CN102173181A - 一种含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版及其制备方法 - Google Patents
一种含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102173181A CN102173181A CN2011100256423A CN201110025642A CN102173181A CN 102173181 A CN102173181 A CN 102173181A CN 2011100256423 A CN2011100256423 A CN 2011100256423A CN 201110025642 A CN201110025642 A CN 201110025642A CN 102173181 A CN102173181 A CN 102173181A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- photosensitive
- coating fluid
- silicon rubber
- resin
- diazonium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/16—Waterless working, i.e. ink repelling exposed (imaged) or non-exposed (non-imaged) areas, not requiring fountain solution or water, e.g. dry lithography or driography
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
本发明公开了属于印刷制版技术领域的一种由铝版基、含有重氮感光树脂的感光层和斥墨硅橡胶层构成的阴图光敏无水胶印版及其制备方法。版基由铝版带材进行清洗、中和、电解和氧化后获得，版基表面为三氧化二铝亲水层，粗糙度Ra为0.40-0.65，为不封孔版基；感光层为感光涂布液在版基表面形成的厚度为0.9-1.3g/m2的感光薄膜，硅橡胶层为硅橡胶涂布液在感光层表面形成的厚度为2.7-3.0g/m2的硅橡胶薄膜。本发明制得的含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版具有感度高、分辨率高、耐印率高、显影性能优良、用途广泛等优点。
Description
技术领域
本发明属于印刷制版技术领域，特别涉及一种由铝版基、含有重氮感光树脂的感光层和斥墨硅橡胶层构成的阴图光敏无水胶印版及其制备方法。
背景技术
无水胶印是一种平凹版印刷技术，它不使用水，不用传统的润版液，而是采用有不亲油墨的硅胶橡胶表面的印版、特殊油墨和一套控温系统。与传统胶印技术相比，无水胶印有优异的印刷效果、高效的印刷效率及环保等优点。
在西方国家及日本，无水胶印已广泛应用于各个印刷领域。据统计，在日本，有15％的单张纸四色印刷机都采用无水印刷方式，20世纪90年代，无水胶印技术在美国市场也大获成功，截止到2005年，全球出现1000多家无水胶印企业，但由于制版工艺、油墨技术的薄弱和需要特殊的控温装置，使得此技术的进一步发展和普及都受到了阻碍。
近年来，随着电脑技术、油墨工艺的发展，无水胶印技术取得一些进步，无水胶印的版材、油墨及印刷设备都得到了相应的发展，美国、日本、德国、瑞士都快速发展、普及了无水胶印，并取得了可观的经济效益。随着印刷业不断追求产品的高品质、高精度的趋势，传统印刷的水墨平衡控制变得越来越困难，无水胶印是现在和未来胶印的潮流，无水胶印将会部分取代传统胶印技术。
在国内，无水胶印技术正在逐渐地被人们所接受，已有很多企业购买进口无水胶印机或对原有胶印设备进行结构调整实现了无水胶印。由于无水胶印的印刷质量高，尤其适合印刷精美画册、精美包装等高档印刷品，能满足了市场的需求，所以都还取得了良好的经济效益。但国内无水胶印技术水平落后，所有的无水胶印版及大部分油墨都依靠进口，价格很高，很难普及，所以国内开发研究性能优良的无水胶印版材成为印刷版材制造业关注的焦点。
在德国专利DE3545204中公开了一种含有重氮树脂的无水胶印版的制备方法。该发明使用重氮树脂单独做感光层，强度太差，后面又提到用高分子量的聚乙烯醇缩丁醛酯类做感光层的成膜树脂，成膜强度较好，但溶解性不足；发明还使用了硅橡胶作为斥油层，但配方太复杂，不易控制得到高强度的硅橡胶层，而且显影液用异链烷烃、丙酮和异丙醇等，显影时显影液易将感光层全部溶解，制得的无水胶印版耐印力较差，不到2万。
在日本专利JP3414048中提到了一种硅橡胶层的制备方法。该发明使用90重量份的端羟基聚二甲基硅氧烷、9.8重量份的交联剂乙烯基三丁酮肟基硅烷、0.2重量份的催化剂溶解在1150重量份的异链烷烃中，涂布在感光层表面，110℃烘干3分钟，得到的硅橡胶层具有较好的强度，与感光层的附着力强，表面能低，斥墨性能优良。
在美国专利US5773187中提到了使用一种无水胶印版基的制备方法。该发明使用铝板或铝合金版进行电解、阳极氧化后，再经聚乙烯磷酸封孔得到无水胶印版使用的版基，该版基表面与感光层附着力较没有处理的铝版强，但总的来说，还不够强，耐印力不够高。
在日本专利JP01173027中公开了一种含有重氮树脂的无水胶印版的制备方法。该发明使用在感光层中使用了聚甲基丙烯酸酯类的成膜树脂，但这使得感光层与硅橡胶层的附着力下降，耐印力不高。
在日本专利JP2008015065中公开了一种乙二醇类的无水胶印版显影液。该显影液中主要含有乙二醇类化合物，结构为：R-(OCH2CH2)n-OH，其中R基为含有1-5碳的烷基；此外还有少量含有氨基的乙二醇类化合物。此显影液能溶胀硅橡胶层，但又不会溶解感光层，显影效果较好，可长时间使用。
发明内容
基于上述现有技术，本发明提供一种含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版及其制备方法。该阴图光敏无水胶印版具有良好感度、较好的分辨率、较高的感光层与硅橡胶层附着力、较好显影性能和较好耐印力。
本发明制备的含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版由版基、感光层和斥墨的硅橡胶层组成；版基由铝版带材进行清洗、中和、电解和氧化后获得，版基表面为三氧化二铝亲水层，粗糙度Ra为0.40-0.65，为不封孔版基；感光层为感光涂布液在版基表面形成的厚度为0.9-1.3g/m2的感光薄膜，硅橡胶层为硅橡胶涂布液在感光层表面形成的厚度为2.7-3.0g/m2的硅橡胶薄膜。
本发明的具体制备方法如下：
A.版基的制备：在60-70℃条件下，用4-8wt％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗40-100秒，用硫酸或盐酸中和至pH为5-6，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.40-0.65的多孔表面；粗化后的版面再经4-8wt％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版生产的版基，该版基为不封孔版基；
B.将感光涂布液通过一次旋转式涂布到步骤A制备的版基上，50-120℃烘干2-8分钟形成厚度为0.9-1.3g/m2的感光薄膜，即为感光层；
C.将硅橡胶涂布液通过一次旋转式涂布到上述的感光层上，80-150℃烘干1-6分钟形成厚度为2.7-3.0g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版。
所述铝版带材是型号为1050的纯铝。
所述的感光涂布液由4-6重量份的成膜树脂、10-15重量份的重氮感光树脂、0.1-1重量份的着色背景染料、2-5重量份的添加剂在200-300重量份的有机溶剂中溶解形成。
所述的成膜树脂为不溶于水的聚合物，具体为环氧树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、聚氨酯树脂、1，4-二(2’，3’-环氧丙氧)丁烷中的一种或几种；
所述的重氮感光树脂是含有机磺酸阴离子的二苯胺重氮硫酸盐与多聚甲醛或4，4’-双甲氧基甲基二苯基醚的缩聚物；二苯胺重氮硫酸盐包括二苯胺-4-重氮硫酸盐、3-甲氧基二苯胺-4-重氮硫酸盐、N-甲基-2-硝基二苯胺-4-重氮硫酸盐；所述的重氮感光树脂具体结构如下式所示：
式中R为有机磺酸阴离子或含磷酸阴离子，具体为六氟磷酸根、十二烷基苯磺酸根、十二烷基磺酸根、对甲苯磺酸根、均三甲苯磺酸根或萘磺酸根阴离子；X为甲氧基或甲基；Y为硝基或甲基；式中Z为烷基，具体为甲基或乙基；6≥n≥2，且为整数；
所述的重氮感光树脂具体有甲醛缩二苯胺-4-重氮六氟磷酸树脂、甲醛缩二苯胺-4-重氮均三甲苯磺酸树脂、甲醛缩3-甲氧基二苯胺-4-重氮均三甲苯磺酸树脂、甲醛缩N-甲基-2-硝基二苯胺-4-重氮十二烷基苯磺酸树脂一种或几种；
所述的着色背景染料为碱性艳蓝、结晶紫、维多利亚纯蓝、靛蓝、甲基紫、孔雀石绿、油溶蓝中的一种或几种；
所述的添加剂是磷酸；
所述的有机溶剂为传统PS版用溶剂，包括乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、丙二醇单乙醚、甲乙酮、醋酸丁酯、二氧六环、N-甲基吡咯烷酮、甲醇、四氢呋喃中的一种或几 种；
