JPH06190714A - ポリッシング装置 - Google Patents
ポリッシング装置Info
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- JPH06190714A JPH06190714A JP25652393A JP25652393A JPH06190714A JP H06190714 A JPH06190714 A JP H06190714A JP 25652393 A JP25652393 A JP 25652393A JP 25652393 A JP25652393 A JP 25652393A JP H06190714 A JPH06190714 A JP H06190714A
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- Japan
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- polishing
- turntable
- cloth
- polishing cloth
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- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 研磨布の全面が均一に洗浄でき且つ研磨布に
突き刺さった砥粒等も効果的に除去できるポリッシング
装置を提供する。また、ターンテーブルの上面に張った
研磨布の乾燥を防止することができるポリッシング装置
を提供する。 【構成】 各々独立した回転数で回転する上面に研磨布
３を張ったターンテーブル１とトップリング４とを有
し、ターンテーブル１とトップリング４との間にポリッ
シング対象物１１を介在させてポリッシング対象物１１
の表面を研磨し平坦且つ鏡面化するポリッシング装置に
おいて、研磨布３の布面に対して略直交する軸線回わり
に回転自在に取付けられ且つ駆動モータ２３により回転
する回転ブラシ２２と、回転ブラシ２２を研磨布３の半
径方向内方と外方との間を往復移動させる移動機構と、
研磨布３上に洗浄液を供給する洗浄液ノズル２９とを備
えた。
突き刺さった砥粒等も効果的に除去できるポリッシング
装置を提供する。また、ターンテーブルの上面に張った
研磨布の乾燥を防止することができるポリッシング装置
を提供する。 【構成】 各々独立した回転数で回転する上面に研磨布
３を張ったターンテーブル１とトップリング４とを有
し、ターンテーブル１とトップリング４との間にポリッ
シング対象物１１を介在させてポリッシング対象物１１
の表面を研磨し平坦且つ鏡面化するポリッシング装置に
おいて、研磨布３の布面に対して略直交する軸線回わり
に回転自在に取付けられ且つ駆動モータ２３により回転
する回転ブラシ２２と、回転ブラシ２２を研磨布３の半
径方向内方と外方との間を往復移動させる移動機構と、
研磨布３上に洗浄液を供給する洗浄液ノズル２９とを備
えた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はポリッシング装置に係
り、特に研磨布により半導体ウエハ等のポリッシング対
象物を平坦かつ鏡面状に研磨するポリッシング装置に関
する。
り、特に研磨布により半導体ウエハ等のポリッシング対
象物を平坦かつ鏡面状に研磨するポリッシング装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体デバイスの高集積化が進む
につれて回路の配線が微細化し、配線間距離もより狭く
なりつつある。特に０．５μｍ以下の光リソグラフィの
場合、焦点深度が浅くなるためステッパーの結像面の平
坦度を必要とする。そこで、半導体ウエハの表面を平坦
化することが必要となるが、この平坦化法の１手段とし
てポリッシング装置により研磨することが行われてい
る。
につれて回路の配線が微細化し、配線間距離もより狭く
なりつつある。特に０．５μｍ以下の光リソグラフィの
場合、焦点深度が浅くなるためステッパーの結像面の平
坦度を必要とする。そこで、半導体ウエハの表面を平坦
化することが必要となるが、この平坦化法の１手段とし
てポリッシング装置により研磨することが行われてい
る。
【０００３】従来、この種のポリッシング装置は、各々
独立した回転数で回転するターンテーブルとトップリン
グとを有し、トップリングが一定の圧力をターンテーブ
ルに与え、ターンテーブルとトップリングとの間にポリ
ッシング対象物を介在させて該ポリッシング対象物の表
面を平坦且つ鏡面に研磨している。そして、このターン
テーブル上面には研磨布が張られ、砥液ノズルから砥液
を研磨布上に噴射し、砥液が研磨布とポリッシング対象
物の隙間に浸入し、研磨が行われる。
独立した回転数で回転するターンテーブルとトップリン
グとを有し、トップリングが一定の圧力をターンテーブ
ルに与え、ターンテーブルとトップリングとの間にポリ
ッシング対象物を介在させて該ポリッシング対象物の表
面を平坦且つ鏡面に研磨している。そして、このターン
テーブル上面には研磨布が張られ、砥液ノズルから砥液
を研磨布上に噴射し、砥液が研磨布とポリッシング対象
