JPH11625A - ウェーハの洗浄装置 - Google Patents
ウェーハの洗浄装置Info
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- JPH11625A JPH11625A JP9157169A JP15716997A JPH11625A JP H11625 A JPH11625 A JP H11625A JP 9157169 A JP9157169 A JP 9157169A JP 15716997 A JP15716997 A JP 15716997A JP H11625 A JPH11625 A JP H11625A
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- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 小型でかつ生産性が高いウェーハの洗浄装置
を提供する。 【解決手段】 この洗浄装置の主な構成は、ウェーハ１
の両面を挟持するとともに、互いに逆方向に回転するこ
とにより前記両面をそれぞれ洗浄処理するための一対の
回転ブラシ２，３と、ウェーハ１の、一対の回転ブラシ
２，３によってウェーハ１に沿う方向に作用する力Ｄの
方向側のエッジ部を保持するとともに、ウェーハ１を回
転させるための一対のエッジ部洗浄用ローラー４，５と
である。エッジ洗浄用ローラー４，５の表面の洗浄用弾
性部材に、ウェーハ１のエッジ部が入り込むような略Ｖ
字型の周溝が形成されている。一対の回転ブラシ２，３
によりウェーハ１の上下面を洗浄するとともに、ウェー
ハ１のエッジ部を回転するエッジ部洗浄用ローラー４，
５に押圧し、ウェーハ１は回転しつつ全周のエッジ部が
エッジ部洗浄用ローラー４，５の洗浄用弾性部材で擦ら
れて洗浄される。
を提供する。 【解決手段】 この洗浄装置の主な構成は、ウェーハ１
の両面を挟持するとともに、互いに逆方向に回転するこ
とにより前記両面をそれぞれ洗浄処理するための一対の
回転ブラシ２，３と、ウェーハ１の、一対の回転ブラシ
２，３によってウェーハ１に沿う方向に作用する力Ｄの
方向側のエッジ部を保持するとともに、ウェーハ１を回
転させるための一対のエッジ部洗浄用ローラー４，５と
である。エッジ洗浄用ローラー４，５の表面の洗浄用弾
性部材に、ウェーハ１のエッジ部が入り込むような略Ｖ
字型の周溝が形成されている。一対の回転ブラシ２，３
によりウェーハ１の上下面を洗浄するとともに、ウェー
ハ１のエッジ部を回転するエッジ部洗浄用ローラー４，
５に押圧し、ウェーハ１は回転しつつ全周のエッジ部が
エッジ部洗浄用ローラー４，５の洗浄用弾性部材で擦ら
れて洗浄される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウェーハの洗浄装
置に関し、特に、ウェーハのエッジ部をも効率的に洗浄
できるウェーハの洗浄装置に関する。
置に関し、特に、ウェーハのエッジ部をも効率的に洗浄
できるウェーハの洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＣＭＰ（化学機械研磨）は平坦化技術の
一種で、半導体ウェーハ（以下、ウェーハという）の両
面（ウェーハ面）を、パッドや研磨剤（スラリー）等を
使用し、機械的に削って平坦化する方法である。ＣＭＰ
洗浄は、上記ＣＭＰにおいて、ウェーハ面を汚染させる
スラリーを除去するための後処理洗浄であり、下記のよ
うに、ブラシスクラブ洗浄が一般に採用されている。
一種で、半導体ウェーハ（以下、ウェーハという）の両
面（ウェーハ面）を、パッドや研磨剤（スラリー）等を
使用し、機械的に削って平坦化する方法である。ＣＭＰ
洗浄は、上記ＣＭＰにおいて、ウェーハ面を汚染させる
スラリーを除去するための後処理洗浄であり、下記のよ
うに、ブラシスクラブ洗浄が一般に採用されている。
【０００３】被処理体としてのウェーハを水平に保持し
