JPH09321004A - ウエハーの洗浄方法及びウエハー洗浄装置 - Google Patents

ウエハーの洗浄方法及びウエハー洗浄装置

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JPH09321004A
JPH09321004A JP8133889A JP13388996A JPH09321004A JP H09321004 A JPH09321004 A JP H09321004A JP 8133889 A JP8133889 A JP 8133889A JP 13388996 A JP13388996 A JP 13388996A JP H09321004 A JPH09321004 A JP H09321004A
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JP
Japan
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wafer
cleaning
brush
dust
cleaning liquid
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Pending
Application number
JP8133889A
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English (en)
Inventor
Hironori Ibusuki
浩典 指宿
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 洗浄後のダストをウエハー表面から除去する
性能の優れたウエハーの洗浄方法及びウエハー洗浄装置
を提供する。 【解決手段】 ウエハー洗浄装置1のチャック7は、ウ
エハー11のデバイスを作り込んでいる側の面(表面)
を下に向けた状態で、ウエハー11を保持する。そし
て、ブラシ21で、下に向いているウエハー表面15を
スクラブ洗浄する。 【効果】 ダストを含む洗浄液滴17は、ウエハーの表
面15から下に重力で落ちるので、ダストがウエハー表
面に残留する可能性を低くできる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体デバイス等
を作り込んだウエハーの洗浄方法及び洗浄装置に関す
る。特には、ダストの除去性に優れたウエハーの洗浄方
法及びウエハー洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイスをウエハー表面に作り込
む工程は多段階に及ぶ。この工程の途中においては、ウ
エハー表面を洗浄する洗浄工程が何回も含まれる。ウエ
ハーの洗浄方法は、薬液中にウエハーをディップするタ
イプや、ウエハー表面に洗浄液を吹き付けるタイプ、さ
らに洗浄液を送りながらブラシを擦り付けるタイプ等が
ある。これらの各洗浄方法において、ウエハーをディッ
プするタイプでは、ウエハーを立てて(表面を重力方向
と平行にして)処理していた。また、洗浄液を吹き付け
るタイプやブラシタイプでは、表面を上に向けて(反重
力方向に向けて)処理していた。
【0003】例えば、特開昭63−307741や特開
平5−3184には、ウエハーを表面を上にして保持し
た状態でウエハーを回転させながら該表面をブラッシン
グする洗浄方法が開示されている。このうち後者の特開
平5−3184には、ウエハーのデバイスを作り込んで
いる面と反対側の面(裏面)を下方に向けた状態で洗浄
する方法が開示されている。しかし、これは、あくまで
もウエハーの裏面洗浄である。本発明者の知りうる限り
では、ウエハーの表面を下方に向けて該表面を洗浄して
いる例はなく、かつそのような提案もなされていない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述のウエハー表面を
上に向けてブラッシングする方法では、ブラシでウエハ
ー表面のダストが擦り取られたとしても、そのダストが
ウエハー表面に乗ったままで次の乾燥工程に行き、その
ままダストがウエハー表面に残留し易い。このような弊
害をなくすために、ウエハーを高速回転(スピン)させ
て、遠心力によってウエハー表面に乗ったダストを洗浄
液ごと振り飛ばして除去する方法があるが、そのまま振
り飛ばされずに残ってしまったり、コーターカップから
のダストのはねかえり付着という問題点もある。結局、
従来の技術は、せっかく擦り取ったダストをウエハー表
面上から除去する方法としては未熟なものであった。
【0005】本発明は、洗浄後のダストをウエハー表面
から除去する性能の優れたウエハーの洗浄方法及びウエ
ハー洗浄装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明のウエハーの洗浄方法は、ウエハーのデバイ
スを作り込んでいる側の面(表面)を下に向けた状態で
該表面を洗浄することを特徴とする。ダストを含む洗浄
液はウエハーの表面から下に重力で落ちるので、ダスト
がウエハー表面に残留する可能性を低くできる。
【0007】本発明のウエハー洗浄装置は、ウエハーの
デバイスを作り込んでいる側の面(表面)を下に向けた
状態で該ウエハーを保持する手段と、 該ウエハー表面
を洗浄する手段と、 を具備することを特徴とする。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ具体的に
説明する。図1は、本発明の一実施例に係るウエハーの
洗浄方法及びウエハー洗浄装置を示す模式的側面図であ
る。図1のウエハー洗浄装置1は、ウエハー11を保持
する手段である真空チャック7及びウエハー表面を洗浄
する手段であるブラシ21等からなる。同装置1におい
て、ウエハー11は、その上面である裏面13を真空チ
ャック7に吸着されて保持されており、その表面15は
下方に向いている。
【0009】真空チャック7は、その保持面を下方に向
けて設けられている。真空チャック7の上面には、バキ
ュームホースを兼ねる回転軸5が接続されている。回転
軸5の上端はウエハー回転用モーター3に接続されてい
る。したがって、真空チャック7は、回転軸5を介して
