JP2001009386A

JP2001009386A - 基板洗浄装置

Info

Publication number: JP2001009386A
Application number: JP11181101A
Authority: JP
Inventors: Tadao Okamoto; 伊雄岡本; Hirotaka Tsujikawa; 裕貴辻川
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1999-06-28
Filing date: 1999-06-28
Publication date: 2001-01-16
Anticipated expiration: 2019-06-28
Also published as: JP3668640B2

Abstract

(57)【要約】【課題】基板をスクラブ洗浄する基板洗浄装置におい
て、基板の周縁部の端面を良好に洗浄できる基板洗浄装
置を提供する。【解決手段】端面支持ハンド１００，１０１に保持され
て回転されるウエハＷは、図示しない回転駆動源によっ
て回転するスクラブユニット１０６，１１０のスクラブ
部材１０５，１０９によってスクラブ洗浄されている。
そして、このスクラブ部材１０５，１０９の接触面Ｓ
１，Ｓ２の一部には、ウエハＷの端面に接触可能な段差
部Ｄ１，Ｄ２が形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、液
晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ（プラズマ・ディスプ
レイ・パネル）基板、あるいは、磁気ディスク用のガラ
ス基板やセラミック基板などのような各種の基板に洗浄
処理を施すための装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置の製造工程には、半導体ウエ
ハ（以下、単に「ウエハ」という。）の表面に成膜やエ
ッチングなどの処理を繰り返し施して微細パターンを形
成していく工程が含まれる。微細加工のためにはウエハ
自体の表面およびウエハ表面に形成された薄膜の表面を
清浄に保つ必要があるから、必要に応じてウエハの洗浄
処理が行われる。たとえば、ウエハの表面上に形成され
た薄膜を研磨剤を用いて研磨処理（以下、ＣＭＰ処理と
いう）した後には、研磨剤（スラリー）がウエハ表面に
残留しているから、このスラリーを除去する必要があ
る。

【０００３】上述のようなウエハの洗浄を行うための従
来の基板洗浄装置は、主に、ウエハを保持しつつ回転す
るスピンチャックと、このスピンチャックで保持されて
回転されるウエハの表面に接触する接触面を有するスポ
ンジ状のスクラブ部材と、このスクラブ部材によって洗
浄されているウエハに洗浄液を供給する洗浄液ノズル
と、から構成される。

【０００４】なお、このスクラブ部材の接触面は、ウエ
ハの表面に平行な平面状に形成されていた。また、この
スクラブ部材の接触面は、ウエハＷの回転軸とウエハの
周縁部とを覆うように配置されている。したがって、こ
の状態でウエハＷを回転させると、接触面はウエハのほ
ぼ全面に接触することとなるから、ウエハのほぼ全面を
スクラブ洗浄できることになる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の基板洗浄装置では、スクラブ部材の接触面がウ
エハの周縁部を覆っているにもかかわらず、接触面がウ
エハの表面に平行な平面状に形成されているため、ウエ
ハの周縁部の端面の洗浄が不十分となってしまうという
問題があった。

【０００６】詳細に説明すると、スクラブ部材の接触面
がウエハの周縁部を覆っている状態で、スクラブ部材が
所定の押し込み量によってウエハの表面に押し付けられ
ると、スクラブ部材の接触面がウエハの周縁部の端面に
接触するように回り込んだ状態となる。しかしながら、
もともと平面状であった接触面がウエハの周縁部の端面
に回り込んだとしても、ウエハの周縁部の端面への接触
面の接触圧力が十分ではなく（接触圧力が低く）、ま
た、その回り込み量も小さい。これらのため、ウエハの
周縁部の端面の洗浄が不十分となると考えられる。

【０００７】したがって、この端面にゴミやスラリーな
どの不要物が残ってしまい、これらの物質がパーティク
ルとなって、半導体装置の製造工程において歩留りの低
下につながり、大きな問題となっていた。

