JPH10154674A - 基板処理装置およびスクラブ洗浄部材 - Google Patents

基板処理装置およびスクラブ洗浄部材

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JPH10154674A
JPH10154674A JP8313881A JP31388196A JPH10154674A JP H10154674 A JPH10154674 A JP H10154674A JP 8313881 A JP8313881 A JP 8313881A JP 31388196 A JP31388196 A JP 31388196A JP H10154674 A JPH10154674 A JP H10154674A
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wafer
scrub
brush
substrate
sponge
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JP8313881A
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English (en)
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Masashi Sawamura
雅視 澤村
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】基板を良好に洗浄でき、しかもスクラブ洗浄手
段の寿命を延ばすことができる基板処理装置を提供す
る。 【解決手段】スクラブ部材40は、スポンジ部41およびブ
ラシ部42の2種類の部材で構成されている。スポンジ部
41は、スクラブ部材40の中心を通る十字状の領域43に配
設され、ブラシ部42は、十字状の領域43以外の領域に配
設されている。すなわち、ウエハWの中心に対応する部
分にはスポンジ部41が配設され、ウエハWの周縁部に対
応する部分にはブラシ部42が配設されている。洗浄液
は、スクラブ部材40の中心に配設されたノズル30から吐
出される。 【効果】ウエハWの周縁部、ウエハWの端面およびウエ
ハWを保持する部材にブラシの毛先が及ぶから、これら
の部分を良好にスクラブ洗浄できる。また、洗浄液の吐
出圧によるブラシの変形がほとんどないから、ブラシの
耐久性が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、液
晶表示装置用ガラス基板およびPDP(プラズマ・ディ
スプレイ・パネル)基板のような各種の基板に対して処
理を施すための基板処理装置、および基板処理装置に用
いられるスクラブ洗浄部材に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造工程には、半導体ウエ
ハ(以下、単に「ウエハ」という。)の表面に成膜やエ
ッチングなどの処理を繰り返し施して微細パターンを形
成していく工程が含まれる。微細加工のためにはウエハ
自体の表面およびウエハ表面に形成された薄膜の表面を
清浄に保つ必要があるから、必要に応じてウエハの洗浄
が行われる。たとえば、ウエハやその表面上に形成され
た薄膜を研磨材を用いて研磨した後には、研磨材がウエ
ハ表面に残留しているから、この研磨材を除去するため
の洗浄が必要である。
【0003】ウエハ表面に残留している研磨材の除去の
ためのウエハ洗浄処理には、一般に、スクラブ洗浄装置
が用いられる。スクラブ洗浄装置は、ウエハを周縁部に
て挾持するチャック部材が備えられたスピンチャック
と、チャック部材に挾持されているウエハをスクラブす
るためのスクラブ部材が取り付けられたヘッド部と、こ
のヘッド部を鉛直軸回りに回転させる回転駆動部と、ウ
エハの表面に対して洗浄液を吐出するノズルとを含む。
【0004】スクラブ洗浄時、チャック部材により挾持
されているウエハとスクラブ部材の当接面とが互いに押
しつけられて、ヘッド部が回転駆動部によって高速回転
