JPH0869989A - 基板洗浄装置、基板洗浄具及び基板洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 洗浄液を洗浄具の下面全面に行き渡らせるこ
とができ、良好な洗浄効率で基板を良好に洗浄できる基
板洗浄装置、基板洗浄具並びに基板洗浄方法を提供す
る。 【構成】 洗浄具１０の洗浄部材２６には、平坦な下端
面２６ａとそこに連接する側面２６ｂとが形成され、回
転軸１６により回転駆動される。洗浄部材２６の下端面
２６ａには溝状凹部２４が形成され、溝状凹部２４の端
部は側面２６ｂに開口している。溝状凹部２４は、側面
２６ｂでの開口部における溝状凹部２４の向きが、洗浄
具１０の回転半径方向に対して傾斜している。洗浄部材
２６の下端面２６ａが基板と接触した状態で洗浄が行わ
れる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、例えば半導体ウエ
ハ、液晶表示装置製造用ガラス基板、フォトマスク用ガ
ラス基板、光ディスク用基板等（以下、単に基板と称す
る）を洗浄する基板洗浄装置、基板洗浄具及び基板洗浄
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の基板洗浄装置としては、従来よ
り例えば実開平１−１０７１２９号公報に開示されたも
のが知られている。この種の装置は、基板を鉛直軸まわ
りで回転させつつ基板表面に洗浄液を供給し、洗浄具を
鉛直軸まわりで回転させながら基板表面に摺接もしくは
近接させた状態で基板表面に沿って移動させ、基板表面
を洗浄具によって擦ったりあるいは洗浄具により発生す
る水流によって、基板表面に付着した塵埃等を洗浄除去
するものである。

【０００３】上記公報に記載の洗浄装置は、洗浄具は円
筒状であってその円筒軸を中心として回転し、その底面
を基板表面に摺接もしくは近接させて洗浄を行うもので
ある。ところが、かかる装置において、洗浄液は洗浄具
の外方から基板表面に供給されるのであるが、供給され
た洗浄液が洗浄具の下面全面に行き渡りにくく、洗浄具
の面積を有効に利用できていない。特に、洗浄液を洗浄
具の外側へ供給するものにあっては、洗浄具の周辺の洗
浄液には洗浄具の回転にともなう遠心力が作用して洗浄
具から遠ざかる方向への力が働くため、洗浄液が洗浄具
の下面に行き渡りにくいものである。そのため、洗浄効
率が悪く、基板の洗浄の度合いも不十分になりがちであ
るという不都合がある。

【０００４】また、特開平５−１５８５７号公報に示さ
れるように、洗浄具の内部側から洗浄液を供給すること
も提案されている。しかし、この場合においても、洗浄
液が洗浄具の下面全面には行き渡りにくく、またこの場
合には洗浄具の内部側に供給された洗浄液が速やかに排
出され難く、同様の不都合がある。また、これらの不都
合は、洗浄具の底面と基板表面とが接触して摺接する状
態で洗浄するものの場合に特に顕著である。

【０００５】さらに、基板の状態によっては、洗浄液の
供給状態を加減した方が良好な洗浄状態が得られるもの
もありえるが、従来の装置においてはそのような場合に
は対応できない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述の事情
に鑑みてなされたものであり、洗浄液を洗浄具の下面全
面に容易に行き渡らせることができ、良好な洗浄効率で
基板を良好に洗浄できる基板洗浄装置、基板洗浄具並び
に基板洗浄方法を提供することを目的とする。また本発
明は、基板の状態に応じて洗浄液の供給状態を調整する
ことができ、良好な洗浄状態が得るための自由度が高い
基板洗浄装置を提供することを別の目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、基板を鉛直軸
まわりで回転させつつ基板表面に洗浄液を供給し、洗浄
具を鉛直軸まわりで回転させながら洗浄具の下端面を基
板表面にそって移動させて基板表面を洗浄する基板洗浄
装置において、洗浄具に、平坦な下端面とその下端面に
連接した側面とを形成し、下端面に溝状凹部を形成する
とともに、溝状凹部の端部を側面に開口させたことを特
徴とする。

【０００８】また、洗浄具の溝状凹部を、洗浄具の側面
の開口部における溝状凹部の向きが洗浄具の回転半径方
向に対して傾斜するように形成してもよい。また、洗浄
具の溝状凹部を、その側面の開口部における溝状凹部の
向きが洗浄具の回転方向前方側に向くように形成しても
よい。また、洗浄具の溝状凹部を、その側面の開口部に
おける溝状凹部の向きが洗浄具の回転方向後方側に向く
ように形成するとともに、洗浄具の下端面の中心側部に
開口した吐出口を有し且つ溝状凹部に連通する洗浄液供
給路を形成し、吐出口から洗浄液を吐出するために洗浄
液供給路へ洗浄液を供給する洗浄液供給手段を設けても
よい。