て回転させ、ウェーハの表面に洗浄液を供給するととも
に、例えばナイロンやモヘヤ等にて形成されたブラシで
ウェーハの表面を擦って表面の粒子汚染物を除去する洗
浄処理装置が知られている（実開昭６３−６７２４３
号、実開昭５９−４１１２４号公報等参照）。
て回転させ、ウェーハの表面に洗浄液を供給するととも
に、例えばナイロンやモヘヤ等にて形成されたブラシで
ウェーハの表面を擦って表面の粒子汚染物を除去する洗
浄処理装置が知られている（実開昭６３−６７２４３
号、実開昭５９−４１１２４号公報等参照）。
【０００４】このような洗浄装置ではウェーハの表面し
か洗浄処理することができず、ウェーハのエッジ部に付
着している粒子汚染物を除去しきれない。ところで、ウ
ェーハの清浄度は年々厳しくなり、ウェーハのエッジ部
汚染も無視できなくなってきており、エッジ部を洗浄す
る装置が開発されている。その一例として、特開平６−
４５３０２号公報には、ウェーハのエッジ部に洗浄液を
供給するためのノズルを備えるとともに、回転移動する
とともに鉛直方向に移動する操作アームの先端に回転ブ
ラシを取り付け、操作アームを駆動して、回転ブラシに
よりウェーハの上面部だけでなくエッジ部をも擦って洗
浄処理する洗浄装置が開示されている。
か洗浄処理することができず、ウェーハのエッジ部に付
着している粒子汚染物を除去しきれない。ところで、ウ
ェーハの清浄度は年々厳しくなり、ウェーハのエッジ部
汚染も無視できなくなってきており、エッジ部を洗浄す
る装置が開発されている。その一例として、特開平６−
４５３０２号公報には、ウェーハのエッジ部に洗浄液を
供給するためのノズルを備えるとともに、回転移動する
とともに鉛直方向に移動する操作アームの先端に回転ブ
ラシを取り付け、操作アームを駆動して、回転ブラシに
よりウェーハの上面部だけでなくエッジ部をも擦って洗
浄処理する洗浄装置が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開平６−４５３０２号公報に記載の洗浄装置は、操作ア
ームの移動経路を確保しなければならないため、装置全
体が大型になるという問題点がある。また、ウェーハの
表面（上面や下面）とエッジ部を同時に洗浄できないの
で、生産性が低いという問題点もある。
開平６−４５３０２号公報に記載の洗浄装置は、操作ア
ームの移動経路を確保しなければならないため、装置全
体が大型になるという問題点がある。また、ウェーハの
表面（上面や下面）とエッジ部を同時に洗浄できないの
で、生産性が低いという問題点もある。
【０００６】本発明は、上記従来技術の有する問題点に
鑑みてなされたものであり、小型で生産性が高く、かつ
ウェーハのエッジ部の粒子汚染物を確実に除去できるウ
ェーハの洗浄装置を提供することを目的としている。
鑑みてなされたものであり、小型で生産性が高く、かつ
ウェーハのエッジ部の粒子汚染物を確実に除去できるウ
ェーハの洗浄装置を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明のウェーハの洗浄装置は、両面に洗浄液を供給
されるウェーハの前記両面を挟持するとともに、互いに
逆方向に回転することにより前記両面をそれぞれ洗浄処
理するための一対の回転ブラシと、前記ウェーハの、前
記一対の回転ブラシによって前記ウェーハに沿うように
作用する力の方向側のエッジ部に接触して前記ウェーハ
を定位置に保持するとともに、回転することにより前記
ウェーハを回転させるための、表面に洗浄用弾性部材が
被覆されたエッジ部洗浄用ローラーと、を備えているこ
とを特徴とするものである。
の本発明のウェーハの洗浄装置は、両面に洗浄液を供給
されるウェーハの前記両面を挟持するとともに、互いに
逆方向に回転することにより前記両面をそれぞれ洗浄処
理するための一対の回転ブラシと、前記ウェーハの、前
記一対の回転ブラシによって前記ウェーハに沿うように
作用する力の方向側のエッジ部に接触して前記ウェーハ