させられるとともに、ノズルから洗浄液が吐出される。
これにより、ウエハがスクラブ洗浄される。スクラブ部
材として代表的なものには、PVA(poly-vinyl alcoho
l)などで構成されたスポンジ状部材とナイロンなどで構
成されたブラシ状部材とがある。
【0005】スポンジ状部材をスクラブ部材として使用
する装置では、スポンジ状部材の当接面積がウエハの表
面積に比べて小さくされる。これは、スポンジ状部材の
当接面積を大きくすると当接面の面精度が十分にとれず
に、ウエハの洗浄が不均一になるからである。したがっ
て、このような装置は、通常、いわゆる自公転式として
構成され、ウエハの上面を洗浄するために用いられる。
また、この装置では、ウエハ表面に斜めから洗浄液が供
給されるような位置にノズルが設けられる。
【0006】ブラシ状部材をスクラブ部材として使用す
る装置では、ブラシの毛先があまり揃っていなくても、
ブラシ状部材の当接面とウエハとを互いに押しつければ
ブラシは寝るから、当接面の面精度はそれほど必要では
ない。したがって、この装置では、ブラシ状部材の当接
面積はウエハの表面積とほぼ同じにすることができる。
そのため、このような装置は、通常、いわゆる自転式と
して構成され、ウエハの下面を洗浄するために用いられ
る。また、この装置では、当接面のほぼ中央部にノズル
が設けられている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、スポンジ状部
材およびブラシ状部材のいずれにもそれぞれ固有の問題
があり、いずれの部材をスクラブ部材として使用する場
合でも、ウエハを良好に洗浄することは困難である。表
1は、スポンジ状部材およびブラシ状部材をスクラブ部
材として用いる場合における諸性能を比較したものであ
る。表1において、「〇」は良好であることを示し、
「△」はあまり良好でないことを示し、「×」はほぼ不
可能であることを示している。
【0008】
【表1】
【0009】「除去率」とは、ウエハ表面上のパーティ
クルの除去率のことである。ブラシ状部材のパーティク
ル除去率があまり良くないのは、ブラシ間に隙間が空い
ているからであると考えられる。「耐久性」に関し、ブ
ラシ状部材があまり良くないのは、ブラシ状部材がスク
ラブ部材として用いられる場合、ブラシ状部材のほぼ中
心部にノズルが配置されるからである。すなわち、使用
頻度が増加するにつれて、洗浄液の吐出圧によってブラ
シ部材のほぼ中央部のブラシが寝た状態に変形する。こ
の状態ではブラシがウエハ表面に届かずにウエハをスク
ラブ洗浄できないから、交換を要することになる。
【0010】「周辺除去」とは、ウエハの周縁部のパー
ティクルの除去のことである。「周辺除去」に関しスポ
ンジ状部材があまり良くないのは、ウエハの周縁部を残
すような形でしかウエハの表面を洗浄することができな
いからである。すなわち、ウエハの周縁部を良好に洗浄
しようとするとスポンジ状部材をウエハの周縁部に直接
当てる必要があるが、この場合、高速回転しているスポ
ンジ状部材の側面とウエハを周縁部で保持しているチャ
ック部材とが擦れ、スポンジ状部材の側面が磨耗するお
それがある。したがって、スポンジ状部材の寿命を考え
ると、ウエハの周縁部を犠牲にせざるを得ない。
【0011】これに対して、ブラシ状部材ではブラシが
寝るから、側面がチャック部材に擦れるようにブラシを
設けなくても、ブラシの毛先をウエハの周縁部に直接当
てることができる。したがって、ブラシの劣化をほとん
ど問題にせずに、ウエハの周縁部を良好に洗浄できる。
「端面除去」に関し、ブラシ状部材はブラシが寝るから
ウエハの端面にまでブラシが回り込む。したがって、ウ
エハの端面をも洗浄できる。しかし、スポンジ状部材を
ウエハの端面に当てることはできないから、ウエハの端
面を洗浄することはできない。
【0012】「チャック部材」とは、チャック部材を洗
浄できるかどうかということである。ブラシ状部材では
ブラシが寝るからチャック部材にまでブラシが届き、チ
ャック部材を洗浄できるのに対して、前述のようにスポ