物の隙間に浸入し、研磨が行われる。
【０００４】上記ポリッシング装置において、ターンテ
ーブル上の研磨布には砥液中の砥粒が突き刺さったり付
着して目詰まりを起こすため、研磨布からこの砥粒を除
去し研磨布の再生を行うため研磨布のドレッシング作業
を行う必要がある。そのため、ポリッシング装置はドレ
ッシング作業を行うドレッシング装置を具備する必要が
ある。
ーブル上の研磨布には砥液中の砥粒が突き刺さったり付
着して目詰まりを起こすため、研磨布からこの砥粒を除
去し研磨布の再生を行うため研磨布のドレッシング作業
を行う必要がある。そのため、ポリッシング装置はドレ
ッシング作業を行うドレッシング装置を具備する必要が
ある。
【０００５】図７はこのドレッシング作業を行うための
従来のドレッシング装置の構成を示す図であり、図７
（ａ）は側面図、図７（ｂ）は平面図である。図７に示
すようにドレッシング装置はアーム３１に取付けられた
ブラシ３２を具備している。ターンテーブル３３上に張
った研磨布３４をドレッシングする場合は、ターンテー
ブル３３を回転させるとともに、ブラシ３２の先端を研
磨布３４に接触させ、更にノズル３５から純水等の洗浄
液Ｗを噴射しながら行う。
従来のドレッシング装置の構成を示す図であり、図７
（ａ）は側面図、図７（ｂ）は平面図である。図７に示
すようにドレッシング装置はアーム３１に取付けられた
ブラシ３２を具備している。ターンテーブル３３上に張
った研磨布３４をドレッシングする場合は、ターンテー
ブル３３を回転させるとともに、ブラシ３２の先端を研
磨布３４に接触させ、更にノズル３５から純水等の洗浄
液Ｗを噴射しながら行う。
【０００６】また、実開昭６３−９７４５４号公報に開
示されているポリッシング装置は、図８（図８（ａ）は
側面図、図８（ｂ）は平面図）に示されるように回転軸
４１に放射状に取付けられたブラシ４２を具備してい
る。ターンテーブル３３上に張った研磨布３４をドレッ
シングする場合は、ターンテーブル３３を回転させると
ともにブラシ４２を回転軸４１の軸線回りに回転させ、
回転するブラシ４２の先端を研磨布３４に接触させ、更
にノズル３５から純水等の洗浄液Ｗを噴射しながら行
う。
示されているポリッシング装置は、図８（図８（ａ）は
側面図、図８（ｂ）は平面図）に示されるように回転軸
４１に放射状に取付けられたブラシ４２を具備してい
る。ターンテーブル３３上に張った研磨布３４をドレッ
シングする場合は、ターンテーブル３３を回転させると
ともにブラシ４２を回転軸４１の軸線回りに回転させ、
回転するブラシ４２の先端を研磨布３４に接触させ、更
にノズル３５から純水等の洗浄液Ｗを噴射しながら行
う。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】図７に示す従来のドレ
ッシング装置においては、上記のようにターンテーブル
３３を回転させ、ノズル３５から洗浄液を噴射させてド
レッシングを行っているが、研磨布３４の全面が均一に
洗浄できないという問題や研磨布３４に突き刺さった砥
粒を十分に除去することができないという欠点があっ
た。このため研磨布３４の耐久時間が短くなり、研磨布
３４の取替え頻度が高くなるという問題があった。
ッシング装置においては、上記のようにターンテーブル
３３を回転させ、ノズル３５から洗浄液を噴射させてド
レッシングを行っているが、研磨布３４の全面が均一に
洗浄できないという問題や研磨布３４に突き刺さった砥
粒を十分に除去することができないという欠点があっ
た。このため研磨布３４の耐久時間が短くなり、研磨布
３４の取替え頻度が高くなるという問題があった。
【０００８】また、図８に示すドレッシング装置は、上
記のようにターンテーブル３３及びブラシ４２を回転さ
せ、ノズル３５から洗浄液を供給してドレッシングを行
っているが、図７に示す装置と同様に研磨布３４の全面
が均一に洗浄できないという問題や研磨布３４に突き刺
さった砥粒を十分に除去することができないという欠点
があった。
記のようにターンテーブル３３及びブラシ４２を回転さ
せ、ノズル３５から洗浄液を供給してドレッシングを行
っているが、図７に示す装置と同様に研磨布３４の全面
が均一に洗浄できないという問題や研磨布３４に突き刺
さった砥粒を十分に除去することができないという欠点
があった。
【０００９】これは、図７に示す装置においては、図９
（ａ）から明らかなように、研磨布３４の毛ば立ちはタ
ーンテーブル３３の回転方向により一方向のみとなり、
研磨布の砥粒の除去も一方向のみであることに起因する
ものである。また、図８に示す装置においては、図９
（ｂ）から明らかなように、研磨布３４の毛ば立ちはタ
ーンテーブル３３とブラシ４２の回転方向により一方向
のみとなり、研磨布の砥粒の除去も一方向のみであるこ
とに起因するものである。
（ａ）から明らかなように、研磨布３４の毛ば立ちはタ
ーンテーブル３３の回転方向により一方向のみとなり、
研磨布の砥粒の除去も一方向のみであることに起因する
ものである。また、図８に示す装置においては、図９
（ｂ）から明らかなように、研磨布３４の毛ば立ちはタ
ーンテーブル３３とブラシ４２の回転方向により一方向
のみとなり、研磨布の砥粒の除去も一方向のみであるこ