【０００８】そこで、本発明の目的は、上述の技術的課
題を解決し、基板の周縁部の端面を良好に洗浄できる基
板洗浄装置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上述の技術的課題を解決
するための、請求項１に係る発明は、基板が所定の回転
軸を中心として回転するように基板を保持する基板保持
手段と、この基板保持手段に保持された基板に接触する
複数の接触部分を有し、上記基板の回転軸とほぼ平行な
回転軸を中心に回転されるスポンジ状のスクラブ部材
と、を備え、上記複数の接触部分のうちの少なくとも１
つの接触部分には、上記基板の周縁部の端面に接触可能
な段差部が形成されていることを特徴とする基板洗浄装
置である。

【００１０】請求項２に係る発明は、請求項１に記載の
基板洗浄装置において、上記段差部は、上記基板保持手
段に保持された基板の表面に対して傾斜していることを
特徴とする基板洗浄装置である。

【００１１】請求項３に係る発明は、請求項１または２
に記載の基板洗浄装置において、上記スクラブ部材は、
基板の両面を洗浄するために基板の両面それぞれに対向
して一対設けられていることを特徴とする基板洗浄装置
である。

【００１２】ここで、請求項１に係る発明の基板洗浄装
置によると、基板に保持されて回転する基板の周縁部の
端面に、回転しているスクラブ部材の接触部分に形成さ
れた段差部が接触して押し付けられ、基板の周縁部の端
面がスクラブ洗浄される。

【００１３】この際、基板の周縁部の端面に対して段差
部が十分に回り込む状態となるので、この接触部分の段
差部による端面への接触圧力は、従来に比べてより大き
いものとなる。このため、基板の周縁部の端面に付着し
ていた不要物が良好に除去される。さらには、基板の回
転軸とスクラブ部材の回転軸がほぼ平行で、かつ段差部
が基板の周縁部の端面に接触可能な状態（たとえば、ス
クラブ部材の回転による段差部の軌跡が基板の外周円と
交差する状態）で、スクラブ部材が回転するので、基板
の周縁部の端面において、段差部は基板の内部から外部
へ移動したり、基板の外部から内部へと移動したりす
る。このため、基板の周縁部の端面に付着した不要物を
基板外部へ掃き出すことができるとともに、基板の周縁
部の端面の不要物を効率的に掻き取ることができる。す
なわち、基板の周縁部の端面の不要物を、異なる方向で
スクラブすることができるので、基板の周縁部の端面の
不要物がさらに良好に除去される。

【００１４】また、スクラブ部材は複数の接触部分を有
している、すなわち、接触部分が、全体に広がった一面
ではなく、島状に分布した状態となっているため、接触
部分以外の部分には当然の事ながら凹部が形成される。
よって、この凹部を通って洗浄液を流通させることがで
きるので、基板の表面に残留する不要物をその外部へ流
出させることができる。また、島状に分布した複数の接
触部分とそれ以外の凹部との境界に側壁部が形成され、
この側壁部も基板の周縁部の端面を掻き取ることになる
ので、基板の周縁部の端面をさらに良好に洗浄すること
ができる。

【００１５】なおここで、「接触部分」とは、スクラブ
部材が基板に押し付けられた際に、実際に基板に接触す
るスクラブ部材の面または稜線のことである。また、
「複数の接触部分」とは、複数のスクラブ部材にそれぞ
れ形成された接触部分であってもよいし、１つのスクラ
ブ部材に形成された複数の接触部分であってもよい。さ
らに、「段差部」とは、所定の接触部分において、特定
の部分から１段高く形成された部分に至るまでの面もし
くは稜線（傾斜した面または垂直面、もしくは、傾斜し
た稜線または垂直な稜線を含む）のことである。またこ
の段差部は、複数の接触部分のうちの少なくとも１つの
接触部分に設けられていればよく、たとえば、複数の接
触部分のうちの１つの接触部分にのみ設けられてもよい
し、これら複数の接触部分すべてに形成されていてもよ
い。