所述的感光涂布液配置过程为：将着色背景染料溶于有机溶剂中，待彻底溶解后，再加入成膜树脂、重氮感光树脂、添加剂，然后过滤，制得感光涂布液。
所述的硅橡胶涂布液由100-150重量份的聚硅氧烷、10-20重量份的交联剂、1-5重量份的催化剂、1-3份重量的添加剂在800-1000重量份的有机溶剂中溶解形成；
所述的有机溶剂为异链烷烃、甲苯或二甲苯，异链烷烃包括沸点为100-180℃的异链烷烃-E、异链烷烃-G、异链烷烃-H中的一种或几种。
所述硅橡胶为加成型时，硅橡胶涂布液为加成型硅橡胶涂布液，其中聚硅氧烷结构如下式所示：
R1是含有1-10个碳的烷基，R2是乙烯基或芳基，而且60％的R1、R2是甲基、卤代乙烯基、卤代苯基；8000≥n≥2；其分子量控制在3000-600000，优选5000-100000；端基为乙烯基；具体包括α，ω-二乙烯基聚二甲基硅氧烷；
所述硅橡胶为加成型时，使用的交联剂为含氢的有机聚硅氧烷，包括聚单甲基硅氧烷；所述的催化剂为铂化物、铂配合物，包括二乙烯基四甲基二硅氧烷铂配合物；使用的添加剂为交联抑制剂3-甲基-1-丁炔-3-醇、1，1-二甲基-2-丙炔氧基三甲基硅烷、甲基乙烯基环四硅氧烷中一种或几种。
所述硅橡胶为缩合型，硅橡胶涂布液为缩合型硅橡胶涂布液，其中聚硅氧烷结构具体结构如下式所示：
R1是含有1-10个碳的烷基，R2是乙烯基或芳基，而且60％的R1、R2是甲基、卤代乙烯基、卤代苯基；8000≥n≥2，且为整数；其分子量控制在3000-600000，优选5000-100000；端基为羟基；具体包括α，ω-二羟基聚二甲基硅氧烷；
所述硅橡胶为缩合型时，使用的交联剂结构为RmSiX4-m，其中R是含有1-10个碳的烷基，X代表氢、羟基、烷氧基、酰氧基、酮肟、酰胺或氨基，m是0、1或2；具体包括乙烯基三丁酮肟基硅烷、甲基三丁酮肟基硅烷、乙基三乙酰氧基硅烷、丙基三乙酰氧基硅烷、烯丙氧基硅烷；使用的催化剂为锡的羧酸盐或锌的羧酸盐，包括二丁基锡二乙酸酯、二丁基锡二月桂酸酯；所述的添加剂为白炭黑或碳酸钙。
本发明制得的含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版的应用，将其曝光，曝光区域的无水胶印版在受到紫外光照射时，感光层中的重氮树脂发生感光反应，生成阳离子自由基，并与其上的硅橡胶层交联结合；显影时，曝光部分的硅橡胶因与感光层交联而保留，而未曝光部分因未发生反应而被刷掉，得到阴图图像的印刷版。
有益效果：本发明制得的含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版具有良好感度、较好的分辨率、较高的感光层与硅橡胶层附着力、较好显影性能和较好耐印力等优点。
下面结合实施例，对本发明作进一步的描述，而不是限制本发明的范围。
具体实施方式
实施例1：
A.版基的制备：在60℃条件下，用4wt％氢氧化钠溶液将1050的纯铝清洗50秒，用硫酸中和至pH为5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.5的多孔表面；粗化后的版面再经4wt％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版生产的版基，该版基为不封孔版基；
B.感光涂布液的配制：将0.4g维多利亚纯蓝溶解于300g乙二醇单乙醚中，待彻底溶解后，再加入2.5g磷酸、自合成甲醛缩二苯胺-4-重氮六氟磷酸树脂5g，聚乙烯醇缩甲醛马来酸酯10g，用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1.1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将10g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S27，分子量18000)加入到100g异链烷烃-H(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入1g甲基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二月桂酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为3g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版1。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例2：
A.版基的制备：在65℃条件下，用5wt％氢氧化钠溶液将1050的纯铝清洗80秒，用盐酸中和至pH为5.5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用 下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.5的多孔表面；粗化后的版面再经5wt％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版生产的版基，该版基为不封孔版基；
B.感光涂布液的配制：将0.5g维多利亚纯蓝溶解于310g丙二醇单乙醚中，再加入2.5g磷酸，甲醛缩二苯胺-4-重氮十二烷基苯磺酸树脂5g，聚乙烯醇缩甲醛邻苯二甲酸酯10g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-V46，分子量110000)加入到55g异链烷烃-H(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入0.3gHMS(美国Gelest公司，商品名：HMS-301)、0.08g二乙烯基四甲基二硅氧烷铂配合物(美国Gelest公司，商品名：SIP)和1，1-二甲基-2-丙炔氧基三甲基硅烷，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版2。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例3：
A.版基的制备：在70℃条件下，用6wt％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗70秒，用盐酸中和至pH为5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.5的多孔表面；粗化后的版面再经6wt％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版生产的版基，该版基为不封孔版基；
B.感光涂布液的配制：将0.3g结晶紫溶解于250g乙二醇甲醚和90g甲乙酮中，再加入2.5g磷酸，甲醛缩二苯胺-4-重氮十二烷基磺酸树脂12g，聚氨酯5g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1.2g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S27，分子量18000)加入到80g异链烷烃-E(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入 1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版3。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例4：
A.版基的制备：在70℃条件下，用7wt％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗60秒，用硫酸中和至pH为6，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.55的多孔表面；粗化后的版面再经7wt％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.4g靛蓝溶解于310g乙二醇乙醚中，再加入3g磷酸、甲醛缩二苯胺-4-重氮对甲苯磺酸树脂14g，环氧树脂(双酚A与环氧氯丙烷的聚合物)5g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-V46，分子量110000)加入到55g异链烷烃-H(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入0.3gHMS(美国Gelest公司，商品名：HMS-301)、0.08g二乙烯基四甲基二硅氧烷铂配合物(美国Gelest公司，商品名：SIP)和0.1g 1，1-二甲基-2-丙炔氧基三甲基硅烷，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.6g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版4。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例5：