とに起因するものである。
【００１０】また、図７及び図８から明らかなように、
上記従来のターンテーブル３３は平坦なテーブル上面３
３ａに研磨布３４を張っただけの構造であるため、研磨
加工終了時にターンテーブル３３の回転を停止した場
合、研磨布３４に染み込んだ研磨砥液が蒸発して研磨布
３４が乾燥し、該研磨布３４の寿命が短くなるという欠
点があった。
上記従来のターンテーブル３３は平坦なテーブル上面３
３ａに研磨布３４を張っただけの構造であるため、研磨
加工終了時にターンテーブル３３の回転を停止した場
合、研磨布３４に染み込んだ研磨砥液が蒸発して研磨布
３４が乾燥し、該研磨布３４の寿命が短くなるという欠
点があった。
【００１１】本発明は上述の事情に鑑みなされたもの
で、上記問題点を除去し、研磨布の全面が均一に洗浄で
き且つ研磨布に突き刺さった砥粒等も効果的に除去でき
研磨布の再生が確実にできるポリッシング装置を提供す
ることを目的とする。
で、上記問題点を除去し、研磨布の全面が均一に洗浄で
き且つ研磨布に突き刺さった砥粒等も効果的に除去でき
研磨布の再生が確実にできるポリッシング装置を提供す
ることを目的とする。
【００１２】また、本発明の他の目的は、ターンテーブ
ルの上面に張った研磨布の乾燥を防止することができる
ポリッシング装置を提供することにある。
ルの上面に張った研磨布の乾燥を防止することができる
ポリッシング装置を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ため、本発明のポリッシング装置の１態様は、各々独立
した回転数で回転する上面に研磨布を張ったターンテー
ブルとトップリングとを有し、前記ターンテーブルとト
ップリングとの間にポリッシング対象物を介在させて該
ポリッシング対象物の表面を研磨し平坦且つ鏡面化する
ポリッシング装置において、前記研磨布の布面に対して
略直交する軸線回わりに回転自在に取付けられ且つ駆動
モータにより回転する回転ブラシと、該回転ブラシを前
記研磨布の半径方向内方と外方との間を往復移動させる
移動機構と、前記研磨布上に洗浄液を供給する洗浄液ノ
ズルとを備えたことを特徴とするものである。
ため、本発明のポリッシング装置の１態様は、各々独立
した回転数で回転する上面に研磨布を張ったターンテー
ブルとトップリングとを有し、前記ターンテーブルとト
ップリングとの間にポリッシング対象物を介在させて該
ポリッシング対象物の表面を研磨し平坦且つ鏡面化する
ポリッシング装置において、前記研磨布の布面に対して
略直交する軸線回わりに回転自在に取付けられ且つ駆動
モータにより回転する回転ブラシと、該回転ブラシを前
記研磨布の半径方向内方と外方との間を往復移動させる
移動機構と、前記研磨布上に洗浄液を供給する洗浄液ノ
ズルとを備えたことを特徴とするものである。
【００１４】また、本発明のポリッシング装置の他の態
様は、各々独立した回転数で回転する上面に研磨布を張
ったターンテーブルとトップリングとを有し、前記ター
ンテーブルとトップリングとの間にポリッシング対象物
を介在させて該ポリッシング対象物の表面を研磨し平坦
且つ鏡面化するポリッシング装置において、前記ターン
テーブル外周部に研磨布の乾燥を防止するために該研磨
布上に張った保管液の外部への流出を防止する土手状突
起を設け、該土手状突起は前記ターンテーブルが研磨動
作により回転した場合、前記研磨布上に張った保管液が
遠心力により外部に飛散できるようにターンテーブル内
側下り勾配の傾斜面を有することを特徴とするものであ
る。
様は、各々独立した回転数で回転する上面に研磨布を張
ったターンテーブルとトップリングとを有し、前記ター
ンテーブルとトップリングとの間にポリッシング対象物
を介在させて該ポリッシング対象物の表面を研磨し平坦
且つ鏡面化するポリッシング装置において、前記ターン
テーブル外周部に研磨布の乾燥を防止するために該研磨
布上に張った保管液の外部への流出を防止する土手状突
起を設け、該土手状突起は前記ターンテーブルが研磨動
作により回転した場合、前記研磨布上に張った保管液が
遠心力により外部に飛散できるようにターンテーブル内
側下り勾配の傾斜面を有することを特徴とするものであ
る。
【００１５】
【作用】本発明の第１の態様によれば、研磨布の布面に
対して略直交する軸線回わりに回転自在に回転ブラシを
設け、該回転ブラシを回転させながら研磨布の半径方向
内方と外方との間を往復移動させて研磨布をドレッシン
グするので、研磨布の毛ば立ちの方向が一方向となら
ず、研磨布に突き刺さったり付着して目詰まりを起こし
た砥粒等を従来のドレッシング装置に比較し、確実に除
去できる。
対して略直交する軸線回わりに回転自在に回転ブラシを
設け、該回転ブラシを回転させながら研磨布の半径方向
内方と外方との間を往復移動させて研磨布をドレッシン
グするので、研磨布の毛ば立ちの方向が一方向となら
ず、研磨布に突き刺さったり付着して目詰まりを起こし
た砥粒等を従来のドレッシング装置に比較し、確実に除
去できる。
【００１６】本発明の第２の態様によれば、ターンテー
ブルの外周部に内側下り勾配の傾斜面を有する土手状突
起を設けることにより、研磨停止時にターンテーブル上
面に保管液を張ることにより、該保管液で研磨布が覆わ
