JP3668640B2 - 基板洗浄装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、PDP(プラズマ・ディスプレイ・パネル)基板、あるいは、磁気ディスク用のガラス基板やセラミック基板などのような各種の基板に洗浄処理を施すための装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置の製造工程には、半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」という。)の表面に成膜やエッチングなどの処理を繰り返し施して微細パターンを形成していく工程が含まれる。微細加工のためにはウエハ自体の表面およびウエハ表面に形成された薄膜の表面を清浄に保つ必要があるから、必要に応じてウエハの洗浄処理が行われる。たとえば、ウエハの表面上に形成された薄膜を研磨剤を用いて研磨処理(以下、CMP処理という)した後には、研磨剤(スラリー)がウエハ表面に残留しているから、このスラリーを除去する必要がある。
【0003】
上述のようなウエハの洗浄を行うための従来の基板洗浄装置は、主に、ウエハを保持しつつ回転するスピンチャックと、このスピンチャックで保持されて回転されるウエハの表面に接触する接触面を有するスポンジ状のスクラブ部材と、このスクラブ部材によって洗浄されているウエハに洗浄液を供給する洗浄液ノズルと、から構成される。
【0004】
なお、このスクラブ部材の接触面は、ウエハの表面に平行な平面状に形成されていた。また、このスクラブ部材の接触面は、ウエハWの回転軸とウエハの周縁部とを覆うように配置されている。したがって、この状態でウエハWを回転させると、接触面はウエハのほぼ全面に接触することとなるから、ウエハのほぼ全面をスクラブ洗浄できることになる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来の基板洗浄装置では、スクラブ部材の接触面がウエハの周縁部を覆っているにもかかわらず、接触面がウエハの表面に平行な平面状に形成されているため、ウエハの周縁部の端面の洗浄が不十分となってしまうという問題があった。
【0006】
詳細に説明すると、スクラブ部材の接触面がウエハの周縁部を覆っている状態で、スクラブ部材が所定の押し込み量によってウエハの表面に押し付けられると、スクラブ部材の接触面がウエハの周縁部の端面に接触するように回り込んだ状態となる。しかしながら、もともと平面状であった接触面がウエハの周縁部の端面に回り込んだとしても、ウエハの周縁部の端面への接触面の接触圧力が十分ではなく(接触圧力が低く)、また、その回り込み量も小さい。これらのため、ウエハの周縁部の端面の洗浄が不十分となると考えられる。
【0007】
したがって、この端面にゴミやスラリーなどの不要物が残ってしまい、これらの物質がパーティクルとなって、半導体装置の製造工程において歩留りの低下につながり、大きな問題となっていた。
【0008】
そこで、本発明の目的は、上述の技術的課題を解決し、基板の周縁部の端面を良好に洗浄できる基板洗浄装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上述の技術的課題を解決するための、請求項1に係る発明は、基板が所定の回転軸を中心として回転するように基板を保持する基板保持手段と、この基板保持手段に保持された基板に接触する複数の接触部分を有し、上記基板の回転軸とほぼ平行な回転軸を中心に回転されるスポンジ状のスクラブ部材と、を備え、上記複数の接触部分のうちの少なくとも1つの接触部分は、上記スクラブ部材の回転中心から離れた端部に高所が設けられているとともに、この高所よりも回転中心寄りの領域は当該高所よりも高いところのない低所とされており、上記高所は上記低所よりも1段高く形成され、上記低所から上記高所に至る部分に上記基板の周縁部の端面に接触可能な段差部が形成されていることを特徴とする基板洗浄装置である。
【0010】
請求項2に係る発明は、請求項1に記載の基板洗浄装置において、上記段差部は、上記基板保持手段に保持された基板の表面に対して傾斜していることを特徴とする基板洗浄装置である。
【0011】
請求項3に係る発明は、請求項1または2に記載の基板洗浄装置において、上記スクラブ部材は、基板の両面を洗浄するために基板の両面それぞれに対向して一対設けられていることを特徴とする基板洗浄装置である。
請求項4に係る発明は、請求項1ないし3のいずれかに記載の基板洗浄装置において、上記接触部分は、稜線であることを特徴とする基板洗浄装置である。
請求項5に係る発明は、請求項1ないし3のいずれかに記載の基板洗浄装置において、上記接触部分は、曲面であることを特徴とする基板洗浄装置である。