A.版基的制备：在60℃条件下，用8wt％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗40秒，用盐酸中和至pH为5.5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下 与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.5的多孔表面；粗化后的版面再经4wt％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.4g碱性艳蓝溶解于300g乙二醇甲醚中，再加入3g磷酸、自制甲醛缩二苯胺-4-重氮均三甲苯磺酸树脂11g，聚乙烯醇缩丁醛邻苯二甲酸酯4g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S32，分子量36000)加入到80g异链烷烃-E(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版5。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例6：
A.版基的制备：在65℃条件下，用7％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗50秒，用盐酸中和至pH为5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.5的多孔表面；粗化后的版面再经7％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.6g碱性艳蓝溶解320g醋酸丁酯中，再加入4，4’-双甲氧基甲基二苯基醚缩3-甲氧基二苯胺-4-重氮十二烷基磺酸树脂12g，1，4-二(2’，3’-环氧丙氧)丁烷6g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S27，分子量18000)加入到80g异链烷烃-E(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布 液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版6。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例7：
A.版基的制备：在70℃条件下，用6％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗40秒，用盐酸中和至pH为6，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.5的多孔表面；粗化后的版面再经6％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.4g靛蓝溶解于300g二氧六环中，再加入3.4g磷酸、甲醛缩3-甲氧基二苯胺-4-重氮十二烷基磺酸树脂13g，聚氨基甲酸乙酯6g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S27，分子量18000)加入到80g甲苯中溶解，再加入1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版7。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例8：
A.版基的制备：在60℃条件下，用5％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗50秒，用盐酸中和至pH为6，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.4的多孔表面；粗化后的版面再经5％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.4g碱性艳蓝溶解于300gN-甲基吡咯烷酮中，再加入3g磷酸、甲醛缩3-甲氧基二苯胺-4-重氮萘磺酸树脂5g，聚乙烯醇缩甲醛马来酸酯10g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S35，分子量19000)加入到80g二甲苯中溶解，再加入1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版8。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例9：
A.版基的制备：在65℃条件下，用4％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗60秒，用盐酸中和至pH为5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.5的多孔表面；粗化后的版面再经4％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.5g维多利亚纯蓝溶解于310gN-甲基吡咯烷酮中，再加入甲醛缩3-甲氧基二苯胺-4-重氮六氟磷酸树脂6g，聚氨基甲酸乙酯9g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为0.9g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-V52，分子量155000)加入到55g异链烷烃-H(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入0.3gHMS(美国Gelest公司，商品名：HMS-301)、0.08g二乙烯基四甲基二硅氧烷铂配合物(美国Gelest公司，商品名：SIP)和0.1g 1，1-二甲基-2-丙炔氧基三甲基硅烷，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光 敏无水胶印版9。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例10：
A.版基的制备：在70℃条件下，用5wt％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗70秒，用盐酸中和至pH为6，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.4的多孔表面；粗化后的版面再经5wt％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.5g碱性艳蓝溶解于300g乙二醇甲醚中，再加入3.5g磷酸、甲醛缩二苯胺-4-重氮均三甲苯磺酸树脂10g，聚乙烯醇缩丁醛邻苯二甲酸酯12g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，93℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S32，分子量36000)加入到81g异链烷烃-E(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.12g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，109℃通风干燥3分钟形成厚度为2.8g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版10。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例11：
A.版基的制备：在60℃条件下，用6％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗80秒，用硫酸中和至pH为5.5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.45的多孔表面；粗化后的版面再经6％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.5g甲基紫溶解于200g乙二醇乙醚和100g甲醇中，再加入甲醛缩3-甲氧基二苯胺-4-重氮对甲苯磺酸树脂10g，聚乙烯醇缩甲醛邻苯二甲酸酯 10g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S35，分子量19000)加入到80g异链烷烃-E(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版11。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例12：
A.版基的制备：在65℃条件下，用7％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗90秒，用硫酸或盐酸中和至pH为5.5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.5的多孔表面；粗化后的版面再经7％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.3g维多利亚纯蓝、0.3g结晶紫溶解于250g乙二醇乙醚和100g四氢呋喃中，再加入甲醛缩二苯胺-4-重氮十二烷基苯磺酸树脂11g，聚氨基甲酸乙酯10g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-V52，分子量155000)加入到55g异链烷烃-H(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入0.3gHMS(美国Gelest公司，商品名：HMS-301)、0.08g二乙烯基四甲基二硅氧烷铂配合物(美国Gelest公司，商品名：SIP)和1，1-二甲基-2-丙炔氧基三甲基硅烷，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版12。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例13：
