优选为3m。近年来，从液晶电视、液晶监测器逐渐大画面化的观点出发，若预先将光学膜制造用膜的宽度设为3m以上，则适合于将它们作为最终制品的用途。另一方面，光学膜制造用膜的宽度上限优选为7m。通过将宽度设为7m以下，从而在利用已经实用化的装置来制造光学膜的情况下，能够有效地进行单轴拉伸处理等。

从光学膜的生产率、光学性能的观点等出发，本发明的光学膜制造用膜的溶胀度优选为140％以上且400％以下的范围内。该溶胀度的下限更优选为180％，进一步优选为190％。此外，溶胀度的上限更优选为220％，进一步优选为210％。膜的溶胀度可通过例如加强热处理条件而调整至更小的值等。

此处，“膜的溶胀度”是指利用下式求出的值。

溶胀度(％)＝100×N/M

式中，N表示将采取自膜的样品在30℃的蒸馏水中浸渍30分钟后，去除表面的水后的样品质量(g)。M表示将该样品在105℃的干燥机中干燥16小时后的样品质量(g)。

本发明的光学膜制造用膜通常为实质上未经拉伸的膜(未拉伸膜、非拉伸膜)。该光学膜制造用膜的面内相位差优选为100nm以下，进一步优选为50nm以下。通常，通过对本发明的光学膜制造用膜进行拉伸处理(单轴拉伸处理或双轴拉伸处理)等而能够得到光学膜。

根据本发明的光学膜制造用膜，能够具有良好的生产率，能够得到光学性能优异的光学膜。需要说明的是，光学性能可列举出透光性、偏振性等。作为可利用该光学膜制造用膜来制造的光学膜，可列举出偏振膜、相位差膜、视场角改进膜、增亮膜等，优选为偏振膜。

<光学膜制造用膜的制造方法＞

本发明的光学膜制造用膜的制造方法没有特别限定，可优选采用制膜后的膜厚度和宽度更均匀的制造方法。例如，可以使用将PVA、以及根据需要而进一步的增塑剂、表面活性剂和其它添加剂等中的1种或2种以上溶解在液体介质中而得到的制膜原液来制造。制膜原液含有增塑剂、表面活性剂和其它添加剂中的至少1种时，这些成分优选均匀混合。

作为用于制备制膜原液的液体介质，可列举出例如水、二甲基亚砜、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、乙二醇、甘油、丙二醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、三羟甲基丙烷、乙二胺、二亚乙基三胺等，可以使用这些之中的1种或2种以上。这些之中，从对环境造成的负担、回收性的观点出发，优选为水。另外，在使用上述具有含硅基团的改性PVA来作为PVA的情况下，该改性PVA的水溶性也良好，此外，制成较高温度(例如80℃)的水溶液时的粘度上升也受到抑制。从这一点出发，也可适合地使用水作为液体介质。

制膜原液的挥发分数(在制膜时因挥发、蒸发而被去除的液体介质等挥发性成分在制膜原液中的含有比例)例如优选为50质量％以上且95质量％以下，更优选为55质量％以上且90质量％以下，进一步优选为60质量％以上且85质量％以下。通过使制膜原液的挥发分数为50质量％以上，从而制膜原液的粘度不会变得过高，顺利地进行制备制膜原液时的过滤、脱泡，容易制造异物、缺点少的膜。另一方面，通过使制膜原液的挥发分数为95质量％以下，从而制膜原液的浓度不会变得过低，容易在工业上制造膜。

作为制膜时的制膜原液的温度，可以设为例如70℃以上且100℃以下。通过在这种较高的温度下进行制膜，从而能够将制膜原液的粘度抑制得较低，能够提高制膜性。

作为使用制膜原液进行制膜时的制膜方法，可列举出例如流延制膜法、挤出制膜法、湿式制膜法、凝胶制膜法等。这些制膜方法可以仅采用1种，也可以组合采用2种以上。这些制膜方法之中，流延制膜法和挤出制膜法能够得到厚度和宽度均匀且物性良好的膜，故而优选。可以根据需要对所制造的膜进行干燥、热处理。