を定位置に保持するとともに、回転することにより前記
ウェーハを回転させるための、表面に洗浄用弾性部材が
被覆されたエッジ部洗浄用ローラーと、を備えているこ
とを特徴とするものである。
【０００８】また、前記ウェーハは鉛直方向に配され、
前記一対の回転ブラシは、前記ウェーハに下方向の力が
働くように互いに逆方向に回転するものである。さら
に、前記エッジ部洗浄用ローラーは一対備えられてい
る。そして、前記エッジ部洗浄用ローラーには、前記ウ
ェーハのエッジ部が入り込むような略Ｖ字型の周溝が形
成されている。さらに加えて、前記一対のエッジ部洗浄
用ローラーの回転数を互いに異なるように設定したり、
前記一対のエッジ部洗浄用ローラーの回転方向を互いに
逆にすることが好ましい。
前記一対の回転ブラシは、前記ウェーハに下方向の力が
働くように互いに逆方向に回転するものである。さら
に、前記エッジ部洗浄用ローラーは一対備えられてい
る。そして、前記エッジ部洗浄用ローラーには、前記ウ
ェーハのエッジ部が入り込むような略Ｖ字型の周溝が形
成されている。さらに加えて、前記一対のエッジ部洗浄
用ローラーの回転数を互いに異なるように設定したり、
前記一対のエッジ部洗浄用ローラーの回転方向を互いに
逆にすることが好ましい。
【０００９】本発明の請求項１の作用としては、一対の
回転ブラシによりウェーハの両面を擦りつつ洗浄し、こ
の際、一対の回転ブラシの作用によりウェーハは、回転
するエッジ部洗浄用ローラー側に向けて押圧され、これ
によりウェーハは回転しつつ、その全周のエッジ部がエ
ッジ部洗浄用ローラーの洗浄用弾性部材で擦られて洗浄
される。このように、ウェーハの両面とエッジ部を同時
に洗浄できるとともに、一対の回転ブラシやエッジ部洗
浄用ローラーは定位置で回転し、移動させる必要はな
い。
回転ブラシによりウェーハの両面を擦りつつ洗浄し、こ
の際、一対の回転ブラシの作用によりウェーハは、回転
するエッジ部洗浄用ローラー側に向けて押圧され、これ
によりウェーハは回転しつつ、その全周のエッジ部がエ
ッジ部洗浄用ローラーの洗浄用弾性部材で擦られて洗浄
される。このように、ウェーハの両面とエッジ部を同時
に洗浄できるとともに、一対の回転ブラシやエッジ部洗
浄用ローラーは定位置で回転し、移動させる必要はな
い。
【００１０】請求項２では、一対の回転ブラシの回転力
の他に、ウェーハの自重によってもそのエッジ部がエッ
ジ部洗浄用ローラーに押圧されるので、このエッジ部を
擦る作用が増加し、エッジ部の粒子汚染物の除去効率が
高まる。請求項３では、エッジ部洗浄用ローラーが一対
備えられているので、ウェーハをより安定に保持しつつ
回転させることができる。請求項４では、ウェーハを単
に円柱状のエッジ部洗浄用ローラーに押し付けるものと
比較して、ウェーハの支持がさらに安定になる。請求項
５および請求項６では、エッジ部洗浄用ローラーとウェ
ーハのエッジ部との摩擦力を高めることができる。
の他に、ウェーハの自重によってもそのエッジ部がエッ
ジ部洗浄用ローラーに押圧されるので、このエッジ部を
擦る作用が増加し、エッジ部の粒子汚染物の除去効率が
高まる。請求項３では、エッジ部洗浄用ローラーが一対
備えられているので、ウェーハをより安定に保持しつつ
回転させることができる。請求項４では、ウェーハを単
に円柱状のエッジ部洗浄用ローラーに押し付けるものと
比較して、ウェーハの支持がさらに安定になる。請求項
５および請求項６では、エッジ部洗浄用ローラーとウェ
ーハのエッジ部との摩擦力を高めることができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】次に、本発明の一実施形態につい
て図面を参照して説明する。図１は本発明のウェーハの
洗浄装置の一実施形態の斜視図、図２は図１の平面図、
図３は図２のＸ−Ｘ線断面図、図４は図１乃至図３に示
したエッジ部洗浄用ローラーの拡大斜視図である。図１
乃至図３に示すように、符号１は化学機械研磨（ＣＭ
Ｐ）工程を経た半導体ウェーハ（以下、ウェーハとい
