JPH09162085A - 半導体ウェーハ用のラベル - Google Patents
半導体ウェーハ用のラベルInfo
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- JPH09162085A JPH09162085A JP8236605A JP23660596A JPH09162085A JP H09162085 A JPH09162085 A JP H09162085A JP 8236605 A JP8236605 A JP 8236605A JP 23660596 A JP23660596 A JP 23660596A JP H09162085 A JPH09162085 A JP H09162085A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ウェーハをウェーハカセットから取り出さず
に識別できる半導体ウェーハ用のラベルを提供する。 【解決手段】 半導体装置の製造に用いられるウェーハ
11を識別するためのウェーハ用のラベル15におい
て、ラベル15はウェーハ11のフラットゾーンAの縁
部13に凹部状の少なくとも一つのマークよりなる。マ
ークに隣接した領域の表面に文字及び数字で形成された
ロット番号及びウェーハ番号をさらに表示することによ
り、それぞれのウェーハ11をより容易に識別し得る。
従って、ウェーハ11の番号を確認するためにウェーハ
カセットのウェーハ11を取り出して確認しなくても良
いのでウェーハ11の表面にスクラッチが形成されるの
を防止することができ、よってウェーハ11の損傷及び
汚染を減らし得る。
に識別できる半導体ウェーハ用のラベルを提供する。 【解決手段】 半導体装置の製造に用いられるウェーハ
11を識別するためのウェーハ用のラベル15におい
て、ラベル15はウェーハ11のフラットゾーンAの縁
部13に凹部状の少なくとも一つのマークよりなる。マ
ークに隣接した領域の表面に文字及び数字で形成された
ロット番号及びウェーハ番号をさらに表示することによ
り、それぞれのウェーハ11をより容易に識別し得る。
従って、ウェーハ11の番号を確認するためにウェーハ
カセットのウェーハ11を取り出して確認しなくても良
いのでウェーハ11の表面にスクラッチが形成されるの
を防止することができ、よってウェーハ11の損傷及び
汚染を減らし得る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体ウェーハを識
別するための半導体ウェーハ用のラベルに関する。
別するための半導体ウェーハ用のラベルに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造に用いられるウェーハ
を効率よく管理するために、特にウェーハを識別するた
めに必須的にウェーハの所定領域に固有のラベルを形成
させなければならない。通常的に、ラベルはウェーハの
縁部の表面に写真食刻により、またはレーザーを用いて
形成された番号及び文字よりなる。
を効率よく管理するために、特にウェーハを識別するた
めに必須的にウェーハの所定領域に固有のラベルを形成
させなければならない。通常的に、ラベルはウェーハの
縁部の表面に写真食刻により、またはレーザーを用いて
形成された番号及び文字よりなる。
【0003】一般に、一つのロットを構成する多数のウ
ェーハは一つ又は二つのウェーハキャリア内に保管され
る。このようなウェーハキャリアはその内部に互いに隣
接した多数のスロットを有し、それぞれのスロットに一
枚のウェーハが挟み込まれる。このようにそれぞれのス
ロットにウェーハを挿入すると、互いに隣接したウェー
ハの間隔が非常に狭いのでそれぞれのウェーハの表面に
形成されたラベルを目で確認し難い。したがって、特定
ウェーハを探すためにホルディング器具、例えばツイー
ザを用いて任意にウェーハをキャリアから取り出してウ
ェーハの表面のラベルを確認する作業が求められる。こ
の際、一枚のウェーハをツイーザで取り出す時、これに
隣接したウェーハの表面にスクラッチが発生することが
あり、これによりウェーハが汚染される。
ェーハは一つ又は二つのウェーハキャリア内に保管され
る。このようなウェーハキャリアはその内部に互いに隣
接した多数のスロットを有し、それぞれのスロットに一
枚のウェーハが挟み込まれる。このようにそれぞれのス
ロットにウェーハを挿入すると、互いに隣接したウェー
ハの間隔が非常に狭いのでそれぞれのウェーハの表面に
形成されたラベルを目で確認し難い。したがって、特定
ウェーハを探すためにホルディング器具、例えばツイー