【０００９】また、洗浄具を回転させる回転駆動手段と
して、正逆回転可能な回転駆動源を使用してもよい。ま
た、本発明は、基板を鉛直軸まわりで回転させつつ基板
表面に洗浄液を供給し、洗浄具を鉛直軸まわりで回転さ
せながら洗浄具の下端面を基板表面にそって移動させて
基板表面を洗浄する基板洗浄方法において、洗浄具とし
て、平坦な下端面とその下端面に連接した側面を形成
し、下端面に溝状凹部を形成するとともに溝状凹部の端
部を側面に開口させたものを用いて、当該洗浄具の下端
面を基板表面に接触ないし近接させて鉛直軸回りで回転
駆動しつつ基板表面にそって移動させることを特徴とす
る。

【００１０】また、本発明は、基板を鉛直軸まわりで回
転させつつ基板表面に洗浄液を供給し、洗浄具を鉛直軸
まわりで回転させながら洗浄具の下端面を基板表面にそ
って移動させて基板表面を洗浄する基板洗浄方法におい
て、洗浄具として、平坦な下端面とその下端面に連接し
た側面を形成し、下端面に溝状凹部を形成するとともに
溝状凹部の端部を側面に開口させ且つその側面における
開口方向が洗浄具の回転半径方向に対して傾斜したもの
を用いて、当該洗浄具を前記鉛直軸回りで第１の方向に
回転駆動しつつ基板表面にそって移動させて行う第１の
工程と、洗浄具を鉛直軸回りで第１の方向と逆方向の第
２の方向に回転駆動しつつ基板表面にそって移動させて
行う第２の工程と、よりなることを特徴とする。

【００１１】また、本発明は、回転駆動手段の回転軸が
取り付けられる取付部と、該取付部に取り付けられた洗
浄部材とよりなる基板洗浄具であって、洗浄部材を少な
くとも湿潤時に柔軟性を呈する素材から構成し、当該洗
浄部材に回転軸に対して直交し且つ平坦な端面とその端
面に連接した側面を形成し、端面に溝状凹部を形成する
とともに、溝状凹部の端部を側面に開口させたことを特
徴とする。

【００１２】

【作用】請求項１に記載の発明によれば、洗浄具に平坦
な下端面とその下端面に連接した側面を形成し、下端面
に溝状凹部を形成するとともに、溝状凹部の端部を側面
に開口させているので、洗浄液は、洗浄具の下端面に形
成された溝状凹部を通って洗浄具の下端面中心側とその
下端面に連接した側面側との間を流通し、溝状凹部から
洗浄具の下端面にひろがって洗浄作用をなす。

【００１３】請求項２に記載の発明によれば、洗浄具の
側面の開口部における溝状凹部の向きが洗浄具の回転半
径方向に対して傾斜するように形成されているので、洗
浄具の回転により洗浄液の溝状凹部での流動が促進さ
れ、洗浄作用が増大する。請求項３に記載の発明によれ
ば、洗浄具の側面の開口部における溝状凹部の向きが洗
浄具の回転方向前方側に向くように形成されているの
で、洗浄具の回転により洗浄具の側面の開口部から溝状
凹部への洗浄液の流入が促進され、洗浄作用が増大す
る。

【００１４】請求項４に記載の発明によれば、洗浄具の
側面の開口部における溝状凹部の向きが洗浄具の回転方
向後方側に向くように形成されており、洗浄具の下端面
の中心側部に開口した洗浄液供給路から溝状凹部に供給
された洗浄液は、洗浄具の回転により洗浄具の中心部側
から溝状凹部を通っての側面の開口部への排出が促進さ
れ、洗浄作用が増大する。

【００１５】請求項５に記載の発明によれば、回転駆動
源の回転を正転、逆転させることにより、溝状凹部にお
ける洗浄液の流入及び排出が随時行われ、洗浄液の供給
状態を調整することができる。請求項６に記載の発明に
よれば、洗浄具として、平坦な下端面とその下端面に連
接した側面を形成し、下端面に溝状凹部を形成するとと
もに、溝状凹部の端部を側面に開口させたものを用いて
いるので、洗浄具の下端面を基板表面に接触ないし近接
させて洗浄する場合においても、洗浄具の下端面に洗浄
液が広がり、洗浄作用が増大する。

