JPH09100279A - 抗真菌剤、その化合物及びその製造方法並びにその使用方法 - Google Patents
抗真菌剤、その化合物及びその製造方法並びにその使用方法Info
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- JPH09100279A JPH09100279A JP19706796A JP19706796A JPH09100279A JP H09100279 A JPH09100279 A JP H09100279A JP 19706796 A JP19706796 A JP 19706796A JP 19706796 A JP19706796 A JP 19706796A JP H09100279 A JPH09100279 A JP H09100279A
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Abstract
る(R)−(+)−(E)−〔4−(2−クロロフェニ
ル)−1,3−ジチオラン−2−イリデン〕−1−イミ
ダゾリルアセトニトリル、又は(R)−(−)−(E)
−〔4─(2,4−ジクロロフェニル)−1,3−ジチ
オラン−2−イリデン〕−1−イミダゾリルアセトニト
リル及びそれらの塩類、抗真菌剤、その化合物及びその
製造方法並びにその使用方法。 【効果】 優れた抗真菌活性を有しており人間や動物の
真菌感染症治療薬として有用である。
Description
る(R)−(+)−(E)−〔4−(2−クロロフェニ
ル)−1,3−ジチオラン−2−イリデン〕−1−イミ
ダゾリルアセトニトリル(以下、化合物Aという)及び
その薬理学的に許容される塩類、又は(R)−(−)−
(E)−〔4−(2,4−ジクロロフェニル)−1,3
−ジチオラン−2−イリデン〕−1−イミダゾリルアセ
トニトリル(以下、化合物Bという)及びその薬理学的
に許容される塩類を有効成分として含有する抗真菌剤、
該抗真菌剤によるmycosisの治療方法及び新規な
光学活性体である(R)−(−)−(E)−〔4−
(2,4−ジクロロフェニル)−1,3−ジチオラン−
2−イリデン〕−1−イミダゾリルアセトニトリル及び
その塩類並びにその製造方法に関するものである。
ル系化合物が知られているが、特開昭60ー21838
7号公報には一般式(a) ;
62ー93227号公報には抗真菌剤として有用である
ことが記載されている。又、特開平2−275877号
公報には上記イミダゾール化合物のうち、特定の化合物
の光学活性化合物がラセミ体に比べて白癬菌(Trichoph
yton mentagrophytes)に対して約1.4倍の活性を示す
事が記載されている。
対して、ラセミ体と比して更に優れた活性を示す光学異
性体である抗真菌剤、その化合物及びその製造方法並び
にその使用方法を提供するものである。
た結果、一般式(I) で表される化合物A又は化合物B及
びそれらの薬理学的に許容される塩類、即ち(R)−エ
ナンチオマー体が皮膚糸状菌類の中でも特に高感受性株
に対してそれらのラセミ体に比して数倍の抗真菌活性を
有すること及び化合物A並びに文献未記載の新規化合物
である化合物Bはそれらのラセミ体に比しても予測でき
ない抗真菌活性を有することを見いだし、本発明を完成
させたものである。特にTrichophyton rubrum に対して
化合物A及び化合物Bは感受性が高く、それぞれのラセ
ミ体に比して2〜4倍の抗真菌活性を有している。
7号公報に記載の製造方法により製造することができ、
化合物Bは下記に図示する製法により製造することがで
きる。
ンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、
p−トルエンスルホニルオキシ基、又はハロゲン原子を
示し、Mはアルカリ金属原子を示す。) 即ち、特開平2−275877号公報に記載の製造方法
と同様に、一般式(II)で表される(S)の立体配置を有
する光学活性グリコール誘導体あるいはその等価体と、
一般式 (III)で表されるジチオレート塩とを反応させる
ことにより目的物である化合物Bを製造することができ
る。一般式(II)で表される光学活性グリコール誘導体に
おけるX1又はX2のハロゲン原子としては、例えば塩素原
子、臭素原子又はヨウ素原子を例示することができ、一
般式(III) で表されるジチオレート塩におけるアルカリ