ンジ状部材ではスポンジをチャック部材に直接当てるこ
とはできないから、チャック部材を洗浄することはでき
ない。このような比較をしているのは、チャック部材に
もパーティクルが付着するおそれがあり、これを除去で
きる方が好ましいからである。
【0013】「面精度」に関しては、前述のとおりであ
るから、省略する。このように、スポンジ状部材および
ブラシ状部材をそれぞれ単独でスクラブ部材として使用
する場合には、各部材の固有の問題によりウエハを良好
に洗浄することができない。一方、表1を見ると、ウエ
ハの周縁部におけるスクラブ部材の性能(「周辺除
去」、「端面除去」および「チャック部材」)に関して
はブラシ状部材の方が良く、その他の性能(「除去率」
および「耐久性」)に関してはスポンジ状部材の方が良
いことがわかる。
【0014】本出願人は、この点に着目し、スポンジ状
部材とブラシ状部材との2種類の部材を有するスクラブ
部材であれば、ウエハを良好に洗浄でき、しかもスクラ
ブ部材の寿命を延ばすことができることを見出した。本
発明は、前述の技術的背景に鑑みてなされたもので、ウ
エハなどの基板を良好に洗浄でき、しかもスクラブ洗浄
手段の寿命を延ばすことができる基板処理装置、および
基板処理装置に用いられるスクラブ洗浄部材を提供する
ことを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の請求項1記載の発明は、基板を保持するための基板保
持手段と、この基板保持手段に保持された基板に洗浄液
を供給するための洗浄液供給手段と、少なくとも中央付
近に設けられたスポンジ状部材と、少なくとも周縁部に
設けられたブラシ状部材とを有し、前記基板保持手段に
保持された基板をスクラブ洗浄するためのスクラブ洗浄
手段と、このスクラブ洗浄手段を前記基板保持手段に保
持された基板に対してほぼ垂直な軸回りに回転させるた
めの回転駆動手段とを含むことを特徴とする基板処理装
置である。
【0016】請求項4記載の発明は、基板保持手段に保
持された基板に洗浄液を供給して基板をスクラブ洗浄す
る機能を有する基板処理装置に用いられ、前記基板に対
してほぼ垂直な軸回りに回転可能なスクラブ洗浄部材で
あって、少なくとも中央付近に設けられたスポンジ状部
材と、少なくとも周縁部に設けられたブラシ状部材とを
含むことを特徴とするスクラブ洗浄部材である。
【0017】本発明では、少なくとも周縁部にブラシ状
部材が配設されるから、基板の周縁部および基板の端面
にブラシ状部材を当てることができる。そのため、基板
の周縁部および基板の端面のパーティクルを確実に除去
できる。また、たとえば請求項2記載の発明のように、
基板を周縁部で保持するチャック部材が備えられる場合
には、チャック部材にもブラシ状部材を当てることがで
きるから、チャック部材のパーティクル除去をも確実に
除去できる。
【0018】また、少なくとも中央付近にはスポンジ状
部材が配設されるから、スポンジ状部材を基板に密着さ
せることができる。そのため、基板のパーティクルを確
実に除去できる。さらに、たとえば請求項3記載の発明
のように、スクラブ洗浄手段のほぼ回転中心から洗浄液
を供給する場合であっても、洗浄液の供給圧によるスポ
ンジ状部材の変形はブラシ状部材ほどではないから、耐
久性の向上を図ることができる。さらにまた、スポンジ
状部材を大型のものにする必要もないから、面精度を十
分に出すことができる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下では、本発明の実施の形態
を、添付図面を参照して詳細に説明する。図1は、本発
明の一実施形態の基板処理装置であるウエハ洗浄装置の
基本的な構成を示す側面図であり、その一部を断面で表
している。この装置は、ウエハWを水平に保持した状態
でこのウエハWの下面をスクラブ洗浄するためのもの
で、ウエハWを当該ウエハWの端面に接触して挾持する
ための一対の端面支持ハンド10,11と、端面支持ハ
ンド10,11によって挾持された状態のウエハWの下
