JP2002177898A

JP2002177898A - 基板洗浄装置および基板洗浄方法ならびに洗浄ブラシ

Info

Publication number: JP2002177898A
Application number: JP2000382384A
Authority: JP
Inventors: Hirotaka Tsujikawa; 裕貴辻川
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2000-12-15
Filing date: 2000-12-15
Publication date: 2002-06-25

Abstract

(57)【要約】【課題】洗浄液の流通および排出を阻害することなく、
基板の各部における洗浄効率の均一化を図る。【解決手段】ウエハＷの下面をスクラブ洗浄する下面ス
クラブ洗浄部材ＬＳは、回転駆動されるベース部８２
と、このベース部８２の取付面６１に固定された４個の
洗浄ブラシ８６とを備えている。４個の洗浄ブラシ８６
は、ベース部８２に放射状に固定されている。洗浄ブラ
シ８６は、回転半径外方側に配置された第１ブラシ部８
６Ａと、回転半径方向内方側に配置された第２ブラシ部
８６Ｂとを備えている。第１ブラシ部８６Ａと第２ブラ
シ部８６Ｂとの間には、洗浄液の流通および排出を確保
するための間隙Ｄが開けられている。第１ブラシ部８６
Ａは、ウエハＷの周端縁を通る軌跡を描いて回転する。
第２ブラシ部８６Ａはそれよりも内側で回転する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハ、
光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディス
ク用基板、液晶表示装置用ガラス基板、およびプラズマ
ディスプレイパネル用ガラス基板などに代表される各種
の被処理基板を洗浄するための基板洗浄装置および基板
洗浄方法ならびに洗浄ブラシに関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置の製造工程では、たとえば、
微細配線の形成工程において、半導体ウエハ（以下単に
「ウエハ」という。）の表面に対してＣＭＰ（化学的機
械的研磨）処理が行われる場合がある。ＣＭＰ処理後の
ウエハの表面には、スラリー（研磨剤）が残留している
ので、ウエハに対して次の工程を行う前に、ウエハの洗
浄を行う必要がある。

【０００３】ＣＭＰ処理後の基板を洗浄するための基板
洗浄装置は、たとえば、ウエハの表面および裏面を洗浄
するための両面洗浄ユニットと、両面洗浄後のウエハの
表面を精密洗浄する精密洗浄ユニットと、精密洗浄後の
ウエハを水洗・乾燥する水洗・乾燥ユニットとを備えて
いる。両面洗浄ユニットは、たとえば、ウエハの周端面
を保持しつつ回転する複数本の保持ローラと、この保持
ローラの回転によって回転されるウエハの上下面をそれ
ぞれスクラブする一対のディスク型スクラブ洗浄部材
と、ウエハの上面に洗浄液を供給する洗浄液供給機構と
を備えている。

【０００４】ディスク型スクラブ洗浄部材は、ウエハの
回転軸線と平行な回転軸線まわりに定速回転する固定型
のスクラブ洗浄部材であって、ウエハの中心から周端縁
をはみ出す位置にまで及ぶように洗浄領域が定められて
いる。したがって、保持ローラによるウエハの回転によ
って、ウエハの中心から周縁部までを洗浄でき、かつ、
ウエハの周端面までスクラブすることができる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】図８は、従来のディス
ク型スクラブ洗浄部材によるウエハＷの洗浄の様子を示
す図解的な平面図である。ディスク型スクラブ洗浄部材
１１０は、円形のベース部１００のウエハＷに対向する
側の面にスポンジ状の洗浄ブラシ１０１，１０２，１０
３，１０４を回転周方向に沿って等角度間隔で４個固定
して構成されている。洗浄ブラシ１０１〜１０４は、平
面視において矩形に形成されていて、これらは回転中心
に対してほぼ等しい半径方向位置に固定されている。洗
浄ブラシ１０１〜１０４は、ウエハＷの周端縁を通る軌
跡を描くようにベース部１００に固定されていて、これ
により、ウエハＷの表面のみならずその周端面の洗浄を
も達成できるようになっている。

