JP2000237700A - 基板洗浄装置 - Google Patents

基板洗浄装置

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JP2000237700A
JP2000237700A JP11045300A JP4530099A JP2000237700A JP 2000237700 A JP2000237700 A JP 2000237700A JP 11045300 A JP11045300 A JP 11045300A JP 4530099 A JP4530099 A JP 4530099A JP 2000237700 A JP2000237700 A JP 2000237700A
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brush
substrate
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different
cleaning apparatus
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JP11045300A
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English (en)
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Masami Otani
正美 大谷
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板表面に付着したパーティクルを効率的に
除去できる基板洗浄装置を提供する。 【解決手段】 洗浄ブラシ９は基板を洗浄する洗浄部９
ｃ、洗浄部９ｃを保持する保持部９ｄおよび支持部９ｅ
を備える。洗浄部９ｃは、複数のブラシ部９ａ，９ｂか
ら構成される。ブラシ部９ａ，９ｂは、線径の異なる複
数のブラシ材１９ａ，１９ｂによりそれぞれ形成され
る。これにより、ブラシ部９ａとブラシ部９ｂとは剛性
が異なる。洗浄ブラシ９が回転する基板に当接した際
に、ブラシ部９ａ，９ｂから基板表面に付着したパーテ
ィクルに作用する摩擦力は、ブラシ部９ａ，９ｂごとに
異なるため、同時に各種のパーティクルを基板表面から
除去することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板の洗浄を行う
基板洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハ、フォトマスク用ガラス基
板、液晶表示用ガラス基板、光ディスク用基板等の基板
を回転させながら基板表面を洗浄する回転式基板洗浄装
置が用いられている。この回転式基板洗浄装置には、ブ
ラシ式基板洗浄装置、超音波式基板洗浄装置および高圧
噴射式基板洗浄装置がある。
【０００３】ブラシ式基板洗浄装置では、基板を水平姿
勢で回転させ、ノズルから洗浄液を基板上に供給しなが
ら洗浄ブラシを基板表面の中心部から外周部まで移動さ
せることにより、基板の表面を洗浄する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ブラシ
式基板洗浄装置で基板を洗浄した場合、基板表面に付着
した種々のパーティクル（固体微粒子）を十分除去でき
ないことがある。この場合、種類の異なるブラシを用い
て再度基板を洗浄し、パーティクルの除去を行ってい
る。このように、基板に付着したパーティクルの種類に
よって、ブラシの種類を変える必要が生じる。基板表面
に付着したパーティクルに合わないブラシを使用した場
合には、微細なパーティクルが基板表面に残留したり、
ブラシの種類を変えて再度洗浄しなくてはならない。
【０００５】本発明は、基板表面に付着したパーティク
ルを効率的に除去できる基板洗浄装置を提供することで
ある。
【０００６】
【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る基板洗浄装置は、基板を洗浄する基板洗浄装
置であって、基板を保持する基板保持手段と、基板保持
手段を回転させる回転駆動手段と、基板保持手段に保持
された基板の表面に当接可能に設けられた洗浄ブラシと
を備え、洗浄ブラシは、異なる剛性を有する複数のブラ
シ部と、複数のブラシ部を保持するブラシ保持部とを備
えたものである。
【０００７】第１の発明に係る基板洗浄装置において
は、基板が基板保持手段に保持された状態で回転駆動手
段により回転駆動される。回転する基板の表面に洗浄ブ
ラシが当接すると、基板表面に付着したパーティクル