面をスクラブ洗浄するためのスクラブ洗浄装置20とを
備えている。
【0020】一対の端面支持ハンド10,11は、図2
に示すように、ウエハWの端面形状に対応して円弧状に
湾曲した支持面10a,11aをそれぞれ有している。
この各支持面10a,11aが相対向するように端面支
持ハンド10,11が配設されている。各支持面10
a,11aには、それぞれ、4つの挾持爪10b,11
bが間隔をあけて取り付けられている。これらの挾持爪
10b,11bによりウエハWが挾持される。
【0021】端面支持ハンド10,11は、それぞれ、
ウエハWの中心に近接する方向およびウエハWの中心か
ら離反する方向に変位することができるように構成され
ている。これにより、図示しない搬送アームによって搬
送されてきた洗浄前のウエハWを一対の端面支持ハンド
10,11で挾持したり、洗浄後のウエハWを搬送アー
ムに渡すときにウエハWの挾持状態を解放したりするこ
とができる。
【0022】また、端面支持ハンド10,11は、それ
ぞれ、昇降可能に構成されている。これにより、搬送ア
ームから受け取ったウエハWをスクラブ洗浄できるよう
にスクラブ洗浄装置20に近づけたり、洗浄後のウエハ
Wを搬送アームに渡すためにスクラブ洗浄装置20から
遠ざけたりすることができる。さらに、端面支持ハンド
10,11は、それぞれ、平面的な円運動ができるよう
に構成されている。これにより、スクラブ洗浄時、ウエ
ハWの下面を万遍なくスクラブすることができる。
【0023】図3は、スクラブ洗浄装置20の平面図で
あり、図4は図3のIV-IV 断面図である。スクラブ洗浄
装置20は、ウエハWの下面をスクラブするためのスク
ラブ部材40が上面のほぼ全体に配設されたヘッド部2
1と、ヘッド部21の下部にボルト22によって連結さ
れた円筒状の回転軸23とを備えている。回転軸23
は、円筒状の固定軸24の内壁面に配置された軸受25
によって軸支されており、回転駆動部26によってウエ
ハWの中心を通る中心軸Oまわりに回転可能にされてい
る。スクラブ洗浄時、回転軸23は回転駆動部26によ
って回転される。これに伴って、ヘッド部21も回転す
る。
【0024】固定軸24の内壁面には、回転軸23の外
壁面と摺接するリップシール27が嵌め込まれている。
リップシール27は、軸受25から漏れるオイルを堰き
止めたり軸受25で発生するパーティクルを外部に漏ら
さないようにするためのものであり、また、洗浄液の雰
囲気が軸受25に侵入して軸受25が錆びるのを防止す
るためのものである。
【0025】回転軸23の内部には、支持管28が固定
配置されている。支持管28の内部には、スクラブ部材
40の一部であるスポンジ部41に形成された凹部41
aまで延びている洗浄液パイプ29が設けられている。
洗浄パイプ29は、PFA(Tetra-fluoro-ethylene・pe
rfluoro-alkyl-vinylether copolymer) などの樹脂で構
成されている。洗浄パイプ29には、その下端側から図
外の洗浄液タンクからの洗浄液が供給されるようになっ
ている。洗浄液としては、純水やアンモニアなどが用い
られる。洗浄液パイプ29の上端部は開口しており、洗
浄液タンクから洗浄液パイプ29に供給されてきた洗浄
液を吐出するノズル30として機能する。すなわち、ヘ
ッド部21の上面に配設されたスクラブ部材40のほぼ
中心にノズル30が配設されている。
【0026】洗浄液パイプ29とスポンジ部41との間
は摺接しており、スクラブ洗浄時にスポンジ部41が回
転することによりシールとして機能するようになってい
る。なお、参照符号31は、ヘッド部21の下部に取り
付けられ、回転軸23および固定軸24の上部付近を保
護するためのカバーである。ヘッド部21は、円板状の
第1ベース部21aと、第1ベース部21aの上面にボ
ルト32によって連結され、塩化ビニールなどで構成さ
れた円板状の第2ベース部21bとを含む。第2ベース
部21bの上面のほぼ全体に配設されているスクラブ部
材40の上端面の直径は、ウエハWの直径とほぼ同じ大