【００１６】請求項７に記載の発明によれば、洗浄具と
して、平坦な下端面とその下端面に連接した側面を形成
し、下端面に溝状凹部を形成するとともに、溝状凹部の
端部を側面に開口させ且つその側面における開口方向が
洗浄具の回転半径方向に対して傾斜したものを用いて、
洗浄具を第１の方向に回転駆動させて行う第１の工程
と、洗浄具を第１の方向と逆方向の第２の方向に回転駆
動させて行う第２の工程とを有しているので、溝状凹部
における洗浄液の流入及び排出が行われ、洗浄液を適切
に流通させることができ、洗浄作用が増大する。

【００１７】請求項８に記載の発明によれば、洗浄部材
に、回転軸に対して直交し且つ平坦な端面とその端面に
連接した側面を形成し、端面に溝状凹部を形成するとと
もに、溝状凹部の端部を側面に開口させているので、端
面を基板表面に接触ないし近接させて洗浄具を回転軸周
りで回転させたとき、洗浄液は、洗浄部材の下端面に形
成された溝状凹部を通って洗浄部材の下端面中心側とそ
の下端面に連接した側面側との間を流通し、溝状凹部か
ら洗浄具の下端面にひろがって洗浄作用をなす。洗浄部
材は、洗浄液を使用した洗浄時には柔軟となり、基板に
傷をつけたりすることがなく、良好な洗浄作用をなす。

【００１８】

【実施例】本発明の実施例を図面を参照して以下に説明
する。図１は本発明の第１の実施例を示す要部の側面断
面図、図２は同平面図である。スピンチャック１は、鉛
直方向に設けられた回転軸２の上端に取り付けられてい
る。回転軸２は、基台３に固定された回転駆動源である
モータ（図示せず）によって回転駆動される。回転軸２
内には、図示しない真空吸引源に接続された吸気通路が
形成され、スピンチャック１の上面には、前記吸気通路
と連通した吸気口が形成され、スピンチャック１は、半
導体ウエハ（以下、基板Ｗと称する）を吸着保持する。
スピンチャック１の周囲を囲うカップ４は、図示しない
昇降駆動源によって、基台３に対して昇降自在に設けら
れている。カップ４に形成されたドレン開口６は、図示
しない排気源に接続されている。カップ４は、基板Ｗの
洗浄時には上昇して図１に示す状態で基板Ｗの周囲を囲
い、前記排気源によってカップ４内を排気することとあ
いまって、洗浄液のカップ４外への飛散を防止する。カ
ップ４によって収容された洗浄液はドレン開口６から排
出され、気液分離の後、廃棄される。カップ４の側方の
基台３上面には、スピンチャック１に保持された基板Ｗ
の上面の略中心に向けて洗浄液としての超純水を供給す
る洗浄液ノズル８が設けられている。さらに、異種の洗
浄液等による洗浄処理を供給可能とするよう、副洗浄液
ノズル３６，３８が付設されている。

【００１９】また、カップ４の外側近傍の基台３に立設
された支柱１３は、アーム１２を支持している。支柱１
３には、図示しない回転駆動源ならびに昇降駆動源が付
設され、アーム１２は支柱１３により、図１中の矢印Ｈ
方向すなわち鉛直方向に昇降可能、且つ矢印Ｓ方向すな
わち水平方向に旋回可能に支持されている。アーム１２
の先端には、洗浄具１０が下向きに設けられている。ア
ーム１２には、モータ１４が内蔵され、洗浄具１０はモ
ータ１４によって駆動されて回転する。

【００２０】図３は洗浄具１０の一部切欠側面図であ
る。洗浄具１０は、図３に示すように、モータ１４の回
転軸１６を取り付け固定すべくその回転軸１６が挿入さ
れる挿通孔１９が形成された取付部２０と、取付部２０
に取り付け固定された洗浄部材２６および覆い部材２８
とからなっている。洗浄部材２６は、ポリビニルアルコ
ールを原料としたスポンジ状の多孔質体を素材とし、成
形加工して作られる。かかる素材は、ポリビニルアルコ
ールに酸を触媒としてホルムアルデヒドを結合させるホ
ルマール化反応によりポリビニルホルマールを生成し、
その際、気孔生成剤を加えて気孔形成を行い、不溶性の
多孔質基質が完成後、この気孔生成剤を抽出することに
より製造される。この素材により形成された洗浄部材２
６は、連続的な気孔が形成され、親水性かつ吸水性を有
し、湿潤時には良好な柔軟性、弾力性を呈する。