金属原子としては、例えばリチウム、ナトリウム又はカ
リウム等のアルカリ金属原子を例示することができる。
は、下記に示す1−シアノメチルイミダゾールと二硫化
炭素を塩基及び不活性溶媒の存在下に反応させることに
より製造することができる。
阻害しないものであればよく、例えば、メタノール、エ
タノール、イソプロパノール等のアルコール類、ジメチ
ルスルホキシド(DMSO)、ジメチルホルムアミド、
アセトニトリル等の極性溶媒、水及びこれらの混合溶媒
を用いることができる。塩基としては、例えば炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム等をあげることができ、これらは固体のまま又は不
活性溶媒に溶解させて使用でき、塩基の使用量は1−シ
アノメチルイミダゾールに対し2〜8倍モルの範囲から
選択すればよく、望ましくは4〜6倍モルである。一般
式(II)の化合物は1−シアノメチルイミダゾールに対
して等モル又は過剰量用いることができる。反応温度は
0〜100℃の範囲で選択すればよいが、望ましくは室
温付近である。反応時間は0.5〜24時間の範囲から
選択できる。得られた化合物はE及びZの幾何異性体混
合物であるが、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、
分別結晶等の方法により目的とする一般式(I) で表され
るE−異性体を単離精製できる。分別結晶及び再結精製
溶媒として、エタノール、酢酸エチル、エーテル、ヘキ
サン、アセトン等およびこれらの混合溶媒を用いること
ができるが、特に限定されるものではない。
物は以下に図示する製造方法1〜3の公知の方法によっ
て製造することができる。 製造方法1.
Org.Chem.(1992) 57,2768〕で
製造することができる(S)−1−(2,4−ジクロロ
フェニル)エタン−1,2−ジオールを適当なハロゲン
化剤(例えば,塩化チオニル、三臭化リン、四塩化炭素
/トリフェニルフォスフィン等)又はメタンスルホニル
クロリド、トルエンスルホニルクロリド、ベンゼンスル
ホニルクロリド等の活性化剤と反応させることによって
製造することができる。
に同じ。) 一般式(II)で表される化合物の中でX1 が塩素原子又
は臭素原子の化合物(一般式(IIa))は上記に図示する
ように、2,4−ジクロロスチレンから公知の方法
〔J.Am.Chem.Soc.,(1991),11
3,7063〕で製造される(R)−1−(2,4−ジ
クロロフェニル)−スチレンオキシドをハロゲン化水素
と反応させることにより一般式(IV)で表されるハロア
ルコール類とし、次いで該ハロアルコール類を適当なハ
ロゲン化剤(例えば、塩化チオニル、三臭化リン、四塩
化炭素/トリフェニルフォスフィン等)又はメタンスル
ホニルクロリド、トルエンスルホニルクロリド、ベンゼ
ンスルホニルクロリド等の活性化剤と反応させることに
より一般式(IIa) で表される目的物を製造することがで
きる。
が塩素原子又は臭素原子の化合物である一般式(IIb) で
表される化合物は、製造方法3に示す方法によって製造
することができる。 製造方法3.
に同じ。) 即ち、2,4−ジクロロフェナシルハライドから公知の
方法〔ModernSynthetic Method
s,5,115(1989)〕で合成できる構造式
(V)で表されるハロアルコール類を適当なハロゲン化
剤(例えば,塩化チオニル、三臭化リン、四塩化炭素/
トリフェニルフォスフィン等)あるいはメタンスルホニ
ルクロリド、トルエンスルホニルクロリド、ベンゼンス
ルホニルクロリド等の活性化剤と反応させることによっ
て得ることができる。
治療するのに有用な抗真菌剤である。例えば、これらは
白癬菌属(Trichophyton)、カンジダ属(Candida) 、アス
ペギルス属(Aspergills) 等に起因する局所性真菌感
染、粘膜感染、全身性真菌感染等の治療に用いることが
できる。本発明の化合物A又は化合物B及び薬理学的に
許容される塩類は、単独でもしくは医薬上許容される不
活性な担体または希釈剤からなる組成物を経口もしくは
非経口投与に適した投与剤型、例えば液剤、錠剤、乳化
剤、軟膏、クリーム、ローション、パップ剤等に調製し
て使用される。投与量は、年齢、体重、投与形態によっ
て異なるが、全身的治療の場合には、通常成人1日当た
り体重1kg当たり0.05mg以上、好ましくは0.