【０００６】ベース部１００の直径方向に長く延びる洗
浄ブラシを採用することもできるが、スラリーを含む洗
浄液の排出効率を考慮して、ベース部１００の周縁部に
のみ洗浄ブラシ１０１〜１０４が存在するようになって
いる。ところが、洗浄ブラシ１０１〜１０４の上記のよ
うな配置に起因して、ウエハＷの表面のドーナツ状の領
域１０７においては、他の領域に比較して洗浄効率が悪
いという問題が明らかになってきている。これは、ウエ
ハＷの中心付近および周縁付近においては、洗浄ブラシ
１０１〜１０４がウエハＷの回転方向に沿って移動する
のに対して、領域１０７においては、洗浄ブラシ１０１
〜１０４がウエハＷの半径方向に移動することに起因す
るものと見られる。すなわち、領域１０７においては、
ウエハＷの中心付近および周縁付近に比較して、洗浄ブ
ラシ１０１〜１０４の接触時間が短いため、洗浄効率が
悪くなっているものと考えられる。

【０００７】そこで、この発明の目的は、洗浄液の流通
を阻害することなく、基板の各部における洗浄効率の均
一化を図ることができる基板洗浄装置および基板洗浄方
法ならびにこれらのために適用可能な洗浄ブラシを提供
することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段および発明の効果】上記の
目的を達成するための請求項１記載の発明は、基板を保
持して回転させる基板保持回転手段（６，１３，３３，
Ｍ）と、この基板保持回転手段によって回転されている
基板の表面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段（７，
８）と、上記基板保持回転手段によって保持されて回転
されている基板の表面に摺接し、この基板の表面をスク
ラブ洗浄するスクラブ洗浄部材（ＵＳ，ＬＳ）と、この
スクラブ洗浄部材を回転させるスクラブ洗浄部材回転駆
動手段（６４，８４）とを含み、上記スクラブ洗浄部材
は、基板の周端縁を通る軌跡を描く第１ブラシ（８６
Ａ，２００Ａ）と、この第１ブラシに対して上記スクラ
ブ洗浄部材の回転半径方向内方側において、上記第１ブ
ラシとの間に洗浄液流通用の間隙（Ｄ）を確保して配置
された第２ブラシ（８６Ｂ，２００Ｂ）とを含むことを
特徴とする基板洗浄装置である。なお、括弧内の英数字
は後述の実施形態における対応構成要素等を表す。以
下、この項において同じ。

【０００９】上記の構成によれば、基板の周端縁を通る
第１ブラシの他に、スクラブ洗浄部材の回転半径方向内
方側に、第２ブラシが配置されていて、第１および第２
ブラシの間には、洗浄液流通用の間隙が確保されてい
る。したがって、第１ブラシのみでは洗浄不足となる領
域を第２ブラシによる洗浄により補うことができるの
で、基板の各部の洗浄効率を均一化できる。しかも、洗
浄液の流通が不足することもなく、かつ、異物が混入し
た洗浄液を効率よく排出できる。

【００１０】請求項２記載の発明は、請求項１記載の基
板洗浄装置を用いて基板を洗浄することを特徴とする基
板洗浄方法である。この方法により、請求項１に関連し
て述べた効果を達成できる。請求項３記載の発明は、基
板保持手段に保持された基板に洗浄液を供給して基板を
スクラブ洗浄する基板洗浄装置に用いられる洗浄ブラシ
（８６）であって、本体部（８６Ｃ）と、この本体部上
に、洗浄液流通用の間隙（Ｄ）を確保した状態で離隔し
て形成され、基板の表面にそれぞれ摺接する第１ブラシ
部（８６Ａ）および第２ブラシ部（８６Ｂ）とを含むこ
とを特徴とする洗浄ブラシである。

