JPH08305012A - 乾式オフセット印刷板製造用の、水で被膜除去できる記録材料 - Google Patents
乾式オフセット印刷板製造用の、水で被膜除去できる記録材料Info
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- JPH08305012A JPH08305012A JP8112676A JP11267696A JPH08305012A JP H08305012 A JPH08305012 A JP H08305012A JP 8112676 A JP8112676 A JP 8112676A JP 11267696 A JP11267696 A JP 11267696A JP H08305012 A JPH08305012 A JP H08305012A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 有機溶剤を使用せず、シリコーン層の予備膨
潤なしに、純水で現像できる乾式オフセット印刷板を製
造するための記録材料の提供。 【解決手段】 基材、ジアゾニウム塩重縮合生成物およ
び３〜５０重量％の鉱酸を含有する放射線感応性層、お
よび最上部に位置するシリコーン層を有する記録材料。
潤なしに、純水で現像できる乾式オフセット印刷板を製
造するための記録材料の提供。 【解決手段】 基材、ジアゾニウム塩重縮合生成物およ
び３〜５０重量％の鉱酸を含有する放射線感応性層、お
よび最上部に位置するシリコーン層を有する記録材料。
Description
【０００１】本発明は、基材、ジアゾニウム塩重縮合生
成物を含有する放射線感応性層およびその上にシリコー
ン層を有する記録材料に関する。この記録材料から乾式
印刷用のオフセット印刷板を製造することができる。
成物を含有する放射線感応性層およびその上にシリコー
ン層を有する記録材料に関する。この記録材料から乾式
印刷用のオフセット印刷板を製造することができる。
【０００２】上記の型の記録材料および湿し水を必要と
しないオフセット印刷板（乾式平版印刷板）は以前から
公知である。例えば、ＤＥ−Ａ １６７１６３７明細書
に記載されている記録材料は、感光性ジアゾニウム塩を
含有する層およびシリコーン層を支持するアルミニウム
基材を含んでなる。像様照射の際、放射線が当たった区
域でジアゾニウム塩が分解し、その結果、これらの区域
が水溶性になる。現像剤溶液と共に穏やかに擦ることに
より、これらの区域を、その上にあるシリコーン層の区
域と共に除去し、アルミニウム表面を露出させることが
できる。現像剤溶液は、例えば、酢酸ブチル、プロパノ
ール、および水からなる。未照射区域現像の際に変化し
ない。これらの区域は印刷中にインクをはじくのに対
し、乾いたアルミニウム表面は印刷インクを引き付け
る。
しないオフセット印刷板（乾式平版印刷板）は以前から
公知である。例えば、ＤＥ−Ａ １６７１６３７明細書
に記載されている記録材料は、感光性ジアゾニウム塩を
含有する層およびシリコーン層を支持するアルミニウム
基材を含んでなる。像様照射の際、放射線が当たった区
域でジアゾニウム塩が分解し、その結果、これらの区域
が水溶性になる。現像剤溶液と共に穏やかに擦ることに
より、これらの区域を、その上にあるシリコーン層の区
域と共に除去し、アルミニウム表面を露出させることが
できる。現像剤溶液は、例えば、酢酸ブチル、プロパノ
ール、および水からなる。未照射区域現像の際に変化し
ない。これらの区域は印刷中にインクをはじくのに対
し、乾いたアルミニウム表面は印刷インクを引き付け
る。
【０００３】ＤＥ−Ａ １５７１８９０（＝ＵＳ−Ａ
３６７７１７８）明細書による乾式印刷用のオフセット
印刷板は、最初にジアゾ層を、次いでシリコーン層を施
した基材を含んでなる記録材料から製造される。ジアゾ
層は、例えばホルムアルデヒドと４−ジアゾジフェニル
アミンの縮合物の亜鉛複塩からなる。像様照射の際、ジ
アゾ層の、放射線に当たった区域が硬化する。続いて現
像剤で擦ると、ジアゾ層の未照射区域、すなわち未硬化
区域が、その上にあったシリコーン層の部分と共に除去
され、やはりこれらの地点で基材が露出する。現像剤と
しては一般的に表面活性物質（界面活性剤）を含む水溶
液が使用される。さらに、有機溶剤（溶剤混合物）も使
用できる。
３６７７１７８）明細書による乾式印刷用のオフセット
印刷板は、最初にジアゾ層を、次いでシリコーン層を施
した基材を含んでなる記録材料から製造される。ジアゾ
層は、例えばホルムアルデヒドと４−ジアゾジフェニル
アミンの縮合物の亜鉛複塩からなる。像様照射の際、ジ
アゾ層の、放射線に当たった区域が硬化する。続いて現
像剤で擦ると、ジアゾ層の未照射区域、すなわち未硬化
区域が、その上にあったシリコーン層の部分と共に除去
され、やはりこれらの地点で基材が露出する。現像剤と
しては一般的に表面活性物質（界面活性剤）を含む水溶
液が使用される。さらに、有機溶剤（溶剤混合物）も使
用できる。
【０００４】ＤＥ−Ａ ２３２３９７２（＝ＵＳ−Ａ
３９３３４９５）明細書による乾式印刷用オフセット印
刷板を製造するための記録材料は、厚さ約０．１〜３μ
ｍで感光性物質を含有する層および厚さ２〜５μｍの１
液型未加硫シリコーンゴムの層を有する基材を含んでな
る。この感光性物質は、pH７．５以下でジアゾニウム化
合物をポリヒドロキシベンゾフェノンと反応させること
により得られる。ジアゾニウム化合物は、ホルムアルデ
ヒドと４−ジアゾジフェニルアミンの縮合生成物でよ
い。さらに、感光層はバインダー、例えばエポキシ樹
脂、フェノール性樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニリデ
ン樹脂またはセルロースエステル、を含有することもで
きる。次いで、記録材料を、ポジ型またはネガ型原画を
通して像様に照射する。次いで、有機溶剤、例えばシク
ロヘキサノン、で処理する。溶剤は、感光層の照射区域
を、その上に位置するシリコーン層の区域と共に除去す
る。
３９３３４９５）明細書による乾式印刷用オフセット印
刷板を製造するための記録材料は、厚さ約０．１〜３μ
ｍで感光性物質を含有する層および厚さ２〜５μｍの１
液型未加硫シリコーンゴムの層を有する基材を含んでな
る。この感光性物質は、pH７．５以下でジアゾニウム化
合物をポリヒドロキシベンゾフェノンと反応させること
により得られる。ジアゾニウム化合物は、ホルムアルデ
ヒドと４−ジアゾジフェニルアミンの縮合生成物でよ
い。さらに、感光層はバインダー、例えばエポキシ樹
脂、フェノール性樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニリデ
ン樹脂またはセルロースエステル、を含有することもで
きる。次いで、記録材料を、ポジ型またはネガ型原画を
通して像様に照射する。次いで、有機溶剤、例えばシク
ロヘキサノン、で処理する。溶剤は、感光層の照射区域
を、その上に位置するシリコーン層の区域と共に除去す
る。
【０００５】ＤＥ−Ａ ２３５０２１１（＝ＧＢ １４
４２３７４）明細書によれば、感光層に塗布される厚さ
１０μｍ未満のシリコーン層は、常温で硬化するオルガ
ノポリシロキサンおよび特定の重量比で付加重合により
硬化する２液型未加硫シリコーンゴムを含む塗料組成物
で製造される。付加重合反応は、パラジウムまたは白金
化合物による触媒作用を受ける。塗料溶液は数時間処理
することができる。それにもかかわらず、シリコーン層
に指紋が付かなくなるまでの、約１００〜２００℃にお
ける乾燥時間は僅か約１分間である。この様にして製造
した記録材料を像様露光し、続いて有機溶剤濃度の高い
混合物、例えばキシレン、エチレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテートおよびγ−ブチロラクトンの混合
物または酢酸ブチル、プロパノールおよび水の混合物、
で現像することにより、最終的な乾式オフセット印刷板
を製造することができる。水性現像剤は使用できない。
４２３７４）明細書によれば、感光層に塗布される厚さ
１０μｍ未満のシリコーン層は、常温で硬化するオルガ
ノポリシロキサンおよび特定の重量比で付加重合により
硬化する２液型未加硫シリコーンゴムを含む塗料組成物
で製造される。付加重合反応は、パラジウムまたは白金
化合物による触媒作用を受ける。塗料溶液は数時間処理
することができる。それにもかかわらず、シリコーン層
に指紋が付かなくなるまでの、約１００〜２００℃にお
ける乾燥時間は僅か約１分間である。この様にして製造
した記録材料を像様露光し、続いて有機溶剤濃度の高い
混合物、例えばキシレン、エチレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテートおよびγ−ブチロラクトンの混合
物または酢酸ブチル、プロパノールおよび水の混合物、
で現像することにより、最終的な乾式オフセット印刷板
を製造することができる。水性現像剤は使用できない。
【０００６】ＥＰ−Ａ ０３４９１５７明細書による乾
式オフセット印刷板製造用の記録材料は、通常はアルミ