A.版基的制备：在70℃条件下，用8％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗100秒，用硫酸或盐酸中和至pH为5.5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.65的多孔表面；粗化后的版面再经8％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.4g油溶蓝溶解于300g乙二醇乙醚和50g四氢呋喃中，再加入甲醛缩3-甲氧基二苯胺-4-重氮十二烷基磺酸树脂10g，聚乙烯醇缩丁醛邻马来酸酯10g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S32，分子量36000)加入到80g异链烷烃-E(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版13。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例14：
A.版基的制备：在60℃条件下，用7％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗90秒，用硫酸或盐酸中和至pH为5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.6的多孔表面；粗化后的版面再经7％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.4g甲基紫溶解于300g丙二醇单乙醚和50g甲乙酮中，再加入4，4’-双甲氧基甲基二苯基醚缩N-甲基-2-硝基二苯胺-4-重氮十二烷基磺酸树脂10g，聚乙烯醇缩丁醛马来酸酯10g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S31，分子量26000)加入到80g异链烷烃-E(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.6g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版14。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例15：
A.版基的制备：在65℃条件下，用6％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗80秒，用硫酸或盐酸中和至pH为5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.5的多孔表面；粗化后的版面再经6％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.4g碱性艳蓝、0.2g甲基紫溶解于300g乙二醇甲醚和50g甲醇中，再加入甲醛缩N-甲基-2-硝基二苯胺-4-重氮十二烷基磺酸树脂10g，环氧树脂(双酚A与环氧氯丙烷的聚合物)10g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1.2g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S33，分子量43500)加入到80g异链烷烃-G(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版15。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例16：
A.版基的制备：在70℃条件下，用5％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗70秒，用硫酸中和至pH为5.5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.5的多孔表面；粗化后的版面再经4％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.4g碱性艳蓝、0.2g甲基紫溶解于300g乙二醇甲醚和50g甲醇中，再加入甲醛缩N-甲基-2-硝基二苯胺-4-重氮十二烷基苯磺酸树脂5g，环氧树脂(双酚A与环氧氯丙烷的聚合物)10g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S33，分子量43500)加入到80g异链烷烃-E(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版16。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例17：
A.版基的制备：在60℃条件下，用4％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗60秒，用硫酸或盐酸中和至pH为6，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.55的多孔表面；粗化后的版面再经4％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.4g靛蓝溶解于300g乙二醇乙醚和50g二氧六环中，再加入甲醛缩N-甲基-2-硝基二苯胺-4-重氮对甲苯磺酸树脂10g，环氧树脂(双酚A与环氧氯丙烷的聚合物)10g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为0.9g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S33，分子量43500)加入到80g异链烷烃-H(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.5g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版17。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例18：
A.版基的制备：在70℃条件下，用6％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗40秒，用硫酸中和至pH为5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.55的多孔表面；粗化后的版面再经6％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.5g甲基紫溶解于300g乙二醇甲醚中，再加入甲醛缩N-甲基-2-硝基二苯胺-4-重氮萘磺酸树脂12g，环氧树脂(双酚A与环氧氯丙烷的聚合物)8g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S33，分子量43500)加入到80g异链烷烃-E(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版18。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例19：
A.版基的制备：在60℃条件下，用6％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗50秒，用盐酸 中和至pH为5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.45的多孔表面；粗化后的版面再经6％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.4g碱性艳蓝溶解于380g乙二醇乙醚中，再加入4，4’-双甲氧基甲基二苯基醚缩N-甲基-2-硝基二苯胺-4-重氮萘磺酸树脂10g，环氧树脂(双酚A与环氧氯丙烷的聚合物)13g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S33，分子量43500)加入到80g异链烷烃-E(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版19。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例20：