れ、且つ土手状突起により保管液がターンテーブル外に
流出しないから、研磨布の乾燥を防止できる。研磨動作
時には、ターンテーブルが回転するため、研磨布の上面
に張った保管液は、その遠心力によって土手状突起を越
えて外側に飛散するので、この保管液が研磨に支障を及
ぼすことがない。また土手状突起は、勾配を有している
ため、ターンテーブルの回転とともにターンテーブル上
の保管液がよどみなく全て排出できる長所を有する。
ブルの外周部に内側下り勾配の傾斜面を有する土手状突
起を設けることにより、研磨停止時にターンテーブル上
面に保管液を張ることにより、該保管液で研磨布が覆わ
れ、且つ土手状突起により保管液がターンテーブル外に
流出しないから、研磨布の乾燥を防止できる。研磨動作
時には、ターンテーブルが回転するため、研磨布の上面
に張った保管液は、その遠心力によって土手状突起を越
えて外側に飛散するので、この保管液が研磨に支障を及
ぼすことがない。また土手状突起は、勾配を有している
ため、ターンテーブルの回転とともにターンテーブル上
の保管液がよどみなく全て排出できる長所を有する。
【００１７】
【実施例】以下、本発明に係るポリッシング装置の一実
施例を図１乃至図４を参照して説明する。図１はポリッ
シング装置の全体構成を示す図である。図１において、
ターンテーブル１は軸２を中心に回転できるようになっ
ている。ターンテーブル１の上面には研磨布３が張られ
ている。ターンテーブル１の上方にはトップリング本体
４が配置されており、トップリング本体４は球５を介し
てトップリングホルダ７によってトップリング駆動軸６
に連結されている。トップリング駆動軸６の上部にはト
ップリングシリンダ８が設けられており、トップリング
本体４はトップリングシリンダ８により、ターンテーブ
ル１に対して一定の圧力で押圧されている。符号９はト
ップリング駆動モータで、歯車１０ａ，１０ｂ，１０ｃ
を介してトップリング駆動軸６に回転トルクを与えてい
る。
施例を図１乃至図４を参照して説明する。図１はポリッ
シング装置の全体構成を示す図である。図１において、
ターンテーブル１は軸２を中心に回転できるようになっ
ている。ターンテーブル１の上面には研磨布３が張られ
ている。ターンテーブル１の上方にはトップリング本体
４が配置されており、トップリング本体４は球５を介し
てトップリングホルダ７によってトップリング駆動軸６
に連結されている。トップリング駆動軸６の上部にはト
ップリングシリンダ８が設けられており、トップリング
本体４はトップリングシリンダ８により、ターンテーブ
ル１に対して一定の圧力で押圧されている。符号９はト
ップリング駆動モータで、歯車１０ａ，１０ｂ，１０ｃ
を介してトップリング駆動軸６に回転トルクを与えてい
る。
【００１８】またターンテーブル１の上方には研磨砥液
ノズル１２が設置されており、研磨砥液ノズル１２によ
ってターンテーブル１の研磨布３上に研磨砥液Ｑを噴射
できるようになっている。なお、この研磨砥液として
は、例えばＳiＯ2クロイダルシリカ又はＣeＯ2−純水等
を用いる。一方、トップリング本体４の下部には半導体
ウエハ等のポリッシング対象物１１を保持するためのリ
ング１３が設置されている。なお、図１において、符号
１４ａ，１４ｂはそれぞれトルク伝達ピン、符号１５
ａ，１５ｂはそれぞれチューブ継手、符号１６は真空ラ
イン用チューブである。
ノズル１２が設置されており、研磨砥液ノズル１２によ
ってターンテーブル１の研磨布３上に研磨砥液Ｑを噴射
できるようになっている。なお、この研磨砥液として
は、例えばＳiＯ2クロイダルシリカ又はＣeＯ2−純水等
を用いる。一方、トップリング本体４の下部には半導体
ウエハ等のポリッシング対象物１１を保持するためのリ
ング１３が設置されている。なお、図１において、符号
１４ａ，１４ｂはそれぞれトルク伝達ピン、符号１５
ａ，１５ｂはそれぞれチューブ継手、符号１６は真空ラ
イン用チューブである。
【００１９】上記構成のポリッシング装置において、研
磨時には、トップリング本体４の下面にポリッシング対
象物１１を真空吸着で取付け、ポリッシング対象物１１
をターンテーブル１上面の研磨布３上にトップリングシ
リンダ８により圧力を加えて加圧する。この時ターンテ
ーブル１は回転を始める。
磨時には、トップリング本体４の下面にポリッシング対
象物１１を真空吸着で取付け、ポリッシング対象物１１
をターンテーブル１上面の研磨布３上にトップリングシ
リンダ８により圧力を加えて加圧する。この時ターンテ
ーブル１は回転を始める。
【００２０】次に研磨砥液ノズル１２から研磨布３上に
研磨砥液Ｑを流すことにより、研磨布３に研磨砥液Ｑが
保持され、ポリッシング対象物１１の研磨される面（下
面）に研磨砥液Ｑが浸入しポリッシングを始める。
研磨砥液Ｑを流すことにより、研磨布３に研磨砥液Ｑが
保持され、ポリッシング対象物１１の研磨される面（下
面）に研磨砥液Ｑが浸入しポリッシングを始める。
【００２１】図１に示されるポリッシング装置は、適宜
研磨布のドレッシングを行うために図２及び図３に示さ
れるドレッシング装置を備えている。ドレッシング装置
は、図２及び図３に示されるように、アーム２１を具備
しており、該アーム２１の先端には回転ブラシ２２が研