5〜50mgを1回または数回に分けて投与することが
できる。局所的治療、例えば塗布剤の場合、有効成分の
濃度が0.001%以上、好ましくは0.1〜2%が最
適で、塗布量は1cm2 当たり30mg〜100mgの
範囲で塗布すれば良い。本剤の適用にあたっては、他の
抗真菌剤、抗菌剤、例えばアンホテシンB、トリコマイ
シン、バリトイン、クロトリマゾールなどと混合して使
用してもよい。
施例、参考例、処方例及び試験例を示すが、本発明はこ
れらのみに限定されるものではない。尚、部は重量部を
表す。 実施例1(製造方法3による化合物Bの製造) 1−(a). (S)−1−(2,4−ジクロロフェニ
ル)−2−ブロモエタノールの製造。
−1,3−ピロロ−〔1,2−〕〔1,3,2〕オキサ
ザボロール300mgを乾燥テトラヒドロフラン(TH
F)5mlに加え、次に−20℃でボラン−THF1.
0M溶液8mlを滴下した。その後同温度で2,4−ジ
クロロフェナシルブロマイド2.7gのTHF8ml溶
液を滴下した。室温まで昇温した後、3時間攪拌し、メ
タノール10mlを加え過剰のボランを分解した後、反
応液を水中に注ぎ込みエーテルで抽出した。有機層を水
洗後、無水硫酸マクネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒
を留去した後,残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(酢酸エチル/n−ヘキサン=1/3)で精製する
ことにより目的物2.5gを光学純度80%eeで得
た。
クロロフェニル)−2−ブロモ−エチル〕メタンスルホ
ネートの製造。
モ−エタノール1.6gを塩化メチレン30mlに溶解
し,次にトリエチルアミン660mgを加え、氷冷下で
メタンスルホニルクロライド750mgを滴下した。室
温で1時間攪拌した後、反応液を水洗し、無水硫酸マク
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去することによ
り目的物の粗生成物1.9gを得た。得られた粗生成物
は精製することなく次の反応へ使用した。
−(2,4−ジクロロフェニル)−1,3−ジチオラン
−2−イリデン〕−1−イミダゾリルアセトニトリル
(化合物B)の製造。
え、水浴で冷却下に1−シアノメチルイミダゾール30
0mgと二硫化炭素210mgのDMSO5ml溶液を
滴下した。その後室温で1時間攪拌し、ジチオレート溶
液を調製した。次に(S)−〔1−(2,4−ジクロフ
ェニル)−2−ブロモ−エチル〕メタンスルホネートの
粗生成物950mgのDMSO 10ml溶液に、先に
調製したジチオレート溶液を水浴で冷却下で滴下した。
その後室温で2時間攪拌した後、反応液を氷水中に注ぎ
込み酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水
硫酸マクネシウムで乾燥し溶媒を減圧下で留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/
n−ヘキサン=2/1)で精製した。得られた結晶を酢
酸エチル−n−ヘキサンの混合溶媒から再結晶すること
により目的物350mgを光学純度95%eeで得た。
造) 2−(a).(S)−1−(2,4−ジクロロフェニ
ル)−エタン−1,2−ビスメタンスルホネートの製
造。
(1992)〕で合成した(S)−1−(2,4−ジク
ロロフェニル)−1,2−エタンジオール1.5g(光
学純度98%ee)とトリエチルアミン3.1gを塩化
メチレン50mlに溶解し、氷冷下でメタンスルホニル
クロライド3.3gを滴下した。その後、室温で2時間
攪拌した後反応液を水洗し、有機層を無水硫酸マクネシ
ウムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去することにより目
的物の粗生成物2.6gを得た。得られた粗生成物は精
製せずに次の反応に使用した。
〔4−(2,4−ジクロロフェニル)−1,3−ジチオ
ラン−2−イリデン〕−1−イミダゾリルアセトニトリ
ル(化合物B)の製造。
え、水浴で冷却下に1−シアノメチルイミダゾール75
0mgと二硫化炭素520mgのDMSO10ml溶液
を滴下した。その後室温で1時間攪拌し、ジチオレート
溶液を調製した。次に(S)−1−(2,4−ジクロロ
フェニル)−エタン−1,2−ビスメタンスルホネート
の粗生成物2.61gのDMSO 20ml溶液に、先
に調製したジチオレート溶液を水浴で冷却下で滴下し
