JPH08188570A - スルホニウム化合物の製造方法 - Google Patents
スルホニウム化合物の製造方法Info
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- JPH08188570A JPH08188570A JP7018605A JP1860595A JPH08188570A JP H08188570 A JPH08188570 A JP H08188570A JP 7018605 A JP7018605 A JP 7018605A JP 1860595 A JP1860595 A JP 1860595A JP H08188570 A JPH08188570 A JP H08188570A
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Abstract
キルスルフィド化合物とR3Xで表されるハライド化合
物を水中で反応させることを特徴とする化2で表される
スルホニウム化合物の製造方法。(ただし、式中R
1は、水素、メチル基、アセチル基、メトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基、ベンゾイル基、フェノキ
シカルボニル基、クロロアセチル基、ジクロロアセチル
基、トリクロロアセチル基、トリフルオロアセチル基の
いずれかを、R2は、炭素数1〜4のアルキル基または
ベンジル基を、R3は、炭素数1〜4のアルキル基、ベ
ンジル基、置換ベンジル基、α−ナフチルメチル基、β
−ナフチルメチル基、ビニルベンジル基、シンナミル基
のいずれかを、Xはハロゲン原子を示す。) 【効果】本発明の製造方法によれば、高収率で高純度の
特定のスルホニウムハライドが得られる。また、有機溶
媒の取り扱いを省略できるため、製造環境も悪化せず、
工業的に適した製造方法である。 【化1】 【化2】
Description
化合物の製造方法に関する。更に詳しくは、光および/
または熱硬化組成物の重合触媒として効果を有するスル
ホニウム化合物の原料となるスルホニウムハライド化合
物の製造方法に関する。
しては、数多くの方法が提案されているが、一般的に
は、反応性の高いアルキルハライドと、スルフィド化合
物との反応によって製造される。この反応において、従
来、原料を溶解させるためには有機溶媒が必要であると
されていた。この場合、反応生成物であるスルホニウム
化合物をとりだす工程で、溶媒回収を行う必要があり、
製造環境の汚染等を考慮すると工業的に好ましくない。
また、無溶媒で反応させる方法も考えられるが、生成物
が固体の場合、反応容器中で固化してしまいこの方法も
工業的に好ましくない。
定のビススルホニウム塩の製造方法として酸性水系での
方法が開示されている。しかし、この方法は、特定のス
ルホニウム化合物のみに有効であるということ、さら
に、強酸性の水溶液中での反応を特徴としており、取り
扱いに問題があることや、予め水溶液の酸度調整をする
必要がある。
化合物を製造するにあたり、化4で表されるp−オキシ
置換フェニルアルキルスルフィド化合物とR4Xで表さ
れるハライド化合物を有機溶媒を用いることなく、水中
で反応させ、生成させるものである。さらに記述するな
らば、化3で示されるスルホニウム化合物を製造するに
あたり、化4で表されるp−オキシ置換フェニルアルキ
ルスルフィド化合物とR4Xで表されるハライド化合物
の反応は有機溶媒を用いることなく、水中で好ましく進
行するという知見に基づいてなされたものである。
アセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基、ベンゾイル基、フェノキシカルボニル基、クロロ
アセチル基、ジクロロアセチル基、トリクロロアセチル
基、トリフルオロアセチル基のいずれかを、R2は、水
素、ハロゲン、炭素数1〜4のアルキル基のいずれか
を、R3は、炭素数1〜4のアルキル基またはベンジル
基を、R4は、炭素数1〜4のアルキル基、ベンジル
基、置換ベンジル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフ
チルメチル基、ビニルベンジル基、シンナミル基のいず
れかを、Xはハロゲン原子を示す。)