磨布３の布面に対して略直交する軸線の回りに回転自在
に取付けられている。アーム２１の後端には、回転ブラ
シ２２を回転するための回転ブラシ駆動用モータ２３が
設置されており、該回転ブラシ駆動用モータ２３の回転
力がタイミングベルト２４を介して回転ブラシ２２に伝
達されるようになっている。
研磨布のドレッシングを行うために図２及び図３に示さ
れるドレッシング装置を備えている。ドレッシング装置
は、図２及び図３に示されるように、アーム２１を具備
しており、該アーム２１の先端には回転ブラシ２２が研
磨布３の布面に対して略直交する軸線の回りに回転自在
に取付けられている。アーム２１の後端には、回転ブラ
シ２２を回転するための回転ブラシ駆動用モータ２３が
設置されており、該回転ブラシ駆動用モータ２３の回転
力がタイミングベルト２４を介して回転ブラシ２２に伝
達されるようになっている。
【００２２】前記アーム２１は垂直軸２６を介して昇降
駆動エアシリンダ２５に接続されており、昇降駆動エア
シリンダ２５によって、アーム２１及び回転ブラシ２２
は上下動されるようになっている。また垂直軸２６の外
周部にはキー等を介してスリーブ２７が連結されてい
る。スリーブ２７は歯車１７ａ，１７ｂを介してアーム
揺動用モータ２８に連結されており、アーム揺動用モー
タ２８を回転駆動することによりスリーブ２７が回転さ
れ、これに伴い垂直軸２６が回転されてアーム２１が揺
動され、回転ブラシ２２が研磨布３の半径方向内方と外
方の間を往復移動するように構成されている。なお、垂
直軸２６はスリーブ２７とともに回転するが、スリーブ
２７に対して上下方向に摺動可能になっている。
駆動エアシリンダ２５に接続されており、昇降駆動エア
シリンダ２５によって、アーム２１及び回転ブラシ２２
は上下動されるようになっている。また垂直軸２６の外
周部にはキー等を介してスリーブ２７が連結されてい
る。スリーブ２７は歯車１７ａ，１７ｂを介してアーム
揺動用モータ２８に連結されており、アーム揺動用モー
タ２８を回転駆動することによりスリーブ２７が回転さ
れ、これに伴い垂直軸２６が回転されてアーム２１が揺
動され、回転ブラシ２２が研磨布３の半径方向内方と外
方の間を往復移動するように構成されている。なお、垂
直軸２６はスリーブ２７とともに回転するが、スリーブ
２７に対して上下方向に摺動可能になっている。
【００２３】上記構成のドレッシング装置において、回
転ブラシ駆動用モータ２３を回転させることにより、タ
イミングベルト２４を介して回転ブラシ２２が回転す
る。このときエアシリンダ２５が作動して垂直軸２６が
下降し、回転ブラシ２２の先端が研磨布３に接触する。
そして、ターンテーブル１が回転し、アーム揺動用モー
タ２８が正転逆転を繰り返すことにより、回転ブラシ２
２が研磨布３の半径方向内方と外方との間を往復移動す
る。また、ノズル２９から洗浄液Ｗが研磨布３に噴射さ
れる。
転ブラシ駆動用モータ２３を回転させることにより、タ
イミングベルト２４を介して回転ブラシ２２が回転す
る。このときエアシリンダ２５が作動して垂直軸２６が
下降し、回転ブラシ２２の先端が研磨布３に接触する。
そして、ターンテーブル１が回転し、アーム揺動用モー
タ２８が正転逆転を繰り返すことにより、回転ブラシ２
２が研磨布３の半径方向内方と外方との間を往復移動す
る。また、ノズル２９から洗浄液Ｗが研磨布３に噴射さ
れる。
【００２４】回転ブラシ２２の回転により、研磨布３に
突き刺さったり付着した砥液が堀り起こされる。この掘
り起こされた砥粒はノズル２９からの洗浄液Ｗとターン
テーブル１の回転による遠心力により、ターンテーブル
１の外側に飛ばされる。
突き刺さったり付着した砥液が堀り起こされる。この掘
り起こされた砥粒はノズル２９からの洗浄液Ｗとターン
テーブル１の回転による遠心力により、ターンテーブル
１の外側に飛ばされる。
【００２５】図４は上記ドレッシング時の回転ブラシの
作用を説明する図である。アーム２１の揺動により、回
転ブラシ２２は図４（ａ）の実線及び仮想線で示される
ように研磨布３上を往復移動する。図４（ｂ）は回転ブ
ラシ２２が実線位置にあるときに図４（ａ）の矢印Ａ方
向から見た図であり、図４（ｃ）は回転ブラシ２２が仮
想線位置にあるときに図４（ａ）の矢印Ａ方向から見た
図である。図４（ｂ）及び図４（ｃ）から明らかなよう
に、研磨布３のＢ位置におけるクロスの毛ば立ちはそれ
ぞれ逆方向になる。即ち、本実施例によれば、研磨布３
の同一の位置で回転ブラシ２２が揺動した場合、ブラシ
の箇処により毛ば立ち方向が変化するため、毛ば立てる
方向も一方向とならず砥粒の除去効果が向上する。
作用を説明する図である。アーム２１の揺動により、回
転ブラシ２２は図４（ａ）の実線及び仮想線で示される
ように研磨布３上を往復移動する。図４（ｂ）は回転ブ
ラシ２２が実線位置にあるときに図４（ａ）の矢印Ａ方
向から見た図であり、図４（ｃ）は回転ブラシ２２が仮
想線位置にあるときに図４（ａ）の矢印Ａ方向から見た
図である。図４（ｂ）及び図４（ｃ）から明らかなよう
に、研磨布３のＢ位置におけるクロスの毛ば立ちはそれ
ぞれ逆方向になる。即ち、本実施例によれば、研磨布３
の同一の位置で回転ブラシ２２が揺動した場合、ブラシ