【００１１】この構成の洗浄ブラシを請求項１の第１お
よび第２ブラシとして適用することができる。この場合
に、第１および第２ブラシを一部品として作製できるの
で、製造工程が簡単になるうえ、洗浄ブラシの取付けお
よび交換作業が簡単になる。なお、第１ブラシ（第１ブ
ラシ部）は、基板の周端縁を通るものであって、かつ、
第２ブラシ（第２ブラシ部）は、基板の周端縁を通らな
いものであることが好ましい。

【００１２】また、第１ブラシ（第１ブラシ部）および
第２ブラシ（第２ブラシ部）のうちの少なくともいずれ
か一方は、回転周方向に間隔を開けて複数個（好ましく
は等角度間隔で）配置することが好ましい。ただし、各
ブラシ（ブラシ部）は４個以下として、洗浄液の流通を
妨げないようにすることが好ましい。たとえば、請求項
３記載の構成の洗浄ブラシを適用するときには、この洗
浄ブラシを４個用意して、これらを十字形をなすように
ベース部材上に固定配置してスクラブ洗浄部材を構成す
ることが好ましい。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下では、この発明の実施の形態
を、添付図面を参照して詳細に説明する。図１は、本発
明の一実施形態に係る基板洗浄装置の構成を示す平面図
である。また、図２は、図１のII-II 断面図であり、一
部を省略し、かつ一部を概念的に示している。この装置
は、被処理基板の一例としてのほぼ円形の基板であるウ
エハＷの両面を洗浄するための装置であり、側壁１，
２，３，４によって囲まれた平面視においてほぼ矩形の
処理室５と、この処理室５内においてウエハＷを水平に
保持し、かつこの状態でウエハＷを回転させることがで
きるウエハ保持装置６と、ウエハ保持装置６により保持
されたウエハＷの上面および下面に洗浄液供給ノズル
７，８から洗浄液を供給してウエハＷの上面および下面
をスクラブ洗浄するための両面洗浄装置９とを備えてい
る。

【００１４】ウエハ保持装置６は、処理室５の側壁２ま
たは４に対して直交する方向（以下「保持方向」とい
う。）Ａに関して対向配置された一対の保持ハンド１
０，３０を有している。保持ハンド１０，３０は、保持
方向Ａに沿って移動可能なもので、ベース取付部１１，
３１に取り付けられたベース部１２，３２と、ベース部
１２，３２の上方に配置され、ウエハＷを保持するため
の各々３つの保持用ローラ１３，３３とをそれぞれ有し
ている。これらの保持用ローラ１３，３３は、ウエハＷ
の端面形状に対応した円周上に配置されている。ウエハ
Ｗは、保持用ローラ１３，３３の側面にその周端面が当
接した状態で保持される。

【００１５】ベース取付部１１，３１には、保持方向Ａ
に沿って長く形成され、側壁２，４に形成された穴１
４，３４を介して側壁２，４の外側まで延びたハンド軸
１５，３５の一端が連結されている。ハンド軸１５，３
５の他端には、側壁２，４の外側の取付板１６，３６上
に固定されたシリンダ１７，３７のロッド１８，３８が
連結板１９，３９を介して取り付けられている。ロッド
１８，３８は、保持方向Ａに沿って突出したり引っ込ん
だりできるようになっている。この構成により、シリン
ダ１７，３７を駆動することによって、保持ハンド１
０，３０を保持方向Ａに沿って互いに反対方向に進退さ
せることができ、ウエハＷを保持用ローラ１３，３３の
間で挾持したり、この挾持を解放したりすることができ
る。

【００１６】なお、参照符号２０，４０は、保持ハンド
１０，３０の移動とともに伸縮自在なベローズであり、
両面洗浄装置９の洗浄液供給ノズル７，８からウエハＷ
に供給される洗浄液、ならびにその雰囲気が、ハンド軸
１５，３５に影響を与えないようにするため、あるいは
処理室５の外部に漏れるのを防ぐためのものである。ま
た、シリンダ１７，３７のロッド１８，３８やハンド軸
１５，３５から発生するパーティクルが処理室５の内部
に侵入するのを防止するためのものでもある。