ては、ハロゲノベンジル基、メチルベンジル基、ジメチ
ルベンジル基、トリメチルベンジル基、メトキシベンジ
ル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル基、トリク
ロロベンジル基、ニトロベンジル基、ジニトロベンジル
基、トリニトロベンジル基が例示される。
で表されるp−オキシ置換フェニルアルキルスルフィド
化合物の具体例としては、4−ヒドロキシフェニルメチ
ルスルフィド、4−アセトキシフェニルメチルスルフィ
ド、4−(メトキシカルボニルオキシ)フェニルメチル
スルフィド、4−(エトキシカルボニルオキシ)フェニ
ルメチルスルフィド、4−(ベンゾイルオキシ)フェニ
ルメチルスルフィド、4−(フェノキシカルボニルオキ
シ)フェニルメチルスルフィド、4−(クロロアセチル
オキシ)フェニルメチルスルフィド、4−(トリフルオ
ロアセチルオキシ)フェニルメチルスルフィド、4−ヒ
ドロキシフェニルエチルスルフィド、4−アセトキシフ
ェニルエチルスルフィド、4−(メトキシカルボニルオ
キシ)フェニルエチルスルフィド、4−ヒドロキシフェ
ニルプロピルスルフィド、4−(メトキシカルボニルオ
キシ)フェニルプロピルスルフィド、4−ヒドロキシフ
ェニルベンジルスルフィド、4−(メトキシカルボニル
オキシ)フェニルベンジルスルフィド等が例示される。
は、塩化メチル、ベンジルクロライイド、クロルベンジ
ルクロライド、メチルベンジルクロライド、メトキシベ
ンジルクロライド、ニトロベンジルクロライド、α−ナ
フチルメチルクロライド、シンナミルクロライド、ベン
ジルブロマイド、メチルベンジルブロマイド、ニトロベ
ンジルブロマイド、α−ナフチルメチルブロマイド、シ
ンナミルブロマイド等がある。
モルに対して1.0〜3.0モル比使用する。好ましく
は、1.0〜1.2モル比である。媒体としての水の投
入量は、攪拌可能量以上であれば良い。また、反応触媒
や硫酸、塩酸等の添加、共存があってもさしつかえな
い。反応温度は60℃以下、好ましくは、25〜45℃
の範囲である。60℃を越えても反応そのものは可能で
あるが、生成したスルホニウム化合物が熱分解を起こ
し、収率が低下する可能性がある。10℃未満であれ
ば、スルホニウム化反応が緩慢になる。反応時間は0.
5〜120時間、好ましくは10〜24時間であり、2
4時間程度で反応は実用上、完結する。
有機溶媒への溶解性等によって、各種の方法で単離する
ことができる。反応媒体である水への溶解性がない場合
は、ろ別等によって単離することができる。また、溶解
性がある場合は、冷却してろ別すること、あるいは、非
溶解性の有機溶媒を加えることにより結晶を析出させて
単離することが可能である。
合物としては、4−ヒドロキシフェニルベンジルメチル
スルホニウムクロライド、4−アセトキシフェニルベン
ジルメチルスルホニウムクロライド、4−(メトキシカ
ルボニルオキシ)フェニルベンジルメチルスルホニウム
クロライド、4−ヒドロキシフェニル(O−メチルベン
ジル)メチルスルホニウムクロライド、4−アセトキシ
フェニル(O−メチルベンジル)メチルスルホニウムク
ロライド、4−(ベンゾイルオキシ)フェニル(O−メ
チルベンジル)メチルスルホニウムクロライド、4−ヒ
ドロキシフェニル(p−ニトロベンジル)メチルスルホ
ニウムクロライド、4−アセトキシフェニル(p−ニト
ロベンジル)メチルスルホニウムクロライド、4−ヒド
ロキシフェニル(α−ナフチルメチル)メチルスルホニ
ウムクロライド、4−アセトキシフェニル(α−ナフチ
ルメチル)メチルスルホニウムクロライド、4−(メト
キシカルボニルオキシ)フェニル(α−ナフチルメチ
ル)メチルスルホニウムクロライド、4−ヒドロキシフ
ェニルシンナミルメチルスルホニウムクロライド、4−
ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウムブロマ
イド、4−(メトキシカルボニルオキシ)フェニルベン
ジルメチルスルホニウムブロマイド、4−ヒドロキシフ
ェニル(O−メチルベンジル)メチルスルホニウムブロ
マイド、4−ヒドロキシフェニル(p−ニトロベンジ
ル)メチルスルホニウムブロマイド、4−ヒドロキシフ
ェニル(α−ナフチルメチル)メチルスルホニウムブロ
マイド、4−ヒドロキシフェニルシンナミルメチルスル