の箇処により毛ば立ち方向が変化するため、毛ば立てる
方向も一方向とならず砥粒の除去効果が向上する。
【００２６】上記のように本実施例では、アーム２１を
揺動させるとともに回転ブラシ２２を研磨布３の布面に
対して略直交する軸線回りに回転させることにより、図
７及び図８に示す従来の装置に比べ、研磨布３に突き刺
さったり付着して目詰まりを起こした砥粒を効果的に掘
り起こし、除去できる。
揺動させるとともに回転ブラシ２２を研磨布３の布面に
対して略直交する軸線回りに回転させることにより、図
７及び図８に示す従来の装置に比べ、研磨布３に突き刺
さったり付着して目詰まりを起こした砥粒を効果的に掘
り起こし、除去できる。
【００２７】次に、本発明に係るポリッシング装置のタ
ーンテーブルの構成を図５及び図６を参照して説明す
る。図５はポリッシング装置のターンテーブルの構造を
示す一部側断面図である。図示するように、ターンテー
ブル１の外周部に土手状突起１８を形成した環状部材１
９が設けられている。該土手状突起１８はターンテーブ
ル１の内側下り勾配の傾斜面Ｓを有し、その頂部Ｔは研
磨布３の上面より高く（例えば３〜４mm）なっている。
ーンテーブルの構成を図５及び図６を参照して説明す
る。図５はポリッシング装置のターンテーブルの構造を
示す一部側断面図である。図示するように、ターンテー
ブル１の外周部に土手状突起１８を形成した環状部材１
９が設けられている。該土手状突起１８はターンテーブ
ル１の内側下り勾配の傾斜面Ｓを有し、その頂部Ｔは研
磨布３の上面より高く（例えば３〜４mm）なっている。
【００２８】上記構成のターンテーブル１において、研
磨停止時、すなわちターンテーブル１の回転停止時に研
磨布３の乾燥を防止するため該研磨布３の上に純水等の
保管液を張ることにより、研磨布３はこの保管液で覆わ
れることになるから、研磨布３の乾燥を防止することが
できる。そして、研磨動作時には、ターンテーブル１が
回転することによって、その遠心力で保管液はターンテ
ーブル１の外側に飛散するため、該保管液は研磨の支障
にはならない。
磨停止時、すなわちターンテーブル１の回転停止時に研
磨布３の乾燥を防止するため該研磨布３の上に純水等の
保管液を張ることにより、研磨布３はこの保管液で覆わ
れることになるから、研磨布３の乾燥を防止することが
できる。そして、研磨動作時には、ターンテーブル１が
回転することによって、その遠心力で保管液はターンテ
ーブル１の外側に飛散するため、該保管液は研磨の支障
にはならない。
【００２９】上記土手状突起１８の傾斜面Ｓの傾斜角度
及び頂部Ｔの高さは、研磨時にターンテーブル１が回転
した場合、その遠心力で研磨布３に張った保管液がター
ンテーブル１の外側に速やかに飛散できるように設定す
る。
及び頂部Ｔの高さは、研磨時にターンテーブル１が回転
した場合、その遠心力で研磨布３に張った保管液がター
ンテーブル１の外側に速やかに飛散できるように設定す
る。
【００３０】また、土手状突起１８は図５に示すよう
に、ターンテーブル１の本体と別部品とするものに限定
されるものではなく、図６に示すように土手状突起１
８′をターンテーブル１の本体と一体に成形してもよ
い。この場合も土手状突起１８′の傾斜面Ｓの傾斜角度
及び頂部Ｔの高さは、図５の場合と同様、研磨時にター
ンテーブル１の遠心力で保管液がターンテーブル１の外
側に速やかに飛散できるように設定する。
に、ターンテーブル１の本体と別部品とするものに限定
されるものではなく、図６に示すように土手状突起１
８′をターンテーブル１の本体と一体に成形してもよ
い。この場合も土手状突起１８′の傾斜面Ｓの傾斜角度
及び頂部Ｔの高さは、図５の場合と同様、研磨時にター
ンテーブル１の遠心力で保管液がターンテーブル１の外
側に速やかに飛散できるように設定する。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
研磨布の布面に対して略直交する軸線回りに回転自在に
回転ブラシを設け、該回転ブラシを回転させながら研磨
布の半径方向内方と外方との間を往復移動させて研磨布
をドレッシングするようにしたので、研磨布に付着した
砥粒の除去及び研磨布の目立てが従来のものより確実に
行えるようになり、研磨布の寿命が延びるとともに、ポ
リッシング対象物の研磨面を均一に研磨できるという優
れた効果が得られる。
研磨布の布面に対して略直交する軸線回りに回転自在に
回転ブラシを設け、該回転ブラシを回転させながら研磨
布の半径方向内方と外方との間を往復移動させて研磨布
をドレッシングするようにしたので、研磨布に付着した
砥粒の除去及び研磨布の目立てが従来のものより確実に
行えるようになり、研磨布の寿命が延びるとともに、ポ
リッシング対象物の研磨面を均一に研磨できるという優
れた効果が得られる。
【００３２】また、本発明によれば、ターンテーブル外
周部に研磨布の乾燥を防止するために該研磨布上に張っ
た保管液の外部への流出を防止する勾配を有する土手状
突起を設けたので、研磨布の寿命が延びるとともに研磨
布に入り込む研磨砥粒が分散されポリッシングの均一性
が図れる。また土手状突起は、勾配を有しているため、
ターンテーブルの回転とともにターンテーブル上の保管