ニウムである基材、感光層および最上層としてのシリコ
ーン層を含んでなる。シリコーン層は、シリコーンマク
ロマーの単位およびフッ素含有モノマーの単位を含む共
重合体からなる。シリコーンマクロマーは一般的にアク
リロイルまたはメタクリロイル末端基を有するオルガノ
ポリシロキサンであるのに対し、フッ素含有モノマーは
フルオロアルキルのアクリル酸エステルまたはメタクリ
ル酸エステルである。感光層は、感光性成分としての４
−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドの縮合生
成物に加えて、重合体状バインダー、例えばフェノール
／ホルムアルデヒド樹脂、を含有することができる。乾
式オフセット印刷板を製造するには、像様に照射した記
録材料を有機溶剤で現像する。一般的に、脂肪族または
芳香族炭化水素、例えばヘキサンまたはトルエン、また
はハロゲン化炭化水素および極性溶剤、例えばメタノー
ル、エタノールまたはアセトン、の混合物を使用する。
現像中、シリコーン層の、光が照射した区域が除去され
るのに対し、その下にある本来感光性の層は無傷のまま
残る。
式オフセット印刷板製造用の記録材料は、通常はアルミ
ニウムである基材、感光層および最上層としてのシリコ
ーン層を含んでなる。シリコーン層は、シリコーンマク
ロマーの単位およびフッ素含有モノマーの単位を含む共
重合体からなる。シリコーンマクロマーは一般的にアク
リロイルまたはメタクリロイル末端基を有するオルガノ
ポリシロキサンであるのに対し、フッ素含有モノマーは
フルオロアルキルのアクリル酸エステルまたはメタクリ
ル酸エステルである。感光層は、感光性成分としての４
−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドの縮合生
成物に加えて、重合体状バインダー、例えばフェノール
／ホルムアルデヒド樹脂、を含有することができる。乾
式オフセット印刷板を製造するには、像様に照射した記
録材料を有機溶剤で現像する。一般的に、脂肪族または
芳香族炭化水素、例えばヘキサンまたはトルエン、また
はハロゲン化炭化水素および極性溶剤、例えばメタノー
ル、エタノールまたはアセトン、の混合物を使用する。
現像中、シリコーン層の、光が照射した区域が除去され
るのに対し、その下にある本来感光性の層は無傷のまま
残る。
【０００７】ＥＰ−Ａ ０３９４９２３明細書には、
（アルミニウム）基材、感光層およびシリコーン層を有
する乾式オフセット印刷板製造用の記録材料が記載され
ている。感光層は、ジアゾ樹脂、およびアクリル酸また
はメタクリル酸の水酸基含有エステルまたはアミドの単
位を含む重合体を含む。好ましいアクリル酸の水酸基含
有エステルはアクリル酸２−ヒドロキシエチルである。
ジアゾ樹脂の例としては、４−ジアゾジフェニルアミン
およびホルムアルデヒドの縮合生成物を挙げることがで
きる。必要に応じて、基材と感光層の間に、さらにプラ
イマー層を配置する。上記の水酸基含有重合体は、プラ
イマー層中にも存在できる。感光層は基材に特に良く密
着する。未加硫シリコーンゴム層は、線状の、またはゆ
るく架橋したオルガノポリシロキサンからなる。架橋
は、付加または縮合反応により行なわれる。像様に照射
した後、記録材料を水性現像剤で処理する。光が照射し
なかった区域では、元の感光層が、その上に位置してい
たシリコーン層の部分と共に、現像剤により除去され
る。
（アルミニウム）基材、感光層およびシリコーン層を有
する乾式オフセット印刷板製造用の記録材料が記載され
ている。感光層は、ジアゾ樹脂、およびアクリル酸また
はメタクリル酸の水酸基含有エステルまたはアミドの単
位を含む重合体を含む。好ましいアクリル酸の水酸基含
有エステルはアクリル酸２−ヒドロキシエチルである。
ジアゾ樹脂の例としては、４−ジアゾジフェニルアミン
およびホルムアルデヒドの縮合生成物を挙げることがで
きる。必要に応じて、基材と感光層の間に、さらにプラ
イマー層を配置する。上記の水酸基含有重合体は、プラ
イマー層中にも存在できる。感光層は基材に特に良く密
着する。未加硫シリコーンゴム層は、線状の、またはゆ
るく架橋したオルガノポリシロキサンからなる。架橋
は、付加または縮合反応により行なわれる。像様に照射
した後、記録材料を水性現像剤で処理する。光が照射し
なかった区域では、元の感光層が、その上に位置してい
たシリコーン層の部分と共に、現像剤により除去され
る。
【０００８】ＥＰ−Ａ ０３９４９２４明細書による記
録材料は、すぐ上に記載した記録材料とは、ジアゾ樹脂
の一部が、水酸基含有重合体と混合されて、プライマー
層中に存在するという点で異なっている。
録材料は、すぐ上に記載した記録材料とは、ジアゾ樹脂
の一部が、水酸基含有重合体と混合されて、プライマー
層中に存在するという点で異なっている。
【０００９】ＤＥ−Ａ ３５４５２０４明細書による乾
式オフセット印刷板製造用の記録材料では、感光層が特
殊なジアゾニウム塩重縮合生成物を含んでいる。この生
成物は、カルボニル化合物と芳香族ジアゾニウム塩およ
びさらに別の芳香族化合物、特に芳香族アミン、フェノ
ール、フェノール性エーテル、芳香族チオエーテル、芳
香族炭化水素または複素芳香族化合物、との縮合により
製造される。シリコーン層は好ましくは多成分未加硫シ
リコーンゴムからなる。像様に照射した記録材料は、必
要に応じて水または他の有機溶剤と混合した有機溶剤で
現像する。現像剤は好ましくは、シリコーン層を膨潤さ
せることができる成分、およびさらに他の、元の感光層
の未照射区域を選択的に溶解させる成分を含む。ジアゾ
ニウム塩重縮合生成物、バインダーおよび現像剤の適当
な組合せにより、照射区域を溶解させ、これによってネ
ガ型の乾式オフセット印刷板を得ることも可能である。
式オフセット印刷板製造用の記録材料では、感光層が特
殊なジアゾニウム塩重縮合生成物を含んでいる。この生
成物は、カルボニル化合物と芳香族ジアゾニウム塩およ
びさらに別の芳香族化合物、特に芳香族アミン、フェノ
ール、フェノール性エーテル、芳香族チオエーテル、芳
香族炭化水素または複素芳香族化合物、との縮合により
製造される。シリコーン層は好ましくは多成分未加硫シ
リコーンゴムからなる。像様に照射した記録材料は、必
要に応じて水または他の有機溶剤と混合した有機溶剤で
現像する。現像剤は好ましくは、シリコーン層を膨潤さ
せることができる成分、およびさらに他の、元の感光層
の未照射区域を選択的に溶解させる成分を含む。ジアゾ
ニウム塩重縮合生成物、バインダーおよび現像剤の適当
な組合せにより、照射区域を溶解させ、これによってネ
ガ型の乾式オフセット印刷板を得ることも可能である。
【００１０】これまで市販されている乾式オフセット印
刷板は、炭化水素溶剤による１工程現像、または有機媒
体中、高温で予備膨潤させ、続いて輸送媒体として水を
使用し、未照射区域におけるシリコーン層を機械的に除
去する、２工程現像により現像される。どちらの場合
も、照射区域と未照射区域の間の境界区域でシリコーン
層を垂直に切り通す必要がある。予備膨潤のために、こ
の方法ではシリコーン層が放射線感応性層から剥離し、
そのために未加硫シリコーンゴムが未照射区域で除去さ
れることがある。他方、照射区域では、この剥離過程が
起こらないので、未加硫シリコーンゴムが機械的な影響
を受けず、したがって除去されない。
刷板は、炭化水素溶剤による１工程現像、または有機媒
体中、高温で予備膨潤させ、続いて輸送媒体として水を
使用し、未照射区域におけるシリコーン層を機械的に除
去する、２工程現像により現像される。どちらの場合
も、照射区域と未照射区域の間の境界区域でシリコーン
層を垂直に切り通す必要がある。予備膨潤のために、こ
の方法ではシリコーン層が放射線感応性層から剥離し、
そのために未加硫シリコーンゴムが未照射区域で除去さ
れることがある。他方、照射区域では、この剥離過程が
起こらないので、未加硫シリコーンゴムが機械的な影響
を受けず、したがって除去されない。
【００１１】そこで、本発明の目的は、有機溶剤を使用
せず、シリコーン層の予備膨潤なしに、純水で現像でき
る、乾式オフセット印刷板を製造するための記録材料を
提供することである。
せず、シリコーン層の予備膨潤なしに、純水で現像でき
る、乾式オフセット印刷板を製造するための記録材料を
提供することである。
【００１２】この目的は、基材、ジアゾニウム塩重縮合
生成物を含有する放射線感応性層、およびシリコーン層
を（この順に）含んでなる記録材料であって、放射線感
応性層が、放射線感応性層の総重量に対して３〜５０重
量％の鉱酸を含有する記録材料により達成される。しか
し、これに関して、放射線感応性層の成分の全体が水溶
性である必要はない。
生成物を含有する放射線感応性層、およびシリコーン層
を（この順に）含んでなる記録材料であって、放射線感
応性層が、放射線感応性層の総重量に対して３〜５０重
量％の鉱酸を含有する記録材料により達成される。しか
し、これに関して、放射線感応性層の成分の全体が水溶
性である必要はない。
【００１３】鉱酸は、比較的弱い鉱酸が好ましい。ここ
では、ｐＫa が１．５を超える鉱酸を「比較的弱い」鉱