A.版基的制备：在65℃条件下，用7％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗60秒，用硫酸或盐酸中和至pH为6，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.5的多孔表面；粗化后的版面再经7％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.5g碱性艳蓝溶解于380g乙二醇甲醚中，再加入甲醛缩二苯胺-4-重氮均三甲苯磺酸树脂15g，聚乙烯醇缩丁醛邻苯二甲酸酯5g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为0.84g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.6g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S32，分子量36000)加入到80g异链烷烃-E(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入 1.1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.12g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.9g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版20。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例21：
A.版基的制备：在70℃条件下，用8％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗70秒，用盐酸中和至pH为5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.4的多孔表面；粗化后的版面再经8％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.5g结晶紫溶解于390g乙二醇甲醚中，再加入3g磷酸、甲醛缩二苯胺-4-重氮均三甲苯磺酸树脂14g，环氧树脂(双酚A与环氧氯丙烷的聚合物)5g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S33，分子量43500)加入到80g异链烷烃-E(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.9g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版21。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例22：
A.版基的制备：在60℃条件下，用7％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗80秒，用硫酸中和至pH为5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.65的多孔表面；粗化后的版面再经7％氢 氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.2g碱性艳蓝、0.3g维多利亚纯蓝溶解于300g乙二醇乙醚和100g甲醇中，再加入甲醛缩二苯胺-4-重氮均三甲苯磺酸树脂16g，聚氨基甲酸乙酯5g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1.1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S42，分子量77000)加入到80g异链烷烃-E(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版22。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例23：
A.版基的制备：在65℃条件下，用6％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗90秒，用盐酸中和至pH为6，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.55的多孔表面；粗化后的版面再经6％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.4g油溶蓝溶解于380g乙二醇甲醚中，再加入甲醛缩二苯胺-4-重氮均三甲苯磺酸树脂14g，聚乙烯醇缩甲醛邻苯二甲酸酯6g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-V52，分子量155000)加入到55g异链烷烃-H(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入0.3gHMS(美国Gelest公司，商品名：HMS-301)、0.08g二乙烯基四甲基二硅氧烷铂配合物(美国Gelest公司，商品名：SIP)和0.1g 1，1-二甲基-2-丙炔氧基三甲基硅烷，待 彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版23。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例24：
A.版基的制备：在70℃条件下，用5％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗100秒，用盐酸中和至pH为5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.5的多孔表面；粗化后的版面再经5％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.4g孔雀石绿溶解于300g乙二醇甲醚中，再加入甲醛缩二苯胺-4-重氮均三甲苯磺酸树脂15g，聚乙烯醇缩甲醛马来酸酯4g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S42，分子量77000)加入到80g异链烷烃-E(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版24。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例25：
A.版基的制备：在60℃条件下，用4％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗90秒，用盐酸中和至pH为6，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.6的多孔表面；粗化后的版面再经4％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干， 得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.4g靛蓝溶解于390g乙二醇乙醚中，再加入3g磷酸、甲醛缩3-甲氧基二苯胺-4-重氮均三甲苯磺酸树脂16g，聚乙烯醇缩丁醛马来酸酯5g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S42，分子量77000)加入到80g异链烷烃-E(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版25。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例26：
A.版基的制备：在65℃条件下，用5％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗80秒，用硫酸或盐酸中和至pH为6，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.65的多孔表面；粗化后的版面再经5％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.25g靛蓝、0.15g结晶紫溶解于370g乙二醇甲醚中，再加入3g磷酸、甲醛缩3-甲氧基二苯胺-4-重氮均三甲苯磺酸树脂15g，聚乙烯醇缩甲醛马来酸酯6g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S42，分子量77000)加入到80g异链烷烃-E(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110 ℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版26。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例27：