た。その後室温で2時間攪拌した後、反応液を氷水中に
注ぎ込み酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、
無水硫酸マクネシウムで乾燥し溶媒を減圧下で留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチ
ル/n−ヘキサン=2/1)で精製した。得られた結晶
を酢酸エチル−n−ヘキサンの混合溶媒から再結晶する
ことにより目的物1.2gを光学純度99%eeで得
た。 (注):光学純度は光学活性HPLCカラム、Chir
alcel OD(商標名、ダイセル化学工業(株)を
用いたHPLCの面積百分率から算出した。
−クロロフェニル)−1,3−ジチオラン−2−イリデ
ン〕−1−イミダゾリルアセトニトリルの製造 特開昭62ー93227号公報の実施例1に記載された
方法によって合成し、融点143.4℃、純度99.4
%のラセミ化合物を得た。 参考例2. R−(+)−(E)−〔4−(2−クロロ
フェニル)−1,3−ジチオラン−2−イリデン〕−1
−イミダゾリルアセトニトリル(化合物A)の製造 参考例1で得たラセミ化合物100gをアセトン700
〜800mlに加熱、溶解し、過飽和溶液を調製した。こ
の溶液に特開平2ー275877号記載の方法で得た光
学活性体のR体の種晶約10mgを加えた後、25℃に冷
却し、4〜15時間静置した。この間、晶出液の組成を
光学活性カラムを用いたHPLC分析を行い、ろ過時点
を決定した。析出した結晶を濾集し、同様の再結晶操作
を数回繰り返し、光学純度99.0%eeのR−エナン
チオマー25gを得た。光学純度は光学活性HPLCカ
ラム、Chiralcel ODR(商標名、ダイセル
化学工業(株))を用いてHPLCの面積百分率から算
出した。
ール30部、プロピレングリコール47部を混合溶解
し、次いでこの溶液に、ハイビスコーワ104(商標
名、和光純薬(株))を1部と精製水15部からなる水
溶液を加え、均一な溶液を得た。次いで攪拌下に、ジイ
ソプロパノールアミン1部を加えてゲル剤を得た。 処方例9 化合物A又はB1部を、ベンジルアルコール5部とセバ
シン酸ジエチル5部に溶解し、セチルアルコール5部、
ステアリルアルコール6部、ソルビタンモノステアート
1部及びポリオキシエチレンモノステアレート8部を加
えて70℃迄加温溶解した。得られた均一溶液を70℃
に保ちながら70℃に加温した精製水を添加し、次いで
攪拌を続けながら冷却してクリーム組成物を得た。
菌活性 Sabouraud's glucose broth (SGB, 1% bacto-peptone及
び 4% glucose 含有)を用いたマクロ液体希釈法(薬剤
2倍希釈系列)により最小発育阻止濃度(MIC)を測
定した。SGB9.8mlを分注した試験管に、ジメチ
ルスルホキシド(DMSO)に溶解した各化合物0.1
ml及び試験菌分生子懸濁液( 1×106conidia/ml)
0.1ml a加え、27度で7日間培養した。培養
後、菌の生育を観察し、肉眼的に菌の発育を完全に阻止
した化合物の最小濃度をもってMICとした。結果を表
1に示す。
モデルにおける治療試験 片面をアルミホイルで覆ったペーパーディスク(厚さ
1.5mm、直径8mm)に接種菌液( Trichophyton
mentagrophytes TIMM 2789、1 ×108 conidia/ml)をし
み込ませ、モルモット(雄Hartley 系、体重 400〜600
g、日本エスエルシー(株))後肢足底部に伸縮性粘着
テープで7日間固定感染した。PEG400に溶解した
各化合物を菌接種開始10日後から1日1回0.1ml
ずつ足底全村に塗布し、塗布期間は3日間とした。化合
物最終塗布後5日目に局所皮膚の培養試験を以下のとお
り行った。足底部及び足踵部の皮膚を摘出し、両部位よ
り各10個の皮膚小片(約2mm角)を切り出した。各
小片を抗生物質を含有するSabouraud's glucose agar上
に埋め込み、27℃で14日間培養し菌のコロニーが発
育したものを菌陽性小片とした。菌陽性小片を1個でも
含む感染局所(足底部及び足踵部を合わせた部位)を菌
陽性と判定した。さらに、感染局所の足底部および足踵
部ごとに、菌陽性小片数に基づいて次のとおりスコア化
し、感染強度とした。すなわち、10個の小片中、菌陽
性小片の個数が10、9、8、7、6、5、4、3、
2、1、0の場合をそれぞれ+10、+9、+8、+
7、+6、+5、+4、+3、+2、+1、0とした.