きさに設定されている。これにより、スクラブ洗浄時、
ウエハWの下面をスクラブ部材40の上端面に押しつけ
た場合、ウエハWの下面全体にスクラブ部材40が当た
るようになっている。
【0027】スクラブ部材40は、スポンジ部41とブ
ラシ部42とに分かれている。より具体的には、ヘッド
部21の上面のうちヘッド部21の中心を通る十字状の
領域43にスポンジ部41が設けられており、ヘッド部
21の上面のうち十字状の領域43を除く領域にブラシ
部42が設けられている。言い換えれば、少なくともヘ
ッド部21の中心付近にはスポンジ部41が配設され、
少なくともヘッド部21の周縁部にはブラシ部42が配
設されている。さらに言えば、ウエハWの中心付近に対
応する部分にはスポンジ部41が配設され、ウエハWの
周縁部に対応する部分にはブラシ部42が配設されてい
る。
【0028】ブラシ部42は、第2ベース部21bに植
立された複数本のブラシからなる。ブラシの材質として
は、ナイロンやモヘアなどが採用される。モヘアとは、
アクリルとレーヨンとを1対1に配合して製造されたも
のである。スポンジ部41は、PVA(poly-vinyl alco
hol)などのスポンジ材で構成され、十字状に一体成形さ
れている。このように、十字状に構成すれば、ウエハW
を広範囲に効率よく洗浄でき、大きな円形状に構成する
よりも面精度を必要としない。スポンジ部41の下部か
らは、一体形成された突出部41bが水平方向に突出し
ている。第2ベース部21bの十字状の領域43には、
スポンジ部41の形状に対応する十字状の嵌込穴33が
形成されており、その下部には幅がさらに広くされた段
差部34が形成されている。スポンジ部41は、段差部
34に突出部41bが入り込んだ状態で嵌込穴33に嵌
め込まれている。
【0029】スポンジ部41の中心部には、平面視にお
いて円形の凹部41aが形成されており、この凹部41
aによりノズル30が外部空間に臨んでいる。凹部41
aの周囲には、ノズル30から吐出される洗浄液をウエ
ハWの周縁部に向けて広げるための4つのV溝44が形
成されている。スポンジ部41のヘッド部21の上面か
らの高さは、ブラシ部42のヘッド部21の上面からの
高さに比べて所定の長さΔdだけ低くされている。すな
わち、スクラブ洗浄時には、スクラブ部材40にウエハ
Wが所定の押し込み量だけ押しつけられるために、この
押し込み量に対応する長さΔdだけスポンジ部41をブ
ラシ部42よりも低くしている。
【0030】スポンジ部の4つの端部41cとヘッド部
21の周縁部との間には、所定の間隔rが空けられてい
る。間隔rが空けられている理由は、次のとおりであ
る。スクラブ洗浄時、端面支持ハンド10,11がウエ
ハWを含む平面内で円運動させられ、図5に示すよう
に、ウエハWの中心がスクラブ洗浄装置20の中心部で
あるノズル30を中心にした同心円状の軌跡50を描く
ように、ウエハWが円運動される。このような洗浄の仕
方をするのは、ノズル30に対応するウエハWの下面の
中心にもスクラブ部材40を当てるためである。したが
って、二点鎖線で示すように、ウエハWの周縁部がヘッ
ド部21の中心側にずれる。そのため、前述のような間
隔rを空けることで、ウエハWの周縁部がヘッド部21
の中心側にずれても、スポンジ部41がウエハWの周縁
部近傍にまでしか及ばないようにし、スポンジ部41と
ウエハWを挾持している端面支持ハンド10,11の挾
持爪10b,11bとの接触を防止している。
【0031】スクラブ洗浄時、ウエハWを挾持した端面
支持ハンド10,11が下方に降ろされ、ウエハWがス
クラブ部材40の上端面に押しつけられる。このときの
押し込み量は、たとえば1(mm)である。その結果、スク
ラブ部材40の周縁部にまで配設されているブラシの毛
先がウエハWによって曲げられる。これにより、ブラシ
の毛先は、ウエハWの周縁部に及ぶのはもちろん、図6
に示すように、ウエハWの端面およびウエハWを挾持し
ている端面支持ハンド10,11の挾持爪10b,11
bまで及ぶ。また、ウエハWは、図7に示すように、点