酸と呼ぶ。１を超える解離過程を有する鉱酸、例えばリ
ン酸、の場合、それぞれの場合にこの値は第一解離過程
に適用される。特に好ましい、比較的弱い鉱酸はリン酸
（ｐＫa ２．１６）およびホウ酸（ｐＫa ９．２５）で
ある。
では、ｐＫa が１．５を超える鉱酸を「比較的弱い」鉱
酸と呼ぶ。１を超える解離過程を有する鉱酸、例えばリ
ン酸、の場合、それぞれの場合にこの値は第一解離過程
に適用される。特に好ましい、比較的弱い鉱酸はリン酸
（ｐＫa ２．１６）およびホウ酸（ｐＫa ９．２５）で
ある。
【００１４】放射線感応性層用の基材は、好ましくは金
属の板またはホイル、特に好ましくはアルミニウムまた
はその合金の１種からなる板またはホイルである。基材
は前処理するのが有利であることが分かっている。例え
ば、アルミニウム基材は一般的に機械的および／または
電気化学的に粗面化され、次いで必要に応じて陽極酸化
される。その後、例えばポリビニルホスホン酸、ケイ酸
塩、リン酸塩、ヘキサフルオロジルコニウム酸塩または
加水分解テトラエチルオルトケイ酸塩でさらに化学的に
処理されてもよい。鋼およびクロムも基材として適当で
ある。従来の平版印刷板と対照的に、親水性の基材表面
は必要ないので、銅、黄銅または他の親油性金属、およ
びプラスチック、例えばポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリイミドまたは酢酸セルロース、も使用できる。
また、直接平版印刷にも使用できるゴム状弾性基材も適
当である。
属の板またはホイル、特に好ましくはアルミニウムまた
はその合金の１種からなる板またはホイルである。基材
は前処理するのが有利であることが分かっている。例え
ば、アルミニウム基材は一般的に機械的および／または
電気化学的に粗面化され、次いで必要に応じて陽極酸化
される。その後、例えばポリビニルホスホン酸、ケイ酸
塩、リン酸塩、ヘキサフルオロジルコニウム酸塩または
加水分解テトラエチルオルトケイ酸塩でさらに化学的に
処理されてもよい。鋼およびクロムも基材として適当で
ある。従来の平版印刷板と対照的に、親水性の基材表面
は必要ないので、銅、黄銅または他の親油性金属、およ
びプラスチック、例えばポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリイミドまたは酢酸セルロース、も使用できる。
また、直接平版印刷にも使用できるゴム状弾性基材も適
当である。
【００１５】本発明の記録材料から製造される乾式印刷
板の場合、基材はインク受容材料として作用する。シリ
コーン層の、照射および現像の後に残る区域は、画像背
景として作用する。これらの区域はインクをはじく。印
刷には、従来の油系印刷インクまたは乾式オフセット印
刷および反転オフセット印刷用に特別に開発された親水
性印刷インクを使用することができる。乾式オフセット
印刷に一般的な親油性印刷インクを使用するのが好まし
い。
板の場合、基材はインク受容材料として作用する。シリ
コーン層の、照射および現像の後に残る区域は、画像背
景として作用する。これらの区域はインクをはじく。印
刷には、従来の油系印刷インクまたは乾式オフセット印
刷および反転オフセット印刷用に特別に開発された親水
性印刷インクを使用することができる。乾式オフセット
印刷に一般的な親油性印刷インクを使用するのが好まし
い。
【００１６】放射線感応性層は芳香族ジアゾニウム塩の
縮合生成物を含有する。その様な縮合生成物は、例えば
ＤＥ−Ａ １２１４０８６（＝ＵＳ−Ａ ３２３５３８
４）明細書に記載されている。これらの物質は、強酸性
媒体（好ましくは濃リン酸）中で、多核芳香族ジアゾニ
ウム化合物（好ましくは非置換または置換ジフェニルア
ミン−４−ジアゾニウム塩）と活性カルボニル化合物
（好ましくはホルムアルデヒド）の縮合により製造する
ことができる。
縮合生成物を含有する。その様な縮合生成物は、例えば
ＤＥ−Ａ １２１４０８６（＝ＵＳ−Ａ ３２３５３８
４）明細書に記載されている。これらの物質は、強酸性
媒体（好ましくは濃リン酸）中で、多核芳香族ジアゾニ
ウム化合物（好ましくは非置換または置換ジフェニルア
ミン−４−ジアゾニウム塩）と活性カルボニル化合物
（好ましくはホルムアルデヒド）の縮合により製造する
ことができる。
【００１７】ＵＳ−Ａ ３８６７１４７およびＵＳ−Ａ
４０２１２４３各明細書に記載されているジアゾニウ
ム塩縮合生成物も適当である。これらの化合物はさら
に、ジアゾニウム基がない単位を含むこともできる。こ
れらの物質は、好ましくは芳香族アミン、フェノール、
フェノール性エーテル、芳香族チオエーテル、芳香族炭
化水素、複素芳香族化合物または酸アミドから誘導され
る。
４０２１２４３各明細書に記載されているジアゾニウ
ム塩縮合生成物も適当である。これらの化合物はさら
に、ジアゾニウム基がない単位を含むこともできる。こ
れらの物質は、好ましくは芳香族アミン、フェノール、
フェノール性エーテル、芳香族チオエーテル、芳香族炭
化水素、複素芳香族化合物または酸アミドから誘導され
る。
【００１８】ジアゾニウム基を含む単位は、好ましくは
式 （Ｒ1 −Ｒ2 −）p Ｒ3 −Ｎ2 Ｘ の化合物から形成されるが、式中、Ｘは縮合生成物の陰
イオンであり、ｐは１〜３の整数であり、Ｒ1 は活性カ
ルボニル化合物と縮合できる少なくとも１つの位置を含
む芳香族基であり、Ｒ2 は単結合または基−（ＣＨ2 ）
q −ＮＲ4 −、−Ｏ−（ＣＨ2 ）r −ＮＲ4 −、−Ｓ−
（ＣＨ2 ）r −ＮＲ4 −、−Ｓ−ＣＨ2 −ＣＯ−ＮＲ4
−、−Ｏ−Ｒ5 −Ｏ−、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＣＯ−
ＮＲ4 −の一つであり、ｑは０〜５の整数であり、ｒは
２〜５の整数であり、Ｒ4 は水素原子、（Ｃ1 〜Ｃ5 ）
アルキル基−、（Ｃ7 〜Ｃ12）アラルキル基または（Ｃ
6 〜Ｃ12）アリール基であり、Ｒ5 は（Ｃ6 〜Ｃ12）ア
リーレン基であり、Ｒ3 は（ｐ＋１）価の、非置換また
は置換ベンゼン基である。
式 （Ｒ1 −Ｒ2 −）p Ｒ3 −Ｎ2 Ｘ の化合物から形成されるが、式中、Ｘは縮合生成物の陰
イオンであり、ｐは１〜３の整数であり、Ｒ1 は活性カ
ルボニル化合物と縮合できる少なくとも１つの位置を含
む芳香族基であり、Ｒ2 は単結合または基−（ＣＨ2 ）
q −ＮＲ4 −、−Ｏ−（ＣＨ2 ）r −ＮＲ4 −、−Ｓ−
（ＣＨ2 ）r −ＮＲ4 −、−Ｓ−ＣＨ2 −ＣＯ−ＮＲ4
−、−Ｏ−Ｒ5 −Ｏ−、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＣＯ−
ＮＲ4 −の一つであり、ｑは０〜５の整数であり、ｒは
２〜５の整数であり、Ｒ4 は水素原子、（Ｃ1 〜Ｃ5 ）
アルキル基−、（Ｃ7 〜Ｃ12）アラルキル基または（Ｃ
6 〜Ｃ12）アリール基であり、Ｒ5 は（Ｃ6 〜Ｃ12）ア
リーレン基であり、Ｒ3 は（ｐ＋１）価の、非置換また
は置換ベンゼン基である。
【００１９】縮合生成物の陰イオンＸは、好ましくは塩
化物、硫酸塩、硫酸水素塩、リン酸水素塩またはリン酸
二水素塩、ヘキサフルオロリン酸、テトラフルオロホウ
酸または非置換または置換アルカンスルホン酸塩または
アレーンスルホン酸塩である。アレーンスルホン酸塩の
中で、メタンスルホン酸塩およびメシチレンスルホン酸
塩が好ましい。陰イオンの性質は、本質的にジアゾニウ
ム塩縮合生成物の溶解性を決定する。
化物、硫酸塩、硫酸水素塩、リン酸水素塩またはリン酸
二水素塩、ヘキサフルオロリン酸、テトラフルオロホウ
酸または非置換または置換アルカンスルホン酸塩または
アレーンスルホン酸塩である。アレーンスルホン酸塩の
中で、メタンスルホン酸塩およびメシチレンスルホン酸
塩が好ましい。陰イオンの性質は、本質的にジアゾニウ
ム塩縮合生成物の溶解性を決定する。
【００２０】特に好ましい物質は、非置換または置換ジ
フェニルアミン−４−ジアゾニウム塩、特に３−メトキ
シジフェニルアミン−４−ジアゾニウム塩、との縮合生
成物である。特に容易に入手できる物質は、上記のジア
ゾニウム塩とホルムアルデヒドまたは４，４´−ビスメ
トキシメチルジフェニルエーテルの縮合生成物である。
縮合は、硫酸、リン酸またはメタンスルホン酸中で行な
うことができる。これに関して、リン酸が特に好まし
い。縮合生成物は、リン酸溶液中または遊離した形態で
さらに処理することができる。縮合生成物は、鉱酸、例
えばリン酸または硫酸、または有機酸、例えばｐ−トル
エンスルホン酸、の存在により安定化される。２個のメ
トキシメチル基を含む芳香族化合物で製造した縮合生成
物が、カルボニル化合物、例えばホルムアルデヒド、で
製造した化合物よりも好ましい。というのは、原則的
に、放射線感度がより高い記録材料が得られるためであ
る。
フェニルアミン−４−ジアゾニウム塩、特に３−メトキ
シジフェニルアミン−４−ジアゾニウム塩、との縮合生
成物である。特に容易に入手できる物質は、上記のジア
ゾニウム塩とホルムアルデヒドまたは４，４´−ビスメ
トキシメチルジフェニルエーテルの縮合生成物である。