得られた菌陽性率及び平均感染強度について、それぞれ
Fisherの正確確率検定法及びMann-WhitneyのU検定法に
より解析した。
る。結果を表2に示す。
べての感染局所から菌が検出された。平均感染強度でみ
ると足底部で+7.7の高い値が得られたが、足踵部で
は+5.4となり、足踵部の感染の程度は足底部よりも
弱い傾向にあることが示された。PEG 400 塗布群でもほ
ぼ同様の成績が得られ、溶媒による治療効果は認められ
なかった。1%ラセミA塗布群では無処理群、PEG 400
塗布群と比べて有意な治療効果を示したが、菌陽性率は
40%で足底部および足踵部の平均感染強度がそれぞれ
+0.6および+0.2となり、菌接種した10足部中
4足部より菌が検出された。0.5%化合物A塗布群で
は菌陽性率が20%と1%ラセミA塗布群に比べ2倍高
い効果を示し、1 %化合物塗布群ではすべての感染局所
で培養陰性という非常に優れた効果、即ち完全な真菌学
的治癒が得られた。化合物AとラセミAと比較した結
果、同一濃度では化合物AはラセミAを大幅に上回る治
療効果を示すこと、また化合物Aを有効成分(A.I.)とし
てA.I.換算で同一濃度となる0.5%化合物Aと1%ラ
セミAを比較した場合にも化合物AはラセミAの2倍以
上高い優れた効果を示すことが明らかとなった。本試験
に供試したT.mentagrophytes TIMM 2789に対するMIC
をみると化合物AはラセミAの4倍強いin vitro抗菌活
性を有しているが、この抗菌力の差が in vivoでの感染
モデルに対する治療試験においても反映されたことは明
らかである。
n vitro 抗菌活性 0.165Mモルホリノプロパンスルホン酸で緩衝化し
たBPMI 1640(pH7.0)を用いたミクロ液
体希釈法(薬剤2倍希釈系列)により最小発育阻止濃度
(MIC)を測定した。試験菌酵母細胞懸濁液(1〜5
×103 cells/ml)100μl及び予め各化合物を添加
しておいた培地100μlを平底マイクロカルチャープ
レートの各穴に分注し、35℃にて48時間培養後、6
30nmで各穴の培養濁度を測定し、対照培養の菌の発
育(懸濁液として測定)に対して80%の発育阻害を示
した化合物の最小濃度をもって最小発育阻止濃度(MI
C)とした。結果を表3に示す。
in vitro抗菌活性 Casitone agar (0.9% bacto-casitone, 1% bacto-yeas
t extract, 2% glucose, 0.1% KH2PO4, 0.1% Na2PO4, 1
% Na3C6H5O7 及び1.6% agar 含有)を用いた寒天平板希
釈法(薬剤2倍希釈系列)により最小発育阻止濃度(M
IC)を測定した。試験菌分生子懸濁液(1×106 co
nidia/ml)の1白金耳量を各化合物を含有する寒天平板
上に画線塗沫し、35℃で48時間培養後、菌の発育を
観察し、肉眼的に菌の発育を完全に阻止した化合物の最
小濃度をもってMICとした。結果を表4に示す。
(E)−〔4−(2−クロロフェニル)−1,3−ジチ
オラン−2−イリデン〕−1−イミダゾリルアセトニト
リル、又は(R)−(−)−(E)−〔4─(2,4−
ジクロロフェニル)−1,3−ジチオラン−2−イリデ
ン〕−1−イミダゾリルアセトニトリル及びそれらの塩
類は優れた抗真菌活性を有しており人間や動物の真菌感
染症治療薬として有用である。
る。
Claims (8)