【0012】
ここで、請求項1に係る発明の基板洗浄装置によると、基板に保持されて回転する基板の周縁部の端面に、回転しているスクラブ部材の接触部分に形成された段差部が接触して押し付けられ、基板の周縁部の端面がスクラブ洗浄される。
【0013】
この際、基板の周縁部の端面に対して段差部が十分に回り込む状態となるので、この接触部分の段差部による端面への接触圧力は、従来に比べてより大きいものとなる。このため、基板の周縁部の端面に付着していた不要物が良好に除去される。さらには、基板の回転軸とスクラブ部材の回転軸がほぼ平行で、かつ段差部が基板の周縁部の端面に接触可能な状態(たとえば、スクラブ部材の回転による段差部の軌跡が基板の外周円と交差する状態)で、スクラブ部材が回転するので、基板の周縁部の端面において、段差部は基板の内部から外部へ移動したり、基板の外部から内部へと移動したりする。このため、基板の周縁部の端面に付着した不要物を基板外部へ掃き出すことができるとともに、基板の周縁部の端面の不要物を効率的に掻き取ることができる。すなわち、基板の周縁部の端面の不要物を、異なる方向でスクラブすることができるので、基板の周縁部の端面の不要物がさらに良好に除去される。
【0014】
また、スクラブ部材は複数の接触部分を有している、すなわち、接触部分が、全体に広がった一面ではなく、島状に分布した状態となっているため、接触部分以外の部分には当然の事ながら凹部が形成される。よって、この凹部を通って洗浄液を流通させることができるので、基板の表面に残留する不要物をその外部へ流出させることができる。また、島状に分布した複数の接触部分とそれ以外の凹部との境界に側壁部が形成され、この側壁部も基板の周縁部の端面を掻き取ることになるので、基板の周縁部の端面をさらに良好に洗浄することができる。
【0015】
なおここで、「接触部分」とは、スクラブ部材が基板に押し付けられた際に、実際に基板に接触するスクラブ部材の面または稜線のことである。また、「複数の接触部分」とは、複数のスクラブ部材にそれぞれ形成された接触部分であってもよいし、1つのスクラブ部材に形成された複数の接触部分であってもよい。さらに、「段差部」とは、所定の接触部分において、低所から1段高く形成された高所に至るまでの面もしくは稜線(傾斜した面または垂直面、もしくは、傾斜した稜線または垂直な稜線を含む)のことである。またこの段差部は、複数の接触部分のうちの少なくとも1つの接触部分に設けられていればよく、たとえば、複数の接触部分のうちの1つの接触部分にのみ設けられてもよいし、これら複数の接触部分すべてに形成されていてもよい。
【0016】
請求項2に係る発明の基板洗浄装置によると、段差部は、基板保持手段に保持された基板の表面に対して傾斜している。具体的には、段差部は、基板の表面に対して傾斜した面(以下、傾斜面という)または傾斜した稜線(以下、傾斜稜線という)である。よって、段差部が基板の周縁部の端面に接触しつつスクラブ部材が回転している際において、段差部はそのスクラブ部材の回転を妨げず、また逆に、段差部は基板の周縁部からのダメージを受けにくい。このため、段差部による基板の周縁部の端面のスクラブ洗浄を円滑に行うことができ、また、スクラブ部材の寿命を延ばすことができる。
【0017】
なお、ここで上述の「傾斜面」とは、たとえば、基板の表面に対して傾斜した平面あるいは曲面である。また、「傾斜稜線」とは、たとえば、基板の表面に対して傾斜した直線状の稜線あるいは曲線状の稜線である。すなわち、段差部のうち、基板の表面に垂直な垂直面または垂直な稜線を除いたものを指している。
【0018】
請求項3に係る発明の基板洗浄装置によると、基板の両面に一対のスクラブ部材が配置されて、基板の両面ともにスクラブ部材の接触部分が押し付けられるとともに、基板の周縁部の端面の大部分に段差部が接触することとなる。このため、基板の周縁部の端面のほぼすべての部分の洗浄を良好に行うことができる。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下に、上述の技術的課題を解決するための本発明の一実施形態に係る基板洗浄装置を、添付図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明の一実施形態に係る基板洗浄装置の主要部の構成を示す平面図であり、図2はこの基板洗浄装置の主要部の構成を示す側面図である。また、図3はこの基板洗浄装置のスクラブユニットの構成を示す平面図である。なお、この基板洗浄装置は、CMP処理後のウエハの両面をスクラブ洗浄する装置であり、この基板洗浄装置への基板の搬送は、図示しない基板搬送ロボット等によって適宜行われている。