A.版基的制备：在70℃条件下，用6％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗70秒，用硫酸或盐酸中和至pH为5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.55的多孔表面；粗化后的版面再经6％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.4g甲基紫溶解于360g乙二醇甲醚和50g甲醇中，再加入3g磷酸、甲醛缩3-甲氧基二苯胺-4-重氮均三甲苯磺酸树脂15g，聚氨基甲酸乙酯6g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1.2g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9.5g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-S42，分子量77000)加入到80g异链烷烃-E(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入1g乙烯基三丁酮肟基硅烷和0.1g二丁基锡二乙酸酯，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为3g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版27。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例28：
A.版基的制备：在60℃条件下，用7％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗60秒，用硫酸或盐酸中和至pH为5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.5的多孔表面；粗化后的版面再经7％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.3g维多利亚纯蓝溶解于380g醋酸丁酯中，再加入3g 磷酸、甲醛缩3-甲氧基二苯胺-4-重氮均三甲苯磺酸树脂16g，聚乙烯醇缩甲醛邻苯二甲酸酯4g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1.2g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-V52，分子量155000)加入到55g异链烷烃-H(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入0.3gHMS(美国Gelest公司，商品名：HMS-301)、0.08g二乙烯基四甲基二硅氧烷铂配合物(美国Gelest公司，商品名：SIP)和0.1g 1，1-二甲基-2-丙炔氧基三甲基硅烷，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为3g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版28。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例29：
A.版基的制备：在65℃条件下，用8wt％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗50秒，用硫酸中和至pH为6，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.45的多孔表面；粗化后的版面再经8wt％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.5g结晶紫溶解于390g乙二醇乙醚中，再加入3g磷酸、甲醛缩3-甲氧基二苯胺-4-重氮均三甲苯磺酸树脂16g，环氧树脂(双酚A与环氧氯丙烷的聚合物)4g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-V52，分子量155000)加入到55g异链烷烃-H(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入0.3gHMS(美国Gelest公司，商品名：HMS-301)、0.08g二乙烯基四甲基二硅氧烷铂配合物(美国Gelest公司，商品名：SIP)和0.1g 1，1-二甲基-2-丙炔氧基三甲基硅烷，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110 ℃通风干燥3分钟形成厚度为2.7g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版29。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
实施例30：
A.版基的制备：在70℃条件下，用7wt％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗40秒，用盐酸中和至pH为5，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.4的多孔表面；粗化后的版面再经7wt％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版材生产的版基；
B.感光涂布液的配制：将0.6g碱性艳蓝溶解于300g乙二醇乙醚和90g甲乙酮中，再加入4g磷酸、4，4’-双甲氧基甲基二苯基醚缩3-甲氧基二苯胺-4-重氮均三甲苯磺酸树脂15g，聚乙烯醇缩甲醛邻苯二甲酸酯6g，待彻底溶解后用滤纸进行过滤，制得感光涂布液；
C.将步骤B制得的感光涂布液通过一次旋转涂布到步骤A制备的版基上，90℃烘干5分钟形成厚度为1.3g/m2的感光薄膜；
D.硅橡胶涂布液的配制：将9g聚二甲基硅氧烷(美国Gelest公司，商品名：DMS-V52，分子量155000)加入到55g异链烷烃-H(上海生兴行石油化工有限公司)中溶解，再加入1gHMS(美国Gelest公司，商品名：HMS-301)、0.08g二乙烯基四甲基二硅氧烷铂配合物(美国Gelest公司，商品名：SIP)和0.1g 1，1-二甲基-2-丙炔氧基三甲基硅烷，待彻底溶解后就制得了硅橡胶涂布液；
E.将步骤D制得的硅橡胶涂布液通过一次旋转涂布到步骤C制得的感光薄膜上，110℃通风干燥3分钟形成厚度为2.8g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版30。
将步骤E制得的无水胶印版用3KW碘镓灯1米距离处曝光，再用显影液(东丽公司)45℃处理3分钟，并用刷子来回刷，再用水处理2分钟即得到阴图印刷版。
将实施例1-30制得的含有重氮感光树脂的阴图光敏无水胶印版1-30进行分辨率、网点再现性和耐印力测试，评价结果如下表所示：
Claims (10)
1.一种含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版，其特征在于，其由版基、感光层和斥墨的硅橡胶层组成；版基由铝版带材进行清洗、中和、电解和氧化后获得，版基表面为三氧化二铝亲水层，粗糙度Ra为0.40-0.65，为不封孔版基；感光层为感光涂布液在版基表面形成的厚度为0.9-1.3g/m2的感光薄膜，硅橡胶层为硅橡胶涂布液在感光层表面形成的厚度为2.7-3.0g/m2的硅橡胶薄膜。
2.根据权利要求1所述的一种含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版，其特征在于，所述铝版带材是型号为1050的纯铝；所述的感光涂布液由4-6重量份的成膜树脂、10-15重量份的重氮感光树脂、0.1-1重量份的着色背景染料、2-5重量份的添加剂在200-300重量份的有机溶剂中溶解形成；
所述的成膜树脂为不溶于水的聚合物，具体为环氧树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、聚氨酯树脂中的一种或几种；
所述的重氮感光树脂是含有机磺酸阴离子的二苯胺重氮硫酸盐与多聚甲醛或4，4’-双甲氧基甲基二苯基醚的缩聚物；二苯胺重氮硫酸盐包括二苯胺-4-重氮硫酸盐、3-甲氧基二苯胺-4-重氮硫酸盐、N-甲基-2-硝基二苯胺-4-重氮硫酸盐；所述的重氮感光树脂具体结构如下式所示：
式中R为有机磺酸阴离子或含磷酸阴离子，具体为六氟磷酸根、十二烷基苯磺酸根、十二烷基磺酸根、对甲苯磺酸根、均三甲苯磺酸根或萘磺酸根阴离子；X为甲氧基或甲基；Y为硝基或甲基；式中Z为烷基，具体为甲基或乙基；6≥n≥2，且为整数；
所述的重氮感光树脂具体有甲醛缩二苯胺-4-重氮六氟磷酸树脂、甲醛缩二苯胺-4-重氮均三甲苯磺酸树脂、甲醛缩3-甲氧基二苯胺-4-重氮均三甲苯磺酸树脂、甲醛缩N-甲基-2-硝基二苯胺-4-重氮十二烷基苯磺酸树脂一种或几种；
所述的着色背景染料为碱性艳蓝、结晶紫、维多利亚纯蓝、靛蓝、甲基紫、孔雀石 绿、油溶蓝中的一种或几种；
所述的添加剂是磷酸；
所述的有机溶剂为传统PS版用溶剂，包括乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、丙二醇单乙醚、甲乙酮、醋酸丁酯、二氧六环、N-甲基吡咯烷酮、甲醇、四氢呋喃中的一种或几种；
所述的感光涂布液配置过程为：将着色背景染料溶于有机溶剂中，待彻底溶解后，再加入成膜树脂、重氮感光树脂、添加剂，然后过滤，制得感光涂布液。
3.根据权利要求2所述的一种含有重氮树脂的阴图光敏型无水胶印版，其特征在于，所述的硅橡胶涂布液由100-150重量份的聚硅氧烷、10-20重量份的交联剂、1-5重量份的催化剂、1-3重量份的添加剂在800-1000重量份的有机溶剂中溶解形成；
所述的有机溶剂为异链烷烃、甲苯或二甲苯，异链烷烃包括沸点为100-180℃的异链烷烃-E、异链烷烃-G、异链烷烃-H的一种或几种；