- 【請求項1】 一般式(I); 【化1】 (式中、Rは水素原子又は塩素原子を示す。)で表され
る(R)−(+)−(E)−〔4─(2─クロロフェニ
ル)−1,3−ジチオラン−2−イリデン〕−1−イミ
ダゾリルアセトニトリル、又は(R)−(−)−(E)
−〔4─(2,4−ジクロロフェニル)−1,3−ジチ
オラン−2−イリデン〕−1−イミダゾリルアセトニト
リル及びそれらの薬理学的に許容される塩類を有効成分
として含有することを特徴とする抗真菌剤。 - 【請求項2】 (R)−(+)−(E)−〔4─(2─
クロロフェニル)−1,3−ジチオラン−2−イリデ
ン〕−1−イミダゾリルアセトニトリル及びその薬理学
的に許容される塩類を有効成分とする請求項1記載の抗
真菌剤。 - 【請求項3】 (R)−(−)−(E)−〔4─(2,
4−ジクロロフェニル)−1,3−ジチオラン−2−イ
リデン〕−1−イミダゾリルアセトニトリル及びその薬
理学的に許容される塩類を有効成分とする請求項1記載
の抗真菌剤。 - 【請求項4】 (R)−(−)−(E)−〔4─(2,
4−ジクロロフェニル)−1,3−ジチオラン−2−イ
リデン〕−1−イミダゾリルアセトニトリル及びその塩
類。 - 【請求項5】 一般式(II) ; 【化2】 (式中、X1 及びX2 は同一又は異なっても良く、メタ
ンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、
p−トルエンスルホニルオキシ基又はハロゲン原子を示
す。)で表される光学活性グリコール誘導体あるいはそ
の等価体と、一般式(III) ; 【化3】 (式中、Mはアルカリ金属原子を示す。)で表されるジ
チオレート塩とを反応させることを特徴とする構造式
(I') ; 【化4】 で表される(R)−(−)−(E)−〔4−(2,4−
ジクロロフェニル)−1,3−ジチオラン−2−イリデ
ン〕−1−イミダゾリルアセトニトリルの製造方法。 - 【請求項6】 局所的真菌感染、又は全身性真菌感染を
治療するために請求項1記載の抗真菌剤の薬理学的に有
効な量を投与又は塗布することを特徴とするmycos
isに対する使用方法。 - 【請求項7】 抗真菌剤が(R)−(+)−(E)−
〔4─(2−クロロフェニル)−1,3−ジチオラン−
2−イリデン〕−1−イミダゾリルアセトニトリル及び
その薬理学的に許容される塩類を有効成分とする請求項
6記載のmycosisに対する使用方法。 - 【請求項8】 抗真菌剤が(R)−(−)−(E)−
〔4─(2,4−ジクロロフェニル)−1,3−ジチオ
ラン−2−イリデン〕−1−イミダゾリルアセトニトリ
ル及びその薬理学的に許容される塩類を有効成分とする
請求項6記載のmycosisに対する使用方法。
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JP19706796A JP3278738B2 (ja) | 1995-07-08 | 1996-07-08 | 抗真菌剤 |
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JP7-196174 | 1995-07-08 | ||
JP19706796A JP3278738B2 (ja) | 1995-07-08 | 1996-07-08 | 抗真菌剤 |
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