【００１７】保持用ローラ１３，３３は、ウエハＷを保
持した状態でウエハＷを回転させるべく、ベース部１
２，３２に回転可能に設けられている。すなわち、保持
用ローラ１３，３３は、ベース部１２，３２に鉛直軸ま
わりの回転が自在であるように支持されたローラ軸２
１，４１に固定されている。ウエハＷを回転させるため
に必要な駆動力は、保持用ローラ３３にのみ与えられる
ようになっている。すなわち、保持用ローラ３３のうち
中央の保持用ローラ３３ｂには、側壁２の外側に設けら
れたモータ取付板４２に取り付けられたモータＭの駆動
力がベルト４３を介して伝達されるようになっている。
さらに、中央の保持ローラ３３ｂに伝達されてきた駆動
力は、ベルト４４，４５を介して他の２つの保持用ロー
ラ３３ａ，３３ｃにも伝達されるようになっている。

【００１８】保持用ローラ３３ａのローラ軸４１ａは、
図３に示すように、ベース部３２に形成された挿通穴４
６ａを通ってベース部３２の下端部付近に形成された空
間４７まで延ばされており、挿通穴４６ａに配置された
２つの軸受４７ａ，４８ａを介してベース部３２に回転
自在に支持されている。他の２つの保持用ローラ３３
ｂ，３３ｃのローラ軸４１ｂ，４１ｃも同様に、挿通穴
４６ｂ，４６ｃを通って空間４７まで延ばされ、かつ挿
通穴４６ｂ，４６ｃに配置された２つの軸受４７ｂ，４
８ｂ；４７ｃ，４８ｃを介してベース部３２に回転自在
に支持されている。

【００１９】中央のローラ軸４１ｂには、３つのプーリ
４９ｂ，５０ｂ，５１ｂが取り付けられている。このう
ち、最上段のプーリ４９ｂとモータＭの駆動軸５２に取
り付けられたプーリ５３（図２参照）との間に、ベルト
４３が巻き掛けられている。そして、残りの２つのプー
リ５０ｂ，５１ｂと他の２つのローラ軸４１ａ，４１ｃ
にそれぞれ取り付けられたプーリ５１ａ，５１ｃとの間
に、ベルト４４，４５がそれぞれ巻き掛けられている。

【００２０】以上の構成により、モータＭによって中央
の保持用ローラ３３ｂが駆動されると、これに伴って他
の２つの保持用ローラ３３ａ，３３ｃが駆動される。そ
の結果、保持用ローラ１３，３３に保持されているウエ
ハＷは回転を始める。このとき、保持用ローラ１３は、
ウエハＷの回転につられて回転する。このようにして、
ウエハＷは保持用ローラ１３，３３に保持された状態で
回転方向Ｂに沿って鉛直軸線まわりに回転する。この場
合におけるウエハＷの回転速度は、たとえば約１０〜２
０（回転／分）である。

【００２１】図２に戻って、両面洗浄装置９は、ウエハ
保持装置６により保持されたウエハＷの上方および下方
に配置された上面洗浄部６０および下面洗浄部８０を備
えている。上面洗浄部６０および下面洗浄部８０は、そ
れぞれ、保持ハンド１０，３０に干渉しない位置に、ウ
エハＷの中心部から周縁部に至るウエハＷの表面領域を
覆うように配置されている。上面洗浄部６０および下面
洗浄部８０は、ウエハＷに対向する側に取付面６１，８
１を有するベース部６２，８２と、ベース部６２，８２
に取り付けられた回転軸６３，８３とを有し、回転駆動
部６４，８４により鉛直軸方向に沿う回転軸Ｏを中心に
回転方向Ｃに沿って回転できるようにされている。