作为本发明的光学膜制造用膜的具体制造方法的例子，可列举出例如以下的例子。使用T型缝模、料斗板、I-模具、唇涂机模具等，将制膜原液均匀地喷出或流延在位于最上游侧的旋转且经加热的第一辊(或者带)的圆周面上。使挥发性成分从喷出或流延在该第一辊(或者带)的圆周面上的膜的一个面蒸发而进行干燥。接着，在配置于其下游侧的1个或多个旋转且经加热的辊的圆周面上进一步干燥，或者，使其在热风干燥装置中通过而进一步干燥。其后，利用卷取装置将膜卷取。基于加热辊的干燥与基于热风干燥装置的干燥可以适当组合来实施。

需要说明的是，本发明的光学膜制造用膜为多层膜时，可通过例如在基材树脂膜(基材树脂层)上涂布制膜原液而制造多层膜。此时，为了改善PVA层与基材树脂层之间的粘接性，可以对基材树脂膜的表面进行改性或者在基材树脂膜的表面涂布粘接剂。

<光学膜的制造方法＞

本发明的光学膜的制造方法具备对上述光学膜制造用膜进行单轴拉伸的工序。以下，作为光学膜的制造方法的一例，列举出偏振膜的制造方法来具体说明。

作为偏振膜的制造方法，可列举出具备对光学膜制造用膜(以下也称为“PVA膜”)分别进行染色的染色工序、进行单轴拉伸的拉伸工序、以及根据需要进一步使其溶胀的溶胀工序、使其交联的交联工序、进行固定处理的固定处理工序、进行清洗的清洗工序、使其干燥的干燥工序、进行热处理的热处理工序等的方法。该情况下，作为各工序的顺序，没有特别限定，可以按照例如溶胀工序、染色工序、交联工序、拉伸工序、固定处理工序等的顺序来进行。此外，可以同时进行1个或2个以上的工序，也可以将各工序进行2次或2次以上。

溶胀工序可通过将PVA膜浸渍于水来进行。作为浸渍于水时的水温，优选为20℃以上且55℃以下，更优选为22℃以上且50℃以下，进一步优选为25℃以上且45℃以下。此外，作为浸渍于水的时间，优选为例如0.1分钟以上且5分钟以下，更优选为0.5分钟以上且3分钟以下。需要说明的是，浸渍于水时的水不限定于纯水，可以为溶解有各种成分的水溶液，也可以为水与水性介质的混合物。

染色工序可通过使二色性色素接触PVA膜来进行。作为二色性色素，通常使用碘系色素。作为染色的时机，可以为单轴拉伸前、单轴拉伸时和单轴拉伸后中的任意阶段。适合采用通过使PVA膜浸渍在作为染色浴的含有碘-碘化钾的溶液(尤其是水溶液)中来进行染色的方法。染色浴中的碘浓度优选为0.01质量％以上且0.5质量％以下，碘化钾的浓度优选为0.01质量％以上且10质量％以下。此外，染色浴的温度优选设为20℃以上且50℃以下，特别优选设为25℃以上且40℃以下。适合的染色时间为0.2分钟以上且5分钟以下。

通过进行使PVA膜中的PVA发生交联的交联工序，从而能够在高温下进行湿式拉伸时有效地抑制PVA向水中溶出。从该观点出发，交联工序优选在染色工序后且拉伸工序前进行。交联工序可通过将PVA膜浸渍于包含交联剂的水溶液来进行。作为交联剂，可以使用硼酸、硼砂等硼酸盐等硼化合物中的1种或2种以上。包含交联剂的水溶液中的交联剂的浓度优选为1质量％以上且15质量％以下，更优选为1.5质量％以上且7质量％以下，进一步优选为2质量％以上且6质量％以下。通过使交联剂的浓度处于前述范围内，从而能够维持充分的拉伸性。包含交联剂的水溶液可以含有碘化钾等。包含交联剂的水溶液的温度优选设为20℃以上且60℃以下，特别优选设为25℃以上且55℃以下。通过将温度设为前述范围内，从而能够高效地交联。