は、異なる剛性を有する複数のブラシ部から異なる押圧
力を受ける。そのため、基板表面に付着したパーティク
ルは、複数のブラシ部から異なる摩擦力を受けることに
なる。これにより、基板表面に付着した各種パーティク
ルを基板表面から同時に除去することが可能となり、効
率的に基板表面を洗浄することができる。
【０００８】第２の発明に係る基板洗浄装置は、第１の
発明に係る基板洗浄装置の構成において、複数のブラシ
部は、異なる線径のブラシ材により構成されたものであ
る。
【０００９】この場合、複数のブラシ部を構成するブラ
シ材が異なる線径を有することにより、複数のブラシ部
が異なる剛性を有することになる。そのため、基板表面
に付着したパーティクルは、複数のブラシ部から異なる
押圧力を受け、異なる摩擦力を受けることになる。これ
により、基板表面に付着したパーティクルを効率的に除
去することが可能となる。
【００１０】第３の発明に係る基板洗浄装置は、第１の
発明に係る基板洗浄装置の構成において、複数のブラシ
部は、異なる材質のブラシ材により構成されたものであ
る。
【００１１】この場合、複数のブラシ部を構成するブラ
シ材が異なる材質を有することにより複数のブラシ部が
異なる剛性を有することになる。そのため、基板表面に
付着したパーティクルは、複数のブラシ部から異なる押
圧力を受け、異なる摩擦力を受けることになる。これに
より、基板表面に付着したパーティクルを効率的に除去
することが可能となる。
【００１２】第４の発明に係る基板洗浄装置は、第１の
発明に係る基板洗浄装置の構成において、複数のブラシ
部は、異なる密度で設けられたブラシ材により構成され
たものである。
【００１３】この場合、複数のブラシ部を構成するブラ
シ材が異なる密度で設けられることにより、複数のブラ
シ部が異なる剛性を有することになる。そのため、基板
表面に付着したパーティクルは、複数のブラシ部から異
なる押圧力を受け、異なる摩擦力を受けることになる。
これにより、基板表面に付着したパーティクルを効率的
に除去することが可能となる。
【００１４】第５の発明に係る基板洗浄装置は、第１の
発明に係る基板洗浄装置の構成におて、複数のブラシ部
は、ブラシ保持部の中心に関して放射状に配置されたも
のである。
【００１５】この場合、洗浄ブラシを回転させると、基
板表面に付着したパーティクルは、放射状に配置された
複数のブラシ部の各々から異なる摩擦力を順次受けるこ
とができるとともに基板表面からはぎ取られたパーティ
クルが複数のブラシ部外へ効率的に掃き出される。した
がって、基板に付着したパーティクルを十分に除去する
ことが可能となる。
【００１６】第６の発明に係る基板洗浄装置は、第１の
発明に係る基板洗浄装置の構成において、複数のブラシ
部は、互いに平行に配置されたものである。
【００１７】この場合、洗浄ブラシを各ブラシ部に垂直
な方向に移動させるか、または洗浄ブラシを各ブラシ部
が基板の回転方向に垂直になるように配置すると、基板
表面に付着したパーティクルは、平行に配置された複数
のブラシ部の各々から異なる摩擦力を順次受けることが
できる。したがって、基板表面に付着した各種のパーテ
ィクルを基板表面から十分に除去することが可能とな
る。
【００１８】第７の発明に係る基板洗浄装置は、第１の
発明に係る基板洗浄装置の構成において、ブラシ保持部
に孔部が形成され、複数のブラシ部に孔部に連通する開
口部が形成されたものである。
【００１９】この場合、ブラシ保持部の孔部および複数
のブラシ部の開口部を通して基板上に洗浄液を供給する
ことができる。これにより、基板表面からはぎ取られた
パーティクルを基板外に洗い流すことができる。したが
って、基板表面を十分に洗浄することができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例における
回転式基板洗浄装置の模式的断面図、図２は図１の回転
式基板洗浄装置の模式的平面図である。図１および図２
の回転式基板洗浄装置はブラシ式基板洗浄装置である。
【００２１】図１に示すように、ハウジング１内に基板
１００を吸引保持する真空吸着式スピンチャックからな
る回転保持部２が配設されている。回転保持部２はモー
タ３により鉛直方向の回転軸Ｐ１の周りで回転駆動され
る。回転保持部２の周囲には、基板１００を取り囲むよ
うにカップ４が上下動自在に設けられている。カップ４
の下面には、洗浄液を排出するための排出口５が設けら
れている。
【００２２】また、カップ４の側方には、ブラシアーム
６がアーム駆動部７により鉛直方向の回動軸Ｐ２の周り
で回動可能に設けられている。ブラシアーム６の先端部
にはブラシ駆動部８が設けられ、ブラシ駆動部８の下部