【００１６】請求項２に係る発明の基板洗浄装置による
と、段差部は、基板保持手段に保持された基板の表面に
対して傾斜している。具体的には、段差部は、基板の表
面に対して傾斜した面（以下、傾斜面という）または傾
斜した稜線（以下、傾斜稜線という）である。よって、
段差部が基板の周縁部の端面に接触しつつスクラブ部材
が回転している際において、段差部はそのスクラブ部材
の回転を妨げず、また逆に、段差部は基板の周縁部から
のダメージを受けにくい。このため、段差部による基板
の周縁部の端面のスクラブ洗浄を円滑に行うことがで
き、また、スクラブ部材の寿命を延ばすことができる。

【００１７】なお、ここで上述の「傾斜面」とは、たと
えば、基板の表面に対して傾斜した平面あるいは曲面で
ある。また、「傾斜稜線」とは、たとえば、基板の表面
に対して傾斜した直線状の稜線あるいは曲線状の稜線で
ある。すなわち、段差部のうち、基板の表面に垂直な垂
直面または垂直な稜線を除いたものを指している。

【００１８】請求項３に係る発明の基板洗浄装置による
と、基板の両面に一対のスクラブ部材が配置されて、基
板の両面ともにスクラブ部材の接触部分が押し付けられ
るとともに、基板の周縁部の端面の大部分に段差部が接
触することとなる。このため、基板の周縁部の端面のほ
ぼすべての部分の洗浄を良好に行うことができる。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下に、上述の技術的課題を解決
するための本発明の一実施形態に係る基板洗浄装置を、
添付図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明の一
実施形態に係る基板洗浄装置の主要部の構成を示す平面
図であり、図２はこの基板洗浄装置の主要部の構成を示
す側面図である。また、図３はこの基板洗浄装置のスク
ラブユニットの構成を示す平面図である。なお、この基
板洗浄装置は、ＣＭＰ処理後のウエハの両面をスクラブ
洗浄する装置であり、この基板洗浄装置への基板の搬送
は、図示しない基板搬送ロボット等によって適宜行われ
ている。

【００２０】この基板洗浄装置においては、図１および
図２に示すように、ウエハＷの端面が一対の端面支持ハ
ンド１００，１０１にそれぞれ３つずつ設けられたロー
ラピン１０２，１０３によって挟持されることにより、
ウエハＷの支持が達成されている。なお、図示しない回
転駆動機構により、これら６つのローラピン１０２，１
０３を図１矢印方向に回転させることで、ウエハ回転軸
ＯＷを回転中心として、ウエハＷを図１矢印方向に回転
させることができるようになっている。ここでウエハ回
転軸ＯＷとは、ウエハＷの中心を通りウエハＷに垂直な
軸線のことを指す。

【００２１】また、図２に示すように、円板状のベース
部１０４とその下面に固設されたスクラブ部材１０５と
からなるスクラブユニット１０６、および円板状のベー
ス部１０８とその上面に固設されたスクラブ部材１０９
とからなるスクラブユニット１０９は、図示しない回転
駆動機構によってスクラブ部材回転軸ＯＳを中心に図２
矢印方向に回転されるようになっている。さらに、これ
らのスクラブユニット１０５，１０９は、図示しない昇
降機構によってそれぞれウエハＷの両面（上面および下
面）に接近させられて、所定の押し込み量（たとえば、
０．５〜２．０ｍｍ程度）だけ押し付けられるようにな
っている。なお、スクラブ部材１０５，１０９の材質と
しては、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）が用いられて
いる。

【００２２】さらに、ベース部１０４，１０８のほぼ中
心に配置されたノズル１０７，１１１からは洗浄液が吐
出されるようになっている。なお、この洗浄液として
は、純水や、フッ酸、水酸化アンモニウム、水酸化ナト
リウム、クエン酸、シュウ酸、またはＴＭＡＨ（ Tetra
Methyl Ammonium Hydroxide）などが用いられる。