ザを用いて任意にウェーハをキャリアから取り出してウ
ェーハの表面のラベルを確認する作業が求められる。こ
の際、一枚のウェーハをツイーザで取り出す時、これに
隣接したウェーハの表面にスクラッチが発生することが
あり、これによりウェーハが汚染される。
【0004】図1は従来のラベルの形成されたウェーハ
の平面図である。図1に示したように、ウェーハ1のフ
ラットゾーンの表面に形成されたラベル3は前記ウェー
ハ1を識別するための固有の番号及び文字で表示され
る。一般に、ラベルは半導体装置の種類、ロット番号及
びウェーハの一連番号を示す文字及び番号を含む。この
ように従来のラベルはウェーハの所定領域の表面、例え
ばフラットゾーンの表面に形成されるのでウェーハの側
面からラベルが認識できない問題がある。従って、ウェ
ーハカセットの多数枚のウェーハの中から特定ウェーハ
を探すためには多数枚のウェーハを一々取り出してラベ
ルを確認しなければならなく、これにより隣接したウェ
ーハの表面にスクラッチが形成される恐れがある。この
ようにウェーハの表面にスクラッチが形成されると、汚
染粒子が発生し、その結果工程収率が劣化する。
の平面図である。図1に示したように、ウェーハ1のフ
ラットゾーンの表面に形成されたラベル3は前記ウェー
ハ1を識別するための固有の番号及び文字で表示され
る。一般に、ラベルは半導体装置の種類、ロット番号及
びウェーハの一連番号を示す文字及び番号を含む。この
ように従来のラベルはウェーハの所定領域の表面、例え
ばフラットゾーンの表面に形成されるのでウェーハの側
面からラベルが認識できない問題がある。従って、ウェ
ーハカセットの多数枚のウェーハの中から特定ウェーハ
を探すためには多数枚のウェーハを一々取り出してラベ
ルを確認しなければならなく、これにより隣接したウェ
ーハの表面にスクラッチが形成される恐れがある。この
ようにウェーハの表面にスクラッチが形成されると、汚
染粒子が発生し、その結果工程収率が劣化する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は前記問題点を解決するためにウェーハをウェーハカセ
ットから取り出さずに識別できる半導体ウェーハ用のラ
ベルを提供することにある。
は前記問題点を解決するためにウェーハをウェーハカセ
ットから取り出さずに識別できる半導体ウェーハ用のラ
ベルを提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明による半導体ウェーハ用のラベルは、半導体装
置の製造に用いられるウェーハを識別するためのウェー
ハ用のラベルにおいて、前記ラベルはそれぞれのウェー
ハのフラットゾーンの縁部に形成された少なくとも一つ
の凹部状のマークよりなることを特徴とする。
に本発明による半導体ウェーハ用のラベルは、半導体装
置の製造に用いられるウェーハを識別するためのウェー
ハ用のラベルにおいて、前記ラベルはそれぞれのウェー
ハのフラットゾーンの縁部に形成された少なくとも一つ
の凹部状のマークよりなることを特徴とする。
【0007】好ましくは、前記マークに隣接した領域の
表面に文字及び数字で形成されたロット番号及びウェー
ハ番号をさらに含む。
表面に文字及び数字で形成されたロット番号及びウェー
ハ番号をさらに含む。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、添付した図面に基づき本発
明の実施例を詳細に説明する。図2、図3及び図4を参
照すれば、参照番号11はウェーハ、参照符号Aは前記
ウェーハ11のフラットゾーン、参照番号13は前記ウ
ェーハ11のフラットゾーンAの縁部、参照番号15は
前記フラットゾーンAの縁部13に隣接してウェーハの
表面に形成されたラベルを示す。ここで、図3に示した
ように前記ラベル15の表面には多数の凹部が形成され
ている。
明の実施例を詳細に説明する。図2、図3及び図4を参
照すれば、参照番号11はウェーハ、参照符号Aは前記
ウェーハ11のフラットゾーン、参照番号13は前記ウ
ェーハ11のフラットゾーンAの縁部、参照番号15は
前記フラットゾーンAの縁部13に隣接してウェーハの
表面に形成されたラベルを示す。ここで、図3に示した
ように前記ラベル15の表面には多数の凹部が形成され
ている。
【0009】前記ラベルの凹部は従来のように写真食刻
により又はレーザーで形成される。図3及び図4に示し
たような前記ラベルの凹部は所定の幅を有する第1マー
ク17及び又は第1マーク17よりさらに広い幅を有す
る第2マーク19よりなることが好ましい。それぞれの