对PVA膜进行单轴拉伸的拉伸工序可以通过湿式拉伸法或干式拉伸法中的任一者来进行。在湿式拉伸法的情况下，可以在包含硼酸的水溶液中进行，也可以在上述染色浴中、后述固定处理浴中进行。此外，在干式拉伸法的情况下，可以在室温下直接进行拉伸，也可以边加热边拉伸，还可以使用吸水后的PVA膜在空气中进行。这些之中，从能够以高均匀性沿着宽度方向进行拉伸的方面出发，优选为湿式拉伸法，更优选在包含硼酸的水溶液中进行单轴拉伸。硼酸水溶液中的硼酸浓度优选为0.5质量％以上且6.0质量％以下，更优选为1.0质量％以上且5.0质量％以下，特别优选为1.5质量％以上且4.0质量％以下。此外，硼酸水溶液可以含有碘化钾，碘化钾的浓度优选为0.01质量％以上且10质量％以下。单轴拉伸中的拉伸温度优选为30℃以上且90℃以下，更优选为40℃以上且80℃以下，特别优选为50℃以上且75℃以下。

从所得偏振膜的偏振性能的观点出发，单轴拉伸中的拉伸倍率(与未拉伸PVA膜相比的总拉伸倍率)优选为5倍以上、更优选为5.5倍以上。拉伸倍率的上限没有特别限定，拉伸倍率优选为8倍以下。

对长条的PVA膜进行单轴拉伸时的单轴拉伸方向没有特别限定，可以采用朝向长度方向的单轴拉伸、横向单轴拉伸。从能够得到偏振性能优异的偏振膜的方面出发，优选为朝向长度方向的单轴拉伸。朝向长度方向的单轴拉伸可通过使用具备互相平行的多个辊的拉伸装置，并变更各辊间的圆周速度来进行。另一方面，横向单轴拉伸可以使用拉幅机型拉伸机来进行。

在制造偏振膜时，为了使二色性色素(碘系色素等)牢固地吸附于PVA膜，可以在拉伸工序后进行固定处理工序。作为固定处理中使用的固定处理浴，可以使用包含硼酸、硼砂等硼化合物中的1种或2种以上的水溶液。此外，根据需要可以向固定处理浴中添加碘化合物、金属化合物。固定处理浴中的硼化合物的浓度优选为2质量％以上且15质量％以下，特别优选为3质量％以上且10质量％以下。通过将硼化合物的浓度设为前述范围内，从而能够使二色性色素的吸附更牢固。固定处理浴的温度优选为15℃以上且60℃以下，特别优选为25℃以上且40℃以下。

清洗工序一般通过将膜浸渍于蒸馏水、纯水、水溶液等来进行。此时，从提高偏振性能的观点出发，优选使用含有碘化钾等碘化物作为助剂的水溶液，碘化物的浓度优选设为0.5质量％以上且10质量％以下。此外，清洗处理中的水溶液的温度通常为5℃以上且50℃以下，优选为10℃以上且45℃以下，进一步优选为15℃以上且40℃以下。通过将水溶液的温度设为前述范围，从而能够进一步提高偏振性能等。

干燥工序的条件没有特别限定，优选在30℃以上且150℃以下、特别优选在50℃以上且130℃以下的温度下进行PVA膜的干燥。通过以前述范围内的温度进行干燥，从而容易获得尺寸稳定性优异的偏振膜。

需要说明的是，相位差膜等除偏振膜之外的光学膜也可以通过具备对本发明的光学膜制造用膜进行单轴拉伸的工序的方法来制造。具体制造方法除了使用本发明的光学膜制造用膜之外，可以采用现有公知的方法。

<光学膜>

使用本发明的光学膜制造用膜，并通过上述制造方法，能够得到光学膜。

前述光学膜可以为偏振膜、相位差膜、视场角改进膜、增亮膜等，优选为偏振膜。该情况下，偏振膜通常包含二色性色素，另外，PVA可以进行了交联。

前述光学膜优选为拉伸膜，更优选为单轴拉伸膜。此外，该光学膜可以为单层膜，也可以为多层膜，优选为单层膜。为这种膜时，该光学膜更适合用作偏振膜等。

前述光学膜为偏振膜时，偏振膜的二色性比(R)优选为100以上。通过使用满足上述动态粘弹性参数的PVA膜，从而能够以良好的生产率制造具有这种高二色性比(R)的偏振膜。二色性比(R)更优选为150以上，进一步优选为190以上。作为该二色性比(R)的上限，例如为350，可以为300或260。