に洗浄ブラシ９が取り付けられている。洗浄ブラシ９は
ブラシ駆動部８により鉛直方向の回転軸Ｐ３の周りで回
転駆動される。
【００２３】さらに、基板１００の上方には、基板１０
０の表面に純水等の洗浄液を供給するためのノズル１０
が配設されている。モータ３、アーム駆動部７およびブ
ラシ駆動部８は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）、メモリ
等からなる制御部１１により制御される。
【００２４】図２に示すように、基板１００は回転軸Ｐ
１の周りで矢印Ｘの方向に回転され、ブラシアーム６は
アーム駆動部７により回動軸Ｐ２の周りで矢印Ｙの方向
に回動される。
【００２５】図３は図１の回転式基板洗浄装置に用いら
れる洗浄ブラシ９の第１の例を示す斜視図である。
【００２６】図３に示すように、洗浄ブラシ９は、基板
１００を洗浄する円柱状の洗浄部９ｃ、洗浄部９ｃを保
持する保持部９ｄおよび保持部９ｄの背面より延びる支
持部９ｅより形成される。
【００２７】洗浄部９ｃは、保持部９ｄの中心に関して
放射状に配置された複数のブラシ部９ａ，９ｂから構成
される。ブラシ部９ａとブラシ部９ｂとは、線径の異な
る複数のブラシ材１９ａ，１９ｂによりそれぞれ形成さ
れる。したがって、ブラシ材１９ａとブラシ材１９ｂと
は剛性が異なる。
【００２８】これらのブラシ部９ａ，９ｂの剛性は、材
質自身の剛性と、形状寸法に関する剛性との積で表さ
れ、変形抵抗を表す尺度である。基板１００に対する押
圧力は、剛性が大きい程大きくなる。
【００２９】ブラシ材１９ａ，１９ｂの材質は、例え
ば、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、
ポリアミド（ＰＡ）およびアクリル樹脂等である。本例
のブラシ材１９ａおよびブラシ材１９ｂには、同一の材
質を用いている。また、ブラシ材１９ａの取り付け密度
およびブラシ材１９ｂの取り付け密度は同一である。
【００３０】本実施例では、回転保持部２が基板保持手
段に相当し、モータ３が回転駆動手段に相当し、洗浄ブ
ラシ９が洗浄ブラシに相当し、ブラシ部９ａ，９ｂがブ
ラシ部に相当し、ブラシ材１９ａ，１９ｂがブラシ材に
相当する。
【００３１】次に、図１および図２を用いて、回転式基
板洗浄装置の動作を説明する。基板１００が回転軸Ｐ１
の周りで矢印Ｘの方向に回転されるとともにノズル１０
から洗浄液が基板１００上に吐出される。ブラシアーム
６が上昇して回動軸Ｐ２の周りで回動し、洗浄ブラシ９
を基板１００の中心部まで移動させる。その後、ブラシ
アーム６が下降し、洗浄ブラシ９が基板１００の表面に
接触する。そして、洗浄ブラシ９が回転軸Ｐ３の周りで
回転するとともに、ブラシアーム６が回動軸Ｐ２の周り
で回動する。これにより、洗浄ブラシ９が、回転する基
板１００の表面の中心部から外周部に向かって破線２０
０で示すように円弧状に走査される。これにより、基板
１００の表面が洗浄される。
【００３２】本例の洗浄ブラシ９では、ブラシ材１９ａ
とブラシ材１９ｂとの線径が異なることにより、ブラシ
部９ａおよびブラシ部９ｂの剛性が異なる。そのため、
基板１００に対する押圧力は、ブラシ部９ａとブラシ部
９ｂとで異なる。これにより、ブラシ部９ａおよびブラ
シ部９ｂにより基板１００表面に付着したパーティクル
に作用する摩擦力が異なる。したがって、ブラシ部９ａ
およびブラシ部９ｂにより基板１００表面から種類が異
なるパーティクルがはぎ取られる。このように、剛性の
異なるブラシ部９ａ，９ｂを用いることにより、基板１
００の表面に付着したパーティクルを効率的に除去する
ことができる。
【００３３】また、本例の洗浄ブラシ９では、ブラシ部
９ａ，９ｂが保持部９ｄの中心に関して放射状に配置さ
れているため、洗浄ブラシ９の回転に伴って基板１００
の表面に付着したパーティクルが複数のブラシ部９ａ，
９ｂから摩擦力を順次受けることになる。したがって、
基板１００の表面に付着したパーティクルのはぎ取りお
よび掃き出しが十分に行われる。
【００３４】図４は図１の回転式基板洗浄装置に用いら
れる洗浄ブラシの第２の例を示す斜視図である。図４の
洗浄ブラシ９が図３の洗浄ブラシ９と異なるのは、洗浄
部９ｃの構成のみである。したがって、洗浄部９ｃにつ
いて説明する。
【００３５】図４の洗浄ブラシ９の洗浄部９ｃは、平行
に形成された複数のブラシ部９ａ，９ｂからなる。ブラ
シ部９ａ，９ｂは、線径の異なるブラシ材１９ａ，１９
ｂによりそれぞれ形成される。したがって、ブラシ材１
９ａとブラシ材１９ｂとは剛性が異なる。
【００３６】本例の洗浄ブラシ９においても、ブラシ部
９ａとブラシ部９ｂとの剛性が異なるため、ブラシ部９