う）を示しており、このウェーハ１は、その上下面が後
述する一対の回転ブラシ２，３により挟持され、さら
に、ウェーハ１のエッジ部が一対のエッジ部洗浄用ロー
ラー４，５により保持されていることにより、水平状態
に保持されている。
て図面を参照して説明する。図１は本発明のウェーハの
洗浄装置の一実施形態の斜視図、図２は図１の平面図、
図３は図２のＸ−Ｘ線断面図、図４は図１乃至図３に示
したエッジ部洗浄用ローラーの拡大斜視図である。図１
乃至図３に示すように、符号１は化学機械研磨（ＣＭ
Ｐ）工程を経た半導体ウェーハ（以下、ウェーハとい
う）を示しており、このウェーハ１は、その上下面が後
述する一対の回転ブラシ２，３により挟持され、さら
に、ウェーハ１のエッジ部が一対のエッジ部洗浄用ロー
ラー４，５により保持されていることにより、水平状態
に保持されている。
【００１２】上方の回転ブラシ２の上方には、ウェーハ
１の上面に洗浄液を供給するための洗浄液供給管６が配
置されている。この洗浄液供給管６の多数の孔（不図
示）から出た洗浄液はウェーハ１の上面に落下し、この
上面に沿って流れ、さらにウェーハ１の端面を伝わって
下面にも供給される。一対の回転ブラシ２，３は水平方
向に延び、かつ上下に並んで配置されている。一対の回
転ブラシ２，３は同一構造を有し、その構成としては、
軸部材９にＰＶＡ（ポリビニルアルコール）１０が被覆
され、このＰＶＡ１０の表面には多数の突起１１が形成
されている。この多数の突起１１がウェーハ１に押し付
けられて弾性変形することにより、ウェーハ１の上下面
を挟む圧力を高めることができる。また、一対の回転ブ
ラシ２，３は図示しない駆動機構により互いに逆方向へ
回転駆動される（矢印Ａ，Ｂ参照）。なお、一対の回転
ブラシ２，３の回転数は３００ｒｐｍ程度である。一対
の回転ブラシ２，３が回転することにより、前記多数の
突起１１によりウェーハ１の上下面を擦って粒子汚染物
（スラリー等）を除去することができる。
１の上面に洗浄液を供給するための洗浄液供給管６が配
置されている。この洗浄液供給管６の多数の孔（不図
示）から出た洗浄液はウェーハ１の上面に落下し、この
上面に沿って流れ、さらにウェーハ１の端面を伝わって
下面にも供給される。一対の回転ブラシ２，３は水平方
向に延び、かつ上下に並んで配置されている。一対の回
転ブラシ２，３は同一構造を有し、その構成としては、
軸部材９にＰＶＡ（ポリビニルアルコール）１０が被覆
され、このＰＶＡ１０の表面には多数の突起１１が形成
されている。この多数の突起１１がウェーハ１に押し付
けられて弾性変形することにより、ウェーハ１の上下面
を挟む圧力を高めることができる。また、一対の回転ブ
ラシ２，３は図示しない駆動機構により互いに逆方向へ
回転駆動される（矢印Ａ，Ｂ参照）。なお、一対の回転
ブラシ２，３の回転数は３００ｒｐｍ程度である。一対
の回転ブラシ２，３が回転することにより、前記多数の
突起１１によりウェーハ１の上下面を擦って粒子汚染物
（スラリー等）を除去することができる。
【００１３】一対のエッジ部洗浄用ローラー４，５は、
その軸線が上下方向（鉛直方向）を向くように配置さ
れ、図示しない駆動機構によりそれぞれ同方向（矢印Ｃ
方向参照）に回転駆動される。一対のエッジ部洗浄用ロ
ーラー４，５の回転数は２０〜３０ｒｐｍ程度である。
一対のエッジ部洗浄用ローラー４，５は同一構造をな
し、図３および図４に示すように、軸部１２と、外周面
にＶ字型の周溝１３ａが形成されたローラー部１３と、
このローラー部１３の表面に被覆された洗浄用弾性部材
１４（本例ではＰＶＡ）とから構成されている。なお、
洗浄用弾性部材１４としてはＰＶＡに限らず、多数の気
孔を有するスポンジ状の部材を用いてもよい。前記一対
のエッジ部洗浄用ローラー４，５の近傍には洗浄液供給
ノズル７，８がそれぞれ配置され、各洗浄液供給ノズル
７，８はウェーハ１のエッジ部に向けて洗浄液を噴出す
る。
その軸線が上下方向（鉛直方向）を向くように配置さ