ウェーハを識別するためのラベルを一定の規則に従って
前記第1マーク17と第2マーク19との組み合わせで
表示すると、フラットゾーンがウェーハの上部に位置す
るようにウェーハがウェーハカセットに整列された状態
で第1マーク17及び第2マーク19の個数及び大きさ
を目で確認できる。これにより、ウェーハをウェーハカ
セットから取り出さずにそれぞれのウェーハを目で容易
に識別し得る。
により又はレーザーで形成される。図3及び図4に示し
たような前記ラベルの凹部は所定の幅を有する第1マー
ク17及び又は第1マーク17よりさらに広い幅を有す
る第2マーク19よりなることが好ましい。それぞれの
ウェーハを識別するためのラベルを一定の規則に従って
前記第1マーク17と第2マーク19との組み合わせで
表示すると、フラットゾーンがウェーハの上部に位置す
るようにウェーハがウェーハカセットに整列された状態
で第1マーク17及び第2マーク19の個数及び大きさ
を目で確認できる。これにより、ウェーハをウェーハカ
セットから取り出さずにそれぞれのウェーハを目で容易
に識別し得る。
【0010】図5は前記図3及び図4に示した第1マー
ク17及び第2マーク19を用いてウェーハのラベルを
表示するための一方法を説明するための断面図である。
例えば、一つのロットが25枚のウェーハより構成され
た場合に第1ウェーハにはフラットゾーンの縁部の左先
端に形成された一つの第1マーク17のみよりなるラベ
ルを表示し、第2ウェーハにはフラットゾーンの縁部の
左先端から右側に配列された二つの第1マーク17より
なるラベルを形成する。同一の方法で続いて第5ウェー
ハには連続して配列された四つの第1マーク17と一つ
の第2マーク19よりなるラベルを形成する。次いで、
前記の方法を用いてウェーハのラベルを表示すると一つ
のロットを構成する全てのウェーハを容易に識別し得
る。
ク17及び第2マーク19を用いてウェーハのラベルを
表示するための一方法を説明するための断面図である。
例えば、一つのロットが25枚のウェーハより構成され
た場合に第1ウェーハにはフラットゾーンの縁部の左先
端に形成された一つの第1マーク17のみよりなるラベ
ルを表示し、第2ウェーハにはフラットゾーンの縁部の
左先端から右側に配列された二つの第1マーク17より
なるラベルを形成する。同一の方法で続いて第5ウェー
ハには連続して配列された四つの第1マーク17と一つ
の第2マーク19よりなるラベルを形成する。次いで、
前記の方法を用いてウェーハのラベルを表示すると一つ
のロットを構成する全てのウェーハを容易に識別し得
る。
【0011】図6は図3及び図4に示した第1マーク1
7及び第2マーク19を用いてウェーハのラベルを表示
するための他の方法を説明するための図である。図5と
同様に、一つのロットが25枚のウェーハより構成され
た場合に第1ウェーハにはフラットゾーンの縁部の左先
端に形成された一つの第1マーク17のみよりなるラベ
ルを形成し、第2及び第3ウェーハには前記フラットゾ
ーンの縁部の左先端から右側に配列された二つ及び三つ
の第1マーク17よりなるラベルを形成する。更に、第
4ウェーハには前記フラットゾーンの縁部の左先端から
相互隣接した前記第1マーク17の間隔の3倍に当たる
位置に形成された一つの第1マーク17及びその右側に
形成された一つの第2マーク19よりなるラベルを表示
し、第5ウェーハには前記一つの第2マーク19のみよ
りなるラベルを表示する。続いて、前記の方法でウェー
ハの番号を表示すると前記図5とは違う方法で一つのロ
ットを構成する全てのウェーハを容易に識別し得る。
7及び第2マーク19を用いてウェーハのラベルを表示
するための他の方法を説明するための図である。図5と
同様に、一つのロットが25枚のウェーハより構成され
た場合に第1ウェーハにはフラットゾーンの縁部の左先
端に形成された一つの第1マーク17のみよりなるラベ
ルを形成し、第2及び第3ウェーハには前記フラットゾ
ーンの縁部の左先端から右側に配列された二つ及び三つ
の第1マーク17よりなるラベルを形成する。更に、第
4ウェーハには前記フラットゾーンの縁部の左先端から
相互隣接した前記第1マーク17の間隔の3倍に当たる
位置に形成された一つの第1マーク17及びその右側に
形成された一つの第2マーク19よりなるラベルを表示
し、第5ウェーハには前記一つの第2マーク19のみよ
りなるラベルを表示する。続いて、前記の方法でウェー
ハの番号を表示すると前記図5とは違う方法で一つのロ
ットを構成する全てのウェーハを容易に識別し得る。
【0012】さらに、前記ラベル部15と隣接した領域