縮合は、硫酸、リン酸またはメタンスルホン酸中で行な
うことができる。これに関して、リン酸が特に好まし
い。縮合生成物は、リン酸溶液中または遊離した形態で
さらに処理することができる。縮合生成物は、鉱酸、例
えばリン酸または硫酸、または有機酸、例えばｐ−トル
エンスルホン酸、の存在により安定化される。２個のメ
トキシメチル基を含む芳香族化合物で製造した縮合生成
物が、カルボニル化合物、例えばホルムアルデヒド、で
製造した化合物よりも好ましい。というのは、原則的
に、放射線感度がより高い記録材料が得られるためであ
る。
【００２１】放射線感応性層は一般的に２０〜９７重量
％のジアゾニウム塩縮合生成物を含有する。水で現像で
きる様にするためには、さらに３〜５０重量％、好まし
くは５〜４５重量％、の、好ましくは比較的弱い鉱酸を
加える。さらに、７０重量％までの、好ましくは５〜４
０重量％の、特に好ましくは１０〜３０重量％の、重合
体状バインダーまたはバインダー混合物も加える。重量
に関するデータは、それぞれの場合、放射線感応性層の
総重量に対して表示する。
％のジアゾニウム塩縮合生成物を含有する。水で現像で
きる様にするためには、さらに３〜５０重量％、好まし
くは５〜４５重量％、の、好ましくは比較的弱い鉱酸を
加える。さらに、７０重量％までの、好ましくは５〜４
０重量％の、特に好ましくは１０〜３０重量％の、重合
体状バインダーまたはバインダー混合物も加える。重量
に関するデータは、それぞれの場合、放射線感応性層の
総重量に対して表示する。
【００２２】バインダーは極性を有するべきである。非
イオン系で水溶性の重合体および共重合体、例えば多糖
類、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、
ポリオキシメチレン、ポリアクリルアミド、ポリ（Ｎ−
ビニルアミド）、ポリアクリル酸エステル、ポリメタク
リル酸エステルおよびポリビニルアルコール、が適当で
ある。特に好ましい物質は、ビニルアルコール単位を含
む重合体および共重合体である。非イオン系で非水溶性
の重合体および共重合体、例えばエポキシ樹脂、アクリ
ル酸エステル樹脂またはメタクリル酸エステル樹脂、セ
ルロース誘導体、も適当である。特に好ましい物質は、
ポリビニルブチラールおよびそれから誘導される重合体
である。これらの物質には、特に、ポリビニルブチラー
ルと無水ジカルボン酸、例えば無水マレイン酸および無
水ピロメリト酸、の反応生成物が含まれる。
イオン系で水溶性の重合体および共重合体、例えば多糖
類、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、
ポリオキシメチレン、ポリアクリルアミド、ポリ（Ｎ−
ビニルアミド）、ポリアクリル酸エステル、ポリメタク
リル酸エステルおよびポリビニルアルコール、が適当で
ある。特に好ましい物質は、ビニルアルコール単位を含
む重合体および共重合体である。非イオン系で非水溶性
の重合体および共重合体、例えばエポキシ樹脂、アクリ
ル酸エステル樹脂またはメタクリル酸エステル樹脂、セ
ルロース誘導体、も適当である。特に好ましい物質は、
ポリビニルブチラールおよびそれから誘導される重合体
である。これらの物質には、特に、ポリビニルブチラー
ルと無水ジカルボン酸、例えば無水マレイン酸および無
水ピロメリト酸、の反応生成物が含まれる。
【００２３】最後に、放射線感応性層は添加剤も含むこ
とができる。これらの添加剤は、主として染料、密着性
促進剤、界面活性剤、レベリング剤または他の、現像性
および／または印刷特性を改良するための助剤である。
添加剤は、放射線感応性層の他の成分との好ましくない
反応を起こさずに、混和し得る必要がある。さらに、添
加剤は、記録材料の放射線感応性を下げない様に、像様
露光に使用する放射線をあまり強く吸収してはならな
い。添加剤の比率は２０重量％以下、好ましくは１０重
量％以下、である。
とができる。これらの添加剤は、主として染料、密着性
促進剤、界面活性剤、レベリング剤または他の、現像性
および／または印刷特性を改良するための助剤である。
添加剤は、放射線感応性層の他の成分との好ましくない
反応を起こさずに、混和し得る必要がある。さらに、添
加剤は、記録材料の放射線感応性を下げない様に、像様
露光に使用する放射線をあまり強く吸収してはならな
い。添加剤の比率は２０重量％以下、好ましくは１０重
量％以下、である。
【００２４】即使用可能な記録材料における放射線感応
性層の重量は、０．００１〜３．００ g/m2 、好ましく
は０．０５〜１．５０ g/m2 、特に好ましくは０．１〜
１．０ g/m2 、である。
性層の重量は、０．００１〜３．００ g/m2 、好ましく
は０．０５〜１．５０ g/m2 、特に好ましくは０．１〜
１．０ g/m2 、である。
【００２５】放射線感応性層と基材の間に、従来一般的
に使用されているプライマー層の一つを配置することが
できる。このプライマー層は、放射線感応性化合物を一
切含まない。
に使用されているプライマー層の一つを配置することが
できる。このプライマー層は、放射線感応性化合物を一
切含まない。
【００２６】原則的にシリコーン層には、湿し水なしに
印刷できる様に十分にインクをはじく未加硫シリコーン
ゴムが適している。ここで、「未加硫シリコーンゴム」
とは、"Chemie und Technologie der Silikone" 、Verl
ag Chemie 、１９６８、３３２頁でNollにより定義され
ている様に、高分子量で、本質的に線状のジオルガノポ
リシロキサンを意味する。他方、「シリコーンゴム」
は、架橋または加硫した製品を意味する。本方法で、放
射線感応性層に塗布し、乾燥させ、架橋させるのは常に
未加硫シリコーンゴムである。
印刷できる様に十分にインクをはじく未加硫シリコーン
ゴムが適している。ここで、「未加硫シリコーンゴム」
とは、"Chemie und Technologie der Silikone" 、Verl
ag Chemie 、１９６８、３３２頁でNollにより定義され
ている様に、高分子量で、本質的に線状のジオルガノポ
リシロキサンを意味する。他方、「シリコーンゴム」
は、架橋または加硫した製品を意味する。本方法で、放
射線感応性層に塗布し、乾燥させ、架橋させるのは常に
未加硫シリコーンゴムである。
【００２７】未加硫シリコーンゴムは、１液型または多
液型の未加硫ゴムでよい。これらの物質の例は、ＤＥ−
Ａ ２３５０２１１、ＤＥ−Ａ ２３５７８７１および
ＤＥ−Ａ ２３５９１０２各明細書に記載されている。
液型の未加硫ゴムでよい。これらの物質の例は、ＤＥ−
Ａ ２３５０２１１、ＤＥ−Ａ ２３５７８７１および
ＤＥ−Ａ ２３５９１０２各明細書に記載されている。
【００２８】１液型の未加硫シリコーンゴムは、従来、
末端に水素原子、アセチル、オキシム、アルコキシまた
はアミノ基、または他の官能基を有するポリジメチルシ
ロキサンを基剤としている。鎖中のメチル基は、他のア
ルキル基により、ハロアルキル基により、あるいは非置
換または置換アリール基により、置換されていてよい。
末端官能基は、容易に加水分解され、湿分の存在下で数
分〜数時間の間に硬化する。
末端に水素原子、アセチル、オキシム、アルコキシまた
はアミノ基、または他の官能基を有するポリジメチルシ
ロキサンを基剤としている。鎖中のメチル基は、他のア
ルキル基により、ハロアルキル基により、あるいは非置
換または置換アリール基により、置換されていてよい。
末端官能基は、容易に加水分解され、湿分の存在下で数
分〜数時間の間に硬化する。
【００２９】多液型の未加硫シリコーンゴムは、付加ま
たは縮合により架橋させることができる。付加により架
橋し得る種類は、一般的に２種類の異なったポリシロキ
サンを含む。一方のポリシロキサンは７０〜９９重量％
の比率で存在し、主鎖のケイ素原子に結合したアルキレ
ン基（特にビニル基）を有する。他方のポリシロキサン
は１〜１０重量％の比率で存在する。その中の水素原子
はケイ素原子に直接結合している。付加反応は、約０．
０００５〜０．００２重量％の白金触媒の存在下で、５
０℃を超える温度で起こる。多液型未加硫シリコーンゴ
ムには、高温（約１００℃）で非常に速く架橋するとい
う利点がある。他方、処理できる時間、いわゆる「ポッ
トライフ」、は比較的短い場合が多い。
たは縮合により架橋させることができる。付加により架
橋し得る種類は、一般的に２種類の異なったポリシロキ
サンを含む。一方のポリシロキサンは７０〜９９重量％
の比率で存在し、主鎖のケイ素原子に結合したアルキレ
ン基（特にビニル基）を有する。他方のポリシロキサン
は１〜１０重量％の比率で存在する。その中の水素原子
はケイ素原子に直接結合している。付加反応は、約０．
０００５〜０．００２重量％の白金触媒の存在下で、５
０℃を超える温度で起こる。多液型未加硫シリコーンゴ
ムには、高温（約１００℃）で非常に速く架橋するとい
う利点がある。他方、処理できる時間、いわゆる「ポッ
トライフ」、は比較的短い場合が多い。
【００３０】縮合により架橋し得る混合物は、反応性の
末端基、例えば水酸基またはアセトキシ基、を有するジ