れ、図示しない駆動機構によりそれぞれ同方向（矢印Ｃ
方向参照）に回転駆動される。一対のエッジ部洗浄用ロ
ーラー４，５の回転数は２０〜３０ｒｐｍ程度である。
一対のエッジ部洗浄用ローラー４，５は同一構造をな
し、図３および図４に示すように、軸部１２と、外周面
にＶ字型の周溝１３ａが形成されたローラー部１３と、
このローラー部１３の表面に被覆された洗浄用弾性部材
１４（本例ではＰＶＡ）とから構成されている。なお、
洗浄用弾性部材１４としてはＰＶＡに限らず、多数の気
孔を有するスポンジ状の部材を用いてもよい。前記一対
のエッジ部洗浄用ローラー４，５の近傍には洗浄液供給
ノズル７，８がそれぞれ配置され、各洗浄液供給ノズル
７，８はウェーハ１のエッジ部に向けて洗浄液を噴出す
る。
【００１４】一対の回転ブラシ２，３によりウェーハ１
には、ウェーハ１に沿うような図１中矢印Ｄ方向に力が
作用するが、この力Ｄを一対のエッジ部洗浄用ローラー
４，５で受け止めることによりウェーハ１は定位置に保
持され、かつウェーハ１は一対のエッジ部洗浄用ローラ
ー４，５との摩擦力により矢印Ｅ方向に回転する。これ
により、定位置にある一対の回転ブラシ２，３によりウ
ェーハ１の上下面は万遍無く均一に洗浄される。また、
回転する一対のエッジ部洗浄用ローラー４，５により、
ウェーハ１のエッジ部も万遍無く洗浄される。この際、
一対のエッジ部洗浄用ローラー４，５の洗浄用弾性部材
１４（本例ではＰＶＡ）に洗浄液が吸収されると、ＰＶ
Ａは膨張してウェーハ１のエッジ部の形状にならうの
で、洗浄効果が高まる。なお、一対の回転ブラシ２，３
や一対のエッジ部洗浄用ローラー４，５の回転トルクを
調節することにより、エッジ部洗浄用ローラー４，５を
ウェーハ１に対してスリップ回転させることにより、一
対のエッジ部洗浄用ローラー４，５によるウェーハ１の
エッジ部の擦れを促進して、洗浄効果を高めることがで
きる。
には、ウェーハ１に沿うような図１中矢印Ｄ方向に力が
作用するが、この力Ｄを一対のエッジ部洗浄用ローラー
４，５で受け止めることによりウェーハ１は定位置に保
持され、かつウェーハ１は一対のエッジ部洗浄用ローラ
ー４，５との摩擦力により矢印Ｅ方向に回転する。これ
により、定位置にある一対の回転ブラシ２，３によりウ
ェーハ１の上下面は万遍無く均一に洗浄される。また、
回転する一対のエッジ部洗浄用ローラー４，５により、
ウェーハ１のエッジ部も万遍無く洗浄される。この際、
一対のエッジ部洗浄用ローラー４，５の洗浄用弾性部材
１４（本例ではＰＶＡ）に洗浄液が吸収されると、ＰＶ
Ａは膨張してウェーハ１のエッジ部の形状にならうの
で、洗浄効果が高まる。なお、一対の回転ブラシ２，３
や一対のエッジ部洗浄用ローラー４，５の回転トルクを
調節することにより、エッジ部洗浄用ローラー４，５を
ウェーハ１に対してスリップ回転させることにより、一
対のエッジ部洗浄用ローラー４，５によるウェーハ１の
エッジ部の擦れを促進して、洗浄効果を高めることがで
きる。
【００１５】本実施形態では、一対の回転ブラシ２，３
によりウェーハ１の上下面を洗浄し、この際、一対の回
転ブラシ２，３の作用により、ウェーハ１のエッジ部
は、回転するエッジ部洗浄用ローラー４，５のそれぞれ
の洗浄用弾性部材１４側に向けて押圧され、これにより
ウェーハ１は回転されつつその全周のエッジ部がエッジ
部洗浄用ローラー４，５の洗浄用弾性部材１４に擦られ
て洗浄される。このように、ウェーハ１の表面（上面や
下面）とエッジ部を同時に洗浄できるとともに、一対の
回転ブラシ２，３や一対のエッジ部洗浄用ローラー４，
５は定位置で回転するので、特開平６−４５３０２号公
報に記載のような、操作アームが三次元的に移動するも
のと比較して装置全体が小型である。
によりウェーハ１の上下面を洗浄し、この際、一対の回
転ブラシ２，３の作用により、ウェーハ１のエッジ部
は、回転するエッジ部洗浄用ローラー４，５のそれぞれ
の洗浄用弾性部材１４側に向けて押圧され、これにより