【００２２】さらに、上面洗浄部６０および下面洗浄部
８０は、それぞれ、昇降駆動部６５，８５によって上下
方向に移動できるようになっている。これにより、ウエ
ハ洗浄時においてはウエハＷを上面洗浄部６０および下
面洗浄部８０で挟み込むことができ、また、ウエハ洗浄
後においては、ウエハＷから上面洗浄部６０および下面
洗浄部８０を離すことができるようになっている。上面
ベース部６２および下面ベース部８２の各取付面６１，
８１には、洗浄ブラシ６６，８６が設けられていて、上
面スクラブ洗浄部材ＵＳおよび下面スクラブ洗浄部材Ｌ
Ｓがそれぞれ構成されている。洗浄ブラシ６６，８６の
中央付近には、ウエハＷに洗浄液を供給するための洗浄
液供給ノズル７，８がそれぞれ配置されている。洗浄液
供給ノズル７，８には、洗浄用パイプ６７，８７が連結
されている。洗浄用パイプ６７，８７は、回転軸６３，
８３内に回転しないように挿通されており、その他端に
は、三方弁６８，８８を介して、フッ酸、硝酸、塩酸、
リン酸、酢酸、アンモニアなどの薬液が図示しない薬液
タンクから導かれる薬液供給路６９，８９、および図示
しない純水タンクから純水が導かれる純水供給路７０，
９０が接続されている。この構成により、三方弁６８，
８８の切換えを制御することによって、洗浄用パイプ６
７，８７に薬液および純水を洗浄液として選択的に供給
でき、したがって洗浄液供給ノズル７，８から薬液およ
び純水を選択的に吐出させることができる。

【００２３】図４は、下面洗浄部８０の平面図であり、
ベース部８２の取付面６１に洗浄ブラシ８６を固定して
構成された下面スクラブ洗浄部材ＬＳの構成が示されて
いる。以下では、下面洗浄部８０側の下面スクラブ洗浄
部材ＬＳのみについて説明するが、上面洗浄部６０側の
上面スクラブ洗浄部材ＵＳの構成は、上下が反転される
ことを除き、下面スクラブ洗浄部材ＬＳと同様である。
洗浄ブラシ８６は、長尺形状を有しており、ウエハＷに
対向する取付面６１から突出するように、等角度間隔で
放射状に複数個固定されている。この実施形態では、９
０度の角度間隔で４個の洗浄ブラシ８６が取付面６１に
固定されており、平面視において、十字形状を形成して
いる。

【００２４】ベース部８２の中央には、開口８２ａが形
成されており、この開口８２ａから、洗浄液供給ノズル
８の吐出口がウエハＷの下面に臨むように露出してい
る。図５は、洗浄ブラシ８６の構成例を示す斜視図であ
る。洗浄ブラシ８６は、この実施形態では、ポリビニル
アルコール（ＰＶＡ）、ポリエチレン、ポリプロピレン
またはポリウレタンなどの弾性素材からなるスポンジ状
の一体品である。この洗浄ブラシ８６は、ベース部８２
の回転半径外方側（回転中心から遠い側）に位置するこ
とになる第１ブラシ部８６Ａと、ベース部８２の回転半
径内方側（回転中心に近い側）に位置することになる第
２ブラシ部８６Ｂと、これらの第１および第２ブラシ部
８６Ａ，８６Ｂを一体的に結合している本体部８６Ｃと
を備えている。第１および第２ブラシ部８６Ａ，８６Ｂ
は、洗浄液の良好な流通を考慮して定められる一定距離
以上の間隙Ｄを開けて本体部８６Ｃと結合している。洗
浄ブラシ８６は、専ら第１ブラシ部８６Ａ，８６Ｂにお
いてのみウエハＷの表面や周端面と接触するのであっ
て、間隙Ｄの部分においては、洗浄ブラシ８６（すなわ
ち本体部８６Ｃ）とウエハＷとの接触が生じることはな
い。