【0020】
この基板洗浄装置においては、図1および図2に示すように、ウエハWの端面が一対の端面支持ハンド100,101にそれぞれ3つずつ設けられたローラピン102,103によって挟持されることにより、ウエハWの支持が達成されている。なお、図示しない回転駆動機構により、これら6つのローラピン102,103を図1矢印方向に回転させることで、ウエハ回転軸OWを回転中心として、ウエハWを図1矢印方向に回転させることができるようになっている。ここでウエハ回転軸OWとは、ウエハWの中心を通りウエハWに垂直な軸線のことを指す。
【0021】
また、図2に示すように、円板状のベース部104とその下面に固設されたスクラブ部材105とからなるスクラブユニット106、および円板状のベース部108とその上面に固設されたスクラブ部材109とからなるスクラブユニット109は、図示しない回転駆動機構によってスクラブ部材回転軸OSを中心に図2矢印方向に回転されるようになっている。さらに、これらのスクラブユニット106,110は、図示しない昇降機構によってそれぞれウエハWの両面(上面および下面)に接近させられて、所定の押し込み量(たとえば、0.5〜2.0mm程度)だけ押し付けられるようになっている。なお、スクラブ部材105,109の材質としては、PVA(ポリビニルアルコール)が用いられている。
【0022】
さらに、ベース部104,108のほぼ中心に配置されたノズル107,111からは洗浄液が吐出されるようになっている。なお、この洗浄液としては、純水や、フッ酸、水酸化アンモニウム、水酸化ナトリウム、クエン酸、シュウ酸、またはTMAH( Tetra Methyl Ammonium Hydroxide)などが用いられる。
【0023】
ここで、スクラブ部材の形状の説明のため、図3に上面側のスクラブユニット106の底面図、および下面側のスクラブユニット110の平面図を示す。なお、上面側のスクラブユニット106の底面図と下面側のスクラブユニット110の平面図とは、同様であるので、スクラブユニット106および110の部分の符号を併記する形としている。(なお、後に示す図4、図6、図7、図8、図9、図10、図11、および図12においても、同様にスクラブユニット106および110の部分の符号を併記する。)
【0024】
この図3からわかるように、スクラブ部材105,109は、ベース部104の下面、およびベース部108の上面それぞれに、島状に4つ設けられている。また、スクラブ部材105、109それぞれの接触面S1,S2には段差部D1,D2が設けられている。ここで、スクラブ部材105,109の斜視図を図4にも示すように、この段差部D1,D2は、低所としての平坦部H1,H2から、これよりも1段高くなった高所としての平坦部H3,H4に至る部分に、平面状の斜面で形成されており、ウエハWの表面に対して傾斜している。平坦部H3,H4は、スクラブ部材105,109の回転中心から離れた端部に設けられており、平坦部H1,H2は、スクラブ部材105,109の回転中心寄りの領域を形成していて、平坦部H3,H4よりも高いところのない低所となっている。
【0025】
なお、平坦部H1,H2と平坦部H3,H4との高さの差は、当然のことながら、上記所定の押し込み量よりも小さく設定されている。したがって、ウエハWの上面にスクラブ部材105,109が所定の押し込み量をもって押し付けられた場合、この接触面S1,S2全体がウエハWの上面に接触可能となる。
【0026】
以上のような構成により、ウエハWの上面がスクラブユニット106によってスクラブ洗浄されると同時に、ウエハWの下面がスクラブユニット110によってスクラブ洗浄される。すなわち、図3に示す状態から、まずスクラブユニット106,109が図示しない回転駆動機構によってスクラブ部材回転軸OSを中心に回転され、かつ、ベース部104,108のほぼ中心に配置されたノズル107,111から洗浄液が吐出される。次に、図示しない昇降機構によって、スクラブユニット106がウエハWの上面に向かって下降させられるとともに、スクラブユニット109がウエハWの下面に向かって上昇させられる。そして、スクラブ部材105の下面(接触面S1)がウエハWの上面に接触して所定の押し込み量だけ押し付けられるとともに、スクラブ部材109の上面(接触面S2)がウエハWの下面に接触して所定の押し込み量だけ押し付けられ、ウエハWの両面(上面および下面)がスクラブ洗浄される。
【0027】
なお、スクラブ部材回転軸OSとウエハ回転軸OWとはほぼ平行になっており、接触面S1,S2の平坦部H1〜H4とウエハWの表面とは互いに平行な関係となっている。そして、段差部D1,D2はウエハWの表面に対して傾斜している。