所述硅橡胶为加成型，硅橡胶涂布液为加成型硅橡胶涂布液，其中聚硅氧烷结构如下式所示：
R1是含有1-10个碳的烷基，R2是乙烯基或芳基，而且60％的R1、R2是甲基、卤代乙烯基、卤代苯基；8000≥n≥2；其分子量在3000-600000，优选5000-100000；端基为乙烯基；具体包括α，ω-二乙烯基聚二甲基硅氧烷；
所述的交联剂为含氢的有机聚硅氧烷，包括聚单甲基硅氧烷；所述的催化剂为铂化物、铂配合物，包括二乙烯基四甲基二硅氧烷铂配合物；所述的添加剂为交联抑制剂3-甲基-1-丁炔-3-醇、1，1-二甲基-2-丙炔氧基三甲基硅烷、甲基乙烯基环四硅氧烷中一种或几种。
4.根据权利要求2所述的一种含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版，其特征在于，所述的硅橡胶涂布液由100-150重量份的聚硅氧烷、10-20重量份的交联剂、1-5重量份的催化剂、1-3份重量的添加剂在800-1000重量份的有机溶剂中溶解形成；
所述的有机溶剂为异链烷烃、甲苯或二甲苯，异链烷烃包括沸点为100-180℃的异链烷烃-E、异链烷烃-G、异链烷烃-H的一种或几种；
R1是含有1-10个碳的烷基，R2是乙烯基或芳基，而且60％的R1、R2是甲基、卤代乙烯基、卤代苯基；8000≥n≥2，且为整数；其分子量控制在3000-600000，优选5000-100000；端基为羟基；具体包括α，ω-二羟基聚二甲基硅氧烷；
所述的交联剂结构为RmSiX4-m，其中R是含有1-10个碳的烷基，X代表氢、羟基、烷氧基、酰氧基、酮肟、酰胺或氨基，m是0、1或2；具体包括乙烯基三丁酮肟基硅烷、甲基三丁酮肟基硅烷、乙基三乙酰氧基硅烷、丙基三乙酰氧基硅烷、烯丙氧基硅烷；
所述的催化剂为锡的羧酸盐或锌的羧酸盐，包括二丁基锡二乙酸酯、二丁基锡二月桂酸酯；所述的添加剂为白炭黑或碳酸钙。
5.一种含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版的制备方法，其特征在于，其具体制备方法如下：
A.版基的制备：在60-70℃条件下，用4-8wt％氢氧化钠溶液将铝版带材清洗40-100秒，用硫酸或盐酸中和至pH为5-6，再用去离子水洗；然后对版面进行电化学处理，即在交流电作用下与石墨电极组成电解回路，获得表面粗糙度Ra为0.40-0.65的多孔表面；粗化后的版面再经4-8wt％氢氧化钠溶液清洗除尘、去离子水洗后进行氧化处理，生成三氧化二铝亲水层，水洗、烘干，得到可以用于阴图光敏无水胶印版生产的版基，该版基为不封孔版基；
B.将感光涂布液通过一次旋转式涂布到步骤A制备的版基上，50-120℃烘干2-8分钟形成厚度为0.9-1.3g/m2的感光薄膜，即为感光层；
C.将硅橡胶涂布液通过一次旋转式涂布到上述的感光层上，80-150℃烘干1-6分钟形成厚度为2.7-3.0g/m2的硅橡胶薄膜，即获得含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版。
6.根据权利要求5所述的一种含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版的制备方法，其特征在于，所述铝版带材是型号为1050的纯铝；所述的感光涂布液由4-6重量份的成膜树脂、10-15重量份的重氮感光树脂、0.1-1重量份的着色背景染料、2-5重量份的添加剂在200-300重量份的有机溶剂中溶解形成；
所述的成膜树脂为不溶于水的聚合物，具体为环氧树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、聚氨酯树脂中的一种或几种；
所述的重氮感光树脂是含有机磺酸阴离子的二苯胺重氮硫酸盐与多聚甲醛或4，4’-双甲氧基甲基二苯基醚的缩聚物；二苯胺重氮硫酸盐包括二苯胺-4-重氮硫酸盐、3-甲氧基二苯胺-4-重氮硫酸盐、N-甲基-2-硝基二苯胺-4-重氮硫酸盐；所述的重氮感光树脂具体结构如下式所示：
式中R为有机磺酸阴离子或含磷酸阴离子，具体为六氟磷酸根、十二烷基苯磺酸根、十二烷基磺酸根、对甲苯磺酸根、均三甲苯磺酸根或萘磺酸根阴离子；X为甲氧基或甲基；Y为硝基或甲基；式中Z为烷基，具体为甲基或乙基；6≥n≥2，且为整数；
所述的重氮感光树脂具体有甲醛缩二苯胺-4-重氮六氟磷酸树脂、甲醛缩二苯胺-4-重氮均三甲苯磺酸树脂、甲醛缩3-甲氧基二苯胺-4-重氮均三甲苯磺酸树脂、甲醛缩N-甲基-2-硝基二苯胺-4-重氮十二烷基苯磺酸树脂一种或几种；
所述的着色背景染料为碱性艳蓝、结晶紫、维多利亚纯蓝、靛蓝、甲基紫、孔雀石绿、油溶蓝中的一种或几种；
所述的添加剂是磷酸；
所述的有机溶剂为传统PS版用溶剂，包括乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、丙二醇单乙醚、甲乙酮、醋酸丁酯、二氧六环、N-甲基吡咯烷酮、甲醇、四氢呋喃中的一种或几种；
所述的感光涂布液配置过程为：将着色背景染料溶于有机溶剂中，待彻底溶解后，再加入成膜树脂、重氮感光树脂、添加剂，然后过滤，制得感光涂布液。
7.根据权利要求6所述的一种含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版的制备方法，其特征在于，所述的硅橡胶涂布液由100-150重量份的聚硅氧烷、10-20重量份的交联剂、1-5重量份的催化剂、1-3份重量的添加剂在800-1000重量份的有机溶剂中溶解形成；
所述的有机溶剂为异链烷烃、甲苯或二甲苯，异链烷烃包括沸点为100-180℃的异链烷烃-E、异链烷烃-G、异链烷烃-H的一种或几种；
所述硅橡胶为加成型，硅橡胶涂布液为加成型硅橡胶涂布液，其中聚硅氧烷结构如下式所示：
R1是含有1-10个碳的烷基，R2是乙烯基或芳基，而且60％的R1、R2是甲基、卤代乙 烯基、卤代苯基；8000≥n≥2；其分子量控制在3000-600000，优选5000-100000；端基为乙烯基；具体包括α，ω-二乙烯基聚二甲基硅氧烷；
所述的交联剂为含氢的有机聚硅氧烷，包括聚单甲基硅氧烷；所述的催化剂为铂化物、铂配合物，包括二乙烯基四甲基二硅氧烷铂配合物；所述的添加剂为交联抑制剂3-甲基-1-丁炔-3-醇、1，1-二甲基-2-丙炔氧基三甲基硅烷、甲基乙烯基环四硅氧烷中一种或几种。
8.根据权利要求6所述的一种含有重氮树脂的阴图光敏型无水胶印版的制备方法，其特征在于，所述的硅橡胶涂布液由100-150重量份的聚硅氧烷、10-20重量份的交联剂、1-5重量份的催化剂、1-3份重量的添加剂在800-1000重量份的有机溶剂中溶解形成；
所述的有机溶剂为异链烷烃、甲苯或二甲苯，异链烷烃包括沸点为100-180℃的异链烷烃-E、异链烷烃-G、异链烷烃-H的一种或几种；
所述硅橡胶为缩合型，硅橡胶涂布液为缩合型硅橡胶涂布液，其中聚硅氧烷结构具体结构如下式所示：
R1是含有1-10个碳的烷基，R2是乙烯基或芳基，而且60％的R1、R2是甲基、卤代乙烯基、卤代苯基；8000≥n≥2，且为整数；其分子量控制在3000-600000，优选5000-100000；端基为羟基；具体包括α，ω-二羟基聚二甲基硅氧烷；
所述的交联剂结构为RmSiX4-m，其中R是含有1-10个碳的烷基，X代表氢、羟基、烷氧基、酰氧基、酮肟、酰胺或氨基，m是0、1或2；具体包括乙烯基三丁酮肟基硅烷、甲基三丁酮肟基硅烷、乙基三乙酰氧基硅烷、丙基三乙酰氧基硅烷、烯丙氧基硅烷；
所述的催化剂为锡的羧酸盐或锌的羧酸盐，包括二丁基锡二乙酸酯、二丁基锡二月桂酸酯；所述的添加剂为白炭黑或碳酸钙。
9.根据权利要求1-4所述的一种含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版的应用，其特征在于，将其曝光，曝光区域的无水胶印版在受到紫外光照射时，感光层中的重氮树脂发生感光反应，生成阳离子自由基，并与其上的硅橡胶层交联结合；显影时，曝光部分的硅橡胶因与感光层交联而保留，而未曝光部分因未发生反应而被刷掉，得到阴图图像的印刷版。
10.根据权利要求5-8所述的任一方法得到的含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版的应用，其特征在于，将其曝光，曝光区域的无水胶印版在受到紫外光照射时，感光层中的重氮树脂发生感光反应，生成阳离子自由基，并与其上的硅橡胶层交联结合；显影 时，曝光部分的硅橡胶因与感光层交联而保留，而未曝光部分因未发生反应而被刷掉，得到阴图图像的印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2011100256423A CN102173181A (zh) | 2011-01-24 | 2011-01-24 | 一种含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2011100256423A CN102173181A (zh) | 2011-01-24 | 2011-01-24 | 一种含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版及其制备方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN102173181A true CN102173181A (zh) | 2011-09-07 |
Family