液がよどみなく全て排出できる長所を有する。
周部に研磨布の乾燥を防止するために該研磨布上に張っ
た保管液の外部への流出を防止する勾配を有する土手状
突起を設けたので、研磨布の寿命が延びるとともに研磨
布に入り込む研磨砥粒が分散されポリッシングの均一性
が図れる。また土手状突起は、勾配を有しているため、
ターンテーブルの回転とともにターンテーブル上の保管
液がよどみなく全て排出できる長所を有する。
【図１】本発明に係るポリッシング装置の全体構成を示
す部分断面立面図である。
す部分断面立面図である。
【図２】本発明に係るポリッシング装置に設置されたド
レッシング装置の部分断面立面図である。
レッシング装置の部分断面立面図である。
【図３】本発明に係るポリッシング装置に設置されたド
レッシング装置の平面図である。
レッシング装置の平面図である。
【図４】本発明に係るポリッシング装置に設置されたド
レッシング装置の作用を説明する説明図である。
レッシング装置の作用を説明する説明図である。
【図５】本発明のポリッシング装置のターンテーブルの
構造を示す一部側断面図である。
構造を示す一部側断面図である。
【図６】本発明のポリッシング装置のターンテーブルの
他の構造を示す一部側断面図である。
他の構造を示す一部側断面図である。
【図７】従来のポリッシング装置に設置されたドレッシ
ング装置を示す図であり、図７（ａ）は側面図、図７
（ｂ）は平面図である。
ング装置を示す図であり、図７（ａ）は側面図、図７
（ｂ）は平面図である。
【図８】従来のポリッシング装置に設置されたドレッシ
ング装置を示す図であり、図８（ａ）は側面図、図８
（ｂ）は平面図である。
ング装置を示す図であり、図８（ａ）は側面図、図８
（ｂ）は平面図である。
【図９】図７及び図８に示す従来のドレッシング装置の
作用を説明する説明図である。
作用を説明する説明図である。
１ ターンテーブル ３ 研磨布 ４ トップリング本体 ６ トップリング駆動軸 １１ ポリッシング対象物 １８ 土手状突起 １９ 環状部材 ２１ アーム ２２ 回転ブラシ ２３ 回転ブラシ駆動用モータ ２５ エアシリンダ ２８ アーム揺動用モータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川島 清隆 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内 (72)発明者 石井 遊 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内
Claims (6)
- 【請求項１】 各々独立した回転数で回転する上面に研
磨布を張ったターンテーブルとトップリングとを有し、
前記ターンテーブルとトップリングとの間にポリッシン
グ対象物を介在させて該ポリッシング対象物の表面を研
磨し平坦且つ鏡面化するポリッシング装置において、 前記研磨布の布面に対して略直交する軸線回わりに回転
自在に取付けられ且つ駆動モータにより回転する回転ブ
ラシと、該回転ブラシを前記研磨布の半径方向内方と外
方との間を往復移動させる移動機構と、前記研磨布上に
洗浄液を供給する洗浄液ノズルとを備えたことを特徴と
するポリッシング装置。 - 【請求項２】 前記移動機構は前記回転ブラシを保持す
るアームと、該アームを揺動させる駆動機構とからなる
ことを特徴とする請求項１記載のポリッシング装置。 - 【請求項３】 前記回転ブラシを昇降させる昇降機構を
備えることを特徴とする請求項１記載のポリッシング装
置。 - 【請求項４】 各々独立した回転数で回転する上面に研
磨布を張ったターンテーブルとトップリングとを有し、
前記ターンテーブルとトップリングとの間にポリッシン
グ対象物を介在させて該ポリッシング対象物の表面を研
磨し平坦且つ鏡面化するポリッシング装置において、 前記ターンテーブル外周部に研磨布の乾燥を防止するた
めに該研磨布上に張った保管液の外部への流出を防止す
る土手状突起を設け、該土手状突起は前記ターンテーブ
ルが研磨動作により回転した際に、前記研磨布上に張っ
た保管液が遠心力により外部に飛散できるようにターン
テーブル内側下り勾配の傾斜面を有することを特徴とす
るポリッシング装置。 - 【請求項５】 前記土手状突起は前記ターンテーブルに
一体に形成されていることを特徴とする請求項４記載の
ポリッシング装置。 - 【請求項６】 前記土手状突起は前記ターンテーブルに
固定された環状部材に形成されていることを特徴とする
請求項４記載のポリッシング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25652393A JP3256355B2 (ja) | 1992-09-24 | 1993-09-20 | ポリッシング装置 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27934392 | 1992-09-24 | ||
| JP4-279343 | 1992-09-25 | ||
| JP28049192 | 1992-09-25 | ||
| JP4-280491 | 1992-09-25 | ||