【００２３】ここで、スクラブ部材の形状の説明のた
め、図３に上面側のスクラブユニット１０６の底面図、
および下面側のスクラブユニット１１０の平面図を示
す。なお、上面側のスクラブユニット１０６の底面図と
下面側のスクラブユニット１１０の平面図とは、同様で
あるので、スクラブユニット１０６および１１０の部分
の符号を併記する形としている。（なお、後に示す図
４、図６、図７、図８、図９、図１０、図１１、および
図１２においても、同様にスクラブユニット１０６およ
び１１０の部分の符号を併記する。）

【００２４】この図３からわかるように、スクラブ部材
１０５，１０９は、ベース部１０４の下面、およびベー
ス部１０８の上面それぞれに、島状に４つ設けられてい
る。また、スクラブ部材１０５、１０９それぞれの接触
面Ｓ１，Ｓ２には段差部Ｄ１，Ｄ２が設けられている。
ここで、スクラブ部材１０５，１０９の斜視図を図４に
も示すように、この段差部Ｄ１，Ｄ２は、平坦部Ｈ１，
Ｈ２から、これよりも１段高くなった平坦部Ｈ３，Ｈ４
に至る部分に、平面状の斜面で形成されており、ウエハ
Ｗの表面に対して傾斜している。

【００２５】なお、平坦部Ｈ１，Ｈ２と平坦部Ｈ３，Ｈ
４との高さの差は、当然のことながら、上記所定の押し
込み量よりも小さく設定されている。したがって、ウエ
ハＷの上面にスクラブ部材１０５，１０９が所定の押し
込み量をもって押し付けられた場合、この接触面Ｓ１，
Ｓ２全体がウエハＷの上面に接触可能となる。

【００２６】以上のような構成により、ウエハＷの上面
がスクラブユニット１０６によってスクラブ洗浄される
と同時に、ウエハＷの下面がスクラブユニット１１０に
よってスクラブ洗浄される。すなわち、図３に示す状態
から、まずスクラブユニット１０６，１０９が図示しな
い回転駆動機構によってスクラブ部材回転軸ＯＳを中心
に回転され、かつ、ベース部１０４，１０８のほぼ中心
に配置されたノズル１０７，１１１から洗浄液が吐出さ
れる。次に、図示しない昇降機構によって、スクラブユ
ニット１０６がウエハＷの上面に向かって下降させられ
るとともに、スクラブユニット１０９がウエハＷの下面
に向かって上昇させられる。そして、スクラブ部材１０
５の下面（接触面Ｓ１）がウエハＷの上面に接触して所
定の押し込み量だけ押し付けられるとともに、スクラブ
部材１０９の上面（接触面Ｓ２）がウエハＷの下面に接
触して所定の押し込み量だけ押し付けられ、ウエハＷの
両面（上面および下面）がスクラブ洗浄される。

【００２７】なお、スクラブ部材回転軸ＯＳとウエハ回
転軸ＯＷとはほぼ平行になっており、接触面Ｓ１，Ｓ２
の平坦部Ｈ１〜Ｈ４とウエハＷの表面とは互いに平行な
関係となっている。そして、段差部Ｄ１，Ｄ２はウエハ
Ｗの表面に対して傾斜している。

【００２８】なお、図１の二点鎖線領域Ｓ１０，Ｓ２０
は、スクラブ部材１０５，１０９が回転するときの接触
面Ｓ１，Ｓ２の通過領域であるスクラブ領域を示してい
るが、このスクラブ領域Ｓ１０，Ｓ２０がウエハ回転軸
ＯＷとウエハＷの周縁部とを含むように、スクラブ領域
Ｓ１０，Ｓ２０の大きさ（半径）と、スクラブ部材回転
軸ＯＳとウエハ回転軸ＯＷとの位置関係と、が定められ
ている。したがって、ウエハＷを回転させつつスクラブ
ユニット１０６，１１０を回転させることで、接触面Ｓ
１，Ｓ２は、ウエハＷのほぼ全面に接触することとなる
から、ウエハＷのほぼ全面をスクラブ洗浄できる。