【００２１】洗浄部材２６は、略円柱状に形成され、回
転軸１６に対して直交し且つ平坦な下端面２６ａと、そ
の下端面２６ａに連接した側面２６ｂとを有している。
図４は洗浄部材２６を下端面２６ａ側、すなわち図３に
おける矢印Ａ側から見た平面図である。洗浄部材２６の
下端面２６ａは円形であって、その中心から三方に放射
状に且つ同一向きの弧を描くように３本の溝状凹部２４
が形成されており、溝状凹部２４の端部は側面２６ｂに
開口している。また、モータ１４の駆動による洗浄部材
２６の回転方向は図３、図４に矢印Ｂに示す向きである
が、側面２６ｂでの溝状凹部２４の開口部２４ａにおけ
る溝状凹部２４の向き（図４に矢印Ｃで示す）は、洗浄
部材２６の回転半径方向（図４に矢印Ｒで示す）に対し
て傾斜しており、その傾斜の向きは、回転方向へ向かっ
て前方側を向くようになっている。

【００２２】覆い部材２８は、円筒部３０と、円筒部３
０の下端に形成された鍔部３２と、鍔部３２の外縁から
垂下された垂下部３４とからなり、洗浄部材２６を覆う
ように取付部２０に取り付けられ、モータ１４が駆動さ
れると取付部２０及び洗浄部材２６と一体的に回転す
る。なお、覆い部材２８の垂下部３４の下端は、洗浄部
材２６の下端面２６ａよりも上方に位置するように構成
される。

【００２３】而して、本装置により洗浄動作を行う場
合、まずアーム１２が図２に実線で示す位置に退避し、
且つカップ４が下降した位置にある状態で、図示しない
基板搬送手段が基板Ｗをスピンチャック１に搬送し、両
者の中心が一致するように載置する。続いて、カップ４
が図１に示す位置まで上昇し、一方、スピンチャック１
は、基板Ｗを吸着保持し、モータにより回転駆動され
る。それとともに、支柱１３の回転駆動源が駆動され、
アーム１２が図１に２点鎖線で示す位置、すなわち洗浄
具１０が基板Ｗの中心の上方に位置する状態まで旋回す
る。そして、洗浄液ノズル８から基板Ｗの上面の中心に
向けて超純水ＤＩＷが吐出供給される。かかる状態で、
モータ１４が駆動されて洗浄具１０が矢印Ｂ方向に回転
する。そして、洗浄具１０が回転した状態で支柱１３の
昇降駆動源が駆動され、アーム１２が図１に破線で示す
ように下降して、洗浄部材２６の下端面２６ａが基板Ｗ
の上面にわずかに接触した状態とされる。そして、洗浄
部材２６の下端面２６ａが基板Ｗの上面にわずかに接触
した状態を保ってアーム１２が水平方向に旋回駆動さ
れ、洗浄具１０が基板Ｗの端から外方へ出るまで移動
し、超純水ＤＩＷと洗浄部材２６とにより、回転中の基
板Ｗの上面が洗浄される。洗浄具１０が基板Ｗの端から
外方へ出ると、アーム１２は上昇し、再度旋回して基板
Ｗの中心の上方へ移動し、再び同じ動作が繰り返され
る。かかる動作の繰り返し回数は、基板Ｗに要求される
洗浄度合いに応じて適宜設定される。

【００２４】このとき、洗浄液ノズル８から基板Ｗ上に
供給された超純水は、洗浄部材２６の側面２６ｂに形成
された開口部２４ａから取り込まれ、下端面２６ａに形
成された溝状凹部２４を通って洗浄部材２６の下端面２
６ａ中心側まで流通する。そして、洗浄部材２６の下端
面２６ａ中心側まできた超純水は溝状凹部２４から洗浄
具２６の下端面２６ａにひろがって洗浄作用をなす。こ
のため、洗浄部材２６の下端面２６ａのほぼ全体にまで
超純水を容易に行き渡らせることができ、良好な洗浄効
率で基板Ｗを良好に洗浄できる。洗浄部材２６は、湿潤
時には柔軟であるので、基板Ｗに傷をつけたりすること
がなく、良好な洗浄作用が得られる。また、本実施例の
如く、側面２６ｂの開口部２４ａにおける溝状凹部２４
の向きが洗浄具の回転半径方向に対して傾斜するように
形成されることにより、洗浄具１０の回転にともなう超
純水の溝状凹部２４での流動が促進され、洗浄作用が増
大する。特に、側面２６ｂの開口部２４ａにおける溝状
凹部２４の向きが洗浄具１０の回転方向前方側に向くよ
うに形成すれば、洗浄具１０の回転にともなう超純水の
取り込みが効率よく行われ、より良好な洗浄作用が得ら
れる。