【0028】
なお、図1の二点鎖線領域S10,S20は、スクラブ部材105,109が回転するときの接触面S1,S2の通過領域であるスクラブ領域を示しているが、このスクラブ領域S10,S20がウエハ回転軸OWとウエハWの周縁部とを含むように、スクラブ領域S10,S20の大きさ(半径)と、スクラブ部材回転軸OSとウエハ回転軸OWとの位置関係と、が定められている。したがって、ウエハWを回転させつつスクラブユニット106,110を回転させることで、接触面S1,S2は、ウエハWのほぼ全面に接触することとなるから、ウエハWのほぼ全面をスクラブ洗浄できる。
【0029】
また、図1のドーナツ状の領域D10,D20は、スクラブ部材105,109が回転したときに段差部D1,D2が通過する軌跡を示しているが、この軌跡D10,D20がウエハWの外周円と交差するように、スクラブ部材回転軸OSと軌跡D10,D20との位置関係、およびスクラブ部材回転軸OSとウエハ回転軸OWとの位置関係と、が定められている。したがって、ウエハWを回転させつつスクラブユニット106,110を回転させることで、段差部S1,S2は、軌跡D10,D20とウエハWの外周円との交差部分K1,K2において、ウエハWの周縁部の端面Rに接触することが可能となるから、段差部S1,S2によってウエハWの周縁部の端面Rをスクラブ洗浄することが可能となる。
【0030】
ここで、スクラブ部材105,109の段差部D1,D2と、ウエハWの周縁部の端面Rとの関係を図5に示す。なお、この図5は、図1におけるウエハWの周縁部の最下部付近を、図1において右方側面から見たときの拡大断面図であり、段差部D1,D2が、ちょうどウエハWの周縁部を超えた位置(ウエハWの外部)に位置している状態の図である。
【0031】
この図5の状態において、段差部D1,D2がウエハWの外部に位置する状態から、スクラブ部材105,109が回転させられると、段差部D1,D2は紙面右方向から順にウエハWの端面Rに接触し押し付けられていく。この際、段差部D1,D2はウエハWの表面に対して傾斜した斜面であるので、ウエハWの端面Rへの接触が円滑に行われる。また、ウエハWの端面に対して段差部D1,D2が斜め方向に回り込んで接触させられるので、ウエハWの端面Rに対する接触圧力が高くなって、ウエハWの周縁部の端面に付着していた不要なゴミやスラリー等の不要物が良好に除去される。
【0032】
なおここで、この基板洗浄装置においては、図5に示したように、ウエハWを一対の接触面S1,S2で挟みこんだ状態で、ウエハWの両面をスクラブ洗浄するようになっている。このため、ウエハWの端面Rの大部分に接触面S1,S2が接触するので、基板の周縁部の端面のほぼすべての部分の洗浄を良好に行うことができる。
【0033】
また、図5の状態において、段差部D1,D2がウエハWの周縁部の端面Rと接触しつつスクラブ部材が回転するので、段差部D1,D2はウエハWの内部から外部へ移動したり、ウエハWの外部から内部へと移動したりする。このため、図1に示した交差部分K1においてウエハWの端面Rの不要なゴミやスラリーをウエハW外部へ掃き出すことができるとともに、図1に示した交差部分K2においてウエハWの端面Rに付着した不要なゴミやスラリーを効率的に掻き取ることができる。すなわち、ウエハWの端面Rの不要物を、異なる方向でスクラブすることができるので、ウエハWの端面Rの不要物がさらに良好に除去される。
【0034】
なおさらに、スクラブ部材105,109が島状に配置されているので、接触面S1,S2以外の部分には凹部が形成され、この凹部を通って洗浄液が流通することができる。このため、ウエハWの表面に残留する不要なゴミやスラリーをその外部へ流出させることができる。
【0035】
また、島状のスクラブ部材105,109の側面にも、図4に示したようなベース部104,108からほぼ垂直に立ちあがる側壁部Cが形成されている。この場合、この側壁部CがウエハWの端面Rを掻き取る作用を有するので、ウエハWの端面Rをさらに良好に洗浄することができる。なお、この段差部Dは垂直に立ちあがっている必要はなく、たとえば、斜面や曲面であってもよい。
【0036】
以上、この発明のいくつかの実施形態について説明したが、この発明は、さらに他の形態で実施することもできる。たとえば、上述した一実施形態においては、スクラブ部材105,109はそれぞれ4つの島状の独立した部材で構成されているが、スクラブ部材105,109がそれぞれ複数の部材で構成されている必要はない。たとえば、それぞれ1つのスクラブ部材、たとえば、それぞれ4つの接触面S1,S2を有する1つの十字状のスクラブ部材で構成されていてもよい。すなわち、スクラブ部材の個数や配置がどうであれ、スクラブ部材が複数の接触部分を有するものであればよい。さらに、この複数の接触部分の個数や配置についても上述した実施形態のものに限らない。