【００２９】また、図１のドーナツ状の領域Ｄ１０，Ｄ
２０は、スクラブ部材１０５，１０９が回転したときに
段差部Ｄ１，Ｄ２が通過する軌跡を示しているが、この
軌跡Ｄ１０，Ｄ２０がウエハＷの外周円と交差するよう
に、スクラブ部材回転軸ＯＳと軌跡Ｄ１０，Ｄ２０との
位置関係、およびスクラブ部材回転軸ＯＳとウエハ回転
軸ＯＷとの位置関係と、が定められている。したがっ
て、ウエハＷを回転させつつスクラブユニット１０６，
１１０を回転させることで、段差部Ｓ１，Ｓ２は、軌跡
Ｄ１０，Ｄ２０とウエハＷの外周円との交差部分Ｋ１，
Ｋ２において、ウエハＷの周縁部の端面Ｒに接触するこ
とが可能となるから、段差部Ｓ１，Ｓ２によってウエハ
Ｗの周縁部の端面Ｒをスクラブ洗浄することが可能とな
る。

【００３０】ここで、スクラブ部材１０５，１０９の段
差部Ｄ１，Ｄ２と、ウエハＷの周縁部の端面Ｒとの関係
を図５に示す。なお、この図５は、図１におけるウエハ
Ｗの周縁部の最下部付近を、図１において右方側面から
見たときの拡大断面図であり、段差部Ｄ１，Ｄ２が、ち
ょうどウエハＷの周縁部を超えた位置（ウエハＷの外
部）に位置している状態の図である。

【００３１】この図５の状態において、段差部Ｄ１，Ｄ
２がウエハＷの外部に位置する状態から、スクラブ部材
１０５，１０９が回転させられると、段差部Ｄ１，Ｄ２
は紙面右方向から順にウエハＷの端面Ｒに接触し押し付
けられていく。この際、段差部Ｄ１，Ｄ２はウエハＷの
表面に対して傾斜した斜面であるので、ウエハＷの端面
Ｒへの接触が円滑に行われる。また、ウエハＷの端面に
対して段差部Ｄ１，Ｄ２が斜め方向に回り込んで接触さ
せられるので、ウエハＷの端面Ｒに対する接触圧力が高
くなって、ウエハＷの周縁部の端面に付着していた不要
なゴミやスラリー等の不要物が良好に除去される。

【００３２】なおここで、この基板洗浄装置において
は、図５に示したように、ウエハＷを一対の接触面Ｓ
１，Ｓ２で挟みこんだ状態で、ウエハＷの両面をスクラ
ブ洗浄するようになっている。このため、ウエハＷの端
面Ｒの大部分に接触面Ｓ１，Ｓ２が接触するので、基板
の周縁部の端面のほぼすべての部分の洗浄を良好に行う
ことができる。

【００３３】また、図５の状態において、段差部Ｄ１，
Ｄ２がウエハＷの周縁部の端面Ｒと接触しつつスクラブ
部材が回転するので、段差部Ｄ１，Ｄ２はウエハＷの内
部から外部へ移動したり、ウエハＷの外部から内部へと
移動したりする。このため、図１に示した交差部分Ｋ１
においてウエハＷの端面Ｒの不要なゴミやスラリーをウ
エハＷ外部へ掃き出すことができるとともに、図１に示
した交差部分Ｋ２においてウエハＷの端面Ｒに付着した
不要なゴミやスラリーを効率的に掻き取ることができ
る。すなわち、ウエハＷの端面Ｒの不要物を、異なる方
向でスクラブすることができるので、ウエハＷの端面Ｒ
の不要物がさらに良好に除去される。

【００３４】なおさらに、スクラブ部材１０５，１０９
が島状に配置されているので、接触面Ｓ１，Ｓ２以外の
部分には凹部が形成され、この凹部を通って洗浄液が流
通することができる。このため、ウエハＷの表面に残留
する不要なゴミやスラリーをその外部へ流出させること
ができる。