【００２５】第１ブラシ部８６Ａは、平板な本体部８６
Ｃ上に横たわる三角柱状の一対の山形凸部９１，９２を
有している。これらの山形凸部９１，９２は、ウエハＷ
の下面に実質的に線接触する稜線部９１ａ，９２ａをそ
れぞれ有し、それらの間には、洗浄液が流通可能なＶ字
状の溝９３が形成されている。第２ブラシ部８６Ｂの構
成は、第１ブラシ部８６Ａの構成と同様であるので、図
５においては、第１ブラシ部８６Ａおよび第２ブラシ部
８６Ｂの対応部分に同一の参照符号を付してある。ただ
し、第１および第２ブラシ部８６Ａ，８６Ｂは、実質的
に同一の構成を有している必要はない。たとえば、第１
ブラシ部８６Ａと第２ブラシ部８６Ｂとの長さ（稜線部
９１ａ，９２ａに沿う方向の長さ）を異ならせてもよ
い。

【００２６】図４において仮想線で示したウエハＷに対
する相対位置関係から理解されるように、ベース部８２
の回転によって、第１ブラシ部８６Ａは、ウエハＷの周
端縁を通る軌跡を描く。これに対して、第２ブラシ部８
６Ｂは、第１ブラシ部８６Ａよりも回転半径方向内方側
に位置しているため、ウエハＷの周端縁を通ることはな
い。第１ブラシ部８６Ａの移動方向は、ウエハＷの周端
円付近およびウエハＷの中心付近をスクラブするときに
は、ウエハＷの表面の移動方向に沿うのに対して、ウエ
ハＷの中心付近と周端縁付近との間のドーナツ状の領域
Ｗａをスクラブするときには、ウエハＷの表面の移動方
向とほぼ直交する。これにより、領域Ｗａの洗浄不足が
懸念されるのであるが、この洗浄不足は、回転半径方向
内方側に配置されて第１ブラシ部８６Ａよりも内側で回
転する第２ブラシ部８６Ｂによるスクラブ洗浄によって
補われる。こうして、ウエハＷの全表面を隈無く均一に
スクラブ洗浄することができる。

【００２７】洗浄処理の際、第１ブラシ部８６Ａと第２
ブラシ部８６Ｂとの間に確保された間隙Ｄを通って、洗
浄液がスクラブ領域の全域に良好に行き渡り、かつ、ウ
エハＷの表面から除去された異物を含む洗浄液が間隙Ｄ
を通って効率良く排出される。したがって、ウエハＷの
表面に異物が残留することがないので、高効率でウエハ
Ｗを洗浄できる。以上、この発明の一実施形態について
説明したが、この発明は他の形態で実施することもでき
る。たとえば、上述の実施形態では、第１ブラシ部８６
Ａと第２ブラシ部８６Ｂとが一体品からなる例について
説明したが、図６に示すように、第１ブラシ部８６Ａに
対応する第１ブラシ２００Ａと、第２ブラシ部８６Ｂに
対応する第２ブラシ２００Ｂとが別部品で構成されてい
てもよい。すなわち、第１ブラシ部（または第１ブラ
シ）と、第２ブラシ部（または第２ブラシ）とは、ウエ
ハＷの表面におけるスクラブ位置が、洗浄液の流通のた
めの間隙Ｄを開けた状態で独立していればよい。

【００２８】また、第１ブラシ２００Ａと第２ブラシ２
００Ｂとは、スクラブ洗浄部材ＵＳ，ＬＳの回転半径方
向に整列している必要はなく、図７に示すように、回転
方向にずらして配置するようにしてもよい。この場合
に、第１ブラシ２００Ａおよび第２ブラシ２００Ｂの回
転半径方向位置（すなわち、スクラブ領域）が一部重な
るようにしてもよい。ただし、第１ブラシ２００Ａと第
２ブラシ２００Ｂとの間に充分な間隙Ｄを確保して、洗
浄液の流通効率および排出効率を考慮するならば、第１
ブラシ２００Ａと第２ブラシ２００Ｂとの回転半径方向
位置が重なり合うことのないようにすることが好まし
い。