ウェーハ１は回転されつつその全周のエッジ部がエッジ
部洗浄用ローラー４，５の洗浄用弾性部材１４に擦られ
て洗浄される。このように、ウェーハ１の表面（上面や
下面）とエッジ部を同時に洗浄できるとともに、一対の
回転ブラシ２，３や一対のエッジ部洗浄用ローラー４，
５は定位置で回転するので、特開平６−４５３０２号公
報に記載のような、操作アームが三次元的に移動するも
のと比較して装置全体が小型である。
【００１６】また、エッジ部洗浄用ローラー４，５が一
対備えられているので、ウェーハ１をより安定に保持し
つつ回転させることができる。なお、エッジ部洗浄用ロ
ーラーは単数あるいは３つ以上の複数設けてもよい。さ
らに、エッジ部洗浄用ローラー４，５には、ウェーハ１
のエッジ部が入り込む周溝１３ａが形成されているの
で、ウェーハを単に円柱状のエッジ部洗浄用ローラーの
周面に押し付けるものと比較して、ウェーハを安定に支
持できる。そして、ウェット洗浄処理、特にＣＶＤ前の
フッ酸処理を行う場合、ウェーハのエッジ部に付着して
いた粒子汚染物がウェーハの表面に流れ出ないので、こ
の表面に跡形が残ることはない。
対備えられているので、ウェーハ１をより安定に保持し
つつ回転させることができる。なお、エッジ部洗浄用ロ
ーラーは単数あるいは３つ以上の複数設けてもよい。さ
らに、エッジ部洗浄用ローラー４，５には、ウェーハ１
のエッジ部が入り込む周溝１３ａが形成されているの
で、ウェーハを単に円柱状のエッジ部洗浄用ローラーの
周面に押し付けるものと比較して、ウェーハを安定に支
持できる。そして、ウェット洗浄処理、特にＣＶＤ前の
フッ酸処理を行う場合、ウェーハのエッジ部に付着して
いた粒子汚染物がウェーハの表面に流れ出ないので、こ
の表面に跡形が残ることはない。
【００１７】上記記実施形態では、一対のエッジ部洗浄
用ローラー４，５の回転数および回転方向がそれぞれ同
一のものを示したが、これに限らず、一対のエッジ部洗
浄用ローラー４，５の回転数を互いに異なるように設定
したり、または、前記一対のエッジ部洗浄用ローラーの
回転方向を互いに逆にすることが好ましい。これによ
り、エッジ部洗浄用ローラー４，５とウェーハ１のエッ
ジ部との摩擦力を高めることができて、粒子汚染物の除
去効果をさらに向上させることができる。なお、一対の
エッジ部洗浄用ローラー４，５の回転数および回転方向
の両方を異ならせてもよい。また、上記実施形態のもの
は、ウェーハを水平状態（横状態）に保持して、洗浄す
る水平型の洗浄装置を示したが、縦型でもよい。すなわ
ち、図５に示すように、一対の回転ブラシ２，３を水平
方向に並ぶように配置し、鉛直状態（縦状態）にあるウ
ェーハ１の下側のエッジ部を一対のエッジ部洗浄用ロー
ラー４，５により保持するものでもよい。この縦型の洗
浄装置では、ウェーハ１の自重が一対のエッジ部洗浄用
ローラー４，５に及ぼされるので、エッジ部の洗浄効果
が高まる。なお、図５中の符号６０は洗浄液供給管を示
している。その他の構成は図１乃至図３のものと同一で
ある。
用ローラー４，５の回転数および回転方向がそれぞれ同
一のものを示したが、これに限らず、一対のエッジ部洗
浄用ローラー４，５の回転数を互いに異なるように設定
したり、または、前記一対のエッジ部洗浄用ローラーの
回転方向を互いに逆にすることが好ましい。これによ
り、エッジ部洗浄用ローラー４，５とウェーハ１のエッ
ジ部との摩擦力を高めることができて、粒子汚染物の除
去効果をさらに向上させることができる。なお、一対の
エッジ部洗浄用ローラー４，５の回転数および回転方向
の両方を異ならせてもよい。また、上記実施形態のもの
は、ウェーハを水平状態（横状態）に保持して、洗浄す
る水平型の洗浄装置を示したが、縦型でもよい。すなわ
ち、図５に示すように、一対の回転ブラシ２，３を水平
方向に並ぶように配置し、鉛直状態（縦状態）にあるウ
ェーハ１の下側のエッジ部を一対のエッジ部洗浄用ロー
ラー４，５により保持するものでもよい。この縦型の洗