【００３５】また、島状のスクラブ部材１０５，１０９
の側面にも、図４に示したようなベース部１０４，１０
８からほぼ垂直に立ちあがる側壁部Ｃが形成されてい
る。この場合、この側壁部ＣがウエハＷの端面Ｒを掻き
取る作用を有するので、ウエハＷの端面Ｒをさらに良好
に洗浄することができる。なお、この段差部Ｄは垂直に
立ちあがっている必要はなく、たとえば、斜面や曲面で
あってもよい。

【００３６】以上、この発明のいくつかの実施形態につ
いて説明したが、この発明は、さらに他の形態で実施す
ることもできる。たとえば、上述した一実施形態におい
ては、スクラブ部材１０５，１０９はそれぞれ４つの島
状の独立した部材で構成されているが、スクラブ部材１
０５，１０９がそれぞれ複数の部材で構成されている必
要はない。たとえば、それぞれ１つのスクラブ部材、た
とえば、それぞれ４つの接触面Ｓ１，Ｓ２を有する１つ
の十字状のスクラブ部材で構成されていてもよい。すな
わち、スクラブ部材の個数や配置がどうであれ、スクラ
ブ部材が複数の接触部分を有するものであればよい。さ
らに、この複数の接触部分の個数や配置についても上述
した実施形態のものに限らない。

【００３７】また、上述した一実施形態においては、図
４に示したように、スクラブ部材１０５，１０９の段差
部Ｄ１，Ｄ２は、ウエハＷの表面に対して傾斜した斜面
とされているが、これに限られるものではない。

【００３８】たとえば、段差部Ｄ１，Ｄ２は、図６に示
すような緩やかな曲面であってもよく、図７に示すよう
なウエハＷの表面に対して垂直な垂直面であってもよ
い。図６の場合は、段差部Ｄ１，Ｄ２によるウエハＷの
端面Ｒのスクラブ洗浄がより円滑に行え、また、図７の
場合は、段差部Ｄ１，Ｄ２の加工が簡単になる。なお、
図４と同様に、図６および図７にも、この段差部Ｄ１，
Ｄ２とは別の側壁部Ｃが形成されている。

【００３９】また、スクラブ部材の断面形状について
も、上述した一実施形態におけるような矩形状のもので
ある必要は無く、スクラブ部材が、図８に示すような山
型状の断面を有するものであってもよく、図９に示すよ
うな半円状の断面を有するものであってもよい。なお、
上述の一実施形態に係る図４の場合においては、ウエハ
Ｗと接触する接触部分（接触面Ｓ１，Ｓ２）は平面であ
るとともに、その一部の段差部Ｄ１，Ｄ２も平面となっ
ている。一方、図８の場合においては、ウエハＷと接触
する接触部分は稜線であるとともに、その一部の段差部
Ｄ１，Ｄ２はウエハＷの表面に対して傾斜した稜線とな
っており、また、図９の場合においては、ウエハＷと接
触する接触部分は曲面であるとともに、その一部の段差
部Ｄ１，Ｄ２はウエハＷの表面に対して傾斜した曲面と
なっている。

【００４０】なお、図４と同様に、図８および図９に
も、この段差部Ｄ１，Ｄ２とは別の側壁部Ｃが形成され
ており、この側壁部Ｃは、図８においては斜面に、図９
においては曲面になっている。このような場合、図４の
ように側壁部Ｃが垂直な場合に比べ、ウエハの端面の掻
き取りを円滑に行うことができるので、スクラブ部材の
寿命を延ばすことができる。

【００４１】さらには、図４、図６、図８、および図９
に示した平坦部Ｈ３，Ｈ４は特に設ける必要はなく、こ
の場合、スクラブ部材１０５，１０９の段差部Ｄ１，Ｄ
２が形成される位置は、スクラブ部材１０５，１０９の
回転中心から最も離れた端部である。たとえば、図４に
対応する変形例として、図１０に示すような形態とする
こともできる。