オルガノポリシロキサンを含有する。これらの物質は、
触媒の存在下でシランまたはオリゴシロキサンで架橋す
る。架橋剤は、シリコーン層の総重量に対して２〜１０
重量％の比率である。触媒は、やはりシリコーン層の総
重量に対して０．０１〜０．１重量％の比率である。こ
れらの組合せは比較的迅速に反応し、したがってポット
ライフが非常に限られている。
末端基、例えば水酸基またはアセトキシ基、を有するジ
オルガノポリシロキサンを含有する。これらの物質は、
触媒の存在下でシランまたはオリゴシロキサンで架橋す
る。架橋剤は、シリコーン層の総重量に対して２〜１０
重量％の比率である。触媒は、やはりシリコーン層の総
重量に対して０．０１〜０．１重量％の比率である。こ
れらの組合せは比較的迅速に反応し、したがってポット
ライフが非常に限られている。
【００３１】シリコーン層は、さらなる他の成分も含有
することができる。これらの成分は、さらに架橋させ
る、密着性を改良する、機械的に補強する、または着色
するために使用する。他の成分は、それぞれの場合に、
シリコーン層の総重量に対して１０重量％以下、好まし
くは５重量％以下、の比率で使用する。
することができる。これらの成分は、さらに架橋させ
る、密着性を改良する、機械的に補強する、または着色
するために使用する。他の成分は、それぞれの場合に、
シリコーン層の総重量に対して１０重量％以下、好まし
くは５重量％以下、の比率で使用する。
【００３２】好ましい混合物は、末端の水酸基を有する
ポリジメチルシロキサン、シラン架橋成分（特に四官能
性または三官能性アルコキシ、アセトキシ−、アミド
−、アミノ−、アミノオキシ−、ケトキシム−またはエ
ノキシシラン）、架橋触媒（特に有機スズまたは有機チ
タン化合物）および必要に応じてさらに他の成分（特に
Ｓｉ−Ｈ結合を含むオルガノポリシロキサン化合物、補
足的に付加架橋させるための白金触媒、密着促進性を有
するシラン、反応遅延剤、充填材および／または染料）
からなる。上記のシラン架橋成分および架橋中に起こる
反応は、J.J. Lebrun およびH. Porteにより“Comprehe
nsive Polymer Science ". Vol. 5[1989],593-609に記
載されている。
ポリジメチルシロキサン、シラン架橋成分（特に四官能
性または三官能性アルコキシ、アセトキシ−、アミド
−、アミノ−、アミノオキシ−、ケトキシム−またはエ
ノキシシラン）、架橋触媒（特に有機スズまたは有機チ
タン化合物）および必要に応じてさらに他の成分（特に
Ｓｉ−Ｈ結合を含むオルガノポリシロキサン化合物、補
足的に付加架橋させるための白金触媒、密着促進性を有
するシラン、反応遅延剤、充填材および／または染料）
からなる。上記のシラン架橋成分および架橋中に起こる
反応は、J.J. Lebrun およびH. Porteにより“Comprehe
nsive Polymer Science ". Vol. 5[1989],593-609に記
載されている。
【００３３】未加硫シリコーンゴムは、層として塗布し
た後、公知の様式で、水分に露出するか、あるいは室温
で自然に、または高温で架橋させて、有機溶剤に本質的
に不溶なシリコーンゴムを形成させる。最終的なシリコ
ーン層の重量は、一般的に１〜２０ g/m2 、好ましくは
１〜５ g/m2 、である。
た後、公知の様式で、水分に露出するか、あるいは室温
で自然に、または高温で架橋させて、有機溶剤に本質的
に不溶なシリコーンゴムを形成させる。最終的なシリコ
ーン層の重量は、一般的に１〜２０ g/m2 、好ましくは
１〜５ g/m2 、である。
【００３４】シリコーン層は最後に透明なカバーホイル
またはカバー被膜で被覆することもできる。
またはカバー被膜で被覆することもできる。
【００３５】本発明の記録材料の製造では、先ず放射線
感応性層の成分を含有する溶液を基剤に塗布する。乾燥
させた層に、シリコーン層の成分を含有する溶液を塗布
し、同様に乾燥させ、架橋させる。この第二の溶液の必
要条件は、放射線感応性層をできるだけ変化させない、
すなわちできるだけ溶解させないことである。塗布は、
流し込み、スプレー、浸漬、ロール塗布により、または
液体被膜を使用して行なう。
感応性層の成分を含有する溶液を基剤に塗布する。乾燥
させた層に、シリコーン層の成分を含有する溶液を塗布
し、同様に乾燥させ、架橋させる。この第二の溶液の必
要条件は、放射線感応性層をできるだけ変化させない、
すなわちできるだけ溶解させないことである。塗布は、
流し込み、スプレー、浸漬、ロール塗布により、または
液体被膜を使用して行なう。
【００３６】放射線感応性層の成分に適当な溶剤は、例
えばアルコール、ケトン、エーテルまたは水である。他
方、シリコーン層の成分は炭化水素、例えばトルエン、
キシレン、特にイソパラフィン（沸点１００〜１８０
℃）、に可溶である。
えばアルコール、ケトン、エーテルまたは水である。他
方、シリコーン層の成分は炭化水素、例えばトルエン、
キシレン、特にイソパラフィン（沸点１００〜１８０
℃）、に可溶である。
【００３７】次いで、本発明の記録材料を、原画（一般
的にポジ型原画）の下で、化学放射線、例えばハロゲン
化金属蒸気ランプ、で照射する。これによって放射線感
応性層で架橋し、したがって（元は）放射線感応性であ
った区域が基剤により強く固定されると考えられる。放
射線感応性層の未照射区域では、密着性がより弱いの
で、現像の際に擦ることにより、シリコーン層および放
射線感応性層を機械的に除去することができる。本発明
の記録材料の重要な利点は、純水で十分に現像できるこ
とである。しかし、印刷所では、作業は一般的に無菌状
態では行なわれないので、水が、細胞の成長を防止する
殺菌剤を含有するのが有利である。即使用可能な印刷板
は、保存加工または染色することもできる。
的にポジ型原画）の下で、化学放射線、例えばハロゲン
化金属蒸気ランプ、で照射する。これによって放射線感
応性層で架橋し、したがって（元は）放射線感応性であ
った区域が基剤により強く固定されると考えられる。放
射線感応性層の未照射区域では、密着性がより弱いの
で、現像の際に擦ることにより、シリコーン層および放
射線感応性層を機械的に除去することができる。本発明
の記録材料の重要な利点は、純水で十分に現像できるこ
とである。しかし、印刷所では、作業は一般的に無菌状
態では行なわれないので、水が、細胞の成長を防止する
殺菌剤を含有するのが有利である。即使用可能な印刷板
は、保存加工または染色することもできる。
【００３８】下記の例は、本発明を例示するためであ
る。これらの例の中で、 pbwは重量部を意味する。
る。これらの例の中で、 pbwは重量部を意味する。
【００３９】例１ 厚さ０．３mmを有し、電気分解により粗面化され、陽極
酸化された、酸化物重量が３．６ g/m2 であるアルミニ
ウム板に、０．１重量％濃度のポリビニルホスホン酸水
溶液で親水性を付与した。前記基材に、３８．４ pbw
の、３−メトキシジフェニルアミン−４−ジアゾニウム
硫酸塩１モルと４，４´−ビスメトキシメチルオキシビ
スフェノール（＝４，４´−ビスメトキシメチルジフェ
ニルエーテル）１モルの、メタンスルホン酸塩として分
離されたジアゾニウム重縮合生成物、３８．４ pbwの、
８５重量％濃度のリン酸、２０．０ pbwの、ポリビニル
ブチラールと無水マレイン酸の反応生成物（ＤＥ−Ａ
３４０４３６６に記載）、２．０ pbwの、トリメトキシ
｛３−［２−（４−ビニルベンジルアミノ）エチルアミ
ノ］プロピル｝シラン塩酸塩（＝Ｎ−（３−トリメトキ
シシラニルプロピル）−Ｎ´−（４−ビニルベンジル）
エチレンジアミン塩酸塩）の４０％濃度メタノール溶液
および０．４ pbwのシリコーン油を２６２７ pbwのエタ
ノールおよび３９４０ pbwのジエチレングリコールモノ
メチルエーテルに導入した溶液を塗布し、１２０℃で２
分間乾燥させた。放射線感応性層の重量は約０．２ g/m
2 であった。
酸化された、酸化物重量が３．６ g/m2 であるアルミニ
ウム板に、０．１重量％濃度のポリビニルホスホン酸水
溶液で親水性を付与した。前記基材に、３８．４ pbw
の、３−メトキシジフェニルアミン−４−ジアゾニウム
硫酸塩１モルと４，４´−ビスメトキシメチルオキシビ
スフェノール（＝４，４´−ビスメトキシメチルジフェ
ニルエーテル）１モルの、メタンスルホン酸塩として分
離されたジアゾニウム重縮合生成物、３８．４ pbwの、
８５重量％濃度のリン酸、２０．０ pbwの、ポリビニル
ブチラールと無水マレイン酸の反応生成物（ＤＥ−Ａ
３４０４３６６に記載）、２．０ pbwの、トリメトキシ
｛３−［２−（４−ビニルベンジルアミノ）エチルアミ
ノ］プロピル｝シラン塩酸塩（＝Ｎ−（３−トリメトキ
シシラニルプロピル）−Ｎ´−（４−ビニルベンジル）
エチレンジアミン塩酸塩）の４０％濃度メタノール溶液
および０．４ pbwのシリコーン油を２６２７ pbwのエタ
ノールおよび３９４０ pbwのジエチレングリコールモノ
メチルエーテルに導入した溶液を塗布し、１２０℃で２
分間乾燥させた。放射線感応性層の重量は約０．２ g/m