偏振膜的二色性比(R)的计算方法如下所示。首先，排除表面反射后的透射率(T’)与单体透射率(T)的关系如式(a)所示。此时，偏振膜的折射率设为1.5，表面反射率设为4％。透射率(T’)与偏振度(V)与二色性比(R)的关系如式(b)所示。因此，在测量出单体透射率(T)和偏振度(V)的基础上，通过使用这些数值来求解式(a)和(b)，从而能够算出偏振膜的二色性比(R)。

T’＝T/(1-0.04)² ...(a)

R＝{-ln[T’(1-V)]}/{-ln[T’(1+V)]} …(b)

偏振膜通常通过在其两面或单面贴合光学透明且具有机械强度的保护膜而制成偏振板来使用。作为保护膜，可使用三乙酸纤维素(TAC)膜、环烯烃聚合物(COP)膜、乙酸-丁酸纤维素(CAB)膜、丙烯酸系膜、聚酯系膜等。此外，作为用于贴合的粘接剂，可列举出PVA系粘接剂、氨基甲酸酯系粘接剂、丙烯酸酯系紫外线固化型粘接剂等。即，偏振板具有偏振膜和直接层叠或借助粘接剂层而层叠在该偏振膜的单面或两面上的保护膜。

偏振板可以例如在涂布丙烯酸系等的粘合剂后，贴合于玻璃基板而用作LCD的部件。需要说明的是，偏振板可以进一步贴合有相位差膜、视场角改进膜、增亮膜等。

实施例

以下，通过实施例更详细地说明本发明，但本发明不受这些实施例的任何限定。各测定和评价的方法如下所示。

[PVA的聚合度(粘均聚合度)]

针对以下的合成例中合成的PVA，按照JIS K6726-1994的记载，测定粘均聚合度。

[PVA的皂化度]

针对以下的合成例中合成的PVA，按照JIS K6726-1994的记载，测定皂化度。

[PVA中的含硅基团的含量]

针对以下的合成例中合成的PVA，根据皂化前的乙烯基酯聚合物的质子NMR来测定含硅基团相对于全部结构单元的含量。测定皂化前的乙烯基酯聚合物的质子NMR时，将乙烯基酯聚合物利用己烷-丙酮进行再沉淀精制而从聚合物中完全去除未反应单体，接着，进行2天的90℃减压干燥后，溶解于CDCl₃溶剂并供至分析。

[膜的溶胀度]

将以下的实施例或比较例中得到的膜(光学膜制造用膜)以达到1.5g的方式进行切割，在30℃的蒸馏水1000g中浸渍30分钟。在浸渍30分钟后将膜取出，用滤纸吸取表面的水后，测定其质量(N)。接着，将该膜用105℃的干燥机干燥16小时后，测定干燥后的质量(M)。利用下式，由所得质量(N)和质量(M)来求出膜的溶胀度。

溶胀度(％)＝100×N/M

[偏振膜的二色性比(光学性能)]

从以下的实施例或比较例中得到的偏振膜的宽度方向的中央部采取偏振膜的长度方向为4cm的长方形样品。针对该样品，使用带有积分球的分光光度计(日本分光公司制的“V7100”)，按照JIS Z8722(物体色的测定方法)，进行C光源、2°视场的可见光区域的能见度校正，在此基础上测定单体透射率(T)和偏振度(V)。

通过由所得单体透射率(T)和偏振度(V)的值来求解下述式(a)和(b)，从而算出偏振膜的二色性比(R)。此处，将偏振膜的折射率设为1.5，将表面反射率设为4％。另外，如此操作，将在实施例和比较例的单轴拉伸处理浴的温度条件下制造的偏振膜的二色性比(R)设为R₀。

T’＝T/(1-0.04)² ...(a)

R＝{-ln[T’(1-V)]}/{-ln[T’(1+V)]} …(b)

[偏振膜的收缩力]