【００４２】さらに、上述した一実施形態においては、
図４、図６、図７、図８、および図９に示したように、
スクラブ部材１０５，１０９の平坦部Ｈ１，Ｈ２は、平
坦部Ｈ３，Ｈ４よりも低く形成されているが、これらの
平坦部Ｈ１〜Ｈ４の高低関係はこれに限定されるもので
はない。たとえば、平坦部Ｈ１，Ｈ２は、平坦部Ｈ３，
Ｈ４と同じ高さで形成されていてもよい。たとえば、図
４および図７のそれぞれに対応する変形例として、図１
１よび図１２に示すような形態とすることもできる。

【００４３】このような場合、平坦面Ｈ１，Ｈ２および
平坦部Ｈ３，Ｈ４の両方が所定の押し込み量でウエハＷ
の表面に押し付けられている状態では、平坦部Ｈ１，Ｈ
２および平坦部Ｈ３，Ｈ４がほぼ等しい押し付け圧力で
ウエハＷの表面をスクラブ洗浄することができる。一
方、平坦部Ｈ１，Ｈ２のみが所定の押し込み量でウエハ
Ｗの表面に押し付けられ、平坦部Ｈ３，Ｈ４がウエハＷ
の外部に位置しているときには、スクラブ部材１０５，
１０９の平坦部Ｈ１，Ｈ２は、平坦部Ｈ３，Ｈ４よりも
低い状態となっている。したがって、この状態におい
て、段差部Ｄ１，Ｄ２はウエハＷの端面Ｒに押し付けら
れ、ウエハＷの端面Ｒをスクラブ洗浄することができ
る。

【００４４】なおもちろん、以上の図４、図６、図７、
図８、図９、図１０、図１１および図１２に示したスク
ラブ部材の形状を任意に組合せて、スクラブ部材を形成
してもよく、スクラブ部材１０５，１０９に段差部Ｄ
１，Ｄ２が形成されるものであれば何でもよい。また、
スクラブ部材１０５，１０９の段差部Ｄ１，Ｄ２が形成
される位置は、ウエハＷの端面Ｒに接触可能な範囲内で
あれば任意である。

【００４５】また、上述した一実施形態においては、ウ
エハＷの両面をスクラブするスクラブ部材１０５，１０
９の材質として、ＰＶＡを用いているが、スポンジ状
（多孔質状）の部材であれば何でもよい。たとえば、ス
クラブ部材１０５，１０９は、ポリウレタンからなるス
ポンジ状の部材であってもよい。

【００４６】また、上述した一実施形態においては、ウ
エハＷの端面を保持するローラピン１０２，１０３によ
って、ウエハＷを回転させているが、ウエハＷの裏面を
吸着して保持しつつ自転する基板保持手段（いわゆるス
ピンチャック）等によって、ウエハＷを回転させるよう
にしてもよい。なお、この場合、スピンチャック等の基
板保持手段の回転軸（自転軸）は、ウエハＷの回転軸と
一致する。

【００４７】さらに、上述した一実施形態においては、
端面支持ハンド１００，１０１に保持されているウエハ
Ｗとスクラブユニット１０６，１１０との相対位置は固
定されているが、これらの相対位置が変化するようなも
のであってもよく、たとえば、スクラブユニット１０
６，１１０がウエハＷに対して相対的に揺動するような
場合であってもよい。この場合であっても、その揺動途
中において一時的に、スクラブ部材１０５，１０９の段
差部Ｄ１，Ｄ２がウエハＷの周縁部の端面Ｒと接触する
ようにすれば、ウエハＷの周縁部の端面Ｒを良好に洗浄
することができる。

【００４８】また、上述した一実施形態においては、ウ
エハＷの両面をスクラブ洗浄する場合について説明して
いるが、これに限られるものではなく、本発明は、ウエ
ハＷの一方面をスクラブ洗浄するものに対しても適用す
ることができる。

【００４９】また、上述した一実施形態においては、Ｃ
ＭＰ処理後のウエハＷをスクラブ洗浄する場合について
説明しているが、これに限られるものではなく、本発明
は、広く、ウエハＷをスクラブ洗浄するものに対しても
適用することができる。ただし、ＣＭＰ処理後のウエハ
Ｗの表面には、強固に付着しているスラリー等が多く残
留しているため、特にＣＭＰ処理後のウエハＷの洗浄に
適用するのが効果的である。