接触により挾持爪10b,11bに挾持されているか
ら、挾持爪10b,11b近傍のウエハWの端面のほと
んどにもブラシの毛先が及ぶ。一方、ブラシ部42とス
ポンジ部41との高低差である長さΔdは前記押し込み
量に相当するから、スポンジ部はウエハWの下面に密着
する。
【0032】その後、回転軸23が回転駆動部26によ
って回転され、これに伴ってヘッド部21も回転する。
その結果、スクラブ部材40も回転する。このときの回
転数は、たとえば300(rpm)である。また、ノズル30か
ら吐出された洗浄液は、ウエハWの下面中心部に供給さ
れるとともに、V溝44によりウエハWの周縁部に向け
て広がっていく。その結果、ウエハWの下面がブラシ部
42およびスポンジ部41でスクラブ洗浄されるととも
に、ウエハWの端面および挾持爪10b,11bがブラ
シ部42によってスクラブ洗浄される。これにより、ウ
エハWの周縁部、ウエハWの端面および挾持爪10b,
11bに付着しているパーティクルが除去される。
【0033】以上のようなスクラブ洗浄は、端面支持ハ
ンド10,11をウエハWを含む平面内で円運動させな
がら行われる。端面支持ハンド10,11が円運動され
ると、スポンジ部41がウエハWの周縁部近傍まで及
ぶ。すなわち、ウエハWの下面のうち周縁部を除くほと
んどの部分をスポンジ部41でスクラブ洗浄できる。し
たがって、ブラシのみによるスクラブ洗浄の場合に比べ
てウエハWの下面のパーティクルの除去を確実に行うこ
とができる。
【0034】以上のように本実施形態のスクラブ洗浄装
置20によれば、ウエハWの中心部に対応する部分にス
ポンジ部41を配設し、ウエハWの周縁部に対応する部
分にブラシ部42を配設しているから、各部材を各々単
独でスクラブ部材とする場合の長所をすべて生かすこと
ができる。そのため、ウエハWの下面周縁部を含む下面
全体、ウエハWの端面および挾持爪10b,11bのパ
ーティクルを確実に除去でき、また面精度を十分に出す
ことができるから、ウエハWの下面を良好にスクラブ洗
浄できる。また、洗浄液の吐出圧によるスクラブ部材4
0の変形もほとんどないから、スクラブ部材40の耐久
性も向上する。
【0035】本発明の実施の一形態の説明は以上のとお
りであるが、本発明は前述の実施形態に限定されるもの
ではない。たとえば前記実施形態では、本発明をウエハ
Wの下面をスクラブ洗浄する装置に適用する場合を例に
とっているが、本発明は、たとえばウエハWの上面をス
クラブ洗浄する装置にも適用できる。図8は、ウエハW
の上面をスクラブ洗浄するための装置の構成を示す側面
図であり、図9は、この装置を簡略化して示す平面図で
ある。この装置は、ウエハWを挾持するためのチャック
機構60と、ウエハWの上面をスクラブ洗浄するための
スクラブ洗浄装置70とを含む。チャック機構60は、
ベース部61と、ベース部61の下部に連結され、回転
可能に設けられた回転体62と、ベース部61の上面の
少なくとも3箇所に配置され、ウエハWを周縁部にて挾
持するチャックピン63とを含む。
【0036】スクラブ洗浄装置70は、図9に示すよう
に、いわゆる自公転式のもので、軸71を中心にして揺
動可能で、かつ上下方向の昇降自在なアーム72と、ア
ーム72の先端の下部に取り付けられ、軸73を中心に
して回転可能な回転ヘッド部74と、ウエハWの上面に
向けて洗浄液を斜めから吐出するノズル75とを含む。
回転ヘッド部74の下面には、スポンジ部76およびブ
ラシ部77を有するスクラブ部材78が設けられてい
る。スポンジ部76およびブラシ部77は、前記実施形
態と同じ形態(図3参照)で配設されている。
【0037】スクラブ洗浄時、チャック機構60の回転
体62が回転させられる。その結果、チャックピン63
に挾持されているウエハWが回転する。また、スクラブ
洗浄装置70の回転ヘッド部74が回転させられ、これ
に伴ってスクラブ部材78も回転する。この状態におい
てスクラブ洗浄装置70のアーム72が揺動される。こ
れにより、回転中のウエハWを中心から周縁部まで繰り
返しスキャンされる。さらに、以上の動作が行われてい