2 であった。
【００４０】放射線感応性層に、９０．５ pbwの末端水
酸基を有するポリジメチルシロキサン（粘度：２０℃で
５０００ mPa・s ）、９．４ pbwのトリアセトキシビニ
ルシランおよび０．１ pbwの二酢酸ジブチルスズを９０
９ pbwのイソパラフィン（初期沸点１１８℃）に導入し
た溶液を塗布し、続いて１２０℃の循環空気で３分間乾
燥させた。シリコーン層の重量は約２．４ g/m2 であっ
た。
酸基を有するポリジメチルシロキサン（粘度：２０℃で
５０００ mPa・s ）、９．４ pbwのトリアセトキシビニ
ルシランおよび０．１ pbwの二酢酸ジブチルスズを９０
９ pbwのイソパラフィン（初期沸点１１８℃）に導入し
た溶液を塗布し、続いて１２０℃の循環空気で３分間乾
燥させた。シリコーン層の重量は約２．４ g/m2 であっ
た。
【００４１】この様にして製造した記録材料の上にポジ
型原画を載せた。次いで、記録材料を、距離１１０cmに
置いた５kWのハロゲン化金属ランプを使用し、原画を通
して２０秒間照射した。次いで、この様にして像様に照
射した記録材料を水で湿し、柔らかい布で１分間擦って
現像した（「被膜除去した」）。この工程で、感光層
の、放射線が当たらなかった区域およびシリコーン層が
除去され、これらの区域で基材が露出した。画像点を乾
式オフセット印刷インクで着色し、目で良く見える様に
した。印刷板は解像度が高く、鮮明な印象を与えた。
型原画を載せた。次いで、記録材料を、距離１１０cmに
置いた５kWのハロゲン化金属ランプを使用し、原画を通
して２０秒間照射した。次いで、この様にして像様に照
射した記録材料を水で湿し、柔らかい布で１分間擦って
現像した（「被膜除去した」）。この工程で、感光層
の、放射線が当たらなかった区域およびシリコーン層が
除去され、これらの区域で基材が露出した。画像点を乾
式オフセット印刷インクで着色し、目で良く見える様に
した。印刷板は解像度が高く、鮮明な印象を与えた。
【００４２】照射した記録材料は、市販の現像装置で、
従来の方法を使用して現像しても、同様に良好な結果を
得ることができた。
従来の方法を使用して現像しても、同様に良好な結果を
得ることができた。
【００４３】これらの方法の一つで、像様に照射した記
録材料を、４３〜４５℃に加熱した、本質的にポリプロ
ピレングリコールからなる溶液（Toray Ind., Inc.から
供給される機械活性剤“PP-1" ）を使用して約１分間予
備膨潤させ、次いで水でブラシ処理し、続いて界面活性
剤、染料および両親媒性重合体を含有する水性溶液（To
ray Ind., Inc.から供給される“PA-1" ）で後処理し
た。
録材料を、４３〜４５℃に加熱した、本質的にポリプロ
ピレングリコールからなる溶液（Toray Ind., Inc.から
供給される機械活性剤“PP-1" ）を使用して約１分間予
備膨潤させ、次いで水でブラシ処理し、続いて界面活性
剤、染料および両親媒性重合体を含有する水性溶液（To
ray Ind., Inc.から供給される“PA-1" ）で後処理し
た。
【００４４】例２〜９ 例１に記載する様にして放射線感応性記録材料を製造し
た。放射線感応性層の製造に使用した塗料組成物の組成
は表１に示す通りである。
た。放射線感応性層の製造に使用した塗料組成物の組成
は表１に示す通りである。
【００４５】次いで被覆を例１と同様に乾燥させた。乾
燥後、放射線感応性層の重量は、それぞれ例２〜４およ
び６では０．２ g/m2 であり、例５および７〜９では
０．３g/m2 であった。
燥後、放射線感応性層の重量は、それぞれ例２〜４およ
び６では０．２ g/m2 であり、例５および７〜９では
０．３g/m2 であった。
【００４６】次いで、８８．５ pbwの末端水酸基を有す
るポリジメチルシロキサン（粘度：２０℃で５０００ m
Pa・s ）、９．４ pbwのトリアセトキシビニルシラン、
０．１ pbwの二酢酸ジブチルスズ、１．０ pbwのポリ水
素メチルシロキサン（粘度：２５℃で１５〜３０ mPa・
s ）および１．０ pbwの白金触媒（Wacker GmbH から供
給されるWacker OL ）を８０９ pbwのイソパラフィン
（初期沸点１１８℃）に導入した溶液を塗布することに
より、シリコーン層を製造した。
るポリジメチルシロキサン（粘度：２０℃で５０００ m
Pa・s ）、９．４ pbwのトリアセトキシビニルシラン、
０．１ pbwの二酢酸ジブチルスズ、１．０ pbwのポリ水
素メチルシロキサン（粘度：２５℃で１５〜３０ mPa・
s ）および１．０ pbwの白金触媒（Wacker GmbH から供
給されるWacker OL ）を８０９ pbwのイソパラフィン
（初期沸点１１８℃）に導入した溶液を塗布することに
より、シリコーン層を製造した。
【００４７】塗布後、１２０℃で３分間乾燥させた。そ
れぞれの場合、シリコーン層の重量は約２．４３ g/m2
であった。照射および現像を例１と同様に行なった。
れぞれの場合、シリコーン層の重量は約２．４３ g/m2
であった。照射および現像を例１と同様に行なった。
【００４８】例１０ 例１に記載する基材を、８４．２ pbwの、塩化３−メト
キシジフェニルアミン−４−ジアゾニウム１モルとパラ
ホルムアルデヒド（リン酸中５０重量％濃度）１．１モ
ルのジアゾニウム重縮合生成物、１３．８ pbwの、アク
リル酸と１−ヘキサデセン（モル比２：１）の、カルボ
キシル基の５０％がポリエチレングリコールでエステル
化されている（６〜１０エチレンオキシド単位）、平均
分子量Ｍw が２０，０００の共重合体、０．８ pbwのビ
クトリアブルーＦＢＲ（ベーシックブルー５５）、０．
８ pbwの、トリメトキシ｛３−［２−（４−ビニルベン
ジルアミノ）エチルアミノ］プロピル｝シラン塩酸塩の
４０％濃度メタノール溶液および０．４ pbwのシリコー
ン油（ (R)Edaplan LA 411）を２０６０ pbwのエタノー
ル、９３７ pbwのジエチレングリコールモノメチルエー
テルおよび７４９ pbwの水に導入した溶液で被覆した。
例１と同様に乾燥させた後、放射線感応性層の重量は
０．３ g/m2 であった。
キシジフェニルアミン−４−ジアゾニウム１モルとパラ
ホルムアルデヒド（リン酸中５０重量％濃度）１．１モ
ルのジアゾニウム重縮合生成物、１３．８ pbwの、アク
リル酸と１−ヘキサデセン（モル比２：１）の、カルボ
キシル基の５０％がポリエチレングリコールでエステル
化されている（６〜１０エチレンオキシド単位）、平均
分子量Ｍw が２０，０００の共重合体、０．８ pbwのビ
クトリアブルーＦＢＲ（ベーシックブルー５５）、０．
８ pbwの、トリメトキシ｛３−［２−（４−ビニルベン
ジルアミノ）エチルアミノ］プロピル｝シラン塩酸塩の
４０％濃度メタノール溶液および０．４ pbwのシリコー
ン油（ (R)Edaplan LA 411）を２０６０ pbwのエタノー
ル、９３７ pbwのジエチレングリコールモノメチルエー
テルおよび７４９ pbwの水に導入した溶液で被覆した。
例１と同様に乾燥させた後、放射線感応性層の重量は
０．３ g/m2 であった。
【００４９】次いで、その上に、８８．５ pbwの末端水
酸基を有するポリジメチルシロキサン（粘度：２０℃で
８０，０００ mPa・s ）、９．４ pbwのトリアセトキシ
ビニルシラン、０．１ pbwの二酢酸ジブチルスズ、１．
０ pbwのポリ水素メチルシロキサン（粘度：２５℃で１
５〜３０ mPa・s ）および１．０ pbwの白金触媒（Wack
er OL ）を１３２９ pbwのイソパラフィン（初期沸点１
１８℃）に導入した溶液を塗布した。例１と同様に乾燥
させた後、シリコーン層の重量は３．１１ g/m2 であっ
た。
酸基を有するポリジメチルシロキサン（粘度：２０℃で
８０，０００ mPa・s ）、９．４ pbwのトリアセトキシ
ビニルシラン、０．１ pbwの二酢酸ジブチルスズ、１．
０ pbwのポリ水素メチルシロキサン（粘度：２５℃で１
５〜３０ mPa・s ）および１．０ pbwの白金触媒（Wack
er OL ）を１３２９ pbwのイソパラフィン（初期沸点１
１８℃）に導入した溶液を塗布した。例１と同様に乾燥
させた後、シリコーン層の重量は３．１１ g/m2 であっ
た。
【００５０】像様に照射した後、記録材料の被覆を水で
除去することができ、未照射区域に残留物は残らなかっ
た。この様にして製造された乾式オフセット印刷板は良
好な解像度を示した。
除去することができ、未照射区域に残留物は残らなかっ
た。この様にして製造された乾式オフセット印刷板は良
好な解像度を示した。
【００５１】例１１〜１６ 例１に記載する基材を、それぞれの場合に３８．４ pbw
の、３−メトキシジフェニルアミン−４−ジアゾニウム
硫酸塩１モルと４，４´−ビスメトキシメチルオキシビ
スフェノール（＝４，４´−ビスメトキシメチルジフェ
ニルエーテル）１モルの、メタンスルホン酸塩として分
離されたジアゾニウム重縮合生成物、２．０ pbwの、８
５重量％濃度のリン酸、２０．０ pbwの、ポリビニルブ
チラールと無水マレイン酸の反応生成物（ＤＥ−Ａ ３