【００５０】さらに、上述した一実施形態においては、
半導体ウエハＷを洗浄する場合について説明している
が、本発明は、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ（プ
ラズマ・ディスプレイ・パネル）基板、あるいは、磁気
ディスク用のガラス基板やセラミック基板などのような
他の各種の基板の洗浄に対して広く適用することができ
る。

【００５１】その他、特許請求の範囲に記載された事項
の範囲内で種々の設計変更を施すことが可能である。

【００５２】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、請求項１に
係る発明の基板洗浄装置によると、基板表面にダメージ
を与えることなく、基板の周縁部の端面に付着していた
不要物が良好に除去されるという効果を奏する。また、
基板の周縁部の端面の不要物を、異なる方向でスクラブ
することができるので、基板の周縁部の端面の不要物が
さらに良好に除去されるという効果をも奏する。

【００５３】請求項２に係る発明の基板洗浄装置による
と、さらに、基板の周縁部の端面に加えて、基板の中央
部をも良好に洗浄することができるという効果を奏す
る。

【００５４】請求項３に係る発明の基板洗浄装置による
と、段差部による基板の周縁部の端面のスクラブ洗浄を
円滑に行うことができ、また、スクラブ部材の寿命を延
ばすことができるという効果を奏する。

【００５５】請求項４に係る発明の基板洗浄装置による
と、基板の周縁部の端面のほぼすべての部分の洗浄を良
好に行うことができるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る基板洗浄装置の主要
部の構成を示す平面図である。

【図２】本発明の一実施形態に係る基板洗浄装置の主要
部の構成を示す側面図である。

【図３】本発明の一実施形態に係る基板洗浄装置のスク
ラブユニットの構成を示す平面図である。

【図４】本発明の一実施形態に係るスクラブ部材の斜視
図である。

【図５】スクラブ部材とウエハの周縁部の端面との関係
を示す拡大断面図である。

【図６】本発明の他の実施形態に係るスクラブ部材の斜
視図である。

【図７】本発明の他の実施形態に係るスクラブ部材の斜
視図である。

【図８】本発明の他の実施形態に係るスクラブ部材の斜
視図である。

【図９】本発明の他の実施形態に係るスクラブ部材の斜
視図である。

【図１０】本発明の他の実施形態に係るスクラブ部材の
斜視図である。

【図１１】本発明の他の実施形態に係るスクラブ部材の
斜視図である。

【図１２】本発明の他の実施形態に係るスクラブ部材の
斜視図である。

【符号の説明】

１００，１０１端面支持ハンド（基板保持手段）１０２，１０３ローラピン１０４，１０８ベース部１０５，１０９スクラブ部材１０６，１１０スクラブユニット１０７，１１１ノズルＣ側壁部Ｄ１，Ｄ２段差Ｄ１０，Ｄ２０軌跡Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３，Ｈ４平坦部Ｋ１，Ｋ２交差部分ＯＳスクラブ部材回転軸（スクラブ部材の回転軸）ＯＷウエハ回転軸（基板の回転軸）Ｒ端面Ｓ１，Ｓ２接触面（接触部分）Ｓ１０，Ｓ２０スクラブ領域Ｗウエハ（基板）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板が所定の回転軸を中心として回転す
るように基板を保持する基板保持手段と、この基板保持手段に保持された基板に接触する複数の接
触部分を有し、上記基板の回転軸とほぼ平行な回転軸を
中心に回転されるスポンジ状のスクラブ部材と、を備
え、上記複数の接触部分のうちの少なくとも１つの接触部分
には、上記基板の周縁部の端面に接触可能な段差部が形
成されていることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】上記段差部は、上記基板保持手段に保持
された基板の表面に対して傾斜していることを特徴とす
る請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】上記スクラブ部材は、基板の両面を洗浄
するために基板の両面それぞれに対向して一対設けられ
ていることを特徴とする請求項１または２に記載の基板
洗浄装置。