る間、ノズル75から洗浄液がウエハWに向けて吐出さ
れる。これにより、ウエハWの上面のスクラブ洗浄が達
成される。
【0038】スクラブ部材78がウエハWの周縁部まで
スキャンされたとき、スクラブ部材78の周縁部はブラ
シ部77であるから、スポンジ部76とチャックピン6
3との機械的な干渉はほとんどない。一方、ブラシ部7
7のブラシの毛先は、ウエハWの端面およびチャックピ
ン63にまで及ぶ。また、チャック機構60でもウエハ
Wは点接触により挾持されるから、チャックピン63近
傍のウエハWの端面のほとんどにもブラシの毛先が及
ぶ。そのため、ウエハWの上面周縁部を含む上面全体、
ウエハWの端面およびチャックピン63のパーティクル
を確実に除去できる。
【0039】このように、ウエハWの上面をスクラブ洗
浄する場合であっても、前記実施形態と同様に、ウエハ
Wの上面を良好にスクラブ洗浄できるとともに、スクラ
ブ部材76の耐久性も向上する。また、ウエハWの上面
をスクラブ洗浄する装置において、チャックピン63に
てウエハWの周縁部を挾持する代わりに、たとえばウエ
ハWの下面中心部を真空吸着によって保持するようにし
てもよい。この場合、ウエハWを保持する機構とウエハ
Wの端面とが接触することはないから、図10に示すよ
うに、ウエハWの端面全体にブラシの毛先が及ぶ。した
がって、ウエハWの端面を一層良好にスクラブ洗浄でき
る。
【0040】さらに、この場合、スポンジ部76の端部
と回転ヘッド部74の周縁部との間に所定の間隔をあけ
ずに、スポンジ部76の端部を回転ヘッド部74の周縁
部にまで延ばしてもよい。このようにしても、スポンジ
部76の端部と基板保持機構とが機械的に干渉すること
がないからである。この構成によれば、洗浄力の高いス
ポンジ部76がウエハWに当たる面積が増えるから、洗
浄力の向上を図ることができる。
【0041】さらに、前記実施形態では、ヘッド部21
の中心を通る十字状の領域43にスポンジ部41を配設
する場合を例にとっているが、たとえば図11に示すよ
うに、ヘッド部21と同心円の領域80にスポンジ部8
1を配設するようにしてもよい。また、図12に示すよ
うに、ヘッド部21の中心を通る直線状の領域82にス
ポンジ部83を配設するようにしてもよく、図13に示
すように、ヘッド部21の中心に対応する円領域を含む
複数の円領域84にそれぞれスポンジ部85を配設する
ようにしてもよい。さらに、図14に示すように、ヘッ
ド部21の中心を含む渦巻き状の領域86にスポンジ部
87を配設するようにしてもよい。要は、ヘッド部21
の中心部付近にスポンジ部が配設され、ヘッド部21の
周縁部にブラシ部が配設されるようなものであればよ
い。
【0042】なお、図14に示すような構成であれば、
ヘッド部21の回転に伴って洗浄液を周縁部に導くこと
ができるから、パーティクルおよび不要な洗浄液を迅速
に振り切らせることができる。また、前記実施形態で
は、ヘッド部21に対してスポンジ部41が嵌め込まれ
るようにして固定される場合について説明しているが、
スポンジ部41をヘッド部21に対して耐液性のある接
着剤等で直接接着して固定してもよい。
【0043】さらにまた、前記実施形態では、ウエハW
の洗浄が行われる場合について説明しているが、本発明
は、液晶表示装置要ガラス基板など他の各種の基板の洗
浄に対して広く適用することができる。その他、特許請
求の範囲に記載された範囲内で種々の設計変更を施すこ
とが可能である。
【0044】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、少なくと
も中央付近にはスポンジ状部材を配設し、少なくとも周
縁部にはブラシ状部材を配設しているから、各部材をそ
れぞれ単独で用いる場合における長所をすべて生かすこ
とができる。そのため、基板を良好に洗浄できるととも
に、スクラブ洗浄手段の寿命を延ばすことができる。ま
た、基板の周縁部を保持するチャック部材が備えられる
場合でも、チャック部材にまでブラシ状部材が及ぶか