に従来の方法で文字及び数字よりなるウェーハID(i
dentification)40をさらに表示するこ
とにより、それぞれのウェーハをより容易に識別し得
る。
に従来の方法で文字及び数字よりなるウェーハID(i
dentification)40をさらに表示するこ
とにより、それぞれのウェーハをより容易に識別し得
る。
【0013】
【発明の効果】前述したように本発明によれば、ウェー
ハカセットに入っているウェーハを取り出さずに目でそ
れぞれのウェーハを識別し得る。従って、特定ウェーハ
の番号を確認するためにツイーザのような器具を用いる
必要がないのでウェーハの表面にスクラッチが形成され
るのを防止することができ、よってウェーハの汚染及び
損傷を防止し得る。
ハカセットに入っているウェーハを取り出さずに目でそ
れぞれのウェーハを識別し得る。従って、特定ウェーハ
の番号を確認するためにツイーザのような器具を用いる
必要がないのでウェーハの表面にスクラッチが形成され
るのを防止することができ、よってウェーハの汚染及び
損傷を防止し得る。
【0014】以上、実施例を通じて本発明を詳細に説明
したが、本発明はこれに限定されず、本発明の技術的思
想内で当業者によりその変形や改良が可能である。
したが、本発明はこれに限定されず、本発明の技術的思
想内で当業者によりその変形や改良が可能である。
【図1】従来のラベルの形成されたウェーハを示す平面
図である。
図である。
【図2】本発明によるラベルを説明するためのウェーハ
の概略的な平面図である。
の概略的な平面図である。
【図3】図2のIII−III線による断面図である。
【図4】図2のA部分の拡大図である。
【図5】図4の第1マーク及び第2マークを用いてウェ
ーハのラベルを表示する一方法を説明するための図であ
る。
ーハのラベルを表示する一方法を説明するための図であ
る。
【図6】図4の第1マーク及び第2マークを用いてウェ
ーハのラベルを表示する他の方法を説明するための図で
ある。
ーハのラベルを表示する他の方法を説明するための図で
ある。
11 ウェーハ 13 縁部 15 ラベル A フラットゾーン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 李 承遠 大韓民国京畿道水原市長安区栗田洞109番 地長安アパート ナ棟508号
Claims (3)
- 【請求項1】 半導体装置の製造に用いられるウェーハ
を識別するためのウェーハ用のラベルにおいて、 前記ラベルはそれぞれのウェーハのフラットゾーンの縁
部に形成された少なくとも一つの凹部状のマークよりな
ることを特徴とするウェーハ用のラベル。 - 【請求項2】 前記マークは所定の大きさの少なくとも
一つの第1マーク及び又は前記第1マークより大きい少
なくとも一つの第2マークの組み合わせよりなることを
特徴とする請求項1に記載のウェーハ用のラベル。 - 【請求項3】 前記マークに隣接してロット番号及びウ
ェーハ番号がさらに表示されることを特徴とする請求項
1に記載のウェーハ用のラベル。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1995P45823 | 1995-11-30 | ||
KR1019950045823A KR0147672B1 (ko) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 웨이퍼를 용이하게 구별하기 위한 라벨 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09162085A true JPH09162085A (ja) | 1997-06-20 |
Family
ID=19437190
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8236605A Pending JPH09162085A (ja) | 1995-11-30 | 1996-09-06 | 半導体ウェーハ用のラベル |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5800906A (ja) |
JP (1) | JPH09162085A (ja) |
KR (1) | KR0147672B1 (ja) |
CN (1) | CN1098537C (ja) |
DE (1) | DE19636799A1 (ja) |
GB (1) | GB2307787B (ja) |