【００２５】なお、洗浄部材２６の回転により、超純水
ＤＩＷの一部は極く微細な水滴、いわゆるミストとなっ
て周囲に飛散しようとするが、洗浄部材２６及び基板Ｗ
の被洗浄部位は覆い部材２８によって覆われているの
で、かかるミストの多くは覆い部材２８によって受けと
められ、ミストの飛散は顕著に抑制される。覆い部材２
８の垂下部３４の下端が洗浄部材２６の下端面２６ａよ
りも上方に位置しているので、覆い部材２８が洗浄部材
２６の洗浄の妨げになることはない。また、基板Ｗから
飛散する超純水ＤＩＷはカップ４に受けとめられる。

【００２６】続いて、本発明の他の実施例を以下に説明
する。なお、以下の説明においては、上述した第１の実
施例と同一もしくは対応する部分の説明は省略し、異な
る部分のみを説明する。図５は本発明の第２の実施例に
おける洗浄具１１０の一部切欠側面図である。洗浄具１
１０は、図５に示すように、モータ１４の回転軸１１６
を取り付け固定すべくその回転軸１１６が挿入される挿
通孔１１９が形成された取付部１２０と、取付部１２０
に取り付け固定された洗浄部材１２６および覆い部材２
８とからなっている。

【００２７】洗浄部材１２６は、略円柱状に形成され、
回転軸１１６に対して直交し且つ平坦な下端面１２６ａ
と、その下端面１２６ａに連接した側面１２６ｂとを有
している。図６は洗浄部材１２６を下端面１２６ａ側、
すなわち図５における矢印Ａ側から見た平面図である。
この第２実施例においては、モータ１４の駆動による洗
浄部材１２６の回転方向は第１の実施例のものと同一で
あるが、洗浄部材１２６の下端面１２６ａに形成された
３本の溝状凹部１２４それぞれが描く弧の向きは第１の
実施例と逆になっている。そして、側面１２６ｂでの溝
状凹部１２４の開口部１２４ａにおける溝状凹部１２４
の向き（図６に矢印Ｃで示す）は、洗浄部材１２６の回
転半径方向（図６に矢印Ｒで示す）に対して傾斜してお
り、その傾斜の向きは、回転方向へ向かって後方側を向
くようになっている。さらに、回転軸１１６、取付部１
２０および洗浄部材１２６には、互いに連通する洗浄液
供給路１００が形成され、洗浄液供給路１００は下端面
１２６ａの中心に形成された吐出口１０１を介して３本
の溝状凹部１２４へ連通している。洗浄液供給路１００
へは、アーム１２および中空状の回転軸１１６を介して
図示しない洗浄液供給手段から超純水が供給され、３本
の溝状凹部１２４へ送られる。

【００２８】而して、本装置による洗浄動作時には、洗
浄具１１０が回転し、洗浄部材１２６の下端面１２６ａ
が基板Ｗの上面にわずかに接触した状態でアーム１２が
旋回駆動され、洗浄部材１２６が回転しつつ基板Ｗの上
面を移動する。かかる状態で、洗浄液供給路１００から
供給された超純水は吐出口１０１から洗浄部材１２６の
下端面１２６ａに形成された溝状凹部１２４を流通し、
側面１２６ｂの開口部１２４ａから排出される。その
間、超純水は溝状凹部１２４から洗浄部材１２６の下端
面１２６ａにひろがって洗浄作用をなす。このため、洗
浄部材１２６の下端面１２６ａのほぼ全体にまで超純水
を容易に行き渡らせることができ、良好な洗浄効率で基
板Ｗを良好に洗浄できる。また、洗浄部材１２６の中央
部に供給された超純水は、洗浄部材１２６の回転にとも
なって溝状凹部１２４から円滑に外部へ流出するので、
洗浄部材１２６の中央部には常に新しい超純水が供給さ
れるようになり、良好な洗浄作用が得られる。なお、本
実施例によるアーム１２等の動作は第１の実施例と同一
であり、また第１の実施例で行われていた洗浄液ノズル
８からの超純水の吐出は、行っても行わなくても良い。