浄装置では、ウェーハ１の自重が一対のエッジ部洗浄用
ローラー４，５に及ぼされるので、エッジ部の洗浄効果
が高まる。なお、図５中の符号６０は洗浄液供給管を示
している。その他の構成は図１乃至図３のものと同一で
ある。
【００１８】また、図６に示すように、エッジ部洗浄用
ローラー１５として、ローラー部１７に被覆される洗浄
用弾性部材１９に、ウェーハ１のテーパー状のエッジ部
１ａよりも若干小さく、かつエッジ部１ａが嵌め合うよ
うな周溝２０が形成されたものを用いることにより、前
記エッジ部１ａの全領域を確実に擦ることができ、洗浄
効果が高まる。なお、符号１６は、ローラー部１７を支
持する軸部を示している。
ローラー１５として、ローラー部１７に被覆される洗浄
用弾性部材１９に、ウェーハ１のテーパー状のエッジ部
１ａよりも若干小さく、かつエッジ部１ａが嵌め合うよ
うな周溝２０が形成されたものを用いることにより、前
記エッジ部１ａの全領域を確実に擦ることができ、洗浄
効果が高まる。なお、符号１６は、ローラー部１７を支
持する軸部を示している。
【００１９】
【発明の効果】本発明は、以上説明したとおりに構成さ
れているので、以下に記載するような効果を奏する。請
求項１に記載の発明は、一対の回転ブラシによりウェー
ハの両面（ウェーハ面）を洗浄し、この際、一対の回転
ブラシの作用によりウェーハのエッジ部は、回転するエ
ッジ洗浄用ローラーに向けて押圧され、これによりウェ
ーハは回転しつつ、その全周のエッジ部がエッジ部洗浄
用ローラーの洗浄用弾性部材で擦られて洗浄される。こ
のように、ウェーハの両面とエッジ部を同時に洗浄でき
るとともに、一対の回転ブラシやエッジ部洗浄用ローラ
ーは定位置で回転するのみで、移動しない。したがっ
て、生産性に優れかつ小型な洗浄装置を提供できる。
れているので、以下に記載するような効果を奏する。請
求項１に記載の発明は、一対の回転ブラシによりウェー
ハの両面（ウェーハ面）を洗浄し、この際、一対の回転
ブラシの作用によりウェーハのエッジ部は、回転するエ
ッジ洗浄用ローラーに向けて押圧され、これによりウェ
ーハは回転しつつ、その全周のエッジ部がエッジ部洗浄
用ローラーの洗浄用弾性部材で擦られて洗浄される。こ
のように、ウェーハの両面とエッジ部を同時に洗浄でき
るとともに、一対の回転ブラシやエッジ部洗浄用ローラ
ーは定位置で回転するのみで、移動しない。したがっ
て、生産性に優れかつ小型な洗浄装置を提供できる。
【００２０】請求項２に記載の発明は、上記効果の他、
一対の回転ブラシの回転力の他に、ウェーハの自重によ
ってもそのエッジ部がエッジ部洗浄用ローラーに押圧さ
れるので、このエッジ部の粒子汚染物（スラリー等）の
除去効率が高まる。請求項３に記載の発明は、上記効果
の他、エッジ部洗浄用ローラーが一対備えられているの
で、ウェーハをより安定に保持しつつ回転させることが
できる。請求項４に記載の発明は、上記効果の他、ウェ
ーハを単に円柱状のエッジ部洗浄用ローラーに押し付け
るものと比較して、ウェーハをさらに安定に支持でき
る。請求項５および請求項６の発明は、上記効果の他、
エッジ部洗浄用ローラーとウェーハのエッジ部との摩擦
力を高めることができて、粒子汚染物の除去効果をさら
に向上させることができる。
一対の回転ブラシの回転力の他に、ウェーハの自重によ
ってもそのエッジ部がエッジ部洗浄用ローラーに押圧さ
れるので、このエッジ部の粒子汚染物（スラリー等）の
除去効率が高まる。請求項３に記載の発明は、上記効果
の他、エッジ部洗浄用ローラーが一対備えられているの
で、ウェーハをより安定に保持しつつ回転させることが
できる。請求項４に記載の発明は、上記効果の他、ウェ
ーハを単に円柱状のエッジ部洗浄用ローラーに押し付け
るものと比較して、ウェーハをさらに安定に支持でき
る。請求項５および請求項６の発明は、上記効果の他、
エッジ部洗浄用ローラーとウェーハのエッジ部との摩擦
力を高めることができて、粒子汚染物の除去効果をさら
に向上させることができる。