【0037】
また、上述した一実施形態においては、図4に示したように、スクラブ部材105,109の段差部D1,D2は、ウエハWの表面に対して傾斜した斜面とされているが、これに限られるものではない。
【0038】
たとえば、段差部D1,D2は、図6に示すような緩やかな曲面であってもよく、図7に示すようなウエハWの表面に対して垂直な垂直面であってもよい。図6の場合は、段差部D1,D2によるウエハWの端面Rのスクラブ洗浄がより円滑に行え、また、図7の場合は、段差部D1,D2の加工が簡単になる。なお、図4と同様に、図6および図7にも、この段差部D1,D2とは別の側壁部Cが形成されている。
【0039】
また、スクラブ部材の断面形状についても、上述した一実施形態におけるような矩形状のものである必要は無く、スクラブ部材が、図8に示すような山型状の断面を有するものであってもよく、図9に示すような半円状の断面を有するものであってもよい。なお、上述の一実施形態に係る図4の場合においては、ウエハWと接触する接触部分(接触面S1,S2)は平面であるとともに、その一部の段差部D1,D2も平面となっている。一方、図8の場合においては、ウエハWと接触する接触部分は稜線であるとともに、その一部の段差部D1,D2はウエハWの表面に対して傾斜した稜線となっており、また、図9の場合においては、ウエハWと接触する接触部分は曲面であるとともに、その一部の段差部D1,D2はウエハWの表面に対して傾斜した曲面となっている。
【0040】
なお、図4と同様に、図8および図9にも、この段差部D1,D2とは別の側壁部Cが形成されており、この側壁部Cは、図8においては斜面に、図9においては曲面になっている。このような場合、図4のように側壁部Cが垂直な場合に比べ、ウエハの端面の掻き取りを円滑に行うことができるので、スクラブ部材の寿命を延ばすことができる。
【0041】
さらには、図4、図6、図8、および図9に示した平坦部H3,H4は特に設ける必要はなく、この場合、スクラブ部材105,109の段差部D1,D2が形成される位置は、スクラブ部材105,109の回転中心から最も離れた端部であり、その回転中心から最も離れた端縁が高所となる。たとえば、図4に対応する変形例として、図10に示すような形態とすることもできる。
【0044】
なおもちろん、以上の図4、図6、図7、図8、図9および図10に示したスクラブ部材の形状を任意に組合せて、スクラブ部材を形成してもよい。
【0045】
また、上述した一実施形態においては、ウエハWの両面をスクラブするスクラブ部材105,109の材質として、PVAを用いているが、スポンジ状(多孔質状)の部材であれば何でもよい。たとえば、スクラブ部材105,109は、ポリウレタンからなるスポンジ状の部材であってもよい。
【0046】
また、上述した一実施形態においては、ウエハWの端面を保持するローラピン102,103によって、ウエハWを回転させているが、ウエハWの裏面を吸着して保持しつつ自転する基板保持手段(いわゆるスピンチャック)等によって、ウエハWを回転させるようにしてもよい。なお、この場合、スピンチャック等の基板保持手段の回転軸(自転軸)は、ウエハWの回転軸と一致する。
【0047】
さらに、上述した一実施形態においては、端面支持ハンド100,101に保持されているウエハWとスクラブユニット106,110との相対位置は固定されているが、これらの相対位置が変化するようなものであってもよく、たとえば、スクラブユニット106,110がウエハWに対して相対的に揺動するような場合であってもよい。この場合であっても、その揺動途中において一時的に、スクラブ部材105,109の段差部D1,D2がウエハWの周縁部の端面Rと接触するようにすれば、ウエハWの周縁部の端面Rを良好に洗浄することができる。
【0048】
また、上述した一実施形態においては、ウエハWの両面をスクラブ洗浄する場合について説明しているが、これに限られるものではなく、本発明は、ウエハWの一方面をスクラブ洗浄するものに対しても適用することができる。
【0049】
また、上述した一実施形態においては、CMP処理後のウエハWをスクラブ洗浄する場合について説明しているが、これに限られるものではなく、本発明は、広く、ウエハWをスクラブ洗浄するものに対しても適用することができる。ただし、CMP処理後のウエハWの表面には、強固に付着しているスラリー等が多く残留しているため、特にCMP処理後のウエハWの洗浄に適用するのが効果的である。
【0050】