使用以下的实施例或比较例中得到的偏振膜，利用岛津制作所制的带恒温槽的自动绘图仪“AG-X”和摄像式伸长率计“TRViewX120S”，测定偏振膜的收缩力。测定中使用在20℃/20％RH的条件下调湿18小时的偏振膜。将自动绘图仪“AG-X”的恒温槽设为20℃后，将偏振膜(长度方向15cm、宽度方向1.5cm)安装于卡盘(卡盘间隔为5cm)，在开始拉伸的同时，开始将恒温槽向80℃进行升温。将偏振膜以1mm/min的速度进行拉伸，在张力达到2N的时刻停止拉伸，测定在该状态下保持至4小时后的张力。此时，卡盘间距离因热膨胀而发生变化，因此，在卡盘上粘贴标线封条，使用摄像式伸长率计“TRViewX120S”，以能够对卡盘间距离修正出粘贴于卡盘的标线封条发生移动的量的方式进行测定。需要说明的是，将4小时后的张力的测定值减去初始张力2N而得到的值作为偏振膜的收缩力。另外，如此操作，将利用实施例和比较例的单轴拉伸处理浴的温度条件而制造的偏振膜的收缩力(SF)作为SF₀。

[偏振膜的收缩力为15N时的二色性比]

以下的实施例或比较例中，将单轴拉伸处理浴的温度设定为低2℃或4℃的温度，以所得偏振膜的透射度成为44.0％的方式变更染色处理浴的碘浓度，除此之外，利用相同的方法，得到单轴拉伸处理浴的温度不同的偏振膜。测定所得各偏振膜的单体透射率(T)和偏振度(V)，利用前述方法来求出二色性比(R)。此处，将在单轴拉伸处理浴的温度低2℃的条件下得到的偏振膜的二色性比(R)记作R_-2，将在单轴拉伸处理浴的温度低4℃的条件下得到的偏振膜的二色性比(R)记作R_-4。另外，利用前述方法来测定各偏振膜的收缩力。此处，将在单轴拉伸处理浴的温度低于2℃的条件下得到的偏振膜的收缩力(SF)记作SF_-2，将在单轴拉伸处理浴的温度低于4℃的条件下得到的偏振膜的收缩力(SF)记作SF_-4。

根据如此操作而得到的单轴拉伸处理浴的温度不同的3种偏振膜的二色性比(R₀、R_-2、R_-4)和收缩力(SF₀、SF_-2、SF_-4)的值，对二色性比与收缩力的关系进行标绘，并进行直线拟合，由此算出偏振膜的收缩力为15N时的二色性比。

[基于动态粘度测定的PVA水溶液的复数粘度]

(PVA水溶液的制备)

使用以下的实施例或比较例中制造的PVA膜，制备动态粘弹性测定用的PVA水溶液。具体而言，以PVA浓度成为12质量％的方式向容器中称量PVA膜和蒸馏水后，边搅拌边在95℃下加热溶解4小时，由此制备PVA水溶液。在制备时，首先用水使PVA膜发生溶胀并进行清洗，由此使PVA膜中包含的除PVA之外的物质(水、增塑剂、表面活性剂)溶出后，使膜在105℃的干燥机内干燥17小时以上并进行称量，由此求出PVA膜中的PVA含量。并且，根据该求出的PVA含量，称量以PVA浓度成为12质量％的方式不使除PVA之外的物质溶出的PVA膜，并进行溶解。

(动态粘度测定)

利用动态粘弹性测定装置(TA instruments公司制的“ARES-G2”)，在下述测定条件下，将各PVA水溶液的温度设定为30℃或80℃，进行动态粘弹性测定。

(动态粘弹性测定的测定条件)

几何形状：圆锥角为0.02rad的锥板和圆盘型板

板直径：40mm

应变：1％

角频率范围：1～500rad/秒

测定温度(PVA水溶液的温度)：30℃或80℃

此处，PVA水溶液的温度在以下的步骤中设定为30℃或80℃。首先，在升温至30℃或80℃的板上涂布1mL左右的作为测定对象的PVA水溶液。并且，以锥板与圆盘型板之间的间隙成为规定值的方式合在一起后，用棉棒去除从板上溢出的PVA水溶液，进行动态粘弹性测定。需要说明的是，将PVA水溶液的温度设定为80℃来进行动态粘弹性测定时，为了防止水溶液在测定中蒸发，在将从板上溢出的样品去除后，沿着锥板少量涂布邻苯二甲酸双(2-乙基己基)酯。另外，使用溶剂盖夹布(trap cover)来进行测定。

(PVA水溶液的复数粘度)