ら、チャック部材をも良好に洗浄できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態の基板処理装置であるウエ
ハ洗浄装置の構成を示す側面図である。
【図2】端面支持ハンドの構成を示す図である。
【図3】スクラブ洗浄装置の平面図である。
【図4】スクラブ洗浄装置の断面図である。
【図5】ウエハの円運動について説明するための図であ
る。
【図6】ブラシ部の毛先がウエハを挾持する挾持爪にま
で及ぶことを示す図である。
【図7】ブラシ部の毛先が挾持爪で挾持されている部分
付近のウエハの端面にまで及ぶことを示す図である。
【図8】本発明の他の実施形態の基板処理装置であるウ
エハ洗浄装置の構成を示す側面図である。
【図9】スクラブ洗浄装置の構成を示す平面図である。
【図10】ブラシ部の毛先がウエハの端面にまで及ぶこ
とを示す図である。
【図11】スクラブ部材の配設パターンの他の例を示す
図である。
【図12】同じく、スクラブ部材の配設パターンの他の
例を示す図である。
【図13】同じく、スクラブ部材の配設パターンの他の
例を示す図である。
【図14】同じく、スクラブ部材の配設パターンの他の
例を示す図である。
【符号の説明】 10,11 端面支持ハンド 10b,11b 挾持爪 20 スクラブ洗浄装置 26 回転駆動部 30 ノズル 40 スクラブ部材 41 スポンジ部 42 ブラシ部 60 チャック機構 63 チャックピン 70 スクラブ洗浄装置 73 回転軸 75 ノズル 76 スポンジ部 77 ブラシ部 78 スクラブ部材 81,83,85,87 スポンジ部 O 中心軸 W ウエハ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板を保持するための基板保持手段と、 この基板保持手段に保持された基板に洗浄液を供給する
    ための洗浄液供給手段と、 少なくとも中央付近に設けられたスポンジ状部材と、少
    なくとも周縁部に設けられたブラシ状部材とを有し、前
    記基板保持手段に保持された基板をスクラブ洗浄するた
    めのスクラブ洗浄手段と、 このスクラブ洗浄手段を前記基板保持手段に保持された
    基板に対してほぼ垂直な軸回りに回転させるための回転
    駆動手段とを含むことを特徴とする基板処理装置。
  2. 【請求項2】前記基板保持手段は、基板を周縁部で保持
    するチャック部材を含むものであることを特徴とする請
    求項1記載の基板処理装置。
  3. 【請求項3】前記洗浄液供給手段は、前記スクラブ洗浄
    手段のほぼ回転中心から洗浄液を供給するものであるこ
    とを特徴とする請求項1または請求項2記載の基板処理
    装置。
  4. 【請求項4】基板保持手段に保持された基板に洗浄液を
    供給して基板をスクラブ洗浄する機能を有する基板処理
    装置に用いられ、前記基板に対してほぼ垂直な軸回りに
    回転可能なスクラブ洗浄部材であって、少なくとも中央
    付近に設けられたスポンジ状部材と、少なくとも周縁部
    に設けられたブラシ状部材とを含むことを特徴とするス
    クラブ洗浄部材。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10012150B4 (de) * 1999-03-12 2010-12-23 Disco Corp. Drehwaschvorrichtung für Halbleiterscheiben
KR101022782B1 (ko) 2009-04-30 2011-03-17 세메스 주식회사 글라스 기판 세정 유닛 및 이를 갖는 글라스 기판 세정 시스템
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JP2012182507A (ja) * 2012-06-28 2012-09-20 Tokyo Electron Ltd 基板洗浄装置

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