【００２９】次に、本発明の第３の実施例を説明する。
この第３の実施例では、第１の実施例におけるモータ１
４を正逆回転可能なものを使用し、図３、図４に示した
洗浄具１０を使用する。その他は第１の実施例の構成と
同じである。かかる構成の装置を使用して基板Ｗの洗浄
を行う方法として以下に例を挙げる。第１に、洗浄され
る基板Ｗに応じて、洗浄具１０の回転方向を変更する方
法である。すなわち、洗浄されるべき半導体ウエハであ
る基板Ｗには、半導体素子製造の過程で、フォトリソグ
ラフィ等の手法によって様々な処理が施されあるいは様
々な薄膜等が形成されたりする。そのため、基板Ｗの表
面状態も様々なものとなっており、かかる基板Ｗを洗浄
する方法も様々な要求がある。例えば、基板Ｗが特殊な
表面状態となっている場合には、洗浄部材２６の部分へ
の超純水の供給の程度を加減した方が、より洗浄が良好
に行える場合も考えられる。かかる基板Ｗを洗浄する場
合には、図４に示す洗浄具１０を矢印Ｄの方向に回転さ
せるようにモータ１４を逆転駆動すれば、溝状凹部２４
は洗浄部材２６の下端面２６ａ部分から排水する作用を
なし、洗浄部材２６の部分は超純水の供給が比較的少な
い状態で行うことになる。そして、通常の基板Ｗを洗浄
する場合には、図４に示す洗浄具１０を矢印Ｂの方向に
回転させるようにモータ１４を正転駆動すれば、既述の
ように溝状凹部２４は洗浄部材２６の下端面２６ａ部分
へ超純水を取り込む作用をなし、洗浄部材２６の下端面
２６ａのほぼ全体にまで超純水を容易に行き渡らせるこ
とができ、良好な洗浄効率で基板Ｗを良好に洗浄でき
る。本実施例では、このように基板Ｗに応じて洗浄具１
０の回転を正転、逆転させることにより洗浄液の供給状
態を調整することができ、洗浄作用を増大させるための
自由度が増す。

【００３０】第２に、アーム１２の旋回によって洗浄具
１０がある１枚の基板Ｗの表面を移動しつつある間に、
洗浄具１０の回転向きを１回ないし数回、反転させる方
法である。すなわち、洗浄部材２６が基板Ｗのある部位
を洗浄しているときに、その途中で洗浄部材２６の回転
方向を反転させる方法である。具体的には、洗浄具１０
が基板Ｗの表面を移動しつつあるときに、洗浄具１０を
第１の方向である矢印Ｂ方向に回転駆動させて行う第１
の工程と、洗浄具１０を第１の方向と逆方向の第２の方
向である矢印Ｄに回転駆動させて行う第２の工程とを、
所定の周期で繰り返して行う。これにより、その被洗浄
部位において、溝状凹部２４へは超純水の取り込みと排
出が交互に行われ、超純水が洗浄具１０の近傍で良好に
流動し、洗浄液を適切に流通させることができ、洗浄作
用が増大する。

【００３１】なお、ここで第２の実施例について補足説
明を加えておくと、超純水の供給が比較的少ない状態で
洗浄することのみについては、第２の実施例の構成で、
洗浄液供給路１００からの超純水の供給は行わず、洗浄
液ノズル８から超純水を供給し、洗浄具１２６を矢印Ｂ
方向に回転させれば、溝状凹部１２４は洗浄部材１２６
の下端面１２６ａ部分から排水する作用をなし、同様に
行うことができる。また、第２の実施例の洗浄具１２６
の場合にもモータ１４として正逆回転可能なものを使用
し、洗浄液供給路１００からの超純水の供給は行わず、
洗浄液ノズル８から超純水を供給し、洗浄具１２６を矢
印Ｄ方向に回転させれば、溝状凹部１２４は開口部１２
４ａから超純水を取り込む作用をなし、上述の第１実施
例と同様の動作も行うことができる。

【００３２】図７は本発明の第４の実施例である基板洗
浄具の洗浄部材２２６の下面を示す平面図である。この
洗浄部材２２６は、略円柱状に形成され、平坦な下端面
２２６ａと、その下端面２２６ａに連接した側面２２６
ｂとを有する。下端面２２６ａは円形であって、その中
心から若干ずれた位置を通る３本の溝状凹部２２４が形
成されており、溝状凹部２２４の端部は側面２２６ｂに
開口している。側面２２６ｂでの溝状凹部２２４の開口
部２２４ａにおける溝状凹部２２４の向き（図７に矢印
Ｃで示す）は、洗浄部材２２６の回転半径方向（図４に
矢印Ｒで示す）に対して傾斜している。

【００３３】図８は本発明の第５の実施例である基板洗
浄具の洗浄部材３２６の下面を示す平面図である。この
洗浄部材３２６では、側面３２６ｂでの溝状凹部３２４
の開口部３２４ａにおける溝状凹部３２４の向き（図８
に矢印Ｃで示す）が、洗浄部材３２６の回転半径方向
（図４に矢印Ｒで示す）に対して傾斜しており、その傾
斜の向きが図７に示した第４の実施例と逆である。

【００３４】これら図７、図８に示した洗浄部材２２
６、３２６も、上述した第１、第３の実施例に準じて使
用される。そのときの使用方法、洗浄部材２２６、３２
６の回転の向きや、その動作についても同様である。ま
た、図示はしていないが、これら洗浄部材２２６、３２
６に対して、第２の実施例で説明したような洗浄液供給
路および吐出口を形成し、第２の実施例の如くに使用す
ることもできる。