根据将温度设定为30℃的PVA水溶液的通过动态粘弹性测定而得到的复数粘度的流动曲线，求出角频率为1rad/秒时的复数粘度η^* ₁(30)和角频率为500rad/秒时的复数粘度η^* ₅₀₀(30)。另外，计算它们的比值(η^* ₁(30)/η^* ₅₀₀(30))，作为R_ω(30)。另一方面，针对将温度设定为80℃的PVA水溶液的通过动态粘弹性测定而得到的复数粘度的流动曲线，也同样地求出角频率为1rad/秒时的复数粘度η^* ₁(80)和角频率为500rad/秒时的复数粘度η^* ₅₀₀(80)。另外，计算它们的比值(η^* ₁(80)/η^* ₅₀₀(80))，作为R_ω(80)。进而，计算前述求出的复数粘度η^* ₁(30)与复数粘度η^* ₁(80)之比(η^* ₁(30)/η^* ₁(80))，作为Rt。需要说明的是，动态粘度测定针对由实施例或比较例的PVA膜制备的PVA水溶液分别进行3次，使用将它们的3次测定数据进行平均化而得到的数据，求出PVA水溶液的复数粘度η^* ₁(30)、η^* ₅₀₀(30)、η^* ₁(80)和η^* ₅₀₀(80)。

[合成例1]PVA-1的合成

向具备搅拌机、氮气导入口、添加剂导入口和引发剂添加口的6L反应槽中投入乙酸乙烯酯2550g、甲醇450g和5质量％的乙烯基三甲氧基硅烷甲醇溶液116.8ml，在升温至60℃后，通过氮气鼓泡30分钟而对体系中进行氮气置换。将反应槽内的温度调整至60℃，添加2,2’-偶氮双(异丁腈)0.3g，开始聚合。从开始聚合的时刻起，边向体系内添加含有5质量％乙烯基甲氧基硅烷的甲醇53ml，边进行3小时的聚合反应，在该时刻停止聚合。停止聚合反应的时刻的聚合率为25.0％。需要说明的是，在聚合中将聚合温度维持至60℃。接着，在减压下去除未反应的乙酸乙烯酯，得到聚乙酸乙烯酯(以下有时简写为PVAc)的甲醇溶液。

将所得PVAc的甲醇溶液的浓度调整至23.5质量％，以碱摩尔比(NaOH的摩尔数/PVAc中的乙烯基酯单元的摩尔数)达到0.04的方式添加NaOH甲醇溶液(10质量％浓度)，进行皂化。所得聚乙烯醇用甲醇进行清洗。

通过以上的操作而得到的PVA-1的聚合度(粘均聚合度)为2,400、皂化度为99.9摩尔％、含硅基团的含量为0.3摩尔％。

[合成例2～5]PVA-2～PVA-5的合成

按照合成例1，适当调整所使用的单体的比例、聚合条件和皂化条件，得到具有表1中记载的粘均聚合度、皂化度和含硅基团的含量的PVA-2～PVA-5。

[实施例1]

制备包含PVA-1100质量份、作为增塑剂的甘油10质量份和作为表面活性剂的聚氧乙烯月桂基醚硫酸钠0.1质量份，且PVA含有率为7.5质量％的水溶液来作为制膜原液。将该制膜原液在80℃的金属辊上干燥，将所得膜在热风干燥机中以127℃的温度热处理10分钟，由此将溶胀度调整至200％，制作平均厚度为30μm的PVA膜(光学膜制造用膜)。

以宽度5cm×长度5cm的范围能够进行单轴拉伸的方式，从所得PVA膜的宽度方向中央部切取宽度5cm×长度9cm的样品。将该样品在30℃的纯水中浸渍60秒钟，同时沿着长度方向单轴拉伸至2倍，进行溶胀处理。接着，在含有碘0.075质量％和碘化钾2质量％的水溶液(染色处理浴：温度32℃)中浸渍120秒钟，同时沿着长度方向单轴拉伸至1.2倍(以整体计为2.4倍)，从而使碘吸附。接着，在含有硼酸2.6质量％的水溶液(硼酸交联处理浴：温度32℃)中浸渍120秒，同时沿着长度方向单轴拉伸至1.25倍(以整体计为3.0倍)。进而，在以2.8质量％的比例含有硼酸且以5质量％的比例含有碘化钾的水溶液(单轴拉伸处理浴：温度69℃)中浸渍，同时沿着长度方向单轴拉伸至以整体计为6.0倍为止。其后，通过在以1.5质量％的浓度含有硼酸且以2.5质量％的浓度含有碘化钾的碘化钾水溶液(清洗浴：温度22℃)中浸渍5秒钟，从而对膜进行清洗。最后，以80℃干燥4分钟而得到偏振膜。