TW (1) | TW328851U (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998057361A1 (fr) * | 1997-06-12 | 1998-12-17 | Nikon Corporation | Substrat de fabrication de dispositif, procede de fabrication de ce substrat, et procede d'exposition avec ce substrat |
JP2013211476A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Olympus Corp | 半導体ウエハおよび半導体装置 |
JP2015154075A (ja) * | 2014-02-11 | 2015-08-24 | サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド | ウェハーの製造方法及びそれによって製造されたウェハー |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10256105A (ja) * | 1997-03-11 | 1998-09-25 | Super Silicon Kenkyusho:Kk | レーザマークを付けたウェーハ |
US5933521A (en) * | 1997-06-23 | 1999-08-03 | Pasic Engineering, Inc. | Wafer reader including a mirror assembly for reading wafer scribes without displacing wafers |
JP2001101337A (ja) * | 1999-07-26 | 2001-04-13 | Komatsu Ltd | ドットマークの読取り装置と読取り方法 |
US6420792B1 (en) * | 1999-09-24 | 2002-07-16 | Texas Instruments Incorporated | Semiconductor wafer edge marking |
US8389099B1 (en) | 2007-06-01 | 2013-03-05 | Rubicon Technology, Inc. | Asymmetrical wafer configurations and method for creating the same |
US10020264B2 (en) | 2015-04-28 | 2018-07-10 | Infineon Technologies Ag | Integrated circuit substrate and method for manufacturing the same |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5572034A (en) * | 1978-11-27 | 1980-05-30 | Internatl Rectifier Corp Japan Ltd | Preparing semiconductor element |
JPS61196512A (ja) * | 1985-02-26 | 1986-08-30 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法 |
JPH0196920A (ja) * | 1987-10-09 | 1989-04-14 | Fujitsu Ltd | ウエーハの識別方法 |
JPH02183509A (ja) * | 1989-01-10 | 1990-07-18 | Seiko Epson Corp | 半導体基板の識別方法 |
EP0604061A1 (en) * | 1992-12-24 | 1994-06-29 | AT&T Corp. | Semiconductor fabrication |
-
1995
- 1995-11-30 KR KR1019950045823A patent/KR0147672B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1996
- 1996-09-05 GB GB9618557A patent/GB2307787B/en not_active Expired - Fee Related
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