【００２９】また、上記の実施形態では、一対の山形凸
部９１，９２を有する洗浄ブラシを例にとったが、洗浄
ブラシは他の形態をとることもできる。たとえば、ウエ
ハＷに接触する平坦面を有する形態であってもよいし、
このような平坦面に洗浄液の流通のための溝を形成した
形態であってもよい。また、山形凸部を１つのみ有する
形態であってもよい。また、洗浄ブラシは、回転半径方
向に沿って配置する必要はなく、回転半径方向に対して
傾斜した姿勢で洗浄ブラシをベース部に固定する構成と
してもよい。

【００３０】さらに、上述の実施形態では、ウエハＷの
上面および下面の両面をスクラブ洗浄する装置について
説明したが、この発明はウエハＷの一方表面のみをスク
ラブ洗浄する基板洗浄装置にも適用することができる。
また、上記の実施形態では、ウエハＷの洗浄にこの発明
が適用された例について説明したが、この発明は、半導
体ウエハ以外にも、光ディスク、磁気ディスクおよび光
磁気ディスク用基板、液晶表示装置用ガラス基板ならび
にプラズマディスプレイ用ガラス基板などの他の種類の
基板を洗浄する装置に対しても適用することができる。

【００３１】その他、特許請求の範囲に記載された事項
の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る基板洗浄装置の構成
を示す平面図である。

【図２】図１の切断面線II-IIにおける図解的な断面図
である。

【図３】ウエハを保持して回転する保持ローラを駆動す
るための機構を説明するための図である。

【図４】下面スクラブ洗浄部材の構成を説明するための
図解的な平面図である。

【図５】洗浄ブラシの構成例を示す斜視図である。

【図６】下面スクラブ洗浄部材の他の構成例を示す図解
的な平面図である。

【図７】下面スクラブ洗浄部材のさらに他の構成例を示
す図解的な平面図である。

【図８】従来技術を説明するための図解的な平面図であ
る。

【符号の説明】

６ウエハ保持装置７洗浄液供給ノズル８洗浄液供給ノズル９両面洗浄装置１３保持用ローラ３３保持用ローラ６０上面洗浄部６２上面ベース部６４回転駆動部６６洗浄ブラシ６９薬液供給路７０純水供給路８０下面洗浄部８２ベース部８２下面ベース部８６洗浄ブラシ８６Ａ第１ブラシ部８６Ｂ第２ブラシ部８６Ｃ本体部２００Ａ第１ブラシ２００Ｂ第２ブラシＵＳ上面スクラブ洗浄部材ＬＳ下面スクラブ洗浄部材Ｄ間隙ＭモータＷウエハ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４４Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４４Ｃ６４４ＧＦターム(参考） 2H088 FA21 FA24 FA30 HA01 2H090 JB02 JC19 3B116 AA03 AB01 AB34 AB42 BA02 BA13 BB24 3B201 AA03 AB01 AB34 AB42 BA02 BA13 BB24 BB92 BB93 CB25

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を保持して回転させる基板保持回転手
段と、この基板保持回転手段によって回転されている基板の表
面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、上記基板保持回転手段によって保持されて回転されてい
る基板の表面に摺接し、この基板の表面をスクラブ洗浄
するスクラブ洗浄部材と、このスクラブ洗浄部材を回転させるスクラブ洗浄部材回
転駆動手段とを含み、上記スクラブ洗浄部材は、基板の周端縁を通る軌跡を描
く第１ブラシと、この第１ブラシに対して上記スクラブ
洗浄部材の回転半径方向内方側において、上記第１ブラ
シとの間に洗浄液流通用の間隙を確保して配置された第
２ブラシとを含むことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】請求項１記載の基板洗浄装置を用いて基板
を洗浄することを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項３】基板保持手段に保持された基板に洗浄液を
供給して基板をスクラブ洗浄する基板洗浄装置に用いら
れる洗浄ブラシであって、本体部と、この本体部上に、洗浄液流通用の間隙を確保した状態で
離隔して形成され、基板の表面にそれぞれ摺接する第１
ブラシ部および第２ブラシ部とを含むことを特徴とする
洗浄ブラシ。