【００３５】なお、以上の第１ないし第５の実施例にお
いて、洗浄部材の下端面が例えば直径１５〜２０ｍｍ程
度のものの場合、溝状凹部の幅および深さは例えば２ｍ
ｍ程度とすることができる。図９は本発明の第６の実施
例である基板洗浄具の洗浄部材４２６の下面を示す平面
図である。この洗浄部材４２６は、略円柱状に形成さ
れ、平坦な下端面４２６ａと、その下端面４２６ａに連
接した側面４２６ｂとを有する。下端面４２６ａは円形
であって、その中心から六方に放射状に且つ同一向きの
弧を描くように６本の溝状凹部４２４が形成されてお
り、溝状凹部４２４の端部は側面４２６ｂに開口してい
る。側面４２６ｂでの溝状凹部４２４の開口部４２４ａ
における溝状凹部４２４の向きは、洗浄部材４２６の回
転半径方向に対して傾斜している。洗浄部材４２６の回
転方向は、駆動するモータ１４の回転方向により何れに
でも設定でき、その回転方向に応じて溝状凹部４２４の
作用が変化することは先の実施例での説明と同様であ
る。また、その溝状凹部４２４が集中する回転中心部に
洗浄液供給路の吐出口を設ければ、第２の実施例と同様
に使用することもできる。

【００３６】図１０は本発明の第７の実施例である基板
洗浄具の洗浄部材５２６の下面を示す平面図である。こ
の洗浄部材６２６は、略円柱状に形成され、平坦な下端
面５２６ａと、その下端面５２６ａに連接した側面５２
６ｂとを有する。下端面５２６ａは円形であって、その
中心には図示しない洗浄液供給路の吐出口５０１が形成
され、その吐出口５０１から四方に放射状に直線的に４
本の溝状凹部５２４が形成される。またとなりあった溝
状凹部５２４の間には、前記洗浄液供給路と連通した吐
出口５０２が形成され、その吐出口５０２からも側面５
２６ｂに向かって溝状凹部５２５が形成される。溝状凹
部５２４、５２５の端部は側面５２６ｂに開口してい
る。この実施例では、側面５２６ｂでの溝状凹部５２
４、５２５の開口部５２４ａ、５２５ａにおける溝状凹
部５２４、５２５の向きは、洗浄部材５２６の回転半径
方向を向いている。洗浄時には、前記洗浄液供給路から
吐出口５０１、５０２を介して洗浄液が供給される。こ
の実施例において、溝状凹部５２４、５２５の向きは、
洗浄部材５２６の回転半径方向に対して傾斜はしていな
いが、吐出口５０１、５０２から供給された洗浄液は洗
浄部材５２６の回転にともなう遠心力により溝状凹部５
２４、５２５を通って洗浄部材５２６の下端面５２６ａ
に広がり、洗浄が良好に行われる。

【００３７】また、以上の実施例は、いずれも洗浄専用
の装置であったが、本発明は、例えば基板に形成された
感光膜の現像処理とその現像処理直後に引き続いて行う
洗浄処理とを同一のカップにおいて行う現像・洗浄兼用
の装置にも適用できる。

【００３８】

【発明の効果】本発明によれば、洗浄液を洗浄具の下面
全面に容易に行き渡らせることができ、良好な洗浄効率
で基板を良好に洗浄できる基板洗浄装置、基板洗浄具並
びに基板洗浄方法を提供することができる。また本発明
によれば、基板の状態に応じて洗浄液の供給状態を調整
することができ、良好な洗浄状態が得るための自由度が
高い基板洗浄装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１の実施例の基板洗浄装置を示す
要部の側面断面図。

【図２】図１に示した第１の実施例の基板洗浄装置を示
す平面図。

【図３】図１に示した第１の実施例の基板洗浄装置の洗
浄具を示す一部切欠側面図。

【図４】図１に示した第１の実施例の基板洗浄装置の洗
浄部材の下面の平面図。

【図５】この発明の第２の実施例の基板洗浄装置の洗浄
具を示す一部切欠側面図。

【図６】図５に示した第２の実施例の基板洗浄装置の洗
浄部材の下面の平面図。

【図７】この発明の第４の実施例の基板洗浄具の洗浄部
材の下面の平面図。

【図８】この発明の第５の実施例の基板洗浄具の洗浄部
材の下面の平面図。

【図９】この発明の第６の実施例の基板洗浄具の洗浄部
材の下面の平面図。

【図１０】この発明の第７の実施例の基板洗浄具の洗浄
部材の下面の平面図。

【符号の説明】

１０、１１０ 基板洗浄具 １４ モータ １６ 回転軸 ２４、１２４、２２４、３２４、４２４、５２４、５２
５ 溝状凹部 ２６、１２６、２２６、３２６、４２６、５２６ 洗浄
部材 ２６ａ、１２６ａ、２２６ａ、３２６ａ、４２６ａ、５
２６ａ 下端面 ２６ｂ、１２６ｂ、２２６ｂ、３２６ｂ、４２６ｂ、５
２６ｂ 側面 １００ 洗浄液供給路 １０１、５０１、５０２ 吐出口