さらに、上述した一実施形態においては、半導体ウエハWを洗浄する場合について説明しているが、本発明は、液晶表示装置用ガラス基板、PDP(プラズマ・ディスプレイ・パネル)基板、あるいは、磁気ディスク用のガラス基板やセラミック基板などのような他の各種の基板の洗浄に対して広く適用することができる。
【0051】
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲内で種々の設計変更を施すことが可能である。
【0052】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、請求項1に係る発明の基板洗浄装置によると、基板表面にダメージを与えることなく、基板の周縁部の端面に付着していた不要物が良好に除去されるという効果を奏する。また、基板の周縁部の端面の不要物を、異なる方向でスクラブすることができるので、基板の周縁部の端面の不要物がさらに良好に除去されるという効果をも奏する。
【0053】
請求項2に係る発明の基板洗浄装置によると、さらに、基板の周縁部の端面に加えて、基板の中央部をも良好に洗浄することができるという効果を奏する。
【0054】
しかも、段差部による基板の周縁部の端面のスクラブ洗浄を円滑に行うことができ、また、スクラブ部材の寿命を延ばすことができるという効果を奏する。
【0055】
請求項3に係る発明の基板洗浄装置によると、基板の周縁部の端面のほぼすべての部分の洗浄を良好に行うことができるという効果を奏する。
請求項4または5に係る発明の基板洗浄装置によると、基板の周縁部の端面の掻き取りを円滑に行うことができるので、スクラブ部材の寿命を延ばすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る基板洗浄装置の主要部の構成を示す平面図である。
【図2】本発明の一実施形態に係る基板洗浄装置の主要部の構成を示す側面図である。
【図3】本発明の一実施形態に係る基板洗浄装置のスクラブユニットの構成を示す平面図である。
【図4】本発明の一実施形態に係るスクラブ部材の斜視図である。
【図5】スクラブ部材とウエハの周縁部の端面との関係を示す拡大断面図である。
【図6】本発明の他の実施形態に係るスクラブ部材の斜視図である。
【図7】本発明の他の実施形態に係るスクラブ部材の斜視図である。
【図8】本発明の他の実施形態に係るスクラブ部材の斜視図である。
【図9】本発明の他の実施形態に係るスクラブ部材の斜視図である。
【図10】本発明の他の実施形態に係るスクラブ部材の斜視図である。
【符号の説明】
100,101 端面支持ハンド(基板保持手段)
102,103 ローラピン
104,108 ベース部
105,109 スクラブ部材
106,110 スクラブユニット
107,111 ノズル
C 側壁部
D1,D2 段差
D10,D20 軌跡
H1,H2,H3,H4 平坦部
K1,K2 交差部分
OS スクラブ部材回転軸(スクラブ部材の回転軸)
OW ウエハ回転軸(基板の回転軸)
R 端面
S1,S2 接触面(接触部分)
S10,S20 スクラブ領域
W ウエハ(基板)
Claims (5)
- 基板が所定の回転軸を中心として回転するように基板を保持する基板保持手段と、
この基板保持手段に保持された基板に接触する複数の接触部分を有し、上記基板の回転軸とほぼ平行な回転軸を中心に回転されるスポンジ状のスクラブ部材と、を備え、
上記複数の接触部分のうちの少なくとも1つの接触部分は、上記スクラブ部材の回転中心から離れた端部に高所が設けられているとともに、この高所よりも回転中心寄りの領域は当該高所よりも高いところのない低所とされており、上記高所は上記低所よりも1段高く形成され、上記低所から上記高所に至る部分に上記基板の周縁部の端面に接触可能な段差部が形成されていることを特徴とする基板洗浄装置。 - 上記段差部は、上記基板保持手段に保持された基板の表面に対して傾斜していることを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 上記スクラブ部材は、基板の両面を洗浄するために基板の両面それぞれに対向して一対設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の基板洗浄装置。
- 上記接触部分は、稜線であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の基板洗浄装置。
- 上記接触部分は、曲面であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の基板洗浄装置。
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