| JP25652393A JP3256355B2 (ja) | 1992-09-24 | 1993-09-20 | ポリッシング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06190714A true JPH06190714A (ja) | 1994-07-12 |
| JP3256355B2 JP3256355B2 (ja) | 2002-02-12 |
Family
ID=27334539
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25652393A Expired - Fee Related JP3256355B2 (ja) | 1992-09-24 | 1993-09-20 | ポリッシング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3256355B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998045089A1 (fr) * | 1997-04-09 | 1998-10-15 | Hitachi, Ltd. | Procede de fabrication, procede de polissage, et dispositif de polissage pour dispositifs semi-conducteurs |
| JPH10296616A (ja) * | 1997-04-08 | 1998-11-10 | Lsi Logic Corp | 化学・機械研磨用研磨パッドの前調整 |
| US6660124B1 (en) | 1999-11-19 | 2003-12-09 | Tokyo Electron Ltd. | Polishing system and polishing method |
| CN111002223A (zh) * | 2019-12-24 | 2020-04-14 | 深圳市乐业科技有限公司 | 一种用于家具制造业的具有除湿功能的木材抛光设备 |
| CN111975593A (zh) * | 2020-07-25 | 2020-11-24 | 蚌埠知博自动化技术开发有限公司 | 一种快速除锈的金属材料表面处理装置 |
| CN112139953A (zh) * | 2020-09-16 | 2020-12-29 | 蚌埠知博自动化技术开发有限公司 | 一种便于夹持的金属材料表面除锈装置 |
| KR102470301B1 (ko) * | 2022-02-11 | 2022-11-25 | (주)대영에스지 | 양면 연마장치용 드레서 |
-
1993
- 1993-09-20 JP JP25652393A patent/JP3256355B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10296616A (ja) * | 1997-04-08 | 1998-11-10 | Lsi Logic Corp | 化学・機械研磨用研磨パッドの前調整 |
| JP4565674B2 (ja) * | 1997-04-08 | 2010-10-20 | エルエスアイ コーポレーション | 化学・機械研磨用研磨パッドの前調整 |
| WO1998045089A1 (fr) * | 1997-04-09 | 1998-10-15 | Hitachi, Ltd. | Procede de fabrication, procede de polissage, et dispositif de polissage pour dispositifs semi-conducteurs |
| US6660124B1 (en) | 1999-11-19 | 2003-12-09 | Tokyo Electron Ltd. | Polishing system and polishing method |
| CN111002223A (zh) * | 2019-12-24 | 2020-04-14 | 深圳市乐业科技有限公司 | 一种用于家具制造业的具有除湿功能的木材抛光设备 |
| CN111975593A (zh) * | 2020-07-25 | 2020-11-24 | 蚌埠知博自动化技术开发有限公司 | 一种快速除锈的金属材料表面处理装置 |
| CN112139953A (zh) * | 2020-09-16 | 2020-12-29 | 蚌埠知博自动化技术开发有限公司 | 一种便于夹持的金属材料表面除锈装置 |
| KR102470301B1 (ko) * | 2022-02-11 | 2022-11-25 | (주)대영에스지 | 양면 연마장치용 드레서 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3256355B2 (ja) | 2002-02-12 |
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091130 Year of fee payment: 8 |
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