【図１】 本発明のウェーハ洗浄装置の一実施形態の斜
視図である。
視図である。
【図２】 図１の平面図である。
【図３】 図２のＸ−Ｘ線断面図である。
【図４】 図１乃至図３に示したエッジ部洗浄用ローラ
ーの拡大斜視図である。
ーの拡大斜視図である。
【図５】 本発明に係わるウェーハの洗浄装置の他の実
施形態の斜視図である。
施形態の斜視図である。
【図６】 エッジ部洗浄用ローラーの他の例を示す断面
図である。
図である。
１ 半導体ウェーハ １ａ テーパー部 ２，３ 回転ブラシ ４，５，１５ エッジ部洗浄用ローラー ６，６０ 洗浄液供給管 ７，８ 洗浄液供給ノズル ９ 軸部 １０ ＰＶＡ（ポリビニルアルコール） １１ 突起 １２，１６ 軸部 １３，１７ ローラー部 １３ａ，２０ 周溝 １４，１９ 洗浄用弾性部材
Claims (6)
- 【請求項１】 両面に洗浄液を供給されるウェーハの前
記両面を挟持するとともに、互いに逆方向に回転するこ
とにより前記両面をそれぞれ洗浄処理するための一対の
回転ブラシと、 前記ウェーハの、前記一対の回転ブラシによって前記ウ
ェーハに沿うように作用する力の方向側のエッジ部に接
触して前記ウェーハを定位置に保持するとともに、回転
することにより前記ウェーハを回転させるための、表面
に洗浄用弾性部材が被覆されたエッジ部洗浄用ローラー
と、を備えていることを特徴とするウェーハの洗浄装
置。 - 【請求項２】 前記ウェーハは鉛直方向に配され、前記
一対の回転ブラシは、前記ウェーハに下方向の力が働く
ように互いに逆方向に回転するものである請求項１に記
載のウェーハの洗浄装置。 - 【請求項３】 前記エッジ部洗浄用ローラーは一対備え
られている請求項１または請求項２に記載のウェーハの
洗浄装置。 - 【請求項４】 前記エッジ部洗浄用ローラーには、前記
ウェーハのエッジ部が入り込むような略Ｖ字型の周溝が
形成されている請求項１乃至請求項３のいずれか１項に
記載のウェーハの洗浄装置。 - 【請求項５】 前記一対のエッジ部洗浄用ローラーの回
転数は互いに異なっている請求項３または請求項４に記
載のウェーハの洗浄装置。 - 【請求項６】 前記一対のエッジ部洗浄用ローラーの回
転方向は互いに逆になっている請求項３乃至請求項５の
いずれか１項に記載のウェーハの洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9157169A JPH11625A (ja) | 1997-06-13 | 1997-06-13 | ウェーハの洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9157169A JPH11625A (ja) | 1997-06-13 | 1997-06-13 | ウェーハの洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11625A true JPH11625A (ja) | 1999-01-06 |
Family
ID=15643705
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9157169A Withdrawn JPH11625A (ja) | 1997-06-13 | 1997-06-13 | ウェーハの洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11625A (ja) |
Cited By (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1997
- 1997-06-13 JP JP9157169A patent/JPH11625A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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