ID=44516521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2011100256423A Pending CN102173181A (zh) | 2011-01-24 | 2011-01-24 | 一种含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版及其制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN102173181A (zh) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103057294A (zh) * | 2011-10-24 | 2013-04-24 | 中国科学院化学研究所 | 环保型无水胶印版 |
| US10303053B2 (en) | 2015-01-09 | 2019-05-28 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Diazo-resin, photoresist composition and method of preparing same |
| CN111849354A (zh) * | 2020-06-12 | 2020-10-30 | 柳州市盛杰彩印有限公司 | 一种高耐印力无水胶印印版及其制备方法 |
| CN111849255A (zh) * | 2020-06-12 | 2020-10-30 | 柳州市盛杰彩印有限公司 | 一种用于制备无水胶印印版硅胶层的组合物及其制备方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5773187A (en) * | 1995-05-04 | 1998-06-30 | Agfa-Gevaert Ag | Water developable diazonium and mineral acid containing recording material for producing water-free offset printing plates |
| CN101168315A (zh) * | 2006-12-13 | 2008-04-30 | 李伟 | 一种印刷版材的制造方法 |
| CN101734034A (zh) * | 2009-12-14 | 2010-06-16 | 泰兴市东方实业公司 | 高感度连苯三酚缩丙酮树脂活性醚化物的阳图热敏ctp版材及其制备方法 |
| CN101809504A (zh) * | 2007-09-24 | 2010-08-18 | 伊斯曼柯达公司 | 用于制作平版印刷版的方法 |
-
2011
- 2011-01-24 CN CN2011100256423A patent/CN102173181A/zh active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5773187A (en) * | 1995-05-04 | 1998-06-30 | Agfa-Gevaert Ag | Water developable diazonium and mineral acid containing recording material for producing water-free offset printing plates |
| CN101168315A (zh) * | 2006-12-13 | 2008-04-30 | 李伟 | 一种印刷版材的制造方法 |
| CN101809504A (zh) * | 2007-09-24 | 2010-08-18 | 伊斯曼柯达公司 | 用于制作平版印刷版的方法 |
| CN101734034A (zh) * | 2009-12-14 | 2010-06-16 | 泰兴市东方实业公司 | 高感度连苯三酚缩丙酮树脂活性醚化物的阳图热敏ctp版材及其制备方法 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103057294A (zh) * | 2011-10-24 | 2013-04-24 | 中国科学院化学研究所 | 环保型无水胶印版 |
| CN103057294B (zh) * | 2011-10-24 | 2015-05-20 | 中国科学院化学研究所 | 环保型无水胶印版 |
| US10303053B2 (en) | 2015-01-09 | 2019-05-28 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Diazo-resin, photoresist composition and method of preparing same |
| CN111849354A (zh) * | 2020-06-12 | 2020-10-30 | 柳州市盛杰彩印有限公司 | 一种高耐印力无水胶印印版及其制备方法 |
| CN111849255A (zh) * | 2020-06-12 | 2020-10-30 | 柳州市盛杰彩印有限公司 | 一种用于制备无水胶印印版硅胶层的组合物及其制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4934353B2 (ja) | ネガティブ感光性樹脂組成物 | |
| CN102803274B (zh) | 硅烷偶联剂、负型感光性树脂组合物、固化膜、及触控面板用构件 | |
| EP3098653B1 (en) | Negative photosensitive resin composition, cured film obtained by curing same, method for producing cured film, optical device provided with cured film, and backside-illuminated cmos image sensor | |
| TWI392909B (zh) | 有機-無機混成感光性樹脂組成物及含其硬化體的液晶顯示器 | |
| CN102096323A (zh) | 一种含有重氮树脂的阳图光敏无水胶印版及其制备方法 | |
| CN102173181A (zh) | 一种含有重氮树脂的阴图光敏无水胶印版及其制备方法 | |
| US10926566B2 (en) | Heat-sensitive treatment-free planographic printing plate material containing thermosensitive protection layer and application thereof | |
| US5370906A (en) | Waterless planographic plates | |
| CN109324480A (zh) | 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法、印刷线路板的制造方法 | |
| JP5374403B2 (ja) | 感光性平版印刷版材料 | |
| CN102081306A (zh) | 含有重氮感光树脂的热敏无水胶印版及其制备方法 | |
| CN106893403B (zh) | 一种用于玻璃表面选择性处理的可剥uv油墨及利用其进行玻璃表面处理的方法 | |
| CN103692800B (zh) | 一种具有单层含硅乙烯基醚结构的阳图无水胶印版及其制备方法 | |
| WO2018088336A1 (ja) | 感光性樹脂組成物および感光性樹脂版原版 | |
| CN112955820B (zh) | 水显影性柔性印刷原版 | |
| CN113912772A (zh) | 一种热敏树脂、一种环保型热敏版及其制备方法 | |
| WO1986001312A1 (en) | Photosensitive resin printing material for letterset printing | |
| CN104290483B (zh) | 平印版原版及其印刷方法 | |
| JPS6154218B2 (zh) | ||
| CN116082558B (zh) | 一种丙烯酸类耐溶剂树脂及其应用 | |
| KR101649036B1 (ko) | 오프셋 인쇄 조성물, 이를 이용한 인쇄방법 및 오프셋 인쇄 조성물을 이용하여 형성된 패턴 | |
| JPH0934131A (ja) | 水なし平版印刷版の修正方法 | |
| US5455134A (en) | Fabrication of waterless planographic plates by laser printing and xerographic methods | |
| JPS5863937A (ja) | 製版用画像フイルム | |
| CN113168095B (zh) | 平版印刷版前体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C12 | Rejection of a patent application after its publication | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20110907 |