４０４３６６明細書に記載）、５．０ pbwの、ビクトリ
アブルーＦＢＲ（ベーシックブルー５５）、２．０ pbw
の、トリメトキシ｛３−［２−（４−ビニルベンジルア
ミノ）エチルアミノ］プロピル｝シラン塩酸塩（＝Ｎ−
（３−トリメトキシシラニルプロピル）−Ｎ´−（４−
ビニルベンジル）エチレンジアミン塩酸塩）の４０％濃
度メタノール溶液、３１．４ pbwの添加剤および０．４
pbwのシリコーン油を２６２７ pbwのエタノールおよび
３９４０ pbwのジエチレングリコールモノメチルエーテ
ルに導入した溶液を塗布し、上記の様に乾燥させた。乾
燥後の放射線感応性層の重量は、例１１で約０．１ g/m
2 、例１２〜１４および１６では０．２ g/m2 であっ
た。例１５では、不溶性の成分が塗料溶液から沈殿した
ので、放射線感応性層は不均質であった。したがって、
この例では正確な層重量は測定できなかった。
の、３−メトキシジフェニルアミン−４−ジアゾニウム
硫酸塩１モルと４，４´−ビスメトキシメチルオキシビ
スフェノール（＝４，４´−ビスメトキシメチルジフェ
ニルエーテル）１モルの、メタンスルホン酸塩として分
離されたジアゾニウム重縮合生成物、２．０ pbwの、８
５重量％濃度のリン酸、２０．０ pbwの、ポリビニルブ
チラールと無水マレイン酸の反応生成物（ＤＥ−Ａ ３
４０４３６６明細書に記載）、５．０ pbwの、ビクトリ
アブルーＦＢＲ（ベーシックブルー５５）、２．０ pbw
の、トリメトキシ｛３−［２−（４−ビニルベンジルア
ミノ）エチルアミノ］プロピル｝シラン塩酸塩（＝Ｎ−
（３−トリメトキシシラニルプロピル）−Ｎ´−（４−
ビニルベンジル）エチレンジアミン塩酸塩）の４０％濃
度メタノール溶液、３１．４ pbwの添加剤および０．４
pbwのシリコーン油を２６２７ pbwのエタノールおよび
３９４０ pbwのジエチレングリコールモノメチルエーテ
ルに導入した溶液を塗布し、上記の様に乾燥させた。乾
燥後の放射線感応性層の重量は、例１１で約０．１ g/m
2 、例１２〜１４および１６では０．２ g/m2 であっ
た。例１５では、不溶性の成分が塗料溶液から沈殿した
ので、放射線感応性層は不均質であった。したがって、
この例では正確な層重量は測定できなかった。
【００５２】次いで、それぞれの場合に、例１に記載し
たのと同じシリコーン層を施した。
たのと同じシリコーン層を施した。
【００５３】この様にして製造した記録材料を像様に照
射し、水で処理した。
射し、水で処理した。
【００５４】例１１（比較例） 添加剤は使用しなかった。水による被覆除去は不可能で
あった。
あった。
【００５５】例１２ 添加剤として、８５重量％濃度のリン酸を使用した。水
による被覆除去性は非常に良かった。未照射区域にはど
の様な種類の残留物もなかった。
による被覆除去性は非常に良かった。未照射区域にはど
の様な種類の残留物もなかった。
【００５６】例１３（比較例） 添加剤としてポリエチレングリコール４００を使用し
た。水による被覆除去は不可能であった。
た。水による被覆除去は不可能であった。
【００５７】例１４（比較例） アクリル酸と１−ヘキサデセン（モル比２：１）の、カ
ルボキシル基の５０％がポリエチレングリコールでエス
テル化されている（６〜１０エチレンオキシド単位）、
平均分子量Ｍw が２０，０００の共重合体（ (R)Dapral
GE 202 ）を添加剤として使用した。水で被覆除去する
際、シリコーン層は完全に、すなわち照射区域および非
照射区域で除去された。使用できる印刷版は得られなか
った。
ルボキシル基の５０％がポリエチレングリコールでエス
テル化されている（６〜１０エチレンオキシド単位）、
平均分子量Ｍw が２０，０００の共重合体（ (R)Dapral
GE 202 ）を添加剤として使用した。水で被覆除去する
際、シリコーン層は完全に、すなわち照射区域および非
照射区域で除去された。使用できる印刷版は得られなか
った。
【００５８】例１５（比較例） ポリリン酸を添加剤として使用した。使用可能な印刷版
の製造は不可能であった。
の製造は不可能であった。
【００５９】例１６ 添加剤としてホウ酸を使用した。水による被覆除去性は
非常に良かった。未照射区域にはどの様な種類の残留物
もなかった。
非常に良かった。未照射区域にはどの様な種類の残留物
もなかった。
【００６０】例１７〜２０ 例１と同様に、それぞれの場合に基材を、４８．８ pbw
の、塩化３−メトキシジフェニルアミン−４−ジアゾニ
ウム１モルとパラホルムアルデヒド（リン酸中５０重量
％濃度）１．１モルのジアゾニウム重縮合生成物、１
０．０ pbwの、３−メトキシジフェニルアミン−４−ジ
アゾニウム塩１モルと４，４´−ビスメトキシメチルジ
フェニルエーテル１モルの、メタンスルホン酸塩として
分離されたジアゾニウム重縮合生成物、２０ pbwの、部
分的にけん化されたポリエチレングリコール／酢酸ビニ
ルグラフト重合体（残留アセタール含有量：１１．７重
量％、エステル価：１５５mgＫＯＨ／グラム）、１３．
８ pbwの、アクリル酸と１−ヘキサデセン（モル比２：
１）の、カルボキシル基の５０％がポリエチレングリコ
ールでエステル化されている（６〜１０エチレンオキシ
ド単位）、平均分子量Ｍw が２０，０００の共重合体、
５．０ pbwのビクトリアブルーＦＢＲ（ベーシックブル
ー５５）、２．０ pbwの、トリメトキシ｛３−［２−
（４−ビニルベンジルアミノ）エチルアミノ］プロピ
ル｝シラン塩酸塩の４０％濃度メタノール溶液および
０．４ pbwのシリコーン油（ (R)Edaplan LA 411）を２
１４５ pbwのエタノール、９７５ pbwのジエチレングリ
コールモノメチルエーテルおよび７８０ pbwの水に溶解
させた溶液で被覆し、上記の様に乾燥させた。乾燥後、
放射線感応性層の重量はそれぞれの場合で０．２ g/m2
であった。
の、塩化３−メトキシジフェニルアミン−４−ジアゾニ
ウム１モルとパラホルムアルデヒド（リン酸中５０重量
％濃度）１．１モルのジアゾニウム重縮合生成物、１
０．０ pbwの、３−メトキシジフェニルアミン−４−ジ
アゾニウム塩１モルと４，４´−ビスメトキシメチルジ
フェニルエーテル１モルの、メタンスルホン酸塩として
分離されたジアゾニウム重縮合生成物、２０ pbwの、部
分的にけん化されたポリエチレングリコール／酢酸ビニ
ルグラフト重合体（残留アセタール含有量：１１．７重
量％、エステル価：１５５mgＫＯＨ／グラム）、１３．
８ pbwの、アクリル酸と１−ヘキサデセン（モル比２：
１）の、カルボキシル基の５０％がポリエチレングリコ
ールでエステル化されている（６〜１０エチレンオキシ
ド単位）、平均分子量Ｍw が２０，０００の共重合体、
５．０ pbwのビクトリアブルーＦＢＲ（ベーシックブル
ー５５）、２．０ pbwの、トリメトキシ｛３−［２−
（４−ビニルベンジルアミノ）エチルアミノ］プロピ
ル｝シラン塩酸塩の４０％濃度メタノール溶液および
０．４ pbwのシリコーン油（ (R)Edaplan LA 411）を２
１４５ pbwのエタノール、９７５ pbwのジエチレングリ
コールモノメチルエーテルおよび７８０ pbwの水に溶解
させた溶液で被覆し、上記の様に乾燥させた。乾燥後、
放射線感応性層の重量はそれぞれの場合で０．２ g/m2
であった。
【００６１】次いで、それぞれの場合に異なったシリコ
ーン層を放射線感応性層に塗布した。被覆に使用した未
加硫シリコーンゴム溶液の組成は表２に示す通りであ
る。乾燥したシリコーン層の重量は、例１７で３．０ g
/m2 、例１８で３．３ g/m2 、例１９で３．８ g/m2 、
例２０では３．５ g/m2 であった。
ーン層を放射線感応性層に塗布した。被覆に使用した未
加硫シリコーンゴム溶液の組成は表２に示す通りであ
る。乾燥したシリコーン層の重量は、例１７で３．０ g
/m2 、例１８で３．３ g/m2 、例１９で３．８ g/m2 、
例２０では３．５ g/m2 であった。
【００６２】例１７〜２０による記録材料の場合、像様
に照射した後の、水による被覆除去はすべての場合で非
常に良かった。未照射区域にどの様な種類の層残留物も
なかった。
に照射した後の、水による被覆除去はすべての場合で非
常に良かった。未照射区域にどの様な種類の層残留物も
なかった。
【００６３】表１ 成分（重量部） 例 ２ ３ ４ ５ ６ ７ ８ ９ １） 63.8 63.8 - - 63.8 63.8 - - ２） - - 63.8 63.8 - - 63.8 63.8 ３） 23.8 23.8 23.8 23.8 - - - - ４） - - - - 23.8 23.8 23.8 23.8 ５） 5 5 5 5 5 5 5 5 ６） 2 2 2 2 2 2 2 2 ７） 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4 Ｈ3 ＰＯ4 (85%濃度） 5 15 5 15 5 15 5 15 エタノール 2627 2627 2627 2627 3612 3612 3612 3612 ジエチレングリコール 3940 3940 3940 3940 1642 1642 1642 1642水 - - - - 1313 1313 1313 1313