ａおよびブラシ部９ｂにより基板１００の表面に付着し
たパーティクルに作用する摩擦力が異なる。したがっ
て、ブラシ部９ａおよびブラシ部９ｂにより基板１００
の表面から種類が異なるパーティクルがはぎ取られる。
これにより、基板１００の表面に付着したパーティクル
を効率的に除去することができる。
【００３７】また、本例の洗浄ブラシ９では、複数のブ
ラシ部９ａ，９ｂが平行に配置されているので、各ブラ
シ部９ａ，９ｂと垂直な方向に洗浄ブラシ９を移動させ
るか、または洗浄ブラシ９を各ブラシ部９ａ，９ｂが基
板１００の回転方向に垂直になるように配置した場合
に、基板１００の表面に付着したパーティクルが複数の
ブラシ部９ａ，９ｂから摩擦力を順次受けることにな
る。したがって、基板１００の表面に付着したパーティ
クルのはぎ取りおよび掃き出しが十分に行われる。
【００３８】図５は図１の回転式基板洗浄装置に用いら
れる洗浄ブラシの第３の例を示す斜視図である。
【００３９】図５の洗浄ブラシ９は、図３の洗浄ブラシ
９の保持部９ｄおよび支持部９ｅに孔部９ｆを設け、洗
浄部９ｃに開口部９ｇを設けたものである。本例では、
孔部９ｆが孔部に相当し、開口部９ｇが開口部に相当す
る。
【００４０】純水等の洗浄液を、保持部９ｄおよび支持
部９ｅの孔部９ｆおよび洗浄部９ｃの開口部９ｇを通し
て基板１００上に供給することができる。これにより、
基板１００表面からはぎ取られたパーティクルが効率的
に洗い流される。
【００４１】なお、上記実施例では、ブラシ材１９ａ，
１９ｂの線径を異ならせることにより、ブラシ部９ａ，
９ｂの剛性に差を生じさせたが、ブラシ１９ａ，１９ｂ
の材質を異ならせることにより、ブラシ部９ａ，９ｂの
剛性に差を生じさせることもできる。また、ブラシ部９
ａ，９ｂにおけるブラシ材１９ａ，１９ｂの密度を異な
らせることにより、ブラシ部９ａ，９ｂの剛性に差を生
じさせることもできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例における回転式基板洗浄装置
の模式的断面図である。
【図２】図１の回転式基板洗浄装置の模式的平面図であ
る。
【図３】図１の回転式基板洗浄装置に用いられる洗浄ブ
ラシの第１の例を示す斜視図である。
【図４】図１の回転式基板洗浄装置に用いられる洗浄ブ
ラシの第２の例を示す斜視図である。
【図５】図１の回転式基板洗浄装置に用いられる洗浄ブ
ラシの第３の例を示す斜視図である。
【符号の説明】
２ 回転保持部 ３ モータ ９ 洗浄ブラシ ９ａ，９ｂ ブラシ部 ９ｄ 保持部 ９ｆ 孔部 ９ｇ 開口部 １２ 洗浄ブラシ

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板を洗浄する基板洗浄装置であって、 基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段を回転させる回転駆動手段と、 前記基板保持手段に保持された基板の表面に当接可能に
    設けられた洗浄ブラシとを備え、 前記洗浄ブラシは、 異なる剛性を有する複数のブラシ部と、 前記複数のブラシ部を保持するブラシ保持部とを備えた
    ことを特徴とする基板洗浄装置。
  2. 【請求項２】 前記複数のブラシ部は、異なる線径のブ
    ラシ材により構成されたことを特徴とする請求項１記載
    の基板洗浄装置。
  3. 【請求項３】 前記複数のブラシ部は、異なる材質のブ
    ラシ材により構成されたことを特徴とする請求項１記載
    の基板洗浄装置。
  4. 【請求項４】 前記複数のブラシ部は、異なる密度で設
    けられたブラシ材により構成されたことを特徴とする請
    求項１記載の基板洗浄装置。
  5. 【請求項５】 前記複数のブラシ部は、前記ブラシ保持
    部の中心に関して放射状に配置されたことを特徴とする
    請求項１記載の基板洗浄装置。
  6. 【請求項６】 前記複数のブラシ部は、互いに平行に配
    置されたことを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装
    置。
  7. 【請求項７】 前記ブラシ保持部に孔部が形成され、前
    記複数のブラシ部に前記孔部に連通する開口部が形成さ
    れたことを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装置。
JP11045300A 1999-02-23 1999-02-23 基板洗浄装置 Abandoned JP2000237700A (ja)

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