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【手続補正書】

【提出日】平成６年９月６日

【手続補正１】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図１

【補正方法】変更

【補正内容】

【図１】

【手続補正２】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図２

【補正方法】変更

【補正内容】

【図２】

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を鉛直軸まわりで回転させつつ基板
   表面に洗浄液を供給し、洗浄具を鉛直軸まわりで回転さ
   せながら洗浄具の下端面を基板表面にそって移動させて
   基板表面を洗浄する基板洗浄装置において、 前記洗浄具に、平坦な下端面と該下端面に連接した側面
   とを形成し、前記下端面に溝状凹部を形成するととも
   に、該溝状凹部の端部を前記側面に開口させたことを特
   徴とする基板洗浄装置。
2. 【請求項２】 前記洗浄具の溝状凹部を、前記洗浄具の
   側面の開口部における溝状凹部の向きが前記洗浄具の回
   転半径方向に対して傾斜するように形成した請求項１記
   載の基板洗浄装置。
3. 【請求項３】 前記洗浄具の溝状凹部を、その側面の開
   口部における溝状凹部の向きが前記洗浄具の回転方向前
   方側に向くように形成した請求項２記載の基板洗浄装
   置。
4. 【請求項４】 前記洗浄具の溝状凹部を、その側面の開
   口部における溝状凹部の向きが前記洗浄具の回転方向後
   方側に向くように形成するとともに、前記洗浄具の下端
   面の中心側部に開口した吐出口を有し且つ前記溝状凹部
   に連通する洗浄液供給路を形成し、前記吐出口から洗浄
   液を吐出するために前記洗浄液供給路へ洗浄液を供給す
   る洗浄液供給手段を設けた請求項２記載の基板洗浄装
   置。
5. 【請求項５】 前記洗浄具を回転させる回転駆動手段と
   して、正逆回転可能な回転駆動源を使用した請求項１な
   いし請求項４の何れかに記載の基板洗浄装置。
6. 【請求項６】 基板を鉛直軸まわりで回転させつつ基板
   表面に洗浄液を供給し、洗浄具を鉛直軸まわりで回転さ
   せながら洗浄具の下端面を基板表面にそって移動させて
   基板表面を洗浄する基板洗浄方法において、 前記洗浄具として、平坦な下端面とその下端面に連接し
   た側面を形成し、前記下端面に溝状凹部を形成するとと
   もに、該溝状凹部の端部を前記側面に開口させたものを
   用いて、当該洗浄具の下端面を前記基板表面に接触ない
   し近接させて前記鉛直軸回りで回転駆動しつつ基板表面
   にそって移動させることを特徴とする基板洗浄方法。
7. 【請求項７】 基板を鉛直軸まわりで回転させつつ基板
   表面に洗浄液を供給し、洗浄具を鉛直軸まわりで回転さ
   せながら洗浄具の下端面を基板表面にそって移動させて
   基板表面を洗浄する基板洗浄方法において、 前記洗浄具として、平坦な下端面とその下端面に連接し
   た側面を形成し、前記下端面に溝状凹部を形成するとと
   もに、該溝状凹部の端部を前記側面に開口させ且つその
   側面における開口方向が前記洗浄具の回転半径方向に対
   して傾斜したものを用いて、当該洗浄具を前記鉛直軸回
   りで第１の方向に回転駆動しつつ基板表面にそって移動
   させて行う第１の工程と、 前記洗浄具を前記鉛直軸回りで前記第１の方向と逆方向
   の第２の方向に回転駆動しつつ基板表面にそって移動さ
   せて行う第２の工程と、よりなることを特徴とする基板
   洗浄方法。
8. 【請求項８】 回転駆動手段の回転軸が取り付けられる
   取付部と、該取付部に取り付けられた洗浄部材とよりな
   る基板洗浄具であって、 前記洗浄部材を少なくとも湿潤時に柔軟性を呈する素材
   から構成し、当該洗浄部材に前記回転軸に対して直交し
   且つ平坦な端面とその端面に連接した側面を形成し、前
   記端面に溝状凹部を形成するとともに、該溝状凹部の端
   部を前記側面に開口させたことを特徴とする基板洗浄
   具。