【００６４】１）３−メトキシジフェニルアミン−４−
ジアゾニウム塩１モルと４，４´−ビスメトキシメチル
ジフェニルエーテル１モルの、硫酸水素塩として分離さ
れたジアゾニウム重縮合生成物 ２）同上、メシチレン硫酸塩として分離 ３）ポリビニルブチラール（８０％ビニルブチラール単
位、１８％ビニルアルコール単位、２％酢酸ビニル単
位、Ｔg ７２〜７８℃ ４）部分的にけん化されたポリエチレングリコール／酢
酸ビニルグラフト重合体（残留アセタール含有量：１
１．７重量％、エステル価：１５５mgＫＯＨ／グラム ５）ビクトリアブルーＦＢＲ（ベーシックブルー５５） ６）トリメトキシ｛３−［２−（４−ビニルベンジルア
ミノ）エチルアミノ］プロピル｝シラン塩酸塩の４０％
濃度メタノール溶液 ７）シリコーン油
ジアゾニウム塩１モルと４，４´−ビスメトキシメチル
ジフェニルエーテル１モルの、硫酸水素塩として分離さ
れたジアゾニウム重縮合生成物 ２）同上、メシチレン硫酸塩として分離 ３）ポリビニルブチラール（８０％ビニルブチラール単
位、１８％ビニルアルコール単位、２％酢酸ビニル単
位、Ｔg ７２〜７８℃ ４）部分的にけん化されたポリエチレングリコール／酢
酸ビニルグラフト重合体（残留アセタール含有量：１
１．７重量％、エステル価：１５５mgＫＯＨ／グラム ５）ビクトリアブルーＦＢＲ（ベーシックブルー５５） ６）トリメトキシ｛３−［２−（４−ビニルベンジルア
ミノ）エチルアミノ］プロピル｝シラン塩酸塩の４０％
濃度メタノール溶液 ７）シリコーン油
【００６５】表２ 成分 例 １７ １８ １９ ２０ ２１ pbw pbw pbw pbw pbw １） 88.5 90.5 80.5 88.5 90.5 ビニルアセトキシシラン 9.4 9.4 9.4 7.4 - 二酢酸ジブチルスズ 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 ２） 1.0 - 1.0 1.0 - ３）触媒 1.0 - 1.0 1.0 - ４）染料分散液 - - 8.0 - - ５） - - - 2.0 - ６） - - - - 7.4 ７） - - - - 2.0イソパラフィン 沸点＞118 ℃ 809 900 809 809 1011
【００６６】１）末端水酸基を有するポリジメチルシロ
キサン（粘度20℃で50,000 mPa・s) ２）ポリ水素メチルシロキサン（粘度20℃で15〜30 mPa
・s) ３）Ｐｔ触媒（Wacker OL) ４）ピグメントブルー１５：３（Ｃ．Ｉ．７４１６０）
および末端水酸基を有するポリジメチルシロキサン（粘
度20℃で50,000 mPa・s)１：１比率のトルエン中２０％
濃度の分散液 ５）グリシドプロピルトリメトキシシラン ６）ビニルトリス（メチルエチルケトキシム）シラン ７）３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリメト
キシシラン［＝Ｈ2 Ｎ（ＣＨ2 ）2 ＮＨ−（ＣＨ2 ）3
−Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）3 ］
キサン（粘度20℃で50,000 mPa・s) ２）ポリ水素メチルシロキサン（粘度20℃で15〜30 mPa
・s) ３）Ｐｔ触媒（Wacker OL) ４）ピグメントブルー１５：３（Ｃ．Ｉ．７４１６０）
および末端水酸基を有するポリジメチルシロキサン（粘
度20℃で50,000 mPa・s)１：１比率のトルエン中２０％
濃度の分散液 ５）グリシドプロピルトリメトキシシラン ６）ビニルトリス（メチルエチルケトキシム）シラン ７）３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリメト
キシシラン［＝Ｈ2 Ｎ（ＣＨ2 ）2 ＮＨ−（ＣＨ2 ）3
−Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）3 ］
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クラウス、ユルゲン、プルツィビラ ドイツ連邦共和国フランクフルト、アム、 マイン、バウシュトラーセ、８ (72)発明者 ハンス‐ヨアヒム、シュロッサー ドイツ連邦共和国ウィースバーデン‐ナウ ロート、アム、ローゼンガルテン、２アー
Claims (16)
- 【請求項１】基材、ジアゾニウム塩重縮合生成物を含有
する放射線感応性層、およびシリコーン層を（この順
に）有する記録材料であって、放射線感応性層が、放射
線感応性層の総重量に対して３〜５０重量％の鉱酸を含
有することを特徴とする記録材料。 - 【請求項２】放射線感応性層が、放射線感応性層の総重
量に対して５〜４５重量％の鉱酸を含有する、請求項１
に記載の記録材料。 - 【請求項３】鉱酸が、１．５を超えるｐＫa 値を有す
る、請求項１または２に記載の記録材料。 - 【請求項４】鉱酸がリン酸またはホウ酸である、請求項
３に記載の記録材料。 - 【請求項５】基材が、金属の板またはホイル、好ましく
はアルミニウムまたはその合金の１種からなる板または
ホイル、である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の
記録材料。 - 【請求項６】放射線感応性層が芳香族ジアゾニウム塩の
縮合生成物を含有する、請求項１〜５のいずれか１項に
記載の記録材料。 - 【請求項７】芳香族ジアゾニウム塩の縮合生成物が、非
置換または置換ジフェニルアミン−４−ジアゾニウム
塩、好ましくは３−メトキシジフェニルアミン−４−ジ
アゾニウム塩、と、ホルムアルデヒドまたは４，４´−
ビスメトキシメチルジフェニルエーテルの縮合生成物で
ある、請求項６に記載の記録材料。 - 【請求項８】放射線感応性層が、それぞれの場合に放射
線感応性層の総重量に対して７０重量％までの、好まし
くは５〜４０重量％の、特に好ましくは１０〜３０重量
％の重合体状バインダーまたはバインダー混合物を含
む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の記録材料。 - 【請求項９】重合体状バインダーが極性である、請求項
８に記載の記録材料。 - 【請求項１０】重合体状バインダーが、非イオン系で水
溶性の重合体または共重合体、好ましくは多糖、ポリエ
チレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリオキシ
メチレン、ポリアクリルアミド、ポリ（Ｎ−ビニルアミ
ド）、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エス
テルまたはポリビニルアルコール、である、請求項９に
記載の記録材料。 - 【請求項１１】重合体状バインダーが、非イオン系で非
水溶性の重合体または共重合体、好ましくはエポキシ樹
脂、アクリル酸エステル樹脂またはメタクリル酸エステ
ル樹脂、セルロース誘導体、ポリビニルブチラールまた
はそれから誘導される重合体、特に、ポリビニルブチラ
ールと無水ジカルボン酸の反応生成物、である、請求項
９に記載の記録材料。 - 【請求項１２】放射線感応性層の重量が０．００１〜
３．００ g/m2 、好ましくは０．０５〜１．５０ g/
m2 、特に好ましくは０．１〜１．０ g/m2 、である、
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の記録材料。 - 【請求項１３】シリコーン層が、１液型または多液型の
未加硫ゴムから製造される、請求項１〜１２のいずれか
１項に記載の記録材料。 - 【請求項１４】シリコーン層の重量が１〜２０ g/m2 、
好ましくは１〜５ g/m2 、である、請求項１〜１３のい
ずれか１項に記載の記録材料。 - 【請求項１５】像様に照射した後、水で被覆除去でき
る、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の記録材料。 - 【請求項１６】記録材料の像様照射およびそれに続く現
像により乾式オフセット印刷板を製造する方法であっ
て、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の記録材料を
使用し、水で現像を行なうことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
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| DE19515804A DE19515804A1 (de) | 1995-05-04 | 1995-05-04 | Mit Wasser entschichtbares Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Wasserlos-Offsetdruckplatten |
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