ホニウムブロマイド等が挙げられる。
囲はこれに限定されるものではない。 比較例1 4−ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウムク
ロライドの合成。 300ml四つ口コルベンに攪拌機、温度計、コンデン
サーをそれぞれ設置する。なお、以下の実施例において
同様の装置を使用する。4−ヒドロキシフェニルメチル
スルフィド14.5g、ベンジルクロライド14.4g
を仕込む。メタノール100mlを投入し、ウオーター
バスにて40℃に加温し20時間反応させる。反応後エ
バポレーターでメタノールを回収し、析出した結晶をア
セトンで洗浄し、乾燥させ、白色結晶を18.9g得
た。NMR分析、および元素分析の結果、生成物が4−
ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウムクロラ
イドであることを確認した。収率は68.4%、また、
融点は110.0〜111.0℃であった。
ロライドの合成。 4−ヒドロキシフェニルメチルスルフィド14.5g、
ベンジルクロライド14.4gを仕込む。水200ml
を投入し、ウオーターバスにて40℃に加温し20時間
反応させる。反応後氷水で冷却し、ろ過、水洗した。4
0℃通風乾燥機で乾燥させ、白色結晶を26.4g得
た。NMR分析、および元素分析の結果、生成物が4−
ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウムクロラ
イドであることを確認した。収率は95.7%、また、
融点は110.0〜111.0℃であった。
スルホニウムクロライドの合成。 4−ヒドロキシフェニルメチルスルフィド13.0g、
O−メチルベンジルクロライド14.3gを仕込む。水
250mlを投入し、ウオーターバスにて35℃に加温
し24時間反応させる。反応後氷水で冷却し、ろ過、水
洗した。40℃通風乾燥機で乾燥させ、白色結晶を2
4.7g得た。NMR分析、および元素分析の結果、生
成物が4−ヒドロキシフェニル(O−メチルベンジル)
メチルスルホニウムクロライドであることを確認した。
収率は95.0%、また、融点は85.0〜87.0℃
であった。
スルホニウムクロライドの合成。 4−ヒドロキシフェニルメチルスルフィド13.0g、
α−ナフチルメチルクロライド18.1gを仕込む。水
250mlを投入し、ウオーターバスにて35℃に加温
し24時間反応させる。反応後氷水で冷却し、ろ過、水
洗した。40℃通風乾燥機で乾燥させ、白色結晶を2
7.7g得た。NMR分析、および元素分析の結果、生
成物が4−ヒドロキシフェニル(α−ナフチルメチル)
メチルスルホニウムクロライドであることを確認した。
収率は94.3%、また、融点は96.5〜97.5℃
であった。
クロライドの合成。 4−ヒドロキシフェニルメチルスルフィド14.0g、
シンナミルクロライド16.8gを仕込む。水200m
lを投入し、ウオーターバスにて35℃に加温し24時
間反応させる。反応後氷水で冷却し、ろ過、水洗した。
40℃通風乾燥機で乾燥させ、白色結晶を27.8g得
た。NMR分析、および元素分析の結果、生成物が4−
ヒドロキシフェニルシンナミルメチルスルホニウムクロ
ライドであることを確認した。収率は95.1%、ま
た、融点は107.0〜108.0℃であった。
スルホニウムクロライドの合成。 4−アセトキシフェニルメチルスルフィド18.2g、
α−ナフチルメチルクロライド19.4gを仕込む。水
200mlを投入し、ウオーターバスにて35℃に加温
し24時間反応させる。反応後氷水で冷却し、ろ過、水
洗した。40℃通風乾燥機で乾燥させ、白色結晶を3
3.9g得た。NMR分析、および元素分析の結果、生
成物が4−アセトキシフェニル(α−ナフチルメチル)
メチルスルホニウムクロライドであることを確認した。
収率は94.6%、また、融点は98.5〜100.0
℃であった。
チルメチル)メチルスルホニウムクロライドの合成。 4−(メトキシカルボニルオキシ)フェニルメチルスル
フィド19.8g、α−ナフチルメチルクロライド1
9.4g仕込む。水200mlを投入し、ウオーターバ
スにて35℃に加温し24時間反応させる。反応後氷水
で冷却し、ろ過、水洗した。40℃通風乾燥機で乾燥さ