モーター3によって回転駆動される。回転数は一例とし
て、6インチウエハーで500〜1,500rpm 程度で
ある。回転軸5は中空に作られており、真空チャック7
を真空に引くバキュームホースの役割を兼ねている。回
転軸5の上部外周には真空継手であるロータリージョイ
ント4が設けられており、このロータリージョイント4
には、真空ポンプにつながるバキュームホース(図示さ
れず)が接続されている。なお、他のタイプのチャッ
ク、例えばクランプチャックやベルヌイチャックを用い
ることとしてもよい。
【0010】ウエハー11の下方には、回転するブラシ
21が図の左右にトラバース可能に設けられている。ブ
ラシ21(ホルダー)はディスク状をしており、その上
面にブラシの毛23が多数植設されている。ブラシ21
は、その下面中央から下方に延びるブラシ回転軸27に
よって回転駆動される。ブラシ21及び回転軸27に
は、内部に洗浄液の流路が設けられており、超純水等の
洗浄液が回転軸27からブラシ21に供給され、ブラシ
21の上面のブラシの毛の間からウエハー11表面15
に送られる。
【0011】ブラシの毛23の材料としては、太さ約
0.1mm程度のナイロン系が適当である。また、毛のブ
ラシではなく、スポンジをウエハー表面に当てるもので
もよい。ブラシとウエハーとの接触具合は、ブラシの先
端がウエハー表面に接触するかしないか程度のごく軽い
接触具合に調整することが好ましい。ブラシが曲がる程
度の接触ではウエハー表面に傷を付ける恐れがあるの
で、この調整は慎重に行う必要がある。
【0012】本発明は、発明の性質上、ウエハーの表面
にブラシを擦り付けて該表面のダストを除去する洗浄方
式を採ることが、意義がより深い。しかし、それに限定
されるものではない。ウエハー表面を擦り取る作用のな
い単なる洗浄液シャワー式のものであってもよい。ある
いは、洗浄液のジェット流でウエハー表面を強力に洗浄
するものであってもよい。
【0013】上述のように、ウエハーも低速で回転させ
ながらブラシを回転させ、ブラシからは純水等の洗浄液
が送出されながらウエハー表面のダストを擦り取る。そ
して、洗浄される表面が下方を向いているので、スクラ
ブを行っている最中でもダストは洗浄液とともに重力で
落下する。スクラブを一定時間(15sec 程度)行った
後はブラシをウエハーから離し、ウエハーを高速回転
(3,000rpm 程度)させてまだ表面に残っているダ
ストと洗浄液を吹き飛ばし乾燥させることもできる。
【0014】図2は、本発明の他の一実施例に係る洗浄
方法及び洗浄装置を模式的に示す側面図である。図1の
洗浄装置のブラシ21は小形でディスク型(トラバース
式)であるのに対し、図2の洗浄装置のブラシ31は大
形で、ウエハー表面全体にわたるものである。ブラシ3
1は、ウエハー11の表面15と平行な軸の回りを回転
する。
【0015】ブラシ(ホルダー)31は細長い円筒状で
あり、その外周面には、多数のブラシの毛33が植設さ
れている。ブラシ31の一端には、ブラシ31を回転駆
動する回転軸37が接続されている。回転軸37及びブ
ラシ31内には洗浄液の流路が設けられており、ブラシ
31外周の毛33の間から洗浄液が供給される。図2の
実施例においても、ウエハー11はその表面15を下に
して取り付けられており、ウエハー11及びブラシ31
の回転によって、ブラシの毛23が洗浄液の存在下ウエ
ハー表面15を擦り、該表面に付着しているダストを擦
り取り、ダストは洗浄液滴17中に含まれて下方に落下
する。
【0016】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
は以下の効果を発揮する。 ブラシで擦り取ったダストなど、ウエハー表面のダ
ストを、洗浄(あるいはブラッシング)中にも洗浄液と
ともに除去できるので、ダストの除去効果が高い。 ウエハー表面が下を向いているので、洗浄処理中に
クリーンルーム等の大気からのダストがウエハー上に落
ちたとしても、裏面にしか付着しないのでデバイス面へ
のダストの影響はない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係るウエハーの洗浄方法及
びウエハー洗浄装置を示す模式的側面図である。
【図2】本発明の他の一実施例に係る洗浄方法及び洗浄
装置を模式的に示す側面図である。
【符号の説明】
1…ウエハー洗浄装置、3…ウエハー回転用モーター、
4…ロータリージョイント、5…回転軸兼バキュームホ
ース、7…真空チャック、11 ウエハー、13…ウエ
ハー裏面、15…ウエハー表面、17…洗浄液滴、21
…ブラシ、23…ブラシの毛、25…洗浄液流、27…
ブラシ回転軸兼洗浄液ホース、31…ブラシ、33…ブ
ラシの毛、35…洗浄液流、37…ブラシ回転軸兼洗浄
液ホース

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ウエハーのデバイスを作り込んでいる側
    の面(表面)を下に向けた状態で該表面を洗浄すること
    を特徴とするウエハーの洗浄方法。
  2. 【請求項2】 上記洗浄が、各表面を擦り取る作用を有
    するスクラブ洗浄である請求項1記載のウエハーの洗浄
    方法。
  3. 【請求項3】 ウエハーのデバイスを作り込んでいる側
    の面(表面)を下に向けた状態で該表面にブラシを擦り
    付けて該表面のダストを除去することを特徴とするウエ
    ハーの洗浄方法。
  4. 【請求項4】 ウエハーのデバイスを作り込んでいる側
    の面(表面)を下に向けた状態で該ウエハーを保持する
    手段と、 該ウエハー表面を洗浄する手段と、 を具備することを特徴とするウエハー洗浄装置。
  5. 【請求項5】 さらに、ウエハーの表面に擦り付けられ
    るブラシを具備する請求項4記載のウエハー洗浄装置。
JP8133889A 1996-05-28 1996-05-28 ウエハーの洗浄方法及びウエハー洗浄装置 Pending JPH09321004A (ja)

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Cited By (4)

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