使用所得偏振膜并通过前述方法，测定单体透射率(T)和偏振度(V)，求出二色性比(R₀)的结果，单体透射率(T)为44.12％、偏振度(V)为99.9738％、二色性比(R₀)为203。另外，通过前述方法来测定偏振膜的收缩力(SF₀)的结果，为13.6N。进而，通过前述方法来计算偏振膜的收缩力为15N时的二色性比的结果，为206。

另外，使用所得PVA膜并通过前述方法来制备PVA水溶液，实施动态粘弹性测定。此时，通过称量PVA膜21.3g(PVA含量为18g)、蒸馏水128.7g而得到12质量％的PVA水溶液。将30℃的水溶液的由动态粘弹性测定(角频率：1～500rad/秒)得到的复数粘度的流动曲线示于图1。

[实施例2～3和比较例1～2]

使用表1中记载的PVA(PVA-2～PVA-5)，以PVA膜的平均厚度成为30μm、溶胀度成为200％的方式，调整制膜原液的PVA含有率和热处理温度，除此之外，与实施例1同样操作来进行PVA膜的制作和评价。另外，使用所得PVA膜，以所得偏振膜的收缩力成为15N左右且单体透射率成为44.0％的方式变更单轴拉伸处理浴的温度和染色处理浴的碘浓度，除此之外，与实施例1同样操作，进行偏振膜的制造和评价。将评价结果示于表1。

[表1]

如表1所示那样，使用聚合度为2400的未改性的PVA-4得到的比较例1中，复数粘度之比Rt小至3.1，尤其是30℃下的粘度低。在比较例1中，因粘度这样低而可以说PVA间的交联不充分，无法获得二色性比高的偏振膜。另一方面，使用聚合度为4000的未改性的PVA-5得到的比较例2中，复数粘度之比Rt小至4.1，尤其是80℃下的粘度较高。因此，在比较例2中，虽然能够得到二色性比高的偏振膜，但制膜原液的粘度变高，(制膜性)生产率低。与此相对，实施例1～3中，复数粘度之比Rt均为4.5以上，30℃下的水溶液的粘度较高，且80℃下的水溶液的粘度较低。因此，根据实施例1～3的PVA膜(光学膜制造用膜)，可以说能够在维持良好制膜性(生产率)的同时，提高光学膜的光学性能。

Claims (7)

1.光学膜制造用膜，其为包含聚乙烯醇的光学膜制造用膜，

在以所述聚乙烯醇的浓度成为12质量％的方式溶解有所述光学膜制造用膜的水溶液的动态粘度测定中，

复数粘度η^* ₁(30)与复数粘度η^* ₁(80)之比Rt(η^* ₁(30)/η^* ₁(80))为4.5以上且50以下，

所述复数粘度η^* ₁(30)是30℃的所述水溶液的根据动态粘弹性测定而得到的角频率为1rad/秒时的复数粘度，所述复数粘度η^* ₁(80)是80℃的所述水溶液的根据动态粘弹性测定而得到的角频率为1rad/秒时的复数粘度。

2.根据权利要求1所述的光学膜制造用膜，其中，所述复数粘度η^* ₁(30)与复数粘度η^* ₅₀₀(30)之比R_ω(30)(η^* ₁(30)/η^* ₅₀₀(30))为5以上且150以下。

所述复数粘度η^* ₅₀₀(30)是30℃的所述水溶液的根据动态粘弹性测定而得到的角频率为500rad/秒时的复数粘度。

3.根据权利要求1或2所述的光学膜制造用膜，其中，所述聚乙烯醇包含具有含硅基团的改性聚乙烯醇。

4.根据权利要求3所述的光学膜制造用膜，其中，所述改性聚乙烯醇中的所述含硅基团相对于全部结构单元的含量为0.01摩尔％以上且2摩尔％以下。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的光学膜制造用膜，其中，所述光学膜为偏振膜。

6.光学膜的制造方法，其具备将权利要求1～5中任一项所述的光学膜制造用膜进行单轴拉伸的工序。

7.根据权利要求6所述的光学膜的制造方法，其中，所述光学膜为偏振膜。

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