せ、白色結晶を35.2g得た。NMR分析、および元
素分析の結果、生成物が4−(メトキシカルボニルオキ
シ)フェニル(α−ナフチルメチル)メチルスルホニウ
ムクロライドであることを確認した。収率は93.9
%、また、融点は101.0〜102.0℃であった。
は、反応媒体として有機溶媒を使用することのない製造
方法であり、高収率で高純度のスルホニウムハライドが
得られる。かつまた、有機溶媒の取り扱いを省略できる
ため、製造環境も悪化せず、工業的に適した製造方法で
ある。
Claims (5)
- 【請求項1】 化1で表されるスルフィド化合物とR4
Xで表されるハライド化合物を水中で反応させることを
特徴とする化2で表されるスルホニウム化合物の製造方
法。 【化1】 【化2】 (ただし、式中R1は、水素、メチル基、アセチル基、
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンゾ
イル基、フェノキシカルボニル基、クロロアセチル基、
ジクロロアセチル基、トリクロロアセチル基、トリフル
オロアセチル基のいずれかを、R2は、水素、ハロゲ
ン、炭素数1〜4のアルキル基のいずれかを、R3は、
炭素数1〜4のアルキル基またはベンジル基を、R
4は、炭素数1〜4のアルキル基、ベンジル基、置換ベ
ンジル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル
基、ビニルベンジル基、シンナミル基のいずれかを、X
はハロゲン原子を示す。) - 【請求項2】 請求項1記載のR4の置換ベンジル基
が、ハロゲノベンジル基、メチルベンジル基、ジメチル
ベンジル基、トリメチルベンジル基、メトキシベンジル
基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル基、トリクロ
ロベンジル基、ニトロベンジル基、ジニトロベンジル
基、トリニトロベンジル基のいずれかであることを特徴
とするスルホニウム化合物の製造方法。 - 【請求項3】 請求項1または2に記載の反応温度が1
0〜60℃であることを特徴とするスルホニウム化合物
の製造方法。 - 【請求項4】 請求項1または2に記載の反応温度が2
5〜45℃であることを特徴とするスルホニウム化合物
の製造方法。 - 【請求項5】 請求項1または2に記載の反応におい
て、酸を共存させることを特徴とするスルホニウム化合
物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01860595A JP3679438B2 (ja) | 1995-01-10 | 1995-01-10 | スルホニウム化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP01860595A JP3679438B2 (ja) | 1995-01-10 | 1995-01-10 | スルホニウム化合物の製造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08188570A true JPH08188570A (ja) | 1996-07-23 |
JP3679438B2 JP3679438B2 (ja) | 2005-08-03 |
Family
ID=11976283
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP01860595A Expired - Lifetime JP3679438B2 (ja) | 1995-01-10 | 1995-01-10 | スルホニウム化合物の製造方法 |
Country Status (1)
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---|---|
JP (1) | JP3679438B2 (ja) |
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JP2500573B2 (ja) | 2,6−ジカルボキシフェノ―ル類の製造方法 | |
KR100228919B1 (ko) | 벤조페논유도체의 제조방법 |
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